JP2009157125A - フィルム状光導波路 - Google Patents
フィルム状光導波路 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2009157125A JP2009157125A JP2007335496A JP2007335496A JP2009157125A JP 2009157125 A JP2009157125 A JP 2009157125A JP 2007335496 A JP2007335496 A JP 2007335496A JP 2007335496 A JP2007335496 A JP 2007335496A JP 2009157125 A JP2009157125 A JP 2009157125A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- meth
- optical waveguide
- acrylate
- film
- mass
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Images
Landscapes
- Optical Integrated Circuits (AREA)
- Macromonomer-Based Addition Polymer (AREA)
Abstract
【課題】屈曲耐久性、透明性、及び伝送特性に優れたフィルム状光導波路を提供する。
【解決手段】フィルム状光導波路24は、下部クラッド層12と、下部クラッド層12の上面に形成された、特定の幅を有するコア部分20と、下部クラッド層12及びコア部分20の上に積層して形成された上部クラッド層22とからなる。下部クラッド層12及び上部クラッド層22のうち少なくとも1つは、(A)ウレタン(メタ)アクリレートオリゴマー、(B)反応性希釈モノマー、(C)数平均粒径が1〜100nmであるエラストマー粒子、及び(D)光重合開始剤を含む光硬化性樹脂組成物の硬化物からなる。
【選択図】図1
【解決手段】フィルム状光導波路24は、下部クラッド層12と、下部クラッド層12の上面に形成された、特定の幅を有するコア部分20と、下部クラッド層12及びコア部分20の上に積層して形成された上部クラッド層22とからなる。下部クラッド層12及び上部クラッド層22のうち少なくとも1つは、(A)ウレタン(メタ)アクリレートオリゴマー、(B)反応性希釈モノマー、(C)数平均粒径が1〜100nmであるエラストマー粒子、及び(D)光重合開始剤を含む光硬化性樹脂組成物の硬化物からなる。
【選択図】図1
Description
本発明は、フィルム状光導波路に関する。
マルチメディア時代を迎え、光通信システムやコンピュータにおける情報処理の大容量化及び高速化の要求から、光の伝送媒体として光導波路が注目されている。従来の光導波路としては、石英系光導波路が代表的であった。しかし、石英系光導波路は、製造時に石英膜の堆積のために高温で長時間の処理が必要であるなど、製造時間が長いこと、光導波路のパターン形成には、光レジストを用いる工程と、危険性の高いガスを用いてエッチングする工程が含まれ、かつ、それらの工程に特殊な装置を必要とするなど、多数の複雑な工程及び特殊な装置を要すること、及び、歩留まりが低いこと等の問題がある。
これらの問題を改善するため、光導波路の工程数の削減、製造時間の短縮化、歩留まりの増大等の生産性の向上を目的に、コア部分とクラッド層の材料として液状の硬化性組成物を用いるポリマー系光導波路が、近年提案されている。
一例として、テトラカルボン酸二無水物とジアミンから得られるポリイミドを構成要素とするポリイミド系光導波路において、該ポリイミドが特定の構造式で表されるフッ素化ジアミン若しくはそれを含むジアミンからのポリイミド、又はその混合物であることを特徴とするポリイミド系光導波路が提案されている(特許文献1)。
このポリイミド系光導波路は、良好な伝送特性(低導波路損失)を有し、優れた耐熱性を有するものである。
また他の例として、(A)ウレタン結合を介在させて結合された、ラジカル重合性反応基を含む側鎖部分を有する構成単位と、重合性を有しない側鎖を有する構成単位とを含む共重合体、(B)分子内に1個以上のエチレン性不飽和基を有し、分子量が1,000未満であり、0.1MPaにおける沸点が130℃以上である化合物、及び(C)光ラジカル重合開始剤を含有する光導波路用感光性樹脂組成物が提案されている(特許文献2)。
この感光性樹脂組成物によると、形状の精度が高くかつ高温高湿下における伝送特性の低下を抑えた光導波路を形成することができる。
特開平4−9807号公報
特開2006−146162号公報
これらの問題を改善するため、光導波路の工程数の削減、製造時間の短縮化、歩留まりの増大等の生産性の向上を目的に、コア部分とクラッド層の材料として液状の硬化性組成物を用いるポリマー系光導波路が、近年提案されている。
一例として、テトラカルボン酸二無水物とジアミンから得られるポリイミドを構成要素とするポリイミド系光導波路において、該ポリイミドが特定の構造式で表されるフッ素化ジアミン若しくはそれを含むジアミンからのポリイミド、又はその混合物であることを特徴とするポリイミド系光導波路が提案されている(特許文献1)。
このポリイミド系光導波路は、良好な伝送特性(低導波路損失)を有し、優れた耐熱性を有するものである。
また他の例として、(A)ウレタン結合を介在させて結合された、ラジカル重合性反応基を含む側鎖部分を有する構成単位と、重合性を有しない側鎖を有する構成単位とを含む共重合体、(B)分子内に1個以上のエチレン性不飽和基を有し、分子量が1,000未満であり、0.1MPaにおける沸点が130℃以上である化合物、及び(C)光ラジカル重合開始剤を含有する光導波路用感光性樹脂組成物が提案されている(特許文献2)。
この感光性樹脂組成物によると、形状の精度が高くかつ高温高湿下における伝送特性の低下を抑えた光導波路を形成することができる。
従来の光導波路は、光導波路に必要な諸特性(優れた伝送特性等)を有するものの、屈曲耐久性が低いという問題がある。すなわち、従来の光導波路では、フィルム状の硬化物(フィルム状光導波路)の状態で繰り返し屈曲させると、破断やクラックを生じ、伝送特性等を維持することができないという問題がある。
一方、フィルム状光導波路の下面に、発光素子等の他の部材を固着させる時に、フィルム状光導波路を上方から透視して位置合わせをすることから、フィルム状光導波路は、高い透明性を有することが望まれている。
そこで、本発明は、光導波路に必要な諸特性(優れた伝送特性等)を有し、かつ、屈曲耐久性及び透明性に優れたフィルム状光導波路を提供することを目的とする。
一方、フィルム状光導波路の下面に、発光素子等の他の部材を固着させる時に、フィルム状光導波路を上方から透視して位置合わせをすることから、フィルム状光導波路は、高い透明性を有することが望まれている。
そこで、本発明は、光導波路に必要な諸特性(優れた伝送特性等)を有し、かつ、屈曲耐久性及び透明性に優れたフィルム状光導波路を提供することを目的とする。
本発明者は、上記課題を解決するために鋭意検討した結果、コア部分とクラッド層とを含むフィルム状光導波路であって、クラッド層が、複数種の特定の成分を含む光硬化性樹脂組成物の硬化物からなるフィルム状光導波路によれば、本発明の上記目的を達成することができることを見出し、本発明を完成した。
すなわち、本発明は以下の[1]〜[6]を提供するものである。
[1] コア部分とクラッド層とを含むフィルム状光導波路であって、前記クラッド層が、下記の成分(A)〜(D)を含む光硬化性樹脂組成物の硬化物からなることを特徴とするフィルム状光導波路。
(A)ウレタン(メタ)アクリレートオリゴマー
(B)反応性希釈モノマー
(C)数平均粒径が1〜100nmであるエラストマー粒子
(D)光重合開始剤
[2] 上記光硬化性樹脂組成物中、成分(A)〜(D)の各々の配合割合が、30〜80質量%、15〜68.9質量%、1〜35質量%、及び0.1〜10質量%(ただし、成分(A)〜(D)の合計量を100質量%とする。)である上記[1]に記載のフィルム状光導波路。
[3] (C)エラストマー粒子が、重合性不飽和基を2個以上有する架橋性モノマーと、該架橋性モノマー以外のモノマーとを共重合してなるエラストマー粒子を含む上記[1]又は[2]に記載のフィルム状光導波路。
[4] 上記架橋性モノマー以外のモノマーが、カルボキシル基、エポキシ基、アミノ基、イソシアネート基、及び水酸基からなる群より選ばれる少なくとも1種の官能基を有するモノマーを含む上記[3]に記載のフィルム状光導波路。
[5] 成分(A)が、(a)ポリオール化合物、(b)ポリイソシアネート化合物、及び(c)水酸基含有(メタ)アクリレートの反応生成物であるウレタン(メタ)アクリレートオリゴマーを含む上記[1]〜[4]のいずれか1つに記載のフィルム状光導波路。
[6] 上記光硬化性樹脂組成物は、硬化後、厚みが10μmである場合に、405nmの波長の光に対して80%以上の透過率を有する上記[1]〜[5]のいずれか1つに記載のフィルム状光導波路。
すなわち、本発明は以下の[1]〜[6]を提供するものである。
[1] コア部分とクラッド層とを含むフィルム状光導波路であって、前記クラッド層が、下記の成分(A)〜(D)を含む光硬化性樹脂組成物の硬化物からなることを特徴とするフィルム状光導波路。
(A)ウレタン(メタ)アクリレートオリゴマー
(B)反応性希釈モノマー
(C)数平均粒径が1〜100nmであるエラストマー粒子
(D)光重合開始剤
[2] 上記光硬化性樹脂組成物中、成分(A)〜(D)の各々の配合割合が、30〜80質量%、15〜68.9質量%、1〜35質量%、及び0.1〜10質量%(ただし、成分(A)〜(D)の合計量を100質量%とする。)である上記[1]に記載のフィルム状光導波路。
[3] (C)エラストマー粒子が、重合性不飽和基を2個以上有する架橋性モノマーと、該架橋性モノマー以外のモノマーとを共重合してなるエラストマー粒子を含む上記[1]又は[2]に記載のフィルム状光導波路。
[4] 上記架橋性モノマー以外のモノマーが、カルボキシル基、エポキシ基、アミノ基、イソシアネート基、及び水酸基からなる群より選ばれる少なくとも1種の官能基を有するモノマーを含む上記[3]に記載のフィルム状光導波路。
[5] 成分(A)が、(a)ポリオール化合物、(b)ポリイソシアネート化合物、及び(c)水酸基含有(メタ)アクリレートの反応生成物であるウレタン(メタ)アクリレートオリゴマーを含む上記[1]〜[4]のいずれか1つに記載のフィルム状光導波路。
[6] 上記光硬化性樹脂組成物は、硬化後、厚みが10μmである場合に、405nmの波長の光に対して80%以上の透過率を有する上記[1]〜[5]のいずれか1つに記載のフィルム状光導波路。
本発明のフィルム状光導波路は、クラッド層(下部クラッド層、上部クラッド層)が複数種の特定の成分を含む光硬化性樹脂組成物の硬化物からなるため、優れた伝送特性を有する。
また、本発明フィルム状光導波路は、クラッド層が特定の光硬化性樹脂組成物の硬化物からなるため、優れた屈曲耐久性を有する。本発明のフィルム状光導波路は、繰り返し屈曲しても破断やクラックを生じることがなく、上記優れた伝送特性を維持することができる。
さらに、本発明のフィルム状光導波路は、クラッド層が特定の光硬化性樹脂組成物の硬化物からなるため、クラッド層が高い透明性を有し、フィルム状光導波路と発光素子等の他の部材とを固着させる際に、フィルム状光導波路を透視して、容易かつ正確に位置合わせを行なうことができる。
また、本発明フィルム状光導波路は、クラッド層が特定の光硬化性樹脂組成物の硬化物からなるため、優れた屈曲耐久性を有する。本発明のフィルム状光導波路は、繰り返し屈曲しても破断やクラックを生じることがなく、上記優れた伝送特性を維持することができる。
さらに、本発明のフィルム状光導波路は、クラッド層が特定の光硬化性樹脂組成物の硬化物からなるため、クラッド層が高い透明性を有し、フィルム状光導波路と発光素子等の他の部材とを固着させる際に、フィルム状光導波路を透視して、容易かつ正確に位置合わせを行なうことができる。
本発明のフィルム状光導波路は、コア部分と、クラッド層(下部クラッド層及び上部クラッド層)とを含み、かつ、クラッド層が複数種の特定の成分を含む光硬化性樹脂組成物の硬化体からなるものである。
まず、クラッド層を形成する光硬化性樹脂組成物について説明する。
上記光硬化性樹脂組成物は、成分(A)〜(D)及び必要に応じて配合される他の任意成分を含む。
以下、各成分ごとに詳述する
[成分(A)]
成分(A)は、ウレタン(メタ)アクリレートオリゴマーである。
成分(A)として用いられるウレタン(メタ)アクリレートオリゴマーは、例えば、(a)ポリオール化合物、(b)ポリイソシアネート化合物、及び(c)水酸基含有(メタ)アクリレートを反応させることにより製造される。具体的には、以下の製法1〜製法4のいずれかの方法で製造される。
製法1:ポリオール化合物、ポリイソシアネート化合物及び水酸基含有(メタ)アクリレートを一括して仕込んで反応させる方法。
製法2:ポリオール化合物及びポリイソシアネート化合物を反応させ、次いで水酸基含有(メタ)アクリレートを反応させる方法。
製法3:ポリイソシアネート化合物及び水酸基含有(メタ)アクリレートを反応させ、次いでポリオール化合物を反応させる方法。
製法4:ポリイソシアネート化合物及び水酸基含有(メタ)アクリレートを反応させ、次いでポリオール化合物を反応させ、最後にまた水酸基含有(メタ)アクリレート化合物を反応させる方法。
まず、クラッド層を形成する光硬化性樹脂組成物について説明する。
上記光硬化性樹脂組成物は、成分(A)〜(D)及び必要に応じて配合される他の任意成分を含む。
以下、各成分ごとに詳述する
[成分(A)]
成分(A)は、ウレタン(メタ)アクリレートオリゴマーである。
成分(A)として用いられるウレタン(メタ)アクリレートオリゴマーは、例えば、(a)ポリオール化合物、(b)ポリイソシアネート化合物、及び(c)水酸基含有(メタ)アクリレートを反応させることにより製造される。具体的には、以下の製法1〜製法4のいずれかの方法で製造される。
製法1:ポリオール化合物、ポリイソシアネート化合物及び水酸基含有(メタ)アクリレートを一括して仕込んで反応させる方法。
製法2:ポリオール化合物及びポリイソシアネート化合物を反応させ、次いで水酸基含有(メタ)アクリレートを反応させる方法。
製法3:ポリイソシアネート化合物及び水酸基含有(メタ)アクリレートを反応させ、次いでポリオール化合物を反応させる方法。
製法4:ポリイソシアネート化合物及び水酸基含有(メタ)アクリレートを反応させ、次いでポリオール化合物を反応させ、最後にまた水酸基含有(メタ)アクリレート化合物を反応させる方法。
以下、ウレタン(メタ)アクリレートオリゴマーの製造に用いられる(a)ポリオール化合物、(b)ポリイソシアネート化合物、(c)水酸基含有(メタ)アクリレートについて詳しく説明する。
[(a)ポリオール化合物]
(a)ポリオール化合物としては、脂肪族ポリエーテルポリオール、脂環族ポリエーテルポリオール、芳香族ポリエーテルポリオール、ポリエステルポリオール、ポリカーボネートポリオール、ポリカプロラクトンポリオール等が挙げられる。
脂肪族ポリエーテルポリオールとしては、例えば、エチレンオキサイド、プロピレンオキサイド、ブチレンオキサイド、テトラヒドロフラン、2−メチルテトラヒドロフラン、3−メチルテトラヒドロフラン、置換テトラヒドロフラン、オキセタン、置換オキセタン、テトラヒドロピラン及びオキセバンから選ばれる少なくとも1種の化合物を開環(共)重合することにより得られるもの等が挙げられる。これらの具体例としては、ポリエチレングリコール、1,2−ポリプロピレングリコール、1,3−ポリプロピレングリコール、ポリテトラメチレングリコール、1,2−ポリブチレングリコール、ポリイソブチレングリコール、プロピレンオキサイドとテトラヒドロフランの共重合体ポリオール、エチレンオキサイドとテトラヒドロフランの共重合体ポリオール、エチレンオキサイドとプロピレンオキサイドの共重合体ポリオール、テトラヒドロフランと3−メチルテトラヒドロフランの共重合体ポリオール、エチレンオキサイドと1,2−ブチレンオキサイドの共重合体ポリオール等が挙げられる。
