JP2009122078A - 外観検査装置 - Google Patents

外観検査装置 Download PDF

Info

Publication number
JP2009122078A
JP2009122078A JP2007299414A JP2007299414A JP2009122078A JP 2009122078 A JP2009122078 A JP 2009122078A JP 2007299414 A JP2007299414 A JP 2007299414A JP 2007299414 A JP2007299414 A JP 2007299414A JP 2009122078 A JP2009122078 A JP 2009122078A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
unit
inspection
wafer
imaging
inspection apparatus
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2007299414A
Other languages
English (en)
Other versions
JP2009122078A5 (ja
Inventor
Osamu Nagami
理 永見
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Olympus Corp
Original Assignee
Olympus Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Olympus Corp filed Critical Olympus Corp
Priority to JP2007299414A priority Critical patent/JP2009122078A/ja
Publication of JP2009122078A publication Critical patent/JP2009122078A/ja
Publication of JP2009122078A5 publication Critical patent/JP2009122078A5/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Investigating Materials By The Use Of Optical Means Adapted For Particular Applications (AREA)

Abstract

【課題】外観検査装置において、検査対象物の搬送位置上方のスペースを確保すると共に、装置の小型化を図る。
【解決手段】検査対象物に照明光を照射する照明部(35)、この照明部(35)により照明光を照射された検査対象物を撮像する撮像部(26)、及び、検査対象物を載置して検査を行うためのステージ(30)、を有する検査部(2)と、検査対象物を、ステージ(30)に受け渡すと共にステージ(30)から受け取るための搬送部(29)と、を備える外観検査装置において、撮像部(33)の光軸は、検査対象物から撮像部(33)へ向う光路中でミラーにより搬送部(29)から離れる方向に偏向されている構成とする。
【選択図】図5

