JP2009113196A - 除去レートランプアップによる影響を減少し且つ欠陥レートを安定化するための柔軟パッド調整方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 本方法は、柔軟研磨パッドをプラテンに結合させ、上記柔軟研磨パッドの処理表面を調整ディスクと接触させ、上記調整ディスクへ圧力を加え、上記調整ディスクを上記柔軟研磨パッドの上記処理表面との接触から外し、第1の基板に対する研磨処理を行うため、上記第1の基板を上記柔軟研磨パッドの上記処理表面と接触させることを含む。
【選択図】 図3
Description
[0001]本発明の実施形態は、一般的に、半導体ウエハのような基板を柔軟研磨パッドで研磨することに関する。
[0002]基板上に集積回路及びその他の電子装置を製造するには、導電体、半導体及び絶縁体物質の複数の層が、基板の特徴部側面、即ち、堆積受け表面上に堆積されたり、又はそのような堆積受け表面から除去されたりする。物質の層が、順次、堆積されたり除去されたりしていく時に、その基板の特徴部側面は非平坦なものとなってしまうことがあり、従って、平坦化及び/又は研磨が必要となってくることがある。平坦化及び研磨は、全体として均一な、平坦な、又は水平な表面を形成するように、以前に堆積された物質を基板の特徴部側面から除去するような処理である。これらの処理は、粗面、凝集物質、結晶格子損傷及びスクラッチのような望ましくない表面形状及び表面欠陥を除去するのに有用である。又、これらの処理は、基板上に特徴部を形成するのに有用であり、それら特徴部を充填するのに使用された過剰の堆積物質を除去し且つその後の堆積及び処理のために均一又は水平表面を与えるのに有用である。
Claims (15)
- 基板を研磨するための方法において、
柔軟研磨パッドを第2の方向に回転する回転ダイヤモンド調整ディスクに接触させながら上記柔軟研磨パッドを第1の方向に回転させることにより、上記柔軟研磨パッドの処理表面を調整するステップと、
上記回転ダイヤモンド調整ディスクに約1重量ポンドから約4重量ポンドまでの圧力を加えるステップと、
上記ダイヤモンド調整ディスクを上記柔軟研磨パッドの回転処理表面との接触から取り外すステップと、
第1の基板に対する研磨処理を行うために、上記第1の基板を上記柔軟研磨パッドの上記回転処理表面と接触させるステップと、
上記第1の基板を上記柔軟研磨パッドの上記回転処理表面から取り外すステップと、
上記柔軟研磨パッドの上記回転研磨表面を上記第2の方向において回転するブラシ型調整素子で調整するステップと、
第2の基板に対する研磨処理を行うために、上記第2の基板を上記柔軟研磨パッドの上記回転処理表面と接触させるステップと、
を備える方法。 - 上記第2の基板を上記柔軟研磨パッドに接触させる前に、上記柔軟研磨パッドをすすぎ洗いするステップを更に含む、請求項1に記載の方法。
- 上記第1の方向と上記第2の方向とは異なる、請求項1に記載の方法。
- 上記柔軟研磨パッドは、80°より小さい接触角を有する親水性処理表面を含む、請求項1に記載の方法。
- 上記柔軟研磨パッドは、35°と46°との間の接触角を有する親水性処理表面を含む、請求項1に記載の方法。
- 上記柔軟研磨パッドは、約40RPMから約130RPMまでにおいて上記第1の方向に回転させられる、請求項1に記載の方法。
- 上記柔軟研磨パッドは、約50RPMから約75RPMまでにおいて上記第1の方向に回転させられる、請求項1に記載の方法。
- 上記調整ディスクは、約60RPMから約120RPMまでにおいて上記第2の方向に回転させられる、請求項1に記載の方法。
- 上記調整ディスクは、約90RPMから約110RPMまでの第2の速度において上記第2の方向に回転させられる、請求項1に記載の方法。
- 上記すすぎ洗いは、約25psiから約90psiまでの圧力において与えられる、請求項2に記載の方法。
- 上記すすぎ洗いは、約40psiから約60psiまでの圧力で与えられる、請求項2に記載の方法。
- 柔軟研磨パッドで基板を処理するための方法において、
新しい未使用の柔軟研磨パッドをプラテンに結合させるステップと、
上記プラテンに回転移動を与えるステップと、
回転調整ディスクを約1重量ポンドから約4重量ポンドまでのダウンフォースで研磨材と接触させるステップと、
上記回転調整ディスクを上記柔軟研磨パッドとの接触から取り外すステップと、
基板に対する研磨処理を行うために、上記基板を上記柔軟研磨パッドと接触させるステップと、
を順次に備える方法。 - 上記柔軟研磨パッドは、80°より小さい接触角を含む、請求項12に記載の方法。
- 上記柔軟研磨パッドは、35°と46°との間の接触角を含む、請求項12に記載の方法。
- 上記研磨処理の後に、上記柔軟研磨パッドをブラシ型コンディショナーと接触させるステップを更に備える、請求項12に記載の方法。
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