JP2009107996A - トリエステルビニルエーテル及びその製法 - Google Patents
トリエステルビニルエーテル及びその製法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2009107996A JP2009107996A JP2007283944A JP2007283944A JP2009107996A JP 2009107996 A JP2009107996 A JP 2009107996A JP 2007283944 A JP2007283944 A JP 2007283944A JP 2007283944 A JP2007283944 A JP 2007283944A JP 2009107996 A JP2009107996 A JP 2009107996A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- ester
- vinyl ether
- reaction
- triester
- mol
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 229960000834 vinyl ether Drugs 0.000 title abstract 3
- 238000000034 method Methods 0.000 title description 3
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims abstract description 15
- QYKIQEUNHZKYBP-UHFFFAOYSA-N Vinyl ether Chemical compound C=COC=C QYKIQEUNHZKYBP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 38
- LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N N-Butanol Chemical compound CCCCO LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 14
- 239000002994 raw material Substances 0.000 claims description 12
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims description 5
- 150000001339 alkali metal compounds Chemical class 0.000 claims 1
- 239000012776 electronic material Substances 0.000 claims 1
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 abstract description 2
- 239000007858 starting material Substances 0.000 abstract 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 31
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 31
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 26
- XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acetate Chemical compound CCOC(C)=O XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 18
- 150000005691 triesters Chemical class 0.000 description 16
- CSNNHWWHGAXBCP-UHFFFAOYSA-L Magnesium sulfate Chemical compound [Mg+2].[O-][S+2]([O-])([O-])[O-] CSNNHWWHGAXBCP-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 12
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 11
- WQDUMFSSJAZKTM-UHFFFAOYSA-N Sodium methoxide Chemical compound [Na+].[O-]C WQDUMFSSJAZKTM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 9
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 8
- 239000002274 desiccant Substances 0.000 description 8
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 8
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 8
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 238000005481 NMR spectroscopy Methods 0.000 description 6
- UIIMBOGNXHQVGW-UHFFFAOYSA-M Sodium bicarbonate Chemical compound [Na+].OC([O-])=O UIIMBOGNXHQVGW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 6
- -1 cyclohexanetricarboxylic acid ester Chemical class 0.000 description 6
- 238000004128 high performance liquid chromatography Methods 0.000 description 6
- 239000000047 product Substances 0.000 description 6
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 5
- 239000011541 reaction mixture Substances 0.000 description 5
