JP2009134781A - ２層型光記録媒体 - Google Patents

Abstract

【課題】書き換え可能な２層型光記録媒体の記録容量を大きくする際に、Ｌ０層の記録感度を保ちつつ、Ｌ１層の信号出力（反射率差）を向上させる。
【解決手段】記録再生が可能な最短マーク長Ｌ_minが１＜｛Ｌ_min／（λ／ＮＡ）｝×４≦１．１０であり、少なくとも記録膜と反射膜が設けられている半透明情報層を有する書き換え可能な２層型光記録媒体であって、記録膜の膜厚Ｔｒｅｃ（ｎｍ）と反射膜の膜厚Ｔｒｅｆ（ｎｍ）との関係が、以下の４式のうちいずれかを満たすようにする。
４．５≦Ｔｒｅｃ≦６．０ かつ
−３．４×Ｔｅｒｃ＋３５≦Ｔｒｅｆ≦−２．０×Ｔｒｅｃ＋３４ （I）
６．０≦Ｔｒｅｃ≦８．０ かつ
−２．５×Ｔｒｅｃ＋３０≦Ｔｒｅｆ≦−２．０×Ｔｒｅｃ＋３４ （II）
８．０≦Ｔｒｅｃ≦９．５ かつ
１０≦Ｔｒｅｆ≦−２．０×Ｔｒｅｃ＋３４ （III）
９．５≦Ｔｒｅｃ≦１０．５ かつ
１０≦Ｔｒｅｆ≦−５．０×Ｔｒｅｃ＋６２．５ （IV）
【選択図】図２

Description

この発明は、相変化材料からなる２層の情報層を有する書き換え可能な２層型光記録媒体に関する。

従来、特許文献１に示されるようなブルーレイ（商標）ディスク（以下ＢＤ）の２層型光記録媒体の記録容量は最大で５０ＧＢ（１層当たり２５ＧＢ）であった。しかしながら、より大記録容量の書き換え可能な２層型光記録媒体を実現したいという要望が出てきた。

これに対して、例えば、最も小さい記録マークのレーザー光の走査方向の長さである最短マーク長をより短くし、記録マークを高密度化する（線密度を高める）ことで大記録容量化を実現することが考えられる。線密度を高めると、最短マーク長が、従来のＢＤの０．１４９μｍから、ＢＤ光学系の再生限界である０．１１９μｍに近づいていくことになる。最短マーク長をＬ_min（μｍ）、レーザー光の波長をλ（μｍ）、対物レンズの開口数をＮＡとすると、λ／４ＮＡ＜Ｌ_min＜λ／３．５ＮＡ、即ち、１＜｛Ｌ_min／（λ／ＮＡ）｝×４＜４／３．５であるとき、最短マーク長の記録マークとスペースが変調信号中に連続すると、この記録マークとスペース列の再生信号の振幅が小さくなり、その信号出力及びＣＮＲ（Ｃarrier to Ｎoise Ｒatio）が急激に低下して、記録再生特性が悪化してしまう。特に、Ｌ_min＝０．１１９μｍとすると、６０ＧＢ（１層当たり３０ＧＢ）の記録容量を実現することができるものの、レーザービーム照射によって１つ１つの最短マーク長の記録マークを識別することが不可能となり、記録マークのＣＮＲが大幅に低下してしまう。２層の情報層のうち、レーザービームの光入射面側の情報層であるＬ１層は、半透明情報層であるため、もう一方の情報層であるＬ０層に比べて信号出力（記録マークとスペース列の再生信号振幅）が小さく、最短マーク長の記録マークのＣＮＲが小さいため、線記録密度の向上はより難しい。

特開２００７−１７９７０６号公報

この発明は上記問題点に鑑みてなされたものであって、ＢＤの光学系において、１層３０ＧＢ、２層６０ＧＢの書き換え可能な２層型光記録媒体を提供することを課題とする。

本発明者等は、鋭意研究の結果、第２の情報層であるＬ１層の記録膜及び反射膜の膜厚を高密度記録に最適な範囲内とすることで、第１の情報層であるＬ０層の記録感度を悪化させずにＬ１層の信号出力を高めることができ、１層３０ＧＢ、２層６０ＧＢの書き換え可能な２層型光記録媒体を提供することができることを見出した。

