JP2009102501A - Novel epoxy carboxylate compound, its derivative, active energy ray-curable resin composition containing it and cured product thereof - Google Patents

Novel epoxy carboxylate compound, its derivative, active energy ray-curable resin composition containing it and cured product thereof Download PDF

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a resin composition that is cured by an active energy ray or the like such as an ultraviolet ray or the like and is capable of producing a tough film or a molding material. <P>SOLUTION: An epoxy carboxylate compound produced by reacting an epoxy resin containing a polycyclic hydrocarbon group having a specific structure with a compound having both a polymerizable unsaturated group and a carboxyl group in a molecule and a compound having both a hydroxyl group and a carboxyl group in a molecule is provided. A polycarboxylic acid compound being an acid modified product of the epoxy carboxylate compound is provided. An active energy ray-curable resin composition containing the epoxy carboxylate compound and the acid modified product thereof is provided. A cured product of the active energy ray-curable resin composition is provided. The cured product has not only high reliability and toughness but also good pigment dispersibility. <P>COPYRIGHT: (C)2009,JPO&INPIT

Description

本発明は、特定構造を有した多環式炭化水素基を有するエポキシ樹脂(a)に、一分子中に重合可能なエチレン性不飽和基とカルボキシ基を併せ持つ化合物(b)と一分子中に水酸基とカルボキシ基を併せ持つ化合物(c)を反応させて得られるエポキシカルボキシレート化合物(A)、その酸変性物であるポリカルボン酸化合物(B)、それらを含む活性エネルギー線硬化型樹脂組成物、並びに、その硬化物に関する。これらエポキシカルボキシレート化合物(A)及びポリカルボン酸化合物(B)は顔料への良好な親和性を有しており、又、これらを含む樹脂組成物からは強靭な硬化物を得ることが出来る。   The present invention relates to an epoxy resin (a) having a polycyclic hydrocarbon group having a specific structure, a compound (b) having both a polymerizable ethylenically unsaturated group and a carboxy group in one molecule, and one molecule. An epoxycarboxylate compound (A) obtained by reacting a compound (c) having both a hydroxyl group and a carboxy group, a polycarboxylic acid compound (B) which is an acid-modified product thereof, an active energy ray-curable resin composition containing them, Moreover, it relates to the cured product. These epoxy carboxylate compound (A) and polycarboxylic acid compound (B) have good affinity for the pigment, and a tough cured product can be obtained from the resin composition containing them.

プリント配線板は、携帯機器の小型軽量化や通信速度の向上のために、高精度化や高密度化が求められ、それに伴いその配線板の回路自体を被覆するソルダーレジストへの要求も益々高度となり、従来の要求以上の耐熱性、熱安定性と共に高い信頼性、即ち、高温高湿条件や冷熱衝撃に耐えうる性能が要求されている。   Printed wiring boards are required to have higher precision and higher density in order to reduce the size and weight of portable devices and improve communication speed. With this, the demand for solder resist that covers the circuit itself of the wiring board is becoming increasingly sophisticated. Therefore, there is a demand for heat resistance and thermal stability that are higher than conventional requirements, as well as high reliability, that is, performance that can withstand high-temperature and high-humidity conditions and thermal shock.

特許文献1には多環式炭化水素基を有するエポキシ樹脂を基本骨格とした酸変性エポキシアクリレート化合物とその硬化物が記載されており、硬化後に比較的高い強靭性を有していることも知られている。又、これを用いたソルダーレジストについても記載されている。
このソルダーレジストは比較的高い信頼性を有してはいるものの、近年、輸送機器等の電子化に伴い求められている、より高い信頼性は満足しない。
Patent Document 1 describes an acid-modified epoxy acrylate compound having an epoxy resin having a polycyclic hydrocarbon group as a basic skeleton and a cured product thereof, and is also known to have relatively high toughness after curing. It has been. A solder resist using the same is also described.
Although this solder resist has a relatively high reliability, it does not satisfy the higher reliability required in recent years with the digitization of transportation equipment and the like.