Description

本発明は、半導体ウェハなどの検査対象物を撮像することにより検査対象物の外観検査を行う外観検査装置に関する。
従来、半導体ウェハなどの検査対象物の外観検査を行う際には、欠陥の種類に応じて、撮像方向を切り換える場合があるほか、明視野照明若しくは暗視野照明による撮像又は回折像の撮像などを使い分けて検査を行っている。そのため、撮像部や照明部を回動(揺動)させる機構を備える検査装置が用いられている(例えば、特許文献1参照)。
上記特許文献1記載の検査装置は、検査対象物の表面側を撮像する撮像部に加え、裏面側を撮像する撮像部を備え、検査対象物を一定速度で移動させながら検査対象物の両面を撮像している。
国際公開第03/027652号パンフレット
ところで、近年ウェハのサイズが大型化されるとともに撮像部や照明部の光学系の光路長が長くなり、検査条件によっては種種の角度条件で検査を行うため高さ方向も含め装置自体が大型化されてきている。
また、検査対象物が搬送され、受け渡しや受取りが行なわれる搬送位置においては、検査対象物の受け渡しなどの高速化のためにバッファ機能をもつ搬送装置として上下方向に複数段にウェハを載置して受渡しを行なう装置を設置する場合があるため、撮像部等の回動する角度を確保し、搬送部との干渉を防止するよう搬送位置の上方に十分な空間が必要となる。
本発明の課題は、上記従来の実情に鑑み、装置の小型化を図ることができると共に、検査対象物の搬送位置上方のスペースを確保することができる外観検査装置を提供することである。
上記課題を解決するために、本発明の外観検査装置は、検査対象物に照明光を照射する照明部、この照明部により照明光を照射された検査対象物を撮像する撮像部、及び、上記検査対象物を載置して検査を行うためのステージ、を有する検査部と、上記検査対象物を、上記ステージに受け渡すと共にこのステージから受け取るための搬送部と、を備える外観検査装置において、上記撮像部の光軸は、上記検査対象物から上記撮像部へ向う光路中でミラーにより上記搬送部から離れる方向に偏向されている構成とする。
本発明では、撮像部の光軸が偏向されているため、光路長を確保するために検査装置が大型化するのを抑えることができる。また、撮像部の光軸の偏向方向は、検査対象物から撮像部ヘ向う光路中でミラーにより搬送部から離れる方向に偏向されている。そのため、撮像部の本体やその配線等を、検査対象物の搬送位置上方から遠ざかるように引き延ばすことができる。よって、本発明によれば、装置の小型化を図ることができると共に、検査対象物の搬送位置上方のスペースを確保することができる。
以下、本発明の実施の形態に係る外観検査装置について、図面を参照しながら説明する。
図1は、本発明の一実施の形態に係る外観検査装置1の内部構成を示す平面図である。
図2Aは、上記外観検査装置1の内部構成を示す左側面図であり、図2Bは、上記外観検査装置1を示す左側面図である。
図3は、上記外観検査装置1の内部構成を示す右側面図である。
図4は、上記外観検査装置1を示す正面図である。
外観検査装置1は、検査対象物としての半導体ウェハ(以下、単に「ウェハ」という。)の表面を検査する検査部としての表面検査部2、ウェハの裏面を検査する裏面検査部3、ウェハを搬送する搬送部としての搬送ロボット4、ウェハが載置される2つのロードポート5,5などから構成されている。
詳しくは後述するが、表面検査部2及び裏面検査部3は互いに平行に配置されており、表面検査部2及び裏面検査部3には搬送ロボット4によってウェハが受け渡されるようになっている。
ロードポート5,5は、図1に示すように、外観検査装置1の搬送ロボット4側の壁面外側に配置されている。ロードポート5,5は、2つ配置されているため、例えば、検査前のウェハ並びに検査後の異常のなかったウェハ及び異常のあったウェハなどを有効に載置することができる。
裏面検査部3の搬送ロボット4と反対側には、図4にも示す操作部6が配置されている。操作部6においては、外観検査装置1の各部のON/OFFや設定などの操作を行うことができる。
ここで、外観検査装置1のうち操作部6のある面側を正面側と呼ぶこととする。また、ロードポート5,5側を裏面側、他を側面(左側面・右側面)側と呼ぶこととする。
表面検査部2の搬送ロボット4と反対側には、PCラック7が配置されている。PCラック7には、図示しないコンピュータが設置されている。このコンピュータは、操作部6及び外観検査装置1の各部に接続され、操作部6における操作を外観検査装置1の各部に反映させている。
表面検査部2の装置側面側(裏面検査装置3と反対側)には、電装ボックス8が配置されている。この電装ボックス8には、例えば、表面検査部2などを駆動させるモータのドライバなどが収納される。電装ボックス8は、表面検査部2の下方に収納されている。なお、電装ボックス8の外側に、部品を収納可能な開閉扉を設けることで、より有効にスペースを活用することもできる。
電装ボックス8の左側面視(図2A)左側には、ユーティリティボックス9(図1においては図示されていない)が配置されている。このユーティリティボックス9には、例えば電源装置や、真空吸着用圧縮空気などの工場配管を接続できる。
外観検査装置1の上部には、2つのFFU(ファン・フィルタ・ユニット)10,10が配置されている。これらFFU10,10は、図2Bに示す装置左側面側上部に配置されたFFUコントローラ11,11によってそれぞれ制御されている。そして、FFU10,10は、外観検査装置1内に清浄な空気を送り込んでいる。なお、各FFUコントローラ11,11に隣接した位置には、外観検査装置1内外の差圧を測定する差圧計12,12が配置されている。これらの差圧計12,12は、各FFU10が正常に作用していることを監視している。
図2Aに示すように、PCラック7の上方には、後述する光源に接続された2つの光源装置13,13が高さ方向に並んで配置されている。光源装置13,13の後方(外観検査装置1の壁面側)には、排気ダクト14が配置されている。この排気ダクト14は、光源装置13,13の排気を後述する排気ファン21に送っている。
図2A、図2B及び図4に示すように、光源装置13,13側の外観検査装置1の上面角部には、上方に延びるシグナルタワー15が配置されている。このシグナルタワー15は、外観検査装置1の動作が正常であるか否かなどを例えば表示灯の点灯・点滅或いは表示色によって表している。
図2Bに示す外観検査装置1の左側面側壁面には、圧力計16、バルブ17、非常停止用の左側面側非常用スイッチ18、ブレーカ19、LAN接続口20などが配置されている。バルブ17は、例えば、後述するウェハの真空吸着や、外観検査装置1各部の整列などに用いられる。また、圧力計16は圧縮空気の圧力を調整することに用いられる。
図1及び図3に示す搬送ロボット4は、上下に2つ並んだロボットアームであり、ウェハを保持する2つのアーム部4a,4a、これらアーム部4a,4aを移動させるアーム支持部4b、4b、この2つのアーム支持部4bが固定された搬送ステージ4c、この搬送ステージ4cをスライドさせるための1対のスライドレール4d、このスライドレール4dが配置されるベース部4eなどから構成されている。
なお、アーム支持部4bは、高さ方向に移動させることができるように構成することで、ウェハの円滑な搬送を実現することができる。
表面検査部2及び裏面検査部3と、搬送ロボット4との間は、仕切り壁4fで仕切られている。この仕切り壁4fには、アーム部4aを通すことができる程度の大きさを有する図示しない窓部(又は開口部)が形成されている。
図3に示すように、裏面検査部3の下方(破線で示すPCラック7の手前側)には、排気ダクト14に接続された排気ファン21が配置されている。この排気ファン21は、排気ダクト14からの排気に加えて、破線で示すPCラック7に設置されるコンピュータの熱気をも排出している。なお、排気ファン21は、外観検査装置1から生じる全ての排気を一括して排出するようにするとよい。
図4に示すように、外観検査装置1の操作部6上方には、稼働状況などを表示するモニタ22、外観検査装置1のON/OFFスイッチ23、及び、非常停止用の正面側非常用スイッチ24が配置されている。また、操作部6のある正面側には、アワーメータ25も配置されている。
なお、図示はしていないが、搬送ロボット4の近傍にベベル検査装置を配置することや、ロードポート5,5近傍にマイクロスコープ或いは目視検査装置を配置することなども考えられる。
図5は、上記表面検査部2を示す左側面図である。
図6は、上記表面検査部2の回折像撮像状態を示す左側面図である。
