JP2009132741A - ジフルオロメチレンオキシ基を持つ液晶化合物の製造方法 - Google Patents
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Abstract
【課題】 ジフルオロメチルエーテル誘導体を、容易に安全にかつ高収率で製造することができる。
【解決の手段】 式１で表されるシクロヘキセニルジフルオロ酢酸エステルを出発原料とする、式２で表されるジフルオロメチレンオキシ誘導体の製造方法とする。
式中、Ｒ１およびＲ２はそれぞれ独立して、例えば炭素数１〜２０のアルキル基であり；Ｒ３は、１価の有機基または無機基であり；環Ａ１、環Ａ２、環Ａ３、および環Ａ４はそれぞれ独立して、例えば１，４−シクロヘキシレン基、または１，４−フェニレン基であり；Ｚ１、Ｚ２、Ｚ３、およびＺ４はそれぞれ独立して、例えば炭素数１〜４のアルキレン基であり；Ｙ１、Ｙ２、Ｙ３、およびＹ４はそれぞれ独立して、例えば炭素数１〜１０のアルキル基であり；ｋ、ｌ、ｍおよびｎはそれぞれ独立して、０または１である。
【選択図】なし
【解決の手段】 式１で表されるシクロヘキセニルジフルオロ酢酸エステルを出発原料とする、式２で表されるジフルオロメチレンオキシ誘導体の製造方法とする。
式中、Ｒ１およびＲ２はそれぞれ独立して、例えば炭素数１〜２０のアルキル基であり；Ｒ３は、１価の有機基または無機基であり；環Ａ１、環Ａ２、環Ａ３、および環Ａ４はそれぞれ独立して、例えば１，４−シクロヘキシレン基、または１，４−フェニレン基であり；Ｚ１、Ｚ２、Ｚ３、およびＺ４はそれぞれ独立して、例えば炭素数１〜４のアルキレン基であり；Ｙ１、Ｙ２、Ｙ３、およびＹ４はそれぞれ独立して、例えば炭素数１〜１０のアルキル基であり；ｋ、ｌ、ｍおよびｎはそれぞれ独立して、０または１である。
【選択図】なし
Description
本発明は液晶性化合物として有用なジフルオロメチレンオキシ誘導体の簡便かつ効率的な製造方法に関する。
液晶表示素子は液晶性化合物が有する光学異方性および誘電率異方性を利用するものであり、時計を初めとし、電卓、各種測定機器、自動車用パネル、ワープロ、電子手帳、プリンター、パーソナルコンピューター、テレビジョン、携帯電話等に広く利用され、その需要も年々増加傾向にある。液晶相は固体相と液体相の中間に位置し、ネマチック相、スメクチック相、およびコレステリック相に大別される。中でもネマチック相を利用した表示素子が現在最も広く使用されている。一方表示方式はこれまで多数のものが考案され、動的散乱型（ＤＳ型）、ゲスト・ホスト型（ＧＨ型）、ねじれネマチック型（ＴＮ型）、超ねじれネマチック型（ＳＴＮ型）、薄膜トランジスター型（ＴＦＴ型）、強誘電液晶（ＦＬＣ）等が知られている。
これらの分野における近年の開発傾向は携帯電話に代表されるように液晶表示素子の小型化、低消費電力化および高速応答化を中心に推進されており、これに用いられるためには、すなわちしきい値電圧が低く、粘度も小さい液晶性化合物および液晶組成物であることが要求されている。
しきい値電圧（Ｖth）は、以下の式にて表されるように誘電率異方性（Δε）の関数である（Mol. Cryst. Liq. Cryst., 12, 57 (1970)）。
Ｖth＝π（Ｋ/ε0Δε）1/2
（式中、Ｋは弾性定数、ε0は真空の誘電率である。）
この式からわかるように、しきい値電圧を小さくするためには誘電率異方性を大きくする方法、または弾性定数を小さくする方法の２通りの方法が考えられる。しかし、既存の技術では弾性定数のコントロールは困難であることから、誘電率異方性の大きな材料を使用することにより低しきい値電圧の要求に対処している。そのため誘電率異方性の大きな液晶性化合物の開発が活発に行われている。また粘度は液晶分子の電場に対する応答速度を支配する要素であり、高速応答性を示す液晶組成物を調製するためには粘度の小さい液晶性化合物を多量に使用することが好ましい。
Ｖth＝π（Ｋ/ε0Δε）1/2
（式中、Ｋは弾性定数、ε0は真空の誘電率である。）
この式からわかるように、しきい値電圧を小さくするためには誘電率異方性を大きくする方法、または弾性定数を小さくする方法の２通りの方法が考えられる。しかし、既存の技術では弾性定数のコントロールは困難であることから、誘電率異方性の大きな材料を使用することにより低しきい値電圧の要求に対処している。そのため誘電率異方性の大きな液晶性化合物の開発が活発に行われている。また粘度は液晶分子の電場に対する応答速度を支配する要素であり、高速応答性を示す液晶組成物を調製するためには粘度の小さい液晶性化合物を多量に使用することが好ましい。
近年情報端末、携帯ゲーム機等としての用途に液晶表示素子が普及している。これら表示素子は電池での駆動を必然とするため、低いしきい値電圧で駆動し、かつ長時間の使用が可能となるように低消費電力であることが要求される。特に素子自身の消費電力を低くするために、最近ではバックライトを必要としない反射型の表示素子の開発が盛んである。これら反射型の表示素子に使用される液晶組成物にはしきい値電圧が低いことに加え、その光学異方性が小さいことも要求される。このため組成物を構成する液晶材料としても誘電率異方性が大きくかつ光学異方性が小さな液晶性化合物の開発がこの分野の鍵となっている。ＴＦＴ型の液晶表示素子に使用される、代表的な低電圧駆動用液晶材料として下記の化合物３１および３２を示すことができる（特許文献１参照。）。
化合物３１および３２は何れも分子の末端に３，４，５−トリフルオロフェニル基を有し、低電圧駆動用の液晶材料として期待されているものである。しかし、上述の反射型表示素子用途としては、化合物３１は誘電率異方性（Δε＝〜１０）が小さく、また化合物３２は誘電率異方性（Δε＝〜１２）では満足できるものの、光学異方性が約０．１２と大きく、これらの化合物の使用では上述の要求を十分満足できる液晶組成物の調製は困難と考えられていた。
しかし、上述の化合物３１と同等の透明点、光学異方性および粘度を示しながら、その誘電率異方性（Δε）は約１４と化合物３１よりも遥かに大きな値を示し、上述の反射型表示素子用液晶材料としての用途の他、種々のＴＦＴ方式における低電圧駆動用液晶材料として期待されている、結合基にジフルオロメチレンオキシ基を有する化合物３３が開示されている（特許文献２参照。）。
式中、Ｒはアルキル基を示す。
上記ジフルオロメチレンオキシ基を結合基に有する化合物の製造方法は三つ知られている。第一の方法は、対応するエステル誘導体をローソン試薬（Ｆｉｅｓｅｒ１３，３８）にてチオノエステル誘導体に変換し、酸化剤の存在下、フッ化水素−ピリジンを反応させてフッ素化し製造する方法である（特許文献２、特許文献３参照。）。
式中、Ｒ１はアルキル基であり、環Ａ１’、環Ａ２’、環Ａ４’は１，４−シクロヘキシレン基または１，４−フェニレン基であり、Ｚ１’は単結合または−ＣＨ２ＣＨ２−である。
第二の方法は、対応するカルボン酸誘導体に１，３−プロパンジチオールおよびトリフルオロメタンスルホン酸を反応させてジチアリウムトリフラートに変換した後、３，４，５−トリフルオロフェノール、トリエチルアミン、次いでフッ化水素−トリエチルアミンおよび１，３−ジブロモ−５，５−ジメチルヒダントインを反応させて製造する方法である（特許文献４参照。）。
第三の方法は、対応するα，α−ジフルオロシクロヘキシリデン誘導体に臭素を付加させた後、塩基性条件下で３，４，５−トリフルオロフェノールと反応させ、最後に水素添加させて製造する方法である（特許文献５参照。）。
しかし、上記の三つの方法は、腐食性が大きいまたは悪臭が強い試薬を使う、収率が高くなく副生成物が多い、スケールアップが容易でないといった課題がある。そこで、液晶化合物として好適な諸物性を発現するジフルオロメチレンオキシ誘導体の、簡便なる製造方法の開発が望まれていた。本発明の目的はジフルオロメチレンオキシ誘導体の簡便かつ効率的な製造方法を提供することである。
本発明者らは前述した課題を解決すべく鋭意検討した結果、シクロヘキセニルジフルオロ酢酸エステル誘導体、シクロヘキシリデンプロピオン酸エステル、またはビニルジフルオロ酢酸エステル誘導体を出発原料として、加水分解し、酸塩化物への変換、脱炭酸臭素化、ウィリアムソンエーテル化、そして水素添加することにより、目的とするジフルオロメチレンオキシ誘導体が高収率で得られることを見出した。
また、脱炭酸臭素化した後水素添加し、ウィリアムソンエーテル化によりジフルオロメチレンオキシ誘導体が高収率で得られることも見出した。さらにシクロヘキセニルジフルオロ酢酸エステル誘導体、シクロヘキシリデンプロピオン酸エステル、またはビニルジフルオロ酢酸エステル誘導体に水素原子を付加させ、加水分解、酸塩化物への変換、脱炭酸臭素化、ウィリアムソンエーテル化によりジフルオロメチレンオキシ誘導体が高収率で得られることも見出し、本発明を完成させるに至った。
以下、各製造方法での説明では、Ｎ，Ｎ’−ジシクロヘキシルカルボジイミドを「ＤＣＣ」と示し、Ｎ−ヒドロキシピリジンチオンを「オマジン」と示し、Ｎ−ヒドロキシピリジンチオンナトリウム塩を「ナトリウムオマジン」と示し、４−ジメチルアミノピリジンを「ＤＭＡＰ」と示す。
まず、最初の出発原料を用いた本発明は、式１で表されるシクロヘキセニルジフルオロ酢酸エステルを出発原料とする式２で表されるジフルオロメチレンオキシ誘導体の製造方法である。
まず、最初の出発原料を用いた本発明は、式１で表されるシクロヘキセニルジフルオロ酢酸エステルを出発原料とする式２で表されるジフルオロメチレンオキシ誘導体の製造方法である。
式中、Ｒ１およびＲ２はそれぞれ独立して、水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、または炭素数１〜２０のアルキル基であり、アルキル基中の任意の−ＣＨ２−は−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、または−Ｃ≡Ｃ−に置き換えられてもよいが、−Ｏ−が連続することはなく、またアルキル基中の任意の水素原子はフッ素原子で置き換えられてもよく；Ｒ３は、１価の有機基または無機基であり；環Ａ１、環Ａ２、環Ａ３、および環Ａ４はそれぞれ独立して、任意の−ＣＨ２−が−Ｏ−、−Ｓ−で置き換えられてもよい１，４−シクロヘキシレン基、任意の＝ＣＨ−が＝Ｎ−で置き換えられてもよい１，４−フェニレン基、または環上の任意の水素原子がフッ素原子、シアノ基または炭素数１〜１０のアルキル基で置き換えられてもよい１，４−フェニレン基であり；Ｚ１、Ｚ２、Ｚ３、およびＺ４はそれぞれ独立して、単結合または炭素数１〜４のアルキレン基であり、アルキレン基中の任意の−ＣＨ２−は−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、または−Ｃ≡Ｃ−に置き換えられてもよいが、−Ｏ−が連続することはなく、またアルキレン基中の任意の水素原子はフッ素原子で置き換えられてもよく；Ｙ１、Ｙ２、Ｙ３、およびＹ４はそれぞれ独立して、水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、または炭素数１〜１０のアルキル基であり；ｋ、ｌ、ｍおよびｎはそれぞれ独立して、０または１である。
すなわち本発明に係る製造方法の第１は、工程（１）〜（５）の５つの工程を有する製造方法である。
工程（１）：式１で表されるシクロヘキセニルジフルオロ酢酸エステルを、加水分解して式３で表されるカルボン酸を製造する。
工程（２）：式３で表されるカルボン酸に、塩化チオニルを反応させて式４で表される酸塩化物を製造する。
工程（３）：式４で表される酸塩化物に、ナトリウムオマジンとブロモトリクロロメタンを反応させて、式５で表されるブロモジフルオロメチル誘導体を製造する。
工程（４）：塩基の存在下で、式５のブロモジフルオロメチル誘導体を、式Ｐで表されるフェノール化合物と反応させて、式６のシクロヘキセニルジフルオロメチレンオキシ誘導体を製造する。
工程（５）：式６で表されるシクロヘキセニルジフルオロメチレンオキシ誘導体を水素還元して式２で表されるジフルオロメチレンオキシ誘導体を製造する。
工程（１）：式１で表されるシクロヘキセニルジフルオロ酢酸エステルを、加水分解して式３で表されるカルボン酸を製造する。
工程（２）：式３で表されるカルボン酸に、塩化チオニルを反応させて式４で表される酸塩化物を製造する。
工程（３）：式４で表される酸塩化物に、ナトリウムオマジンとブロモトリクロロメタンを反応させて、式５で表されるブロモジフルオロメチル誘導体を製造する。
工程（４）：塩基の存在下で、式５のブロモジフルオロメチル誘導体を、式Ｐで表されるフェノール化合物と反応させて、式６のシクロヘキセニルジフルオロメチレンオキシ誘導体を製造する。
工程（５）：式６で表されるシクロヘキセニルジフルオロメチレンオキシ誘導体を水素還元して式２で表されるジフルオロメチレンオキシ誘導体を製造する。
式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、環Ａ１、環Ａ２、環Ａ３、環Ａ４、Ｚ１、Ｚ２、Ｚ３、Ｚ４、Ｙ１、Ｙ２、Ｙ３、Ｙ４、ｋ、ｌ、ｍ、およびｎは、それぞれ前記式１、２の意味と同一である。
また本発明に係る製造方法の第２は、製造方法の第１において工程（２）および（３）にかわりに工程（２’）を有し、あわせて４つの工程を有する前記製造方法である。
工程（２’）：式３で表されるカルボン酸を、ＤＣＣおよび塩基の存在下、オマジンとブロモトリクロロメタンと反応させて式５で表されるブルモジフルオロメチル誘導体を製造する。
工程（２’）：式３で表されるカルボン酸を、ＤＣＣおよび塩基の存在下、オマジンとブロモトリクロロメタンと反応させて式５で表されるブルモジフルオロメチル誘導体を製造する。
また本発明に係る製造方法の第３は、工程（１）〜（３）の後に、工程（６）および（７）を有し、あわせて５つの工程を有する前記製造方法である。
工程（６）：式５で表されるブロモジフルオロメチル誘導体を、水素還元して式７で表されるシクロヘキシルブロモジフルオロメタン誘導体を製造する。
工程（７）：塩基の存在下で、式７のシクロヘキシルブロモジフルオロメタン誘導体を、前記工程（４）記載の式Ｐで表されるフェノール化合物と反応させて、式２で表されるジフルオロメチレンオキシ誘導体を製造する。
工程（６）：式５で表されるブロモジフルオロメチル誘導体を、水素還元して式７で表されるシクロヘキシルブロモジフルオロメタン誘導体を製造する。
工程（７）：塩基の存在下で、式７のシクロヘキシルブロモジフルオロメタン誘導体を、前記工程（４）記載の式Ｐで表されるフェノール化合物と反応させて、式２で表されるジフルオロメチレンオキシ誘導体を製造する。
式中、Ｒ１、環Ａ１、環Ａ２、Ｚ１、Ｚ２、ｋおよびｌは、それぞれ前記式１、式２の意味と同一である。
また本発明に係る製造方法の第４は、製造方法の第３において工程（２）および（３）にかわりに工程（２’）を有し、あわせて４つの工程を有するジフルオロメチレンオキシ誘導体の製造方法である。
また本発明に係る製造方法の第５は、工程（８）〜（１１）の後に、製造方法の第３の工程（７）を有し、あわせて５つの工程を有する前記製造方法である。
工程（８）：式１で表されるシクロヘキセニルジフルオロ酢酸エステルを、水素還元して式８で表されるシクロヘキシルジフルオロ酢酸エステル誘導体を製造する。
工程（９）：式８で表されるシクロヘキシルジフルオロ酢酸エステル誘導体を加水分解して、式９で表されるカルボン酸誘導体を製造する。
工程（１０）：式９で表されるカルボン酸誘導体に、塩化チオニルを反応させて式１０で表される酸塩化物を製造する。
工程（１１）：式１０で表される酸塩化物に、ナトリウムオマジンとブロモトリクロロメタンを反応させて式７で表されるシクロヘキシルブロモジフルオロメタン誘導体を製造する。
工程（８）：式１で表されるシクロヘキセニルジフルオロ酢酸エステルを、水素還元して式８で表されるシクロヘキシルジフルオロ酢酸エステル誘導体を製造する。
工程（９）：式８で表されるシクロヘキシルジフルオロ酢酸エステル誘導体を加水分解して、式９で表されるカルボン酸誘導体を製造する。
工程（１０）：式９で表されるカルボン酸誘導体に、塩化チオニルを反応させて式１０で表される酸塩化物を製造する。
工程（１１）：式１０で表される酸塩化物に、ナトリウムオマジンとブロモトリクロロメタンを反応させて式７で表されるシクロヘキシルブロモジフルオロメタン誘導体を製造する。
式中、Ｒ１、Ｒ３、環Ａ１、環Ａ２、Ｚ１、Ｚ２、ｋおよびｌは、それぞれ前記式１、２の意味と同一である。
また、本発明に係る製造方法の第６は、製造方法の第５において工程（１０）および（１１）にかわりに工程（１０’）を有し、あわせて４つの工程を有する前記製造方法である。
工程（１０’）：式９で表されるカルボン酸をＤＣＣおよび塩基の存在下オマジンとブロモトリクロロメタンと反応させて式７で表されるブルモジフルオロメチル誘導体を製造する。
工程（１０’）：式９で表されるカルボン酸をＤＣＣおよび塩基の存在下オマジンとブロモトリクロロメタンと反応させて式７で表されるブルモジフルオロメチル誘導体を製造する。
さらには、前記製造方法の第１において、工程（１）〜（４）の４工程を有するシクロヘキセニルジフルオロメチレンオキシ誘導体の製造方法である。
そして、さらには上記製造方法の第２において、工程（１）、（２’）および（４）の３工程を有するシクロヘキセニルジフルオロメチレンオキシ誘導体の製造方法である。
また第２の出発原料を用いた本発明は、化合物１１で表されるエチレンジフルオロ酢酸エステル誘導体を出発原料とする、式１２で表されるジフルオロメチレンオキシ誘導体の製造方法である。
式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、環Ａ１、環Ａ２、環Ａ３、環Ａ４、Ｚ１、Ｚ２、Ｚ３、Ｚ４、Ｙ１、Ｙ２、Ｙ３、Ｙ４、ｋ、ｌ、ｍ、およびｎは、それぞれ前記式１、２の意味と同一であり；環Ａ５はそれぞれ独立して、任意の−ＣＨ２−が−Ｏ−、−Ｓ−で置き換えられてもよい１，４−シクロヘキシレン基、任意の＝ＣＨ−が＝Ｎ−で置き換えられてもよい１，４−フェニレン基、または環上の任意の水素原子がフッ素原子、シアノ基または炭素数１〜１０のアルキル基で置き換えられてもよい１，４−フェニレン基であり；ｏは０〜１０の整数である。
すなわち本発明に係る製造方法の第７は、工程（１２）〜（１６）の５つの工程を有する前記製造方法である。
工程（１２）：式１１で表されるエチレンジフルオロ酢酸エステルを、加水分解して式１３で表されるカルボン酸を製造する。
工程（１３）：式１３で表されるカルボン酸に、塩化チオニルを反応させて式１４で表される酸塩化物を製造する。
工程（１４）：式１４で表される酸塩化物に、ナトリウムオマジンとブロモトリクロロメタンを反応させて、式１５で表されるブロモジフルオロメチル誘導体を製造する。
工程（１５）：塩基の存在下で、式１５で表されるブロモジフルオロメチル誘導体を、前記工程（４）記載の式Ｐで表されるフェノール化合物と反応させて、式１６で表されるシクロヘキセニルジフルオロメチレンオキシ誘導体を製造する。
工程（１６）：式１６で表されるシクロヘキセニルジフルオロメチレンオキシ誘導体を水素還元して式１２で表されるジフルオロメチレンオキシ誘導体を製造する。
工程（１２）：式１１で表されるエチレンジフルオロ酢酸エステルを、加水分解して式１３で表されるカルボン酸を製造する。
工程（１３）：式１３で表されるカルボン酸に、塩化チオニルを反応させて式１４で表される酸塩化物を製造する。
工程（１４）：式１４で表される酸塩化物に、ナトリウムオマジンとブロモトリクロロメタンを反応させて、式１５で表されるブロモジフルオロメチル誘導体を製造する。
工程（１５）：塩基の存在下で、式１５で表されるブロモジフルオロメチル誘導体を、前記工程（４）記載の式Ｐで表されるフェノール化合物と反応させて、式１６で表されるシクロヘキセニルジフルオロメチレンオキシ誘導体を製造する。
工程（１６）：式１６で表されるシクロヘキセニルジフルオロメチレンオキシ誘導体を水素還元して式１２で表されるジフルオロメチレンオキシ誘導体を製造する。
式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、環Ａ１、環Ａ２、環Ａ３、環Ａ４、環Ａ５、Ｚ１、Ｚ２、Ｚ３、Ｚ４、Ｙ１、Ｙ２、Ｙ３、Ｙ４、ｋ、ｌ、ｍ、ｎおよびｏは、それぞれ前記式１１、１２の定義と同じである。
また本発明に係る製造方法の第８は、製造方法の第７において工程（１３）および（１４）にかわりに工程（１３’）を有し、あわせて４つの工程を有する前記製造方法である。
工程（１３’）：式１３で表されるカルボン酸をＤＣＣおよび塩基の存在下オマジンとブロモトリクロロメタンと反応させて式１５のブルモジフルオロメチル誘導体を製造する。
工程（１３’）：式１３で表されるカルボン酸をＤＣＣおよび塩基の存在下オマジンとブロモトリクロロメタンと反応させて式１５のブルモジフルオロメチル誘導体を製造する。
また本発明に係る製造方法の第９は、工程（１２）〜（１４）の後に、工程（１７）および（１８）を有し、あわせて５つの工程を有するブルモジフルオロメチル誘導体の製造方法である。
工程（１７）：式１５で表されるブロモジフルオロメチル誘導体を、水素還元して式１７で表されるシクロヘキシルブロモジフルオロメチルアルカン誘導体を製造する。
工程（１８）：塩基の存在下で、式１７で表されるシクロヘキシルブロモジフルオロメチルアルカン誘導体を、前記工程（４）記載の式Ｐで表されるフェノール化合物と反応させて、式２で表されるジフルオロメチレンオキシ誘導体を製造する。
工程（１７）：式１５で表されるブロモジフルオロメチル誘導体を、水素還元して式１７で表されるシクロヘキシルブロモジフルオロメチルアルカン誘導体を製造する。
工程（１８）：塩基の存在下で、式１７で表されるシクロヘキシルブロモジフルオロメチルアルカン誘導体を、前記工程（４）記載の式Ｐで表されるフェノール化合物と反応させて、式２で表されるジフルオロメチレンオキシ誘導体を製造する。
式中、Ｒ１、環Ａ１、環Ａ２、環Ａ５、Ｚ１、Ｚ２、ｋおよびｌは、それぞれ前記式１１、１２の意味と同一である。
また本発明に係る製造方法の第１０は、製造方法の第９において工程（１３）および（１４）にかわりに製造方法の第８の工程（１３’）を有し、あわせて４つの工程を有する前記製造方法である。
工程（１３’）：式１３のカルボン酸をＤＣＣおよび塩基の存在下オマジンとブロモトリクロロメタンと反応させて式１５のブルモジフルオロメチル誘導体を製造する。
工程（１３’）：式１３のカルボン酸をＤＣＣおよび塩基の存在下オマジンとブロモトリクロロメタンと反応させて式１５のブルモジフルオロメチル誘導体を製造する。
また本発明に係る製造方法の第１１は、工程（１９）〜（２２）の後に、製造方法第９の工程（１８）を有し、あわせて５つの工程を有する前記製造方法である。
工程（１９）：式１１で表されるシクロヘキセニルジフルオロ酢酸エステルを、水素還元して式１８で表されるシクロヘキシルジフルオロ酢酸エステル誘導体を製造する。
工程（２０）：式１８で表されるシクロヘキシルジフルオロ酢酸エステル誘導体を加水分解して、式１９で表されるカルボン酸誘導体を製造する。
工程（２１）：式１９で表されるカルボン酸誘導体に、塩化チオニルを反応させて式２０で表される酸塩化物を製造する。
工程（２２）：式２０で表される酸塩化物に、ナトリウムオマジンとブロモトリクロロメタンを反応させて式１７で表されるシクロヘキシルブロモジフルオロメタン誘導体を製造する。
工程（１９）：式１１で表されるシクロヘキセニルジフルオロ酢酸エステルを、水素還元して式１８で表されるシクロヘキシルジフルオロ酢酸エステル誘導体を製造する。
工程（２０）：式１８で表されるシクロヘキシルジフルオロ酢酸エステル誘導体を加水分解して、式１９で表されるカルボン酸誘導体を製造する。
工程（２１）：式１９で表されるカルボン酸誘導体に、塩化チオニルを反応させて式２０で表される酸塩化物を製造する。
工程（２２）：式２０で表される酸塩化物に、ナトリウムオマジンとブロモトリクロロメタンを反応させて式１７で表されるシクロヘキシルブロモジフルオロメタン誘導体を製造する。
式中、Ｒ１、Ｒ３、環Ａ１、環Ａ２、環Ａ５、Ｚ１、Ｚ２、ｋ、ｌおよびｏは、それぞれ前記式１１、１２の意味と同一である。
また本発明に係る製造方法の第１２は、製造方法の第１１において工程（２１）および（２２）にかわりに工程（２１’）を有し、あわせて４つの工程を有する前記製造方法である。
工程（２１’）：式１９で表されるカルボン酸をＤＣＣおよび塩基の存在下オマジンとブロモトリクロロメタンと反応させて式１７で表されるブルモジフルオロメチル誘導体を製造する。
工程（２１’）：式１９で表されるカルボン酸をＤＣＣおよび塩基の存在下オマジンとブロモトリクロロメタンと反応させて式１７で表されるブルモジフルオロメチル誘導体を製造する。
さらには上記製造方法の第７において、工程（１２）〜（１５）の４工程を有するシクロヘキセニルジフルオロメチレンオキシ誘導体の製造方法である。
そしてさらには上記製造方法の第８において、工程（１２）、（１３’）および（１５）の３工程を有するシクロヘキセニルジフルオロメチレンオキシ誘導体の製造方法である。
さらに第３の出発原料を用いた本発明は、式２１で表されるシクロヘキシリデンジフルオロプロピオン酸エステルを出発原料とする、式２２で表されるジフルオロメチレンオキシ誘導体の製造方法である。
式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、環Ａ１、環Ａ２、Ｚ１、Ｚ２、Ｙ１、Ｙ２、Ｙ３、Ｙ４、ｋ、ｌ、ｍ、およびｎは、それぞれ前記式１１、１２の定義と同じである。
すなわち、本発明に係る製造方法の第１３は工程（２３）〜（２７）の５つの工程を有する前記製造方法である。
工程（２３）：式２１で表されるシクロヘキセニルジフルオロ酢酸エステルを、加水分解して式２３で表されるカルボン酸を製造する。
工程（２４）：式２３で表されるカルボン酸に、塩化チオニルを反応させて式２４で表される酸塩化物を製造する。
工程（２５）：式２４で表される酸塩化物に、ナトリウムオマジンとブロモトリクロロメタンを反応させて、式２５で表されるブロモジフルオロメチル誘導体を製造する。
工程（２６）：塩基の存在下で、式２５で表されるブロモジフルオロメチル誘導体を、前記工程（４）記載の式Ｐで表されるフェノール化合物と反応させて、式２６で表されるシクロヘキセニルジフルオロメチレンオキシ誘導体を製造する。
工程（２７）：式６で表されるシクロヘキセニルジフルオロメチレンオキシ誘導体を水素還元して式２２で表されるジフルオロメチレンオキシ誘導体を製造する。
工程（２３）：式２１で表されるシクロヘキセニルジフルオロ酢酸エステルを、加水分解して式２３で表されるカルボン酸を製造する。
工程（２４）：式２３で表されるカルボン酸に、塩化チオニルを反応させて式２４で表される酸塩化物を製造する。
工程（２５）：式２４で表される酸塩化物に、ナトリウムオマジンとブロモトリクロロメタンを反応させて、式２５で表されるブロモジフルオロメチル誘導体を製造する。
工程（２６）：塩基の存在下で、式２５で表されるブロモジフルオロメチル誘導体を、前記工程（４）記載の式Ｐで表されるフェノール化合物と反応させて、式２６で表されるシクロヘキセニルジフルオロメチレンオキシ誘導体を製造する。
工程（２７）：式６で表されるシクロヘキセニルジフルオロメチレンオキシ誘導体を水素還元して式２２で表されるジフルオロメチレンオキシ誘導体を製造する。
式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、環Ａ１、環Ａ２、環Ａ３、環Ａ４、Ｚ１、Ｚ２、Ｚ３、Ｚ４、Ｙ１、Ｙ２、Ｙ３、Ｙ４、ｋ、ｌ、ｍ、およびｎは、それぞれ前記式１、２の定義と同じである。
また本発明に係る製造方法の第１４は、製造方法の第１３において工程（２４）および（２５）にかわりに工程（２４’）を有し、あわせて４つの工程を有する前記製造方法である。
工程（２４’）：式２３で表されるカルボン酸をＤＣＣおよび塩基の存在下、オマジンとブロモトリクロロメタンと反応させて式２５で表されるブルモジフルオロメチル誘導体を製造する。
工程（２４’）：式２３で表されるカルボン酸をＤＣＣおよび塩基の存在下、オマジンとブロモトリクロロメタンと反応させて式２５で表されるブルモジフルオロメチル誘導体を製造する。
また本発明に係る製造方法の第１５は、工程（２３）〜（２５）の後に、工程（２８）および（２９）を有し、あわせて５つの工程を有する前記製造方法である。