一方、特許文献2等には、一般的なエポキシ樹脂にアクリル酸と水酸基を有するカルボン酸化合物を反応させて得られるエポキシカルボキシレート化合物が記載され、低酸価でありながら優れた現像性を有することが記載されており、更に、この化合物がレジストインキ適性を有することも記載されているが、性能に不足がある。   On the other hand, Patent Document 2 describes an epoxy carboxylate compound obtained by reacting a general epoxy resin with a carboxylic acid compound having acrylic acid and a hydroxyl group, and has excellent developability while having a low acid value. Further, it is described that this compound has resist ink suitability, but the performance is insufficient.

又、多環式炭化水素基を有するエポキシ樹脂を基本骨格とした酸変性エポキシアクリレート化合物にカーボンブラック等の着色顔料を分散させ、液晶表示パネル等に用いられるブラックマトリックスレジストに応用する試みも知られている。(特許文献3)   Also known is an attempt to disperse a color pigment such as carbon black in an acid-modified epoxy acrylate compound having an epoxy resin having a polycyclic hydrocarbon group as a basic skeleton and to apply it to a black matrix resist used in a liquid crystal display panel or the like. ing. (Patent Document 3)

該用途において、カーボンブラック等の着色顔料を高濃度に配合する場合でも、顔料が良好に樹脂と親和して分散することにより良好な現像性を示し、顔料残渣がない現像が可能になる。これらの従来の酸変性エポキシアクリレート類は比較的良好な分散性を示すものの、より高顔料濃度での現像性、即ち、より高い顔料分散性が求められていた。そして、良好な着色顔料との親和性を得るために顔料分散体とした場合、その分散液が擬似的に凝集してしまい、分散液の保存安定性が良くないという欠点があった。
特開平5−214048号公報 特開平6−324490号公報 特開2004−295094号公報
In this application, even when a coloring pigment such as carbon black is blended at a high concentration, the pigment is favorably dispersed with affinity to the resin, thereby exhibiting good developability and enabling development without pigment residue. Although these conventional acid-modified epoxy acrylates exhibit relatively good dispersibility, developability at a higher pigment concentration, that is, higher pigment dispersibility has been demanded. And when it was set as the pigment dispersion in order to acquire affinity with a favorable colored pigment, there existed a fault that the dispersion liquid aggregated pseudo | simulated and the storage stability of the dispersion liquid was not good.
Japanese Patent Laid-Open No. 5-214048 JP-A-6-324490 JP 2004-295094 A

前記の多環式炭化水素基を有するエポキシ樹脂を含有する硬化型樹脂組成物は比較的強靭な硬化物を得ることが出来るが、輸送機器といった極めて高い信頼性を求められる材料に用いるには問題がある。
更に、着色顔料、特にカーボンブラック等の分散性がより優れ、高い顔料濃度でも良好な現像特性を有する酸変性エポキシアクリレート化合物が求められている。この際、比較的高い分子量を有しておりながら、且つ、適度な現像性を有していることが必要である
Although the curable resin composition containing an epoxy resin having a polycyclic hydrocarbon group can obtain a relatively tough cured material, it is problematic for use in a material that requires extremely high reliability such as transportation equipment. There is.
Furthermore, there is a need for acid-modified epoxy acrylate compounds that have better dispersibility of colored pigments, especially carbon black, and that have good development characteristics even at high pigment concentrations. At this time, it is necessary to have a relatively high molecular weight and appropriate developability.