即ち、以下の実施例により上記課題を解決することができる。

（１）レーザー光の波長をλ、対物レンズの開口数をＮＡとしたときに、記録再生が可能な最短マーク長Ｌ_minが
１＜｛Ｌ_min／（λ／ＮＡ）｝×４≦１．１０
であり、第１の情報層と、前記第１の情報層の光入射面側に配置され、少なくとも記録膜と反射膜が設けられている半透明情報層である第２の情報層と、を有する書き換え可能な２層型光記録媒体であって、前記記録膜の膜厚Ｔｒｅｃ（ｎｍ）と前記反射膜の膜厚Ｔｒｅｆ（ｎｍ）との関係が、以下の４式のうちいずれかを満たすことを特徴とする２層型光記録媒体。
４．５≦Ｔｒｅｃ≦６．０ かつ
−３．４×Ｔｅｒｃ＋３５≦Ｔｒｅｆ≦−２．０×Ｔｒｅｃ＋３４ （I）
６．０≦Ｔｒｅｃ≦８．０ かつ
−２．５×Ｔｒｅｃ＋３０≦Ｔｒｅｆ≦−２．０×Ｔｒｅｃ＋３４ （II）
８．０≦Ｔｒｅｃ≦９．５ かつ
１０≦Ｔｒｅｆ≦−２．０×Ｔｒｅｃ＋３４ （III）
９．５≦Ｔｒｅｃ≦１０．５ かつ
１０≦Ｔｒｅｆ≦−５．０×Ｔｒｅｃ＋６２．５ （IV）

（２）前記第１の情報層の反射率Ｒ_L0（％）が２．０％以上３．８％以下であり、かつ、前記第２の情報層の反射率Ｒ_L1（％）とＲ_L0との比Ｒ_L1／Ｒ_L0が１．７０以上であることを特徴とする（１）に記載の２層型光記録媒体。

（３）前記第２の情報層の記録部分の反射率と未記録部分の反射率との差が３．１％以上であることを特徴とする（１）又は（２）に記載の２層型光記録媒体。

（４）前記第２の情報層の透過率が３０％以上４２％以下であることを特徴とする（１）乃至（３）のいずれかに記載の２層型光記録媒体。

この発明においては、Ｌ１層の記録膜及び反射膜の膜厚を高密度記録に最適な範囲内とすることで、Ｌ０層の記録感度を悪化させずにＬ１層の信号出力を高めることでき、１層３０ＧＢ、２層６０ＧＢの書き換え可能な２層型光記録媒体を提供することが可能となる。

最良の形態に係る２層型光記録媒体は、第１の情報層と、少なくとも記録膜と反射膜が設けられている半透明情報層である第２の情報層と、を有し、レーザー光の波長をλ、対物レンズの開口数をＮＡとしたときに、記録再生が可能な最短マーク長Ｌ_minが、１＜｛Ｌ_min／（λ／ＮＡ）｝×４≦１．１０であり、第１の情報層の反射率Ｒ_L0（％）が２．０％以上３．８％以下であり、かつ、第２の情報層の反射率Ｒ_L1（％）とＲ_L0との比Ｒ_L1／Ｒ_L0が１．７０以上であり、第２の情報層の記録部分の反射率と未記録部分の反射率との差が２．８％以上であり、第２の情報層の透過率が３０％以上４２％以下であって、半透明情報層の記録膜の膜厚Ｔｒｅｃ（ｎｍ）と反射膜の膜厚Ｔｒｅｆ（ｎｍ）との関係が、以下の４式のうちいずれかを満たす。
４．５≦Ｔｒｅｃ≦６．０ かつ
−３．４×Ｔｅｒｃ＋３５≦Ｔｒｅｆ≦−２．０×Ｔｒｅｃ＋３４ （I）
６．０≦Ｔｒｅｃ≦８．０ かつ
−２．５×Ｔｒｅｃ＋３０≦Ｔｒｅｆ≦−２．０×Ｔｒｅｃ＋３４ （II）
８．０≦Ｔｒｅｃ≦９．５ かつ
１０≦Ｔｒｅｆ≦−２．０×Ｔｒｅｃ＋３４ （III）
９．５≦Ｔｒｅｃ≦１０．５ かつ
１０≦Ｔｒｅｆ≦−５．０×Ｔｒｅｃ＋６２．５ （IV）