工程（２８）：式２５で表されるブロモジフルオロメチル誘導体を、水素還元して式２７で表されるシクロヘキシルブロモジフルオロメタン誘導体を製造する。
工程（２９）：塩基の存在下で、式２７で表されるシクロヘキシルブロモジフルオロメタン誘導体を、前記工程（４）記載の式Ｐで表されるフェノール化合物と反応させて、式２で表されるジフルオロメチレンオキシ誘導体を製造する。
工程（２８）：式２５で表されるブロモジフルオロメチル誘導体を、水素還元して式２７で表されるシクロヘキシルブロモジフルオロメタン誘導体を製造する。
工程（２９）：塩基の存在下で、式２７で表されるシクロヘキシルブロモジフルオロメタン誘導体を、前記工程（４）記載の式Ｐで表されるフェノール化合物と反応させて、式２で表されるジフルオロメチレンオキシ誘導体を製造する。
式中、Ｒ１、環Ａ１、環Ａ２、Ｚ１、Ｚ２、ｋ、およびｌは、それぞれ前記式１、２の定義と同じである。
また本発明に係る製造方法の第１６は、製造方法の第１５において工程（２４）および（２５）にかわりに製造方法の第１３の工程（２４’）を有し、あわせて４つの工程を有するジフルオロメチレンオキシ誘導体の製造方法である。
また本発明に係る製造方法の第１７は、（３０）〜（３３）の後に、請求項２２に記載の（２９）を有し、あわせて５つの工程を有する前記製造方法である。
工程（３０）：式２１で表されるシクロヘキセニルジフルオロ酢酸エステルを、水素還元して式２８で表されるシクロヘキシルジフルオロ酢酸エステル誘導体を製造する。
工程（３１）：式２８で表されるシクロヘキシルジフルオロ酢酸エステル誘導体を加水分解して、式２９で表されるカルボン酸誘導体を製造する。
工程（３２）：式２９で表されるカルボン酸誘導体に、塩化チオニルを反応させて式３０で表される酸塩化物を製造する。
工程（３３）：式３０で表される酸塩化物に、ナトリウムオマジンとブロモトリクロロメタンを反応させて式２７で表されるシクロヘキシルブロモジフルオロメタン誘導体を製造する。
工程（３０）：式２１で表されるシクロヘキセニルジフルオロ酢酸エステルを、水素還元して式２８で表されるシクロヘキシルジフルオロ酢酸エステル誘導体を製造する。
工程（３１）：式２８で表されるシクロヘキシルジフルオロ酢酸エステル誘導体を加水分解して、式２９で表されるカルボン酸誘導体を製造する。
工程（３２）：式２９で表されるカルボン酸誘導体に、塩化チオニルを反応させて式３０で表される酸塩化物を製造する。
工程（３３）：式３０で表される酸塩化物に、ナトリウムオマジンとブロモトリクロロメタンを反応させて式２７で表されるシクロヘキシルブロモジフルオロメタン誘導体を製造する。
式中、Ｒ１、Ｒ３、環Ａ１、環Ａ２、Ｚ１、Ｚ２、ｋおよびｌは、それぞれ前記式１１、１２の定義と同じである。
また本発明に係る製造方法の第１８は、製造方法の第１７において工程（３２）および（３３）にかわりに工程（３２’）を有し、あわせて４つの工程を有する前記製造方法である。
工程（３２’）：式２９で表されるカルボン酸をＤＣＣおよび塩基の存在下オマジンとブロモトリクロロメタンと反応させて式２７で表されるブルモジフルオロメチル誘導体を製造する。
工程（３２’）：式２９で表されるカルボン酸をＤＣＣおよび塩基の存在下オマジンとブロモトリクロロメタンと反応させて式２７で表されるブルモジフルオロメチル誘導体を製造する。
さらには上記製造方法の第１３に記載の工程（２３）〜（２６）の４工程を有するシクロヘキセニルジフルオロメチレンオキシ誘導体の製造方法である。
そしてさらには上記製造方法の第１４に記載の工程（２３）、（２４’）および（２６）の３工程を有するシクロヘキセニルジフルオロメチレンオキシ誘導体の製造方法である。
さらに、本発明のジフルオロメチレンオキシ誘導体の製造方法を、より好適に行えるのは、式中の、Ｒ１が炭素数２〜５の直鎖のアルキル基であり；Ｒ２はそれぞれ独立して水素原子またはフッ素原子であり；Ｒ３がメチル基またはエチル基であり；環Ａ1がトランス−１，４−シクロヘキシレン基であり；ｋ＝１、ｌ＝０であり；Ｙ１およびＹ２が水素原子で；Ｙ３およびＹ４はそれぞれ独立して水素原子またはフッ素原子であり；ｍ＝ｎ＝０である場合である。
本発明の製造方法を用いることにより、ジフルオロメチルエーテル誘導体を、容易に安全にかつ高収率で製造することができる。腐食性が大きいまたは悪臭が強い試薬を使うことなく、収率が高く副生成物が少ない、スケールアップが容易であるジフルオロメチレンオキシ誘導体の製造方法を開発できた。
そして、この液晶性化合物を成分として、その化合物を構成する環、置換基、結合基などを適当に選択することにより、様々な液晶表示素子が所望する最適な物性を有する新たな液晶組成物を調製することができる。
そして、この液晶性化合物を成分として、その化合物を構成する環、置換基、結合基などを適当に選択することにより、様々な液晶表示素子が所望する最適な物性を有する新たな液晶組成物を調製することができる。
以下本発明の製造方法を、シクロヘキセニルジフルオロ酢酸エステルである化合物１を出発原料とする方法Ａと、ビニルジフルオロ酢酸エステル１１を出発原料とする方法Ｂと、シクロヘキシリデンプロピオン酸エステル２１を出発原料とする方法Ｃとに分けて説明する。
式１〜式３２で表される化合物を「化合物１」〜「化合物３２」と表わすことがある。
式１〜式３２で表される化合物を「化合物１」〜「化合物３２」と表わすことがある。
方法Ａ
方法Ａによる化合物２の製造方法は、化合物１を出発原料とする。
方法Ａによる化合物２の製造方法は、化合物１を出発原料とする。
式１と式２において、Ｒ１およびＲ２は水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、または、基中の任意の−ＣＨ２−は−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、または−Ｃ≡Ｃ−に置き換えられてもよいが、−Ｏ−が連続することはなく、また基中の任意の水素原子はフッ素原子で置き換えられてもよい炭素数１〜２０のアルキル基である。
Ｒ１およびＲ２としては、例えば水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、アルキル基、アルコキシ基、アルコキシアルキル基、アルキルチオ基、アルキルチオアルキル基、アルケニル基、アルケニルオキシ基、アルケニルチオ基、フッ素置換アルキル基、フッ素置換アルコキシ基、フッ素置換アルコキシアルキル基、フッ素置換アルケニル基、フッ素置換アルケニルチオ基、フッ素置換アルケニルオキシ基が好ましい。
Ｒ１およびＲ２としては、例えば水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、アルキル基、アルコキシ基、アルコキシアルキル基、アルキルチオ基、アルキルチオアルキル基、アルケニル基、アルケニルオキシ基、アルケニルチオ基、フッ素置換アルキル基、フッ素置換アルコキシ基、フッ素置換アルコキシアルキル基、フッ素置換アルケニル基、フッ素置換アルケニルチオ基、フッ素置換アルケニルオキシ基が好ましい。
ハロゲン原子としては、フッ素、塩素、臭素が好ましい。アルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、へプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基がより好ましい。アルコキシ基としては、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基、ペントキシ基、ヘプチルオキシ基、オクチルオキシ基が好ましい。アルコキシアルキル基としては、メトキシメチル基、エトキシメチル基、プロポキシメチル基、プロポキシエチル基、メトキシプロピル基、エトキシプロピル基、プロポキシプロピル基がより好ましい。アルキルチオ基としては、メチルチオ基、エチルチオ基、プロピルチオ基、ブチルチオ基、ペンチルチオ基、ヘキシルチオ基、ヘプチルチオ基、オクチルチオ基が好ましい。アルキルチオアルキル基としては、メチルチオメチル基、エチルチオメチル基、プロピルチオメチル基、ブチルチオメチル基、メチルチオエチル基、エチルチオエチル基、プロピルチオエチル基、メチルチオプロピル基、プロピルチオプロピル基が好ましい。
アルケニル基としては、ビニル基、１−プロペニル基、１−ブテニル基、１−ペンテニル基、３−ブテニル基、３−ペンテニル基が好ましい。アルケニルオキシ基としては、アリルオキシ基が好ましい。フッ素置換アルキル基としては、トリフルオロメチル基、フルオロメチル基、２−フルオロエチル基、ジフルオロメチル基、２，２，２−トリフルオロエチル基、１，１，２，２−テトラフルオロエチル基、２−フルオロエチル基、３−フルオロプロピル基、４−フルオロブチル基、５−フルオロペンチル基が好ましい。フッ素置換アルコキシ基としては、フルオロメトキシ基、トリフルオロメトキシ基、ジフルオロメトキシ基、ペンタフルオロエトキシ基、１，１，２，２−テトラフルオロエトキシ基、ペンタフルオロプロポキシ基、１，１，２，３，３，３−ヘキサフルオロプロポキシ基が好ましい。トリフルオロメトキシメチル基、フッ素置換アルケニル基としては、２−フルオロエテニル基、２，２−ジフルオロエテニル基、１，２，２−トリフルオロエテニル基、３−フルオロ−１−ブテニル基、４−フルオロ−１−ブテニル基が好ましい。フッ素置換アルケニルチオ基としては、トリフルオロメチルチオ基、ジフルオロメチルチオ基、１，１，２，２−テトラフルオロエチルチオ基、２，２，２−トリフルオロエチルチオ基が好ましい。
最も好適なＲ１およびＲ２は、炭素数２〜５の直鎖のアルキル基であり、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ペンチル基などが挙げられる。
式１において、Ｒ３は一価の有機基または無機基である。
一価の有機基としては、例えば、シアノ基、アルキル基、アルコキシ基、アルコキシアルキル基、アルキルチオ基、アルキルチオアルキル基、アルケニル基、アルケニルオキシ基、アルケニルチオ基、ハロゲンアルキル基、ハロゲン置換アルコキシ基、ハロゲン置換アルコキシアルキル基、ハロゲン置換アルケニル基、フッ素置換アルケニルチオ基、フッ素置換アルケニルオキシ基などが挙げられる。
一価の無機基としては、例えば、ハロゲン原子、金属原子などが挙げられる。ハロゲン原子としては、フッ素、塩素、臭素が好ましい。金属原子としては、ナトリウム、カリウム、カルシウム、マグネシウムが好ましい。
Ｒ３は、一価の有機基が好ましく、アルキル基がより好ましく、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、へプチル基、オクチル基、ノニル基およびデシル基がさらに好ましく、メチル基およびエチル基がもっと好ましい。
一価の有機基としては、例えば、シアノ基、アルキル基、アルコキシ基、アルコキシアルキル基、アルキルチオ基、アルキルチオアルキル基、アルケニル基、アルケニルオキシ基、アルケニルチオ基、ハロゲンアルキル基、ハロゲン置換アルコキシ基、ハロゲン置換アルコキシアルキル基、ハロゲン置換アルケニル基、フッ素置換アルケニルチオ基、フッ素置換アルケニルオキシ基などが挙げられる。
一価の無機基としては、例えば、ハロゲン原子、金属原子などが挙げられる。ハロゲン原子としては、フッ素、塩素、臭素が好ましい。金属原子としては、ナトリウム、カリウム、カルシウム、マグネシウムが好ましい。
Ｒ３は、一価の有機基が好ましく、アルキル基がより好ましく、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、へプチル基、オクチル基、ノニル基およびデシル基がさらに好ましく、メチル基およびエチル基がもっと好ましい。
式１と式２において、環Ａ１〜Ａ４はそれぞれ独立して、任意の−ＣＨ２−が−Ｏ−、−Ｓ−で置き換えられてもよい１，４−シクロヘキシレン基、＝ＣＨ−が＝Ｎ−で置き換えられてもよい１，４−フェニレン基、または、環の任意の水素原子がフッ素原子、シアノ基または炭素数１〜１０のアルキル基で置き換えられてもよい１，４−フェニレン基である。好ましくは、１、４−フェニレン基であり、さらに好ましくはトランス−１、４−フェニレン基である。
式１と式２おいてＹ１、Ｙ２、Ｙ３、およびＹ４はそれぞれ独立して、水素原子、ハロゲン原子、シアノ基または炭素数１〜１０のアルキル基である。Ｒ１およびＲ２としては、例えば水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、アルキル基、アルコキシ基、アルコキシアルキル基、アルキルチオ基、アルキルチオアルキル基、アルケニル基、アルケニルオキシ基、アルケニルチオ基、フッ素置換アルキル基、フッ素置換アルコキシ基、フッ素置換アルコキシアルキル基、フッ素置換アルケニル基、フッ素置換アルケニルチオ基、フッ素置換アルケニルオキシ基が好ましい。
ハロゲン原子としては、フッ素、塩素、臭素がより好ましい。アルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、へプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基がより好ましい。アルコキシ基としては、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基、ペントキシ基、ヘプチルオキシ基、オクチルオキシ基がより好ましい。アルコキシアルキル基としては、メトキシメチル基、エトキシメチル基、プロポキシメチル基、プロポキシエチル基、メトキシプロピル基、エトキシプロピル基、プロポキシプロピル基がより好ましい。アルキルチオ基としては、メチルチオ基、エチルチオ基、プロピルチオ基、ブチルチオ基、ペンチルチオ基、ヘキシルチオ基、ヘプチルチオ基、オクチルチオ基がより好ましい。
アルキルチオアルキル基としては、メチルチオメチル基、エチルチオメチル基、プロピルチオメチル基、ブチルチオメチル基、メチルチオエチル基、エチルチオエチル基、プロピルチオエチル基、メチルチオプロピル基、プロピルチオプロピル基より好ましい。アルケニル基としては、ビニル基、１−プロペニル基、１−ブテニル基、１−ペンテニル基、３−ブテニル基、３−ペンテニル基がより好ましい。アルケニルオキシ基としては、アリルオキシ基がより好ましい。フッ素置換アルキル基としては、トリフルオロメチル基、フルオロメチル基、２−フルオロエチル基、ジフルオロメチル基、２，２，２−トリフルオロエチル基、１，１，２，２−テトラフルオロエチル基、２−フルオロエチル基、３−フルオロプロピル基、４−フルオロブチル基、５−フルオロペンチル基がより好ましい。フッ素置換アルコキシ基としては、フルオロメトキシ基、トリフルオロメトキシ基、ジフルオロメトキシ基、ペンタフルオロエトキシ基、１，１，２，２−テトラフルオロエトキシ基、ペンタフルオロプロポキシ基、１，１，２，３，３，３−ヘキサフルオロプロポキシ基がより好ましい。トリフルオロメトキシメチル基、フッ素置換アルケニル基としては、２−フルオロエテニル基、２，２−ジフルオロエテニル基、１，２，２−トリフルオロエテニル基、３−フルオロ−１−ブテニル基、４−フルオロ−１−ブテニル基がより好ましい。フッ素置換アルケニルチオ基としては、トリフルオロメチルチオ基、ジフルオロメチルチオ基、１，１，２，２−テトラフルオロエチルチオ基、２，２，２−トリフルオロエチルチオ基がより好ましい。
最も好適なＹ１、Ｙ２、Ｙ３、およびＹ４は、水素原子、フッ素原子である。
最も好適なＹ１、Ｙ２、Ｙ３、およびＹ４は、水素原子、フッ素原子である。
式１、式２において、環Ａ１〜Ａ４はそれぞれ独立して、任意の−ＣＨ２−が−Ｏ−、−Ｓ−で置き換えられてもよい１，４−シクロヘキシレン基、任意の＝ＣＨ−が＝Ｎ−で置き換えられてもよい１，４−フェニレン基、または環上の任意の水素原子がフッ素原子、シアノ基または炭素数１〜１０のアルキル基で置き換えられてもよい１，４−フェニレン基であり、具体的には（ｒ−１）〜（ｒ−２１）で示される環構造のものなどが挙げられる。
環中の黒丸は、六員環の立体配置がトランスであることを示す。
環中の黒丸は、六員環の立体配置がトランスであることを示す。
式１、式２において、Ｚ１〜Ｚ４はそれぞれ独立して単結合または基中の任意の−ＣＨ２−が−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、または−Ｃ≡Ｃ−に置き換えられてもよい炭素数１〜４のアルキレン基である。ｋ、ｌ、ｍ、およびｎはそれぞれ独立して０または１である。
Ｚ１〜Ｚ４については具体的には単結合、１，２−エチレン、１，４−ブチレン、メチレンオキシ、オキシメチレン、プロピレンオキシ、オキシプロピレン、ビニレン、１（Ｅ）−１，４−ブテニレン、２（Ｚ）−１，４−ブテニレン、３（Ｅ）−１，４−ブテニレン、エチニレン、１，４−ブチニレン、１，１−ジフルオロ−１，２−エチレン、１，１，２，２−テトラフルオロ−１，２−エチレン、１，１−ジフルオロ−１，４−ブチレン等があげられる。
本発明の方法Ａには、合成経路１〜６が含まれる。
合成経路１は、
工程（１）：化合物１を加水分解して化合物３を製造する、
工程（２）：化合物３に塩化チオニルを反応させて酸塩化物４を製造する、
工程（３）：化合物４にナトリウムオマジンとブロモトリクロロメタンを反応させて化合物５を製造する、
工程（４）：化合物５を塩基存在下フェノール化合物Ｐと反応させて化合物６を製造する、
工程（５）：化合物６を水素還元して化合物２を製造する、
の５工程を有する。
合成経路１は、
工程（１）：化合物１を加水分解して化合物３を製造する、
工程（２）：化合物３に塩化チオニルを反応させて酸塩化物４を製造する、
工程（３）：化合物４にナトリウムオマジンとブロモトリクロロメタンを反応させて化合物５を製造する、
工程（４）：化合物５を塩基存在下フェノール化合物Ｐと反応させて化合物６を製造する、
工程（５）：化合物６を水素還元して化合物２を製造する、
の５工程を有する。
合成経路２は合成経路１において工程（２）および（３）のかわりに、
工程（２’）：ＤＣＣおよびＤＭＡＰの存在下、化合物３とオマジンおよびブロモトリクロロメタンとを反応させて化合物５を製造する、
の４工程を有する。
工程（２’）：ＤＣＣおよびＤＭＡＰの存在下、化合物３とオマジンおよびブロモトリクロロメタンとを反応させて化合物５を製造する、
の４工程を有する。
合成経路３は工程（１）〜（３）の後、
工程（６）：化合物５の水素還元して化合物７を製造する、
工程（７）：塩基存在下、化合物７をフェノール化合物Ｐと反応させて化合物２を製造する、
の５工程を有する。
工程（６）：化合物５の水素還元して化合物７を製造する、
工程（７）：塩基存在下、化合物７をフェノール化合物Ｐと反応させて化合物２を製造する、
の５工程を有する。
合成経路４は合成経路３において工程（２）および（３）のかわりに工程（２’）を有し、あわせて４工程を有する。
合成経路５は、
工程（８）：化合物１を水素還元して化合物８を製造する、
工程（９）：化合物８を加水分解してカルボン酸９を製造する、
工程（１０）：化合物９に塩化チオニルを反応させて酸塩化物１０を製造する、
工程（１１）：化合物１０にナトリウムオマジンとブロモトリクロロメタンを反応させて化合物７を製造する、
工程（７）：塩基存在下、化合物７をフェノール化合物Ｐと反応させて化合物２を製造する、
の５工程を有する。
工程（８）：化合物１を水素還元して化合物８を製造する、
工程（９）：化合物８を加水分解してカルボン酸９を製造する、
工程（１０）：化合物９に塩化チオニルを反応させて酸塩化物１０を製造する、
工程（１１）：化合物１０にナトリウムオマジンとブロモトリクロロメタンを反応させて化合物７を製造する、
工程（７）：塩基存在下、化合物７をフェノール化合物Ｐと反応させて化合物２を製造する、
の５工程を有する。
合成経路６は合成経路５において工程（１０）および（１１）のかわりに、
工程（１０’）：ＤＣＣおよびＤＭＡＰの存在下、化合物９とオマジンおよびブロモトリクロロメタンとを反応させて化合物７を製造する、
の４工程を有する。
工程（１０’）：ＤＣＣおよびＤＭＡＰの存在下、化合物９とオマジンおよびブロモトリクロロメタンとを反応させて化合物７を製造する、
の４工程を有する。
合成経路１について、説明する。
合成経路１は、工程（１）〜（５）の５つの工程を有する。
工程（１）
工程（１）は、化合物１を加水分解して化合物３を製造する。
合成経路１は、工程（１）〜（５）の５つの工程を有する。
工程（１）
工程（１）は、化合物１を加水分解して化合物３を製造する。
化合物１の製造方法
化合物１は、シクロヘキセニルジフルオロ酢酸エステル誘導体である。
化合物１は、シクロヘキセニルジフルオロ酢酸エステル誘導体である。
本発明のジフルオロメチレンオキシ誘導体の製造方法における方法Ａの出発原料となる化合物１は、当業者であれば容易に製造することができる。たとえば、C. R. Hauser and D. S. Breslow, Org. Syn., Coll. Vol., 3, 408 (1955). に記載の方法に準じて、シクロヘキサノン誘導体３４とブロモジフルオロ酢酸エステル３５を亜鉛粉末の存在下反応させてシクロヘキサノール誘導体３６とした後、たとえば、W. S. Allen and S. Bernstein, J. Am. Chem. Soc., 77, 1028 (1955). に記載の方法に準じて、化合物３６に塩化チオニルとピリジンを反応させことにより容易に製造することができる。
式中、Ｒ１、Ｒ３、環Ａ１、環Ａ２、Ｚ１、Ｚ２、ｋおよびｌは前記と同一の意味を表し、好ましいもの、具体例なども同じである。
シクロヘキサノン誘導体３４は、市販品あるいは新実験化学講座（丸善株式会社出版）等、有機合成の成書に記載されている方法にて容易に得られる。
シクロヘキサノン誘導体３４は、市販品あるいは新実験化学講座（丸善株式会社出版）等、有機合成の成書に記載されている方法にて容易に得られる。
この場合の反応条件としては、加水分解試薬には酸または塩基の水溶液を使用することができる。酸としては塩化水素、臭化水素が好ましく、塩基としては水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウムが好ましい。反応溶媒は水単独でもよいが、前記酸または塩基と反応しない有機溶媒との混合溶媒でもよい。水との混合溶媒として使用可能な有機溶媒としては、芳香族化合物、脂肪族炭化水素、脂環式炭化水素、脂肪族エーテル化合物、環状エーテル化合物、プロトン性有機溶媒、非プロトン性極性溶媒、ハロゲン化炭化水素を使用することが好ましい。芳香族化合物としては、ベンゼン、トルエン、クロロベンゼン、ブロモベンゼンが好ましい。脂肪族炭化水素としては、ヘキサン、ヘプタンが好ましい。脂環式炭化水素としては、シクロヘキサンが好ましい。脂肪族エーテル化合物としては、ジエチルエーテル、メチル−ｔｅｒｔ−ブチルエーテル、エチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテルが好ましい。環状エーテル化合物としては、テトラヒドロフラン（以下ＴＨＦと示す）、ジオキサンが好ましい。プロトン性有機溶媒としては、メタノール、エタノール、１−プロパノール、２−プロパノール、１−ブタノール、２−ブタノール、２−メチル−１−プロパノール、エチレングリコール、エチレングリコールモノメチルエーテルが好ましい。非プロトン性極性溶媒としては、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（以下ＤＭＦと示す）、ジメチルスルホキシド（以下ＤＭＳＯと示す）、アセトニトリルが好ましい。ハロゲン化炭化水素としては、ジクロロメタン、クロロホルム、四塩化炭素、１，２−ジクロロエタンが好ましい。また前記溶媒を混合しても加水分解反応を実施することができる。より好ましい反応溶媒は、化合物１の溶解度が大きく、かつ水とよく混ざり合う脂肪族エーテル化合物、環状エーテル化合物、あるいはプロトン性有機溶媒である。
溶媒の使用量については、反応が安全にかつ安定に実施できる量であればよい。好ましくは化合物１に対して重量で５〜２０倍量の範囲である。反応温度は、撹拌を良好に行える温度であればよい。化合物の構造にもよるが、−１０℃から８０℃までの範囲が好ましい。より好ましくは原料である化合物１または生成物３の−ＣＦ２−の加水分解を抑制し、かつ転化率を向上させることができる０℃〜４０℃の範囲である。酸または塩基の使用量は化合物１に対して当量以上であることが好ましい。より好ましくは、化合物１に対して１．５〜２．０当量の範囲である。該範囲であれば、原料である化合物１を完全に消費させることができる。また、反応時間については化合物の構造、反応温度に大きく依存するが、室温での反応時間は、約３０分である。
工程（２）
工程（２）は、化合物３に塩化チオニルを反応させて酸塩化物４を製造する工程である。
工程（２）は、化合物３に塩化チオニルを反応させて酸塩化物４を製造する工程である。
工程（２）の反応条件は、無溶媒または溶媒中でカルボン酸３と塩化チオニルとを混合することにより実施可能である。溶媒については、カルボン酸、塩化チオニルおよび酸塩化物のいずれとも反応しないものであれば使用可能である。反応溶媒としては、芳香族化合物、脂肪族炭化水素、脂環式炭化水素、脂肪族エーテル化合物、環状エーテル化合物、非プロトン性極性溶媒、ハロゲン原子化炭化水素を使用することが好ましい。例えば芳香族化合物としては、ベンゼン、トルエン、クロロベンゼン、ブロモベンゼンが好ましい。脂肪族炭化水素としては、ヘキサン、ヘプタンが好ましい。脂環式炭化水素としては、シクロヘキサンが好ましい。脂肪族エーテル化合物としては、ジエチルエーテル、メチル−ｔｅｒｔ−ブチルエーテル、エチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテルが好ましい。環状エーテル化合物としては、ＴＨＦ、ジオキサンが好ましい。非プロトン性極性溶媒としては、ＤＭＦ、ＤＭＳＯ、アセトニトリルが好ましい。ハロゲン原子化炭化水素としては、ジクロロメタン、クロロホルム、四塩化炭素、１，２−ジクロロエタンが好ましい。また前記溶媒を混合しても反応を実施することができる。より好ましい反応溶媒は、反応速度を向上させ、短時間に反応を完結させることができ、減圧濃縮での留去が容易な芳香族化合物、脂肪族炭化水素、脂環式炭化水素、脂肪族エーテル化合物、および環状エーテル化合物である。
溶媒の使用量については、反応が安全にかつ安定に実施できる量であればよい。好ましくは化合物３に対して重量で５〜２０倍量の範囲である。反応温度は、撹拌を良好に行える温度であればよい。化合物の構造にもよるが、２０℃〜２００℃の範囲が好ましい。より好ましい反応温度は原料である化合物３または生成物である化合物４の−ＣＦ２−の分解を抑制し、かつ転化率を向上させることができる４０℃〜６０℃の範囲である。塩化チオニルの使用量は化合物３に対して当量以上であることが好ましい。より好ましくは、化合物１に対して１．０５〜２．０当量の範囲である。この範囲であれば、原料である化合物３をほぼ完全に消費させることができる。また、反応時間については化合物の構造、反応温度に大きく依存するが、室温では反応開始後約３時間で反応は完結する。
溶媒を使用しない場合は、塩化チオニルを３に対して過剰量使用することになるが、その量は、反応が安全にかつ安定に実施できる量であればよい。好ましくは化合物３に対して１当量以上かつ重量で５〜２０倍量の範囲である。反応温度は、撹拌を良好に行える温度であればよい。化合物の構造にもよるが、２０℃から塩化チオニルの沸点である７９℃までの範囲が好ましい。より好ましくは原料である化合物３または生成物４の−ＣＦ２−の分解を抑制し、かつ転化率を向上させることができる４０℃〜６０℃の範囲である。
工程（３）
工程（３）は、化合物４にナトリウムオマジンとブロモトリクロロメタンを反応させて、脱炭酸臭素化を行い化合物５を製造する。