本発明者らは前述の課題を解決するため、特定構造の多環式炭化水素基を有するエポキシ樹脂に、一分子中に重合可能なエチレン性不飽和基とカルボキシ基を併せ持つ化合物(b)及び一分子中に水酸基とカルボキシ基を併せ持つ化合物(c)とを反応させて得られるエポキシカルボキシレート化合物(A)、更にはそれに多塩基酸無水物(d)を反応させて得られるポリカルボン酸化合物(B)が、特に優れた樹脂物性を有することを見出した。
更には、特に良好な着色顔料との親和性を有していることを見出し、得られる組成物は高い顔料濃度でも良好な現像性を持つレジスト材料等となり得ることを見出した。
In order to solve the above-mentioned problems, the present inventors have prepared a compound (b) having both an ethylenically unsaturated group polymerizable in one molecule and a carboxy group in an epoxy resin having a polycyclic hydrocarbon group having a specific structure. An epoxycarboxylate compound (A) obtained by reacting a compound (c) having both a hydroxyl group and a carboxy group in one molecule, and a polycarboxylic acid compound obtained by reacting it with a polybasic acid anhydride (d) It was found that (B) has particularly excellent resin properties.
Furthermore, it has been found that it has a particularly good affinity with colored pigments, and that the resulting composition can be a resist material having good developability even at a high pigment concentration.

即ち、本発明は、下記一般式(1)で示されるエポキシ樹脂(a)に、一分子中に重合可能なエチレン性不飽和基とカルボキシ基を併せ持つ化合物(b)及び一分子中に水酸基とカルボキシ基を併せ持つ化合物(c)を反応させて得られるエポキシカルボキシレート化合物(A)に関する。

Figure 2009102501
[式中、Rは同一でも異なっていてもよく、水素原子、ハロゲン原子又は炭素数1〜4の炭化水素基を示し、nは平均値で1〜10の正数を示す。] That is, the present invention relates to an epoxy resin (a) represented by the following general formula (1), a compound (b) having both an ethylenically unsaturated group polymerizable in one molecule and a carboxy group, and a hydroxyl group in one molecule. The present invention relates to an epoxycarboxylate compound (A) obtained by reacting a compound (c) having a carboxy group.
Figure 2009102501
[Wherein, R may be the same or different and each represents a hydrogen atom, a halogen atom or a hydrocarbon group having 1 to 4 carbon atoms, and n represents an average value of 1 to 10 positive numbers. ]

更に、上記エポキシカルボキシレート化合物(A)に多塩基酸無水物(d)を反応させて得られるポリカルボン酸化合物(B)に関する。
更に、上記エポキシカルボキシレート化合物(A)及び/又はポリカルボン酸化合物(B)を含む活性エネルギー線硬化型樹脂組成物に関する。
Furthermore, it is related with the polycarboxylic acid compound (B) obtained by making a polybasic acid anhydride (d) react with the said epoxy carboxylate compound (A).
Furthermore, it is related with the active energy ray hardening-type resin composition containing the said epoxy carboxylate compound (A) and / or a polycarboxylic acid compound (B).

更に、上記エポキシカルボキシレート化合物(A)及びポリカルボン酸化合物(B)以外の反応性化合物(C)を含む上記の活性エネルギー線硬化型樹脂組成物に関する。
更に、光重合開始剤を含む上記の活性エネルギー線硬化型樹脂組成物に関する。
更に、着色顔料を含む上記の活性エネルギー線硬化型樹脂組成物に関する。
Furthermore, it is related with said active energy ray hardening-type resin composition containing reactive compounds (C) other than the said epoxy carboxylate compound (A) and polycarboxylic acid compound (B).
Furthermore, it is related with said active energy ray hardening-type resin composition containing a photoinitiator.
Furthermore, it is related with said active energy ray hardening-type resin composition containing a coloring pigment.

更に、成形用材料である上記の活性エネルギー線硬化型樹脂組成物に関する。
更に、皮膜形成用材料である上記の活性エネルギー線硬化型樹脂組成物に関する。
更に、レジスト材料組成物である上記の活性エネルギー線硬化型樹脂組成物に関する。
Furthermore, it is related with said active energy ray hardening-type resin composition which is a molding material.
Furthermore, it is related with said active energy ray hardening-type resin composition which is a film forming material.
Furthermore, it is related with said active energy ray hardening-type resin composition which is a resist material composition.