- JHGIGGYPXLIBHJ-UHFFFAOYSA-N C(CCC)OC(=O)C1(C(CCCC1)C(=O)OCCCC)C(=O)OCCCC Chemical compound C(CCC)OC(=O)C1(C(CCCC1)C(=O)OCCCC)C(=O)OCCCC JHGIGGYPXLIBHJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 208000005156 Dehydration Diseases 0.000 description 4
- MNUSMUGFHGAOIW-UHFFFAOYSA-N cyclohexane-1,1,2-tricarboxylic acid Chemical compound OC(=O)C1CCCCC1(C(O)=O)C(O)=O MNUSMUGFHGAOIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 230000018044 dehydration Effects 0.000 description 4
- 238000006297 dehydration reaction Methods 0.000 description 4
- 229910001873 dinitrogen Inorganic materials 0.000 description 4
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 4
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 4
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 4
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 3
- 150000008064 anhydrides Chemical class 0.000 description 3
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 3
- VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N n-Hexane Chemical compound CCCCCC VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000010992 reflux Methods 0.000 description 3
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 3
- HUTIXMKLGMBSPG-UHFFFAOYSA-N tributyl cyclohexane-1,2,4-tricarboxylate Chemical compound CCCCOC(=O)C1CCC(C(=O)OCCCC)C(C(=O)OCCCC)C1 HUTIXMKLGMBSPG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000005160 1H NMR spectroscopy Methods 0.000 description 2
- HMBNQNDUEFFFNZ-UHFFFAOYSA-N 4-ethenoxybutan-1-ol Chemical compound OCCCCOC=C HMBNQNDUEFFFNZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UXVMQQNJUSDDNG-UHFFFAOYSA-L Calcium chloride Chemical compound [Cl-].[Cl-].[Ca+2] UXVMQQNJUSDDNG-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 206010040880 Skin irritation Diseases 0.000 description 2
- PMZURENOXWZQFD-UHFFFAOYSA-L Sodium Sulfate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]S([O-])(=O)=O PMZURENOXWZQFD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 239000007983 Tris buffer Substances 0.000 description 2
- 229910052783 alkali metal Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000006227 byproduct Substances 0.000 description 2
- 239000001110 calcium chloride Substances 0.000 description 2
- 229910001628 calcium chloride Inorganic materials 0.000 description 2
- 235000011148 calcium chloride Nutrition 0.000 description 2
- 239000007809 chemical reaction catalyst Substances 0.000 description 2
- 239000007806 chemical reaction intermediate Substances 0.000 description 2
- 239000012141 concentrate Substances 0.000 description 2
- WTNDADANUZETTI-UHFFFAOYSA-N cyclohexane-1,2,4-tricarboxylic acid Chemical compound OC(=O)C1CCC(C(O)=O)C(C(O)=O)C1 WTNDADANUZETTI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000005290 ethynyloxy group Chemical group C(#C)O* 0.000 description 2
- 231100000053 low toxicity Toxicity 0.000 description 2
- 229910052943 magnesium sulfate Inorganic materials 0.000 description 2
- 235000019341 magnesium sulphate Nutrition 0.000 description 2