脂環族ポリエーテルポリオールとしては、例えば、水添ビスフェノールAのエチレンオキサイド付加ジオール、水添ビスフェノールAのプロピレンオキサイド付加ジオール、水添ビスフェノールAのブチレンオキサイド付加ジオール、水添ビスフェノールFのエチレンオキサイド付加ジオール、水添ビスフェノールFのプロピレンオキサイド付加ジオール、水添ビスフェノールFのブチレンオキサイド付加ジオール、ジシクロペンタジエンのジメチロール化合物、トリシクロデカンジメタノール等が挙げられる。
[(a)ポリオール化合物]
(a)ポリオール化合物としては、脂肪族ポリエーテルポリオール、脂環族ポリエーテルポリオール、芳香族ポリエーテルポリオール、ポリエステルポリオール、ポリカーボネートポリオール、ポリカプロラクトンポリオール等が挙げられる。
脂肪族ポリエーテルポリオールとしては、例えば、エチレンオキサイド、プロピレンオキサイド、ブチレンオキサイド、テトラヒドロフラン、2−メチルテトラヒドロフラン、3−メチルテトラヒドロフラン、置換テトラヒドロフラン、オキセタン、置換オキセタン、テトラヒドロピラン及びオキセバンから選ばれる少なくとも1種の化合物を開環(共)重合することにより得られるもの等が挙げられる。これらの具体例としては、ポリエチレングリコール、1,2−ポリプロピレングリコール、1,3−ポリプロピレングリコール、ポリテトラメチレングリコール、1,2−ポリブチレングリコール、ポリイソブチレングリコール、プロピレンオキサイドとテトラヒドロフランの共重合体ポリオール、エチレンオキサイドとテトラヒドロフランの共重合体ポリオール、エチレンオキサイドとプロピレンオキサイドの共重合体ポリオール、テトラヒドロフランと3−メチルテトラヒドロフランの共重合体ポリオール、エチレンオキサイドと1,2−ブチレンオキサイドの共重合体ポリオール等が挙げられる。
脂環族ポリエーテルポリオールとしては、例えば、水添ビスフェノールAのエチレンオキサイド付加ジオール、水添ビスフェノールAのプロピレンオキサイド付加ジオール、水添ビスフェノールAのブチレンオキサイド付加ジオール、水添ビスフェノールFのエチレンオキサイド付加ジオール、水添ビスフェノールFのプロピレンオキサイド付加ジオール、水添ビスフェノールFのブチレンオキサイド付加ジオール、ジシクロペンタジエンのジメチロール化合物、トリシクロデカンジメタノール等が挙げられる。
脂肪族ポリエーテルポリオール及び脂環族ポリエーテルポリオールの市販品としては、ユニセーフDC1100、ユニセーフDC1800、ユニセーフDCB1100、ユニセーフDCB1800(以上、日本油脂社製);PPTG4000、PPTG2000、PPTG1000、PTG2000、PTG3000、PTG650、PTGL2000、PTGL1000(以上、保土谷化学社製);EXENOL4020、EXENOL3020、EXENOL2020、EXENOL1020(以上、旭硝子社製);PBG3000、PBG2000、PBG1000、Z3001(以上、第一工業製薬社製);ACCLAIM
2200、3201、4200、6300、8200(以上、住化バイエルウレタン社製);NPML−2002、3002、4002、8002(以上、旭硝子社製)等が挙げられる。
2200、3201、4200、6300、8200(以上、住化バイエルウレタン社製);NPML−2002、3002、4002、8002(以上、旭硝子社製)等が挙げられる。
芳香族ポリエーテルポリオールとしては、例えば、ビスフェノールAのエチレンオキサイド付加ジオール、ビスフェノールAのプロピレンオキサイド付加ジオール、ビスフェノールAのブチレンオキサイド付加ジオール、ビスフェノールFのエチレンオキサイド付加ジオール、ビスフェノールFのプロピレンオキサイド付加ジオール、ビスフェノールFのブチレンオキサイド付加ジオール、ハイドロキノンのアルキレンオキサイド付加ジオール、ナフトキノンのアルキレンオキサイド付加ジオール等が挙げられる。芳香族ポリエーテルポリオールの市販品としては、ユニオールDA400、DA700、DA1000(以上、日本油脂社製)等が挙げられる。
ポリエステルポリオールとしては、例えば、エチレングリコール、ポリエチレングリコール、プロピレングリコール、ポリプロピレングリコール、テトラメチレングリコール、ポリテトラメチレングリコール、1,6−ヘキサンジオール、ネオペンチルグリコール、1,4−シクロヘキサンジメタノール、3−メチル−1,5−ペンタンジオール、1,9−ノナンジオール、2−メチル−1,8−オクタンジオール等の多価アルコールと、フタル酸、イソフタル酸、テレフタル酸、マレイン酸、フマール酸、アジピン酸、セバシン酸等の多塩基酸を反応して得られるポリエステルポリオール等が挙げられる。市販品としては、クラポールP−2030、P−1030、P−2010、P−5010、P−2050、F−2010、P−2011、PMIPA、PKA−A、PKA−A2、PNA−2000(以上、クラレ社製)等が挙げられる。
ポリエステルポリオールとしては、例えば、エチレングリコール、ポリエチレングリコール、プロピレングリコール、ポリプロピレングリコール、テトラメチレングリコール、ポリテトラメチレングリコール、1,6−ヘキサンジオール、ネオペンチルグリコール、1,4−シクロヘキサンジメタノール、3−メチル−1,5−ペンタンジオール、1,9−ノナンジオール、2−メチル−1,8−オクタンジオール等の多価アルコールと、フタル酸、イソフタル酸、テレフタル酸、マレイン酸、フマール酸、アジピン酸、セバシン酸等の多塩基酸を反応して得られるポリエステルポリオール等が挙げられる。市販品としては、クラポールP−2030、P−1030、P−2010、P−5010、P−2050、F−2010、P−2011、PMIPA、PKA−A、PKA−A2、PNA−2000(以上、クラレ社製)等が挙げられる。
ポリカーボネートポリオールとしては、例えば、1,6−ヘキサンジオールポリカーボネート、1,6−ヘキサンジオールと1,5−ペンタンジオールとの共重合ポリカーボネートジオール、3−メチル−1,5−ペンタンジオールと1,6−ヘキサンジオールとの共重合ポリカーボネートジオール、1,3−プロパンジオールと1,4−ブタンジオールとの共重合ポリカーボネートジオール等が挙げられる。市販品としてはPCDL T5652、G3452、G3450J(以上、旭化成社製);DN−980、981、982、983(以上、日本ポリウレタン社製);クラレポリオールC−590、C1050、C−1090、C−2050、C−2090、C−3090、C−5090、C−1065N、C−2065N、C−1015N、C−2015N(以上、クラレ社製);PLACCEL−CD205、CD−983、CD220(以上、ダイセル化学工業社製);PC−8000(米国PPG社製)等が挙げられる。
ポリカプロラクトンポリオールとしては、ε−カプロラクトンと、エチレングリコール、ポリエチレングリコール、プロピレングリコール、ポリプロピレングリコール、テトラメチレングリコール、ポリテトラメチレングリコール、1,2−ポリブチレングリコール、1,6−ヘキサンジオール、ネオペンチルグリコール、1,4−シクロヘキサンジメタノール、1,4−ブタンジオール等のジオールとを反応させて得られるポリカプロラクトンジオール等が挙げられる。市販品としては、PLACCCEL205、205AL、212、212AL、220、220AL(以上、ダイセル化学工業社製)等が挙げられる。
本発明で使用しうる他のポリオール化合物としては、エチレングリコール、プロピレングリコール、1,4−ブタンジオール、1,5−ペンタンジオール、1,6−ヘキサンジオール、ネオペンチルグリコール、1,4−シクロヘキサンジメタノール、ポリβ−メチル−δ−バレロラクトン、ヒドロキシ末端ポリブタジエン、ヒドロキシ末端水添ポリブタジエン、ひまし油変性ポリオール、ポリジメチルシロキサンの末端ジオール化合物、ポリジメチルシロキサンカルビトール変性ポリオール等が挙げられる。
ポリカプロラクトンポリオールとしては、ε−カプロラクトンと、エチレングリコール、ポリエチレングリコール、プロピレングリコール、ポリプロピレングリコール、テトラメチレングリコール、ポリテトラメチレングリコール、1,2−ポリブチレングリコール、1,6−ヘキサンジオール、ネオペンチルグリコール、1,4−シクロヘキサンジメタノール、1,4−ブタンジオール等のジオールとを反応させて得られるポリカプロラクトンジオール等が挙げられる。市販品としては、PLACCCEL205、205AL、212、212AL、220、220AL(以上、ダイセル化学工業社製)等が挙げられる。
本発明で使用しうる他のポリオール化合物としては、エチレングリコール、プロピレングリコール、1,4−ブタンジオール、1,5−ペンタンジオール、1,6−ヘキサンジオール、ネオペンチルグリコール、1,4−シクロヘキサンジメタノール、ポリβ−メチル−δ−バレロラクトン、ヒドロキシ末端ポリブタジエン、ヒドロキシ末端水添ポリブタジエン、ひまし油変性ポリオール、ポリジメチルシロキサンの末端ジオール化合物、ポリジメチルシロキサンカルビトール変性ポリオール等が挙げられる。
これらポリオール化合物のうち、ポリエーテルポリオールが好ましく、アルキレンオキシ構造を有する脂肪族ポリエーテルポリオール、芳香族ポリエーテルポリオールがより好ましい。アルキレンオキシ構造を有する脂肪族ポリエーテルポリオールとしては、ポリプロピレングリコール、エチレンオキサイド/プロピレンオキサイド共重合ジオール、エチレンオキサイド/1,2−ブチレンオキサイド共重合ジオール、プロピレンオキサイド/テトラヒドロフラン共重合ジオールがより好ましく、ポリプロピレングリコール、エチレンオキサイド/1,2−ブチレンオキサイド共重合ジオールが特に好ましい。芳香族ポリエーテルポリオールとしては、ビスフェノールAのエチレンオキサイド付加ジオール、
ビスフェノールAのプロピレンオキサイド付加ジオールがより好ましい。
(a)ポリオール化合物は、単独で使用しても2種以上を併用してもよい。
ビスフェノールAのプロピレンオキサイド付加ジオールがより好ましい。
(a)ポリオール化合物は、単独で使用しても2種以上を併用してもよい。
(a)ポリオール化合物の数平均分子量は、好ましくは100〜15,000、さらに好ましくは150〜14,000、最も好ましくは200〜12,000である。(a)ポリオール化合物の数平均分子量が100未満であると、組成物を硬化させてなる硬化物(クラッド層)の常温及び低温におけるヤング率が上昇して、十分な屈曲耐久性を有するフィルム状光導波路を得ることができない。一方、数平均分子量が15,000を超えると、組成物の粘度が上昇し、塗布性が悪化することがある。
[(b)ポリイソシアネート化合物]
(b)ポリイソシアネート化合物としては、例えば、2,4−トリレンジイソシアネート、2,6−トリレンジイソシアネート、1,3−キシリレンジイソシアネート、1,4−キシリレンジイソシアネート、1,5−ナフタレンジイソシアネート、m−フェニレンジイソシアネート、p−フェニレンジイソシアネート、3,3’−ジメチル−4,4’−ジフェニルメタンジイソシアネート、4,4’−ジフェニルメタンジイソシアネート、3,3’−ジメチルフェニレンジイソシアネート、4,4’−ビフェニレンジイソシアネート、1,6−ヘキサンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、メチレンビス(4−シクロヘキシルイソシアネート)、2,2,4−トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート、1,4−ヘキサメチレンジイソシアネート、ビス(2−イソシアネートエチル)フマレート、6−イソプロピル−1,3−フェニルジイソシアネート、4−ジフェニルプロパンジイソシアネート、リジンジイソシアネート、水添ジフェニルメタンジイソシアネート、水添キシリレンジイソシアネート、テトラメチルキシリレンジイソシアネート等のポリイソシアネート化合物が挙げられる。中でも、水添キシリレンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、2,4−トリレンジイソシアネート、2,2,4−トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート等が好ましい。(b)ポリイソシアネート化合物は、単独で使用しても2種以上を併用してもよい。
(b)ポリイソシアネート化合物としては、例えば、2,4−トリレンジイソシアネート、2,6−トリレンジイソシアネート、1,3−キシリレンジイソシアネート、1,4−キシリレンジイソシアネート、1,5−ナフタレンジイソシアネート、m−フェニレンジイソシアネート、p−フェニレンジイソシアネート、3,3’−ジメチル−4,4’−ジフェニルメタンジイソシアネート、4,4’−ジフェニルメタンジイソシアネート、3,3’−ジメチルフェニレンジイソシアネート、4,4’−ビフェニレンジイソシアネート、1,6−ヘキサンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、メチレンビス(4−シクロヘキシルイソシアネート)、2,2,4−トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート、1,4−ヘキサメチレンジイソシアネート、ビス(2−イソシアネートエチル)フマレート、6−イソプロピル−1,3−フェニルジイソシアネート、4−ジフェニルプロパンジイソシアネート、リジンジイソシアネート、水添ジフェニルメタンジイソシアネート、水添キシリレンジイソシアネート、テトラメチルキシリレンジイソシアネート等のポリイソシアネート化合物が挙げられる。中でも、水添キシリレンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、2,4−トリレンジイソシアネート、2,2,4−トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート等が好ましい。(b)ポリイソシアネート化合物は、単独で使用しても2種以上を併用してもよい。
[(c)水酸基含有(メタ)アクリレート]
(c)水酸基含有(メタ)アクリレート化合物としては、例えば、2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシブチル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシ−3−フェニルオキシプロピル(メタ)アクリレート、1,4−ブタンジオールモノ(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシアルキル(メタ)アクリロイルホスフェート、4−ヒドロキシシクロヘキシル(メタ)アクリレート、1,6−ヘキサンジオールモノ(メタ)アクリレート、ネオペンチルグリコールモノ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパンジ(メタ)アクリレート、トリメチロールエタンジ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレート等が挙げられる。さらにアルキルグリシジルエーテル、アリルグリシジルエーテル、グリシジル(メタ)アクリレート等のグリシジル基含有化合物と(メタ)アクリル酸との付加反応により得られる化合物が挙げられる。中でも、2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート等は、好ましく用いられる。