更に、上記の活性エネルギー線硬化型樹脂組成物の硬化物に関する。
更に、上記の活性エネルギー線硬化型樹脂組成物の硬化物でオーバーコートされた物品に関する。
Furthermore, it is related with the hardened | cured material of said active energy ray hardening-type resin composition.
Furthermore, the present invention relates to an article overcoated with a cured product of the active energy ray-curable resin composition.

本発明の特定構造の多環式炭化水素基を有するエポキシ樹脂及び/又はその酸変性化合物を含む活性エネルギー線硬化型樹脂組成物は強靭な硬化物を得るだけではなく、溶剤を乾燥させただけの状態においても優れた樹脂物性を有している。又、本発明の活性エネルギー線硬化型樹脂組成物を紫外線等の活性エネルギー線等により硬化して得られる硬化物は、熱的及び機械的な強靭性、良好な保存安定性、更には高温高湿や冷熱衝撃に耐え得る高い信頼性を有する皮膜形成用材料に好適に用いることが出来る。   The active energy ray-curable resin composition containing an epoxy resin having a polycyclic hydrocarbon group having a specific structure and / or an acid-modified compound thereof according to the present invention not only obtains a tough cured product but also only dries the solvent. Even in this state, it has excellent resin properties. In addition, a cured product obtained by curing the active energy ray-curable resin composition of the present invention with active energy rays such as ultraviolet rays has thermal and mechanical toughness, good storage stability, and high temperature and high temperature. It can be suitably used for a film-forming material having high reliability that can withstand moisture and cold shock.

好適には、例えば特に高い信頼性を求められるプリント配線板用ソルダーレジスト、多層プリント配線板用層間絶縁材料、フレキシブルプリント配線板用ソルダーレジスト、メッキレジスト、感光性光導波路等の用途に用いることが出来る。   Suitably, for example, it can be used for applications such as solder resists for printed wiring boards, interlayer insulating materials for multilayer printed wiring boards, solder resists for flexible printed wiring boards, plating resists, photosensitive optical waveguides and the like that require particularly high reliability. I can do it.

更に、カーボンブラック等の着色顔料との高い親和性を有しており、高い顔料濃度においても良好な現像性を発揮することが出来、カラーレジスト、カラーフィルタ用のレジスト材料、特にブラックマトリックス材料等にも好適に用いることが出来る。   Furthermore, it has a high affinity with colored pigments such as carbon black, and can exhibit good developability even at high pigment concentrations, and resist materials for color resists, color filters, especially black matrix materials, etc. Also, it can be suitably used.

本発明のエポキシカルボキシレート化合物(A)は、上記式(1)で示されるエポキシ樹脂(a)に、一分子中に重合可能なエチレン性不飽和基とカルボキシ基を併せ持つ化合物(b)及び一分子中に水酸基とカルボキシ基を併せ持つ化合物(c)を反応させて得られる。
即ち、エチレン性不飽和基と水酸基を同時に任意の割合でエポキシカルボキシレート化合物の分子鎖中に導入することで、本発明の特徴が発揮されるものである。
The epoxy carboxylate compound (A) of the present invention comprises the compound (b) having both an ethylenically unsaturated group and a carboxyl group polymerizable in one molecule in the epoxy resin (a) represented by the above formula (1). It is obtained by reacting a compound (c) having both a hydroxyl group and a carboxy group in the molecule.
That is, the characteristics of the present invention are exhibited by simultaneously introducing an ethylenically unsaturated group and a hydroxyl group into the molecular chain of the epoxycarboxylate compound at an arbitrary ratio.