工程（３）の反応において、脱炭酸臭素化は、Bartonらの方法 (D. H. R. Barton, B. Lacher, and S. Z. Zard, Tetrahedron, 43, 4321 (1987).) に準じ、無溶媒または溶媒中で酸塩化物４にナトリウムオマジンとブロモトリクロロメタンとを反応させて行うことができる。溶媒については、酸塩化物、ナトリウムオマジン、およびブロモトリクロロメタンのいずれとも反応せず、反応中に発生するラジカルにも反応しないものであれば使用可能である。反応溶媒としては、芳香族化合物、完全塩素化炭化水素を使用することが好ましい。例えば芳香族化合物としては、ベンゼン、トルエン、クロロベンゼン、ｏ−ジクロロベンゼン、ブロモベンゼンが好ましい。完全塩素化炭化水素としては、四塩化炭素が好ましい。また前記溶媒を混合しても反応を実施することができる。より好ましい反応溶媒は、反応速度を向上させ、短時間に反応を完結させることができ、減圧下での留去が容易なベンゼン、トルエン、クロロベンゼン、および四塩化炭素である。
工程（３）は、化合物４にナトリウムオマジンとブロモトリクロロメタンを反応させて、脱炭酸臭素化を行い化合物５を製造する。
工程（３）の反応において、脱炭酸臭素化は、Bartonらの方法 (D. H. R. Barton, B. Lacher, and S. Z. Zard, Tetrahedron, 43, 4321 (1987).) に準じ、無溶媒または溶媒中で酸塩化物４にナトリウムオマジンとブロモトリクロロメタンとを反応させて行うことができる。溶媒については、酸塩化物、ナトリウムオマジン、およびブロモトリクロロメタンのいずれとも反応せず、反応中に発生するラジカルにも反応しないものであれば使用可能である。反応溶媒としては、芳香族化合物、完全塩素化炭化水素を使用することが好ましい。例えば芳香族化合物としては、ベンゼン、トルエン、クロロベンゼン、ｏ−ジクロロベンゼン、ブロモベンゼンが好ましい。完全塩素化炭化水素としては、四塩化炭素が好ましい。また前記溶媒を混合しても反応を実施することができる。より好ましい反応溶媒は、反応速度を向上させ、短時間に反応を完結させることができ、減圧下での留去が容易なベンゼン、トルエン、クロロベンゼン、および四塩化炭素である。
溶媒の使用量については、反応が安全にかつ安定に実施できる量であればよい。好ましくは化合物４に対して重量で５〜２０倍量の範囲である。反応温度は、撹拌を良好に行える温度であればよい。化合物の構造にもよるが、２０℃〜２００℃の範囲が好ましい。より好ましくは原料である化合物４または生成物５の−ＣＦ２−の分解を抑制し、かつ転化率を向上させることができる７０℃〜１２０℃の範囲である。ナトリウムオマジンの使用量は化合物４に対して当量以上であることが好ましい。より好ましくは、化合物４に対して１．０５〜２．０当量の範囲である。この範囲であれば、原料である化合物４をほぼ完全に消費させることができる。ブロモトリクロロメタンの使用量は化合物４に対して等モル以上であることが好ましい。より好ましくは、化合物４に対して１．０５〜５．０当量の範囲である。該範囲であれば、原料である化合物４をほぼ完全に消費させることができる。また、反応時間については化合物の構造、反応温度に大きく依存するが、室温では反応開始後約３０分で反応は完結する。
溶媒を使用しない場合は、ブロモトリクロロメタンを化合物４に対して過剰量使用することになるが、その量は、反応が安全にかつ安定に実施できる量であればよい。好ましくは化合物３に対して１当量以上かつ重量で５〜２０倍量の範囲である。反応温度は、撹拌を良好に行える温度であればよい。化合物の構造にもよるが、７０℃からブロモトリクロロメタンの沸点である１０５℃までの範囲が好ましい。
工程（３）の脱炭酸臭素化反応においては、ラジカル開始剤としてアゾ化合物を添加することにより反応速度を向上させることが可能である。アゾ化合物としては、２，２’−アゾビスイソブチロニトリル（以下、ＡＩＢＮと示す）、２，２’−アゾビス（４−メトキシ−２，４−ジメチルバレロニトリル）、２，２’−アゾビス（２−メチルプロピオンアミジン）ジヒドロクロリド、４，４’−アゾビス（４−シアノ基ペンタン酸）が好ましい。アゾ化合物の添加量は、化合物４に対して０．０３当量以上であることが好ましい。より好ましくは、化合物４に対して０．０５〜０．３当量の範囲である。
工程（４）
工程（４）は、化合物５を塩基の存在下でフェノール化合物Ｐと反応させて化合物６を製造する。すなわち、エーテル化させる工程である。
工程（４）は、化合物５を塩基の存在下でフェノール化合物Ｐと反応させて化合物６を製造する。すなわち、エーテル化させる工程である。
化合物Ｐ
エーテル化反応に使用するフェノール誘導体Ｐは、R. L. Kidwell等の方法（Org. Syn., Coll. Vol., 5, 918 (1973).）にしたがい製造することができる。まず、ブロモベンゼン誘導体Ｐ−１からグリニヤール試薬を調製する。該グリニヤール試薬にホウ酸トリアルキル基を反応させてホウ酸エステル誘導体調製する。これを過酸化物、例えば過酸化水素原子、過酢酸で酸化することによりフェノール誘導体Ｐを製造することができる。
エーテル化反応に使用するフェノール誘導体Ｐは、R. L. Kidwell等の方法（Org. Syn., Coll. Vol., 5, 918 (1973).）にしたがい製造することができる。まず、ブロモベンゼン誘導体Ｐ−１からグリニヤール試薬を調製する。該グリニヤール試薬にホウ酸トリアルキル基を反応させてホウ酸エステル誘導体調製する。これを過酸化物、例えば過酸化水素原子、過酢酸で酸化することによりフェノール誘導体Ｐを製造することができる。
式中、Ｒ２、環Ａ３、環Ａ４、Ｚ３、Ｚ４、Ｙ１、Ｙ２、Ｙ３、Ｙ４、ｍ、およびｎは前記と同一の意味を表し、Ｒ１０はアルキル基を表す。
また特開昭６２−１１７１６号公報、J. Fluorine Chem., 67, 41 (1994)、特開平３−２４６２４４号公報、特開昭６２−２０７２２９号公報、および特開平２−３４３３５号公報に記載の方法に準じてもフェノール誘導体Ｐの製造が可能である。
第４工程のエーテル化反応は、一般に知られているウィリアムソン反応の条件下で実施可能である。エーテル化反応に使用できる塩基としては、アルカリ金属水酸化物、アルカリ金属の炭酸塩、金属アルコキシド類、アルカリ金属の水素化物、酸化銀等金属酸化物、アミン類が好ましい。例えばアルカリ金属水酸化物としては、水酸化カリウム、水酸化ナトリウムが好ましい。例えばアルカリ金属の炭酸塩としては、炭酸カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸セシウムが好ましい。例えば金属アルコキシド類としては、ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド、カリウム−ｔｅｒｔ−ブトキシドが好ましい。例えばアルカリ金属の水素化物としては、水素化ナトリウムが好ましい。例えば金属酸化物としては、ジエチルアミン、トリエチルアミンが好ましい。より好ましくは、取り扱いが容易であるアルカリ金属水酸化物、アルカリ金属の炭酸塩である。
また塩基の使用量については、化合物５に対して当量以上であることが好ましい。より好ましくは、化合物５に対して２〜５当量の範囲である。該範囲であれば、反応の転化率を向上させることができる。反応溶媒については、化合物５、塩基、およびフェノール化合物Ｐのいずれとも反応しないものであれば何れも使用できる。反応溶媒としては、芳香族化合物、脂肪族炭化水素、脂環式炭化水素、脂肪族エーテル化合物、環状エーテル化合物、非プロトン性極性溶媒、あるいは水を使用することが好ましい。例えば芳香族化合物としては、ベンゼン、トルエンが好ましい。脂肪族炭化水素としては、ヘキサン、ヘプタンが好ましい。脂環式炭化水素としては、シクロヘキサンが好ましい。脂肪族エーテル化合物としては、ジエチルエーテル、メチル−ｔｅｒｔ−ブチルエーテル、エチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテルが好ましい。環状エーテル化合物としては、ＴＨＦ、ジオキサンが好ましい。非プロトン性極性溶媒としては、ＤＭＦ、ＤＭＳＯ、アセトニトリル、１−メチル−２−ピロリジノン（以下、ＮＭＰと示す）が好ましい。また前記溶媒を混合してもエーテル化反応を実施することができる。より好ましい反応溶媒は、反応速度を向上させ、短時間に反応を完結させることができる比較的沸点の高い芳香族化合物、環状エーテル化合物、および非プロトン性極性溶媒である。
溶媒の使用量については、反応が安全にかつ安定に実施できる量であればよい。好ましくは化合物５に対して重量で５〜２０倍量の範囲である。反応温度は、室温〜２００℃の範囲が好ましい。より好ましくは、化合物５および生成物６の−ＣＦ２−基の分解を抑制し、かつ転化率を向上させることができる８０℃〜１３０℃の範囲である。反応時間については、化合物５の種類、反応温度に大きく依存するが、８０〜１３０℃の範囲で実施する場合には１〜１０時間が好ましい。第４工程のエーテル化反応においては、ハロゲン化塩または第４級アンモニウム塩を添加することにより反応速度を向上させることが可能である。ハロゲン化塩としては、臭化カリウム、ヨウ化カリウムが好ましい。第４級アンモニウム塩としては、テトラアルキル基アンモニウムハライド、テトラアルキル基アンモニウムテトラフルオロボレートが好ましい。ハロゲン化塩または第４級アンモニウム塩の使用量は、化合物５に対して０．０３当量以上であることが好ましい。より好ましくは、化合物５に対して０．０５〜０．３当量の範囲である。
工程（５）
工程（５）は、化合物６を水素還元して化合物２を製造する。
第５工程での水素還元は、例えば西村重夫、高松弦著、接触水素化触媒（株式会社東京化学同人発行）等成書に記載の種々の金属触媒を使用して行うことができる。金属触媒としては、以下の金属からなる金属触媒が好ましい。例えば、ニッケル、コバルト、鉄、銅、モリブデン、タングステン、ルテニウム、ロジウム、白金、パラジウム、オスミウム、レニウム、イリジウム、クロム、チタン、ジルコニウムである。より好ましくは、ニッケル系触媒とパラジウム系触媒である。どちらも市販されており入手が容易であり、また取り扱いも容易である。ニッケル系触媒としてはラレーニッケル系触媒、パラジウム系触媒としてはパラジウム−炭素触媒がある。また金属触媒の使用量については、化合物６に対して１〜３０重量％の範囲であることが好ましい。より好ましくは、反応を効率的に進め、短時間にて反応を完結させることができる３〜１０重量％の範囲である。
工程（５）は、化合物６を水素還元して化合物２を製造する。
第５工程での水素還元は、例えば西村重夫、高松弦著、接触水素化触媒（株式会社東京化学同人発行）等成書に記載の種々の金属触媒を使用して行うことができる。金属触媒としては、以下の金属からなる金属触媒が好ましい。例えば、ニッケル、コバルト、鉄、銅、モリブデン、タングステン、ルテニウム、ロジウム、白金、パラジウム、オスミウム、レニウム、イリジウム、クロム、チタン、ジルコニウムである。より好ましくは、ニッケル系触媒とパラジウム系触媒である。どちらも市販されており入手が容易であり、また取り扱いも容易である。ニッケル系触媒としてはラレーニッケル系触媒、パラジウム系触媒としてはパラジウム−炭素触媒がある。また金属触媒の使用量については、化合物６に対して１〜３０重量％の範囲であることが好ましい。より好ましくは、反応を効率的に進め、短時間にて反応を完結させることができる３〜１０重量％の範囲である。
反応溶媒については、化合物６と反応しないものであれば何れも使用できる。反応溶媒としては、芳香族化合物、脂肪族炭化水素、脂環式炭化水素、脂肪族エーテル化合物、環状エーテル化合物、アルコール類を使用することが好ましい。芳香族化合物としては、ベンゼン、トルエンが好ましい。脂肪族炭化水素としては、ヘキサン、ヘプタンが好ましい。脂環式炭化水素としては、シクロヘキサンが好ましい。脂肪族エーテル化合物としては、ジエチルエーテル、メチル−ｔｅｒｔ−ブチルエーテル、エチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテルが好ましい。環状エーテル化合物としては、ＴＨＦ、ジオキサンが好ましい。アルコール類としては、エタノール、プロパノールが好ましい。より好ましい反応溶媒は、化合物６の溶解度が大きい芳香族化合物、アルコール類である。溶媒の使用量については、反応が安全にかつ安定に実施できる量であればよい。好ましくは化合物６に対して重量で５〜２０倍量の範囲である。
反応温度は、室温〜２００℃の範囲が好ましい。反応温度は、化合物６においてＹ１、Ｙ２、Ｙ３、およびＹ４の少なくと一つがハロゲン原子である化合物については置換されているハロゲン原子の水素還元を抑制することができる０℃〜室温の範囲であることがより好ましい。また０℃〜室温の範囲であれば、シクロヘキサン環のトランス選択性を向上させることもできる。水素圧については、大気圧〜５ＭＰａの範囲が好ましい。より好ましくは生成する２のシクロヘキサン環のトランス選択性を向上させ、かつ反応時間を短縮することができる０．１〜１ＭＰａの範囲である。反応時間については、化合物６の種類、反応温度に大きく依存するが、０℃〜室温の範囲で反応させる場合には、２〜１０時間が好ましい。本発明のジフルオロメチレンオキシ誘導体の各製造工程における生成物は通常有機合成で用いられる方法により分離することができる。例えば、反応物に水および抽出用の有機溶媒を加え撹拌する。有機層を分離後、水洗し、乾燥剤例えば無水硫酸ナトリウムあるいは無水硫酸マグネシウムで乾燥した後に、減圧下で有機溶媒を留去して、残渣として純度８０〜１００重量％の生成物を得ることができる。該残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー処理あるいは蒸留することにより純度９０〜１００重量％の生成物を得ることができる。この生成物を再結晶することにより純度９５〜１００重量％の生成物を得ることができる。
合成経路２
合成経路２は、合成経路１において工程（２）および（３）のかわりに工程（２’）を有する。
工程（１）
前記工程（１）で記載したものと同一である。
合成経路２は、合成経路１において工程（２）および（３）のかわりに工程（２’）を有する。
工程（１）
前記工程（１）で記載したものと同一である。
工程（２’）
工程（２’）はＤＣＣおよび塩基の存在下、カルボン酸３にオマジンとブロモトリクロロメタンとを反応させて化合物（５）を製造する。すなわち、カルボン酸を一段階で、脱炭酸臭素化する工程である。
工程（２’）はＤＣＣおよび塩基の存在下、カルボン酸３にオマジンとブロモトリクロロメタンとを反応させて化合物（５）を製造する。すなわち、カルボン酸を一段階で、脱炭酸臭素化する工程である。
工程（２’）の脱炭酸臭素化は、無溶媒または溶媒中でＤＣＣおよび塩基の存在下、カルボン酸３にオマジンとブロモトリクロロメタンとを反応させて行うことができる。溶媒については、カルボン酸、オマジン、およびブロモトリクロロメタンのいずれとも反応せず、反応中に発生するラジカルにも反応しないものであれば使用可能である。反応溶媒としては、芳香族化合物を使用することが好ましい。例えば芳香族化合物としては、ベンゼン、トルエン、クロロベンゼン、ｏ−ジクロロベンゼン、ブロモベンゼンが好ましい。また前記溶媒を混合しても反応を実施することができる。より好ましい反応溶媒は、反応速度を向上させ、短時間に反応を完結させることができ、減圧濃縮での留去が容易なベンゼン、トルエン、およびクロロベンゼンである。塩基については、ブロモトリクロロメタンと反応せず、反応中に発生するラジカルにも反応しないものであれば使用可能である。好ましくはＤＭＡＰ、ピリジン、２，６−ルチジン、トリエチルアミン、ジエチルアミン、キノリン、アニリン、１，５−ジアザビシクロ〔４．３．０〕ノネン（以下、ＤＢＮと示す）、１，８−ジアザビシクロ〔５．４．０〕ウンデセン（以下、ＤＢＵと示す）、１，４−ジアザビシクロ〔２．２．２〕オクテン（以下、ＤＡＢＣＯと示す）であり、より好ましくはＤＭＡＰ、ピリジン、トリエチルアミンである。
溶媒の使用量については、反応が安全にかつ安定に実施できる量であればよい。好ましくは化合物３に対して重量で５〜２０倍量の範囲である。反応温度は、撹拌を良好に行える温度であればよい。化合物の構造にもよるが、−２０℃〜２００℃の範囲が好ましい。より好ましくは原料である化合物３または生成物である化合物５の−ＣＦ２−基の分解を抑制し、かつ転化率を向上させることができる０℃〜７０℃の範囲である。オマジンの使用量は化合物３に対して当量以上であることが好ましい。より好ましくは、化合物３に対して１．０５〜２．０当量の範囲である。この範囲であれば、原料である化合物３をほぼ完全に消費させることができる。ブロモトリクロロメタンの使用量は化合物３に対して当量以上であることが好ましい。より好ましくは、化合物３に対して１．０５〜５．０当量の範囲である。この範囲であれば、原料である化合物３をほぼ完全に消費させることができる。また、反応時間については化合物の構造、反応温度に大きく依存するが、室温では反応開始後約８時間で反応は完結する。
溶媒を使用しない場合は、ブロモトリクロロメタンを３に対して過剰量使用することになるが、その量は、反応が安全にかつ安定に実施できる量であればよい。好ましくは化合物３に対して１当量以上かつ重量で５〜２０倍量の範囲である。反応温度は、撹拌を良好に行える温度であればよい。化合物の構造にもよるが、０℃からブロモトリクロロメタンの沸点である７０℃までの範囲が好ましい。
工程（２’）の脱炭酸臭素化反応においては、工程（３）と同様にラジカル開始剤としてアゾ化合物を添加することにより反応速度を向上させることが可能である。アゾ化合物としては、ＡＩＢＮ、２，２’−アゾビス（４−メトキシ−２，４−ジメチルバレロニトリル）、２，２’−アゾビス（２−メチルプロピオンアミジン）ジヒドロクロリド、４，４’−アゾビス（４−シアノ基ペンタン酸）が好ましい。アゾ化合物の添加量は、化合物３に対して０．０３当量以上であることが好ましい。より好ましくは、化合物３に対して０．０５〜０．３当量の範囲である。
加熱やラジカル開始剤を使用するかわりに、またはそれらと併せて光を照射して反応を促進させることが可能である。照射光は紫外および可視光が使用でき、その波長は化合物の構造にもよるが、１０〜７００ｎｍの範囲が好ましい。光源としては自然光、電灯光はもちろん、光化学反応装置用光源が使用できる。
塩基の使用量については、化合物３に対して０〜１０ｍｏｌ％が好ましい。より好ましくは、化合物３に対して０．５〜５ｍｏｌ％の範囲である。
工程（４）
前記工程（４）で記載したものと同一である。
前記工程（４）で記載したものと同一である。
工程（５）
前記工程（５）で記載したものと同一である。
本発明のジフルオロメチレンオキシ誘導体の各製造工程における生成物は通常有機合成で用いられる方法により分離することができる。例えば、反応物に水および抽出用の有機溶媒を加え撹拌する。有機層を分離後、水洗し、乾燥剤例えば無水硫酸ナトリウムあるいは無水硫酸マグネシウムで乾燥した後に、減圧下で有機溶媒を留去して、残渣として純度８０重量％以上の生成物を得ることができる。該残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー処理あるいは蒸留することにより純度９０重量％以上の生成物を得ることができる。該純度９０重量％以上の生成物を再結晶することにより純度９５重量％以上の生成物を得ることができる。
前記工程（５）で記載したものと同一である。
本発明のジフルオロメチレンオキシ誘導体の各製造工程における生成物は通常有機合成で用いられる方法により分離することができる。例えば、反応物に水および抽出用の有機溶媒を加え撹拌する。有機層を分離後、水洗し、乾燥剤例えば無水硫酸ナトリウムあるいは無水硫酸マグネシウムで乾燥した後に、減圧下で有機溶媒を留去して、残渣として純度８０重量％以上の生成物を得ることができる。該残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー処理あるいは蒸留することにより純度９０重量％以上の生成物を得ることができる。該純度９０重量％以上の生成物を再結晶することにより純度９５重量％以上の生成物を得ることができる。
合成経路３
合成経路３は、化合物５を製造する工程（１）〜（３）までは合成経路１と同じで、化合物５を水素還元して７を製造する工程（６）と、化合物７を塩基の存在下フェノール化合物Ｐと反応させて化合物２を製造する工程（７）とからなる。
合成経路３は、化合物５を製造する工程（１）〜（３）までは合成経路１と同じで、化合物５を水素還元して７を製造する工程（６）と、化合物７を塩基の存在下フェノール化合物Ｐと反応させて化合物２を製造する工程（７）とからなる。
工程（１）
前記工程（１）で記載したものと同一である。
前記工程（１）で記載したものと同一である。
工程（２）
前記工程（２）で記載したものと同一である。
前記工程（２）で記載したものと同一である。
工程（３）
前記工程（３）で記載したものと同一である。
前記工程（３）で記載したものと同一である。
工程（６）
工程（６）の水素還元反応は、例えば西村重夫、高松弦著、接触水素化触媒（株式会社東京化学同人発行）等成書に記載の種々の金属触媒を使用して行うことができる。水素還元反応に使用できる触媒をはじめ、水素還元反応の条件は前記合成経路１の工程（５）で記載した条件と同様である。
工程（６）の水素還元反応は、例えば西村重夫、高松弦著、接触水素化触媒（株式会社東京化学同人発行）等成書に記載の種々の金属触媒を使用して行うことができる。水素還元反応に使用できる触媒をはじめ、水素還元反応の条件は前記合成経路１の工程（５）で記載した条件と同様である。
工程（７）
工程（７）は、化合物７を塩基の存在下でフェノール化合物Ｐと反応させて化合物２を製造する。すなわち、エーテル化させる工程である。
工程（７）は、化合物７を塩基の存在下でフェノール化合物Ｐと反応させて化合物２を製造する。すなわち、エーテル化させる工程である。
化合物Ｐ
エーテル化反応に使用するフェノール誘導体Ｐは、前記合成経路１の工程（４）で記載したフェノール誘導体Ｐと同様である。
エーテル化反応に使用するフェノール誘導体Ｐは、前記合成経路１の工程（４）で記載したフェノール誘導体Ｐと同様である。
工程（５）のエーテル化反応は、一般に知られるウィリアムソン反応の条件下で実施が可能である。エーテル化反応に使用できる塩基をはじめ、エーテル化反応の条件は前記合成経路１の第４工程で記載した条件と同様である。本発明のジフルオロメチレンオキシ誘導体の各製造工程における生成物は通常有機合成で用いられる方法により分離することができる。例えば、反応物に水および抽出用の有機溶媒を加え撹拌する。有機層を分離後、水洗し、乾燥剤例えば無水硫酸ナトリウムあるいは無水硫酸マグネシウムで乾燥した後に、減圧下で有機溶媒を留去して、残渣として純度８０〜１００重量％の生成物を得ることができる。該残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー処理あるいは蒸留することにより純度９０〜１００重量％の生成物を得ることができる。この生成物を再結晶することにより純度９５〜１００重量％の生成物を得ることができる。
合成経路４
合成経路４は、合成経路３において工程（２）および（３）のかわりに工程（２’）を有する。
工程（１）
前記工程（１）で記載したものと同一である。
合成経路４は、合成経路３において工程（２）および（３）のかわりに工程（２’）を有する。
工程（１）
前記工程（１）で記載したものと同一である。
工程（２’）
前記工程（２’）で記載したものと同一である。
前記工程（２’）で記載したものと同一である。
工程（６）
前記工程（６）で記載したものと同一である。
前記工程（６）で記載したものと同一である。
工程（７）
前記工程（７）で記載したものと同一である。本発明のジフルオロメチレンオキシ誘導体の各製造工程における生成物は通常有機合成で用いられる方法により分離することができる。例えば、反応物に水および抽出用の有機溶媒を加え撹拌する。有機層を分離後、水洗し、乾燥剤例えば無水硫酸ナトリウムあるいは無水硫酸マグネシウムで乾燥した後に、減圧下で有機溶媒を留去して、残渣として純度８０〜１００重量％の生成物を得ることができる。該残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー処理あるいは蒸留することにより純度９０〜１００重量％の生成物を得ることができる。この生成物を再結晶することにより純度９５〜１００重量％の生成物を得ることができる。
前記工程（７）で記載したものと同一である。本発明のジフルオロメチレンオキシ誘導体の各製造工程における生成物は通常有機合成で用いられる方法により分離することができる。例えば、反応物に水および抽出用の有機溶媒を加え撹拌する。有機層を分離後、水洗し、乾燥剤例えば無水硫酸ナトリウムあるいは無水硫酸マグネシウムで乾燥した後に、減圧下で有機溶媒を留去して、残渣として純度８０〜１００重量％の生成物を得ることができる。該残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー処理あるいは蒸留することにより純度９０〜１００重量％の生成物を得ることができる。この生成物を再結晶することにより純度９５〜１００重量％の生成物を得ることができる。
合成経路５
合成経路５は、化合物１を水素還元して化合物８を製造する工程（８）と、化合物８を加水分解してカルボン酸誘導体９を製造する工程（９）と、化合物９に塩化チオニルを反応させて酸塩化物１０を製造する工程（１０）と、化合物１０にナトリウムオマジンとブロモトリクロロメタンを反応させて化合物７を製造する工程（１１）と、化合物７を塩基存在下フェノール化合物Ｐと反応させて化合物２を製造する工程（７）とからなる。
合成経路５は、化合物１を水素還元して化合物８を製造する工程（８）と、化合物８を加水分解してカルボン酸誘導体９を製造する工程（９）と、化合物９に塩化チオニルを反応させて酸塩化物１０を製造する工程（１０）と、化合物１０にナトリウムオマジンとブロモトリクロロメタンを反応させて化合物７を製造する工程（１１）と、化合物７を塩基存在下フェノール化合物Ｐと反応させて化合物２を製造する工程（７）とからなる。
工程（８）
工程（８）は、化合物１を水素還元して化合物８を製造する。
工程（８）は、化合物１を水素還元して化合物８を製造する。
化合物１は、
前記合成経路１で記載の化合物１の製造方法に準じて、製造できる。
工程（８）での水素還元反応は、例えば西村重夫、高松弦著、接触水素化触媒（株式会社東京化学同人発行）等成書に記載の種々の金属触媒を使用して行うことができる。水素還元反応に使用できる触媒をはじめ、水素還元反応の条件は前記合成経路１の工程（５）で記載した条件と同様である。
前記合成経路１で記載の化合物１の製造方法に準じて、製造できる。
工程（８）での水素還元反応は、例えば西村重夫、高松弦著、接触水素化触媒（株式会社東京化学同人発行）等成書に記載の種々の金属触媒を使用して行うことができる。水素還元反応に使用できる触媒をはじめ、水素還元反応の条件は前記合成経路１の工程（５）で記載した条件と同様である。
工程（９）
工程（９）は、化合物８を加水分解してカルボン酸９を製造する。
工程（９）の加水分解反応は、一般に知られるエステルの酸またはアルカリ加水分解の条件下で実施が可能である。加水分解反応に使用できる酸および塩基をはじめ、加水分解反応の条件は前記合成経路１の工程（１）で記載した条件と同様である。
工程（９）は、化合物８を加水分解してカルボン酸９を製造する。
工程（９）の加水分解反応は、一般に知られるエステルの酸またはアルカリ加水分解の条件下で実施が可能である。加水分解反応に使用できる酸および塩基をはじめ、加水分解反応の条件は前記合成経路１の工程（１）で記載した条件と同様である。
工程（１０）
工程（１０）は、化合物９に塩化チオニルを反応させて酸塩化物４を製造する工程である。
工程（１０）の反応は、無溶媒または溶媒中でカルボン酸９と塩化チオニルとを混合することにより実施可能である。酸塩化物合成反応の条件は前記合成経路１の工程（２）で記載した条件と同様である。
工程（１０）は、化合物９に塩化チオニルを反応させて酸塩化物４を製造する工程である。
工程（１０）の反応は、無溶媒または溶媒中でカルボン酸９と塩化チオニルとを混合することにより実施可能である。酸塩化物合成反応の条件は前記合成経路１の工程（２）で記載した条件と同様である。
工程（１１）
工程（１１）は、化合物１０にナトリウムオマジンとブロモトリクロロメタンを反応させて脱炭酸臭素化を行い化合物７を製造する。