- 239000000463 material Substances 0.000 description 2
- 238000006386 neutralization reaction Methods 0.000 description 2
- 230000035484 reaction time Effects 0.000 description 2
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 2
- 230000036556 skin irritation Effects 0.000 description 2
- 231100000475 skin irritation Toxicity 0.000 description 2
- 229910000030 sodium bicarbonate Inorganic materials 0.000 description 2
- 235000017557 sodium bicarbonate Nutrition 0.000 description 2
- CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L sodium carbonate Substances [Na+].[Na+].[O-]C([O-])=O CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 229910052938 sodium sulfate Inorganic materials 0.000 description 2
- 235000011152 sodium sulphate Nutrition 0.000 description 2
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 2
- NSXIVTVTODNMKD-UHFFFAOYSA-N triethyl cyclohexane-1,2,4-tricarboxylate Chemical compound CCOC(=O)C1CCC(C(=O)OCC)C(C(=O)OCC)C1 NSXIVTVTODNMKD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LKXQZSGYGXRZQG-UHFFFAOYSA-N trihexyl cyclohexane-1,2,4-tricarboxylate Chemical compound CCCCCCOC(=O)C1CCC(C(=O)OCCCCCC)C(C(=O)OCCCCCC)C1 LKXQZSGYGXRZQG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VUIWJRYTWUGOOF-UHFFFAOYSA-N 2-ethenoxyethanol Chemical compound OCCOC=C VUIWJRYTWUGOOF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ASPUDHDPXIBNAP-UHFFFAOYSA-N 6-ethenoxyhexan-1-ol Chemical compound OCCCCCCOC=C ASPUDHDPXIBNAP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PELRUZQKAMTEOI-UHFFFAOYSA-N C#COCCCCOC(=O)C1CCC(C(C1)C(=O)OCCCCOC#C)C(=O)OCCCCOC#C Chemical compound C#COCCCCOC(=O)C1CCC(C(C1)C(=O)OCCCCOC#C)C(=O)OCCCCOC#C PELRUZQKAMTEOI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PNLJASYPYVEQHW-UHFFFAOYSA-N CC(CCCOC(=O)C1CCC(C(C1)C(=O)OCCCC(C)OC#C)C(=O)OCCCC(C)OC#C)OC#C Chemical compound CC(CCCOC(=O)C1CCC(C(C1)C(=O)OCCCC(C)OC#C)C(=O)OCCCC(C)OC#C)OC#C PNLJASYPYVEQHW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZTKGBGUJLHXLAK-UHFFFAOYSA-N CCC(CCCOC(=O)C1CCC(C(C1)C(=O)OCCCC(CC)OC#C)C(=O)OCCCC(CC)OC#C)OC#C Chemical compound CCC(CCCOC(=O)C1CCC(C(C1)C(=O)OCCCC(CC)OC#C)C(=O)OCCCC(CC)OC#C)OC#C ZTKGBGUJLHXLAK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AHTCGYUGNPXZFF-UHFFFAOYSA-N CCCC(CCCOC(=O)C1CCC(C(C1)C(=O)OCCCC(CCC)OC#C)C(=O)OCCCC(CCC)OC#C)OC#C Chemical compound CCCC(CCCOC(=O)C1CCC(C(C1)C(=O)OCCCC(CCC)OC#C)C(=O)OCCCC(CCC)OC#C)OC#C AHTCGYUGNPXZFF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LVJJZSLIWXJUNI-UHFFFAOYSA-N CCCCC(CCCOC(=O)C1CCC(C(C1)C(=O)OCCCC(CCCC)OC#C)C(=O)OCCCC(CCCC)OC#C)OC#C Chemical compound CCCCC(CCCOC(=O)C1CCC(C(C1)C(=O)OCCCC(CCCC)OC#C)C(=O)OCCCC(CCCC)OC#C)OC#C LVJJZSLIWXJUNI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KPJQJPNFTBTDCN-UHFFFAOYSA-N CCCCCC(CCCOC(=O)C1CCC(C(C1)C(=O)OCCCC(CCCCC)OC#C)C(=O)OCCCC(CCCCC)OC#C)OC#C Chemical compound CCCCCC(CCCOC(=O)C1CCC(C(C1)C(=O)OCCCC(CCCCC)OC#C)C(=O)OCCCC(CCCCC)OC#C)OC#C KPJQJPNFTBTDCN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NLNSEFLNCWSYJV-UHFFFAOYSA-N