(c)水酸基含有(メタ)アクリレートは、単独で使用しても2種以上を併用してもよい。
上記ウレタン(メタ)アクリレートオリゴマーを構成する各原料の配合割合は、例えば、(c)水酸基含有(メタ)アクリレート1モルに対して、(a)ポリオール化合物0.5〜2モル、(b)ポリイソシアネート化合物1〜2.5モルである。
(c)水酸基含有(メタ)アクリレート化合物としては、例えば、2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシブチル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシ−3−フェニルオキシプロピル(メタ)アクリレート、1,4−ブタンジオールモノ(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシアルキル(メタ)アクリロイルホスフェート、4−ヒドロキシシクロヘキシル(メタ)アクリレート、1,6−ヘキサンジオールモノ(メタ)アクリレート、ネオペンチルグリコールモノ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパンジ(メタ)アクリレート、トリメチロールエタンジ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレート等が挙げられる。さらにアルキルグリシジルエーテル、アリルグリシジルエーテル、グリシジル(メタ)アクリレート等のグリシジル基含有化合物と(メタ)アクリル酸との付加反応により得られる化合物が挙げられる。中でも、2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート等は、好ましく用いられる。
(c)水酸基含有(メタ)アクリレートは、単独で使用しても2種以上を併用してもよい。
上記ウレタン(メタ)アクリレートオリゴマーを構成する各原料の配合割合は、例えば、(c)水酸基含有(メタ)アクリレート1モルに対して、(a)ポリオール化合物0.5〜2モル、(b)ポリイソシアネート化合物1〜2.5モルである。
また、成分(A)として、ポリイソシアネート化合物と水酸基含有(メタ)アクリレートとの反応物であるウレタン(メタ)アクリレートオリゴマーを用いることもできる。この場合、ポリイソシアネート化合物、水酸基含有(メタ)アクリレートの例としては、それぞれ、上記(b)ポリイソシアネート化合物、(c)水酸基含有(メタ)アクリレートと同様のものが挙げられる。
成分(A)としては、ウレタン(メタ)アクリレートオリゴマーを1種単独で用いても2種以上を併用してもよい。
成分(A)は、屈曲耐久性の観点から、(a)ポリオール化合物と(b)ポリイソシアネート化合物と(c)水酸基含有(メタ)アクリレートとの反応生成物であるウレタン(メタ)アクリレートオリゴマーを含むことが好ましい。
成分(A)中、(a)ポリオール化合物と(b)ポリイソシアネート化合物と(c)水酸基含有(メタ)アクリレートとの反応生成物であるウレタン(メタ)アクリレートオリゴマーの含有量は、成分(A)の全量を100質量%として、好ましくは50質量%以上、より好ましくは60質量%以上である。
成分(A)の数平均分子量は、好ましくは100〜15,000、より好ましくは300〜12,000である。該値が100未満では、組成物の粘度が小さくなり過ぎて、塗布性が劣ることがある。一方、該値が15,000を超えると、粘度が高くなり、取り扱いが難しくなる。
光硬化性樹脂組成物中、成分(A)の配合割合は、成分(A)〜(D)の合計量を100質量%として、好ましくは30〜80質量%、より好ましくは32〜75質量%、特に好ましくは35〜70質量部%である。上記配合割合が30質量部未満では、組成物を硬化させてなる硬化物(クラッド層)のヤング率が上昇し、十分な屈曲耐久性を有するフィルム状光導波路を形成することが困難となる。一方、上記配合割合が80質量部を超えると、組成物の粘度が大きくなり、均一な厚みを有するクラッド層を形成することが困難となる。
成分(A)は、屈曲耐久性の観点から、(a)ポリオール化合物と(b)ポリイソシアネート化合物と(c)水酸基含有(メタ)アクリレートとの反応生成物であるウレタン(メタ)アクリレートオリゴマーを含むことが好ましい。
成分(A)中、(a)ポリオール化合物と(b)ポリイソシアネート化合物と(c)水酸基含有(メタ)アクリレートとの反応生成物であるウレタン(メタ)アクリレートオリゴマーの含有量は、成分(A)の全量を100質量%として、好ましくは50質量%以上、より好ましくは60質量%以上である。
成分(A)の数平均分子量は、好ましくは100〜15,000、より好ましくは300〜12,000である。該値が100未満では、組成物の粘度が小さくなり過ぎて、塗布性が劣ることがある。一方、該値が15,000を超えると、粘度が高くなり、取り扱いが難しくなる。
光硬化性樹脂組成物中、成分(A)の配合割合は、成分(A)〜(D)の合計量を100質量%として、好ましくは30〜80質量%、より好ましくは32〜75質量%、特に好ましくは35〜70質量部%である。上記配合割合が30質量部未満では、組成物を硬化させてなる硬化物(クラッド層)のヤング率が上昇し、十分な屈曲耐久性を有するフィルム状光導波路を形成することが困難となる。一方、上記配合割合が80質量部を超えると、組成物の粘度が大きくなり、均一な厚みを有するクラッド層を形成することが困難となる。
[成分(B)]
成分(B)は、反応性希釈モノマーである。本明細書において、反応性希釈モノマーとは、光重合可能な他の反応性の成分に対して希釈剤として作用する、すなわち、粘度を低下させる作用を有するモノマーをいう。
反応性希釈モノマーとしては、(B1)分子内にエチレン性不飽和基を1つ有するモノマー(以下、単官能モノマーともいう。)、及び(B2)分子内にエチレン性不飽和基を2つ以上有するモノマー(以下、多官能モノマーともいう。)が挙げられる。上記エチレン性不飽和基としては、(メタ)アクリロイル基、ビニル基等が挙げられるが、(メタ)アクリロイル基がより好ましい。
上記(B1)単官能モノマーとしては、例えば、アクリロイルモルフォリン、ジメチルアクリルアミド、ジエチルアクリルアミド、ジイソプロピルアクリルアミド、イソボルニル(メタ)アクリレート、ラウリル(メタ)アクリレート、イソデシル(メタ)アクリレート、ジシクロペンテニルアクリレート、ジシクロペンタニル(メタ)アクリレート、ジシクロペンテニルオキシエチル(メタ)アクリレート、メチル(メタ)アクリレート、エチル(メタ)アクリレート、シクロヘキシルメタクリレート、ジシクロペンタジエニル(メタ)アクリレート、トリシクロデカニル(メタ)アクリレート、ジアセトンアクリルアミド、イソブトキシメチル(メタ)アクリルアミド、N−ビニルピロリドン、N−ビニルカプロラクタム、3−ヒドロキシシクロヘキシルアクリレート、2−アクリロイルシクロヘキシルコハク酸、フェノキシエチルアクリレート等を挙げることができる。
これらの中でも、アクリロイルモルフォリン、ジメチルアクリルアミド、N−ビニルピロリドン及びN−ビニルカプロラクタム等のN−ビニル化合物、及び炭素数10以上の脂肪族炭化水素基を有する単官能性(メタ)アクリレートが好ましい。ここで炭素数10以上の脂肪族炭化水素基としては、直鎖、分岐鎖および脂環式のいずれも含まれる。前記炭素数10以上の脂肪族炭化水素基を有する単官能性(メタ)アクリレートとしては、イソボルニル(メタ)アクリレート、イソデシル(メタ)アクリレート、ラウリル(メタ)アクリレートが好ましい。
(B1)成分の市販品としてはACMO、DMAA(以上、興人社製)、ニューフロンティアIBA(第一工業製薬社製);IBXA(大阪有機化学社製);FA511A、FA512A、FA513A、FA544A、512M、512MT、513M(以上、日立化成社製);ライトエステルM、E、BH、TB、IB−X、IB−XA(以上、共栄社化学社製);アロニックス M150、M156、TO1315、TO1316(以上、東亞合成社製)等が挙げられる。
成分(B)は、反応性希釈モノマーである。本明細書において、反応性希釈モノマーとは、光重合可能な他の反応性の成分に対して希釈剤として作用する、すなわち、粘度を低下させる作用を有するモノマーをいう。
反応性希釈モノマーとしては、(B1)分子内にエチレン性不飽和基を1つ有するモノマー(以下、単官能モノマーともいう。)、及び(B2)分子内にエチレン性不飽和基を2つ以上有するモノマー(以下、多官能モノマーともいう。)が挙げられる。上記エチレン性不飽和基としては、(メタ)アクリロイル基、ビニル基等が挙げられるが、(メタ)アクリロイル基がより好ましい。
上記(B1)単官能モノマーとしては、例えば、アクリロイルモルフォリン、ジメチルアクリルアミド、ジエチルアクリルアミド、ジイソプロピルアクリルアミド、イソボルニル(メタ)アクリレート、ラウリル(メタ)アクリレート、イソデシル(メタ)アクリレート、ジシクロペンテニルアクリレート、ジシクロペンタニル(メタ)アクリレート、ジシクロペンテニルオキシエチル(メタ)アクリレート、メチル(メタ)アクリレート、エチル(メタ)アクリレート、シクロヘキシルメタクリレート、ジシクロペンタジエニル(メタ)アクリレート、トリシクロデカニル(メタ)アクリレート、ジアセトンアクリルアミド、イソブトキシメチル(メタ)アクリルアミド、N−ビニルピロリドン、N−ビニルカプロラクタム、3−ヒドロキシシクロヘキシルアクリレート、2−アクリロイルシクロヘキシルコハク酸、フェノキシエチルアクリレート等を挙げることができる。
これらの中でも、アクリロイルモルフォリン、ジメチルアクリルアミド、N−ビニルピロリドン及びN−ビニルカプロラクタム等のN−ビニル化合物、及び炭素数10以上の脂肪族炭化水素基を有する単官能性(メタ)アクリレートが好ましい。ここで炭素数10以上の脂肪族炭化水素基としては、直鎖、分岐鎖および脂環式のいずれも含まれる。前記炭素数10以上の脂肪族炭化水素基を有する単官能性(メタ)アクリレートとしては、イソボルニル(メタ)アクリレート、イソデシル(メタ)アクリレート、ラウリル(メタ)アクリレートが好ましい。
(B1)成分の市販品としてはACMO、DMAA(以上、興人社製)、ニューフロンティアIBA(第一工業製薬社製);IBXA(大阪有機化学社製);FA511A、FA512A、FA513A、FA544A、512M、512MT、513M(以上、日立化成社製);ライトエステルM、E、BH、TB、IB−X、IB−XA(以上、共栄社化学社製);アロニックス M150、M156、TO1315、TO1316(以上、東亞合成社製)等が挙げられる。
上記(B2)多官能モノマーのうち、分子内にエチレン性不飽和基を2つ有するモノマー(以下、2官能モノマーともいう。)としては、例えば、エチレングリコールジ(メタ)アクリレート、テトラエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ポリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、1,4−ブタンジオールジ(メタ)アクリレート、1,6−へキサンジオールジ(メタ)アクリレート、ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート、エチレンオキサイド付加ビスフェノールA型ジ(メタ)アクリレート、エチレンオキサイド付加テトラブロモビスフェノールA型ジ(メタ)アクリレート、プロピレンオキサイド付加ビスフェノールA型ジ(メタ)アクリレート、プロピレンオキサイド付加テトラブロモビスフェノールA型ジ(メタ)アクリレート、ビスフェノールAジグリシジルエーテルと(メタ)アクリル酸とのエポキシ開環反応で得られるビスフェノールA型エポキシジ(メタ)アクリレート、テトラブロモビスフェノールAジグリシジルエーテルと(メタ)アクリル酸とのエポキシ開環反応で得られるテトラブロモビスフェノールA型エポキシジ(メタ)アクリレート、ビスフェノールFジグリシジルエーテルと(メタ)アクリル酸とのエポキシ開環反応で得られるビスフェノールF型エポキシジ(メタ)アクリレート、テトラブロモビスフェノールFジグリシジルエーテルと(メタ)アクリル酸とのエポキシ開環反応で得られるテトラブロモビスフェノールF型エポキシジ(メタ)アクリレート、ポリカーボネートジオールジ(メタ)アクリレート等が挙げられる。
中でも、エチレンオキサイド付加ビスフェノールA型ジ(メタ)アクリレート、エチレンオキサイド付加テトラブロモビスフェノールA型ジ(メタ)アクリレート、ビスフェノールAジグリシジルエーテルと(メタ)アクリル酸とのエポキシ開環反応で得られるビスフェノールA型エポキシジ(メタ)アクリレート、テトラブロモビスフェノールA型エポキシジ(メタ)アクリレート、ポリカーボネートジオールジ(メタ)アクリレート等は、特に好ましく用いられる。
中でも、エチレンオキサイド付加ビスフェノールA型ジ(メタ)アクリレート、エチレンオキサイド付加テトラブロモビスフェノールA型ジ(メタ)アクリレート、ビスフェノールAジグリシジルエーテルと(メタ)アクリル酸とのエポキシ開環反応で得られるビスフェノールA型エポキシジ(メタ)アクリレート、テトラブロモビスフェノールA型エポキシジ(メタ)アクリレート、ポリカーボネートジオールジ(メタ)アクリレート等は、特に好ましく用いられる。
2官能モノマーの市販品としては、例えば、ビスコート#700、#540(以上、大阪有機化学工業社製);アロニックスM−208、M−210(以上、東亞合成社製);NKエステルBPE−100、BPE−200、BPE−500、A−BPE−4(以上、新中村化学社製);ライトアクリレート1,6−HX−A、ライトエステルBP−4EA、BP−4PA、エポキシエステル3002M、3002A、3000M、3000A(以上、共栄社化学社製);KAYARAD
R−551、R−712(以上、日本化薬社製);BPE−4、BPE−10、BR−42M(以上、第一工業製薬社製);リポキシVR−77、VR−60、VR−90、SP−1506、SP−1506、SP−1507、SP−1509、SP−1563(以上、昭和高分子社製);ネオポールV779、ネオポールV779MA(以上、日本ユピカ社製);UH−100DA(宇部興産社製)等が挙げられる。
R−551、R−712(以上、日本化薬社製);BPE−4、BPE−10、BR−42M(以上、第一工業製薬社製);リポキシVR−77、VR−60、VR−90、SP−1506、SP−1506、SP−1507、SP−1509、SP−1563(以上、昭和高分子社製);ネオポールV779、ネオポールV779MA(以上、日本ユピカ社製);UH−100DA(宇部興産社製)等が挙げられる。