工程（１１）の脱炭酸臭素化は、Bartonらの方法 (D. H. R. Barton, B. Lacher, and S. Z. Zard, Tetrahedron, 43, 4321 (1987).) に準じ、無溶媒または溶媒中で酸塩化物４にナトリウムオマジンとブロモトリクロロメタンとを反応させて行うことができる。脱炭酸臭素化反応の条件は前記合成経路１の工程（３）で記載した条件と同様である。
工程（１１）は、化合物１０にナトリウムオマジンとブロモトリクロロメタンを反応させて脱炭酸臭素化を行い化合物７を製造する。
工程（１１）の脱炭酸臭素化は、Bartonらの方法 (D. H. R. Barton, B. Lacher, and S. Z. Zard, Tetrahedron, 43, 4321 (1987).) に準じ、無溶媒または溶媒中で酸塩化物４にナトリウムオマジンとブロモトリクロロメタンとを反応させて行うことができる。脱炭酸臭素化反応の条件は前記合成経路１の工程（３）で記載した条件と同様である。
工程（７）
前記合成経路３の工程（７）で記載したものと同一である。本発明のジフルオロメチレンオキシ誘導体の各製造工程における生成物は通常有機合成で用いられる方法により分離することができる。例えば、反応物に水および抽出用の有機溶媒を加え撹拌する。有機層を分離後、水洗し、乾燥剤例えば無水硫酸ナトリウムあるいは無水硫酸マグネシウムで乾燥した後に、減圧下で有機溶媒を留去して、残渣として純度８０〜１００重量％の生成物を得ることができる。該残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー処理あるいは蒸留することにより純度９０〜１００重量％の生成物を得ることができる。この生成物を再結晶することにより純度９５〜１００重量％の生成物を得ることができる。
前記合成経路３の工程（７）で記載したものと同一である。本発明のジフルオロメチレンオキシ誘導体の各製造工程における生成物は通常有機合成で用いられる方法により分離することができる。例えば、反応物に水および抽出用の有機溶媒を加え撹拌する。有機層を分離後、水洗し、乾燥剤例えば無水硫酸ナトリウムあるいは無水硫酸マグネシウムで乾燥した後に、減圧下で有機溶媒を留去して、残渣として純度８０〜１００重量％の生成物を得ることができる。該残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー処理あるいは蒸留することにより純度９０〜１００重量％の生成物を得ることができる。この生成物を再結晶することにより純度９５〜１００重量％の生成物を得ることができる。
合成経路６
合成経路６は、合成経路５において工程（１０）および（１１）のかわりに工程（１０’）を有する。
工程（８）
前記工程（８）で記載したものと同一である。
合成経路６は、合成経路５において工程（１０）および（１１）のかわりに工程（１０’）を有する。
工程（８）
前記工程（８）で記載したものと同一である。
工程（９）
前記工程（９）で記載したものと同一である。
前記工程（９）で記載したものと同一である。
工程（１０’）
工程（１０’）はＤＣＣおよび塩基の存在下、カルボン酸９にオマジンとブロモトリクロロメタンとを反応させて化合物（７）を製造する。すなわち、カルボン酸を一段階で脱炭酸臭素化する工程である。脱炭酸臭素化の反応条件は前記合成経路２の工程（２’）で記載した条件と同様である。
工程（１０’）はＤＣＣおよび塩基の存在下、カルボン酸９にオマジンとブロモトリクロロメタンとを反応させて化合物（７）を製造する。すなわち、カルボン酸を一段階で脱炭酸臭素化する工程である。脱炭酸臭素化の反応条件は前記合成経路２の工程（２’）で記載した条件と同様である。
工程（７）
前記合成経路５の工程（７）で記載したものと同一である。本発明のジフルオロメチレンオキシ誘導体の各製造工程における生成物は通常有機合成で用いられる方法により分離することができる。例えば、反応物に水および抽出用の有機溶媒を加え撹拌する。有機層を分離後、水洗し、乾燥剤例えば無水硫酸ナトリウムあるいは無水硫酸マグネシウムで乾燥した後に、減圧下で有機溶媒を留去して、残渣として純度８０〜１００重量％の生成物を得ることができる。該残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー処理あるいは蒸留することにより純度９０〜１００重量％の生成物を得ることができる。この生成物を再結晶することにより純度９５〜１００重量％の生成物を得ることができる。
前記合成経路５の工程（７）で記載したものと同一である。本発明のジフルオロメチレンオキシ誘導体の各製造工程における生成物は通常有機合成で用いられる方法により分離することができる。例えば、反応物に水および抽出用の有機溶媒を加え撹拌する。有機層を分離後、水洗し、乾燥剤例えば無水硫酸ナトリウムあるいは無水硫酸マグネシウムで乾燥した後に、減圧下で有機溶媒を留去して、残渣として純度８０〜１００重量％の生成物を得ることができる。該残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー処理あるいは蒸留することにより純度９０〜１００重量％の生成物を得ることができる。この生成物を再結晶することにより純度９５〜１００重量％の生成物を得ることができる。
方法Ｂ
本発明の化合物１２の製造方法は、化合物１１を出発原料とするものである。
本発明の化合物１２の製造方法は、化合物１１を出発原料とするものである。
本発明の方法Ｂにより製造可能なジフルオロメチレンオキシ誘導体は化合物１２で表される。化合物１２において、Ｒ１、Ｒ２、環Ａ１〜環Ａ４、Ｙ１〜Ｙ４、Ｚ１〜Ｚ４、ｋ、ｌ、ｍ、およびｎは化合物２と同じものを表す。また、環Ａ５は環Ａ１〜Ａ４と同様であるが、環Ａ１〜環Ａ４とは独立である。ｏは１〜１０の整数を表す。
本発明の方法Ｂには、 合成経路７〜１２が含まれる。
本発明の方法Ｂには、 合成経路７〜１２が含まれる。
合成経路７は
工程（１２）：化合物１１を加水分解してカルボン酸誘導体１３を製造する、
工程（１３）：化合物１３に塩化チオニルを反応させて酸塩化物１４を製造する、
工程（１４）：化合物１４にナトリウムオマジンとブロモトリクロロメタンを反応させて脱炭酸臭素化を行い化合物１５を製造する、
工程（１５）：化合物１５を塩基の存在下フェノール化合物Ｐと反応させて化合物１６を製造する、
工程（１６）：化合物１６を水素還元して化合物１２を製造する、
の５工程を有する。
工程（１２）：化合物１１を加水分解してカルボン酸誘導体１３を製造する、
工程（１３）：化合物１３に塩化チオニルを反応させて酸塩化物１４を製造する、
工程（１４）：化合物１４にナトリウムオマジンとブロモトリクロロメタンを反応させて脱炭酸臭素化を行い化合物１５を製造する、
工程（１５）：化合物１５を塩基の存在下フェノール化合物Ｐと反応させて化合物１６を製造する、
工程（１６）：化合物１６を水素還元して化合物１２を製造する、
の５工程を有する。
合成経路８は合成経路７において工程（１３）および（１４）のかわりに
工程（１３’）：ＤＣＣおよびＤＭＡＰの存在下、化合物１３とオマジンおよびブロモトリクロロメタンとを反応させて化合物１５を製造する、
の４工程を有する。
工程（１３’）：ＤＣＣおよびＤＭＡＰの存在下、化合物１３とオマジンおよびブロモトリクロロメタンとを反応させて化合物１５を製造する、
の４工程を有する。
合成経路９は工程（１２）〜（１４）の後、
工程（１７）：化合物１５を水素還元して化合物１７を製造する、
工程（１８）：化合物１７を塩基の存在下フェノール化合物Ｐと反応させて化合物１２を製造する、
の５工程を有する。
工程（１７）：化合物１５を水素還元して化合物１７を製造する、
工程（１８）：化合物１７を塩基の存在下フェノール化合物Ｐと反応させて化合物１２を製造する、
の５工程を有する。
合成経路１０は合成経路９において工程（１３）および（１４）のかわりに工程（１３’）を有し、あわせて４工程を有する。
合成経路１１は
工程（１９）：化合物１１を水素還元して化合物１８を製造する、
工程（２０）：化合物１８を加水分解してカルボン酸誘導体１９を製造する、
工程（２１）：化合物１９に塩化チオニルを反応させて酸塩化物２０を製造する、
工程（２２）：化合物２０にナトリウムオマジンとブロモトリクロロメタンを反応させて脱炭酸臭素化を行い化合物１７を製造する、
工程（１８）：化合物１７を塩基の存在下フェノール化合物Ｐと反応させて化合物１２を製造する、
の５工程を有する。
工程（１９）：化合物１１を水素還元して化合物１８を製造する、
工程（２０）：化合物１８を加水分解してカルボン酸誘導体１９を製造する、
工程（２１）：化合物１９に塩化チオニルを反応させて酸塩化物２０を製造する、
工程（２２）：化合物２０にナトリウムオマジンとブロモトリクロロメタンを反応させて脱炭酸臭素化を行い化合物１７を製造する、
工程（１８）：化合物１７を塩基の存在下フェノール化合物Ｐと反応させて化合物１２を製造する、
の５工程を有する。
合成経路１２は合成経路１１において工程（２１）および（２２）のかわりに
工程（２１’）：ＤＣＣおよびＤＭＡＰの存在下、化合物１９とオマジンおよびブロモトリクロロメタンとを反応させて化合物１７を製造する、
の４工程を有する。
工程（２１’）：ＤＣＣおよびＤＭＡＰの存在下、化合物１９とオマジンおよびブロモトリクロロメタンとを反応させて化合物１７を製造する、
の４工程を有する。
合成経路７
合成経路７は、工程（１２）〜（１６）の５つの工程とからなる。
合成経路７は、工程（１２）〜（１６）の５つの工程とからなる。
工程（１２）
工程（１２）は、化合物１１を加水分解してカルボン酸誘導体１３を製造する。
工程（１２）は、化合物１１を加水分解してカルボン酸誘導体１３を製造する。
化合物１１
化合物１１は、ビニルジフルオロ酢酸エステル誘導体である。本発明のジフルオロメチレンオキシ誘導体の製造方法における方法Ｂの出発原料となる化合物１１は、当業者であれば容易に製造することができる。たとえば、C. R. Hauser and D. S. Breslow, Org. Syn., Coll. Vol., 3, 408 (1955). に記載の方法に準じて、シクロヘキシルアセトアルデヒド誘導体３７とブロモジフルオロ酢酸エステル３５を亜鉛粉末の存在下反応させて化合物３８とした後、たとえば、W. S. Allen and S. Bernstein, J. Am. Chem. Soc., 77, 1028 (1955). に記載の方法に準じて、化合物３８に塩化チオニルとピリジンを反応さることにより容易に製造することができる。
化合物１１は、ビニルジフルオロ酢酸エステル誘導体である。本発明のジフルオロメチレンオキシ誘導体の製造方法における方法Ｂの出発原料となる化合物１１は、当業者であれば容易に製造することができる。たとえば、C. R. Hauser and D. S. Breslow, Org. Syn., Coll. Vol., 3, 408 (1955). に記載の方法に準じて、シクロヘキシルアセトアルデヒド誘導体３７とブロモジフルオロ酢酸エステル３５を亜鉛粉末の存在下反応させて化合物３８とした後、たとえば、W. S. Allen and S. Bernstein, J. Am. Chem. Soc., 77, 1028 (1955). に記載の方法に準じて、化合物３８に塩化チオニルとピリジンを反応さることにより容易に製造することができる。
式中、Ｒ１、Ｒ３、環Ａ１、環Ａ２、環Ａ５、Ｚ１、Ｚ２、ｋおよびｌは前記と同一の意味を表し、好ましいもの、具体例なども前記と同じである。
シクロヘキサノン誘導体３４は、市販品あるいは新実験化学講座（丸善株式会社出版）等、有機合成の成書に記載されている方法にて容易に得られる。
シクロヘキサノン誘導体３４は、市販品あるいは新実験化学講座（丸善株式会社出版）等、有機合成の成書に記載されている方法にて容易に得られる。
加水分解試薬には酸または塩基の水溶液を使用することができる。酸としては塩化水素、臭化水素が好ましく、塩基としては水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウムが好ましい。反応溶媒は、前記方法Ａの合成経路１の第１工程で使用することが好ましい反応溶媒として記載したものと同じである。溶媒の使用量、反応温度、酸またはアルカリの使用量および反応時間についても同様である。
工程（１３）
工程（１３）は、化合物１３に塩化チオニルを反応させて酸塩化物１４を製造する。
工程（１３）の反応条件は前記方法Ａの合成経路１の工程（２）で記載したものと同様である。
工程（１３）は、化合物１３に塩化チオニルを反応させて酸塩化物１４を製造する。
工程（１３）の反応条件は前記方法Ａの合成経路１の工程（２）で記載したものと同様である。
工程（１４）
工程（１４）は、化合物１４にナトリウムオマジンとブロモトリクロロメタンを反応させて脱炭酸臭素化を行い化合物１５を製造する。
工程（１４）の脱炭酸臭素化反応の反応条件は前記方法Ａの合成経路１の工程（３）で記載したものと同様である。
工程（１４）は、化合物１４にナトリウムオマジンとブロモトリクロロメタンを反応させて脱炭酸臭素化を行い化合物１５を製造する。
工程（１４）の脱炭酸臭素化反応の反応条件は前記方法Ａの合成経路１の工程（３）で記載したものと同様である。
工程（１５）
工程（１５）は、化合物１５を塩基の存在下フェノール化合物Ｐと反応させて化合物１６を製造する。すなわち、エーテル化させる工程である。
工程（１５）は、化合物１５を塩基の存在下フェノール化合物Ｐと反応させて化合物１６を製造する。すなわち、エーテル化させる工程である。
化合物Ｐ
エーテル化反応に使用するフェノール誘導体Ｐは、前記方法Ａの合成経路１の工程（４）で記載したフェノール誘導体Ｐと同様である。
工程（１５）のエーテル化反応は、一般に知られているウィリアムソン反応の条件下で実施が可能である。エーテル化反応に使用できる塩基をはじめ、エーテル化反応の条件は前記方法Ａの合成経路１の工程（４）に記載した条件と同様である。
エーテル化反応に使用するフェノール誘導体Ｐは、前記方法Ａの合成経路１の工程（４）で記載したフェノール誘導体Ｐと同様である。
工程（１５）のエーテル化反応は、一般に知られているウィリアムソン反応の条件下で実施が可能である。エーテル化反応に使用できる塩基をはじめ、エーテル化反応の条件は前記方法Ａの合成経路１の工程（４）に記載した条件と同様である。
工程（１６）
工程（１６）は、化合物１６を水素還元して化合物１２を製造する。
工程（１６）での水素還元における触媒およびその使用量ならびに反応溶媒およびその使用量は、前記方法Ａの合成経路１の工程（５）で記載した条件と同様である。反応温度は、化合物１６においてＹ１、Ｙ２、Ｙ３、およびＹ４のいづれか一つ以上がハロゲン原子で置換されている化合物については置換されているハロゲン原子の水素還元を抑制することができる０℃〜室温の範囲であることがより好ましい。反応時間については、化合物１６の種類、反応温度に大きく依存するが、０℃〜室温の範囲で実施する場合には、２〜１０時間が好ましい。本発明のジフルオロメチレンオキシ誘導体の各製造工程における生成物は通常有機合成で用いられる方法により分離することができる。例えば、反応物に水および抽出用の有機溶媒を加え撹拌する。有機層を分離後、水洗し、乾燥剤例えば無水硫酸ナトリウムあるいは無水硫酸マグネシウムで乾燥した後に、減圧下で有機溶媒を留去して、残渣として純度８０〜１００重量％の生成物を得ることができる。該残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー処理あるいは蒸留することにより純度９０〜１００重量％の生成物を得ることができる。この生成物を再結晶することにより純度９５〜１００重量％の生成物を得ることができる。
工程（１６）は、化合物１６を水素還元して化合物１２を製造する。
工程（１６）での水素還元における触媒およびその使用量ならびに反応溶媒およびその使用量は、前記方法Ａの合成経路１の工程（５）で記載した条件と同様である。反応温度は、化合物１６においてＹ１、Ｙ２、Ｙ３、およびＹ４のいづれか一つ以上がハロゲン原子で置換されている化合物については置換されているハロゲン原子の水素還元を抑制することができる０℃〜室温の範囲であることがより好ましい。反応時間については、化合物１６の種類、反応温度に大きく依存するが、０℃〜室温の範囲で実施する場合には、２〜１０時間が好ましい。本発明のジフルオロメチレンオキシ誘導体の各製造工程における生成物は通常有機合成で用いられる方法により分離することができる。例えば、反応物に水および抽出用の有機溶媒を加え撹拌する。有機層を分離後、水洗し、乾燥剤例えば無水硫酸ナトリウムあるいは無水硫酸マグネシウムで乾燥した後に、減圧下で有機溶媒を留去して、残渣として純度８０〜１００重量％の生成物を得ることができる。該残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー処理あるいは蒸留することにより純度９０〜１００重量％の生成物を得ることができる。この生成物を再結晶することにより純度９５〜１００重量％の生成物を得ることができる。
合成経路８
合成経路８は、合成経路７において工程（１３）および（１４）のかわりに工程（１３’）を有する。
工程（１２）
前記合成経路７の工程（１２）と同一である。
合成経路８は、合成経路７において工程（１３）および（１４）のかわりに工程（１３’）を有する。
工程（１２）
前記合成経路７の工程（１２）と同一である。
工程（１３’）
工程（１３’）はＤＣＣおよび塩基の存在下、カルボン酸１３にオマジンとブロモトリクロロメタンとを反応させて化合物（１５）を製造する。すなわち、カルボン酸を一段階で脱炭酸臭素化する工程である。脱炭酸臭素化の反応条件は前記合成経路２の工程（２’）で記載した条件と同様である。
工程（１３’）はＤＣＣおよび塩基の存在下、カルボン酸１３にオマジンとブロモトリクロロメタンとを反応させて化合物（１５）を製造する。すなわち、カルボン酸を一段階で脱炭酸臭素化する工程である。脱炭酸臭素化の反応条件は前記合成経路２の工程（２’）で記載した条件と同様である。
工程（１５）
工程（１５）は、前記合成経路７に記載の工程（１５）と同一である。
工程（１５）は、前記合成経路７に記載の工程（１５）と同一である。
工程（１６）
工程（１６）は、前記合成経路７の工程（１６）で記載したものと同一である。本発明のジフルオロメチレンオキシ誘導体の各製造工程における生成物は通常有機合成で用いられる方法により分離することができる。例えば、反応物に水および抽出用の有機溶媒を加え撹拌する。有機層を分離後、水洗し、乾燥剤例えば無水硫酸ナトリウムあるいは無水硫酸マグネシウムで乾燥した後に、減圧下で有機溶媒を留去して、残渣として純度８０〜１００重量％の生成物を得ることができる。該残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー処理あるいは蒸留することにより純度９０〜１００重量％の生成物を得ることができる。この生成物を再結晶することにより純度９５〜１００重量％の生成物を得ることができる。
工程（１６）は、前記合成経路７の工程（１６）で記載したものと同一である。本発明のジフルオロメチレンオキシ誘導体の各製造工程における生成物は通常有機合成で用いられる方法により分離することができる。例えば、反応物に水および抽出用の有機溶媒を加え撹拌する。有機層を分離後、水洗し、乾燥剤例えば無水硫酸ナトリウムあるいは無水硫酸マグネシウムで乾燥した後に、減圧下で有機溶媒を留去して、残渣として純度８０〜１００重量％の生成物を得ることができる。該残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー処理あるいは蒸留することにより純度９０〜１００重量％の生成物を得ることができる。この生成物を再結晶することにより純度９５〜１００重量％の生成物を得ることができる。
合成経路９
合成経路９は、（１２）〜（１４）までは前記合成経路７と同一で、化合物１５を製造し、化合物１５を水素還元して化合物１７を製造する工程（１７）と、化合物１７を塩基の存在下でフェノール化合物Ｐと反応させて化合物１２を製造する工程（１８）とからなる。
合成経路９は、（１２）〜（１４）までは前記合成経路７と同一で、化合物１５を製造し、化合物１５を水素還元して化合物１７を製造する工程（１７）と、化合物１７を塩基の存在下でフェノール化合物Ｐと反応させて化合物１２を製造する工程（１８）とからなる。
工程（１２）
前記合成経路７の工程（１２）と同一である。
前記合成経路７の工程（１２）と同一である。
工程（１３）
前記合成経路７の工程（１３）と同一である。
前記合成経路７の工程（１３）と同一である。
工程（１４）
前記合成経路７の工程（１４）と同一である。
前記合成経路７の工程（１４）と同一である。
工程（１７）
工程（１７）は、化合物１５を水素還元して化合物１８を製造する。
工程（１７）の水素還元反応は、例えば西村重夫、高松弦著、接触水素化触媒（株式会社東京化学同人発行）等成書に記載の種々の金属触媒を使用して行うことができる。水素還元反応に使用できる触媒をはじめ、水素還元反応の条件は前記合成経路７の工程（１６）で記載した条件と同様である。
工程（１７）は、化合物１５を水素還元して化合物１８を製造する。
工程（１７）の水素還元反応は、例えば西村重夫、高松弦著、接触水素化触媒（株式会社東京化学同人発行）等成書に記載の種々の金属触媒を使用して行うことができる。水素還元反応に使用できる触媒をはじめ、水素還元反応の条件は前記合成経路７の工程（１６）で記載した条件と同様である。
工程（１８）
工程（１８）は、化合物１７を塩基の存在下でフェノール化合物Ｐと反応させて化合物１２を製造する。すなわち、エーテル化させる工程である。
工程（１８）は、化合物１７を塩基の存在下でフェノール化合物Ｐと反応させて化合物１２を製造する。すなわち、エーテル化させる工程である。
化合物Ｐ
エーテル化反応に使用するフェノール誘導体Ｐは、前記合成経路７の工程（１５）で記載したフェノール誘導体Ｐと同様である。
工程（１８）のエーテル化反応は、一般に知られるウィリアムソン反応の条件下で実施が可能である。エーテル化反応に使用できる塩基をはじめ、エーテル化反応の条件は前記合成経路７の工程（１５）で記載した条件と同様である。本発明のジフルオロメチレンオキシ誘導体の各製造工程における生成物は通常有機合成で用いられる方法により分離することができる。例えば、反応物に水および抽出用の有機溶媒を加え撹拌する。有機層を分離後、水洗し、乾燥剤例えば無水硫酸ナトリウムあるいは無水硫酸マグネシウムで乾燥した後に、減圧下で有機溶媒を留去して、残渣として純度８０〜１００重量％の生成物を得ることができる。該残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー処理あるいは蒸留することにより純度９０〜１００重量％の生成物を得ることができる。この生成物を再結晶することにより純度９５〜１００重量％の生成物を得ることができる。
エーテル化反応に使用するフェノール誘導体Ｐは、前記合成経路７の工程（１５）で記載したフェノール誘導体Ｐと同様である。
工程（１８）のエーテル化反応は、一般に知られるウィリアムソン反応の条件下で実施が可能である。エーテル化反応に使用できる塩基をはじめ、エーテル化反応の条件は前記合成経路７の工程（１５）で記載した条件と同様である。本発明のジフルオロメチレンオキシ誘導体の各製造工程における生成物は通常有機合成で用いられる方法により分離することができる。例えば、反応物に水および抽出用の有機溶媒を加え撹拌する。有機層を分離後、水洗し、乾燥剤例えば無水硫酸ナトリウムあるいは無水硫酸マグネシウムで乾燥した後に、減圧下で有機溶媒を留去して、残渣として純度８０〜１００重量％の生成物を得ることができる。該残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー処理あるいは蒸留することにより純度９０〜１００重量％の生成物を得ることができる。この生成物を再結晶することにより純度９５〜１００重量％の生成物を得ることができる。
合成経路１０
合成経路１０は、合成経路９において（１３）および（１４）のかわりに（１３’）を有し、あわせて４つの工程を有する。
合成経路１０は、合成経路９において（１３）および（１４）のかわりに（１３’）を有し、あわせて４つの工程を有する。
工程（１２）
工程（１２）は前記合成経路７の工程（１２）と同一である。
工程（１２）は前記合成経路７の工程（１２）と同一である。
工程（１３’）
工程（１３’）はＤＣＣおよび塩基の存在下、カルボン酸１３にオマジンとブロモトリクロロメタンとを反応させて化合物１５を製造する。すなわち、カルボン酸を一段階で脱炭酸臭素化する工程である。脱炭酸臭素化の反応条件は前記合成経路２の工程（２’）で記載した条件と同様である。
工程（１３’）はＤＣＣおよび塩基の存在下、カルボン酸１３にオマジンとブロモトリクロロメタンとを反応させて化合物１５を製造する。すなわち、カルボン酸を一段階で脱炭酸臭素化する工程である。脱炭酸臭素化の反応条件は前記合成経路２の工程（２’）で記載した条件と同様である。
工程（１７）
工程１７は前記合成経路９の工程（１７）と同一である。
工程１７は前記合成経路９の工程（１７）と同一である。
工程（１８）
工程１８は前記合成経路９の工程（１８）と同一である。本発明のジフルオロメチレンオキシ誘導体の各製造工程における生成物は通常有機合成で用いられる方法により分離することができる。例えば、反応物に水および抽出用の有機溶媒を加え撹拌する。有機層を分離後、水洗し、乾燥剤例えば無水硫酸ナトリウムあるいは無水硫酸マグネシウムで乾燥した後に、減圧下で有機溶媒を留去して、残渣として純度８０〜１００重量％の生成物を得ることができる。該残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー処理あるいは蒸留することにより純度９０〜１００重量％の生成物を得ることができる。この生成物を再結晶することにより純度９５〜１００重量％の生成物を得ることができる。
工程１８は前記合成経路９の工程（１８）と同一である。本発明のジフルオロメチレンオキシ誘導体の各製造工程における生成物は通常有機合成で用いられる方法により分離することができる。例えば、反応物に水および抽出用の有機溶媒を加え撹拌する。有機層を分離後、水洗し、乾燥剤例えば無水硫酸ナトリウムあるいは無水硫酸マグネシウムで乾燥した後に、減圧下で有機溶媒を留去して、残渣として純度８０〜１００重量％の生成物を得ることができる。該残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー処理あるいは蒸留することにより純度９０〜１００重量％の生成物を得ることができる。この生成物を再結晶することにより純度９５〜１００重量％の生成物を得ることができる。
合成経路１１
合成経路１１は、工程（１９）〜（２２）の後に、工程（１８）を有し、あわせて５つの工程を有する。
合成経路１１は、工程（１９）〜（２２）の後に、工程（１８）を有し、あわせて５つの工程を有する。
工程（１９）
工程（１９）では、化合物１１を水素還元して化合物１８を製造する。
工程（１９）では、化合物１１を水素還元して化合物１８を製造する。
化合物１１
前記合成経路７で記載したものと同様である。
工程（１９）での水素還元反応は、例えば西村重夫、高松弦著、接触水素化触媒（株式会社東京化学同人発行）等成書に記載の種々の金属触媒を使用して行うことができる。水素還元反応に使用できる触媒をはじめ、水素還元反応の条件は前記合成経路７の工程（１６）で記載した条件と同様である。
前記合成経路７で記載したものと同様である。
工程（１９）での水素還元反応は、例えば西村重夫、高松弦著、接触水素化触媒（株式会社東京化学同人発行）等成書に記載の種々の金属触媒を使用して行うことができる。水素還元反応に使用できる触媒をはじめ、水素還元反応の条件は前記合成経路７の工程（１６）で記載した条件と同様である。
工程（２０）
工程（２０）は、化合物１８を加水分解してカルボン酸１９を製造する。
工程（２０）の加水分解反応は、一般に知られるエステルの酸またはアルカリ加水分解の条件下で実施が可能である。加水分解反応に使用できる酸および塩基をはじめ、加水分解反応の条件は前記合成経路７の工程（１２）で記載した条件と同様である。
工程（２０）は、化合物１８を加水分解してカルボン酸１９を製造する。