CCCCCCC(CCCOC(=O)C1CCC(C(C1)C(=O)OCCCC(CCCCCC)OC#C)C(=O)OCCCC(CCCCCC)OC#C)OC#C Chemical compound CCCCCCC(CCCOC(=O)C1CCC(C(C1)C(=O)OCCCC(CCCCCC)OC#C)C(=O)OCCCC(CCCCCC)OC#C)OC#C NLNSEFLNCWSYJV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OFEWCSKFPBMKFY-UHFFFAOYSA-N CCCCCCCCCCCCCOC(=O)C1CCC(CC1C(=O)O)C(=O)O Chemical compound CCCCCCCCCCCCCOC(=O)C1CCC(CC1C(=O)O)C(=O)O OFEWCSKFPBMKFY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-M Propionate Chemical compound CCC([O-])=O XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- KXKVLQRXCPHEJC-UHFFFAOYSA-N acetic acid trimethyl ester Natural products COC(C)=O KXKVLQRXCPHEJC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 1
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 1
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 1
- 239000003153 chemical reaction reagent Substances 0.000 description 1
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- 238000004440 column chromatography Methods 0.000 description 1
- 239000003431 cross linking reagent Substances 0.000 description 1
- 125000000113 cyclohexyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 1
- 238000010790 dilution Methods 0.000 description 1
- 239000012895 dilution Substances 0.000 description 1
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 description 1
- 239000000543 intermediate Substances 0.000 description 1
- 239000002808 molecular sieve Substances 0.000 description 1
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 1
- 239000003973 paint Substances 0.000 description 1
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 description 1
- 239000002685 polymerization catalyst Substances 0.000 description 1
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 1
- CUQOHAYJWVTKDE-UHFFFAOYSA-N potassium;butan-1-olate Chemical compound [K+].CCCC[O-] CUQOHAYJWVTKDE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001436 propyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 239000000565 sealant Substances 0.000 description 1
- URGAHOPLAPQHLN-UHFFFAOYSA-N sodium aluminosilicate Chemical compound [Na+].[Al+3].[O-][Si]([O-])=O.[O-][Si]([O-])=O URGAHOPLAPQHLN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000029 sodium carbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- QDRKDTQENPPHOJ-UHFFFAOYSA-N sodium ethoxide Chemical compound [Na+].CC[O-] QDRKDTQENPPHOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 description 1
- 230000002194 synthesizing effect Effects 0.000 description 1
- MKGKTWLEEBZPRI-UHFFFAOYSA-N triheptyl cyclohexane-1,2,4-tricarboxylate Chemical compound CCCCCCCOC(=O)C1CCC(C(=O)OCCCCCCC)C(C(=O)OCCCCCCC)C1 MKGKTWLEEBZPRI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000005590 trimellitic acid group Chemical class 0.000 description 1