また、(B2)多官能モノマーのうち、エチレン性不飽和基を3個以上有するモノマー(3官能以上のモノマー)としては、例えば、トリス(アクリロキシエチル)イソシアヌレート、トリス(2−ヒドロキシエチル)イソシアヌレートトリ(メタ)アクリレート、カプロラクトン変性トリス(2−ヒドロキシエチル)イソシアヌレートトリ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、エチレンオキシド(以下「EO」という。)変性トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、プロピレンオキシド(以下「PO」という。)変性トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、2,2,2−トリス(メタ)アクリロイロキシメチルエチルフタル酸、2,2,2−トリス(メタ)アクリロイロキシメチルエチルコハク酸、EO変性トリス(アクリロキシ)イソシアヌレート、カプロラクトン変性トリス−(2−アクリロキシエチル)イソシアヌレート、トリス(アクリロキシ)イソシアヌレート、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、PO変性ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、EO変性ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、PO変性ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、カプロラクトン変性ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、カプロラクトン変性ジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ(メタ)アクリレート、トリアクリロイルオキシエチルホスフェート等が挙げられる。
中でも、トリス(アクリロキシエチル)イソシアヌレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレートが好ましい。
中でも、トリス(アクリロキシエチル)イソシアヌレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレートが好ましい。
3官能以上のモノマーの市販品としては、例えば、アロニックスM−315、M−325、M−327、TO−756、TO−1382(以上、東亞合成社製);NKエステルTM−4EL、CBX−O、CBX−1N、A−DPH−6H、A−9300、A−DPH、A−9300−1CL、TMPT、TMPT−9EO、ATM−4P、ATM−4E、ATM−35E、AD−TMP、A−TMPT、A−TMPT−3EO、A−TMPT−3PO、A−TMMT、A−TMM−3LMN(以上、新中村化学工業社製);ライトエステルTMP、ライトアクリレートTMP−A、TMP−6EO−3A、PE−3A、PE−4A、DPE−6A、BA−134、TMP−3EO−A(以上、共栄社化学社製);ビスコート295、360、3PA、400(以上、大阪有機化学工業社製);KAYARAD PET−30、DPHA(以上、日本化薬社製)等が挙げられる。
成分(B)としては、上記単官能モノマー及び上記多官能モノマーのいずれかを単独で使用してもよいし、併用して用いることもできる。好ましくは、成分(B)は多官能モノマーを含む。
光硬化性樹脂組成物中、成分(B)の配合割合は、成分(A)〜(D)の合計量を100質量%として、15〜68.9質量%、好ましくは20〜60質量%、より好ましくは25〜50質量%である。上記配合割合が15質量%未満では、硬化物の耐湿熱性が低下し、フィルム状光導波路を高温高湿雰囲気中で使用した場合に、伝送特性、屈曲耐久性を良好に維持することが困難となる。一方、上記配合割合が、68.9質量%を超えると、組成物の光硬化性が低下し、十分な機械的特性を有する硬化物(下部クラッド層、上部クラッド層)を形成することが困難となる。
光硬化性樹脂組成物中、成分(B)の配合割合は、成分(A)〜(D)の合計量を100質量%として、15〜68.9質量%、好ましくは20〜60質量%、より好ましくは25〜50質量%である。上記配合割合が15質量%未満では、硬化物の耐湿熱性が低下し、フィルム状光導波路を高温高湿雰囲気中で使用した場合に、伝送特性、屈曲耐久性を良好に維持することが困難となる。一方、上記配合割合が、68.9質量%を超えると、組成物の光硬化性が低下し、十分な機械的特性を有する硬化物(下部クラッド層、上部クラッド層)を形成することが困難となる。
[成分(C)]
成分(C)は、電子顕微鏡法で測定した数平均粒径が1〜100nmであるエラストマー粒子である。成分(C)を添加することにより、光硬化性樹脂組成物の硬化物の屈曲耐久性を向上させることができる。成分(C)の数平均粒径は、1〜100nm、好ましくは10〜90nm、特に好ましくは20nm〜80nmである。数平均粒径が1nm未満であると、組成物の粘度が増大し、塗工不良を生じることがある。数平均粒径が100nmを超えると、透明性または伝送特性が低下したり、また、屈曲耐久性を向上させる効果が小さくなる場合がある。
成分(C)は、電子顕微鏡法で測定した数平均粒径が1〜100nmであるエラストマー粒子である。成分(C)を添加することにより、光硬化性樹脂組成物の硬化物の屈曲耐久性を向上させることができる。成分(C)の数平均粒径は、1〜100nm、好ましくは10〜90nm、特に好ましくは20nm〜80nmである。数平均粒径が1nm未満であると、組成物の粘度が増大し、塗工不良を生じることがある。数平均粒径が100nmを超えると、透明性または伝送特性が低下したり、また、屈曲耐久性を向上させる効果が小さくなる場合がある。
(C)エラストマー粒子の好適な例としては、重合性不飽和基を2個以上有する架橋性モノマー(以下、「架橋性モノマー(c1)」ともいう。)と、架橋性モノマー(c1)以外のモノマー(以下、「その他のモノマー(c2)」ともいう。)との共重合体であるエラストマー粒子が挙げられる。
架橋性モノマー(c1)としては、例えば、ジビニルベンゼン、ジアリルフタレート、エチレングリコールジ(メタ)アクリレート、プロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ポリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ポリプロピレングリコールジ(メタ)アクリレートなどの重合性不飽和基を2個以上有する化合物が挙げられる。これらの中では、ジビニルベンゼンが好ましい。
架橋性モノマー(c1)は、上記共重合体に用いられる全モノマーを100質量%として、好ましくは1〜20質量%、より好ましくは2〜10質量%の範囲で用いられる。
架橋性モノマー(c1)は、上記共重合体に用いられる全モノマーを100質量%として、好ましくは1〜20質量%、より好ましくは2〜10質量%の範囲で用いられる。
その他のモノマー(c2)としては、例えば、ブタジエン、イソプレン、ジメチルブタジエン、クロロプレン、1,3−ペンタジエン等のジエン化合物;(メタ)アクリル酸メチル、(メタ)アクリル酸エチル、(メタ)アクリル酸プロピル、(メタ)アクリル酸ブチル、(メタ)アクリル酸ヘキシル、(メタ)アクリル酸ラウリル、ポリエチレングリコール(メタ)アクリレート、ポリプロピレングリコール(メタ)アクリレート等の(メタ)アクリル酸エステル類;スチレン、α−メチルスチレン、o−メトキシスチレン、p−ヒドロキシスチレン、p−イソプロペニルフェノール等の芳香族ビニル化合物;(メタ)アクリロニトリル、α−クロロアクリロニトリル、α−クロロメチルアクリロニトリル、α−メトキシアクリロニトリル、α−エトキシアクリロニトリル、クロトン酸ニトリル、ケイ皮酸ニトリル、イタコン酸ジニトリル、マレイン酸ジニトリル、フマル酸ジニトリル等の不飽和ニトリル化合物類;ビスフェノールAのジグリシジルエーテル、グリコールのジグリシジルエーテルなどと(メタ)アクリル酸、ヒドロキシアルキル(メタ)アクリレートなどとの反応によって得られるエポキシ(メタ)アクリレート、ヒドロキシアルキル(メタ)アクリレートとポリイソシアナートとの反応によって得られるウレタン(メタ)アクリレート類、グリシジル(メタ)アクリレート、(メタ)アリルグリシジルエーテル等のエポキシ基含有不飽和化合物;(メタ)アクリル酸、イタコン酸、コハク酸−β−(メタ)アクリロキシエチル、マレイン酸−β−(メタ)アクリロキシエチル、フタル酸−β−(メタ)アクリロキシエチル、ヘキサヒドロフタル酸−β−(メタ)アクリロキシエチル等の不飽和酸化合物;(メタ)アクリルアミド、ジメチル(メタ)アクリルアミド、N,N’−メチレンビス(メタ)アクリルアミド、N,N’−エチレンビス(メタ)アクリルアミド、N,N’−ヘキサメチレンビス(メタ)アクリルアミド、N−ヒドロキシメチル(メタ)アクリルアミド、N−(2−ヒドロキシエチル)(メタ)アクリルアミド、N,N−ビス(2−ヒドロキシエチル)(メタ)アクリルアミド、クロトン酸アミド、ケイ皮酸アミド等の不飽和アミド類;ジメチルアミノ(メタ)アクリレート、ジエチルアミノ(メタ)アクリレート等のアミノ基含有不飽和化合物;ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、ヒドロキシブチル(メタ)アクリレート等の水酸基含有不飽和化合物等が挙げられる。中でも、ブタジエン、イソプレン、(メタ)アクリル酸アルキルエステル類、スチレン、p−ヒドロキシスチレン、p−イソプロペニルフェノール、(メタ)アクリロニトリル、グリシジル(メタ)アクリレート、(メタ)アクリル酸、ヒドロキシアルキル(メタ)アクリレート類等が好ましく用いられる。
その他のモノマー(c2)は、官能基を含まない単量体(具体的には、上記ジエン化合物、(メタ)アクリル酸エステル、芳香族ビニル化合物等)を少なくとも1種含むことが好ましく、より好ましくはジエン化合物を少なくとも1種、さらに好ましくはブタジエンを含む。ジエン化合物は、上記共重合体に用いられる全モノマーを100質量%として、好ましくは20〜80質量%、より好ましくは30〜70質量%の範囲で用いられる。ジエン化合物の使用割合が上記範囲内であると、共重合体(エラストマー粒子)の性状がゴム状で軟らかいものとなるため、光硬化性樹脂組成物の硬化物(クラッド層)においてクラックの発生を防止することができ、フィルム状光導波路の屈曲耐久性を向上させることができる。
また、その他のモノマー(c2)は、官能基を有する単量体を少なくとも1種含むことが好ましく、より好ましくはカルボキシル基、エポキシ基、アミノ基、イソシアネート基、及び、水酸基からなる群より選ばれる少なくとも1種の官能基を有する化合物を含む。官能基を有するモノマーは、上記共重合体に用いられる全モノマーを100質量%として、好ましくは1〜50質量%、より好ましくは1〜40質量%の範囲で用いられる。
また、その他のモノマー(c2)は、官能基を有する単量体を少なくとも1種含むことが好ましく、より好ましくはカルボキシル基、エポキシ基、アミノ基、イソシアネート基、及び、水酸基からなる群より選ばれる少なくとも1種の官能基を有する化合物を含む。官能基を有するモノマーは、上記共重合体に用いられる全モノマーを100質量%として、好ましくは1〜50質量%、より好ましくは1〜40質量%の範囲で用いられる。
成分(C)エラストマー粒子の平均粒径のコントロール方法は、特に限定されず、たとえば、乳化重合によりエラストマー粒子を合成する場合であれば、使用する乳化剤の量により、乳化重合中のミセルの数を制御し、粒径をコントロールすることができる。
光硬化性樹脂組成物中、成分(C)の配合割合は、成分(A)〜(D)の合計を100質量%として、好ましくは1〜35質量%、より好ましくは5〜25質量%、特に好ましくは10〜20質量%である。上記配合割合が1質量%未満であると、フィルム状光導波路の屈曲耐久性が低下するため好ましくない。一方、上記配合割合が35質量%を超えると、組成物の粘度が増大し、塗工精度が低下する傾向がある。
[成分(D)]
成分(D)は、成分(A)〜(C)を重合しうる活性種(ラジカル)を光によって発生することのできる光重合開始剤である。
ここで光とは、例えば赤外線、可視光線、紫外線、及びX線、電子線、α線、β線、γ線のような電離放射線を意味する。
光重合開始剤としては、例えばアセトフェノン、アセトフェノンベンジルケタール、1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、2,2−ジメトキシ−2−フェニルアセトフェノン、キサントン、フルオレノン、ベンズアルデヒド、フルオレン、アントラキノン、トリフェニルアミン、カルバゾール、3−メチルアセトフェノン、4−クロロベンゾフェノン、4,4’−ジメトキシベンゾフェノン、4,4’−ジアミノベンゾフェノン、ミヒラーケトン、ベンゾインプロピルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンジルジメチルケタール、1−(4−イソプロピルフェニル)−2−ヒドロキシ−2−メチルプロパン−1−オン、2−ヒドロキシ−2−メチル−1−フェニルプロパン−1−オン、チオキサントン、ジエチルチオキサントン、2−イソプロピルチオキサントン、2−クロロチオキサントン、2−メチル−1−[4−(メチルチオ)フェニル]−2−モルホリノ−プロパン−1−オン、2,4,6−トリメチルベンゾイルジフェニルフォスフィンオキサイド、ビス(2,6−ジメトキシベンゾイル)−2,4,4−トリメチルペンチルフォスフィンオキシド等が挙げられる。中でも1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン等は、重合速度、溶液安定性の観点から好ましく用いられる。
成分(D)は、成分(A)〜(C)を重合しうる活性種(ラジカル)を光によって発生することのできる光重合開始剤である。
ここで光とは、例えば赤外線、可視光線、紫外線、及びX線、電子線、α線、β線、γ線のような電離放射線を意味する。
光重合開始剤としては、例えばアセトフェノン、アセトフェノンベンジルケタール、1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、2,2−ジメトキシ−2−フェニルアセトフェノン、キサントン、フルオレノン、ベンズアルデヒド、フルオレン、アントラキノン、トリフェニルアミン、カルバゾール、3−メチルアセトフェノン、4−クロロベンゾフェノン、4,4’−ジメトキシベンゾフェノン、4,4’−ジアミノベンゾフェノン、ミヒラーケトン、ベンゾインプロピルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンジルジメチルケタール、1−(4−イソプロピルフェニル)−2−ヒドロキシ−2−メチルプロパン−1−オン、2−ヒドロキシ−2−メチル−1−フェニルプロパン−1−オン、チオキサントン、ジエチルチオキサントン、2−イソプロピルチオキサントン、2−クロロチオキサントン、2−メチル−1−[4−(メチルチオ)フェニル]−2−モルホリノ−プロパン−1−オン、2,4,6−トリメチルベンゾイルジフェニルフォスフィンオキサイド、ビス(2,6−ジメトキシベンゾイル)−2,4,4−トリメチルペンチルフォスフィンオキシド等が挙げられる。中でも1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン等は、重合速度、溶液安定性の観点から好ましく用いられる。
成分(D)の市販品としては、例えば、Irgacure184、369、379、651、500、819、907、784、2959、CGI−1700、−1750、−1850、CG24−61、Darocur 1116、1173(以上、チバ・スペシャリテイ・ケミカルズ社製);Lucirin TPO、LR8893、LR8970(以上、BASF社製);ユベクリルP36(UCB社製)等が挙げられる。光ラジカル重合開始剤は、1種を単独で、あるいは2種以上を組み合わせて用いられる。
本発明においては、光重合開始剤と共に光増感剤を用いることができる。光増感剤としては、例えば、トリエチルアミン、ジエチルアミン、N−メチルジエタノールアミン、エタノールアミン、4−ジメチルアミノ安息香酸、4−ジメチルアミノ安息香酸メチル、4−ジメチルアミノ安息香酸エチル、4−ジメチルアミノ安息香酸イソアミル等が挙げられる。光増感剤の市販品としては、例えば、ユベクリルP102、103、104、105(以上、UCB社製)等が挙げられる。