本発明のエポキシカルボキシレート化合物(A)の製造に用いられるエポキシ樹脂(a)は、上記一般式(1)[式中、Rは同一でも異なっていてもよく、水素原子、ハロゲン原子又は炭素数1〜4の炭化水素基を示し、nは平均値で1〜10の正数を示す。]で示される多環式炭化水素基を有するエポキシ樹脂である。   The epoxy resin (a) used for the production of the epoxycarboxylate compound (A) of the present invention has the above general formula (1) [wherein R may be the same or different and each represents a hydrogen atom, a halogen atom or a carbon number. 1 to 4 hydrocarbon groups are shown, and n represents an average value of 1 to 10 positive numbers. ] The epoxy resin which has a polycyclic hydrocarbon group shown by this.

本発明のRにおいて、ハロゲン原子としてはフッ素原子、塩素原子、臭素原子又はヨウ素原子が挙げられる。
本発明のRにおいて、炭素数1〜4の炭化水素基としては例えば、メチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、s−ブチル基又はt−ブチル基等が挙げられる。
In R of the present invention, examples of the halogen atom include a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, and an iodine atom.
In R of the present invention, examples of the hydrocarbon group having 1 to 4 carbon atoms include a methyl group, an ethyl group, an n-propyl group, an isopropyl group, an n-butyl group, an s-butyl group, and a t-butyl group. It is done.

中でも、Rが全て水素原子である化合物若しくはメチル基である化合物が安価に入手可能であり好ましい。
更に、一般式(1)で示されるエポキシ樹脂(a)の製法は特許文献3等に記載されている。Rが全て水素原子であり、nが平均値で1〜10の正数を示す化合物は、日本化薬(株)からXD−1000シリーズとして入手可能である。
本発明においては、XD−1000シリーズからその軟化点グレードで好適な化合物を適宜選択すればよい。
Among them, a compound in which all R is a hydrogen atom or a compound in which a methyl group is available is preferable because it is available at low cost.
Furthermore, the manufacturing method of the epoxy resin (a) shown by General formula (1) is described in patent document 3 grade | etc.,. Compounds in which R is all hydrogen atoms and n is a positive number of 1 to 10 on average are available as XD-1000 series from Nippon Kayaku Co., Ltd.
In the present invention, a compound suitable for the softening point grade may be appropriately selected from the XD-1000 series.

本発明のエポキシカルボキシレート化合物(A)の製造に用いられる一分子中に重合可能なエチレン性不飽和基とカルボキシ基を併せ持つ化合物(b)は、硬化の際の活性エネルギー線への反応性を付与するために用いる化合物であり、これらにはモノカルボン酸化合物やポリカルボン酸化合物が挙げられる。   The compound (b) having both a polymerizable ethylenically unsaturated group and a carboxy group in one molecule used for the production of the epoxycarboxylate compound (A) of the present invention has a reactivity to active energy rays during curing. These are compounds used for imparting, and these include monocarboxylic acid compounds and polycarboxylic acid compounds.

一分子中にカルボキシ基をひとつ含むモノカルボン酸化合物としては、例えば、(メタ)アクリル酸類やクロトン酸、α−シアノ桂皮酸、桂皮酸、或いは飽和又は不飽和二塩基酸と不飽和基含有モノグリシジル化合物との反応物が挙げられる。
アクリル酸類としては、例えば、(メタ)アクリル酸、β−スチリルアクリル酸、β−フルフリルアクリル酸、(メタ)アクリル酸二量体、(メタ)アクリル酸とε−カプロラクトンとの反応生成物、飽和又は不飽和二塩基酸無水物と一分子中に一個の水酸基を有する(メタ)アクリレート誘導体との当モル反応物である半エステル類、飽和又は不飽和二塩基酸とモノグリシジル(メタ)アクリレート誘導体類との当モル反応物である半エステル類等が挙げられる。
Examples of monocarboxylic acid compounds containing one carboxy group in one molecule include (meth) acrylic acids, crotonic acid, α-cyanocinnamic acid, cinnamic acid, and saturated or unsaturated dibasic acid and unsaturated group-containing monocarboxylic acid compounds. The reaction material with a glycidyl compound is mentioned.
Examples of acrylic acids include (meth) acrylic acid, β-styrylacrylic acid, β-furfurylacrylic acid, (meth) acrylic acid dimer, reaction product of (meth) acrylic acid and ε-caprolactone, Half-esters, saturated or unsaturated dibasic acid and monoglycidyl (meth) acrylate, which are equimolar reactants of a saturated or unsaturated dibasic acid anhydride and a (meth) acrylate derivative having one hydroxyl group in one molecule And half-esters which are equimolar reactants with derivatives.