本実施形態の光記録媒体は、Ｌ１層記録膜厚及び／又は反射膜の膜厚が厚く設定されているので、Ｌ１層の出力が高められ、信号品質を良好に維持することが可能となっている。また、Ｌ１層の光透過率が３０％以上であるので、Ｌ０層にも必要最小限のレーザー光が十分に照射される。この結果、Ｌ０層とＬ１層の双方の記録・再生品質が高い状態で維持される。

また、本実施形態の光記録媒体は、Ｌ０層の反射率が２．０％以上に設定され、更にこのＬ０層の光透過率は略零に設定されるので、同Ｌ０層の出力不足が回避され、Ｌ０層の信号品質を高めることが可能となる。

特に、本実施形態の光記録媒体では、Ｌ０層及びＬ１層は相変化材料で構成されている。一般的に、光透過性が要求されるＬ１層において相変化材料を採用する場合、記録膜、反射膜が薄くなることから、信号出力が低下してしまう。そこで、本実施形態の光記録媒体では、Ｌ０層に悪影響を与えない範囲で、Ｌ１層の記録膜、反射膜の膜厚を厚くされている。具体的には、Ｌ０層は、反射膜が十分厚く冷却効果が高いため、十分な出力が確保できると共に記録マークの歪等が小さい。従って、再生時のノイズも低くすることができる。逆に、Ｌ１層は反射膜が薄いため、冷却効果が低くなり再結晶化の影響を受けてしまう。この結果、再生時の出力も小さくなり、且つ記録マークの不均一さによりノイズも大きくなる傾向がある。そこで本実施形態の光記録媒体では、Ｌ１層の記録膜、反射膜を厚くすることで信号出力を増大させ、ＳＮＲ（Ｓｉｇｎａｌ ｔｏ Ｎｏｉｓｅ Ｒａｔｉｏ：信号に対するノイズの比率）を向上させている。このとき、Ｌ０層は、相対的に反射率が低下する傾向にあるが、先に説明したとおり、もともとの特性が良いことから、許容範囲内であれば実用に耐えうる記録・再生品質を得ることができる。一般的に、反射率があまりにも低くなると、システムノイズや外部ノイズ等の影響が急激に大きくなるので、本実施形態の光記録媒体では、Ｌ０層については反射率２％を下限値とすることで良好な特性を確保できるにしている。この結果、Ｌ１層の信号品質を大幅に向上させつつ、Ｌ０層の信号品質も適切に維持できる。

図３に、Ｌ１層の記録膜の膜厚を変えたときのＬ１層の透過率と信号出力を示す。図３においては、記録膜の膜厚をｘ（ｎｍ）、透過率をｙ（％）、信号出力をｙ´（ｍＶ）としたときに、以下の２式が成り立つ。
ｙ＝−３．６ｘ＋６７ （Ｖ）
ｙ´＝３２．７５ｘ−７４．３３３ （VI）

図３より、ｘの増加に伴いｙが減少し、ｙ´が増加していること、つまり、記録膜の膜厚を厚くすることで信号出力が増大し、透過率が低下していることが分かる。

半透明情報層（第２の情報層：Ｌ１層）の構成例としては、基板側から順に、第１誘電体膜、反射膜、保護層、記録膜、保護層、第２誘電体膜、放熱層を順次積層したものが挙げられる。

第１誘電体膜は、反射膜の保護及び光透過率調整のために設けられ、材料は特に限定されるものではなく、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｈｆ、Ｔａ、Ｓｉ、Ａｌ、Ｍｇ、Ｙ、Ｃｅ、Ｚｎ、Ｉｎ、Ｃｒ、Ｎｂ等から選ばれる少なくとも１種類の金属を含む酸化物、窒化物、硫化物、フッ化物、あるいはこれらの複合物等が用いられる。具体的には、λ＝４０５ｎｍでの屈折率が２．１以上のものが好ましく、ＺｎＳ−ＳｉＯ₂、ＺｒＯ₂、ＴｉＯ₂、などを主成分とする透明膜が好ましい。また、２つ以上の複数の誘電体膜を積層しても良い。膜厚は５ｎｍ以上６０ｎｍ以下が好ましく、５ｎｍより薄いと反射膜の保護が不十分であり、６０ｎｍより厚いと光透過率が好ましい範囲を外れる。

