JP2009123815A - 基板処理装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】処理ユニットと基板Wを搬送する搬送ロボットとを備える処理ブロックを複数連接して基板処理装置が構成される。隣接する処理ブロックの接続部分には基板載置部が設置されている。基板載置部の支持ピン71に、センサコイル72を搭載した検知板70が設けられる。水晶振動子にコイルを接続して構成される検温素子80を装着した温度測定用基板TWが支持ピン71に載置されたときに、送受信部60から水晶振動子の固有振動数に相当する送信波がセンサコイル72を介して検温素子80に送信される。送信停止後、検温素子80からの電磁波をセンサコイル72を介して送受信部60が受信し、その電磁波の周波数に基づいて温度算定部69が基板温度を算定する。
【選択図】図7
Description
まず、本発明に係る基板処理装置の全体構成について説明する。図1は、本発明に係る基板処理装置1の平面図である。また、図2は基板処理装置1の液処理部の正面図であり、図3は熱処理部の正面図であり、図4は搬送ロボットおよび基板載置部の配置構成を示す図である。なお、図1および以降の各図にはそれらの方向関係を明確にするためZ軸方向を鉛直方向とし、XY平面を水平面とするXYZ直交座標系を適宜付している。
次に、上記の基板処理装置1における基板処理の手順について簡単に説明する。まず、装置外部から未処理の基板WがキャリアCに収納された状態でAGV等によってインデクサブロック10に搬入される。続いて、インデクサブロック10から未処理の基板Wの払い出しが行われる。具体的には、インデクサロボットIRが所定のキャリアCから未処理の基板Wを取り出し、上側の基板載置部PASS1に載置する。基板載置部PASS1に未処理の基板Wが載置されると、バークブロック20の搬送ロボットTR1がその基板Wを受け取って熱処理タワー22のいずれかの密着強化処理ユニットAHLに搬送する。密着強化処理ユニットAHLでは、HMDSの蒸気雰囲気で基板Wを熱処理して基板Wの密着性を向上させる。密着強化処理の終了した基板Wは搬送ロボットTR1によって取り出され、熱処理タワー22,23のいずれかの冷却ユニットCPに搬送されて冷却される。
次に、上記の基板処理装置1における基板温度の測定について説明する。図5は、基板処理装置1での基板温度測定に使用する温度測定用基板TWの平面図である。温度測定用基板TWは、通常の処理対象となる半導体基板Wと同じ材質にて同様のサイズに形成されており、本実施形態ではシリコンのφ300mmの円盤状基板である。
10 インデクサブロック
20 バークブロック
30 レジスト塗布ブロック
40 現像処理ブロック
50 インターフェイスブロック
60 送受信部
61 切替器
62 発信器
63 受信器
64 周波数カウンタ
69 温度算定部
70 検知板
71 支持ピン
72 センサコイル
80 検温素子
81 コイル
82 水晶振動子
91 搬入テーブル
92 搬出テーブル
BRC,SC 塗布処理ユニット
CP 冷却ユニット
HP 加熱ユニット
IFR 搬送機構
IR インデクサロボット
PASS1〜PASS10 基板載置部
SD 現像処理ユニット
TR1,TR2,TR3,TR4 搬送ロボット
TW 温度測定用基板
W 基板
Claims (6)
- 基板に対して所定の処理を行う基板処理装置であって、
一方向に連設され、それぞれが基板に処理を行う処理ユニットおよび当該処理ユニットに基板を搬送する搬送ロボットを備える複数の処理ブロックと、
前記複数の処理ブロックの接続部分に設置され、隣接する処理ブロックに設けられた搬送ロボットの間での基板の受け渡しのために基板を載置する基板載置部と、
前記基板載置部に設けられ、水晶振動子にコイルまたはアンテナを接続して形成される検温素子と無線で送受信するためのセンサコイルと、
前記検温素子を有する温度測定用基板が前記基板載置部に載置されたときに、前記センサコイルを介して前記検温素子に送信波を送信するとともに、前記送信波の送信を停止した後に前記検温素子からの電磁波を前記センサコイルを介して受信する送受信手段と、
前記送受信手段にて受信した前記検温素子からの電磁波の周波数に基づいて前記温度測定用基板の温度を算出する温度算定手段と、
を備えることを特徴とする基板処理装置。 - 請求項1記載の基板処理装置において、
前記基板載置部は、基板を載置するための支持ピンを備え、
前記センサコイルは前記支持ピンに付設されることを特徴とする基板処理装置。 - 請求項1または請求項2記載の基板処理装置において、
連設された前記複数の処理ブロックの一端に接続され、未処理の基板が外部から搬入されるとともに、処理済みの基板が外部に搬出されるインデクサブロックをさらに備え、
前記インデクサブロックと前記複数の処理ブロックとの接続部分に設置された基板載置部にさらにセンサコイルを設けることを特徴とする基板処理装置。 - 請求項3記載の基板処理装置において、
前記複数の処理ブロックは、基板にフォトレジストを塗布するレジスト塗布ブロックおよび基板の現像処理を行う現像処理ブロックを含み、
連設された前記複数の処理ブロックの他端と基板の露光処理を行う露光装置との間に配置され、フォトレジストが塗布された基板を前記露光装置に渡すとともに、露光後の基板を前記露光装置から受け取るインターフェイスブロックをさらに備え、
前記インターフェイスブロックと前記複数の処理ブロックとの間の基板の受け渡しのために設置された基板載置部にさらにセンサコイルを設けることを特徴とする基板処理装置。 - 請求項4記載の基板処理装置において、
前記インターフェイスブロックと前記露光装置との間で基板を受け渡すための基板受渡部にさらにセンサコイルを設けることを特徴とする基板処理装置。 - 基板に対して所定の処理を行う基板処理装置であって、
それぞれが複数の基板受渡位置に対して基板を搬送する第1および第2搬送ロボットと、
第1搬送ロボットと第2搬送ロボットとの間での基板の受け渡しのために基板を載置する基板載置部と、
前記基板載置部に設けられ、水晶振動子にコイルまたはアンテナを接続して形成される検温素子と無線で送受信するためのセンサコイルと、
前記検温素子を有する温度測定用基板が前記基板載置部に載置されたときに、前記センサコイルを介して前記検温素子に送信波を送信するとともに、前記送信波の送信を停止した後に前記検温素子からの電磁波を前記センサコイルを介して受信する送受信手段と、
前記送受信手段にて受信した前記検温素子からの電磁波の周波数に基づいて前記温度測定用基板の温度を算出する温度算定手段と、
を備えることを特徴とする基板処理装置。
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2007294343A JP5015729B2 (ja) | 2007-11-13 | 2007-11-13 | 基板処理装置 |
US12/267,267 US8122851B2 (en) | 2007-11-13 | 2008-11-07 | Temperature measurement in a substrate processing apparatus |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2007294343A JP5015729B2 (ja) | 2007-11-13 | 2007-11-13 | 基板処理装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2009123815A true JP2009123815A (ja) | 2009-06-04 |
JP5015729B2 JP5015729B2 (ja) | 2012-08-29 |
Family
ID=40622517
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2007294343A Expired - Fee Related JP5015729B2 (ja) | 2007-11-13 | 2007-11-13 | 基板処理装置 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US8122851B2 (ja) |