- CAMRDYLPCOAKSW-UHFFFAOYSA-N trinonyl cyclohexane-1,2,4-tricarboxylate Chemical compound CCCCCCCCCOC(=O)C1CCC(C(=O)OCCCCCCCCC)C(C(=O)OCCCCCCCCC)C1 CAMRDYLPCOAKSW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WMZUMIKGVXZUJR-UHFFFAOYSA-N trioctyl cyclohexane-1,2,4-tricarboxylate Chemical compound CCCCCCCCOC(=O)C1CCC(C(=O)OCCCCCCCC)C(C(=O)OCCCCCCCC)C1 WMZUMIKGVXZUJR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UNCANWJZJSLQNV-UHFFFAOYSA-N tripentyl cyclohexane-1,2,4-tricarboxylate Chemical compound CCCCCOC(=O)C1CCC(C(=O)OCCCCC)C(C(=O)OCCCCC)C1 UNCANWJZJSLQNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DMNWRCNEYDIESS-UHFFFAOYSA-N tripropyl cyclohexane-1,2,4-tricarboxylate Chemical compound CCCOC(=O)C1CCC(C(=O)OCCC)C(C(=O)OCCC)C1 DMNWRCNEYDIESS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007039 two-step reaction Methods 0.000 description 1
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 1
Images
Landscapes
- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
- Inks, Pencil-Leads, Or Crayons (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
Abstract
Description
で表されるトリエステルビニルエーテル並びにその製造方法及び用途が提供される。
n=2:1,2,4−シクロヘキサントリカルボン酸 トリエチルエステル トリビニルエーテル(別名:1,2,4−シクロヘキサントリカルボン酸 トリス[4−(エチニロキシ)エチル]エステル)
n=3:1,2,4−シクロヘキサントリカルボン酸 トリプロピルエステル トリビニルエーテル(別名:1,2,4−シクロヘキサントリカルボン酸 トリス[4−(エチニロキシ)プロピル]エステル)
n=4:1,2,4−シクロヘキサントリカルボン酸 トリブチルエステル トリビニルエーテル(別名:1,2,4−シクロヘキサントリカルボン酸 トリス[4−(エチニロキシ)ブチル]エステル)
n=5:1,2,4−シクロヘキサントリカルボン酸 トリペンチルエステル トリビニルエーテル(別名:1,2,4−シクロヘキサントリカルボン酸 トリス[4−(エチニロキシ)ペンチル]エステル)
n=6:1,2,4−シクロヘキサントリカルボン酸 トリヘキシルエステル トリビニルエーテル(別名:1,2,4−シクロヘキサントリカルボン酸 トリス[4−(エチニロキシ)ヘキシル]エステル)
n=7:1,2,4−シクロヘキサントリカルボン酸 トリヘプチルエステル トリビニルエーテル(別名:1,2,4−シクロヘキサントリカルボン酸 トリス[4−(エチニロキシ)ヘプチル]エステル)
n=8:1,2,4−シクロヘキサントリカルボン酸 トリオクチルエステル トリビニルエーテル(別名:1,2,4−シクロヘキサントリカルボン酸 トリス[4−(エチニロキシ)オクチル]エステル)
n=9:1,2,4−シクロヘキサントリカルボン酸 トリノニルエステル トリビニルエーテル(別名:1,2,4−シクロヘキサントリカルボン酸 トリス[4−(エチニロキシ)ノニル]エステル)
n=10:1,2,4−シクロヘキサントリカルボン酸 トリデシルエステル トリビニルエーテル(別名:1,2,4−シクロヘキサントリカルボン酸 トリス[4−(エチニロキシ)デシル]エステル)
例えば、ガラス製の反応容器中に、n−ブチルアルコール及びシクロヘキサントリカルボン酸エステル又はその無水物を入れ、反応触媒として、濃硫酸を添加する。n−ブチルアルコールの添加量としてはシクロヘキサントリカルボン酸エステル又はその無水物1.0モルに対して10.0〜20.0モルで行うのが好ましく、14.0〜16.0モルがより好ましい。濃硫酸の添加量としてはシクロヘキサントリカルボン酸エステル又はその無水物1.0モルに対して0.1〜1.0モルで行うのが好ましく、0.4〜0.6モルがより好ましい。次いで、反応混合物を昇温して還流させ、水を抜きながら、反応させると、中間体であるシクロヘキサントリカルボン酸 トリ−n−ブチルエステルが生成する。反応温度としては、110〜125℃が好ましく、より好ましくは115〜120℃である。反応時間としては、10〜20時間が好ましく、より好ましくは15〜17時間である。
一方、脱水処理のための乾燥剤の具体例としては、硫酸マグネシウム、硫酸ナトリウム、塩化カルシウム等の無水無機塩が使用できるが、脱水の効率や本抽出液に対する溶解性の低さを考慮した品質上の面から、特に無水硫酸マグネシウムが好適に使用できる。
攪拌機、冷却器及び水分定量受器を備えた500mlのガラス製四つ口フラスコに、n−ブチルアルコール296g、シクロヘキサントリカルボン酸無水物39.7g(純度98.4%、0.20モル)を仕込み、触媒として硫酸9.8g(純度98.0%、0.10モル)を添加した。次いで内温が116℃になるまで昇温し、還流開始後15時間、水を抜きながら反応させた。反応終了後、飽和炭酸水素ナトリウム溶液を用い中和し、分液を行った。更に、水200mlで洗浄し、分液後、乾燥剤として無水硫酸マグネシウムを加え、ろ過を行った。その後、減圧下に反応液を濃縮して、エステル69.7gを得た。高速液体クロマトグラフィー(HPLC)分析の結果、エステルの純度は97.5%であった。この生成物の収率は、原料のシクロヘキサントリカルボン酸無水物に対して、89.7%であった。
高速液体クロマトグラフィー(HPLC)分析の結果、エステルビニルエーテルの純度は89.2%であった。この生成物の収率は、原料のエステルに対して、63.3%であった。また、このうち1.2%をカラムクロマトグラフにて精製したところ、純度95.7%のエステルビニルエーテル(1,2,4−シクロヘキサントリカルボン酸 トリブチルエステル トリビニルエーテル)1.1gが得られた。得られたエステルビニルエーテルの1H−NHR分析の特性吸収値は表Iに示す通りであった。また、得られたエステルビニルエーテルのNMRチャートを図1に、IRチャートを図2に示した。
攪拌機、冷却器及びガス導入管を備えた200mlのガラス製四つ口フラスコに、実施例1と同様にして得られたエステル19.2g(純度97.5%、0.049モル)を仕込み、触媒としてナトリウムメトキシド0.75g(純度90.0%、0.012モル)を添加した。次いでヒドロキシエチルビニルエーテル45.5g(純度98.9%、0.51モル)を添加した。次いで、内温が115℃になるまで昇温し、反応温度が115℃に達してから5時間反応させた。この間、逐次窒素ガスを通気し、留分を抜き出した。