工程（２０）の加水分解反応は、一般に知られるエステルの酸またはアルカリ加水分解の条件下で実施が可能である。加水分解反応に使用できる酸および塩基をはじめ、加水分解反応の条件は前記合成経路７の工程（１２）で記載した条件と同様である。
工程（２１）
工程（２１）は、化合物１９に塩化チオニルを反応させて酸塩化物２０を製造する工程である。
工程（２１）の反応は、無溶媒または溶媒中でカルボン酸１９と塩化チオニルとを混合することにより実施可能である。酸塩化物合成反応の条件は前記合成経路７の工程（１３）で記載した条件と同様である。
工程（２１）は、化合物１９に塩化チオニルを反応させて酸塩化物２０を製造する工程である。
工程（２１）の反応は、無溶媒または溶媒中でカルボン酸１９と塩化チオニルとを混合することにより実施可能である。酸塩化物合成反応の条件は前記合成経路７の工程（１３）で記載した条件と同様である。
工程（２２）
工程（２２）は、化合物２０にナトリウムオマジンとブロモトリクロロメタンを反応させて脱炭酸臭素化を行い化合物１７を製造する。
工程（２２）の脱炭酸臭素化は、Bartonらの方法 (D. H. R. Barton, B. Lacher, and S. Z. Zard, Tetrahedron, 43, 4321 (1987).) に準じ、無溶媒または溶媒中で酸塩化物２０にナトリウムオマジンとブロモトリクロロメタンとを反応させて行うことができる。脱炭酸臭素化反応の条件は前記合成経路７の工程（１４）で記載した条件と同様である。
工程（２２）は、化合物２０にナトリウムオマジンとブロモトリクロロメタンを反応させて脱炭酸臭素化を行い化合物１７を製造する。
工程（２２）の脱炭酸臭素化は、Bartonらの方法 (D. H. R. Barton, B. Lacher, and S. Z. Zard, Tetrahedron, 43, 4321 (1987).) に準じ、無溶媒または溶媒中で酸塩化物２０にナトリウムオマジンとブロモトリクロロメタンとを反応させて行うことができる。脱炭酸臭素化反応の条件は前記合成経路７の工程（１４）で記載した条件と同様である。
工程（１８）
前記合成経路９工程（１８）で記載したものと同一である。本発明のジフルオロメチレンオキシ誘導体の各製造工程における生成物は通常有機合成で用いられる方法により分離することができる。例えば、反応物に水および抽出用の有機溶媒を加え撹拌する。有機層を分離後、水洗し、乾燥剤例えば無水硫酸ナトリウムあるいは無水硫酸マグネシウムで乾燥した後に、減圧下で有機溶媒を留去して、残渣として純度８０〜１００重量％の生成物を得ることができる。該残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー処理あるいは蒸留することにより純度９０〜１００重量％の生成物を得ることができる。この生成物を再結晶することにより純度９５〜１００重量％の生成物を得ることができる。
前記合成経路９工程（１８）で記載したものと同一である。本発明のジフルオロメチレンオキシ誘導体の各製造工程における生成物は通常有機合成で用いられる方法により分離することができる。例えば、反応物に水および抽出用の有機溶媒を加え撹拌する。有機層を分離後、水洗し、乾燥剤例えば無水硫酸ナトリウムあるいは無水硫酸マグネシウムで乾燥した後に、減圧下で有機溶媒を留去して、残渣として純度８０〜１００重量％の生成物を得ることができる。該残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー処理あるいは蒸留することにより純度９０〜１００重量％の生成物を得ることができる。この生成物を再結晶することにより純度９５〜１００重量％の生成物を得ることができる。
合成経路１２
合成経路１２は、合成経路１１において工程（２１）および（２２）のかわりに工程（２１’）を有し、あわせて４つの工程を有する。
合成経路１２は、合成経路１１において工程（２１）および（２２）のかわりに工程（２１’）を有し、あわせて４つの工程を有する。
工程（１９）
工程（１９）は前記合成経路１１の工程（１９）と同一である。
工程（１９）は前記合成経路１１の工程（１９）と同一である。
工程２０
工程（２０）は前記合成経路１１の工程（２０）と同一である。
工程（２０）は前記合成経路１１の工程（２０）と同一である。
工程２１’
工程（２１’）はＤＣＣおよび塩基の存在下、カルボン酸１９にオマジンとブロモトリクロロメタンとを反応させて化合物１７を製造する。すなわち、カルボン酸を一段階で脱炭酸臭素化する工程である。脱炭酸臭素化の反応条件は前記合成経路２の工程（２’）で記載した条件と同様である。
工程（２１’）はＤＣＣおよび塩基の存在下、カルボン酸１９にオマジンとブロモトリクロロメタンとを反応させて化合物１７を製造する。すなわち、カルボン酸を一段階で脱炭酸臭素化する工程である。脱炭酸臭素化の反応条件は前記合成経路２の工程（２’）で記載した条件と同様である。
工程１８
工程（１８）は前記合成経路１１の工程（１８）と同一である。本発明のジフルオロメチレンオキシ誘導体の各製造工程における生成物は通常有機合成で用いられる方法により分離することができる。例えば、反応物に水および抽出用の有機溶媒を加え撹拌する。有機層を分離後、水洗し、乾燥剤例えば無水硫酸ナトリウムあるいは無水硫酸マグネシウムで乾燥した後に、減圧下で有機溶媒を留去して、残渣として純度８０〜１００重量％の生成物を得ることができる。該残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー処理あるいは蒸留することにより純度９０〜１００重量％の生成物を得ることができる。この生成物を再結晶することにより純度９５〜１００重量％の生成物を得ることができる。
工程（１８）は前記合成経路１１の工程（１８）と同一である。本発明のジフルオロメチレンオキシ誘導体の各製造工程における生成物は通常有機合成で用いられる方法により分離することができる。例えば、反応物に水および抽出用の有機溶媒を加え撹拌する。有機層を分離後、水洗し、乾燥剤例えば無水硫酸ナトリウムあるいは無水硫酸マグネシウムで乾燥した後に、減圧下で有機溶媒を留去して、残渣として純度８０〜１００重量％の生成物を得ることができる。該残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー処理あるいは蒸留することにより純度９０〜１００重量％の生成物を得ることができる。この生成物を再結晶することにより純度９５〜１００重量％の生成物を得ることができる。
方法Ｃ
本発明の化合物２２の製造方法は、化合物２１を出発原料とするものである。
本発明の化合物２２の製造方法は、化合物２１を出発原料とするものである。
本発明の方法Ｃにより製造可能なジフルオロメチレンオキシ誘導体は化合物２２で表される。化合物２２において、Ｒ１、Ｒ２、環Ａ１〜環Ａ４、Ｙ１〜Ｙ４、Ｚ１〜Ｚ４、ｋ、ｌ、ｍ、およびｎは化合物２と同じものを表す。ｏは１〜１０の整数を表す。本発明の方法Ｃには、合成経路１３〜１８が含まれる。
合成経路１３は、
工程（２３）：化合物２１を加水分解してカルボン酸誘導体２３を製造する、
工程（２４）：化合物２３に塩化チオニルを反応させて酸塩化物２４を製造する、
工程（２５）：化合物２４にナトリウムオマジンとブロモトリクロロメタンを反応させて脱炭酸臭素化を行い化合物２５を製造する、
工程（２６）：化合物２５を塩基の存在下フェノール化合物Ｐと反応させて化合物２６を製造する、
工程（２７）：化合物２６を水素還元して化合物２２を製造する、の５つの工程を有する。
工程（２３）：化合物２１を加水分解してカルボン酸誘導体２３を製造する、
工程（２４）：化合物２３に塩化チオニルを反応させて酸塩化物２４を製造する、
工程（２５）：化合物２４にナトリウムオマジンとブロモトリクロロメタンを反応させて脱炭酸臭素化を行い化合物２５を製造する、
工程（２６）：化合物２５を塩基の存在下フェノール化合物Ｐと反応させて化合物２６を製造する、
工程（２７）：化合物２６を水素還元して化合物２２を製造する、の５つの工程を有する。
合成経路１４は合成経路１３において工程（２４）および（２５）のかわりに、
工程（２４’）：ＤＣＣおよびＤＭＡＰの存在下、化合物２３とオマジンおよびブロモトリクロロメタンとを反応させて化合物２５を製造する、
を行うあわせて４工程を有する。
工程（２４’）：ＤＣＣおよびＤＭＡＰの存在下、化合物２３とオマジンおよびブロモトリクロロメタンとを反応させて化合物２５を製造する、
を行うあわせて４工程を有する。
合成経路１５は工程（２３）〜（２５）の後、
工程（２６）：化合物２５を水素還元して化合物２７を製造する、
工程（２７）：化合物２７を塩基の存在下フェノール化合物Ｐと反応させて化合物２２を製造する、
の５つの工程を有する。
工程（２６）：化合物２５を水素還元して化合物２７を製造する、
工程（２７）：化合物２７を塩基の存在下フェノール化合物Ｐと反応させて化合物２２を製造する、
の５つの工程を有する。
合成経路１６は合成経路１５において工程（２４）および（２５）のかわりに工程（２４’）を有し、あわせて４工程を有する。
合成経路１７は、
工程（２９）：化合物２１を水素還元して化合物２８を製造する、
工程（３０）：化合物２８を加水分解してカルボン酸誘導体２９を製造する、
工程（３１）：化合物２９に塩化チオニルを反応させて酸塩化物３０を製造する、
工程（３２）：化合物３０にナトリウムオマジンとブロモトリクロロメタンを反応させて脱炭酸臭素化を行い化合物２７を製造する、
工程（２８）：塩基の存在下、化合物２７をフェノール化合物Ｐと反応させて化合物２２を製造する、
の５つの工程を有する。
工程（２９）：化合物２１を水素還元して化合物２８を製造する、
工程（３０）：化合物２８を加水分解してカルボン酸誘導体２９を製造する、
工程（３１）：化合物２９に塩化チオニルを反応させて酸塩化物３０を製造する、
工程（３２）：化合物３０にナトリウムオマジンとブロモトリクロロメタンを反応させて脱炭酸臭素化を行い化合物２７を製造する、
工程（２８）：塩基の存在下、化合物２７をフェノール化合物Ｐと反応させて化合物２２を製造する、
の５つの工程を有する。
合成経路１８は合成経路１７において工程（３１）および（３２）のかわりに、
工程（３２’）：ＤＣＣおよびＤＭＡＰの存在下、化合物２９とオマジンおよびブロモトリクロロメタンとを反応させて化合物２７を製造する、
の４工程を有する。
工程（３２’）：ＤＣＣおよびＤＭＡＰの存在下、化合物２９とオマジンおよびブロモトリクロロメタンとを反応させて化合物２７を製造する、
の４工程を有する。
合成経路１３
合成経路１３は、工程（２３）〜（２７）の５つの工程を有する。
合成経路１３は、工程（２３）〜（２７）の５つの工程を有する。
工程（２３）
工程（２３）は、化合物２１を加水分解してカルボン酸誘導体２３を製造する。
工程（２３）は、化合物２１を加水分解してカルボン酸誘導体２３を製造する。
化合物２１
化合物２１は、シクロヘキシリデンジフルオロプロピオン酸エステル誘導体である。本発明のジフルオロメチレンオキシ誘導体の製造方法における方法Ｃの出発原料となる化合物２１は、当業者であれば容易に製造することができる。たとえば、C. R. Hauser and D. S. Breslow, Org. Syn., Coll. Vol., 3, 408 (1955). に記載の方法に準じて、シクロヘキサンカルボアセトアルデヒド誘導体３９とブロモジフルオロ酢酸エステル３５を亜鉛粉末の存在下反応させて化合物４０とした後、たとえば、W. S. Allen and S. Bernstein, J. Am. Chem. Soc., 77, 1028 (1955). に記載の方法に準じて、化合物４０に塩化チオニルとピリジンを反応さることにより化合物２１を容易に製造することができる。
化合物２１は、シクロヘキシリデンジフルオロプロピオン酸エステル誘導体である。本発明のジフルオロメチレンオキシ誘導体の製造方法における方法Ｃの出発原料となる化合物２１は、当業者であれば容易に製造することができる。たとえば、C. R. Hauser and D. S. Breslow, Org. Syn., Coll. Vol., 3, 408 (1955). に記載の方法に準じて、シクロヘキサンカルボアセトアルデヒド誘導体３９とブロモジフルオロ酢酸エステル３５を亜鉛粉末の存在下反応させて化合物４０とした後、たとえば、W. S. Allen and S. Bernstein, J. Am. Chem. Soc., 77, 1028 (1955). に記載の方法に準じて、化合物４０に塩化チオニルとピリジンを反応さることにより化合物２１を容易に製造することができる。
式中、Ｒ１、Ｒ３、Ｒ３、環Ａ１、環Ａ２、Ｚ１、Ｚ２、ｋおよびｌは前記と同一の意味を表わし、好ましいもの、具体例も同じである。
シクロヘキサンカルボアルデヒド誘導体３９は、市販品あるいは新実験化学講座（丸善株式会社出版）等、有機合成の成書に記載されている方法にて容易に得られる。
シクロヘキサンカルボアルデヒド誘導体３９は、市販品あるいは新実験化学講座（丸善株式会社出版）等、有機合成の成書に記載されている方法にて容易に得られる。
加水分解試薬には酸または塩基の水溶液を使用することができる。酸としては塩化水素、臭化水素が好ましく、塩基としては水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウムが好ましい。反応溶媒は、前記方法Ａの合成経路１の第１工程で使用することが好ましい反応溶媒として記載したものと同じである。溶媒の使用量、反応温度、酸またはアルカリの使用量および反応時間についても同様である。
工程（２４）
工程（２４）は、化合物２３に塩化チオニルを反応させて酸塩化物２４を製造する。
工程（２４）の反応条件は前記方法Ａの合成経路１の第２工程で記載したものと同様である。
工程（２４）は、化合物２３に塩化チオニルを反応させて酸塩化物２４を製造する。
工程（２４）の反応条件は前記方法Ａの合成経路１の第２工程で記載したものと同様である。
工程（２５）
工程（２５）は、化合物２４にナトリウムオマジンとブロモトリクロロメタンを反応させて脱炭酸臭素化を行い化合物２５を製造する。
工程（２５）の脱炭酸臭素化反応の反応条件は、前記方法Ａの合成経路１の工程（３）で記載したものと同様である。
工程（２５）は、化合物２４にナトリウムオマジンとブロモトリクロロメタンを反応させて脱炭酸臭素化を行い化合物２５を製造する。
工程（２５）の脱炭酸臭素化反応の反応条件は、前記方法Ａの合成経路１の工程（３）で記載したものと同様である。
工程（２６）
工程（２６）は、化合物２５を塩基の存在下フェノール化合物Ｐと反応させて化合物２６を製造する。すなわち、エーテル化させる工程である。
工程（２６）は、化合物２５を塩基の存在下フェノール化合物Ｐと反応させて化合物２６を製造する。すなわち、エーテル化させる工程である。
化合物Ｐ
エーテル化反応に使用するフェノール誘導体Ｐは、前記方法Ａの合成経路１の工程（４）で記載したフェノール誘導体Ｐと同様である。
工程（２６）のエーテル化反応は、一般に知られているウィリアムソン反応の条件下で実施が可能である。エーテル化反応に使用できる塩基をはじめ、エーテル化反応の条件は前記方法Ａの合成経路１の工程（４）に記載した条件と同様である。
エーテル化反応に使用するフェノール誘導体Ｐは、前記方法Ａの合成経路１の工程（４）で記載したフェノール誘導体Ｐと同様である。
工程（２６）のエーテル化反応は、一般に知られているウィリアムソン反応の条件下で実施が可能である。エーテル化反応に使用できる塩基をはじめ、エーテル化反応の条件は前記方法Ａの合成経路１の工程（４）に記載した条件と同様である。
工程（２７）
工程（２７）は、化合物２６を水素還元して化合物２２を製造する。
工程（２７）での水素還元における触媒およびその使用量ならびに反応溶媒およびその使用量は、前記方法Ａの合成経路１の工程（５）で記載した条件と同様である。反応温度は、化合物２６においてＹ１、Ｙ２、Ｙ３、およびＹ４のいづれか一つ以上がハロゲン原子で置換されている化合物については置換されているハロゲン原子の水素還元を抑制することができる０℃〜室温の範囲であることがより好ましい。反応時間については、化合物２６の種類、反応温度に大きく依存するが、０℃〜室温の範囲で実施する場合には、２〜１０時間が好ましい。本発明のジフルオロメチレンオキシ誘導体の各製造工程における生成物は通常有機合成で用いられる方法により分離することができる。例えば、反応物に水および抽出用の有機溶媒を加え撹拌する。有機層を分離後、水洗し、乾燥剤例えば無水硫酸ナトリウムあるいは無水硫酸マグネシウムで乾燥した後に、減圧下で有機溶媒を留去して、残渣として純度８０〜１００重量％の生成物を得ることができる。該残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー処理あるいは蒸留することにより純度９０〜１００重量％の生成物を得ることができる。この生成物を再結晶することにより純度９５〜１００重量％の生成物を得ることができる。
工程（２７）は、化合物２６を水素還元して化合物２２を製造する。
工程（２７）での水素還元における触媒およびその使用量ならびに反応溶媒およびその使用量は、前記方法Ａの合成経路１の工程（５）で記載した条件と同様である。反応温度は、化合物２６においてＹ１、Ｙ２、Ｙ３、およびＹ４のいづれか一つ以上がハロゲン原子で置換されている化合物については置換されているハロゲン原子の水素還元を抑制することができる０℃〜室温の範囲であることがより好ましい。反応時間については、化合物２６の種類、反応温度に大きく依存するが、０℃〜室温の範囲で実施する場合には、２〜１０時間が好ましい。本発明のジフルオロメチレンオキシ誘導体の各製造工程における生成物は通常有機合成で用いられる方法により分離することができる。例えば、反応物に水および抽出用の有機溶媒を加え撹拌する。有機層を分離後、水洗し、乾燥剤例えば無水硫酸ナトリウムあるいは無水硫酸マグネシウムで乾燥した後に、減圧下で有機溶媒を留去して、残渣として純度８０〜１００重量％の生成物を得ることができる。該残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー処理あるいは蒸留することにより純度９０〜１００重量％の生成物を得ることができる。この生成物を再結晶することにより純度９５〜１００重量％の生成物を得ることができる。
合成経路１４
合成経路１４は、合成経路１３において工程（２４）および（２５）のかわりに工程（２４’）を有し、あわせて４つの工程を有する。
合成経路１４は、合成経路１３において工程（２４）および（２５）のかわりに工程（２４’）を有し、あわせて４つの工程を有する。
工程（２３）
工程（２３）は前記合成経路１３の工程（２３）と同一である。
工程（２３）は前記合成経路１３の工程（２３）と同一である。
工程２４’
工程（２４’）はＤＣＣおよび塩基の存在下、カルボン酸２３にオマジンとブロモトリクロロメタンとを反応させて化合物２５を製造する。すなわち、カルボン酸を一段階で脱炭酸臭素化する工程である。脱炭酸臭素化の反応条件は前記合成経路２の工程（２’）で記載した条件と同様である。
工程（２４’）はＤＣＣおよび塩基の存在下、カルボン酸２３にオマジンとブロモトリクロロメタンとを反応させて化合物２５を製造する。すなわち、カルボン酸を一段階で脱炭酸臭素化する工程である。脱炭酸臭素化の反応条件は前記合成経路２の工程（２’）で記載した条件と同様である。
工程（２６）
前記合成経路１３の工程（２６）と同一である。
前記合成経路１３の工程（２６）と同一である。
工程（２７）
前記合成経路１３の工程（２７）と同一である。本発明のジフルオロメチレンオキシ誘導体の各製造工程における生成物は通常有機合成で用いられる方法により分離することができる。例えば、反応物に水および抽出用の有機溶媒を加え撹拌する。有機層を分離後、水洗し、乾燥剤例えば無水硫酸ナトリウムあるいは無水硫酸マグネシウムで乾燥した後に、減圧下で有機溶媒を留去して、残渣として純度８０〜１００重量％の生成物を得ることができる。該残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー処理あるいは蒸留することにより純度９０〜１００重量％の生成物を得ることができる。この生成物を再結晶することにより純度９５〜１００重量％の生成物を得ることができる。
前記合成経路１３の工程（２７）と同一である。本発明のジフルオロメチレンオキシ誘導体の各製造工程における生成物は通常有機合成で用いられる方法により分離することができる。例えば、反応物に水および抽出用の有機溶媒を加え撹拌する。有機層を分離後、水洗し、乾燥剤例えば無水硫酸ナトリウムあるいは無水硫酸マグネシウムで乾燥した後に、減圧下で有機溶媒を留去して、残渣として純度８０〜１００重量％の生成物を得ることができる。該残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー処理あるいは蒸留することにより純度９０〜１００重量％の生成物を得ることができる。この生成物を再結晶することにより純度９５〜１００重量％の生成物を得ることができる。
合成経路１５
合成経路１５は、工程（２３）〜（２５）の後に、工程（２８）および（２９）を有し、あわせて５工程を有する。
合成経路１５は、工程（２３）〜（２５）の後に、工程（２８）および（２９）を有し、あわせて５工程を有する。
工程（２３）
前記合成経路１３の工程（２３）と同一である。
前記合成経路１３の工程（２３）と同一である。
工程（２４）
前記合成経路１３の工程（２４）と同一である。
前記合成経路１３の工程（２４）と同一である。
工程（２５）
前記合成経路１３の工程（２５）と同一である。
前記合成経路１３の工程（２５）と同一である。
工程（２８）
工程（２８）は、化合物２５を水素還元して化合物２７を製造する。
工程（２８）の水素還元反応は、例えば西村重夫、高松弦著、接触水素化触媒（株式会社東京化学同人発行）等成書に記載の種々の金属触媒を使用して行うことができる。水素還元反応に使用できる触媒をはじめ、水素還元反応の条件は前記合成経路１３の工程（２７）で記載した条件と同様である。
工程（２８）は、化合物２５を水素還元して化合物２７を製造する。
工程（２８）の水素還元反応は、例えば西村重夫、高松弦著、接触水素化触媒（株式会社東京化学同人発行）等成書に記載の種々の金属触媒を使用して行うことができる。水素還元反応に使用できる触媒をはじめ、水素還元反応の条件は前記合成経路１３の工程（２７）で記載した条件と同様である。
工程（２９）
工程（２９）は、化合物２７を塩基の存在下で、フェノール化合物Ｐと反応させて化合物２２を製造する。すなわち、エーテル化させる工程である。
工程（２９）は、化合物２７を塩基の存在下で、フェノール化合物Ｐと反応させて化合物２２を製造する。すなわち、エーテル化させる工程である。
化合物Ｐ
エーテル化反応に使用するフェノール誘導体Ｐは、前記合成経路１３の第４工程で記載したフェノール誘導体Ｐと同様である。
工程（２９）のエーテル化反応は、一般に知られるウィリアムソン反応の条件下で実施が可能である。エーテル化反応に使用できる塩基をはじめ、エーテル化反応の条件は前記合成経路１３の工程（２６）で記載した条件と同様である。本発明のジフルオロメチレンオキシ誘導体の各製造工程における生成物は通常有機合成で用いられる方法により分離することができる。例えば、反応物に水および抽出用の有機溶媒を加え撹拌する。有機層を分離後、水洗し、乾燥剤例えば無水硫酸ナトリウムあるいは無水硫酸マグネシウムで乾燥した後に、減圧下で有機溶媒を留去して、残渣として純度８０〜１００重量％の生成物を得ることができる。該残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー処理あるいは蒸留することにより純度９０〜１００重量％の生成物を得ることができる。この生成物を再結晶することにより純度９５〜１００重量％の生成物を得ることができる。
エーテル化反応に使用するフェノール誘導体Ｐは、前記合成経路１３の第４工程で記載したフェノール誘導体Ｐと同様である。
工程（２９）のエーテル化反応は、一般に知られるウィリアムソン反応の条件下で実施が可能である。エーテル化反応に使用できる塩基をはじめ、エーテル化反応の条件は前記合成経路１３の工程（２６）で記載した条件と同様である。本発明のジフルオロメチレンオキシ誘導体の各製造工程における生成物は通常有機合成で用いられる方法により分離することができる。例えば、反応物に水および抽出用の有機溶媒を加え撹拌する。有機層を分離後、水洗し、乾燥剤例えば無水硫酸ナトリウムあるいは無水硫酸マグネシウムで乾燥した後に、減圧下で有機溶媒を留去して、残渣として純度８０〜１００重量％の生成物を得ることができる。該残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー処理あるいは蒸留することにより純度９０〜１００重量％の生成物を得ることができる。この生成物を再結晶することにより純度９５〜１００重量％の生成物を得ることができる。
合成経路１６
合成経路１６は、合成経路１５において工程（２４）および（２５）のかわりに工程（２４’）を有し、あわせて４つの工程を有する。
合成経路１６は、合成経路１５において工程（２４）および（２５）のかわりに工程（２４’）を有し、あわせて４つの工程を有する。
工程（２３）
工程（２３）は前記合成経路１３の工程（２３）と同一である。
工程（２３）は前記合成経路１３の工程（２３）と同一である。
工程（２４’）
工程（２４’）は前記合成経路１３の工程（２４’）と同一である。
工程（２４’）は前記合成経路１３の工程（２４’）と同一である。
工程（２８）
工程（２８）は前記合成経路１５の工程（２８）と同一である。
工程（２８）は前記合成経路１５の工程（２８）と同一である。
工程（２９）
工程（２９）は前記合成経路１５の工程（２９）と同一である。本発明のジフルオロメチレンオキシ誘導体の各製造工程における生成物は通常有機合成で用いられる方法により分離することができる。例えば、反応物に水および抽出用の有機溶媒を加え撹拌する。有機層を分離後、水洗し、乾燥剤例えば無水硫酸ナトリウムあるいは無水硫酸マグネシウムで乾燥した後に、減圧下で有機溶媒を留去して、残渣として純度８０〜１００重量％の生成物を得ることができる。該残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー処理あるいは蒸留することにより純度９０〜１００重量％の生成物を得ることができる。この生成物を再結晶することにより純度９５〜１００重量％の生成物を得ることができる。
工程（２９）は前記合成経路１５の工程（２９）と同一である。本発明のジフルオロメチレンオキシ誘導体の各製造工程における生成物は通常有機合成で用いられる方法により分離することができる。例えば、反応物に水および抽出用の有機溶媒を加え撹拌する。有機層を分離後、水洗し、乾燥剤例えば無水硫酸ナトリウムあるいは無水硫酸マグネシウムで乾燥した後に、減圧下で有機溶媒を留去して、残渣として純度８０〜１００重量％の生成物を得ることができる。該残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー処理あるいは蒸留することにより純度９０〜１００重量％の生成物を得ることができる。この生成物を再結晶することにより純度９５〜１００重量％の生成物を得ることができる。
合成経路１７
合成経路１７は、工程（２９）〜（３２）の後に工程（２８）を有し、あわせて５つの工程を有する。
合成経路１７は、工程（２９）〜（３２）の後に工程（２８）を有し、あわせて５つの工程を有する。
工程（２９）
工程（２９）は、化合物２１を水素還元して化合物２８を製造する。
工程（２９）は、化合物２１を水素還元して化合物２８を製造する。
化合物２１
前記合成経路１３で記載したものと同様である。
工程（２９）での水素還元反応は、例えば西村重夫、高松弦著、接触水素化触媒（株式会社東京化学同人発行）等成書に記載の種々の金属触媒を使用して行うことができる。水素還元反応に使用できる触媒をはじめ、水素還元反応の条件は前記合成経路１３の工程（２７）で記載した条件と同様である。
前記合成経路１３で記載したものと同様である。
工程（２９）での水素還元反応は、例えば西村重夫、高松弦著、接触水素化触媒（株式会社東京化学同人発行）等成書に記載の種々の金属触媒を使用して行うことができる。水素還元反応に使用できる触媒をはじめ、水素還元反応の条件は前記合成経路１３の工程（２７）で記載した条件と同様である。