JP (1) | JP5015729B2 (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2021048415A (ja) * | 2020-12-14 | 2021-03-25 | 東京エレクトロン株式会社 | 基板処理装置及び測定用基板 |
Families Citing this family (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
TW201301368A (zh) * | 2011-06-17 | 2013-01-01 | Chung Shan Inst Of Science | 化合物太陽能電池吸收層薄膜製程設備與方法 |
TWI523134B (zh) * | 2011-09-22 | 2016-02-21 | 東京威力科創股份有限公司 | 基板處理系統、基板搬運方法、及電腦記憶媒體 |
US8985929B2 (en) * | 2011-09-22 | 2015-03-24 | Tokyo Electron Limited | Substrate processing apparatus, substrate processing method and storage medium |
JP6723055B2 (ja) * | 2016-04-04 | 2020-07-15 | 株式会社荏原製作所 | 基板処理装置および基板有無確認方法 |
US9933314B2 (en) * | 2016-06-30 | 2018-04-03 | Varian Semiconductor Equipment Associates, Inc. | Semiconductor workpiece temperature measurement system |
US10900843B2 (en) | 2018-06-05 | 2021-01-26 | Kla Corporation | In-situ temperature sensing substrate, system, and method |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2004140167A (ja) * | 2002-10-17 | 2004-05-13 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | 基板の温度測定方法、基板熱処理装置における設定温度の補正方法および基板熱処理装置 |
JP2006053075A (ja) * | 2004-08-12 | 2006-02-23 | Komatsu Ltd | 温度測定装置および温度測定用基板 |
JP2007019155A (ja) * | 2005-07-06 | 2007-01-25 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | 基板熱処理装置および基板温度測定方法 |
Family Cites Families (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3431392A (en) * | 1967-01-13 | 1969-03-04 | Hughes Aircraft Co | Internally heated crystal devices |
TWI234417B (en) * | 2001-07-10 | 2005-06-11 | Tokyo Electron Ltd | Plasma procesor and plasma processing method |
US7757574B2 (en) * | 2002-01-24 | 2010-07-20 | Kla-Tencor Corporation | Process condition sensing wafer and data analysis system |
JP4342147B2 (ja) * | 2002-05-01 | 2009-10-14 | 大日本スクリーン製造株式会社 | 基板処理装置 |
-
2007
- 2007-11-13 JP JP2007294343A patent/JP5015729B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
2008
- 2008-11-07 US US12/267,267 patent/US8122851B2/en not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2004140167A (ja) * | 2002-10-17 | 2004-05-13 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | 基板の温度測定方法、基板熱処理装置における設定温度の補正方法および基板熱処理装置 |
JP2006053075A (ja) * | 2004-08-12 | 2006-02-23 | Komatsu Ltd | 温度測定装置および温度測定用基板 |
JP2007019155A (ja) * | 2005-07-06 | 2007-01-25 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | 基板熱処理装置および基板温度測定方法 |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2021048415A (ja) * | 2020-12-14 | 2021-03-25 | 東京エレクトロン株式会社 | 基板処理装置及び測定用基板 |
JP7050139B2 (ja) | 2020-12-14 | 2022-04-07 | 東京エレクトロン株式会社 | 基板処理装置及び測定用基板 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US20090120362A1 (en) | 2009-05-14 |
JP5015729B2 (ja) | 2012-08-29 |
US8122851B2 (en) | 2012-02-28 |
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A621 | Written request for application examination |
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TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
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A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
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A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
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Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313533 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
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R250 | Receipt of annual fees |
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R250 | Receipt of annual fees |
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