攪拌機、冷却器及びガス導入管を備えた100mlのガラス製四つ口フラスコに、上記エステル19.2g(純度97.5%、0.049モル)を仕込み、触媒としてナトリウムメトキシド0.75g(純度90.0%、0.012モル)を添加した。次いでヒドロキシヘキシルビニルエーテル26.0g(純度87.7%、0.16モル)を添加した。次いで、内温が120℃になるまで昇温し、反応温度が120℃に達してから5時間反応させた。この間、逐次窒素ガスを通気し、留分を抜き出した。
得られたエステルビニルエーテルの1H−NMR分析の特性吸収値は表IIIに示す通りであった。また、NMRチャートを図5に、IRチャートを図6に示した。
攪拌機、冷却器及び水分定量受器を備えた200mlのガラス製四つ口フラスコに、n−ブチルアルコール96.2g、シクロヘキサントリカルボン酸14.1g(純度96.2%、0.063モル)を仕込み、触媒として硫酸2.4g(純度98.0%、0.024モル)を添加した。次いで内温が116℃になるまで昇温し、還流開始後15時間、水を抜きながら反応させた。反応終了後、飽和炭酸水素ナトリウム溶液を用い中和し、分液を行った。更に、水50mlで洗浄し、分液後、乾燥剤として無水硫酸マグネシウムを加え、ろ過を行った。その後、減圧下に反応液を濃縮して、エステル23.2gを得た。高速液体クロマトグラフィー(HPLC)分析の結果、エステルの純度は98.3%であった。この生成物の収率は、原料のシクロヘキサントリカルボン酸無水物に対して、94.5%であった。
Claims (5)
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2007283944A JP5213415B2 (ja) | 2007-10-31 | 2007-10-31 | トリエステルビニルエーテル及びその製法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2007283944A JP5213415B2 (ja) | 2007-10-31 | 2007-10-31 | トリエステルビニルエーテル及びその製法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2009107996A true JP2009107996A (ja) | 2009-05-21 |
JP5213415B2 JP5213415B2 (ja) | 2013-06-19 |
Family
ID=40776913
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2007283944A Active JP5213415B2 (ja) | 2007-10-31 | 2007-10-31 | トリエステルビニルエーテル及びその製法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5213415B2 (ja) |
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US20110086312A1 (en) * | 2009-10-09 | 2011-04-14 | Dammel Ralph R | Positive-Working Photoimageable Bottom Antireflective Coating |
US8455176B2 (en) | 2008-11-12 | 2013-06-04 | Az Electronic Materials Usa Corp. | Coating composition |
US8632948B2 (en) | 2009-09-30 | 2014-01-21 | Az Electronic Materials Usa Corp. | Positive-working photoimageable bottom antireflective coating |
CN112166147A (zh) * | 2018-10-29 | 2021-01-01 | 株式会社Lg化学 | 环己烷三酯类增塑剂组合物和包含该增塑剂组合物的树脂组合物 |
JP2021073239A (ja) * | 2015-09-28 | 2021-05-13 | エボニック オペレーションズ ゲーエムベーハー | トリメリット酸のトリペンチルエステル |
CN113661206A (zh) * | 2019-05-02 | 2021-11-16 | 株式会社Lg化学 | 环己烷三酯类增塑剂组合物和包含该增塑剂组合物的树脂组合物 |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2000198760A (ja) * | 1999-01-08 | 2000-07-18 | Mitsubishi Chemicals Corp | 高純度トランス―1,4―シクロヘキサンジカルボン酸ジアルキルの製造方法 |
JP2004026723A (ja) * | 2002-06-26 | 2004-01-29 | New Japan Chem Co Ltd | 脂環式ポリカルボン酸の精製方法 |
-
2007
- 2007-10-31 JP JP2007283944A patent/JP5213415B2/ja active Active
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2000198760A (ja) * | 1999-01-08 | 2000-07-18 | Mitsubishi Chemicals Corp | 高純度トランス―1,4―シクロヘキサンジカルボン酸ジアルキルの製造方法 |
JP2004026723A (ja) * | 2002-06-26 | 2004-01-29 | New Japan Chem Co Ltd | 脂環式ポリカルボン酸の精製方法 |
Cited By (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US8455176B2 (en) | 2008-11-12 | 2013-06-04 | Az Electronic Materials Usa Corp. | Coating composition |
US8632948B2 (en) | 2009-09-30 | 2014-01-21 | Az Electronic Materials Usa Corp. | Positive-working photoimageable bottom antireflective coating |