図7は、上記表面検査部2の正反射撮像状態を示す左側面図である。
図8は、上記表面検査部2の暗視野撮像状態を示す左側面図である。
表面検査部2は、撮像部としての表面撮像部26、回動支持部27、ベース部28、回転ステージ30(ステージ)、ガイド31a上を摺動するスキャンステージ31などから構成され、除振部32を介して電装ボックス8上に設置されている。
表面撮像部26は、カメラ33、このカメラ33が配置されると共に回動支持部27に軸支されて回動する回動部34などから構成されている。ここでリフタ部29は、搬送ロボット4と合わせて搬送部を構成している。リフタ部29は、ウェハの受渡しの高速化のために設置しており、十分な受渡し時間確保できれば、省略して搬送ロボット4から直接回転ステージ30にも受渡しを行なってもよい。
また、カメラ33は、レンズ等で構成された撮像光学系33aと、この撮像光学系33aの結像位置に配置された撮像素子としてのラインセンサ33bとを有している。さらに図5,6,7等に図示の撮像光路LP2の回転ステージ30に近い位置にシリンドリカルレンズ58が配置されている。このシリンドリカルレンズ58は紙面に垂直な方向に対しコリメートレンズの効果を持つ。このシリンドリカルレンズ58とカメラ33と回動部34とで表面撮像部26を構成している。
回動部34は、左右の側壁及び上壁からなり、左右の側壁の両下端において回動支持部27に軸支されている。なお、回動支持部27には、回動部34に係合し回動部34の角度を調整するモータが配置されているものとする。
また、回動の中心軸となる回動部34の回動軸は、回転ステージ30にウェハが保持されたときのパターンが形成された表面の高さに一致するよう配置される。またラインセンサにより撮像される撮像領域や各照明部により照明される照明領域は、回動軸に沿って設定されている。
回動部34には、カメラ33に加えて、ウェハに照明光を照射する照明部としての第1光源35(図5及び図6においてのみ図示)も配置されている。ここで、検査装置で使用される照明光を直接射出する部分を「光源」と表現することとする。
ベース部28に固定された図示しないアームには、明視野観察用照明部としての第2光源36(図7においてのみ図示)、及び、暗視野観察用としての第3光源37(図8においてのみ図示)が、表面撮像部26の回動軸を含む鉛直な平面に対し搬送部(搬送ロボット4及びリフタ部29)の反対側に配置されている。第1光源35は表面撮像部26と一体に構成されているので回動部34の回動と共に回動するが、第2光源36及び第3光源37は上記アームに固定されて移動しない。なお、移動可能に構成してもよい。図5〜図8においては、カメラ33、第1〜第3光源35,36,37を簡易的に図示している。
光源35、36,37は、前述した光源装置13から光ファイバにより導光される。図5、図6等では簡略化のため図示していないが、第1光源35とカメラ33からは光路のない側に、それぞれ光源装置13やカメラ33からの画像信号の画像構築処理を行なう装置のあるPCラック7に光ファイバや配線が伸びている。
回転ステージ30は、真空吸着によりウェハを保持することが可能となっている。スキャンステージ31には、回転ステージ30が固定され、搬送ロボット4からウェハが搬送される搬送位置P1と撮像部26(カメラ33)によりウェハが撮像される撮像位置P2とに、ウェハを吸着保持した回転ステージ30を移動させる。
表面撮像部26(カメラ33)の撮像方向(矢印D1)は、スキャンステージ31の移動方向(矢印D2)に直交する方向からの側面視(即ち、図5〜図8に示す左側面側の側面視)において鉛直方向(矢印D3)よりも搬送位置(P1)側に傾いている。
また、別の表現をすれば、表面撮像部26の光軸は、表面撮像部26または光源35,36,37を回動軸に平行な方向から見た(側面視した)とき、ウェハから表面撮像部26ヘ向う光路(撮像光路LP2)の途中に配置されたミラーにより、搬送ロボット4、リフタ部29などの搬送部から離れる方向に偏向されている。
なお、撮像方向とは、後述する撮像光路LP2が偏向されるか否かにかかわらず表面撮像部26(カメラ33)が傾いた方向をいうものとする。つまり、表面撮像部26の撮像光学系33aのもつ光軸のウェハ側に向かう方向をいうものとする。
各光源35〜37の照射方向(矢印D4〜D6)も、スキャンステージ31の移動方向(矢印D2)に直交する方向からの側面視において、鉛直方向(矢印D3)よりもスキャンステージ31の搬送位置(P1)側に傾いている。なお、照射方向とは、後述する照明光路LP1,LP3,LP4が偏向されるか否かにかかわらず、第1光源35〜第3光源37が照明光を照射する方向をいうものとする。
第1光源35は、表面回折像の撮像に用いられる。図5及び図6に示すように、ミラー39により光軸が偏向されるカメラ33のすぐ上方に近接して第1光源35が配置されている。このとき、照明光路LP1と撮像光路LP2は、ほぼ平行になるよう構成されている。照明光学系と撮像光学系33aの光軸がほぼ平行に近接して配置されるため、光ファイバや配線の取り回しが容易になる。
そして、図では模式的に描いているがシリンドリカルレンズ等を含むレンズで構成された照明用光学系により、適宜ライン状の照明光になるよう光束の形状が調整されてミラー38の方向に射出される。また、第1光源35から照射される照射光(照明光路LP1)は、回動部34に配置された第1ミラー38においてほぼ直角に反射(偏向)し、シリンドリカルレンズ58を通してウェハにライン状の平行光として照射される。そして、ウェハから反射、散乱した光(撮像光路LP2)は、シリンドリカルレンズ58により集光され第2ミラー39においてほぼ直角に反射(偏向)し、カメラ33に導光される。なお、表面回折像を用いた外観検査は、例えば、ウェハ上に形成されたパターンのピッチのばらつきを発生させるピントズレなどの露光不良等を検査するために用いられる。
カメラ33及び第1光源35は、撮像方向D1(照射方向D4)が上記側面視において鉛直方向(矢印D3)よりも搬送位置(P1)側に傾いた範囲内で、回動部34によって、撮像方向D1(照射方向D4)を変えるように回動する。
図5及び図6においては、照明光路LP1における第1ミラー38とウェハとの間、及び、撮像光路LP2におけるウェハと第2ミラー39との間、が互いに重なる同軸の照明となっている。このとき、第2ミラー39をハーフミラーで構成して一部共通の光路としている。
なお、照明光路LP1と撮像光路LP2とは、光路が重ならないよう互いに微小角度を持つように配置されていてもよい。このときシリンドリカルレンズ58については、光学作用面の微小距離だけ離れた位置を使用し、光学部品として共通に使用することにより反射面を少なくでき、回折光の光量損失を少なく撮像できる。
第2光源36は、正反射撮像時に用いられる。図7に示すように、第2光源36から照射される照明光(照明光路LP3)は、偏向(ミラーにおいて反射)することなくウェハに導光される。そして、ウェハから反射した光(撮像光路LP2)は、第2ミラー39において反射(偏向)し、カメラ33に導光される。
第2光源36の照明光路LP3は、上記側面視において、鉛直方向(矢印D3)からの傾き角度(θ1)が撮像光路LP3の傾き角度(θ1)と同一となっている。これにより、表面撮像部26(カメラ33)は、正反射撮像を行っている。正反射撮像を用いた外観検査は、例えば、ウェハに塗布されたレジストの膜ムラやキズなどを検査するために用いられる。
第3光源37は、暗視野撮像時に用いられる。図8に示すように、暗視野用の照明光は入射角θ2が大きな角度でウェハ表面に対して浅い角度で照射される。第3光源37から照射される照明光(照明光路LP4)は、偏向(ミラーにおいて反射)することなくウェハに導光される。そして、ウェハから反射した光(撮像光路LP2)は、第2ミラー39において反射(偏向)し、カメラ33に導光される。
第3光源37の照明光路LP4は、上記側面視において、鉛直方向(矢印D3)からの傾き角度(θ2)が撮像光路LP2の傾き角度(θ1)と異なっている。これにより、表面撮像部26(カメラ33)は、暗視野撮像を行っている。暗視野撮像を用いた外観検査は、例えば、ウェハ上のゴミやキズを検査するために用いられる。
図9A及び図9Bは、上記表面検査部2のリフタ部29の概略構成を示す背面図及び平面図である。