一分子中にカルボキシ基を複数有するポリカルボン酸化合物としては、例えば、一分子中に複数の水酸基を有する(メタ)アクリレート誘導体と二塩基酸無水物との当モル反応物である半エステル類、飽和又は不飽和二塩基酸と複数のエポキシ基を有するグリシジル(メタ)アクリレート誘導体類との当モル反応物である半エステル類等が挙げられる。   Examples of the polycarboxylic acid compound having a plurality of carboxy groups in one molecule include, for example, half esters which are equimolar reaction products of a (meth) acrylate derivative having a plurality of hydroxyl groups in one molecule and a dibasic acid anhydride, And half-esters which are equimolar reaction products of a saturated or unsaturated dibasic acid and a glycidyl (meth) acrylate derivative having a plurality of epoxy groups.

これらのうち最も好ましくは、活性エネルギー線硬化型樹脂組成物としたときの活性エネルギー線に対する感度の点で(メタ)アクリル酸、(メタ)アクリル酸とε−カプロラクトンとの反応生成物又は桂皮酸が挙げられる。   Most preferably among these, (meth) acrylic acid, reaction product of (meth) acrylic acid and ε-caprolactone, or cinnamic acid in terms of sensitivity to active energy rays when an active energy ray-curable resin composition is used. Is mentioned.

本発明のエポキシカルボキシレート化合物(A)の製造に用いられる一分子中に重合可能なエチレン性不飽和基とカルボキシ基を併せ持つ化合物(b)としては、化合物中に水酸基を有さないものが好ましい。   As the compound (b) having both a polymerizable ethylenically unsaturated group and a carboxy group in one molecule used for the production of the epoxycarboxylate compound (A) of the present invention, those having no hydroxyl group in the compound are preferable. .

本発明のエポキシカルボキシレート化合物(A)の製造において用いられる一分子中に水酸基とカルボキシ基を併せ持つ化合物(c)は、エポキシカルボキシレート化合物に水酸基を導入するために用いる化合物であり、これらには一分子中に一個の水酸基と一個のカルボキシ基を併せ持つ化合物、一分子中に二個以上の水酸基と一個のカルボキシ基を合わせもつ化合物、一分子中に一個以上の水酸基と二個以上のカルボキシ基を併せ持つ化合物等が含まれる。   The compound (c) having both a hydroxyl group and a carboxy group in one molecule used in the production of the epoxycarboxylate compound (A) of the present invention is a compound used for introducing a hydroxyl group into the epoxycarboxylate compound. A compound having one hydroxyl group and one carboxy group in one molecule, a compound having two or more hydroxyl groups and one carboxy group in one molecule, one or more hydroxyl groups and two or more carboxy groups in one molecule And the like.

一分子中に一個の水酸基と一個のカルボキシ基を併せ持つ化合物としては、例えば、ヒドロキシプロピオン酸、ヒドロキシブタン酸、ヒドロキシステアリン酸等が挙げられる。
一分子中に二個以上の水酸基と一個のカルボキシ基を併せ持つ化合物としては、例えば、ジメチロール酢酸、ジメチロールプロピオン酸、ジメチロールブタン酸等が挙げられる。
一分子中に一個以上の水酸基と二個以上のカルボキシル基を併せ持つ化合物としては、例えば、ヒドロキシフタル酸等が挙げられる。
Examples of the compound having one hydroxyl group and one carboxy group in one molecule include hydroxypropionic acid, hydroxybutanoic acid, hydroxystearic acid, and the like.
Examples of the compound having two or more hydroxyl groups and one carboxy group in one molecule include dimethylolacetic acid, dimethylolpropionic acid, and dimethylolbutanoic acid.
Examples of the compound having one or more hydroxyl groups and two or more carboxyl groups in one molecule include hydroxyphthalic acid.