本発明においては、光重合開始剤と共に光増感剤を用いることができる。光増感剤としては、例えば、トリエチルアミン、ジエチルアミン、N−メチルジエタノールアミン、エタノールアミン、4−ジメチルアミノ安息香酸、4−ジメチルアミノ安息香酸メチル、4−ジメチルアミノ安息香酸エチル、4−ジメチルアミノ安息香酸イソアミル等が挙げられる。光増感剤の市販品としては、例えば、ユベクリルP102、103、104、105(以上、UCB社製)等が挙げられる。
光硬化性樹脂組成物中、成分(D)の配合割合は、成分(A)〜(D)の合計量を100質量%として、0.1〜10質量%、好ましくは0.2〜7質量%、より好ましくは0.5〜6質量%である。上記配合割合が0.1質量%未満では、硬化が十分に進行せず、十分な機械的特性を有する硬化物(クラッド層)を形成することが困難となることがある。また、上記配合割合が10質量%を超えると、光重合開始剤が、フィルム状光導波路の長期の特性に悪影響を及ぼす可能性がある。
[任意成分]
光硬化性樹脂組成物には、必要に応じて、有機溶媒(成分(E))を配合することができる。有機溶媒を配合することにより、適当な粘度を付与して、均一な厚さを有する硬化物(クラッド層)を形成することができる。
有機溶媒の種類は、本発明の目的、効果を損なわない範囲で適宜選択することができるが、大気圧下での沸点が50〜200℃の範囲内の値を有し、かつ、各構成成分を均一に溶解させるものが好ましい。
有機溶媒の好ましい例としては、アルコール類、エーテル類、エステル類、及びケトン類が挙げられる。有機溶媒の好ましい化合物名としては、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテル、乳酸エチル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、メチルイソブチルケトン、メチルアミルケトン、トルエン、キシレン、及びメタノールからなる群より選択される少なくとも1つの溶剤が挙げられる。
有機溶媒の配合量は、成分(A)〜(D)の合計量100質量部に対し、好ましくは5〜500質量部、より好ましくは10〜300質量部、特に好ましくは20〜200質量部である。上記配合量が5質量部未満では、光硬化性樹脂組成物の粘度の調整が困難となることがある。上記配合量が500質量部を超えると、十分な厚さを有するクラッド層を形成することが困難なことがある。
光硬化性樹脂組成物には、必要に応じて、有機溶媒(成分(E))を配合することができる。有機溶媒を配合することにより、適当な粘度を付与して、均一な厚さを有する硬化物(クラッド層)を形成することができる。
有機溶媒の種類は、本発明の目的、効果を損なわない範囲で適宜選択することができるが、大気圧下での沸点が50〜200℃の範囲内の値を有し、かつ、各構成成分を均一に溶解させるものが好ましい。
有機溶媒の好ましい例としては、アルコール類、エーテル類、エステル類、及びケトン類が挙げられる。有機溶媒の好ましい化合物名としては、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテル、乳酸エチル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、メチルイソブチルケトン、メチルアミルケトン、トルエン、キシレン、及びメタノールからなる群より選択される少なくとも1つの溶剤が挙げられる。
有機溶媒の配合量は、成分(A)〜(D)の合計量100質量部に対し、好ましくは5〜500質量部、より好ましくは10〜300質量部、特に好ましくは20〜200質量部である。上記配合量が5質量部未満では、光硬化性樹脂組成物の粘度の調整が困難となることがある。上記配合量が500質量部を超えると、十分な厚さを有するクラッド層を形成することが困難なことがある。
また、光硬化性樹脂組成物には、前記の成分(A)〜(E)以外に、必要に応じて本発明の樹脂組成物の特性を損なわない範囲で、例えば、上記成分以外の重合性反応基を有する化合物や、高分子樹脂(例えば、エポキシ樹脂、アクリル樹脂、ポリアミド樹脂、ポリアミドイミド樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリブタジエン樹脂、ポリクロロプレン樹脂、ポリエーテル樹脂、ポリエステル樹脂、スチレン−ブタジエンブロック共重合体、石油樹脂、キシレン樹脂、ケトン樹脂、セルロース樹脂、フッ素系ポリマー、シリコーン系ポリマー)等を配合することができる。
さらにまた、必要に応じて各種添加剤として、例えば酸化防止剤、紫外線吸収剤、光安定剤、シランカップリング剤、塗面改良剤、熱重合禁止剤、レベリング剤、界面活性剤、着色剤、保存安定剤、可塑剤、滑剤、フィラー、無機粒子、老化防止剤、濡れ性改良剤、帯電防止剤等を配合することができる。
光硬化性樹脂組成物は、前記の各成分を混合撹拌することにより製造することができる。なお、撹拌時の温度は、通常30〜70℃、好ましくは50〜60℃であり、撹拌時間は、通常1〜6時間、好ましくは1〜2時間である。
上記光硬化性樹脂組成物は、硬化後に高い透明性を有する。具体的には、上記光硬化性樹脂組成物の硬化物は、厚さが10μmである場合に、波長405nmの光に対して、80%以上、好ましくは90%以上の透過率を有する。
さらにまた、必要に応じて各種添加剤として、例えば酸化防止剤、紫外線吸収剤、光安定剤、シランカップリング剤、塗面改良剤、熱重合禁止剤、レベリング剤、界面活性剤、着色剤、保存安定剤、可塑剤、滑剤、フィラー、無機粒子、老化防止剤、濡れ性改良剤、帯電防止剤等を配合することができる。
光硬化性樹脂組成物は、前記の各成分を混合撹拌することにより製造することができる。なお、撹拌時の温度は、通常30〜70℃、好ましくは50〜60℃であり、撹拌時間は、通常1〜6時間、好ましくは1〜2時間である。
上記光硬化性樹脂組成物は、硬化後に高い透明性を有する。具体的には、上記光硬化性樹脂組成物の硬化物は、厚さが10μmである場合に、波長405nmの光に対して、80%以上、好ましくは90%以上の透過率を有する。
次に、本発明のフィルム状光導波路のコア部分を形成するための光硬化性樹脂組成物(以下、コア形成用光硬化性樹脂組成物という。)について説明する。
コア形成用光硬化性樹脂組成物の好適な例としては、下記成分(イ)〜(ニ)を含む光硬化性組成物が挙げられる。
コア形成用光硬化性樹脂組成物の好適な例としては、下記成分(イ)〜(ニ)を含む光硬化性組成物が挙げられる。
[成分(イ)]
成分(イ)は、エチレン性不飽和基を有するビニル系重合体(以下、単にビニル系重合体ともいう。)である。
上記エチレン性不飽和基としては、ビニル基、(メタ)アクリロイル基等が挙げられるが、好ましくは(メタ)アクリロイル基である。
上記ビニル系重合体の具体例としては、下記一般式(1)で表される繰り返し単位と、下記一般式(2)で表される繰り返し単位とを含む重合体(例えば、ランダム共重合体)が挙げられる。
(式中、R1及びR2は各々独立して水素原子またはメチル基であり、R3は(メタ)アクリロイル基であり、Xは2価の有機基であり、Yは重合性を有しない有機基である。)
成分(イ)は、エチレン性不飽和基を有するビニル系重合体(以下、単にビニル系重合体ともいう。)である。
上記エチレン性不飽和基としては、ビニル基、(メタ)アクリロイル基等が挙げられるが、好ましくは(メタ)アクリロイル基である。
上記ビニル系重合体の具体例としては、下記一般式(1)で表される繰り返し単位と、下記一般式(2)で表される繰り返し単位とを含む重合体(例えば、ランダム共重合体)が挙げられる。
上記ビニル系重合体は、例えば、(イ−1)水酸基を有するラジカル重合性化合物、及び(イ−2)成分(一般式(2)に対応するラジカル重合性化合物)を、溶媒中でラジカル重合用の触媒存在下でラジカル重合した後、得られた共重合体の側鎖の水酸基に対して、(イ−3)(メタ)アクリロイルオキシ基を有するイソシアネートを付加させて得られるものが挙げられる。
上記(イ−1)成分(水酸基を有するラジカル重合性化合物)としては、例えば、2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート等が挙げられる。上記(イ−2)成分(一般式(2)に対応するラジカル重合性化合物)としては、例えば、ジシクロペンタニル(メタ)アクリレート、メチル(メタ)アクリレート、n−ブチル(メタ)アクリレート、スチレン、α−メチルスチレン等が挙げられる。上記(イ−3)成分((メタ)アクリロイルオキシ基を有するイソシアネート)としては、例えば、2−メタクリロキシエチルイソシアネート等が挙げられる。
上記(イ−1)成分(水酸基を有するラジカル重合性化合物)としては、例えば、2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート等が挙げられる。上記(イ−2)成分(一般式(2)に対応するラジカル重合性化合物)としては、例えば、ジシクロペンタニル(メタ)アクリレート、メチル(メタ)アクリレート、n−ブチル(メタ)アクリレート、スチレン、α−メチルスチレン等が挙げられる。上記(イ−3)成分((メタ)アクリロイルオキシ基を有するイソシアネート)としては、例えば、2−メタクリロキシエチルイソシアネート等が挙げられる。
成分(イ)のポリスチレン換算の重量平均分子量は、好ましくは5,000〜100,000、より好ましくは8,000〜70,000、特に好ましくは10,000〜50,000である。
[成分(ロ)]
成分(ロ)は、ウレタン(メタ)アクリレートオリゴマーである。
上記ウレタン(メタ)アクリレートオリゴマーとしては、上述のクラッド層形成用の光硬化性組成物の成分(A)と同様のものが挙げられる。
コア形成用光硬化性樹脂組成物中、成分(ロ)の配合量は、成分(イ)100質量部に対して、好ましくは10〜100質量部、より好ましくは20〜80質量部、特に好ましくは35〜70質量部である。上記配合量が10質量部未満であると、光硬化性組成物層の硬化物(コア部分)について十分な屈曲耐久性が得られないことがある。一方、上記配合量が100質量部を超えると、成分(イ)との相溶性が悪くなり、コア形成用光硬化性樹脂組成物層の硬化物(コア部分)の表面に膜荒れを生じたり、十分な透明性が得られないことがある。
成分(ロ)は、ウレタン(メタ)アクリレートオリゴマーである。
上記ウレタン(メタ)アクリレートオリゴマーとしては、上述のクラッド層形成用の光硬化性組成物の成分(A)と同様のものが挙げられる。
コア形成用光硬化性樹脂組成物中、成分(ロ)の配合量は、成分(イ)100質量部に対して、好ましくは10〜100質量部、より好ましくは20〜80質量部、特に好ましくは35〜70質量部である。上記配合量が10質量部未満であると、光硬化性組成物層の硬化物(コア部分)について十分な屈曲耐久性が得られないことがある。一方、上記配合量が100質量部を超えると、成分(イ)との相溶性が悪くなり、コア形成用光硬化性樹脂組成物層の硬化物(コア部分)の表面に膜荒れを生じたり、十分な透明性が得られないことがある。
[成分(ハ)]
成分(ハ)は、反応性希釈モノマーである。
上記反応性希釈モノマーとしては、上述のクラッド層形成用の光硬化性組成物の成分(B)と同様のものが挙げられる。
コア形成用光硬化性樹脂組成物中、成分(ハ)の配合量は、成分(イ)100質量部に対して、好ましくは5〜100質量部、より好ましくは10〜70質量部、特に好ましくは20〜50質量部である。上記配合量が5質量部未満であると、フィルム状光導波路を形成する際、目的とする導波路の形状の精度が劣ることがある。一方、上記配合量が100質量部を超えると、成分(イ)との相溶性が悪くなり、光硬化性樹脂組成物の硬化物(コア部分)の表面に膜荒れを生じることがある。
成分(ハ)は、反応性希釈モノマーである。
上記反応性希釈モノマーとしては、上述のクラッド層形成用の光硬化性組成物の成分(B)と同様のものが挙げられる。
コア形成用光硬化性樹脂組成物中、成分(ハ)の配合量は、成分(イ)100質量部に対して、好ましくは5〜100質量部、より好ましくは10〜70質量部、特に好ましくは20〜50質量部である。上記配合量が5質量部未満であると、フィルム状光導波路を形成する際、目的とする導波路の形状の精度が劣ることがある。一方、上記配合量が100質量部を超えると、成分(イ)との相溶性が悪くなり、光硬化性樹脂組成物の硬化物(コア部分)の表面に膜荒れを生じることがある。
[成分(ニ)]
成分(ニ)は、光重合開始剤である。
上記光重合開始剤としては、上述のクラッド層形成用の光硬化性組成物の成分(D)と同様のものが挙げられる。
コア形成用光硬化性樹脂組成物中、成分(ニ)の配合割合は、コア形成用光硬化性樹脂組成物の全量を100質量%として、好ましくは0.1〜10質量%、より好ましくは0.2〜5質量%である。上記配合割合が0.1質量%未満では、硬化が十分に進行せず、フィルム状光導波路の伝送特性に問題が生じることがある。一方、上記配合割合が10質量%を超えると、光重合開始剤が長期の伝送特性に悪影響を及ぼす可能性がある。
成分(ニ)は、光重合開始剤である。
上記光重合開始剤としては、上述のクラッド層形成用の光硬化性組成物の成分(D)と同様のものが挙げられる。
コア形成用光硬化性樹脂組成物中、成分(ニ)の配合割合は、コア形成用光硬化性樹脂組成物の全量を100質量%として、好ましくは0.1〜10質量%、より好ましくは0.2〜5質量%である。上記配合割合が0.1質量%未満では、硬化が十分に進行せず、フィルム状光導波路の伝送特性に問題が生じることがある。一方、上記配合割合が10質量%を超えると、光重合開始剤が長期の伝送特性に悪影響を及ぼす可能性がある。
[任意成分]
コア形成用光硬化性樹脂組成物は、必要に応じて有機溶媒(成分(ホ))を含有することができる。有機溶媒を配合することにより、適当な粘度を付与することができる。有機溶媒としては、上述のクラッド層形成用の光硬化性組成物の成分(E)と同様のものが挙げられる。
コア形成用光硬化性樹脂組成物中、成分(ホ)(有機溶媒)の配合割合は、コア形成用光硬化性樹脂組成物の全量を100質量%として、好ましくは5〜80質量%、より好ましくは10〜60質量%、特に好ましくは15〜55質量%である。上記配合割合が5質量%未満では、光硬化性樹脂組成物の粘度の調整が困難となることがある。一方、上記配合割合が80質量%を超えると、十分な厚さを有するフィルム状光導波路等を形成することが困難なことがある。
コア形成用光硬化性樹脂組成物は、必要に応じて有機溶媒(成分(ホ))を含有することができる。有機溶媒を配合することにより、適当な粘度を付与することができる。有機溶媒としては、上述のクラッド層形成用の光硬化性組成物の成分(E)と同様のものが挙げられる。
コア形成用光硬化性樹脂組成物中、成分(ホ)(有機溶媒)の配合割合は、コア形成用光硬化性樹脂組成物の全量を100質量%として、好ましくは5〜80質量%、より好ましくは10〜60質量%、特に好ましくは15〜55質量%である。上記配合割合が5質量%未満では、光硬化性樹脂組成物の粘度の調整が困難となることがある。一方、上記配合割合が80質量%を超えると、十分な厚さを有するフィルム状光導波路等を形成することが困難なことがある。
また、コア形成用光硬化性樹脂組成物は、必要に応じて各種添加剤として、例えば酸化防止剤、紫外線吸収剤、光安定剤、シランカップリング剤、塗面改良剤、熱重合禁止剤、レベリング剤、界面活性剤、着色剤、保存安定剤、可塑剤、滑剤、フィラー、無機粒子、老化防止剤、濡れ性改良剤、帯電防止剤等を含むことができる。
コア形成用光硬化性樹脂組成物を調製するには、常法にしたがって前記の各成分を混合撹拌すればよい。
コア形成用光硬化性樹脂組成物を調製するには、常法にしたがって前記の各成分を混合撹拌すればよい。
次に、図面を参照しつつ、本発明のフィルム状光導波路の一例を説明する。
図1は、本発明のフィルム状光導波路の一例を模式的に示す断面図である。