工程（３０）
工程（３０）は、化合物２８を加水分解してカルボン酸２９を製造する。
工程（３０）の加水分解反応は、一般に知られるエステルの酸またはアルカリ加水分解の条件下で実施が可能である。加水分解反応に使用できる酸および塩基をはじめ、加水分解反応の条件は前記合成経路１３の工程（２３）で記載した条件と同様である。
工程（３０）は、化合物２８を加水分解してカルボン酸２９を製造する。
工程（３０）の加水分解反応は、一般に知られるエステルの酸またはアルカリ加水分解の条件下で実施が可能である。加水分解反応に使用できる酸および塩基をはじめ、加水分解反応の条件は前記合成経路１３の工程（２３）で記載した条件と同様である。
工程（３１）
工程（３１）は、化合物２９に塩化チオニルを反応させて酸塩化物３０を製造する工程である。
工程（３１）の反応は、無溶媒または溶媒中でカルボン酸２９と塩化チオニルとを混合することにより実施可能である。酸塩化物合成反応の条件は前記合成経路１３の工程（２４）で記載した条件と同様である。
工程（３１）は、化合物２９に塩化チオニルを反応させて酸塩化物３０を製造する工程である。
工程（３１）の反応は、無溶媒または溶媒中でカルボン酸２９と塩化チオニルとを混合することにより実施可能である。酸塩化物合成反応の条件は前記合成経路１３の工程（２４）で記載した条件と同様である。
工程（３２）
工程（３２）は、化合物３０にナトリウムオマジンとブロモトリクロロメタンを反応させて脱炭酸臭素化を行い化合物２７を製造する。
工程（３２）の脱炭酸臭素化は、Bartonらの方法 (D. H. R. Barton, B. Lacher, and S. Z. Zard, Tetrahedron, 43, 4321 (1987).) に準じ、無溶媒または溶媒中で酸塩化物２０にナトリウムオマジンとブロモトリクロロメタンとを反応させて行うことができる。脱炭酸臭素化反応の条件は前記合成経路１３の工程（２５）で記載した条件と同様である。
工程（３２）は、化合物３０にナトリウムオマジンとブロモトリクロロメタンを反応させて脱炭酸臭素化を行い化合物２７を製造する。
工程（３２）の脱炭酸臭素化は、Bartonらの方法 (D. H. R. Barton, B. Lacher, and S. Z. Zard, Tetrahedron, 43, 4321 (1987).) に準じ、無溶媒または溶媒中で酸塩化物２０にナトリウムオマジンとブロモトリクロロメタンとを反応させて行うことができる。脱炭酸臭素化反応の条件は前記合成経路１３の工程（２５）で記載した条件と同様である。
工程（２８）
前記合成経路１５の工程（２８）で記載したものと同一である。本発明のジフルオロメチレンオキシ誘導体の各製造工程における生成物は通常有機合成で用いられる方法により分離することができる。例えば、反応物に水および抽出用の有機溶媒を加え撹拌する。有機層を分離後、水洗し、乾燥剤例えば無水硫酸ナトリウムあるいは無水硫酸マグネシウムで乾燥した後に、減圧下で有機溶媒を留去して、残渣として純度８０〜１００重量％の生成物を得ることができる。該残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー処理あるいは蒸留することにより純度９０〜１００重量％の生成物を得ることができる。この生成物を再結晶することにより純度９５〜１００重量％の生成物を得ることができる。
前記合成経路１５の工程（２８）で記載したものと同一である。本発明のジフルオロメチレンオキシ誘導体の各製造工程における生成物は通常有機合成で用いられる方法により分離することができる。例えば、反応物に水および抽出用の有機溶媒を加え撹拌する。有機層を分離後、水洗し、乾燥剤例えば無水硫酸ナトリウムあるいは無水硫酸マグネシウムで乾燥した後に、減圧下で有機溶媒を留去して、残渣として純度８０〜１００重量％の生成物を得ることができる。該残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー処理あるいは蒸留することにより純度９０〜１００重量％の生成物を得ることができる。この生成物を再結晶することにより純度９５〜１００重量％の生成物を得ることができる。
合成経路１８
合成経路１８は、合成経路１７において工程（３２）および（３３）のかわりに工程（３２’）を有し、あわせて４つの工程を有する。
合成経路１８は、合成経路１７において工程（３２）および（３３）のかわりに工程（３２’）を有し、あわせて４つの工程を有する。
工程（３０）
工程（３０）は前記合成経路１７の工程（３０）と同一である。
工程（３０）は前記合成経路１７の工程（３０）と同一である。
工程（３１）
工程（３１）は前記合成経路１７の工程（３１）と同一である。
工程（３１）は前記合成経路１７の工程（３１）と同一である。
工程（３２’）
工程（３２’）はＤＣＣおよび塩基の存在下、カルボン酸２９にオマジンとブロモトリクロロメタンとを反応さて化合物２７を製造する。すなわち、カルボン酸を一段階で脱炭酸臭素化する工程である。脱炭酸臭素化の反応条件は前記合成経路２の工程（２’）で記載した条件と同様である。
工程（３２’）はＤＣＣおよび塩基の存在下、カルボン酸２９にオマジンとブロモトリクロロメタンとを反応さて化合物２７を製造する。すなわち、カルボン酸を一段階で脱炭酸臭素化する工程である。脱炭酸臭素化の反応条件は前記合成経路２の工程（２’）で記載した条件と同様である。
工程（２９）
工程（２９）は前記合成経路１７の工程（２９）と同一である。本発明のジフルオロメチレンオキシ誘導体の各製造工程における生成物は通常有機合成で用いられる方法により分離することができる。例えば、反応物に水および抽出用の有機溶媒を加え撹拌する。有機層を分離後、水洗し、乾燥剤例えば無水硫酸ナトリウムあるいは無水硫酸マグネシウムで乾燥した後に、減圧下で有機溶媒を留去して、残渣として純度８０〜１００重量％の生成物を得ることができる。該残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー処理あるいは蒸留することにより純度９０〜１００重量％の生成物を得ることができる。この生成物を再結晶することにより純度９５〜１００重量％の生成物を得ることができる。
工程（２９）は前記合成経路１７の工程（２９）と同一である。本発明のジフルオロメチレンオキシ誘導体の各製造工程における生成物は通常有機合成で用いられる方法により分離することができる。例えば、反応物に水および抽出用の有機溶媒を加え撹拌する。有機層を分離後、水洗し、乾燥剤例えば無水硫酸ナトリウムあるいは無水硫酸マグネシウムで乾燥した後に、減圧下で有機溶媒を留去して、残渣として純度８０〜１００重量％の生成物を得ることができる。該残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー処理あるいは蒸留することにより純度９０〜１００重量％の生成物を得ることができる。この生成物を再結晶することにより純度９５〜１００重量％の生成物を得ることができる。
以下、実施例により本発明をより詳細に説明する。
なお、以下の実施例において、Ｃｒは結晶、Ｓｍはスメクチック相、Ｎはネマチック相、Ｉｓｏは等方性液体を表す。「Ｃｒ ４３．５ Ｎ １０３．０ Ｉｓｏ」という表記は、ＣｒとＮとの転移点が４３．５℃であり、ＮとＩｓｏとの転移点が１０３．０℃であることを示す。また、1H-NMRのデータ表示においてｓは一重線、ｄは二重線、ｔは三重線を表し、GC-MSにおいてＭ＋は分子イオンピークを表し、（ ）内は、最大ピークを100とした時の強度を示す。
なお、以下の実施例において、Ｃｒは結晶、Ｓｍはスメクチック相、Ｎはネマチック相、Ｉｓｏは等方性液体を表す。「Ｃｒ ４３．５ Ｎ １０３．０ Ｉｓｏ」という表記は、ＣｒとＮとの転移点が４３．５℃であり、ＮとＩｓｏとの転移点が１０３．０℃であることを示す。また、1H-NMRのデータ表示においてｓは一重線、ｄは二重線、ｔは三重線を表し、GC-MSにおいてＭ＋は分子イオンピークを表し、（ ）内は、最大ピークを100とした時の強度を示す。
実施例１
液晶性化合物２の製造方法の例
合成経路１による１−（トランス−４−（トランス−４−プロピルシクロヘキシル）シクロヘキシルジフルオロメトキシ）−３，４，５−トリフルオロベンゼン（化合物２においてｋ＝１、ｌ＝ｍ＝ｎ＝０、Ｒ１がｎ−プロピル基、環Ａ１がトランス−１，４−シクロヘキシレン基、Ｚ１が単結合、Ｙ１、Ｙ２共に水素原子、Ｙ３、Ｙ４およびＲ２が共にフッ素である化合物（化合物番号５７））の製造である。
液晶性化合物２の製造方法の例
合成経路１による１−（トランス−４−（トランス−４−プロピルシクロヘキシル）シクロヘキシルジフルオロメトキシ）−３，４，５−トリフルオロベンゼン（化合物２においてｋ＝１、ｌ＝ｍ＝ｎ＝０、Ｒ１がｎ−プロピル基、環Ａ１がトランス−１，４−シクロヘキシレン基、Ｚ１が単結合、Ｙ１、Ｙ２共に水素原子、Ｙ３、Ｙ４およびＲ２が共にフッ素である化合物（化合物番号５７））の製造である。
出発原料である化合物１の製造工程
窒素雰囲気下、亜鉛粉末13.8g(217mmol) と４−（トランス−４−プロピルシクロヘキシル）シクロヘキサノン37.1g(167mmol)をＴＨＦ83mlに懸濁させ、室温でブロモジフルオロ酢酸エチル40.9g(202mmol)のＴＨＦ(84ml)溶液を30分かけて滴下した。加熱して温度を50℃に保ち5時間撹拌したのち、氷冷して３Ｍ塩酸73mlを加え反応を停止した。分液後通常の後処理操作を行い、抽出液を減圧濃縮して粗状態の１−エトキシカルボニルジフルオロメチル−４−（トランス−４−プロピルシクロヘキシル）シクロヘキサノール 59.9gを得た。粗収率103％。
これを344mlのトルエンに溶解し、ピリジン66.0g(835mmol)、次いで塩化チオニル39.7g(334mmol) を加えて2.5時間80℃で撹拌した。氷浴で冷却後、３Ｍ塩酸334mlを加えて通常の後処理を行い抽出液を減圧濃縮し、残渣を減圧蒸留して48.8gの４−（トランス−4−プロピルシクロヘキシル)−１−シクロヘキセニルジフルオロ酢酸エチルを得た。２段階収率89％。
窒素雰囲気下、亜鉛粉末13.8g(217mmol) と４−（トランス−４−プロピルシクロヘキシル）シクロヘキサノン37.1g(167mmol)をＴＨＦ83mlに懸濁させ、室温でブロモジフルオロ酢酸エチル40.9g(202mmol)のＴＨＦ(84ml)溶液を30分かけて滴下した。加熱して温度を50℃に保ち5時間撹拌したのち、氷冷して３Ｍ塩酸73mlを加え反応を停止した。分液後通常の後処理操作を行い、抽出液を減圧濃縮して粗状態の１−エトキシカルボニルジフルオロメチル−４−（トランス−４−プロピルシクロヘキシル）シクロヘキサノール 59.9gを得た。粗収率103％。
これを344mlのトルエンに溶解し、ピリジン66.0g(835mmol)、次いで塩化チオニル39.7g(334mmol) を加えて2.5時間80℃で撹拌した。氷浴で冷却後、３Ｍ塩酸334mlを加えて通常の後処理を行い抽出液を減圧濃縮し、残渣を減圧蒸留して48.8gの４−（トランス−4−プロピルシクロヘキシル)−１−シクロヘキセニルジフルオロ酢酸エチルを得た。２段階収率89％。
工程（１）
４−（トランス−４−プロピルシクロヘキシル）−１−シクロヘキセニルジフルオロ酢酸エチル82.8g(252mmol)のエタノール(504ml)に溶液に1M水酸化ナトリウム水溶液504mlを氷冷しながら7分かけて滴下した。30分間撹拌した後、３Ｍ塩酸252mlを加えて通常の後処理を行い、抽出液を減圧濃縮して76.5gの粗生成物を得た。これをヘプタン750mlから再結晶させて70.8gの４−（トランス−４−プロピルシクロヘキシル）−１−シクロヘキセニルジフルオロ酢酸を得た。収率94％。
４−（トランス−４−プロピルシクロヘキシル）−１−シクロヘキセニルジフルオロ酢酸エチル82.8g(252mmol)のエタノール(504ml)に溶液に1M水酸化ナトリウム水溶液504mlを氷冷しながら7分かけて滴下した。30分間撹拌した後、３Ｍ塩酸252mlを加えて通常の後処理を行い、抽出液を減圧濃縮して76.5gの粗生成物を得た。これをヘプタン750mlから再結晶させて70.8gの４−（トランス−４−プロピルシクロヘキシル）−１−シクロヘキセニルジフルオロ酢酸を得た。収率94％。
工程（２）
４−（トランス−４−プロピルシクロヘキシル）−１−シクロヘキセニルジフルオロ酢酸24.0g(80mmol)に塩化チオニル160mlを加え5時間還流させた。反応液を減圧濃縮して過剰の塩化チオニルを留去し、残渣を減圧蒸留して４−（トランス−４−プロピルシクロヘキシル）−１−シクロヘキセニルジフルオロアセチルクロリド24.3gを得た。収率95％。
４−（トランス−４−プロピルシクロヘキシル）−１−シクロヘキセニルジフルオロ酢酸24.0g(80mmol)に塩化チオニル160mlを加え5時間還流させた。反応液を減圧濃縮して過剰の塩化チオニルを留去し、残渣を減圧蒸留して４−（トランス−４−プロピルシクロヘキシル）−１−シクロヘキセニルジフルオロアセチルクロリド24.3gを得た。収率95％。
工程（３）
ナトリウムオマジン13.4g(90mmol)のブロモトリクロロメタン(90ml)懸濁液を還流させ、これに４−（トランス−４−プロピルシクロヘキシル）−１−シクロヘキセニルジフルオロアセチルクロリド19.1g(60mmol) のブロモトリクロロメタン(90ml)溶液を20分かけて滴下した。さらに10分間還流させた後反応液を減圧濃縮し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(展開溶媒；ヘプタン)で精製して４−（トランス−４−プロピルシクロヘキシル）−１−ブロモジフルオロメチルシクロヘキセン17.1gを得た。収率85％。
ナトリウムオマジン13.4g(90mmol)のブロモトリクロロメタン(90ml)懸濁液を還流させ、これに４−（トランス−４−プロピルシクロヘキシル）−１−シクロヘキセニルジフルオロアセチルクロリド19.1g(60mmol) のブロモトリクロロメタン(90ml)溶液を20分かけて滴下した。さらに10分間還流させた後反応液を減圧濃縮し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(展開溶媒；ヘプタン)で精製して４−（トランス−４−プロピルシクロヘキシル）−１−ブロモジフルオロメチルシクロヘキセン17.1gを得た。収率85％。
工程（４）
３，４，５−トリフルオロフェノール8.15g(55mmol)、炭酸カリウム7.60g(55mmol)、臭化テトラブチルアンモニウム0.806g(2.5mmol)、および４−（トランス−４−プロピルシクロヘキシル）−１−ブロモジフルオロメチルシクロヘキセン16.8g(50mmol)のＤＭＦ(100ml) 懸濁液を115℃で30分間撹拌した後、冷却して水とトルエンを加えて通常の後処理を行い、抽出液を減圧濃縮し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開溶媒；ヘプタン）で精製して、１−（４−（トランス−４−プロピルシクロヘキシル）シクロヘキセン−１−イル−ジフルオロメトキシ）−３，４，５−トリフルオロベンゼン19.1gを無色結晶として得た。収率95％。
３，４，５−トリフルオロフェノール8.15g(55mmol)、炭酸カリウム7.60g(55mmol)、臭化テトラブチルアンモニウム0.806g(2.5mmol)、および４−（トランス−４−プロピルシクロヘキシル）−１−ブロモジフルオロメチルシクロヘキセン16.8g(50mmol)のＤＭＦ(100ml) 懸濁液を115℃で30分間撹拌した後、冷却して水とトルエンを加えて通常の後処理を行い、抽出液を減圧濃縮し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開溶媒；ヘプタン）で精製して、１−（４−（トランス−４−プロピルシクロヘキシル）シクロヘキセン−１−イル−ジフルオロメトキシ）−３，４，５−トリフルオロベンゼン19.1gを無色結晶として得た。収率95％。
工程（５）
１−（４−（トランス−４−プロピルシクロヘキシル）シクロヘキセン−１−イル−ジフルオロメトキシ）−３，４，５−トリフルオロベンゼン6.84g(17mmol) のトルエン(17ml)−エタノール(17ml)溶液に５％パラジウム炭素を0.684g加え、室温、水素原子圧0.5MPaで10時間撹拌した。反応液から触媒を濾別し、濾液を減圧濃縮した後、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(展開溶媒；ヘプタン)で精製し、更にヘプタン−エタノールの等量混合液から再結晶させて無色結晶の１−トランス−４−（トランス−４−プロピルシクロヘキシル）シクロヘキシル−ジフルオロメトキシ）−３，４，５−トリフルオロベンゼン4.81g得た。収率70％であった。
該化合物は液晶相を示し、以下に記す転移点を示した。
Ｃｒ ４３．５ Ｎ １０３．０ Ｉｓｏ
なお、各種スペクトルデータの測定結果は該化合物の構造を強く支持した。
1H-NMR (δ ppm, CDCl3): 0.87-1.34 (m, 20H), 1.57-2.02 (m, 7H), 6.82-6.85 (m, 2H)
19F-NMR (δ ppm, CDCl3): -79.33 (d, 2F, -CF2O-), -133.76−133.83 (m, 2F), -165.21−165.31 (m, 1F)
１−（４−（トランス−４−プロピルシクロヘキシル）シクロヘキセン−１−イル−ジフルオロメトキシ）−３，４，５−トリフルオロベンゼン6.84g(17mmol) のトルエン(17ml)−エタノール(17ml)溶液に５％パラジウム炭素を0.684g加え、室温、水素原子圧0.5MPaで10時間撹拌した。反応液から触媒を濾別し、濾液を減圧濃縮した後、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(展開溶媒；ヘプタン)で精製し、更にヘプタン−エタノールの等量混合液から再結晶させて無色結晶の１−トランス−４−（トランス−４−プロピルシクロヘキシル）シクロヘキシル−ジフルオロメトキシ）−３，４，５−トリフルオロベンゼン4.81g得た。収率70％であった。
該化合物は液晶相を示し、以下に記す転移点を示した。
Ｃｒ ４３．５ Ｎ １０３．０ Ｉｓｏ
なお、各種スペクトルデータの測定結果は該化合物の構造を強く支持した。
1H-NMR (δ ppm, CDCl3): 0.87-1.34 (m, 20H), 1.57-2.02 (m, 7H), 6.82-6.85 (m, 2H)
19F-NMR (δ ppm, CDCl3): -79.33 (d, 2F, -CF2O-), -133.76−133.83 (m, 2F), -165.21−165.31 (m, 1F)
実施例２
合成経路２による１−（トランス−４−（トランス−４−プロピルシクロヘキシル）シクロヘキシルジフルオロメトキシ）−３，４，５−トリフルオロベンゼン（化合物２においてｋ＝１、ｌ＝ｍ＝ｎ＝０、Ｒ１がｎ−プロピル基、環Ａ１がトランス−１，４−シクロヘキシレン基、Ｚ１が単結合、Ｙ１およびＹ２が共に水素原子、Ｙ３、Ｙ４およびＲ２が共にフッ素原子である化合物（化合物番号５７）の製造である。
合成経路２による１−（トランス−４−（トランス−４−プロピルシクロヘキシル）シクロヘキシルジフルオロメトキシ）−３，４，５−トリフルオロベンゼン（化合物２においてｋ＝１、ｌ＝ｍ＝ｎ＝０、Ｒ１がｎ−プロピル基、環Ａ１がトランス−１，４−シクロヘキシレン基、Ｚ１が単結合、Ｙ１およびＹ２が共に水素原子、Ｙ３、Ｙ４およびＲ２が共にフッ素原子である化合物（化合物番号５７）の製造である。
工程（１）
前記実施例１工程（１）に準じて、４−（トランス−４−プロピルシクロヘキシル）−１−シクロヘキセニルジフルオロ酢酸を製造した。
前記実施例１工程（１）に準じて、４−（トランス−４−プロピルシクロヘキシル）−１−シクロヘキセニルジフルオロ酢酸を製造した。
工程（２’）
４−（トランス−４−プロピルシクロヘキシル）−１−シクロヘキセニルジフルオロ酢酸24.0g(80mmol)、オマジン12.2g(96mmol)およびＤＭＡＰ0.49g(4mmol)のブロモトリクロロメタン(160ml)溶液を氷冷し、これにＤＣＣ19.8g(96mmol)のブロモトリクロロメタン(20ml)溶液を10分かけて滴下した。さらに24時間そのままの温度で反応させた後、70℃で30分撹拌した。反応液を室温まで冷却した後、不溶物を濾別し、濾液を減圧濃縮し、残渣を減圧蒸留して４−（トランス−４−プロピルシクロヘキシル）−１−ブロモジフルオロメチルシクロヘキセン17.1gを得た。収率85％。
４−（トランス−４−プロピルシクロヘキシル）−１−シクロヘキセニルジフルオロ酢酸24.0g(80mmol)、オマジン12.2g(96mmol)およびＤＭＡＰ0.49g(4mmol)のブロモトリクロロメタン(160ml)溶液を氷冷し、これにＤＣＣ19.8g(96mmol)のブロモトリクロロメタン(20ml)溶液を10分かけて滴下した。さらに24時間そのままの温度で反応させた後、70℃で30分撹拌した。反応液を室温まで冷却した後、不溶物を濾別し、濾液を減圧濃縮し、残渣を減圧蒸留して４−（トランス−４−プロピルシクロヘキシル）−１−ブロモジフルオロメチルシクロヘキセン17.1gを得た。収率85％。
工程（４）
前記実施例１工程（４）に準じて、１−（４−（トランス−４−プロピルシクロヘキシル）シクロヘキセン−１−イル−ジフルオロメトキシ）−３，４，５−トリフルオロベンゼンを無色結晶として得た。収率95％であった。
前記実施例１工程（４）に準じて、１−（４−（トランス−４−プロピルシクロヘキシル）シクロヘキセン−１−イル−ジフルオロメトキシ）−３，４，５−トリフルオロベンゼンを無色結晶として得た。収率95％であった。
工程（５）
前記実施例１工程（５）に準じて、１−トランス−４−（トランス−４−プロピルシクロヘキシル）シクロヘキシル−ジフルオロメトキシ）−３，４，５−トリフルオロベンゼン4.81gを得た。収率70％であった。
前記実施例１工程（５）に準じて、１−トランス−４−（トランス−４−プロピルシクロヘキシル）シクロヘキシル−ジフルオロメトキシ）−３，４，５−トリフルオロベンゼン4.81gを得た。収率70％であった。
実施例３
合成経路１による１−（トランス−４−（トランス−４−ペンチルシクロヘキシル）シクロヘキシルジフルオロメトキシ）−４−トリフルオロメトキシベンゼン（化合物２においてｋ＝１、ｌ＝ｍ＝ｎ＝０、Ｒ１がｎ−ペンチル基、環Ａ１がトランス１，４−シクロヘキシレン基、Ｚ１が単結合、Ｙ１、Ｙ２、Ｙ３およびＹ４が共に水素原子、Ｒ２がトリフルオロメトキシ基である化合物（化合物番号５８）の製造である。
合成経路１による１−（トランス−４−（トランス−４−ペンチルシクロヘキシル）シクロヘキシルジフルオロメトキシ）−４−トリフルオロメトキシベンゼン（化合物２においてｋ＝１、ｌ＝ｍ＝ｎ＝０、Ｒ１がｎ−ペンチル基、環Ａ１がトランス１，４−シクロヘキシレン基、Ｚ１が単結合、Ｙ１、Ｙ２、Ｙ３およびＹ４が共に水素原子、Ｒ２がトリフルオロメトキシ基である化合物（化合物番号５８）の製造である。
出発原料である化合物１の製造工程
窒素雰囲気下、亜鉛粉末13.8g(217mmol)と４−（トランス−４−ペンチルシクロヘキシル）シクロヘキサノン41.8g(167mmol)を83mlのＴＨＦに懸濁させ、室温でブロモジフルオロ酢酸エチル40.9g(202mmol)のＴＨＦ(84ml)溶液を30分かけて滴下した。加熱して温度を50℃に保ち5時間撹拌したのち、氷冷して３Ｍ塩酸73mlを加え反応を停止した。分液後通常の後処理操作を行い、抽出液を減圧濃縮して粗状態の１−エトキシカルボニルジフルオロメチル−４−（トランス−４−ペンチルシクロヘキシル）シクロヘキサノール67.5gを得た。粗収率103％であった。
これをトルエン344mlに溶解し、ピリジン66.0g(835mmol)、次いで塩化チオニル39.7g(334mmol) を加えて2.5時間80℃で撹拌した。氷浴で冷却後、３Ｍ塩酸334mlを加えて通常の後処理を行い抽出液を減圧濃縮し、残渣を減圧蒸留して４−（トランス−４−ペンチルシクロヘキシル)−１−シクロヘキセニルジフルオロ酢酸エチル55.1gを得た。２段階収率89％。
窒素雰囲気下、亜鉛粉末13.8g(217mmol)と４−（トランス−４−ペンチルシクロヘキシル）シクロヘキサノン41.8g(167mmol)を83mlのＴＨＦに懸濁させ、室温でブロモジフルオロ酢酸エチル40.9g(202mmol)のＴＨＦ(84ml)溶液を30分かけて滴下した。加熱して温度を50℃に保ち5時間撹拌したのち、氷冷して３Ｍ塩酸73mlを加え反応を停止した。分液後通常の後処理操作を行い、抽出液を減圧濃縮して粗状態の１−エトキシカルボニルジフルオロメチル−４−（トランス−４−ペンチルシクロヘキシル）シクロヘキサノール67.5gを得た。粗収率103％であった。
これをトルエン344mlに溶解し、ピリジン66.0g(835mmol)、次いで塩化チオニル39.7g(334mmol) を加えて2.5時間80℃で撹拌した。氷浴で冷却後、３Ｍ塩酸334mlを加えて通常の後処理を行い抽出液を減圧濃縮し、残渣を減圧蒸留して４−（トランス−４−ペンチルシクロヘキシル)−１−シクロヘキセニルジフルオロ酢酸エチル55.1gを得た。２段階収率89％。
工程（１）
４−（トランス−４−ペンチルシクロヘキシル）−１−シクロヘキセニルジフルオロ酢酸エチル83.6g(252mmol)のエタノール(504ml)に溶液に1M水酸化ナトリウム水溶液504mlを氷冷しながら7分かけて滴下した。30分間撹拌した後、３Ｍ塩酸252 mlを加えて通常の後処理を行い、抽出液を減圧濃縮して86.4gの粗生成物を得た。これをヘプタン750mlから再結晶させて、４−（トランス−４−ペンチルシクロヘキシル）−１−シクロヘキセニルジフルオロ酢酸80.0gを得た。収率94％。
４−（トランス−４−ペンチルシクロヘキシル）−１−シクロヘキセニルジフルオロ酢酸エチル83.6g(252mmol)のエタノール(504ml)に溶液に1M水酸化ナトリウム水溶液504mlを氷冷しながら7分かけて滴下した。30分間撹拌した後、３Ｍ塩酸252 mlを加えて通常の後処理を行い、抽出液を減圧濃縮して86.4gの粗生成物を得た。これをヘプタン750mlから再結晶させて、４−（トランス−４−ペンチルシクロヘキシル）−１−シクロヘキセニルジフルオロ酢酸80.0gを得た。収率94％。
工程（２）
４−（トランス−４−ペンチルシクロヘキシル）−１−シクロヘキセニルジフルオロ酢酸27.1g(80mmol)に塩化チオニル160mlを加え5時間還流させた。反応液を減圧濃縮して過剰の塩化チオニルを留去し、残渣を減圧蒸留して４−（トランス−４−ペンチルシクロヘキシル）−１−シクロヘキセニルジフルオロアセチルクロリド27.5gを得た。収率95％。
４−（トランス−４−ペンチルシクロヘキシル）−１−シクロヘキセニルジフルオロ酢酸27.1g(80mmol)に塩化チオニル160mlを加え5時間還流させた。反応液を減圧濃縮して過剰の塩化チオニルを留去し、残渣を減圧蒸留して４−（トランス−４−ペンチルシクロヘキシル）−１−シクロヘキセニルジフルオロアセチルクロリド27.5gを得た。収率95％。
工程（３）
ナトリウムオマジン13.4g(90mmol) のブロモトリクロロメタン(90ml)懸濁液を還流させ、これに４−（トランス−４−ペンチルシクロヘキシル）−１−シクロヘキセニルジフルオロアセチルクロリド21.2g(60mmol) のブロモトリクロロメタン(90ml)溶液を20分かけて滴下した。さらに10分間還流させた後反応液を減圧濃縮し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(ヘプタン)で精製して４−（トランス-4-ペンチルシクロヘキシル）−１−ブロモジフルオロメチルシクロヘキセン19.3gを得た。収率85％。
ナトリウムオマジン13.4g(90mmol) のブロモトリクロロメタン(90ml)懸濁液を還流させ、これに４−（トランス−４−ペンチルシクロヘキシル）−１−シクロヘキセニルジフルオロアセチルクロリド21.2g(60mmol) のブロモトリクロロメタン(90ml)溶液を20分かけて滴下した。さらに10分間還流させた後反応液を減圧濃縮し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(ヘプタン)で精製して４−（トランス-4-ペンチルシクロヘキシル）−１−ブロモジフルオロメチルシクロヘキセン19.3gを得た。収率85％。