これらのうち、水酸基が一分子中に二個以上含まれる化合物が本発明の効果を考慮すると好ましい。即ち、エポキシカルボキシレート化合物一分子中に、より多くの割合で水酸基を導入しやすくなる。更に、カルボキシ基は一分子中に二個以上含まれる化合物ではエポキシカルボキシレート化反応が複雑になりやすいので、一個である化合物が好ましい。
中でも一分子中に二個の水酸基と一個のカルボキシル基を有するものが好ましく、化合物の入手のし易さを考慮して、ジメチロールプロピオン酸又はジメチロールブタン酸が挙げられる。
Among these, a compound containing two or more hydroxyl groups in one molecule is preferable in consideration of the effect of the present invention. That is, it becomes easy to introduce a hydroxyl group in a larger proportion in one molecule of the epoxycarboxylate compound. Furthermore, a compound containing two or more carboxy groups per molecule tends to complicate the epoxycarboxylation reaction, and therefore a compound having one carboxy group is preferred.
Among them, those having two hydroxyl groups and one carboxyl group in one molecule are preferable, and dimethylolpropionic acid or dimethylolbutanoic acid is mentioned in consideration of easy availability of the compound.

本発明のエポキシカルボキシレート化合物(A)の製造において用いられる一分子中に水酸基とカルボキシ基を併せ持つ化合物(c)としては、該化合物中に重合可能なエチレン性不飽和基を有さないものが好ましい。   As the compound (c) having both a hydroxyl group and a carboxy group in one molecule used in the production of the epoxycarboxylate compound (A) of the present invention, a compound having no polymerizable ethylenically unsaturated group in the compound is used. preferable.

前記のエポキシ樹脂(a)とカルボン酸化合物(b)及びカルボン酸化合物(c)の反応の安定性を考慮すると、カルボン酸化合物(b)及びカルボン酸化合物(c)はモノカルボン酸類であることが好ましく、モノカルボン酸とポリカルボン酸を併用する場合には、モノカルボン酸の総計モル量/ポリカルボン酸の総計モル量で表される値が15以上であることが好ましい。   Considering the stability of the reaction of the epoxy resin (a) with the carboxylic acid compound (b) and the carboxylic acid compound (c), the carboxylic acid compound (b) and the carboxylic acid compound (c) are monocarboxylic acids. When monocarboxylic acid and polycarboxylic acid are used in combination, the value represented by the total molar amount of monocarboxylic acid / the total molar amount of polycarboxylic acid is preferably 15 or more.

本発明のエポキシカルボキシレート化合物(A)の製造におけるエポキシ樹脂(a)と、カルボン酸化合物(b)及びカルボン酸化合物(c)のカルボン酸基総計の仕込み割合としては、用途に応じて適宜変更すればよい。即ち、全てのエポキシ基をカルボキシレート化した場合は未反応のエポキシ基が残存しないために、エポキシカルボキシレート化合物としての保存安定性は高い。この場合は、導入した不飽和基による反応性のみを利用することになる。   The charge ratio of the total amount of carboxylic acid groups of the epoxy resin (a), the carboxylic acid compound (b), and the carboxylic acid compound (c) in the production of the epoxy carboxylate compound (A) of the present invention is appropriately changed according to the application. do it. That is, when all epoxy groups are carboxylated, unreacted epoxy groups do not remain, so that the storage stability as an epoxy carboxylate compound is high. In this case, only the reactivity due to the introduced unsaturated group is used.