図2は、本発明のフィルム状光導波路の製造方法の一例を示すフロー図である。
図1は、本発明のフィルム状光導波路の一例を模式的に示す断面図である。
図2は、本発明のフィルム状光導波路の製造方法の一例を示すフロー図である。
[フィルム状光導波路の構造]
図1中、フィルム状光導波路24は、基板10と、コア部分20と、クラッド層(下部クラッド層12、及び上部クラッド層22)とから構成されている。下部クラッド層12は、基板10の上面に積層して形成されており、この下部クラッド層12の上面には、特定の幅を有するコア部分20が形成されている。コア部分20及び下部クラッド層12の上面には、上部クラッド層22が積層して形成されている。なお、コア部分20は、光導波路24の外形を形成する下部クラッド層12及び上部クラッド層22の中に埋設されている。
コア部分20の厚さは、特に限定されないが、例えば3〜200μmである。下部クラッド層12及び上部クラッド層22の各々の厚さは、通常1〜200μm、好ましくは1〜50μm、より好ましくは1〜25μm、特に好ましくは1〜15μmである。コア部分20の幅は、特に限定されないが、例えば、1〜200μmである。
下部クラッド層12及び上部クラッド層22のうち少なくとも1つは、上述の光硬化性樹脂組成物の硬化物からなる。好ましくは、下部クラッド層12及び上部クラッド層22が上述の光硬化性樹脂組成物の硬化物からなる。また、コア部分20は、上述のコア用光硬化性樹脂組成物の硬化物からなることが好ましい。
コア部分20の屈折率は、下部クラッド層12及び上部クラッド層22のいずれの屈折率よりも大きいものであることが必要である。例えば、波長400〜1,600nmの光に対して、コア部分20の屈折率が1.420〜1.650、下部クラッド層12及び上部クラッド層22の屈折率が1.400〜1.648であり、かつ、コア部分20の屈折率が、2つのクラッド層のいずれの屈折率よりも少なくとも0.1%大きな値であることが好ましい。
図1中、フィルム状光導波路24は、基板10と、コア部分20と、クラッド層(下部クラッド層12、及び上部クラッド層22)とから構成されている。下部クラッド層12は、基板10の上面に積層して形成されており、この下部クラッド層12の上面には、特定の幅を有するコア部分20が形成されている。コア部分20及び下部クラッド層12の上面には、上部クラッド層22が積層して形成されている。なお、コア部分20は、光導波路24の外形を形成する下部クラッド層12及び上部クラッド層22の中に埋設されている。
コア部分20の厚さは、特に限定されないが、例えば3〜200μmである。下部クラッド層12及び上部クラッド層22の各々の厚さは、通常1〜200μm、好ましくは1〜50μm、より好ましくは1〜25μm、特に好ましくは1〜15μmである。コア部分20の幅は、特に限定されないが、例えば、1〜200μmである。
下部クラッド層12及び上部クラッド層22のうち少なくとも1つは、上述の光硬化性樹脂組成物の硬化物からなる。好ましくは、下部クラッド層12及び上部クラッド層22が上述の光硬化性樹脂組成物の硬化物からなる。また、コア部分20は、上述のコア用光硬化性樹脂組成物の硬化物からなることが好ましい。
コア部分20の屈折率は、下部クラッド層12及び上部クラッド層22のいずれの屈折率よりも大きいものであることが必要である。例えば、波長400〜1,600nmの光に対して、コア部分20の屈折率が1.420〜1.650、下部クラッド層12及び上部クラッド層22の屈折率が1.400〜1.648であり、かつ、コア部分20の屈折率が、2つのクラッド層のいずれの屈折率よりも少なくとも0.1%大きな値であることが好ましい。
クラッド層(下部クラッド層12、上部クラッド層22)は、高い透明性を有するものである。具体的には、クラッド層は、10μmの厚みを有する場合に、405nmの波長の光に対して、80%以上、好ましくは90%以上の透過率を有する。
クラッド層が高い透明性を有することによって、フィルム状光導波路の下面に、面発光レーザ等の発光素子や、フォトダイオード等の受光素子を接合して、電気/光信号を変換するインターフェースを形成するときに、フィルム状光導波路を上方から透視して、発光素子や受光素子の位置と、フィルム状光導波路中のコア部分の位置とを正確に合わせることができる。
また、クラッド層が高い透明性を有することによって、光信号に使用される波長領域の光に対して高い透過率を発現することができ、発光素子からの光信号がクラッド層を通過してコア部分に到達する際の、光の損失、及び、コア部分からの光信号がクラッド層を通過して受光素子に到達する際の、光の損失を極めて小さくすることができる。
クラッド層が高い透明性を有することによって、フィルム状光導波路の下面に、面発光レーザ等の発光素子や、フォトダイオード等の受光素子を接合して、電気/光信号を変換するインターフェースを形成するときに、フィルム状光導波路を上方から透視して、発光素子や受光素子の位置と、フィルム状光導波路中のコア部分の位置とを正確に合わせることができる。
また、クラッド層が高い透明性を有することによって、光信号に使用される波長領域の光に対して高い透過率を発現することができ、発光素子からの光信号がクラッド層を通過してコア部分に到達する際の、光の損失、及び、コア部分からの光信号がクラッド層を通過して受光素子に到達する際の、光の損失を極めて小さくすることができる。
[フィルム状光導波路の製造方法]
本発明のフィルム状光導波路24の製造方法は、下部クラッド層12を形成する工程と、コア部分20を形成する工程と、上部クラッド層22を形成する工程とを含む。
なお、光導波路を構成する下部クラッド層12、コア部分20、及び上部クラッド層22の各部を形成するための光硬化性樹脂組成物は、各々、便宜上、下層用組成物、コア用組成物及び上層用組成物と称する。
(1)光硬化性樹脂組成物の調製
下層用組成物及び上層用組成物の各々の成分組成は、特に限定されるものではないが、経済上及び製造管理上、同一の光硬化性樹脂組成物であることが好ましい。
下部クラッド層及び上部クラッド層形成用の光硬化性樹脂組成物の粘度は、好ましくは1〜10,000cps(25℃)、より好ましくは5〜8,000cps(25℃)、特に好ましくは10〜5,000cps(25℃)である。粘度がこの範囲外であると、光硬化性樹脂組成物の取り扱いが困難になったり、均一な塗膜を形成することが困難なことがある。なお、粘度は、有機溶媒等の配合量を変えることによって、適宜調整することができる。
また、下層用組成物、コア用組成物及び上層用組成物の各々の成分組成は、下部クラッド層12、コア部分20、及び上部クラッド層22の各部の屈折率の関係が、光導波路に要求される条件を満足するように定められる。具体的には、屈折率の差が適宜の大きさとなるような二種または三種の光硬化性樹脂組成物を調製し、このうち、最も高い屈折率の硬化膜を与える光硬化性樹脂組成物をコア用組成物とし、他の光硬化性樹脂組成物を下層用組成物及び上層用組成物として用いる。
本発明のフィルム状光導波路24の製造方法は、下部クラッド層12を形成する工程と、コア部分20を形成する工程と、上部クラッド層22を形成する工程とを含む。
なお、光導波路を構成する下部クラッド層12、コア部分20、及び上部クラッド層22の各部を形成するための光硬化性樹脂組成物は、各々、便宜上、下層用組成物、コア用組成物及び上層用組成物と称する。
(1)光硬化性樹脂組成物の調製
下層用組成物及び上層用組成物の各々の成分組成は、特に限定されるものではないが、経済上及び製造管理上、同一の光硬化性樹脂組成物であることが好ましい。
下部クラッド層及び上部クラッド層形成用の光硬化性樹脂組成物の粘度は、好ましくは1〜10,000cps(25℃)、より好ましくは5〜8,000cps(25℃)、特に好ましくは10〜5,000cps(25℃)である。粘度がこの範囲外であると、光硬化性樹脂組成物の取り扱いが困難になったり、均一な塗膜を形成することが困難なことがある。なお、粘度は、有機溶媒等の配合量を変えることによって、適宜調整することができる。
また、下層用組成物、コア用組成物及び上層用組成物の各々の成分組成は、下部クラッド層12、コア部分20、及び上部クラッド層22の各部の屈折率の関係が、光導波路に要求される条件を満足するように定められる。具体的には、屈折率の差が適宜の大きさとなるような二種または三種の光硬化性樹脂組成物を調製し、このうち、最も高い屈折率の硬化膜を与える光硬化性樹脂組成物をコア用組成物とし、他の光硬化性樹脂組成物を下層用組成物及び上層用組成物として用いる。
(2)基板の準備
図2中の(a)に示すように、平坦な表面を有する基板10を用意する。この基板10の種類としては、特に限定されないが、例えば、シリコン基板、ガラス基板、PETフィルム、ポリイミドフィルム等を用いることができる。
図2中の(a)に示すように、平坦な表面を有する基板10を用意する。この基板10の種類としては、特に限定されないが、例えば、シリコン基板、ガラス基板、PETフィルム、ポリイミドフィルム等を用いることができる。
(3)下部クラッド層の形成工程
基板10の上面に、下部クラッド層12を形成する工程である。具体的には、基板10の表面に下層用組成物を塗布し、乾燥またはプリベークして下層用薄膜を形成する。この下層用薄膜に光を照射して硬化させ、硬化体である下部クラッド層12を形成する(図2中の(b)参照)。なお、下部クラッド層12の形成工程においては、薄膜の全面に光を照射し、その全体を硬化することが好ましい。
下層用組成物の塗布方法としては、スピンコート法、ディッピング法、スプレー法、バーコート法、ロールコート法、カーテンコート法、グラビア印刷法、シルクスクリーン法、インクジェット法等のいずれかの方法を用いることができる。このうち、均一な厚さの下部層用薄膜が得られることから、スピンコート法を採用することが好ましい。
また、下層用組成物のレオロジー特性を塗布方法に応じた適切なものとするために、下層用組成物には、各種レベリング剤、チクソ付与剤、フィラー、有機溶媒、界面活性剤等を必要に応じて配合することが好ましい。下層用組成物からなる下層用薄膜は、塗布後、有機溶剤等を除去する目的で必要に応じて50〜150℃の温度でプリベークすることが好ましい。
基板10の上面に、下部クラッド層12を形成する工程である。具体的には、基板10の表面に下層用組成物を塗布し、乾燥またはプリベークして下層用薄膜を形成する。この下層用薄膜に光を照射して硬化させ、硬化体である下部クラッド層12を形成する(図2中の(b)参照)。なお、下部クラッド層12の形成工程においては、薄膜の全面に光を照射し、その全体を硬化することが好ましい。
下層用組成物の塗布方法としては、スピンコート法、ディッピング法、スプレー法、バーコート法、ロールコート法、カーテンコート法、グラビア印刷法、シルクスクリーン法、インクジェット法等のいずれかの方法を用いることができる。このうち、均一な厚さの下部層用薄膜が得られることから、スピンコート法を採用することが好ましい。
また、下層用組成物のレオロジー特性を塗布方法に応じた適切なものとするために、下層用組成物には、各種レベリング剤、チクソ付与剤、フィラー、有機溶媒、界面活性剤等を必要に応じて配合することが好ましい。下層用組成物からなる下層用薄膜は、塗布後、有機溶剤等を除去する目的で必要に応じて50〜150℃の温度でプリベークすることが好ましい。
下部クラッド層12を形成する際の光の照射量は、特に限定されるものではないが、波長200〜450nm、照度1〜500mW/cm2の光を、照射量が10〜5,000mJ/cm2となるように照射して露光することが好ましい。
照射する光の種類としては、可視光、紫外線、赤外線、X線、α線、β線、γ線等を用いることができるが、特に紫外線が好ましい。光の照射装置としては、例えば、高圧水銀ランプ、低圧水銀ランプ、メタルハライドランプ、エキシマランプ等を用いることが好ましい。
また露光の際、必要に応じて露光雰囲気を窒素気流下にすることで、硬化性を向上させることができる。
また、露光後に、さらに加熱処理(ポストベーク)を行うこともできる。この加熱条件は、光硬化性樹脂組成物の成分組成等により異なるが、通常、30〜250℃、好ましくは50〜200℃、より好ましくは100〜150℃で、例えば5分間〜72時間の加熱時間とすればよい。加熱処理(ポストベーク)を行なうことによって、塗膜全面を十分に硬化させることができる。
なお、下部クラッド層12の形成工程における組成物の塗布方法、光の照射量、種類、及び光(紫外線)の照射装置等の条件は、後述するコア部分20の形成工程、上部クラッド層22の形成工程においても同様である。また、下部クラッド層12の形成工程におけるプリベーク及びポストベークの条件は、後述する上部クラッド層22の形成工程においても同様である。
照射する光の種類としては、可視光、紫外線、赤外線、X線、α線、β線、γ線等を用いることができるが、特に紫外線が好ましい。光の照射装置としては、例えば、高圧水銀ランプ、低圧水銀ランプ、メタルハライドランプ、エキシマランプ等を用いることが好ましい。
また露光の際、必要に応じて露光雰囲気を窒素気流下にすることで、硬化性を向上させることができる。
また、露光後に、さらに加熱処理(ポストベーク)を行うこともできる。この加熱条件は、光硬化性樹脂組成物の成分組成等により異なるが、通常、30〜250℃、好ましくは50〜200℃、より好ましくは100〜150℃で、例えば5分間〜72時間の加熱時間とすればよい。加熱処理(ポストベーク)を行なうことによって、塗膜全面を十分に硬化させることができる。
なお、下部クラッド層12の形成工程における組成物の塗布方法、光の照射量、種類、及び光(紫外線)の照射装置等の条件は、後述するコア部分20の形成工程、上部クラッド層22の形成工程においても同様である。また、下部クラッド層12の形成工程におけるプリベーク及びポストベークの条件は、後述する上部クラッド層22の形成工程においても同様である。
(5)コア部分の形成工程
次に、下部クラッド層12の上面に、コア部分20を形成する。具体的には、図2中の(c)に示すように、下部クラッド層12の上面にコア用組成物を塗布し、乾燥またはプリベークしてコア用薄膜14を形成する。その後、図2中の(d)に示すように、コア用薄膜14の上面に対して、所定のパターンに従って、例えば所定のラインパターンを有するフォトマスク18を介して光16の照射(露光)を行う。これにより、コア用薄膜14のうち、光が照射された箇所のみが硬化するので、それ以外の未硬化の部分を現像処理して除去することにより、図2中の(e)に示すように、下部クラッド層12上に、パターニングされた硬化膜からなるコア部分20を形成することができる。
本工程において、所定のパターンに従って光の照射を行う方法としては、光の透過部と非透過部とからなるフォトマスク18を用いる方法に限られず、例えば、以下に示すa〜cの方法のいずれかを採用してもよい。
a.液晶表示装置と同様の原理を利用して、所定のパターンに従って光透過領域と光不透過領域とからなるマスク像を電気光学的に形成する手段を利用する方法。
b.多数の光ファイバーを束ねてなる導光部材を用い、この導光部材における所定のパターンに対応する光ファイバーを介して光を照射する方法。
c.レーザー光、あるいはレンズ、ミラー等の集光性光学系により得られる収束性の光を、走査させながら光硬化性樹脂組成物に照射する方法。
次に、下部クラッド層12の上面に、コア部分20を形成する。具体的には、図2中の(c)に示すように、下部クラッド層12の上面にコア用組成物を塗布し、乾燥またはプリベークしてコア用薄膜14を形成する。その後、図2中の(d)に示すように、コア用薄膜14の上面に対して、所定のパターンに従って、例えば所定のラインパターンを有するフォトマスク18を介して光16の照射(露光)を行う。これにより、コア用薄膜14のうち、光が照射された箇所のみが硬化するので、それ以外の未硬化の部分を現像処理して除去することにより、図2中の(e)に示すように、下部クラッド層12上に、パターニングされた硬化膜からなるコア部分20を形成することができる。