反射膜は、放熱と光干渉効果のために設けられ、材料としては好ましくはＡｇ合金が用いられる。

記録膜の材料は特に限定されず、Ｓｂを主成分とする材料系やＧｅＴｅを主成分とする材料形を用いても良い。Ｓｂを主成分とする材料系では、Ｓｂ量が６０ａｔ％以上８５ａｔ％以下であり、Ｔｅ、Ｇｅ、Ｉｎ、Ｓｎ、Ｂｉ、Ｇａ、Ａｌ、Ｚｎ、Ｍｇ、Ｓｉ、Ｖ、Ｎｂ、Ｔａ、Ｃｒ、Ｍｏ、Ｗ、Ｍｎから選ばれる少なくとも１種類の元素を含む材料が好ましく、これらのうち、Ｔｅ、Ｇｅ、Ｉｎ、Ｖ、Ｍｎから選ばれる少なくとも１種類の元素を含む材料が特に好ましい。具体的にはＳｂＴｅＧｅを主成分とし、更に、Ｉｎ、Ｍｎ、Ｖから選ばれる少なくとも１種類の元素を含むことが好ましい。この時、Ｓｂ量は６０ａｔ％以上８５ａｔ％以下、Ｔｅ量は２ａｔ％以上１５ａｔ％以下、Ｇｅ量は７ａｔ％以上１８ａｔ％以下が好ましく、Ｉｎ、Ｍｎ、Ｖ量は、それぞれ１ａｔ％以上１０ａｔ％以下が好ましい。ＧｅＴｅを主成分とする材料系では、ＧｅＴｅに、Ｉｎ、Ｂｉ、Ｓｎから選ばれる少なくとも１種類の元素を含む材料が好ましい。

保護層は記録膜の保護及び結晶化速度の制御を行う。保護層の材料には、少なくともＺｒとＣｒとＯを含むようにされており、少なくともＺｒＯ₂とＣｒ₂Ｏ₃から構成されている。Ｃｒ₂Ｏ₃の比率が高いと結晶化速度を高めることが可能となるが光透過率が低下してしまう。また、ＺｒＯ₂の比率が高いと結晶化速度が低下してしまう。よって、好ましいＺｒＯ₂量は３０ｍｏｌ％以上９５ｍｏｌ％以下であり、好ましいＣｒ₂Ｏ₃量は１０ｍｏｌ％以上８０ｍｏｌ％以下である。

第２誘電体膜は光学特性の調整及び放熱層への制御を行う。材料は特に限定されないが、好ましくはＺｎＳとＳｉＯ₂の混合物から形成される。好ましいＺｎＳとＳｉＯ₂のモル比（ＺｎＳ：ＳｉＯ₂）は、５０：５０から９０：１０の間である。この範囲を外れると屈折率が変化し、光学特性の調整が困難となる。好ましい膜厚は５ｎｍ以上５０ｎｍ以下である。５ｎｍより薄いと光学特性の調整が困難となり、５０ｎｍより厚いと放熱性が低下する。

放熱層は記録膜からの放熱を制御し、記録膜の冷却効果を高めて正確にアモルファスマークを形成し易くするためのものである。材料は第２誘電体膜よりも熱伝導率が高いものが好ましく、ＡｌＮ、ＳｉＮ、Ａｌ₂Ｏ₃、ＴｉＯ₂やＩｎ₂Ｏ₃、ＺｎＯを主成分とする透明導電膜が好ましい。特に好ましい透明導電膜の主成分はＡｌＮである。放熱層の好ましい膜厚は１５ｎｍ以上１５０ｎｍ以下であり、２０ｎｍ以上５０ｎｍ以下が特に好ましい。放熱層の膜厚が１５ｎｍより薄いと放熱効果が低下し、１５０ｎｍより厚いと生産性が低下してしまう。また、放熱層は、記録膜にＳｂを主成分とした材料系を用いた時にその効果を得ることができ、記録膜にＧｅＴｅを主成分とする材料系を用いた時には放熱層を形成しなくても良い。

以下、図１を参照して、本発明の実施例１に係る２層型光記録媒体１０について詳細に説明する。

この２層型光記録媒体１０は、基板１２と、この基板１２におけるレーザービームの光入射側（図１において上側）に設けられた第１の情報層であるＬ０層１４と、このＬ０層よりも更に光入射側に設けられた第２の情報層であるＬ１層１８と、を有してなり、Ｌ１層は、記録膜４０及びこの記録膜４０の両側に隣接して設けられた保護層３８、保護層４２を含んで構成されている。Ｌ１層１８は半透明情報層である。