工程（４）
４−トリフルオロメトキシフェノール9.80g(55mmol)、炭酸カリウム7.60g(55mmol)、臭化テトラブチルアンモニウム0.806g(2.5mmol)、および４−（トランス−４−ペンチルシクロヘキシル)−１−ブロモジフルオロメチルシクロヘキセン 19.0g(50mmol)のＤＭＦ(100ml)懸濁液を115 ℃で30分間撹拌した後、冷却して水とトルエンを加えて通常の後処理を行い、抽出液を減圧濃縮し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(展開溶媒；ヘプタン)で精製して、１−（トランス−４−（トランス−４−ペンチルシクロヘキシル）シクロヘキセン−１−イルジフルオロメトキシ）−４−トリフルオロメトキシベンゼン21.9gを無色結晶として得た。収率95％。
４−トリフルオロメトキシフェノール9.80g(55mmol)、炭酸カリウム7.60g(55mmol)、臭化テトラブチルアンモニウム0.806g(2.5mmol)、および４−（トランス−４−ペンチルシクロヘキシル)−１−ブロモジフルオロメチルシクロヘキセン 19.0g(50mmol)のＤＭＦ(100ml)懸濁液を115 ℃で30分間撹拌した後、冷却して水とトルエンを加えて通常の後処理を行い、抽出液を減圧濃縮し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(展開溶媒；ヘプタン)で精製して、１−（トランス−４−（トランス−４−ペンチルシクロヘキシル）シクロヘキセン−１−イルジフルオロメトキシ）−４−トリフルオロメトキシベンゼン21.9gを無色結晶として得た。収率95％。
工程（５）
１−（トランス−４−（トランス−４−ペンチルシクロヘキシル）シクロヘキセン−１−イルジフルオロメトキシ）−４−トリフルオロメトキシベンゼン7.82g(17mmol)のトルエン(17ml)−エタノール(17ml) 溶液に５％パラジウム炭素を0.684g加え、室温、水素原子圧0.5Mpaで10時間撹拌した。反応液から触媒を濾別し、濾液を減圧濃縮した後、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー (ヘプタン) で精製し、更にヘプタン−エタノールの等量混合液から再結晶させて無色結晶の１−（トランス−４−（トランス−４−ペンチルシクロヘキシル）シクロヘキシルジフルオロメトキシ）−４−トリフルオロメトキシベンゼン5.50gを得た。収率70％。該化合物は液晶相を示し、以下に記す転移点を示した。
Ｃｒ ３５．１ Ｓｍ １１６．７ Ｎ １５６．９ Ｉｓｏ
なお、各種スペクトルデータの測定結果は該化合物の構造を強く支持した。
1H-NMR (δ ppm, CDCl3): 0.6-2.2 (m, 31H), 7.19 (bs, 4H)
19F-NMR (δ ppm, CDCl3): -51.68 (s, 3F, -OCF3), -78.77 (s, 2F, -CF2O-)
１−（トランス−４−（トランス−４−ペンチルシクロヘキシル）シクロヘキセン−１−イルジフルオロメトキシ）−４−トリフルオロメトキシベンゼン7.82g(17mmol)のトルエン(17ml)−エタノール(17ml) 溶液に５％パラジウム炭素を0.684g加え、室温、水素原子圧0.5Mpaで10時間撹拌した。反応液から触媒を濾別し、濾液を減圧濃縮した後、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー (ヘプタン) で精製し、更にヘプタン−エタノールの等量混合液から再結晶させて無色結晶の１−（トランス−４−（トランス−４−ペンチルシクロヘキシル）シクロヘキシルジフルオロメトキシ）−４−トリフルオロメトキシベンゼン5.50gを得た。収率70％。該化合物は液晶相を示し、以下に記す転移点を示した。
Ｃｒ ３５．１ Ｓｍ １１６．７ Ｎ １５６．９ Ｉｓｏ
なお、各種スペクトルデータの測定結果は該化合物の構造を強く支持した。
1H-NMR (δ ppm, CDCl3): 0.6-2.2 (m, 31H), 7.19 (bs, 4H)
19F-NMR (δ ppm, CDCl3): -51.68 (s, 3F, -OCF3), -78.77 (s, 2F, -CF2O-)
実施例４
合成経路２による１−（トランス−４−（トランス−４−ペンチルシクロヘキシル）シクロヘキシルジフルオロメトキシ）−４−トリフルオロメトキシベンゼン（化合物２においてｋ＝１、ｌ＝ｍ＝ｎ＝０、Ｒ１がｎ−ペンチル基、環Ａ１がトランス−１，４−シクロヘキシレン基、Ｚ１が単結合、Ｙ１、Ｙ２、Ｙ３、およびＹ４が共に水素原子、Ｒ２がトリフルオロメトキシ基である化合物（化合物番号５８）の製造である。
合成経路２による１−（トランス−４−（トランス−４−ペンチルシクロヘキシル）シクロヘキシルジフルオロメトキシ）−４−トリフルオロメトキシベンゼン（化合物２においてｋ＝１、ｌ＝ｍ＝ｎ＝０、Ｒ１がｎ−ペンチル基、環Ａ１がトランス−１，４−シクロヘキシレン基、Ｚ１が単結合、Ｙ１、Ｙ２、Ｙ３、およびＹ４が共に水素原子、Ｒ２がトリフルオロメトキシ基である化合物（化合物番号５８）の製造である。
工程（１）
前記実施例１の工程（１）により４−（トランス−４−ペンチルシクロヘキシル）−１−シクロヘキセニルジフルオロ酢酸を製造した。
前記実施例１の工程（１）により４−（トランス−４−ペンチルシクロヘキシル）−１−シクロヘキセニルジフルオロ酢酸を製造した。
工程（２’）
４−（トランス−４−プロピルシクロヘキシル）−１−シクロヘキセニルジフルオロ酢酸24.0g(80mmol)、オマジン12.2g(96mmol)およびＤＭＡＰ0.49g(4mmol)のブロモトリクロロメタン(160ml)溶液を氷冷し、これにＤＣＣ19.8g(96mmol)のブロモトリクロロメタン(20ml)溶液を10分かけて滴下した。さらに24時間そのままの温度で反応させた後、70℃で30分撹拌した。反応液を室温まで冷却した後、不溶物を濾別し、濾液を減圧濃縮し、残渣を減圧蒸留して４−（トランス−４−プロピルシクロヘキシル）−１−ブロモジフルオロメチルシクロヘキセン17.1gを得た。収率85％。
４−（トランス−４−プロピルシクロヘキシル）−１−シクロヘキセニルジフルオロ酢酸24.0g(80mmol)、オマジン12.2g(96mmol)およびＤＭＡＰ0.49g(4mmol)のブロモトリクロロメタン(160ml)溶液を氷冷し、これにＤＣＣ19.8g(96mmol)のブロモトリクロロメタン(20ml)溶液を10分かけて滴下した。さらに24時間そのままの温度で反応させた後、70℃で30分撹拌した。反応液を室温まで冷却した後、不溶物を濾別し、濾液を減圧濃縮し、残渣を減圧蒸留して４−（トランス−４−プロピルシクロヘキシル）−１−ブロモジフルオロメチルシクロヘキセン17.1gを得た。収率85％。
工程（４）
前記実施例３の工程（４）に準じた方法で、１−（トランス−４−（トランス−４−ペンチルシクロヘキシル）シクロヘキセン−１−イルジフルオロメトキシ）−４−トリフルオロメトキシベンゼン21.9gを無色結晶として得た。収率95％。
前記実施例３の工程（４）に準じた方法で、１−（トランス−４−（トランス−４−ペンチルシクロヘキシル）シクロヘキセン−１−イルジフルオロメトキシ）−４−トリフルオロメトキシベンゼン21.9gを無色結晶として得た。収率95％。
工程（５）
前記実施例３の工程（５）に準じた方法で、１−（トランス−４−（トランス−４−ペンチルシクロヘキシル）シクロヘキシルジフルオロメトキシ）−４−トリフルオロメトキシベンゼン5.50gを得た。収率70％。
前記実施例３の工程（５）に準じた方法で、１−（トランス−４−（トランス−４−ペンチルシクロヘキシル）シクロヘキシルジフルオロメトキシ）−４−トリフルオロメトキシベンゼン5.50gを得た。収率70％。
実施例５
合成経路７による１−（３−（トランス４−（トランス−４−ペンチルシクロヘキシル）−１，１−ジフルオロ−２−プロペニルオキシ）−３，４，５−トリフルオロベンゼン（化合物１６においてｋ＝１、ｌ＝ｍ＝ｎ＝ｏ＝０、Ｒ１がｎ−ペンチル基、環Ａ１、環Ａ５がともにトランス−１，４−シクロヘキシレン基、Ｚ１が単結合、Ｙ１およびＹ２がともに水素原子、Ｙ３、Ｙ４およびＲ２がともにフッ素原子である化合物（化合物番号１４５）の製造である。
合成経路７による１−（３−（トランス４−（トランス−４−ペンチルシクロヘキシル）−１，１−ジフルオロ−２−プロペニルオキシ）−３，４，５−トリフルオロベンゼン（化合物１６においてｋ＝１、ｌ＝ｍ＝ｎ＝ｏ＝０、Ｒ１がｎ−ペンチル基、環Ａ１、環Ａ５がともにトランス−１，４−シクロヘキシレン基、Ｚ１が単結合、Ｙ１およびＹ２がともに水素原子、Ｙ３、Ｙ４およびＲ２がともにフッ素原子である化合物（化合物番号１４５）の製造である。
出発原料である化合物１１の製造工程
窒素雰囲気下、亜鉛粉末13.8g(217mmol)と４−（トラン−４−ペンチルシクロヘキシル）シクロヘキシルアセトアルデヒド46.5g(167mmol)を83mlのＴＨＦに懸濁させ、室温でブロモジフルオロ酢酸エチル40.9g(202mmol)のＴＨＦ(84ml)溶液を30分かけて滴下した。加熱して温度を50℃に保ち5時間撹拌したのち、氷冷して３Ｍ塩酸73mlを加え反応を停止した。分液後通常の後処理操作を行い、抽出液を減圧濃縮して粗状態の１−エトキシカルボニルジフルオロメチル−２−（トランス−４−（トランス−４−ペンチルシクロヘキシル）シクロヘキシル）エタノール69.3gを得た。粗収率103％。これを344mlのトルエンに溶解し、ピリジン66.0g(835mmol)、次いで塩化チオニル39.7g(334mmol) を加えて2.5時間80℃で撹拌した。氷浴で冷却後、３Ｍ塩酸334mlを加えて通常の後処理を行い抽出液を減圧濃縮し、残渣を減圧蒸留して、Ｅ−１−エトキシカルボニルジフルオロメチル−２−（トランス−４−（トランス−４−ペンチルシクロヘキシル)シクロヘキシル）エチレン59.5gを得た。２段階収率89％。
窒素雰囲気下、亜鉛粉末13.8g(217mmol)と４−（トラン−４−ペンチルシクロヘキシル）シクロヘキシルアセトアルデヒド46.5g(167mmol)を83mlのＴＨＦに懸濁させ、室温でブロモジフルオロ酢酸エチル40.9g(202mmol)のＴＨＦ(84ml)溶液を30分かけて滴下した。加熱して温度を50℃に保ち5時間撹拌したのち、氷冷して３Ｍ塩酸73mlを加え反応を停止した。分液後通常の後処理操作を行い、抽出液を減圧濃縮して粗状態の１−エトキシカルボニルジフルオロメチル−２−（トランス−４−（トランス−４−ペンチルシクロヘキシル）シクロヘキシル）エタノール69.3gを得た。粗収率103％。これを344mlのトルエンに溶解し、ピリジン66.0g(835mmol)、次いで塩化チオニル39.7g(334mmol) を加えて2.5時間80℃で撹拌した。氷浴で冷却後、３Ｍ塩酸334mlを加えて通常の後処理を行い抽出液を減圧濃縮し、残渣を減圧蒸留して、Ｅ−１−エトキシカルボニルジフルオロメチル−２−（トランス−４−（トランス−４−ペンチルシクロヘキシル)シクロヘキシル）エチレン59.5gを得た。２段階収率89％。
工程（１２）
Ｅ−１−エトキシカルボニルジフルオロメチル−２−（トランス−４−（トランス−４−ペンチルシクロヘキシル)シクロヘキシル）エチレン101.0g(252mmol)のエタノール(504ml)に溶液に1M水酸化ナトリウム水溶液504mlを氷冷しながら7分かけて滴下した。30分間撹拌した後、３Ｍ塩酸252mlを加えて通常の後処理を行い、抽出液を減圧濃縮して粗生成物86.4gを得た。これをヘプタン750mlから再結晶させて、Ｅ−２−（トランス−４−（トランス−４−ペンチルシクロヘキシル)シクロヘキシル）エテニルジフルオロ酢酸88.2gを得た。収率94％。
Ｅ−１−エトキシカルボニルジフルオロメチル−２−（トランス−４−（トランス−４−ペンチルシクロヘキシル)シクロヘキシル）エチレン101.0g(252mmol)のエタノール(504ml)に溶液に1M水酸化ナトリウム水溶液504mlを氷冷しながら7分かけて滴下した。30分間撹拌した後、３Ｍ塩酸252mlを加えて通常の後処理を行い、抽出液を減圧濃縮して粗生成物86.4gを得た。これをヘプタン750mlから再結晶させて、Ｅ−２−（トランス−４−（トランス−４−ペンチルシクロヘキシル)シクロヘキシル）エテニルジフルオロ酢酸88.2gを得た。収率94％。
工程（１３）
Ｅ−２−（トランス−４−（トランス−４−ペンチルシクロヘキシル)シクロヘキシル）エテニルジフルオロ酢酸29.8g(80mmol)に塩化チオニル160mlを加え5時間還流させた。反応液を減圧濃縮して過剰の塩化チオニルを留去し、残渣を減圧蒸留してＥ−２−（トランス−４−（トランス−４−ペンチルシクロヘキシル)シクロヘキシル）エテニルジフルオロアセチルクロリド29.7gを得た。収率95％。
Ｅ−２−（トランス−４−（トランス−４−ペンチルシクロヘキシル)シクロヘキシル）エテニルジフルオロ酢酸29.8g(80mmol)に塩化チオニル160mlを加え5時間還流させた。反応液を減圧濃縮して過剰の塩化チオニルを留去し、残渣を減圧蒸留してＥ−２−（トランス−４−（トランス−４−ペンチルシクロヘキシル)シクロヘキシル）エテニルジフルオロアセチルクロリド29.7gを得た。収率95％。
工程（１４）
ナトリウムオマジン13.4g(90mmol)のブロモトリクロロメタン(90ml)懸濁液を還流させ、これにＥ−２−（トランス−４−（トランス−４−ペンチルシクロヘキシル)シクロヘキシル）エテニルジフルオロアセチルクロリド23.5g(60mmol) のブロモトリクロロメタン(90ml)溶液を20分かけて滴下した。さらに10分間還流させた後反応液を減圧濃縮し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(展開溶媒；ヘプタン)で精製して、Ｅ−１−ブロモジフルオロメチル−２−（トランス−４−（トランス−４−ペンチルシクロヘキシル)シクロヘキシル）エチレン20.8gを得た。収率85％。
ナトリウムオマジン13.4g(90mmol)のブロモトリクロロメタン(90ml)懸濁液を還流させ、これにＥ−２−（トランス−４−（トランス−４−ペンチルシクロヘキシル)シクロヘキシル）エテニルジフルオロアセチルクロリド23.5g(60mmol) のブロモトリクロロメタン(90ml)溶液を20分かけて滴下した。さらに10分間還流させた後反応液を減圧濃縮し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(展開溶媒；ヘプタン)で精製して、Ｅ−１−ブロモジフルオロメチル−２−（トランス−４−（トランス−４−ペンチルシクロヘキシル)シクロヘキシル）エチレン20.8gを得た。収率85％。
工程（１５）
３，４，５−トリフルオロフェノール8.15g(55mmol)、炭酸カリウム7.60g(55mmol)、臭化テトラブチルアンモニウム0.806g(2.5mmol)、およびＥ−１−ブロモジフルオロメチル−２−（トランス−４−（トランス−４−ペンチルシクロヘキシル）シクロヘキシル）エチレン20.4g(50mmol)のＤＭＨ(100ml)懸濁液を115℃で30分間撹拌した後、冷却して水とトルエンを加えて通常の後処理を行い、抽出液を減圧濃縮し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(展開溶媒；ヘプタン)で精製して、１−（３−（トランス４−（トランス−４−ペンチルシクロヘキシル）−１，１−ジフルオロ−２−プロペニルオキシ）−３，４，５−トリフルオロベンゼン（化合物番号１４５）22.5gを無色結晶として得た。収率95％。
３，４，５−トリフルオロフェノール8.15g(55mmol)、炭酸カリウム7.60g(55mmol)、臭化テトラブチルアンモニウム0.806g(2.5mmol)、およびＥ−１−ブロモジフルオロメチル−２−（トランス−４−（トランス−４−ペンチルシクロヘキシル）シクロヘキシル）エチレン20.4g(50mmol)のＤＭＨ(100ml)懸濁液を115℃で30分間撹拌した後、冷却して水とトルエンを加えて通常の後処理を行い、抽出液を減圧濃縮し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(展開溶媒；ヘプタン)で精製して、１−（３−（トランス４−（トランス−４−ペンチルシクロヘキシル）−１，１−ジフルオロ−２−プロペニルオキシ）−３，４，５−トリフルオロベンゼン（化合物番号１４５）22.5gを無色結晶として得た。収率95％。
実施例６
合成経路８による１−（３−（トランス４−（トランス−４−ペンチルシクロヘキシル）−１，１−ジフルオロ−２−プロペニルオキシ）−３，４，５−トリフルオロベンゼン（化合物１６においてｋ＝１、ｌ＝ｍ＝ｎ＝ｏ＝０、Ｒ１がｎ−ペンチル基、環Ａ１、環Ａ５がともにトランス−１，４−シクロヘキシレン基、ｚ１が単結合、Ｙ１およびＹ２がともに水素原子、Ｙ３、Ｙ４およびＲ２がともにフッ素原子である化合物（化合物番号１４５）の製造である。
合成経路８による１−（３−（トランス４−（トランス−４−ペンチルシクロヘキシル）−１，１−ジフルオロ−２−プロペニルオキシ）−３，４，５−トリフルオロベンゼン（化合物１６においてｋ＝１、ｌ＝ｍ＝ｎ＝ｏ＝０、Ｒ１がｎ−ペンチル基、環Ａ１、環Ａ５がともにトランス−１，４−シクロヘキシレン基、ｚ１が単結合、Ｙ１およびＹ２がともに水素原子、Ｙ３、Ｙ４およびＲ２がともにフッ素原子である化合物（化合物番号１４５）の製造である。
工程（１２）
前記実施例５の工程（１２）によりＥ−２−（トランス−４−（トランス−４−ペンチルシクロヘキシル）シクロヘキシル）エテニルジフルオロ酢酸を製造した。
前記実施例５の工程（１２）によりＥ−２−（トランス−４−（トランス−４−ペンチルシクロヘキシル）シクロヘキシル）エテニルジフルオロ酢酸を製造した。
工程（１３’）
Ｅ−２−（トランス−４−（トランス−４−ペンチルシクロヘキシル）シクロヘキシル）エテニルジフルオロ酢酸29.8g(80mmol)、オマジン12.2 g(96mmol) およびＤＭＡＰ0.49g(4mmol)のブロモトリクロロメタン(160ml)溶液を氷冷し、これにＤＣＣ19.8g(96mmol)のブロモトリクロロメタン(20ml)溶液を10分かけて滴下した。さらに24時間そのままの温度で反応させた後、70℃で30分撹拌した。反応液を室温まで冷却した後、不溶物を濾別し、濾液を減圧濃縮し、残渣を減圧蒸留してＥ−１−ブロモジフルオロメチル−２−（トランス−４−（トランス−４−ペンチルシクロヘキシル）シクロヘキシル）エチレン20.8gを得た。収率85％。
Ｅ−２−（トランス−４−（トランス−４−ペンチルシクロヘキシル）シクロヘキシル）エテニルジフルオロ酢酸29.8g(80mmol)、オマジン12.2 g(96mmol) およびＤＭＡＰ0.49g(4mmol)のブロモトリクロロメタン(160ml)溶液を氷冷し、これにＤＣＣ19.8g(96mmol)のブロモトリクロロメタン(20ml)溶液を10分かけて滴下した。さらに24時間そのままの温度で反応させた後、70℃で30分撹拌した。反応液を室温まで冷却した後、不溶物を濾別し、濾液を減圧濃縮し、残渣を減圧蒸留してＥ−１−ブロモジフルオロメチル−２−（トランス−４−（トランス−４−ペンチルシクロヘキシル）シクロヘキシル）エチレン20.8gを得た。収率85％。
工程（１５）
前記実施例５の工程（４）に準じた方法で、１−（３−（トランス４−（トランス−４−ペンチルシクロヘキシル）−１，１−ジフルオロ−２−プロペニルオキシ）−３，４，５−トリフルオロベンゼン（化合物番号１４５）22.5gを無色結晶として得た。収率95％。
前記実施例５の工程（４）に準じた方法で、１−（３−（トランス４−（トランス−４−ペンチルシクロヘキシル）−１，１−ジフルオロ−２−プロペニルオキシ）−３，４，５−トリフルオロベンゼン（化合物番号１４５）22.5gを無色結晶として得た。収率95％。
実施例７
１−（３−（トランス４−（トランス−４−ペンチルシクロヘキシル）シクロヘキシル−１，１−ジフルオロプロポキシ）−３，４，５−トリフルオロベンゼン（化合物１２においてｋ＝１、ｌ＝ｍ＝ｎ＝ｏ＝０、Ｒ１がｎ−ペンチル基、環Ａ１、環Ａ５がともにトランス−１，４−シクロヘキシレン基、Ｚ１が単結合、Ｙ１およびＹ２がともに水素原子、Ｙ３、Ｙ４およびＲ２がともにフッ素原子である化合物（化合物番号１０６）の製造である。
１−（３−（トランス４−（トランス−４−ペンチルシクロヘキシル）シクロヘキシル−１，１−ジフルオロプロポキシ）−３，４，５−トリフルオロベンゼン（化合物１２においてｋ＝１、ｌ＝ｍ＝ｎ＝ｏ＝０、Ｒ１がｎ−ペンチル基、環Ａ１、環Ａ５がともにトランス−１，４−シクロヘキシレン基、Ｚ１が単結合、Ｙ１およびＹ２がともに水素原子、Ｙ３、Ｙ４およびＲ２がともにフッ素原子である化合物（化合物番号１０６）の製造である。
工程（１６）
上記実施例５で得られた１−（３−（トランス４−（トランス−４−ペンチルシクロヘキシル）−１，１−ジフルオロ−２−プロペニルオキシ）−３，４，５−トリフルオロベンゼン8.07g(17mmol)のトルエン(17ml)−エタノール(17ml)溶液に５％パラジウム炭素0.684gを加え、室温、水素原子圧0.5MPaで10時間撹拌した。反応液から触媒を濾別し、濾液を減圧濃縮した後、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(展開溶媒；ヘプタン)で精製し、更にヘプタン−エタノールの等量混合液から再結晶させて無色結晶の１−（３−（トランス４−（トランス−４−ペンチルシクロヘキシル）シクロヘキシル−１，１−ジフルオロプロポキシ）−３，４，５−トリフルオロベンゼン5.67gを得た。収率70％。
該化合物は液晶相を示し、以下に記す転移点を示した。
Ｃｒ ６５．５ （ＳＡ ５０．７６） Ｎ １１６．９ Ｉｓｏ
なお、各種スペクトルデータの測定結果は該化合物の構造を強く支持した。
1H-NMR (δ ppm, CDCl3): 2.2 (m, 35H), 6.88 (m, 2H)
19F-NMR (δ ppm, CDCl3): -79.26 (t, 2F, -CF2O-), -133.53〜-133.65 (m, 2F), -165.00〜-165.06 (m, 1F)
GC-MS (EI): 460 (M+, 12.5％), 148 (92.4), 97 (93.6), 83 (100), 81 (55), 69 (54.9), 55 (76.4), 41 (30.7)
上記実施例５で得られた１−（３−（トランス４−（トランス−４−ペンチルシクロヘキシル）−１，１−ジフルオロ−２−プロペニルオキシ）−３，４，５−トリフルオロベンゼン8.07g(17mmol)のトルエン(17ml)−エタノール(17ml)溶液に５％パラジウム炭素0.684gを加え、室温、水素原子圧0.5MPaで10時間撹拌した。反応液から触媒を濾別し、濾液を減圧濃縮した後、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(展開溶媒；ヘプタン)で精製し、更にヘプタン−エタノールの等量混合液から再結晶させて無色結晶の１−（３−（トランス４−（トランス−４−ペンチルシクロヘキシル）シクロヘキシル−１，１−ジフルオロプロポキシ）−３，４，５−トリフルオロベンゼン5.67gを得た。収率70％。
該化合物は液晶相を示し、以下に記す転移点を示した。
Ｃｒ ６５．５ （ＳＡ ５０．７６） Ｎ １１６．９ Ｉｓｏ
なお、各種スペクトルデータの測定結果は該化合物の構造を強く支持した。
1H-NMR (δ ppm, CDCl3): 2.2 (m, 35H), 6.88 (m, 2H)
19F-NMR (δ ppm, CDCl3): -79.26 (t, 2F, -CF2O-), -133.53〜-133.65 (m, 2F), -165.00〜-165.06 (m, 1F)
GC-MS (EI): 460 (M+, 12.5％), 148 (92.4), 97 (93.6), 83 (100), 81 (55), 69 (54.9), 55 (76.4), 41 (30.7)
実施例８
合成経路７による１−（３−４’−プロピル−３，５−ジフルオロビフェニル−４−イル）−１，１−ジフルオロプロペニルオキシ）−３，４，５−トリフルオロベンゼン（式１６においてｋ＝１、ｌ＝ｍ＝ｎ＝ｏ＝０、Ｒ１がｎ−プロピル基、環Ａ１が１，４−フェニレン基、環Ａ５が３，５−ジフルオロ−１，４−フェニレン基、Ｚ１が単結合、Ｙ１およびＹ２がともに水素原子、Ｙ３、Ｙ４、およびＲ２がともにフッ素原子である化合物（化合物番号１４８）の製造である。
合成経路７による１−（３−４’−プロピル−３，５−ジフルオロビフェニル−４−イル）−１，１−ジフルオロプロペニルオキシ）−３，４，５−トリフルオロベンゼン（式１６においてｋ＝１、ｌ＝ｍ＝ｎ＝ｏ＝０、Ｒ１がｎ−プロピル基、環Ａ１が１，４−フェニレン基、環Ａ５が３，５−ジフルオロ−１，４−フェニレン基、Ｚ１が単結合、Ｙ１およびＹ２がともに水素原子、Ｙ３、Ｙ４、およびＲ２がともにフッ素原子である化合物（化合物番号１４８）の製造である。
出発原料である化合物１１の製造工程の第１工程
窒素雰囲気下、３，５−ジフルオロ−４’−プロピルビフェニル23.2g(100mmol)のＴＨＦ(300ml) 溶液に-70℃でｎ−ブチルリチウム(1.6Mヘキサン溶液）69 ml(110mmol)を滴下した。-70℃にて1時間撹拌後、ＤＭＦ9.3ml(120mmol)のＴＨＦ溶液(100ml)を滴下しさらに1時間撹拌した。反応混合物に1N塩酸200mlを注ぎヘプタンで抽出し、有機層を水200ml、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液200 ml、水200mlで順次洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥させた。溶媒を減圧留去した後、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開溶媒；ヘプタン：トルエン＝4:6）で精製し、３，５−ジフルオロ−４−ホルミル−４’−プロピルビフェニル（無色油状）26.0gを得た。収率100％。
窒素雰囲気下、３，５−ジフルオロ−４’−プロピルビフェニル23.2g(100mmol)のＴＨＦ(300ml) 溶液に-70℃でｎ−ブチルリチウム(1.6Mヘキサン溶液）69 ml(110mmol)を滴下した。-70℃にて1時間撹拌後、ＤＭＦ9.3ml(120mmol)のＴＨＦ溶液(100ml)を滴下しさらに1時間撹拌した。反応混合物に1N塩酸200mlを注ぎヘプタンで抽出し、有機層を水200ml、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液200 ml、水200mlで順次洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥させた。溶媒を減圧留去した後、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開溶媒；ヘプタン：トルエン＝4:6）で精製し、３，５−ジフルオロ−４−ホルミル−４’−プロピルビフェニル（無色油状）26.0gを得た。収率100％。
出発原料である化合物１１の製造工程の第２工程