本工程において、所定のパターンに従って光の照射を行う方法としては、光の透過部と非透過部とからなるフォトマスク18を用いる方法に限られず、例えば、以下に示すa〜cの方法のいずれかを採用してもよい。
a.液晶表示装置と同様の原理を利用して、所定のパターンに従って光透過領域と光不透過領域とからなるマスク像を電気光学的に形成する手段を利用する方法。
b.多数の光ファイバーを束ねてなる導光部材を用い、この導光部材における所定のパターンに対応する光ファイバーを介して光を照射する方法。
c.レーザー光、あるいはレンズ、ミラー等の集光性光学系により得られる収束性の光を、走査させながら光硬化性樹脂組成物に照射する方法。
本工程における現像処理の詳細は、次のとおりである。
現像処理は、所定のパターンに従ってパターン露光し、選択的に硬化させた薄膜に対して、硬化部分と未硬化部分との溶解性の差異を利用して、現像液を用いて未硬化部分のみの除去を行なうものである。つまり、パターン露光後、未硬化部分を除去し、かつ、硬化部分を残存させて、結果的にコア部分を形成させるものである。
現像処理に用いる現像液としては、有機溶媒を用いることができる。有機溶媒の例としては、アセトン、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール、乳酸エチル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、メチルアミルケトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、プロピレングリコールモノメチルエーテル等が挙げられる。
現像時間は、通常30〜600秒間である。現像方法としては、液盛り法、ディッピング法、シャワー現像法等の公知の方法を採用することができる。現像後、そのまま風乾することによって、有機溶媒が除去されて、パターン状の薄膜が形成される。
パターン状の薄膜(パターニング部)の形成後、このパターニング部を加熱処理(ポストベーク)する。この加熱条件は、光硬化性樹脂組成物の成分組成等により異なるが、通常、30〜250℃、好ましくは50〜200℃、より好ましくは100〜150℃の加熱温度で、例えば5分間〜10時間の加熱時間とすればよい。加熱処理(ポストベーク)を行なうことによって、塗膜全面を十分に硬化させることができる。
現像処理は、所定のパターンに従ってパターン露光し、選択的に硬化させた薄膜に対して、硬化部分と未硬化部分との溶解性の差異を利用して、現像液を用いて未硬化部分のみの除去を行なうものである。つまり、パターン露光後、未硬化部分を除去し、かつ、硬化部分を残存させて、結果的にコア部分を形成させるものである。
現像処理に用いる現像液としては、有機溶媒を用いることができる。有機溶媒の例としては、アセトン、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール、乳酸エチル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、メチルアミルケトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、プロピレングリコールモノメチルエーテル等が挙げられる。
現像時間は、通常30〜600秒間である。現像方法としては、液盛り法、ディッピング法、シャワー現像法等の公知の方法を採用することができる。現像後、そのまま風乾することによって、有機溶媒が除去されて、パターン状の薄膜が形成される。
パターン状の薄膜(パターニング部)の形成後、このパターニング部を加熱処理(ポストベーク)する。この加熱条件は、光硬化性樹脂組成物の成分組成等により異なるが、通常、30〜250℃、好ましくは50〜200℃、より好ましくは100〜150℃の加熱温度で、例えば5分間〜10時間の加熱時間とすればよい。加熱処理(ポストベーク)を行なうことによって、塗膜全面を十分に硬化させることができる。
(6)上部クラッド層の形成工程
次いで、下部クラッド層12及びコア部分20の上面に、上部クラッド層22を形成する。具体的には、下部クラッド層12及びコア部分20の上面に上層用組成物を塗布し、乾燥またはプリベークして上層用薄膜を形成し、この上層用薄膜に光を照射して硬化させることによって、硬化体である上部クラッド層22を形成する(図2(f)参照)。なお、上部クラッド層22の形成工程においては、薄膜の全面に光を照射し、その全体を硬化することが好ましい。露光後に、さらに、加熱処理(ポストベーク)を行ってもよい。
その後、基板10を剥離せずにそのまま(図2中の(f))とするか、あるいは基板10を剥離すると(図示しない)、フィルム状光導波路24が得られる。
次いで、下部クラッド層12及びコア部分20の上面に、上部クラッド層22を形成する。具体的には、下部クラッド層12及びコア部分20の上面に上層用組成物を塗布し、乾燥またはプリベークして上層用薄膜を形成し、この上層用薄膜に光を照射して硬化させることによって、硬化体である上部クラッド層22を形成する(図2(f)参照)。なお、上部クラッド層22の形成工程においては、薄膜の全面に光を照射し、その全体を硬化することが好ましい。露光後に、さらに、加熱処理(ポストベーク)を行ってもよい。
その後、基板10を剥離せずにそのまま(図2中の(f))とするか、あるいは基板10を剥離すると(図示しない)、フィルム状光導波路24が得られる。
以下、実施例を挙げて本発明をさらに具体的に説明するが、本発明はこれらの実施例によって何ら限定されるものではない。
[1.下部及び上部クラッド層用の光硬化性樹脂組成物の調製]
成分(A)〜(E)として、以下の材料を用意した。
[成分(A)]
攪拌機を備えた反応容器に、イソホロンジイソシアネート16.6質量部、数平均分子量が2,000のポリプロピレングリコール74.7質量部、2,6−ジ−t−ブチル−p−クレゾール0.01質量部を仕込み、5〜10℃に冷却した。撹拌しながらジラウリル酸ジ−n−ブチル錫0.05質量部を加え、温度が30℃以下に保たれるように調整しながら2時間撹拌した後、50℃まで昇温しさらに2時間撹拌した。続いて、2−ヒドロキシエチルアクリレート8.7質量部(以上の合計量100質量部)を滴下し、滴下終了後、50℃で1時間反応させ、さらに65℃まで昇温し2時間反応させた。残留イソシアネートが0.1質量%以下になった時を反応終了とし、ウレタン(メタ)アクリレートオリゴマーA−1を得た。
同様の方法にてA−2を得た。
ウレタン(メタ)アクリレートオリゴマーA−1及びA−2の製造に用いた原料名及び配合量を、表1に示す。
成分(A)〜(E)として、以下の材料を用意した。
[成分(A)]
攪拌機を備えた反応容器に、イソホロンジイソシアネート16.6質量部、数平均分子量が2,000のポリプロピレングリコール74.7質量部、2,6−ジ−t−ブチル−p−クレゾール0.01質量部を仕込み、5〜10℃に冷却した。撹拌しながらジラウリル酸ジ−n−ブチル錫0.05質量部を加え、温度が30℃以下に保たれるように調整しながら2時間撹拌した後、50℃まで昇温しさらに2時間撹拌した。続いて、2−ヒドロキシエチルアクリレート8.7質量部(以上の合計量100質量部)を滴下し、滴下終了後、50℃で1時間反応させ、さらに65℃まで昇温し2時間反応させた。残留イソシアネートが0.1質量%以下になった時を反応終了とし、ウレタン(メタ)アクリレートオリゴマーA−1を得た。
同様の方法にてA−2を得た。
ウレタン(メタ)アクリレートオリゴマーA−1及びA−2の製造に用いた原料名及び配合量を、表1に示す。
[成分(B)]
(1)ポリカーボネートジオールジアクリレート;宇部興産社製、UH−100DA(1,6−ヘキサンジオールベースジアクリレート:分子量1,000)
(2)ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート;日本化薬社製、KAYARAD DPHA
(3)トリス(アクリロキシエチル)イソシアヌレート;東亞合成社製、アロニックスM−315
[成分(C)]
(1)エラストマー粒子A;ブタジエン/ヒドロキシブチルメタクリレート/メタクリル酸/ジビニルベンゼン=60/32/6/2(質量%)が乳酸エチルに分散してなるもの(表中の配合量は固形分換算):数平均粒径65nm
(2)エラストマー粒子B;ブタジエン/ヒドロキシブチルメタクリレート/メタクリル酸/ジビニルベンゼン=60/32/6/2(質量%)が乳酸エチルに分散してなるもの(表中の配合量は固形分換算):数平均粒径200nm
[成分(D)]
Irgacure369;2−ベンジルー2−ジメチルアミノー1−(4−モルフォリノフェニル)ブタノンー1(チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製)
[成分(E)]
メトキシプロピルアセテート
(1)ポリカーボネートジオールジアクリレート;宇部興産社製、UH−100DA(1,6−ヘキサンジオールベースジアクリレート:分子量1,000)
(2)ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート;日本化薬社製、KAYARAD DPHA
(3)トリス(アクリロキシエチル)イソシアヌレート;東亞合成社製、アロニックスM−315
[成分(C)]
(1)エラストマー粒子A;ブタジエン/ヒドロキシブチルメタクリレート/メタクリル酸/ジビニルベンゼン=60/32/6/2(質量%)が乳酸エチルに分散してなるもの(表中の配合量は固形分換算):数平均粒径65nm
(2)エラストマー粒子B;ブタジエン/ヒドロキシブチルメタクリレート/メタクリル酸/ジビニルベンゼン=60/32/6/2(質量%)が乳酸エチルに分散してなるもの(表中の配合量は固形分換算):数平均粒径200nm
[成分(D)]
Irgacure369;2−ベンジルー2−ジメチルアミノー1−(4−モルフォリノフェニル)ブタノンー1(チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製)
[成分(E)]
メトキシプロピルアセテート
表2に示す配合処方に従って各成分を攪拌容器内に仕込み、60℃で3時間攪拌することにより、下部及び上部クラッド層用の光硬化性樹脂組成物J−1〜J−4を得た。
[2.コア形成用の光硬化性樹脂組成物の調製]
コア形成用の光硬化性樹脂組成物として、下記成分(イ)〜(ホ)を用意し、成分(イ)33質量部、成分(ロ)14質量部、成分(ハ)14質量部、成分(ニ)2質量部、成分(ホ)37質量部の割合で均一に混合して、コア形成用光硬化性樹脂組成物を得た。
[成分(イ)]
ドライアイス/メタノール還流器の付いたフラスコを窒素置換した後、重合開始剤として2,2’−アゾビスイソブチロニトリル3g、有機溶剤としてメチルイソブチルケトン100gを仕込み、重合開始剤が溶解するまで攪拌した。引き続いて、2−ヒドロキシエチルメタクリレート20g、スチレン25g、アクリル酸ブチル35g、8−(メタクリロイルオキシ)トリシクロ[5.2.1.02,6]デカン10g、メタクリル酸10gを、仕込んだ後、緩やかに攪拌を始めた。その後、溶液の温度を80℃に上昇させ、この温度で6時間重合を行い、室温まで冷却した後、得られた溶液に2−ヒドロキシエチルメタクリレートと当量のメタクリロイルオキシエチルイソシアネート23.7g、ジラウリル酸ジ−n−ブチル錫0.13g、2,6−ジ−t−ブチル−p−クレゾール0.05gを仕込み、溶液の温度を60℃に上昇させ、この温度で6時間重合を行い、側鎖にメタクリロイル基を有するポリマー溶液を得た。その後、反応生成物を多量のヘキサンに滴下して反応生成物を凝固させた。さらに、この凝固物と同質量のテトラヒドロフランに再溶解し、多量のヘキサンで再度凝固させた。この再溶解−凝固操作を計3回行った後、得られた凝固物を40℃で48時間真空乾燥して、共重合体(成分(イ))を得た。
[成分(ロ)]
攪拌機を備えた反応容器に、イソホロンジイソシアネート13.6質量部、数平均分子量が2,000のポリプロピレングリコール81.7質量部、2,6−ジ−t−ブチル−p−クレゾール0.01質量部を仕込み、5〜10℃に冷却した。撹拌しながらジラウリル酸ジ−n−ブチル錫0.05質量部を加え、温度が30℃以下に保たれるように調整しながら2時間撹拌した後、50℃まで昇温しさらに2時間撹拌した。続いて、2−ヒドロキシエチルアクリレート4.7質量部(以上の合計量100質量部)を滴下し、滴下終了後、50〜70℃で1時間反応させた。残留イソシアネートが0.1質量%以下になった時を反応終了とし、ウレタンアクリレートオリゴマー(成分(ロ))を得た。
[成分(ハ)]
9,9−ビス[4−(2−アクリロキシエトキシ)フェニル]フルオレン
[成分(ニ)]
1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン
[成分(ホ)]
メチルイソブチルケトン
コア形成用の光硬化性樹脂組成物として、下記成分(イ)〜(ホ)を用意し、成分(イ)33質量部、成分(ロ)14質量部、成分(ハ)14質量部、成分(ニ)2質量部、成分(ホ)37質量部の割合で均一に混合して、コア形成用光硬化性樹脂組成物を得た。
[成分(イ)]
ドライアイス/メタノール還流器の付いたフラスコを窒素置換した後、重合開始剤として2,2’−アゾビスイソブチロニトリル3g、有機溶剤としてメチルイソブチルケトン100gを仕込み、重合開始剤が溶解するまで攪拌した。引き続いて、2−ヒドロキシエチルメタクリレート20g、スチレン25g、アクリル酸ブチル35g、8−(メタクリロイルオキシ)トリシクロ[5.2.1.02,6]デカン10g、メタクリル酸10gを、仕込んだ後、緩やかに攪拌を始めた。その後、溶液の温度を80℃に上昇させ、この温度で6時間重合を行い、室温まで冷却した後、得られた溶液に2−ヒドロキシエチルメタクリレートと当量のメタクリロイルオキシエチルイソシアネート23.7g、ジラウリル酸ジ−n−ブチル錫0.13g、2,6−ジ−t−ブチル−p−クレゾール0.05gを仕込み、溶液の温度を60℃に上昇させ、この温度で6時間重合を行い、側鎖にメタクリロイル基を有するポリマー溶液を得た。その後、反応生成物を多量のヘキサンに滴下して反応生成物を凝固させた。さらに、この凝固物と同質量のテトラヒドロフランに再溶解し、多量のヘキサンで再度凝固させた。この再溶解−凝固操作を計3回行った後、得られた凝固物を40℃で48時間真空乾燥して、共重合体(成分(イ))を得た。
[成分(ロ)]
攪拌機を備えた反応容器に、イソホロンジイソシアネート13.6質量部、数平均分子量が2,000のポリプロピレングリコール81.7質量部、2,6−ジ−t−ブチル−p−クレゾール0.01質量部を仕込み、5〜10℃に冷却した。撹拌しながらジラウリル酸ジ−n−ブチル錫0.05質量部を加え、温度が30℃以下に保たれるように調整しながら2時間撹拌した後、50℃まで昇温しさらに2時間撹拌した。続いて、2−ヒドロキシエチルアクリレート4.7質量部(以上の合計量100質量部)を滴下し、滴下終了後、50〜70℃で1時間反応させた。残留イソシアネートが0.1質量%以下になった時を反応終了とし、ウレタンアクリレートオリゴマー(成分(ロ))を得た。
[成分(ハ)]
9,9−ビス[4−(2−アクリロキシエトキシ)フェニル]フルオレン
[成分(ニ)]
1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン
[成分(ホ)]
メチルイソブチルケトン
[3.フィルム状光導波路の形成]
[実施例1]
(1)下部クラッド層の形成