Ｌ０層１４とＬ１層１８の間にはスペーサー層１６が設けられ、又、Ｌ１層１８の光入射側にはカバー層２０が設けられている。

Ｌ０層１４は、基板１２側から、膜厚１００ｎｍのＡｇからなる反射膜２２と、膜厚６ｎｍのＧｅ−Ａｌ−Ｏからなる誘電体膜２４と、膜厚１４ｎｍのＺｎＳ−ＳｉＯ₂からなる保護層２６と、膜厚１３ｎｍのＳｂＴｅＧｅからなる記録膜２８と、膜厚２６ｎｍのＺｎＳ−ＳｉＯ₂からなる保護層３０と、膜厚４２ｎｍのＡｌＮからなる放熱層３２とを、この順でスパッタリングにより形成して構成されている。

Ｌ１層１８は、スペーサー層１６側から、膜厚５ｎｍのＺｒ−Ｃｒ−Ｏ膜からなる第１誘電体膜３４と、Ａｇからなる膜厚Ｔｒｅｆ（ｎｍ）の反射膜３６と、膜厚４ｎｍのＺｒ−Ｃｒ−Ｏ膜からなる保護層３８と、ＩｎＳｂＴｅＧｅ（８：７５：９：８at％）からなる膜厚Ｔｒｅｃ（ｎｍ）の記録膜４０と、膜厚５ｎｍのＺｒ−Ｃｒ−Ｏ膜からなる保護層４２と、ＺｎＳ−ＳｉＯ₂からなる膜厚１５ｎｍの第２誘電体膜４４と、膜厚４５ｎｍのＡｌＮ膜からなる放熱層４６とを、この順でスパッタリングにより形成して構成されている。

又、基板１２は、厚さ１．１ｍｍのポリカーボネートからなり、スペーサー層１６は、厚さが２５μｍとされ、カバー層２０は、紫外線硬化型樹脂を用いてスピンコート法により１００μｍの厚さとなるようにされている。このカバー層２０は、Ｌ１層１８を初期化機により全面結晶化させた後に形成される。

上記のような２層型光記録媒体１０のＬ１層１８の反射膜３６の膜厚Ｔｒｅｆを１２ｎｍとし、記録膜４０の膜厚Ｔｒｅｃを変えたサンプル１〜３を作成し、パルステック工業製評価機ＯＤＵを用いて、２倍速で情報を記録した。記録条件は、変調信号が（１、７）ＲＬＬ（Ｒｕｎ Ｌｅｎｇｔｈ Ｌｉｍｉｔｅｄ）、レーザー波長λが４０５ｎｍ、対物レンズの開口数ＮＡが０．８５、クロック周波数ｆが１３２ＭＨｚ、線速度ＬＶが８．２ｍ／ｓとなるように設定し、最短マーク長が１２４ｎｍ、Ｌ０層１４及びＬ１層１８の記録容量がそれぞれ３０ＧＢとなるようにした。

次に、サンプル１〜３をパルステック工業製ＰＲＭＬ（Ｐａｒｔｉａｌ Ｒｅｓｐｏｎｓｅ Ｍａｘｉｍｕｍ Ｌｉｋｅｌｉｈｏｏｄ）評価ユニットを用いて、１倍速で再生、評価した。ＰＲＭＬ評価装置は拘束長４に設定した。

なお、１倍速のクロック周波数ｆは６６ＭＨｚ、線速度ＬＶは４．１ｍ／ｓである。

また、再生評価の指標としては、ｂＥＲ（ｂｉｔ Ｅｒｒｏｒ Ｒａｔｅ）を用いた。

結果を表１に示す。

ｂＥＲの基準値は、１．０Ｅ−０４であり、表１においては、これ以下のｂＥＲを○、これより大きい値のｂＥＲを×として判定した。Ｌ１層１８、Ｌ０層１４のｂＥＲ判定がともにｂＥＲの基準値を下回っている場合に、総合判定を○とした。