リフタ部29は、回転ステージへの受渡し、受取りを高速化するためのバッファであり、上下2段のウェハ保持部とそれらを一体に昇降させる機構を有している。具体的には、リフタ部29は、スキャンステージ31上の回転ステージ30に投入されるウェハの周縁を両側から支持する4つ(片側2つ)の上ハンド40u、搬出されるウェハの周縁を両側から支持する4つ(片側2つ)の下ハンド40d、整列シリンダ41、昇降用モータ42、ガイド部43、昇降板44などから構成されている。
上ハンド40uは、搬送ロボット4(図9A及び図9Bでは図示せず)から搬送されるウェハを、スキャンステージ31に受け渡されるまで支持する。また、下ハンド40dは、上ハンド40uの下方に配置され、スキャンステージ31から受け渡されるウェハを、搬送ロボット4により搬送されるまで支持する。
整列シリンダ41は、その先端に取付けられた図9Bに示す整列用プッシャ41aによりウェハを押圧することで、ウェハの位置アライメントを行う。これにより、ウェハの中心は、回転ステージ30の中心に一致することになる。
昇降用モータ42は、ガイド部43にガイドされた状態で昇降板44を上下動させ、昇降板44に固定された上ハンド40u、下ハンド40d及び整列シリンダ41を昇降させることが可能となっている。
図10Aは、上記表面検査部2の各種センサを説明するための概略平面図であり、図10B及び図10Cは、上記各種センサを説明するための概略背面図及び概略左側面図である。なお、図10B及び図10Cにおいては、リフタ部29が上段・中段・下段に位置する場合を実線・点線を用いて表している。
表面検査部2には、ウェハWが上ハンド40uに乗り上げているか否かを検出するウェハ乗り上げセンサS1、ウェハWの有無を検出するウェハ有無センサS2,S3、ウェハWのノッチを検出するノッチ検出センサS4、ウェハW上の異物を検出する異物検出センサS5などが配置されている。
ウェハ乗り上げセンサS1は、ウェハ搬入時に中段に位置する上ハンド40u上でウェハWが上ハンド40uの所定位置以外の場所に乗り上げているか否かを検出するべく、水平方向に配置された透過型スポットセンサである。
ウェハ乗り上げセンサS1によりウェハWの乗り上げが検出された場合には、ウェハWを回転ステージ30に受け渡してから回転ステージ30を180度回転させ、再度、上ハンド40uで持ち上げ、整列プッシャ41aによるウェハWの位置アライメントを行う。
ウェハ有無センサS2,S3は、ウェハWの周縁部に鉛直方向に配置された図10Aのみに示す透過型センサS2と、ウェハ搬入時に中段に位置する上ハンド40u上でウェハWの有無を検出するべく、水平方向から微小に傾斜して配置された透過型センサS3との2つからなる。これにより、ウェハ有無センサS2,S3は、搬送ロボット4から搬出入位置にウェハWが無いかを検出している。
ノッチ検出センサS4は、ウェハWの周縁部に鉛直方向に配置された透過型スリットセンサである。ノッチ検出センサS4がウェハWのノッチを検出できなかった場合には、回転ステージ30を180度回転させ、再度、整列プッシャ41aによるウェハWの位置アライメントを行いノッチの検出を開始する。
異物検出センサS5は、スキャンステージ31にウェハWを受け渡した高さよりも微小に上側に位置し、ウェハW上の異物を検出するべく水平方向に配置されている。異物検出センサS5としては、例えば透過型センサを用いることができる。
図11A〜図11Dは、上記裏面検査部3を示す左側面図、平面図、背面図及び左側面断面図である。
裏面検査部3は、裏面撮像部45、ベース部46、裏面検査ホルダ47、Xステージ48、Yステージ49、除振部50、架台51などから構成されている。なお、図3に示すように、架台51の内部には排気ファン21が配置されているが、図11A〜図11Dにおいては図示を省略する。
裏面撮像部45は、ウェハの裏面をウェハの下方から撮像するカメラ52と、このカメラ52が配置される支持部53とからなる。そして、裏面撮像部45は、支持部53がベース部46に固定されることでベース部46に固定されている。
なお、カメラ52は、表面検査部2のカメラ33と同様に、レンズ等で構成された撮像光学系52aと、この撮像光学系52aの結像位置に配置された撮像素子としてのラインセンサ52bとを有している。
ベース部46には、図示しないアームを介して第4光源54及び第5光源55が配置されている。これら第4光源54及び第5光源55は上記アームに固定されて移動しない。なお、図11A及び図11Bにおいては、カメラ52並びに第4及び第5光源54,55を簡易的に図示している。
カメラ52の撮像方向(矢印D7)は、図11Aに示す左側面側の側面視において鉛直方向(矢印D8)よりも搬送位置P1(図11A及び図11Dに示すウェハ搬入・搬出時の裏面検査ホルダ47)側に傾いている。
また、第4光源54の照射方向(矢印D9)及び第5光源55の照射方向(矢印D10)も、上記側面視において鉛直方向(矢印D8)よりも搬送位置P1側に傾いている。
第4光源54は、正反射撮像時に用いられる。図11Aに示すように、第4光源54から照射される照明光(照明光路LP5)は、偏向(ミラーにおいて反射)することなくウェハに導光される。そして、ウェハから反射した光(撮像光路LP6)は、ミラー56において反射(偏向)し、カメラ52に導光される。
第4光源54の照明光路LP5は、上記側面視において、鉛直方向(矢印D8)からの傾き角度(θ3)が撮像光路LP6の傾き角度(θ3)と同一となっている。これにより、カメラ52は、正反射撮像を行っている。正反射撮像を用いた裏面検査は、例えば、ウェハのキズ、レジストの回り込みなどを検査するために用いられる。
第5光源55は、暗視野撮像時に用いられる。図11Aに示すように、第5光源55から照射される照明光(照明光路LP7)は、偏向(ミラーにおいて反射)することなくウェハに導光される。そして、ウェハから反射した光(撮像光路LP6)は、ミラー56において反射(偏向)し、カメラ52に導光される。
第5光源の照明光路LP7は、上記側面視において、鉛直方向(矢印D8)からの傾き角度(θ4)が撮像光路LP6の傾き角度(θ3)と異なっている。これにより、カメラ52は、暗視野撮像を行っている。暗視野撮像を用いた裏面検査は、例えば、ウェハ上のゴミやキズを検査するために用いられる。
裏面検査ホルダ47には、図11Bに示すように、ウェハ有無センサS6が配置されている。このウェハ有無センサS6は、ウェハの周縁部に鉛直方向に配置された透過型センサである。
裏面検査ホルダ47には、搬送ロボット4(図11A〜図11Dにおいては図示せず)により搬送されるウェハが搭載され、ウェハの周縁を支持する複数の搭載部57が下方に延びるように配置されている。これら搭載部57は、ウェハの外周方向に略均等間隔で配置されている。
各ウェハ搭載部57は、図12(ウェハ搭載部57を示す断面図)に示すように、下方にかけてウェハW側に傾斜する傾斜面57aと、この傾斜面57aの下端から鉛直下方に延びる鉛直面57bと、この鉛直面57bの下端に突出するように設けられウェハWが載置される載置部57cとを有している。
ウェハ搭載部57に搭載される際のウェハWが微小に位置ズレをして搬送された場合にも、傾斜面57aを摺動して、鉛直面57bの高さ分だけ落としこまれ、最終的に突出部57c上に載置されることになる。
Xステージ48は、裏面検査ホルダ47(ウェハ)を図11Bに示すX軸方向に移動させることが可能となっている。また、Yステージ49は、裏面検査ホルダ47をXステージごとY軸方向に移動させることが可能となっている。
図13Aは、裏面検査ホルダ47を示す平面図であり、図13Bは、図13AのB方向矢視図である。
裏面検査ホルダ47のウェハ搬入方向の奥中央には、奥側整列用シリンダ47aが配置されている。搬送ロボット4は、裏面検査ホルダ47にウェハWを搬送する。
裏面検査ホルダ47の開口側両端には、手前側整列用シリンダ47b,47cが配置されている。奥側整列用シリンダ47a及び手前側整列用シリンダ47b,47cは、ウェハWを押圧することで、ウェハWを位置決め固定している。なお、奥側整列用シリンダ47a(図13Aに図示)はウェハWのノッチが嵌り込みながらウェハWを押すことによりウェハWの回転方向の位置決めを行う。
また、裏面検査ホルダ47には、水平方向に延びる透過型センサである2つの乗り上げセンサS7,S7が互いに交差して配置されている。なお、図13A及び図13Bにおいては、図11Bに示すウェハ有無センサS6は図示していない。
以下、外観検査装置1を用いたウェハの外観検査について説明する。
図14から図19は、リフタ部29の動作を説明するための説明図である。
図20A〜図20Dは、スキャンステージ31の動作を説明するための説明図である。
まず、図1に示す搬送ロボット4がウェハWをロードポート5上から表面検査部2に搬送する。