光硬化性樹脂組成物J−1をシリコン基板の上面に、スピンコータで塗布し、ホットプレートを用いて100℃、10分間の条件でプリベークして光硬化性樹脂組成物J−1からなる塗膜を形成した。次いで、該塗膜に、波長365nm、照度20mW/cm2の紫外線を75秒間照射して、光硬化させた。そして、この硬化膜を150℃、1時間の条件で、ポストベークをすることにより、厚さ10μmの下部クラッド層を形成した。
[実施例1]
(1)下部クラッド層の形成
光硬化性樹脂組成物J−1をシリコン基板の上面に、スピンコータで塗布し、ホットプレートを用いて100℃、10分間の条件でプリベークして光硬化性樹脂組成物J−1からなる塗膜を形成した。次いで、該塗膜に、波長365nm、照度20mW/cm2の紫外線を75秒間照射して、光硬化させた。そして、この硬化膜を150℃、1時間の条件で、ポストベークをすることにより、厚さ10μmの下部クラッド層を形成した。
(2)コア部分の形成
コア形成用光硬化性樹脂組成物を下部クラッド層上に、スピンコータで塗布し、100℃、10分間の条件でプリベークして、厚さ50μmのコア形成用光硬化性樹脂組成物からなる塗膜を形成した。次いで、該塗膜に、幅50μmのライン状パターンを有するフォトマスクを介して、波長365nm、照度20mW/cm2の紫外線を75秒間照射して、光硬化させた。そして、硬化させた塗膜を有する基板をアセトンからなる現像液中に浸漬して、塗膜の未露光部を溶解させた。その後、150℃、1時間の条件で、ポストベークをすることにより、幅50μmのライン状パターンを有するコア部分を形成した。
コア形成用光硬化性樹脂組成物を下部クラッド層上に、スピンコータで塗布し、100℃、10分間の条件でプリベークして、厚さ50μmのコア形成用光硬化性樹脂組成物からなる塗膜を形成した。次いで、該塗膜に、幅50μmのライン状パターンを有するフォトマスクを介して、波長365nm、照度20mW/cm2の紫外線を75秒間照射して、光硬化させた。そして、硬化させた塗膜を有する基板をアセトンからなる現像液中に浸漬して、塗膜の未露光部を溶解させた。その後、150℃、1時間の条件で、ポストベークをすることにより、幅50μmのライン状パターンを有するコア部分を形成した。
(3)上部クラッド層の形成
コア部分を有する下部クラッド層の上面に、光硬化性樹脂組成物J−1をスピンコータで塗布し、ホットプレートを用いて100℃、10分間の条件でプリベークして、光硬化性樹脂組成物J−1からなる塗膜を形成した。その後、該塗膜に、波長365nm、照度20mW/cm2の紫外線を75秒間照射して光硬化させ、コア部分の上面からの厚さが10μmの上部クラッド層を形成した。
(4)基板の剥離
上記(1)〜(3)の工程で形成した硬化物を、基板から剥離し、下部クラッド層、コア部分、及び上部クラッド層をこの順に積層してなるフィルム状光導波路を得た。
コア部分を有する下部クラッド層の上面に、光硬化性樹脂組成物J−1をスピンコータで塗布し、ホットプレートを用いて100℃、10分間の条件でプリベークして、光硬化性樹脂組成物J−1からなる塗膜を形成した。その後、該塗膜に、波長365nm、照度20mW/cm2の紫外線を75秒間照射して光硬化させ、コア部分の上面からの厚さが10μmの上部クラッド層を形成した。
(4)基板の剥離
上記(1)〜(3)の工程で形成した硬化物を、基板から剥離し、下部クラッド層、コア部分、及び上部クラッド層をこの順に積層してなるフィルム状光導波路を得た。
[実施例2、比較例1、2]
下部及び上部クラッド層用の光硬化性樹脂組成物を表3に記載の組成物に変えたこと以外は、実施例1と同様にしてフィルム状光導波路を形成した。
下部及び上部クラッド層用の光硬化性樹脂組成物を表3に記載の組成物に変えたこと以外は、実施例1と同様にしてフィルム状光導波路を形成した。
[4.フィルム状光導波路の評価]
フィルム状光導波路(実施例1、2、比較例1、2)を次のようにして評価した。
[屈曲耐久性]
作製したフィルム状光導波路(幅1cm、長さ10cm、厚み70μm)に対して、温度23℃、湿度50%の環境下で屈曲試験を行った。試験条件は、屈曲半径1mm、屈曲角度±135°、屈曲速度100回/分、荷重100gとした。なお、屈曲回数は、はじめの0度の位置(フィルム状光導波路が水平の状態)から、+135度の位置へ屈曲し、さらに再度0度の位置を経由して−135度の位置へ屈曲した後、0度の位置へ戻ってくる動作を1回とする。フィルム状光導波路に破断が生じるまでの回数を測定し、屈曲回数が1万回を超えても破断やクラックが発生しない場合を「○」、屈曲回数が1万回以内で破断やクラックが発生する場合を「×」とした。
[透明性]
クラッド層(厚さ:10μm)の透明性を分光光度計で測定した。具体的には、下部及び上部クラッド層の形成に用いた光硬化性樹脂組成物を、上記(1)の下部クラッド層の形成と同様の条件にて硬化させてなる硬化膜(厚さ10μm)について、波長405nmの光に対する透過率を測定した。透過率が80%以上の場合を「○」、80%未満の場合を「×」とした。
[伝送特性]
作製したフィルム状光導波路の一端から波長850nmの光を入射させ、他端から出射する光量を測定した。カットバック法により求めた単位長さ当たりの導波路損失が0.5dB/cm以下である場合を「○」、0.5dB/cm未満である場合を「×」とした。
結果を表3に示す。
フィルム状光導波路(実施例1、2、比較例1、2)を次のようにして評価した。
[屈曲耐久性]
作製したフィルム状光導波路(幅1cm、長さ10cm、厚み70μm)に対して、温度23℃、湿度50%の環境下で屈曲試験を行った。試験条件は、屈曲半径1mm、屈曲角度±135°、屈曲速度100回/分、荷重100gとした。なお、屈曲回数は、はじめの0度の位置(フィルム状光導波路が水平の状態)から、+135度の位置へ屈曲し、さらに再度0度の位置を経由して−135度の位置へ屈曲した後、0度の位置へ戻ってくる動作を1回とする。フィルム状光導波路に破断が生じるまでの回数を測定し、屈曲回数が1万回を超えても破断やクラックが発生しない場合を「○」、屈曲回数が1万回以内で破断やクラックが発生する場合を「×」とした。
[透明性]
クラッド層(厚さ:10μm)の透明性を分光光度計で測定した。具体的には、下部及び上部クラッド層の形成に用いた光硬化性樹脂組成物を、上記(1)の下部クラッド層の形成と同様の条件にて硬化させてなる硬化膜(厚さ10μm)について、波長405nmの光に対する透過率を測定した。透過率が80%以上の場合を「○」、80%未満の場合を「×」とした。
[伝送特性]
作製したフィルム状光導波路の一端から波長850nmの光を入射させ、他端から出射する光量を測定した。カットバック法により求めた単位長さ当たりの導波路損失が0.5dB/cm以下である場合を「○」、0.5dB/cm未満である場合を「×」とした。
結果を表3に示す。
表3から、本発明のフィルム状光導波路(実施例1、2)は、屈曲耐久性、伝送特性に優れ、クラッド層の透明性が高いことがわかる。一方、成分(C)を含まない比較例1は屈曲耐久性に劣り、また、数平均粒径が200nmであるエラストマー粒子を用いた比較例2は伝送特性が劣ることがわかる。
10 基板
12 下部クラッド層
14 コア用薄膜
16 光
18 フォトマスク
20 コア部分
22 上部クラッド層
24 フィルム状光導波路
12 下部クラッド層
14 コア用薄膜
16 光
18 フォトマスク
20 コア部分
22 上部クラッド層
24 フィルム状光導波路
Claims (6)
- コア部分とクラッド層とを含むフィルム状光導波路であって、前記クラッド層が、下記の成分(A)〜(D)を含む光硬化性樹脂組成物の硬化物からなることを特徴とするフィルム状光導波路。
(A)ウレタン(メタ)アクリレートオリゴマー
(B)反応性希釈モノマー
(C)数平均粒径が1〜100nmであるエラストマー粒子
(D)光重合開始剤 - 上記光硬化性樹脂組成物中、成分(A)〜(D)の各々の配合割合が、30〜80質量%、15〜68.9質量%、1〜35質量%、及び0.1〜10質量%(ただし、成分(A)〜(D)の合計量を100質量%とする。)である請求項1に記載のフィルム状光導波路。
- (C)エラストマー粒子が、重合性不飽和基を2個以上有する架橋性モノマーと、該架橋性モノマー以外のモノマーとを共重合してなるエラストマー粒子を含む請求項1又は2に記載のフィルム状光導波路。
- 上記架橋性モノマー以外のモノマーが、カルボキシル基、エポキシ基、アミノ基、イソシアネート基、及び水酸基からなる群より選ばれる少なくとも1種の官能基を有するモノマーを含む請求項3に記載のフィルム状光導波路。
- 成分(A)が、(a)ポリオール化合物、(b)ポリイソシアネート化合物、及び(c)水酸基含有(メタ)アクリレートの反応生成物であるウレタン(メタ)アクリレートオリゴマーを含む請求項1〜4のいずれか1項に記載のフィルム状光導波路。
- 上記光硬化性樹脂組成物は、硬化後、厚みが10μmである場合に、405nmの波長の光に対して80%以上の透過率を有する請求項1〜5のいずれか1項に記載のフィルム状光導波路。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2007335496A JP2009157125A (ja) | 2007-12-27 | 2007-12-27 | フィルム状光導波路 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2007335496A JP2009157125A (ja) | 2007-12-27 | 2007-12-27 | フィルム状光導波路 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2009157125A true JP2009157125A (ja) | 2009-07-16 |
Family
ID=40961215
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2007335496A Pending JP2009157125A (ja) | 2007-12-27 | 2007-12-27 | フィルム状光導波路 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2009157125A (ja) |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2011157437A (ja) * | 2010-01-29 | 2011-08-18 | Dic Corp | 硬化性樹脂組成物、その硬化物、及びプラスチックレンズ |
WO2011122520A1 (ja) * | 2010-03-29 | 2011-10-06 | 宇部興産株式会社 | ポリカーボネートジオールジアクリレートの製造方法及び高純度のポリカーボネートジオールジアクリレート |
JP2012072328A (ja) * | 2010-09-29 | 2012-04-12 | Nippon Shokubai Co Ltd | 成形体及び成形体用樹脂組成物 |
WO2019124156A1 (ja) * | 2017-12-22 | 2019-06-27 | Dic株式会社 | 活性エネルギー線硬化性組成物、その硬化物、及び、レンズ |
-
2007
- 2007-12-27 JP JP2007335496A patent/JP2009157125A/ja active Pending
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2011157437A (ja) * | 2010-01-29 | 2011-08-18 | Dic Corp | 硬化性樹脂組成物、その硬化物、及びプラスチックレンズ |
WO2011122520A1 (ja) * | 2010-03-29 | 2011-10-06 | 宇部興産株式会社 | ポリカーボネートジオールジアクリレートの製造方法及び高純度のポリカーボネートジオールジアクリレート |
US8901254B2 (en) | 2010-03-29 | 2014-12-02 | Ube Industries, Ltd. | Process for preparing polycarbonate diol diacrylate and high-purity polycarbonate diol diacrylate |
JP5708641B2 (ja) * | 2010-03-29 | 2015-04-30 | 宇部興産株式会社 | ポリカーボネートジオールジアクリレートの製造方法及び高純度のポリカーボネートジオールジアクリレート |
JP2012072328A (ja) * | 2010-09-29 | 2012-04-12 | Nippon Shokubai Co Ltd | 成形体及び成形体用樹脂組成物 |
WO2019124156A1 (ja) * | 2017-12-22 | 2019-06-27 | Dic株式会社 | 活性エネルギー線硬化性組成物、その硬化物、及び、レンズ |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
EP1772754B1 (en) | Radiation-sensitive resin composition for optical waveguides, optical waveguide, and method for manufacturing optical waveguide | |
JP4857758B2 (ja) | 液晶ディスプレイパネル構造体及びその製造方法並びにディスプレイ装置 | |
JP2008248199A (ja) | 耐衝撃粘着層、耐衝撃粘着積層体、及び表示装置 | |
JP4840586B2 (ja) | 光導波路用感光性樹脂組成物、光導波路及びその製造方法 | |
JP2008033239A (ja) | 光導波路用感光性樹脂組成物、ドライフィルム、光導波路及びその製造方法 | |
JPWO2004079452A1 (ja) | 感光性樹脂組成物及びその硬化物 | |
JP2006058831A (ja) | 光導波路用感光性樹脂組成物および光導波路 | |
JP4935648B2 (ja) | フィルム状光導波路 | |
JP5327053B2 (ja) | フィルム状光導波路 | |
JP4385818B2 (ja) | 感光性樹脂組成物および光導波路 | |
JP2009157125A (ja) | フィルム状光導波路 | |
JP6833211B2 (ja) | インプリント成型用光硬化性樹脂組成物 | |
JP5309992B2 (ja) | 光導波路形成用ドライフィルム、光導波路およびその製造方法 | |
JP4893934B2 (ja) | 光導波路フィルムの製造方法 | |
JP2008164854A (ja) | フィルム状光導波路 | |
JP4682955B2 (ja) | 光導波路の製造方法 | |
JP2009086058A (ja) | 光電気混載基板 | |
JP2009244627A (ja) | フィルム状光導波路 | |
JP4535307B2 (ja) | 樹脂組成物、レンズ用樹脂組成物及びその硬化物 | |
JP5115057B2 (ja) | フィルム状光導波路及びフィルム状光導波路用感光性樹脂組成物 | |
JP6833210B2 (ja) | インプリント成型用光硬化性樹脂組成物 | |
JPWO2008038838A1 (ja) | フィルム状光導波路 | |
JP4206968B2 (ja) | 光導波路形成用樹脂組成物、その硬化物及び光導波路 | |
JP4151508B2 (ja) | 光導波路用感光性樹脂組成物および光導波路 | |
JP2008116971A (ja) | 光導波路 |