表１から、Ｔｒｅｃが７ｎｍのサンプル２のみがＬ１層１８、Ｌ０層１４ともにｂＥＲの基準値を下回っていることが分かった。

本発明の実施例２では、実施例１の２層型光記録媒体１０のＴｒｅｃとＴｒｅｆを変えたサンプル４〜２８を作成・評価した。本実施例では、Ｌ１層１８の反射率Ｒ_L1（％）、反射率差（％）、透過率（％）、ｂＥＲ及びＬ０層１４の反射率Ｒ_L0、ｂＥＲを測定し、実施例１と同様にｂＥＲを判定した。また、Ｒ_L1とＲ_L0との比Ｒｅｆ（＝Ｒ_L1／Ｒ_L0）を求めた。なお、Ｌ０層１４において、あるトラックを記録した時のスペース部分（結晶部）の反射率をＲ_L0（％）とし、Ｌ１層においても同様に、記録したトラックのスペース部分反射率をＲ_L1（％）とした。また、反射率差とは、あるトラックを記録した時の、スペース部分（結晶部）の反射率とマーク部分（アモルファス部）の反射率の差分をいう。

Ｔｒｅｃを４．５ｎｍ、６．０ｎｍ、８．０ｎｍ、９．５ｎｍ、１０．５ｎｍ、１１．５ｎｍとしたときの結果を、それぞれ表２乃至表７に示す。

表２より、Ｔｒｅｃが４．５ｎｍであってＴｒｅｆが２０ｎｍ、２５ｎｍの場合にＬ１層１８、Ｌ０層１４ともにｂＥＲの基準値を下回っていることが分かった。

表３より、Ｔｒｅｃが６．０ｎｍであってＴｒｅｆが１５ｎｍ、２０ｎｍの場合にＬ１層１８、Ｌ０層１４ともにｂＥＲの基準値を下回っていることが分かった。

表４より、Ｔｒｅｃが８．０ｎｍであってＴｒｅｆが１０ｎｍ、１５ｎｍの場合にＬ１層１８、Ｌ０層１４ともにｂＥＲの基準値を下回っていることが分かった。

表５より、Ｔｒｅｃが９．５ｎｍであってＴｒｅｆが１０ｎｍ、１５ｎｍの場合にＬ１層１８、Ｌ０層１４ともにｂＥＲの基準値を下回っていることが分かった。

表６より、Ｔｒｅｃが１０．５ｎｍであってＴｒｅｆが１０ｎｍの場合にＬ１層１８、Ｌ０層１４ともにｂＥＲの基準値を下回っていることが分かった。

表７より、Ｔｒｅｃが１１．５ｎｍの場合は、Ｔｒｅｆの値を変えてもＬ１層１８、Ｌ０層１４ともにｂＥＲの基準値を下回ることはないことが分かった。従って、Ｔｒｅｃの上限は１０．５ｎｍであることが分かった。

次に、Ｔｒｅｃを４．０ｎｍとし、サンプルを作成したところ、反射膜３６の厚さに関わらず、記録マークの消去が不可能であった。これは、記録膜４０が薄いため、記録マークの消去に必要な熱量が蓄積されないことが原因と考えられる。従って、Ｔｒｅｃの下限は４．５ｎｍであることが分かった。

以上の結果をプロットした図を図２に示す。図２においては、記録膜厚Ｔｒｅｃ（ｎｍ）を横軸に、反射膜厚Ｔｒｅｆ（ｎｍ）を縦軸として、表２乃至表７中、総合判定が○だったときのＴｒｅｃとＴｒｅｆの組み合わせをＯＫと、総合判定が×だったときのＴｒｅｃとＴｒｅｆの組み合わせをＮＧとした。図２中、ＴｒｅｃとＴｒｅｆの組み合わせ
（Ｔｒｅｃ，Ｔｒｅｆ）＝（４．５，２０），（４．５，２５），（６．０，１５），（８．０，１０），（９．５，１５），（１０．５，１０）の６点を結んだ領域内に含まれるＴｒｅｃとＴｒｅｆの組み合わせの場合に総合判定が○となる、つまり、Ｌ１層１８、Ｌ０層１４ともにｂＥＲの基準値を下回ることが分かった。この領域は、以下の４式で表すことができる。
４．５≦Ｔｒｅｃ≦６．０ かつ
−３．４×Ｔｅｒｃ＋３５≦Ｔｒｅｆ≦−２．０×Ｔｒｅｃ＋３４ （I）
６．０≦Ｔｒｅｃ≦８．０ かつ
−２．５×Ｔｒｅｃ＋３０≦Ｔｒｅｆ≦−２．０×Ｔｒｅｃ＋３４ （II）
８．０≦Ｔｒｅｃ≦９．５ かつ
１０≦Ｔｒｅｆ≦−２．０×Ｔｒｅｃ＋３４ （III）
９．５≦Ｔｒｅｃ≦１０．５ かつ
１０≦Ｔｒｅｆ≦−５．０×Ｔｒｅｃ＋６２．５ （IV）