そして、図14に示すように、ウェハWは、アーム部4aにより保持された状態で回転ステージ30の上方に搬送され、図15に示すように中段で待機している上ハンド40u上に載置され、上ハンド40uにより支持される。そして、ウェハWは、整列用プッシャ41aにより位置アライメントされる。これにより、ウェハWは、回転ステージ30の上方において中心が回転ステージ30の中心と位置合わせされる。
次に、昇降用モータ43によりリフタ部29を降下させ、上ハンド40uを下段に移動させる。これにより、図16に示すように、ウェハWは、回転ステージ30に吸着保持される。その後、回転ステージ30を回転させることにより、ノッチ検出や異物有無の検出が行なわれる。
そして、図20Aに示す搬送位置P1にあるスキャンステージ31(回転ステージ30)は、図20Bに示す撮像位置P2にかけて等速移動を開始する。この等速移動中に、ここでは図示しない表面撮像部26(カメラ33)により、ウェハWの半分(進行方向に対する左右の一側)が撮像される。
左右の一側が撮像されたウェハWは、図20Cに示すようにスキャンステージ31が端部に到達した後、回転ステージ30によって180度回転する。そして、残る半分を撮像するべく、スキャンステージ31を撮像位置P2及び搬送位置P1側に等速運動させる。
ウェハWの撮像が行われている間には、図17に示すように、中段に戻ったリフタ部29(上ハンド40u)に新たなウェハW´が搬送されてくる。
図18に示すようにキャンステージ31が搬送位置P1に戻ると、回転ステージ30によるウェハWの吸着を開放し、中段に位置していた下ハンド40dを図19に示すように上段に移動させて検査済みのウェハWを下ハンド40dにより支持する。なお、上述の回折像の撮像並びに正反射及び暗視野による撮像のうち2種以上の撮像を行う場合には、ウェハWを下ハンド40dに回収せず、再び撮像位置P2にかけてスキャンステージ31を往復運動させる。
検査終了後には、搬送ロボット4(アーム部4a)により、検査済みのウェハWを裏面検査部3へ搬送する。そして、上ハンド40uに支持しておいた検査前のウェハW´を、上ハンド40uを下段に移動させることにより、回転ステージ30に吸着させる。なお、搬送ロボット4は、裏面検査部3への搬送時にも、ウェハWの表面が上方を向いた状態のままウェハWを搬送する。
以上のような動作を繰り返して、表面検査部2におけるウェハWの表面検査を連続的に行う。
図21A〜図21Dは、本発明の一実施の形態に係る裏面検査ホルダ47の動作を説明するための説明図である。
表面検査部2における検査が終了したウェハWは、搬送ロボット4により裏面検査ホルダ47に搬送され、図12に示すウェハ搭載部57に搭載される。このときの裏面検査ホルダ47の位置が図21Aに示す搬送位置P3である。
搬送位置P3においてシリンダ47a,47b,47cによる位置決め固定が行われたウェハWは、裏面検査ホルダ47がYステージ49の移動により撮像位置P4を通過する際に、ここでは図示しないカメラ52により、ウェハWの半分(進行方向に対する左右の一側)が撮像される。
左右の一側が撮像されたウェハWは、図21Bに示すように裏面検査ホルダ47が端部に到達した後、図21Cに示すように、Xステージ48がウェハWの半径程度の距離だけ移動する。そして、残る半分を撮像するべく、Yステージ49により裏面検査ホルダ47を撮像位置P4及び搬送位置P3側に等速移動させる。
これにより、裏面検査が終了する。なお、上述の正反射及び暗視野による撮像の両方を行う場合には、再び撮像位置P4にかけて裏面検査ホルダ47を往復移動させる。裏面検査が終了した後、裏面検査ホルダ47は搬送位置P3へ移動した後、シリンダ47a,47b,47cによるウェハWの位置決め固定を解除し、搬送ロボット4により例えばロードポート5にウェハWを搬送する。
以上のようにして、ウェハWの表面検査及び裏面検査が終了する。なお、上述のように、外観検査装置1に、ベベル装置、マイクロスコープ、目視観察装置などを配置し、それらの工程を別途行うことも考えられる。また、本実施の形態では、表面検査部2及び裏面検査部3を備える外観検査装置1について説明したが、表面撮像部26(カメラ33)の撮像方向等の特徴については、表面検査部2(又は裏面検査部3)のみの外観検査装置においても採用可能である。更には、本実施の形態では、検査対象物をウェハWとして説明したが、他の基板などの検査対象物を用いることも考えられる。
以下、本実施の形態に係る効果について説明する。
本実施の形態では、表面撮像部26の光軸が偏向されているため、光路長を確保するために検査装置1が大型化するのを抑えることができる。また、表面撮像部26の光軸の偏向方向は、検査対象物から撮像部ヘ向う光路中でミラー39により搬送部(搬送ロボット4及びリフタ部29)から離れる方向に偏向されている。そのため、カメラ33やその配線等を、ウェハの搬送位置P1上方から遠ざかるように引き延ばすことができる。
よって、本実施の形態によれば、装置の小型化を図ることができると共に、検査対象物の搬送位置上方のスペースを確保することができる。
また、別の表現をすると、本実施の形態では、ウェハから表面撮像部26(カメラ33)への撮像光路LP2は、偏向しており、表面撮像部26(カメラ33)の撮像方向(矢印D1)は、スキャンステージ31の移動方向(矢印D2)に直交する方向からの側面視(図5〜図8)において鉛直方向(矢印D3)よりも搬送位置側P1に傾いている。
そのため、焦点距離を確保するために外観検査装置1が大型化するのを抑えることができる。更には、表面撮像部26(カメラ33)の配線を、ウェハの搬送位置P1上方から遠ざかるように引き延ばすことができる。よって、本実施の形態によれば、外観検査装置1の小型化を図ることができると共に、ウェハの搬送位置P1上方のスペースを確保することができる。これらの効果については、表面検査部2のみならず、裏面検査部3においても同様のことがいえる。
また、本実施の形態では、第1光源35の光軸は、ウェハから第1光源35へ向う光路中でミラー38により搬送部(搬送ロボット4及びリフタ部29)から離れる方向に偏向されている。そのため、第1光源35やその配線等を、ウェハの搬送位置P1上方から遠ざかるように引き延ばすことができる。したがって、ウェハの搬送位置P1上方のスペースをより有効に確保することができる。
また、別の表現をすると、本実施の形態では、第1〜第3光源35,36,37の照射方向(矢印D4〜D6)も、スキャンステージ31の移動方向(矢印D2)に直交する方向からの側面視において鉛直方向(矢印D3)よりも搬送位置P1側に傾いている。
そのため、第1〜第3光源35,36,37の配線をも、ウェハの搬送位置P1上方から遠ざかるように引き延ばすことができる。したがって、ウェハの搬送位置P1上方のスペースをより有効に確保することができる。
また、本実施の形態では、第1光源35より照射される照明光(照明光路LP1)は、偏向してウェハに導光されている。したがって、より有効に外観検査装置1の小型化を図ることができる。
また、本実施の形態では、カメラ33及び第1光源35は、共通の回動軸を中心に回動している。そのため、外観検査装置1の構成を簡素にすることができ、したがって、より有効に外観検査装置1の小型化を図ることができる。
また、本実施の形態では、カメラ33と共通の回動軸を中心に回動する第1光源35は、明視野観察又は回折光による観察を行なう検査に用いられている。そのため、明視野観察又は回折光による観察を簡素な構成で実現することができ、したがって、より有効に外観検査装置1の小型化を図ることができる。
また、本実施の形態では、外観検査装置1は、表面撮像部26の回動軸を含む鉛直な平面に対し搬送部(搬送ロボット4及びリフタ部29)の反対側に配置される第2光源(明視野観察用照明部)36及び第3光源(暗視野観察用照明部)37を備えている。したがって、明視野観察や暗視野観察などの多様な検査を行う場合にも、ウェハの搬送位置P1上方のスペースをより有効に確保することができる。
また、別の表現をすると、本実施の形態では、表面検査部2は、上述のように照射方向(矢印D4〜D6)が側面視において鉛直方向(矢印D3)よりも搬送位置P1側に傾いている光源を複数(第1光源35〜第3光源37)備えている。そのため、回折像の撮像、正反射及び暗視野における撮像などを使い分けることができ、ウェハの外観検査を有効に行うことができる。
また、本実施の形態では、表面撮像部26は、撮像方向(矢印D1)がスキャンステージ31の移動方向(矢印D2)に直交する方向からの側面視において鉛直方向(矢印D3)よりも搬送位置P1側に傾いた範囲内で、撮像方向(矢印D1)を変えるように回動している。したがって、ウェハの搬送位置P1上方のスペースを有効に確保しながら、ウェハの外観検査を行うことができる。
また、本実施の形態では、少なくとも1つの光源(第1光源35)は、照射方向(矢印D4)を変えるように、表面撮像部26と共に回動している。そのため、ウェハの検査態様に応じた表面撮像部26の撮像方向(矢印D1)に合わせて照射方向(矢印D4)を調整することができる。したがって、ウェハの外観検査を有効に行うことができる。
また、本実施の形態では、スキャンステージ31は、ウェハを搬送部(搬送ロボット4及びリフタ部29)から受け取ると共に搬送部に受け渡す搬送位置P1と表面撮像部26によりウェハが撮像される撮像位置P2との間を移動している。したがって、ウェハの搬送位置P1上方のスペースを有効に確保しながら、ウェハの外観検査を行うことができる。
また、本実施の形態では、外観検査装置1は、互いに平行に配置された表面検査部2及び裏面検査部3を備えており、単一の搬送ロボット4によって、表面検査部2及び裏面検査部3にウェハを搬送している。
そのため、ウェハのうち回路パターンなどが形成された表面の検査においては、ウェハを回転テーブル30に吸着保持することにより、ウェハ周縁を支持して行う両面同時検査の際に生じる撓みの発生を防ぎながら、表面検査部2と平行に裏面検査部3を配置することによって、有効に外観検査装置1の小型化を図ることもできる。
また、本実施の形態では、表面検査部2は、搬送ロボット4から搬送されるウェハを、スキャンステージ31に受け渡すまで支持する上ハンド40uと、上ハンド40uの下方に配置され、スキャンステージ31から受け渡されるウェハを、搬送ロボット4により搬送されるまで支持する下ハンド40dとを有している。
そのため、ウェハの受け渡しを上ハンド40u及び下ハンド40dで同時進行させながらスペースを有効に利用することができ、より一層、外観検査装置1の小型化を図ることができる。
また、本実施の形態では、搬送ロボット4は、表面が上方を向いた状態のままウェハを表面検査部2から裏面検査部3に搬送している。そのため、ウェハの表裏を反転させる機構を要することがなく、したがって、より一層、外観検査装置1の小型化を図ることができる。
また、本実施の形態では、裏面検査ホルダ47に配置された複数の搭載部57は、下方にかけてウェハ側に傾斜する傾斜面57aと、この傾斜面57aの下端から鉛直下方に延びる鉛直面57bと、この鉛直面57bの下端に設けられウェハが載置される載置部57cとを有している。そのため、ウェハを傾斜面57aに搭載し、鉛直面57bで落とし込んで載置部57cに載置することで、複雑な機構を要することなく、有効にウェハを裏面検査ホルダ47(ウェハ搭載部57)に搭載することができる。したがって、より一層、外観検査装置1の小型化を図ることができる。
なお、表面検査部2と裏面検査部3に使用される部材を共通部品としてもよい。例えば枠構造体から撮像部、照明部等すべてを、上下反対にして使用するようにすれば、製造原価を低減できる。
本発明の一実施の形態に係る外観検査装置の内部構成を示す平面図である。 本発明の一実施の形態に係る外観検査装置の内部構成を示す左側面図である。 本発明の一実施の形態に係る外観検査装置を示す左側面図である。 本発明の一実施の形態に係る外観検査装置の内部構成を示す右側面図である。 本発明の一実施の形態に係る外観検査装置を示す正面図である。 本発明の一実施の形態に係る外観検査装置の表面検査部を示す左側面図である。 本発明の一実施の形態に係る外観検査装置の表面検査部の回折像撮像状態を示す左側面図である。 本発明の一実施の形態に係る外観検査装置の表面検査部の正反射撮像状態を示す左側面図である。 本発明の一実施の形態に係る外観検査装置の表面検査部の暗視野撮像状態を示す左側面図である。 本発明の一実施の形態に係る外観検査装置の表面検査部のリフタ部の概略構成を示す背面図である。 本発明の一実施の形態に係る外観検査装置の表面検査部のリフタ部の概略構成を示す平面図である。 本発明の一実施の形態に係る外観検査装置の表面検査部の各種センサを説明するための概略平面図である。 本発明の一実施の形態に係る外観検査装置の表面検査部の各種センサを説明するための概略背面図(その1)である。 本発明の一実施の形態に係る外観検査装置の表面検査部の各種センサを説明するための概略左側面図(その2)である。 本発明の一実施の形態に係る外観検査装置の裏面検査部を示す左側面図である。 本発明の一実施の形態に係る外観検査装置の裏面検査部を示す平面図である。 本発明の一実施の形態に係る外観検査装置の裏面検査部を示す背面図である。 本発明の一実施の形態に係る外観検査装置の裏面検査部を示す左側面断面図である。 本発明の一実施の形態に係る外観検査装置のウェハ搭載部を示す断面図である。 本発明の一実施の形態に係る外観検査装置の裏面検査ホルダを示す平面図である。 図13AのB方向矢視図である。 本発明の一実施の形態に係る外観検査装置のリフタ部の動作を説明するための背面図(その1)である。 本発明の一実施の形態に係る外観検査装置のリフタ部の動作を説明するための背面図(その2)である。 本発明の一実施の形態に係る外観検査装置のリフタ部の動作を説明するための背面図(その3)である。 本発明の一実施の形態に係る外観検査装置のリフタ部の動作を説明するための背面図(その4)である。 本発明の一実施の形態に係る外観検査装置のリフタ部の動作を説明するための背面図(その5)である。 本発明の一実施の形態に係る外観検査装置のリフタ部の動作を説明するための背面図(その6)である。 本発明の一実施の形態に係る外観検査装置のスキャンステージ(表面検査部)の動作を説明するための説明図(その1)である。 本発明の一実施の形態に係る外観検査装置のスキャンステージ(表面検査部)の動作を説明するための説明図(その2)である。 本発明の一実施の形態に係る外観検査装置のスキャンステージ(表面検査部)の動作を説明するための説明図(その3)である。 本発明の一実施の形態に係る外観検査装置のスキャンステージ(表面検査部)の動作を説明するための説明図(その4)である。 本発明の一実施の形態に係る外観検査装置の裏面検査ホルダの動作を説明するための説明図(その1)である。 本発明の一実施の形態に係る外観検査装置の裏面検査ホルダの動作を説明するための説明図(その2)である。 本発明の一実施の形態に係る外観検査装置の裏面検査ホルダの動作を説明するための説明図(その3)である。 本発明の一実施の形態に係る外観検査装置の裏面検査ホルダの動作を説明するための説明図(その4)である。
符号の説明
1 外観検査装置
2 表面検査部
3 裏面検査部
4 搬送ロボット
4a アーム部
4b アーム支持部
4c 搬送ステージ
4d スライドレール
4e ベース部
4f 仕切り壁
5 ロードポート
6 操作部
7 PCラック
8 電装ボックス
9 ユーティリティボックス
10 FFU(ファン・フィルタ・ユニット)
11 FFUコントローラ
12 差圧計
13 光源装置
14 排気ダクト
15 シグナルタワー
16 圧力計
17 バルブ
18 左側面側非常用スイッチ
19 ブレーカ
20 LAN接続口
21 排気ファン
22 モニタ
23 ON/OFFスイッチ
24 正面側非常用スイッチ
25 アワーメータ
26 表面撮像部
27 回動支持部
28 ベース部
29 リフタ部
30 回転ステージ
31 スキャンステージ
31a ガイド
32 除振部
33 カメラ
33a 撮像光学系
33b ラインセンサ
34 回動部
35 第1光源
36 第2光源
37 第3光源
38 第1ミラー
39 第2ミラー
40u 上ハンド
41d 下ハンド
41 整列シリンダ
41a 整列用プッシャ
42 昇降用モータ
43 ガイド部
44 昇降板
45 裏面撮像部
46 ベース部
47 裏面検査ホルダ
47a 奥側整列用シリンダ
47b 手前側整列用シリンダ
47c 手前側整列用シリンダ
48 Xステージ
49 Yステージ
50 除振部
51 架台
52 カメラ
52a 撮像光学系
52b ラインセンサ
53 支持部
54 第4光源
55 第5光源
56 ミラー
57 ウェハ搭載部
57a 傾斜面
57b 鉛直面
57c 突出部
S1 ウェハ乗り上げセンサ
S2 ウェハ有無センサ
S3 ウェハ有無センサ
S4 ノッチ検出センサ
S5 異物検出センサ
S6 ウェハ有無センサ
S7 乗り上げセンサ
W 半導体ウェハ

Claims (11)

  1. 検査対象物に照明光を照射する照明部、該照明部により照明光を照射された検査対象物を撮像する撮像部、及び、前記検査対象物を載置して検査を行うためのステージ、を有する検査部と、
    前記検査対象物を、前記ステージに受け渡すと共に該ステージから受け取るための搬送部と、
    を備える外観検査装置において、
    前記撮像部の光軸は、前記検査対象物から前記撮像部へ向う光路中でミラーにより前記搬送部から離れる方向に偏向されている、
    ことを特徴とする外観検査装置。
  2. 前記照明部の光軸は、前記検査対象物から照明部へ向う光路中でミラーにより前記搬送部から離れる方向に偏向されていることを特徴とする請求項1記載の外観検査装置。
  3. 前記撮像部及び前記照明部は、共通の回動軸を中心に回動することを特徴とする請求項1又は請求項2記載の外観検査装置。
  4. 前記撮像部と共通の回動軸を中心に回動する前記照明部は、明視野観察又は回折光による観察を行なう検査に用いられることを特徴とする請求項3記載の外観検査装置。
  5. 前記撮像部の回動軸を含む鉛直な平面に対し前記搬送部の反対側に、明視野観察用照明部及び暗視野観察用照明部の少なくとも一方を更に備えることを特徴とする請求項1から請求項4のいずれか1項記載の外観検査装置。
  6. 前記ステージは、前記検査対象物を前記搬送部から受け取ると共に該搬送部に受け渡す搬送位置と前記撮像部により前記検査対象物が撮像される撮像位置との間を移動することを特徴とする請求項1から請求項5のいずれか1項に記載の外観検査装置。
  7. 前記撮像部は、前記検査対象物の表面を撮像する表面撮像部であり、
    前記検査部は、前記表面撮像部を有する表面検査部であり、
    前記外観検査装置は、前記検査対象物の裏面を撮像する裏面撮像部を有する裏面検査部を更に備える、
    ことを特徴とする請求項1から請求項6のいずれか1項記載の外観検査装置。
  8. 前記表面検査部と前記裏面検査部とは、互いに平行に配置され、
    前記搬送部は、前記表面検査部及び前記裏面検査部に前記検査対象物を搬送する、
    ことを特徴とする請求項7記載の外観検査装置。
  9. 前記表面検査部は、前記搬送部から搬送される検査対象物を、前記ステージに受け渡されるまで支持する上ハンドと、該上ハンドの下方に配置され、前記ステージから受け渡される検査対象物を、前記搬送部により搬送されるまで支持する下ハンドと、を更に有することを特徴とする請求項7又は請求項8記載の外観検査装置。
  10. 前記搬送部は、表面が上方を向いた状態のまま前記検査対象物を前記表面検査部から前記裏面検査部に搬送し、
    前記裏面撮像部は、前記検査対象物の裏面を該検査対象物の下方から撮像する、
    ことを特徴とする請求項7から請求項9のいずれか1項記載の外観検査装置。
  11. 前記裏面検査部は、前記搬送部により搬送される検査対象物が搭載され、該検査対象物の周縁を支持する複数の搭載部を有し、
    該複数の搭載部は、下方にかけて前記検査対象物側に傾斜する傾斜面と、該傾斜面の下端から鉛直下方に延びる鉛直面と、該鉛直面の下端に設けられ前記検査対象物が載置される載置部と、を有する、
    ことを特徴とする請求項10記載の外観検査装置。
JP2007299414A 2007-11-19 2007-11-19 外観検査装置 Pending JP2009122078A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2007299414A JP2009122078A (ja) 2007-11-19 2007-11-19 外観検査装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2007299414A JP2009122078A (ja) 2007-11-19 2007-11-19 外観検査装置

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2009122078A true JP2009122078A (ja) 2009-06-04
JP2009122078A5 JP2009122078A5 (ja) 2011-01-06

Family

ID=40814374

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2007299414A Pending JP2009122078A (ja) 2007-11-19 2007-11-19 外観検査装置

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2009122078A (ja)

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2011069624A (ja) * 2009-09-24 2011-04-07 Hitachi High-Technologies Corp 表面検査装置およびその方法
CN113970548A (zh) * 2021-09-09 2022-01-25 联宝(合肥)电子科技有限公司 一种扫描装置及视觉检测系统
CN115015276A (zh) * 2022-08-01 2022-09-06 华兴智慧(北京)科技有限公司 一种高端设备制造用工件斜面检测装置

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2007292606A (ja) * 2006-04-25 2007-11-08 Olympus Corp 表面検査装置

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2007292606A (ja) * 2006-04-25 2007-11-08 Olympus Corp 表面検査装置

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2011069624A (ja) * 2009-09-24 2011-04-07 Hitachi High-Technologies Corp 表面検査装置およびその方法
CN113970548A (zh) * 2021-09-09 2022-01-25 联宝(合肥)电子科技有限公司 一种扫描装置及视觉检测系统
CN113970548B (zh) * 2021-09-09 2023-09-01 联宝(合肥)电子科技有限公司 一种扫描装置及视觉检测系统
CN115015276A (zh) * 2022-08-01 2022-09-06 华兴智慧(北京)科技有限公司 一种高端设备制造用工件斜面检测装置

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN100451599C (zh) 液晶面板的外观检查装置
TWI411773B (zh) 外觀檢查裝置及外觀檢查方法、以及可安裝於外觀檢查裝置之周圍部檢查單元
KR100492158B1 (ko) 웨이퍼 검사 장치
CN104024835A (zh) 自动外观检查装置
JP4085538B2 (ja) 検査装置
JP5722049B2 (ja) 基板検査システム
JP2007248292A (ja) 外観検査装置
JP2008286576A (ja) 外観検査装置
JP2017198499A (ja) 処理システム
JP2009122078A (ja) 外観検査装置
JP5005945B2 (ja) 基板検査装置
JP2006170622A (ja) 外観検査装置
JP4592070B2 (ja) 液晶パネルの外観検査装置及び外観検査方法
JP2008175548A (ja) 外観検査装置および外観検査方法
KR101347689B1 (ko) 사파이어 웨이퍼의 검사를 위한 장치 구조
JP5954757B2 (ja) 外観検査装置
JP2001135691A (ja) 検査装置
KR101883479B1 (ko) 부품 실장기
JP4154816B2 (ja) 検査装置
JP7515323B2 (ja) 検査装置及び基板搬送方法
KR20230133664A (ko) 검사장치 및 기판처리장치
KR20150001706A (ko) 사파이어 웨이퍼의 검사 및 분류를 위한 시스템
JP2005083959A (ja) 搬送基板不良検出装置及びこの搬送基板不良検出装置を備えたレーザトリミングマシン
JP2004340631A (ja) 基板検査装置
KR20040047984A (ko) 홀더 장치

Legal Events

Date Code Title Description
A521 Written amendment

Effective date: 20101111

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

A621 Written request for application examination

Effective date: 20101111

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20120501

A131 Notification of reasons for refusal

Effective date: 20120605

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

A02 Decision of refusal

Effective date: 20130827

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02