US20110086312A1 (en) * | 2009-10-09 | 2011-04-14 | Dammel Ralph R | Positive-Working Photoimageable Bottom Antireflective Coating |
CN102576193A (zh) * | 2009-10-09 | 2012-07-11 | Az电子材料美国公司 | 正性作用的可光成像底部抗反射涂层 |
JP2013507653A (ja) * | 2009-10-09 | 2013-03-04 | エイゼット・エレクトロニック・マテリアルズ・ユーエスエイ・コーポレイション | ポジ型光像形成性底面反射防止コーティング |
JP2021073239A (ja) * | 2015-09-28 | 2021-05-13 | エボニック オペレーションズ ゲーエムベーハー | トリメリット酸のトリペンチルエステル |
CN112166147A (zh) * | 2018-10-29 | 2021-01-01 | 株式会社Lg化学 | 环己烷三酯类增塑剂组合物和包含该增塑剂组合物的树脂组合物 |
CN112166147B (zh) * | 2018-10-29 | 2022-04-12 | 株式会社Lg化学 | 环己烷三酯类增塑剂组合物和包含该增塑剂组合物的树脂组合物 |
US11851547B2 (en) | 2018-10-29 | 2023-12-26 | Lg Chem, Ltd. | Cyclohexane triester based plasticizer composition and resin composition comprising the same |
CN113661206A (zh) * | 2019-05-02 | 2021-11-16 | 株式会社Lg化学 | 环己烷三酯类增塑剂组合物和包含该增塑剂组合物的树脂组合物 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP5213415B2 (ja) | 2013-06-19 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5213415B2 (ja) | トリエステルビニルエーテル及びその製法 | |
JP2009132676A (ja) | ストロンチウムラネレートおよびその水和物の新規な合成法 | |
JP5092209B2 (ja) | 3,5−ジヒドロキシ−1−アダマンチルアクリレート類の製造方法 | |
JP5345357B2 (ja) | 1,3−アダマンタンジメタノールモノビニルエーテル及び1,3−アダマンタンジメタノールジビニルエーテル並びにその製法 | |
KR20110127082A (ko) | 알킬락테이트의 제조방법 및 이를 이용한 락타미드의 제조방법 | |
CN110642790B (zh) | 瑞舒伐他汀钙及其中间体的制备方法 | |
CN111943901B (zh) | 一种由炔酰胺直接合成噁唑烷-2,4-二酮类杂环化合物的方法 | |
CN110655462A (zh) | 一种对乙酰氧基苯乙烯的制备方法 | |
JP5168830B2 (ja) | テトラヒドロピラン−4−オン化合物の製法 | |
KR20160027536A (ko) | 실로도신 합성에 유용한 중간체의 제조방법 | |
CN110028409B (zh) | 一种多取代萘衍生物及其制备方法 | |
CA3022444C (en) | Method for preparing azoxystrobin | |
JP4336961B2 (ja) | 2−メチル−2−ヒドロキシ−1−プロピル(メタ)アクリレートの製造方法 | |
JP4667593B2 (ja) | 2−アルキル−2−アダマンチル(メタ)アクリレート類の製造法 | |
JP2011051904A (ja) | 第3級アルコールの製造方法 | |
JP4471361B2 (ja) | 新規なフロロアルキル基含有アセチレンアルコールおよびその製造方法 | |
CN108047140A (zh) | HMG-CoA还原酶抑制剂及其中间体的制备方法 | |
CN110862318B (zh) | 一种叔丁基取代羟基苯甲酸酯的制备方法 | |
JP7420550B2 (ja) | 2-ヒドロキシ-2-(パーフルオロアルキル)マロン酸エステル誘導体の製造方法、並びに2-(トリメチルシリルオキシ)-2-(パーフルオロアルキル)マロン酸エステル誘導体及び5-ヒドロキシ-5-(パーフルオロアルキル)ピリミジン-2,4,6(1h,3h,5h)-トリオンとそれらの製造方法 | |
CN109384734B (zh) | 一种塞尔西帕中间体的制备方法 | |
JP2010150220A (ja) | アダマンタンカルボン酸エステル類の製造方法 | |
JP2008074805A (ja) | 高純度(メタ)アクリル酸エステルの製造方法 | |
JP4500983B2 (ja) | 6−アルコキシ−2−ナフタレンチオールおよびその製造方法 | |
JP2009155230A (ja) | 6−ヒドロキシ−2−ナフトエ酸再生品の製造方法 | |
KR20220044684A (ko) | 살리실아민 아세테이트 제조방법 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20100803 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20121113 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20121113 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20121226 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20130129 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20130226 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Ref document number: 5213415 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20160308 Year of fee payment: 3 |
|
S531 | Written request for registration of change of domicile |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313531 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |