JP2009157192A - カラーフィルタ及びその製造方法及び液晶表示装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】基板上に設けられたカラーフィルタ層とを有するカラーフィルタ基板において、カラーフィルタ層が2色以上の多数の表示画素から構成され、表示画素は黒色離画壁により隔てられてなり、カラーフィルタ層ならびに黒色離画壁の下部には液晶固定化層よりなる位相差薄膜が設けられていて、かつ位相差薄膜は所定パターンよりなる異方相ならびに異方性のない領域で構成されており、位相差薄膜の所定パターンと黒色離画壁は位置合わせがなされていることを特徴とするカラーフィルタ基板。
【選択図】図1
Description
一方、テレビ用途向けの液晶表示装置は、全方位の視認性などをより高める目的で、位相差フィルムと直線偏光板が液晶パネル構成組み合わせられる等により適用されていることが多い。
(1)セルの液晶が必ずしも全波長領域で同一の位相差値を有していないこと、(2)カラーフィルタに用いられる着色顔料の多くは光学的異方性を持っていること、(3)さらにその程度は顔料の種類によって別個であるため赤・緑・青の画素によって位相差が異なる値になることである。
カラーフィルタの画素は各色の着色組成物より形成されるカラーフィルタ層よりなるが、当該カラーフィルタ層は必ずしも均一な膜厚ではない。これは画素間のみならず、画素内の場所によっても同様である。またさらに、カラーフィルなの多くはカラーフィルタ層に加えて、各画素を隔てる、黒色着色組成物よりなる黒色離画壁を具備するが、カラーフィルタ層と黒色離画壁は一定の重なりを有して設けられるのが通常であり、当然ながら当該重なり部分は大きな段差となる。
しかし、位相差薄膜を最も下層に設ける場合、すなわち基板/位相差薄膜/黒色離画壁/カラー層とする場合、各層の面内位置合わせが困難になるという新たな問題が発生する。これは、位置合わせは黒色離画壁を基準として行なうのが一般的であるところ、当該工程より前に位相差薄膜を形成しなければならなくなり、また位相差薄膜は透明であること、すなわち色付きがほとんどないことを要求されるため、光学的な検出によって通常行なわれる位置合わせの基準として採用することが極めて難しいことによる。
一方で、基板/黒色離画壁/位相差薄膜/カラー層とする場合、位相差薄膜工程において前記位置合わせの困難は発生しないものの、位相差薄膜は、一定の厚みのある黒色離画壁に重ねて設けられることになり、結局のところ前記平坦性の問題は完全には解消されない。
また本発明のカラーフィルタ基板の製造方法によれば、異方相ならびに異方性のない領域の別によってなる見当標を位相差薄膜に形成し、当該見当票を参照して位相差薄膜と黒色離画壁の位置合わせを行なうことにより、前記光学補償能を有するカラーフィルタ基板を容易にかつ高品質に製造することが可能となる。
以下では一例として、ガラス基板よりなる平面体上に上記液晶性化合物を固定化して形成した位相差薄膜上に、黒色離画壁ならびに各色の着色組成物よりなる表示画素を積層したカラーフィルタ基板を例に説明する。
また異方性のない領域は表示画素の下部を占める構成でなくてもよく、例えば透過型の液晶表示装置に対応した赤色画素・緑色画素・青色画素の3色の表示画素を有するカラーフィルタ基板の例を挙げると、各色画素の下部には異方相部、黒色離画壁の下部には異方性のない領域を設けた形態、あるいは黒色離画壁の下部を含めた表示部の下部には異方相部、液晶セル組み立て時に封止部として用いられる額縁部分の下部には異方性のない領域とした形態などによっても、本発明の趣旨を満たすカラーフィルタ基板を得ることができる。
以下、本発明の液晶固定化層を得る方法の一例について説明する。
平面体表面には必要に応じて、配向能を有する膜を形成しておくかあるいは平面体表面そのものが配向規制力を発現するように処理を施しておく。塗布には、スピンコート法、スリットコート法、凸版印刷法、スクリーン印刷、平版印刷、反転印刷、グラビア印刷その他の印刷方法又はこれらの印刷法にオフセット方式を組み合わせた方法、インキジェット法、バーコート法その他既知の成膜法が適用可能である。
光重合開始剤は、液晶溶液中の液晶性化合物100重量部に対して、0.1〜30重量部、好ましくは0.3〜10重量部の量で用いることができる。
増感剤は、光重合開始剤100重量部に対して、0.1〜60重量部の量で含有させることができる。
多官能チオールは、液晶溶液中の液晶性化合物100重量部に対して、0.2〜30重量部、好ましくは0.5〜15重量部の量で用いることができる。
また樹脂は感光性を有していてもよい。感光性樹脂としては、水酸基、カルボキシル基、アミノ基等の反応性の置換基を有する線状高分子にイソシアネート基、アルデヒド基、エポキシ基等の反応性置換基を有する(メタ)アクリル化合物やケイヒ酸を反応させて、(メタ)アクリロイル基、スチリル基等の光架橋性基を該線状高分子に導入した樹脂が用いられる。また、スチレン−無水マレイン酸共重合物やα−オレフィン−無水マレイン酸共重合物等の酸無水物を含む線状高分子をヒドロキシアルキル(メタ)アクリレート等の水酸基を有する(メタ)アクリル化合物によりハーフエステル化したものも用いられる。
さらにまた、前記領域ごとに異なる量の光を照射する手段として、同一のフォトマスクを使用してこれを移動させながら複数回の露光を行なう方法等を用いる場合、いずれの工程においても見当票を形成するようにしてもよい。
未反応の液晶化合物層を除去することにより、前記液晶固定化層の異方相部は配向の状態を保ったまま固定化された液晶化合物が残り、異方性のない領域は液晶化合物層を除去された状態となる。また位置合わせのための検討票は、異方相ならびに液晶固定化物が除去された領域の別によって形成されることになる。
顔料担体は、着色組成物中の顔料100重量部に対して、30〜700重量部、好ましくは60〜450重量部の量で用いることができる。また、樹脂とその前駆体との混合物を顔料担体として用いる場合には、樹脂は、着色組成物中の顔料100重量部に対して、20〜400重量部、好ましくは50〜250重量部の量で用いることができる。また、透明樹脂の前駆体は、着色組成物中の顔料100重量部に対して、10〜300重量部、好ましくは10〜200重量部の量で用いることができる。
顔料は、着色組成物の全固形分量を基準(100重量%)として5〜70重量%の割合で含有されることが好ましい。より好ましくは、20〜50重量%の割合で含有され、その残部は、顔料担体により提供される樹脂質バインダーから実質的になる。
着色組成物は、遠心分離、焼結フィルタ、メンブレンフィルタ等の手段にて、5μm以上の粗大粒子、好ましくは1μm以上の粗大粒子、さらに好ましくは0.5μm以上の粗大粒子および混入した塵の除去を行うことが好ましい。
なお、紫外線露光感度を上げるために、上記黒色着色組成物を塗布乾燥後、水溶性あるいはアルカリ水溶性樹脂、例えばポリビニルアルコールや水溶性アクリル樹脂等を塗布乾燥し酸素による重合阻害を防止する膜を形成した後、紫外線露光を行うこともできる。
得られた金属薄膜は、その上部に感光性組成物の膜を設けたのち、前記したものと同様な方法で位置合わせを行ないつつ露光され、エッチングによって不要部が除去されて所望のパターンが得られる。
Claims (12)
- 少なくとも基板と、前記基板上に設けられたカラーフィルタ層とを有するカラーフィルタ基板において、
前記カラーフィルタ層が2色以上の多数の表示画素から構成され、前記表示画素は黒色離画壁により隔てられてなり、
前記カラーフィルタ層ならびに黒色離画壁の下部には液晶固定化層よりなる位相差薄膜が設けられていて、かつ前記位相差薄膜は所定パターンよりなる異方相ならびに異方性のない領域で構成されており、
前記位相差薄膜の所定パターンと前記黒色離画壁は位置合わせがなされていることを特徴とするカラーフィルタ基板。 - 前記位相差薄膜の異方相は、前記表示画素の色毎に配向の程度が異なることに起因して複屈折率が相違するように設けられていることを特徴とした請求項1に記載のカラーフィルタ基板。
- 請求項1または2に記載のカラーフィルタ基板を用いてなる液晶表示装置。
- 請求項1または2に記載のカラーフィルタ基板の製造方法において、少なくとも、
(a)基板上に、液晶性を示し、かつ少なくとも光によって重合し得るおよび/または架橋され得る化合物を含む溶液を塗布し、前記液晶化合物が所定の状態に配向された位相差薄膜を形成する工程と、
(b)前記基板に、所定パターンにて光照射を行なって当該箇所を重合および/または架橋させ、表示画素に対応する異方相ならびに異方性のない領域を形成するとともに、後工程で位置合わせを行なうための見当標を異方相ならびに異方性のない領域の別によって形成する工程と、
(c)前記基板に、前記異方相ならびに異方性のない領域の別によって形成された見当票を参照して位置合わせを行ないつつ黒色離画壁を形成する工程と、
(d)前記基板に、着色組成物層を成膜し、2色以上の多数の表示画素を形成する工程と、
を含むことを特徴とするカラーフィルタ基板の製造方法。 - 前記(c)工程のうち、前記異方相ならびに異方性のない領域の別によって形成された見当票を参照して位置合わせ行なう工程を、2枚の偏光板を含む光学系を用いて実施することを特徴とする請求項4に記載のカラーフィルタ基板の製造方法。
- 前記(a)基板上に、液晶性を示し、かつ少なくとも光によって重合し得るおよび/または架橋され得る化合物を含む溶液を塗布し、前記液晶化合物が所定の状態に配向された位相差薄膜を形成する工程において、
前記液晶化合物はサーモトロピック液晶性を示す化合物を用い、
前記(b)前記基板に、所定パターンにて光照射を行なって当該箇所を重合および/または架橋させ、表示画素に対応する異方相ならびに異方性のない領域を形成するとともに、後工程で位置合わせを行なうための見当標を異方相ならびに異方性のない領域の別によって形成する工程は、
(b−1)前記基板に、所定パターンにて光照射を行なって当該箇所を重合および/または架橋させる工程と、
(b−2)前記基板を、前記液晶化合物の等方相相転移温度以上に加熱する工程と、
(b−3)前記基板を、前記液晶化合物が等方相に保たれる以上の温度に維持したまま全面露光し、表示画素に対応する異方相ならびに等方相の領域を形成するとともに、後工程で位置合わせを行なうための見当標を異方相と等方相の別によって形成する工程と、
を含んでなることを特徴とする請求項4または5に記載のカラーフィルタ基板の製造方法。 - 前記(a)基板上に、液晶性を示し、かつ少なくとも光によって重合し得るおよび/または架橋され得る化合物を含む溶液を塗布し、前記液晶化合物が所定の状態に配向された位相差薄膜を形成する工程において、
前記液晶化合物はサーモトロピック液晶性を示し、かかつ光あるいは熱のいずれによっても重合し得るおよび/または架橋され得る化合物を用い、
前記(b)前記基板に、所定パターンにて光照射を行なって当該箇所を重合および/または架橋させ、表示画素に対応する異方相ならびに異方性のない領域を形成するとともに、後工程で位置合わせを行なうための見当標を異方相ならびに異方性のない領域の別によって形成する工程は、
(b−1)前記基板に、所定パターンにて光照射を行なって当該箇所を重合および/または架橋させる工程と、
(b−2)前記基板を、前記液晶化合物の等方相相転移温度以上に加熱する工程と、
(b−3)前記基板を、当該液晶化合物の等方相相転移温度以上であってかつ重合および/または架橋がなされる以上の温度に加熱し、表示画素に対応する異方相ならびに等方相の領域を形成するとともに、後工程で位置合わせを行なうための見当標を異方相と等方相の別によって形成する工程と、
を含んでなることを特徴とする請求項4または5に記載のカラーフィルタ基板の製造方法。 - 前記(b)前記基板に、所定パターンにて光照射を行なって当該箇所を重合および/または架橋させ、表示画素に対応する異方相ならびに異方性のない領域を形成するとともに、後工程で位置合わせを行なうための見当標を異方相ならびに異方性のない領域の別によって形成する工程は、
(b−1)前記基板に、所定パターンにて光照射を行なって当該箇所を重合および/または架橋させる工程と、
(b−2)前記基板のうち、光照射がなされていない領域を除去し、表示画素に対応する異方相ならびに位相差薄膜の除去された領域を形成するとともに、後工程で位置合わせを行なうための見当標を異方相ならびに位相差薄膜の除去された領域の別によって形成する工程と、
を含んでなることを特徴とする請求項4または5に記載のカラーフィルタ基板の製造方法。 - 前記(b)工程のうち、所定パターンにて光照射を行なって当該箇所を重合および/または架橋させる工程を、
画素の各色の所定パターンに対応する領域ごとに異なる照射量になるように光照射を行なって当該箇所を各色毎に程度を違えて重合および/または架橋させる工程、
としたことを特徴とする請求項4〜7に記載の液晶表示装置。 - 前記(c)前記基板に、前記異方相ならびに異方性のない領域の別によって形成された見当票を参照して位置合わせを行ないつつ黒色離画壁を形成する工程は、
(c−1)前記基板に、感光性を有する黒色着色組成物を塗布する工程と、
(c−2)前記位相差薄膜に形成された見当票を参照して、前記基板とフォトマスクの位置合わせを実施したのち、光照射を行なう工程と、
(c−3)前記基板のうち、光照射が行なわれていない部分の黒色着色組成物層を除去し、黒色離画壁を形成する工程と、
を含んでなることを特徴とする請求項4〜9に記載のカラーフィルタ基板の製造方法。 - 前記(c)前記基板に、前記異方相ならびに異方性のない領域の別によって形成された見当票を参照して位置合わせを行ないつつ黒色離画壁を形成する工程は、
(c−1)前記基板に、黒色着色組成物を塗布するか、あるいは金属薄膜を形成する工程と、
(c−2)前記基板に、感光性組成物を積層する工程と、
(c−2)前記位相差薄膜に形成された見当票を参照して、前記基板とフォトマスクの位置合わせを実施したのち、光照射を行なう工程と、
(c−3)前記基板のうち、光照射が行なわれていない部分の黒色着色組成物層または金属薄膜層、ならびに感光性組成物層を一括して除去し、黒色離画壁を形成する工程と、
を含んでなることを特徴とする請求項4〜9に記載のカラーフィルタ基板の製造方法。 - 前記(c)工程のうち、黒色着色組成物を塗布するか、あるいは金属薄膜を形成する工程を、前記位相差薄膜のうち見当票が形成されている領域を避けて行なうことを特徴とする請求項4〜11に記載のカラーフィルタ基板の製造方法。
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