窒素雰囲気下メトキシメチルトリフェニルホスホニウムクロリド42.2g(130mmol) のＴＨＦ溶液(250ml)に0℃でカリウム-tert-ブトキシド14.6g(130mmol)を少量ずつ添加し、1時間室温で撹拌した。再度0℃に冷却後上記で得た３，５−ジフルオロ−４−ホルミル−４’−プロピルビフェニル26.0g(100mmol) のＴＨＦ(150ml)溶液を滴下し、室温で2時間撹拌した。反応混合物を200mlの水に注ぎトルエンで抽出し、有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥させた。溶媒を減圧留去した後、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(展開溶媒；ヘプタン:トルエン=1:10)で精製して、反応物（無色油状）28.8 gを得た。これを全量トルエン200mlに溶解し、ギ酸70mlを加えて6時間還流させた。冷却後、反応液を水200mlに注ぎ、トルエン100mlで抽出し、有機層を水(100mlx3)、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液(100mlx2)、水(200mlx1)で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥させた。溶媒を留去した後、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(展開溶媒；ヘプタン：トルエン＝1:1)で精製し、２−（３，５−ジフルオロ−４’−プロピルビフェニル−４−イル）アセトアルデヒド（無色油状）26.2gを得た。収率96％。
窒素雰囲気下メトキシメチルトリフェニルホスホニウムクロリド42.2g(130mmol) のＴＨＦ溶液(250ml)に0℃でカリウム-tert-ブトキシド14.6g(130mmol)を少量ずつ添加し、1時間室温で撹拌した。再度0℃に冷却後上記で得た３，５−ジフルオロ−４−ホルミル−４’−プロピルビフェニル26.0g(100mmol) のＴＨＦ(150ml)溶液を滴下し、室温で2時間撹拌した。反応混合物を200mlの水に注ぎトルエンで抽出し、有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥させた。溶媒を減圧留去した後、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(展開溶媒；ヘプタン:トルエン=1:10)で精製して、反応物（無色油状）28.8 gを得た。これを全量トルエン200mlに溶解し、ギ酸70mlを加えて6時間還流させた。冷却後、反応液を水200mlに注ぎ、トルエン100mlで抽出し、有機層を水(100mlx3)、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液(100mlx2)、水(200mlx1)で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥させた。溶媒を留去した後、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(展開溶媒；ヘプタン：トルエン＝1:1)で精製し、２−（３，５−ジフルオロ−４’−プロピルビフェニル−４−イル）アセトアルデヒド（無色油状）26.2gを得た。収率96％。
出発原料である化合物１１の製造工程の第３工程
窒素雰囲気下、上記で得た２−（３，５−ジフルオロ−４’−プロピルビフェニル−４−イル）アセトアルデヒド45.8g(167mmol)をＴＨＦ83mlに懸濁させ、室温でブロモジフルオロ酢酸エチル40.9g(202mmol)のＴＨＦ(84ml)溶液を30分かけて滴下した。加熱して温度を50℃に保ち5時間撹拌したのち、氷冷して３Ｍ塩酸73mlを加え反応を停止した。分液後通常の後処理操作を行い、抽出液を減圧濃縮して粗状態の４−（３，５−ジフルオロ−４’−プロピルビフェニル−４−イル）−３−ヒドロキシ−２，２−ジフルオロブタン酸エチル68.5gを得た。粗収率103％。これを344mlのトルエンに溶解し、ピリジン66.0g(835mmol)、次いで塩化チオニル39.7g(334mmol) を加えて2.5時間80℃で撹拌した。氷浴で冷却後、３Ｍ塩酸334 mlを加えて通常の後処理を行い抽出液を減圧濃縮し、残渣を減圧蒸留して、Ｅ−４−（３，５−ジフルオロ−４’−プロピルビフェニル−４−イル）−２，２−ジフルオロ−３−ブテン酸エチル56.7gを得た。２段階収率89％。
窒素雰囲気下、上記で得た２−（３，５−ジフルオロ−４’−プロピルビフェニル−４−イル）アセトアルデヒド45.8g(167mmol)をＴＨＦ83mlに懸濁させ、室温でブロモジフルオロ酢酸エチル40.9g(202mmol)のＴＨＦ(84ml)溶液を30分かけて滴下した。加熱して温度を50℃に保ち5時間撹拌したのち、氷冷して３Ｍ塩酸73mlを加え反応を停止した。分液後通常の後処理操作を行い、抽出液を減圧濃縮して粗状態の４−（３，５−ジフルオロ−４’−プロピルビフェニル−４−イル）−３−ヒドロキシ−２，２−ジフルオロブタン酸エチル68.5gを得た。粗収率103％。これを344mlのトルエンに溶解し、ピリジン66.0g(835mmol)、次いで塩化チオニル39.7g(334mmol) を加えて2.5時間80℃で撹拌した。氷浴で冷却後、３Ｍ塩酸334 mlを加えて通常の後処理を行い抽出液を減圧濃縮し、残渣を減圧蒸留して、Ｅ−４−（３，５−ジフルオロ−４’−プロピルビフェニル−４−イル）−２，２−ジフルオロ−３−ブテン酸エチル56.7gを得た。２段階収率89％。
工程（１２）
Ｅ−４−（３，５−ジフルオロ−４’−プロピルビフェニル−４−イル）−２，２−ジフルオロ−３−ブテン酸エチル95.9g(252mmol)のエタノール(504ml)に溶液に1M水酸化ナトリウム水溶液504mlを氷冷しながら7分かけて滴下した。30分間撹拌した後、３Ｍ塩酸252mlを加えて通常の後処理を行い、抽出液を減圧濃縮して、粗生成物86.4gを得た。これをヘプタン750mlから再結晶させて、Ｅ−４−（３，５−ジフルオロ−４’−プロピルビフェニル−４−イル）−２，２−ジフルオロ−３−ブテン酸83.5gを得た。収率94％。
Ｅ−４−（３，５−ジフルオロ−４’−プロピルビフェニル−４−イル）−２，２−ジフルオロ−３−ブテン酸エチル95.9g(252mmol)のエタノール(504ml)に溶液に1M水酸化ナトリウム水溶液504mlを氷冷しながら7分かけて滴下した。30分間撹拌した後、３Ｍ塩酸252mlを加えて通常の後処理を行い、抽出液を減圧濃縮して、粗生成物86.4gを得た。これをヘプタン750mlから再結晶させて、Ｅ−４−（３，５−ジフルオロ−４’−プロピルビフェニル−４−イル）−２，２−ジフルオロ−３−ブテン酸83.5gを得た。収率94％。
工程（１３）
Ｅ−４−（３，５−ジフルオロ−４’−プロピルビフェニル−４−イル）−２，２−ジフルオロ−３−ブテン酸28.2g(80mmol)に塩化チオニル160mlを加え5時間還流させた。反応液を減圧濃縮して過剰の塩化チオニルを留去し、残渣を減圧蒸留してＥ−４−（３，５−ジフルオロ−４’−プロピルビフェニル−４−イル）−２，２−ジフルオロ−３−ブテン酸クロリド30.6gを得た。収率95％。
Ｅ−４−（３，５−ジフルオロ−４’−プロピルビフェニル−４−イル）−２，２−ジフルオロ−３−ブテン酸28.2g(80mmol)に塩化チオニル160mlを加え5時間還流させた。反応液を減圧濃縮して過剰の塩化チオニルを留去し、残渣を減圧蒸留してＥ−４−（３，５−ジフルオロ−４’−プロピルビフェニル−４−イル）−２，２−ジフルオロ−３−ブテン酸クロリド30.6gを得た。収率95％。
工程（１４）
ナトリウムオマジン13.4g(90mmol)のブロモトリクロロメタン(90ml)懸濁液を還流させ、これにＥ−４−（３，５−ジフルオロ−４’−プロピルビフェニル−４−イル）−２，２−ジフルオロ−３−ブテン酸クロリド24.2g(60mmol)のブロモトリクロロメタン(90ml)溶液を20分かけて滴下した。さらに10分間還流させた後反応液を減圧濃縮し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー (ヘプタン) で精製して、Ｅ−２−（３，５−ジフルオロ−４’−プロピルビフェニル−４−イル）−１−ブロモジフルオロメチルエチレン20.7gを得た。収率85％。
ナトリウムオマジン13.4g(90mmol)のブロモトリクロロメタン(90ml)懸濁液を還流させ、これにＥ−４−（３，５−ジフルオロ−４’−プロピルビフェニル−４−イル）−２，２−ジフルオロ−３−ブテン酸クロリド24.2g(60mmol)のブロモトリクロロメタン(90ml)溶液を20分かけて滴下した。さらに10分間還流させた後反応液を減圧濃縮し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー (ヘプタン) で精製して、Ｅ−２−（３，５−ジフルオロ−４’−プロピルビフェニル−４−イル）−１−ブロモジフルオロメチルエチレン20.7gを得た。収率85％。
工程（１５）
３，４，５−トリフルオロフェノール8.15g(55mmol)、炭酸カリウム7.60g(55mmol)、臭化テトラブチルアンモニウム0.806g(2.5mmol)、およびＥ−２−（３，５−ジフルオロ−４’−プロピルビフェニル−４−イル）−１−ブロモジフルオロメチルエチレン21.6g(50mmol)のＤＭＦ(100ml)懸濁液を115℃で30分間撹拌した後、冷却して水とトルエンを加えて通常の後処理を行い、抽出液を減圧濃縮し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(展開溶媒；ヘプタン)で精製して、１−（３−４’−プロピル−３，５−ジフルオロビフェニル−４−イル）−１，１−ジフルオロプロペニルオキシ）−３，４，５−トリフルオロベンゼン（化合物番号１４８）23.7gを無色結晶として得た。収率95％。
この化合物は液晶相を示し、その転移点を以下に記す。
Ｃｒ ４７．４ Ｎ ５１．５ Ｉｓｏ
３，４，５−トリフルオロフェノール8.15g(55mmol)、炭酸カリウム7.60g(55mmol)、臭化テトラブチルアンモニウム0.806g(2.5mmol)、およびＥ−２−（３，５−ジフルオロ−４’−プロピルビフェニル−４−イル）−１−ブロモジフルオロメチルエチレン21.6g(50mmol)のＤＭＦ(100ml)懸濁液を115℃で30分間撹拌した後、冷却して水とトルエンを加えて通常の後処理を行い、抽出液を減圧濃縮し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(展開溶媒；ヘプタン)で精製して、１−（３−４’−プロピル−３，５−ジフルオロビフェニル−４−イル）−１，１−ジフルオロプロペニルオキシ）−３，４，５−トリフルオロベンゼン（化合物番号１４８）23.7gを無色結晶として得た。収率95％。
この化合物は液晶相を示し、その転移点を以下に記す。
Ｃｒ ４７．４ Ｎ ５１．５ Ｉｓｏ
なお、各種スペクトルの測定データはその構造を強く支持した。
1H-NMR (δ ppm CDCl3): 0.97 (t, J = 7.3 Hz, 3H), 1.67 (m, 2H), 6.65 (dt, J = 6.8, 16.5 Hz, 1H), 6.94 (dd, J = 6.1, 7.7 Hz, 2H), 7.18 (d, 10.1 Hz, 2H), 7.26 (d, 16.5 Hz, 1H), 7.27 (d, J = 8.0 Hz, 2H), 7.48 (d, J = 8.0 Hz, 2H)
13C-NMR (δ ppm CDCl3): 14.2, 24.8, 38.1, 107.5 (d, J = 5.7 Hz), 107.7 (d, J = 5.7 Hz), 121.7 (t, J = 261.5 Hz), 123.9 (t, J = 7.5 Hz), 124.2 (tt, J = 8.7, 32.2 Hz), 126.8, 129.8, 135.7, 137.6 (t, J = 15.9 Hz), 139.5 (t, J = 15.0 Hz), 143.3, 144.8 (dd, J = 5.8, 10.8 Hz), 152.4 (dd, J = 5.5, 10.6 Hz), 161.0 (d, J = 7.9 Hz), 163.0 (d, J = 8.1 Hz)
19F-NMR (δ ppm CDCl3): -68.1 (d, J = 6.2 Hz), -111.9 (d, J = 10.4 Hz), -133.2 (m), -164.3 (m)
GC-MS (EI), m/z (％): 454 (M+, 1), 309 (2), 308 (21), 307 (100), 279 (3), 278 (13), 277 (2), 259 (3)
1H-NMR (δ ppm CDCl3): 0.97 (t, J = 7.3 Hz, 3H), 1.67 (m, 2H), 6.65 (dt, J = 6.8, 16.5 Hz, 1H), 6.94 (dd, J = 6.1, 7.7 Hz, 2H), 7.18 (d, 10.1 Hz, 2H), 7.26 (d, 16.5 Hz, 1H), 7.27 (d, J = 8.0 Hz, 2H), 7.48 (d, J = 8.0 Hz, 2H)
13C-NMR (δ ppm CDCl3): 14.2, 24.8, 38.1, 107.5 (d, J = 5.7 Hz), 107.7 (d, J = 5.7 Hz), 121.7 (t, J = 261.5 Hz), 123.9 (t, J = 7.5 Hz), 124.2 (tt, J = 8.7, 32.2 Hz), 126.8, 129.8, 135.7, 137.6 (t, J = 15.9 Hz), 139.5 (t, J = 15.0 Hz), 143.3, 144.8 (dd, J = 5.8, 10.8 Hz), 152.4 (dd, J = 5.5, 10.6 Hz), 161.0 (d, J = 7.9 Hz), 163.0 (d, J = 8.1 Hz)
19F-NMR (δ ppm CDCl3): -68.1 (d, J = 6.2 Hz), -111.9 (d, J = 10.4 Hz), -133.2 (m), -164.3 (m)
GC-MS (EI), m/z (％): 454 (M+, 1), 309 (2), 308 (21), 307 (100), 279 (3), 278 (13), 277 (2), 259 (3)
実施例９
合成経路８による１−（３−４’−プロピル−３，５−ジフルオロビフェニル−４−イル）−１，１−ジフルオロプロペニルオキシ）−３，４，５−トリフルオロベンゼン（式１６においてｋ＝１、ｌ＝ｍ＝ｎ＝ｏ＝０、Ｒ１がｎ−プロピル基、環Ａ１が１，４−フェニレン基、環Ａ５が３，５−ジフルオロ−１，４−フェニレン基、Ｚ１が単結合、Ｙ１およびＹ２がともに水素原子、Ｙ３、Ｙ４およびＲ２がともにフッ素原子である化合物（化合物番号１４８）の製造である。
合成経路８による１−（３−４’−プロピル−３，５−ジフルオロビフェニル−４−イル）−１，１−ジフルオロプロペニルオキシ）−３，４，５−トリフルオロベンゼン（式１６においてｋ＝１、ｌ＝ｍ＝ｎ＝ｏ＝０、Ｒ１がｎ−プロピル基、環Ａ１が１，４−フェニレン基、環Ａ５が３，５−ジフルオロ−１，４−フェニレン基、Ｚ１が単結合、Ｙ１およびＹ２がともに水素原子、Ｙ３、Ｙ４およびＲ２がともにフッ素原子である化合物（化合物番号１４８）の製造である。
工程（１２）
前記実施例８工程（１２）に準じた方法で、Ｅ−４−（３，５−ジフルオロ−４’−プロピルビフェニル−４−イル）−２，２−ジフルオロ−３−ブテン酸を製造した。
前記実施例８工程（１２）に準じた方法で、Ｅ−４−（３，５−ジフルオロ−４’−プロピルビフェニル−４−イル）−２，２−ジフルオロ−３−ブテン酸を製造した。
工程（１３’）
Ｅ−４−（３，５−ジフルオロ−４’−プロピルビフェニル−４−イル）−２，２−ジフルオロ−３−ブテン酸28.2g(80mmol)、オマジン12.2g(96mmol)およびＤＭＡＰ0.49g(4mmol)のブロモトリクロロメタン(160ml)溶液を氷冷し、これにＤＣＣ19.8g(96mmol)のブロモトリクロロメタン(20ml)溶液を10分かけて滴下した。さらに24時間そのままの温度で反応させた後、70℃で30分撹拌した。反応液を室温まで冷却した後、不溶物を濾別し、濾液を減圧濃縮し、残渣を減圧蒸留してＥ−２−（３，５−ジフルオロ−４’−プロピルビフェニル−４−イル）−１−ブロモジフルオロメチルエチレン20.7gを得た。収率85％。
Ｅ−４−（３，５−ジフルオロ−４’−プロピルビフェニル−４−イル）−２，２−ジフルオロ−３−ブテン酸28.2g(80mmol)、オマジン12.2g(96mmol)およびＤＭＡＰ0.49g(4mmol)のブロモトリクロロメタン(160ml)溶液を氷冷し、これにＤＣＣ19.8g(96mmol)のブロモトリクロロメタン(20ml)溶液を10分かけて滴下した。さらに24時間そのままの温度で反応させた後、70℃で30分撹拌した。反応液を室温まで冷却した後、不溶物を濾別し、濾液を減圧濃縮し、残渣を減圧蒸留してＥ−２−（３，５−ジフルオロ−４’−プロピルビフェニル−４−イル）−１−ブロモジフルオロメチルエチレン20.7gを得た。収率85％。
工程（１５）
前記実施例８工程（１５）に準じた方法で、の１−（３−４’−プロピル−３，５−ジフルオロビフェニル−４−イル）−１，１−ジフルオロプロペニルオキシ）−３，４，５−トリフルオロベンゼン（化合物番号１４８）23.7gを無色結晶として得た。収率95％。
前記実施例８工程（１５）に準じた方法で、の１−（３−４’−プロピル−３，５−ジフルオロビフェニル−４−イル）−１，１−ジフルオロプロペニルオキシ）−３，４，５−トリフルオロベンゼン（化合物番号１４８）23.7gを無色結晶として得た。収率95％。
上記実施例１〜４および７に示した方法に準じて、例えば以下のジフルオロメチルエーテル誘導体（化合物番号４１〜１３１）が好適に製造できる。なお、実施例１〜４および７の化合物についても併せて示した。
上記実施例５、６、および実施例８に示した方法に準じ、例えば以下の１，１−ジフルオロ−２−プロペニルオキシ基を結合基に有する化合物（化合物番号１３２〜１８２）が好適に製造できる。なお、実施例５、６、および８の化合物についても併せて示した。
Claims (10)
- 式２１で表されるシクロヘキシリデンジフルオロプロピオン酸エステルを出発原料とする、式２２で表されるジフルオロメチレンオキシ誘導体の製造方法。
式中、Ｒ１およびＲ２はそれぞれ独立して、水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、または炭素数１〜２０のアルキル基であり、アルキル基中の任意の−ＣＨ２−は−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、または−Ｃ≡Ｃ−で置き換えられてもよいが、−Ｏ−が連続することはなく、またアルキル基中の任意の水素原子はフッ素原子で置き換えられてもよく；Ｒ３は、１価の有機基または無機基であり；環Ａ１、環Ａ２、環Ａ３、および環Ａ４はそれぞれ独立して、任意の−ＣＨ２−が−Ｏ−、−Ｓ−で置き換えられてもよい１，４−シクロヘキシレン基、任意の＝ＣＨ−が＝Ｎ−で置き換えられてもよい１，４−フェニレン基、または環上の任意の水素原子がフッ素原子、シアノ基または炭素数１〜１０のアルキル基で置き換えられてもよい１，４−フェニレン基であり；Ｚ１、Ｚ２、Ｚ３、およびＺ４はそれぞれ独立して、単結合または炭素数１〜４のアルキレン基であり、アルキレン基中の任意の−ＣＨ２−は−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、または−Ｃ≡Ｃ−で置き換えられてもよいが、−Ｏ−が連続することはなく、またアルキレン基中の任意の水素原子はフッ素原子で置き換えられてもよく；Ｙ１、Ｙ２、Ｙ３、およびＹ４はそれぞれ独立して、水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、または炭素数１〜１０のアルキル基であり；ｋ、ｌ、ｍ、およびｎはそれぞれ独立して、０または１である。 - 工程（２３）〜（２７）の５つの工程を有する請求項１に記載のジフルオロメチレンオキシ誘導体の製造方法。
工程（２３）：式２１で表されるシクロヘキセニルジフルオロ酢酸エステルを、加水分解して式２３で表されるカルボン酸を製造する。
工程（２４）：式２３で表されるカルボン酸に、塩化チオニルを反応させて式２４で表される酸塩化物を製造する。
工程（２５）：式２４で表される酸塩化物に、Ｎ−ヒドロキシピリジンチオンナトリウム塩とブロモトリクロロメタンを反応させて、式２５で表されるブロモジフルオロメチル誘導体を製造する。
工程（２６）：塩基の存在下で、式２５で表されるブロモジフルオロメチル誘導体を、請求項２に記載の工程（４）で用いる式Ｐで表されるフェノール化合物と反応させて、式２６で表されるシクロヘキセニルジフルオロメチレンオキシ誘導体を製造する。
工程（２７）：式６で表されるシクロヘキセニルジフルオロメチレンオキシ誘導体を水素還元して式２２で表されるジフルオロメチレンオキシ誘導体を製造する。
式中、Ｒ１およびＲ２はそれぞれ独立して、水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、または炭素数１〜２０のアルキル基であり、アルキル基中の任意の−ＣＨ２−は−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、または−Ｃ≡Ｃ−で置き換えられてもよいが、−Ｏ−が連続することはなく、またアルキル基中の任意の水素原子はフッ素原子で置き換えられてもよく；環Ａ１、環Ａ２、環Ａ３、および環Ａ４はそれぞれ独立して、任意の−ＣＨ２−が−Ｏ−、−Ｓ−で置き換えられてもよい１，４−シクロヘキシレン基、任意の＝ＣＨ−が＝Ｎ−で置き換えられてもよい１，４−フェニレン基、または環上の任意の水素原子がフッ素原子、シアノ基または炭素数１〜１０のアルキル基で置き換えられてもよい１，４−フェニレン基であり；Ｚ１およびＺ２はそれぞれ独立して、単結合または炭素数１〜４のアルキレン基であり、アルキレン基中の任意の−ＣＨ２−は−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、または−Ｃ≡Ｃ−で置き換えられてもよいが、−Ｏ−が連続することはなく、またアルキレン基中の任意の水素原子はフッ素原子で置き換えられてもよく；Ｙ１、Ｙ２、Ｙ３、およびＹ４はそれぞれ独立して、水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、または炭素数１〜１０のアルキル基であり；ｋ、ｌ、ｍ、およびｎはそれぞれ独立して、０または１である。 - 請求項２に記載の工程（２４）および（２５）のかわりに工程（２４’）を有し、あわせて４つの工程を有する請求項２に記載のジフルオロメチレンオキシ誘導体の製造方法。
工程（２４’）：式２３で表されるカルボン酸に、Ｎ，Ｎ’−ジシクロヘキシルカルボジイミドおよび塩基の存在下、Ｎ−ヒドロキシピリジンチオンとブロモトリクロロメタンを反応させて、式２５で表されるブロモジフルオロメチル誘導体を製造する。
- 請求項２に記載の工程（２３）〜（２５）の後に、工程（２８）および（２９）を有し、あわせて５つの工程を有する請求項１に記載のジフルオロメチレンオキシ誘導体の製造方法。
工程（２８）：式２５で表されるブロモジフルオロメチル誘導体を、水素還元して式２７で表されるシクロヘキシルブロモジフルオロメタンン誘導体を製造する。
工程（２９）：塩基の存在下で式２７のシクロヘキシルブロモジフルオロメタン誘導体を、請求項２に記載の工程（４）で用いる式Ｐで表されるフェノール化合物と反応させて、式２のジフルオロメチレンオキシ誘導体を製造する。
式中、Ｒ１は、水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、または炭素数１〜２０のアルキル基であり、アルキル基中の任意の−ＣＨ２−は−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、または−Ｃ≡Ｃ−で置き換えられてもよいが、−Ｏ−が連続することはなく、またアルキル基中の任意の水素原子はフッ素原子で置き換えられてもよく；環Ａ１および環Ａ２はそれぞれ独立して、任意の−ＣＨ２−が−Ｏ−、−Ｓ−で置き換えられてもよい１，４−シクロヘキシレン基、任意の＝ＣＨ−が＝Ｎ−で置き換えられてもよい１，４−フェニレン基、または環上の任意の水素原子がフッ素原子、シアノ基または炭素数１〜１０のアルキル基で置き換えられてもよい１，４−フェニレン基であり；Ｚ１およびＺ２はそれぞれ独立して、単結合または炭素数１〜４のアルキレン基であり、アルキレン基中の任意の−ＣＨ２−は−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、または−Ｃ≡Ｃ−で置き換えられてもよいが、−Ｏ−が連続することはなく、またアルキレン基中の任意の水素原子はフッ素原子で置き換えられてもよく；ｋおよびｌはそれぞれ独立して、０または１である。 - 請求項４に記載の工程（２４）および（２５）のかわりに請求項４に記載の工程（２４’）を有し、あわせて４つの工程を有する請求項４に記載のジフルオロメチレンオキシ誘導体の製造方法。
- 工程（３０）〜（３３）の後に、請求項４に記載の工程（２９）を有し、あわせて５つの工程を有する請求項２に記載のジフルオロメチレンオキシ誘導体の製造方法。
工程（３０）：式２１で表されるシクロヘキセニルジフルオロ酢酸エステルを、水素還元して式２８で表されるシクロヘキシルジフルオロ酢酸エステル誘導体を製造する。
工程（３１）：式２８で表されるシクロヘキシルジフルオロ酢酸エステル誘導体を加水分解して、式２９で表されるカルボン酸誘導体を製造する。
工程（３２）：式２９で表されるカルボン酸誘導体に、塩化チオニルを反応させて式３０で表される酸塩化物を製造する。
工程（３３）：式３０で表される酸塩化物に、Ｎ−ヒドロキシピリジンチオンナトリウム塩とブロモトリクロロメタンを反応させて式２７で表されるシクロヘキシルブロモジフルオロメタン誘導体を製造する。
式中、Ｒ１は、水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、または炭素数１〜２０のアルキル基であり、アルキル基中の任意の−ＣＨ２−は−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、または−Ｃ≡Ｃ−で置き換えられてもよいが、−Ｏ−が連続することはなく、またアルキル基中の任意の水素原子はフッ素原子で置き換えられてもよく；Ｒ３は、１価の有機基または無機基であり；環Ａ１およびはそれぞれ独立して、任意の−ＣＨ２−が−Ｏ−、−Ｓ−で置き換えられてもよい１，４−シクロヘキシレン基、任意の＝ＣＨ−が＝Ｎ−で置き換えられてもよい１，４−フェニレン基、または環上の任意の水素原子がフッ素原子、シアノ基または炭素数１〜１０のアルキル基で置き換えられてもよい１，４−フェニレン基であり；Ｚ１およびＺ２はそれぞれ独立して、単結合または炭素数１〜４のアルキレン基であり、アルキレン基中の任意の−ＣＨ２−は−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、または−Ｃ≡Ｃ−で置き換えられてもよいが、−Ｏ−が連続することはなく、またアルキレン基中の任意の水素原子はフッ素原子で置き換えられてもよく；ｋおよびｌはそれぞれ独立して、０または１である。 - 請求項６に記載の工程（３２）および（３３）のかわりに工程（３２’）を有し、あわせて４つの工程を有する請求項６に記載のジフルオロメチレンオキシ誘導体の製造方法。
工程（３２’）：式２９で表されるカルボン酸誘導体に、Ｎ，Ｎ’−ジシクロヘキシルカルボジイミドおよび塩基の存在下、Ｎ−ヒドロキシピリジンチオンとブロモトリクロロメタンを反応させて式２７で表されるシクロヘキシルブロモジフルオロメタン誘導体を製造する。
- 請求項２に記載の工程（２３）〜（２６）の４工程を有する式２６で表されるシクロヘキセニルジフルオロメチレンオキシ誘導体の製造方法。
- 請求項８に記載の工程（２４）および（２５）のかわりに請求項４に記載の工程（２４’）を有し、あわせて３工程を有する請求項８に記載のシクロヘキセニルジフルオロメチレンオキシ誘導体の製造方法。
- 請求項２〜７記載の式２１〜式３０中の、Ｒ１が炭素数２〜５の直鎖のアルキル基であり；Ｒ２が水素原子またはフッ素原子であり；Ｒ３がメチルまたはエチルであり；環Ａ1がトランス−１，４−シクロヘキシレン基であり；ｋ＝１、ｌ＝０であり；Ｙ１およびＹ２が水素原子で；Ｙ３およびＹ４が、それぞれ独立して水素原子またはフッ素原子であり；ｍ＝ｎ＝０である、請求項１９〜２５のいずれか１項記載のジフルオロメチレンオキシ誘導体の製造方法。
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