また、表２乃至表７中のサンプル、特にサンプル７、サンプル１５から、ＴｒｅｃとＴｒｅｆがこの領域内にあるとき、つまり総合判定が○となるＴｒｅｃとＴｒｅｆの組み合わせの場合は、Ｌ０層１４の反射率ＲＬ０（％）が２．０％以上３．８％以下であり、かつ、Ｌ１層１８の反射率Ｒ_Ｌ１（％）とＬ０層１４のＲ_Ｌ０との比率Ｒｅｆが１．７０以上であることが分かった。

さらに、表２乃至表７中のサンプル、特にサンプル１０から、Ｌ１層１８の反射率差が３．１％以上であることが分かった。

また、表２乃至表７中のサンプル、特にサンプル１０及びサンプル１５から、Ｌ１層１８の透過率が３０％以上４２％以下であることが分かった。

本発明の実施例に係る２層型光記録媒体を模式的に示す断面図 高密度記録に最適な記録膜及び反射膜の膜厚の範囲を示すグラフ Ｌ１層の記録膜の膜厚と透過率及び信号出力との関係を示すグラフ

符号の説明

１０…２層型光記録媒体
１２…基板
１４…Ｌ０層（第１の情報層）
１６…スペーサー層
１８…Ｌ１層（第２の情報層）
２０…カバー層
２２、３６…反射膜
２４…誘導体膜
２６、３０、３８、４２…保護層
２８、４０…記録膜
３２、４６…放熱層
３４…第１誘電体膜
４４…第２誘電体膜

Claims (4)

1. レーザー光の波長をλ、対物レンズの開口数をＮＡとしたときに、記録再生が可能な最短マーク長Ｌ_minが
   １＜｛Ｌ_min／（λ／ＮＡ）｝×４≦１．１０
   であり、第１の情報層と、前記第１の情報層の光入射面側に配置され、少なくとも記録膜と反射膜が設けられている半透明情報層である第２の情報層と、を有する書き換え可能な２層型光記録媒体であって、
   前記記録膜の膜厚Ｔｒｅｃ（ｎｍ）と前記反射膜の膜厚Ｔｒｅｆ（ｎｍ）との関係が、以下の４式のうちいずれかを満たすことを特徴とする２層型光記録媒体。
   ４．５≦Ｔｒｅｃ≦６．０ かつ
   −３．４×Ｔｅｒｃ＋３５≦Ｔｒｅｆ≦−２．０×Ｔｒｅｃ＋３４ （I）
   ６．０≦Ｔｒｅｃ≦８．０ かつ
   −２．５×Ｔｒｅｃ＋３０≦Ｔｒｅｆ≦−２．０×Ｔｒｅｃ＋３４ （II）
   ８．０≦Ｔｒｅｃ≦９．５ かつ
   １０≦Ｔｒｅｆ≦−２．０×Ｔｒｅｃ＋３４ （III）
   ９．５≦Ｔｒｅｃ≦１０．５ かつ
   １０≦Ｔｒｅｆ≦−５．０×Ｔｒｅｃ＋６２．５ （IV）
2. 請求項１において、
   前記第１の情報層の反射率Ｒ_L0（％）が２．０％以上３．８％以下であり、かつ、前記第２の情報層の反射率Ｒ_L1（％）とＲ_L0との比Ｒ_L1／Ｒ_L0が１．７０以上であることを特徴とする２層型光記録媒体。
3. 請求項１又は２において、
   前記第２の情報層の記録部分の反射率と未記録部分の反射率との差が３．１％以上であることを特徴とする２層型光記録媒体。
4. 請求項１乃至３のいずれかにおいて、
   前記第２の情報層の透過率が３０％以上４２％以下であることを特徴とする２層型光記録媒体。

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