一方、カルボン酸化合物の仕込み量を減量し未反応のエポキシ基を残すことにより、導入した不飽和基による反応性と残存エポキシ基による反応性を複合的に利用すること、即ち、光カチオン触媒による重合反応や熱重合反応の利用が可能となる。しかし、この場合にはエポキシカルボキシレート化合物の保存及び製造条件には注意を払う必要がある。   On the other hand, by reducing the charged amount of the carboxylic acid compound and leaving an unreacted epoxy group, the reactivity due to the introduced unsaturated group and the reactivity due to the residual epoxy group can be used in combination, that is, depending on the photocationic catalyst. A polymerization reaction or a thermal polymerization reaction can be used. In this case, however, attention must be paid to the storage and production conditions of the epoxycarboxylate compound.

エポキシ基を残存させないエポキシカルボキシレート化合物(A)を製造する場合、カルボン酸化合物(b)及びカルボン酸化合物(c)のカルボキシ基の総計が前記エポキシ樹脂(a)1当量に対し90〜120当量%であることが好ましい。この範囲であれば比較的安定な条件での製造が可能である。これよりもカルボン酸化合物の仕込み量が多い場合、過剰のカルボン酸化合物が未反応状態で残存してしまうために好ましくない。   When producing an epoxy carboxylate compound (A) that does not leave an epoxy group, the total amount of carboxy groups of the carboxylic acid compound (b) and the carboxylic acid compound (c) is 90 to 120 equivalents relative to 1 equivalent of the epoxy resin (a). % Is preferred. Within this range, it is possible to manufacture under relatively stable conditions. When the amount of the carboxylic acid compound is larger than this, an excess of the carboxylic acid compound remains in an unreacted state, which is not preferable.

又、エポキシ基を残す場合には、カルボン酸化合物(b)及びカルボン酸化合物(c)のカルボキシ基の総計が、前記エポキシ樹脂(a)1当量に対し20〜90当量%であることが好ましい。もちろんこの場合は、製造中のゲル化やエポキシカルボキシレート化合物(A)の経時安定性に十分な注意が必要である。20当量%未満の場合、導入したエチレン性不飽和基と残されたエポキシ基による複合硬化による効果が低くなる。   Moreover, when leaving an epoxy group, it is preferable that the sum total of the carboxy group of a carboxylic acid compound (b) and a carboxylic acid compound (c) is 20-90 equivalent% with respect to 1 equivalent of the said epoxy resin (a). . Of course, in this case, sufficient attention must be paid to the gelation during production and the temporal stability of the epoxycarboxylate compound (A). In the case of less than 20 equivalent%, the effect of combined curing due to the introduced ethylenically unsaturated group and the remaining epoxy group becomes low.

本発明のエポキシカルボキシレート化合物(A)の製造において、重合可能なエチレン性不飽和基とカルボキシ基を併せ持つ化合物(b)と水酸基とカルボキシ基を併せ持つ化合物(c)の使用比率は使用目的に応じて適宜選択すればよく、カルボン酸に対するモル比においてカルボン酸化合物(b):カルボン酸化合物(c)が9:1〜1:9程度、更には4:6〜8:2の範囲が好ましい。この範囲であればカルボン酸化合物(b)が少なすぎる場合のエチレン性不飽和基の反応性の低下を防ぐことが出来、又、カルボン酸化合物(c)が少なすぎる場合のカルボン酸化合物(c)の現像性等に関する効果が希薄になるのを防ぐことが出来る。   In the production of the epoxycarboxylate compound (A) of the present invention, the use ratio of the compound (b) having both a polymerizable ethylenically unsaturated group and a carboxy group and the compound (c) having both a hydroxyl group and a carboxy group depends on the purpose of use. The molar ratio of carboxylic acid compound (b): carboxylic acid compound (c) is preferably about 9: 1 to 1: 9, more preferably 4: 6 to 8: 2. If it is this range, the fall of the reactivity of an ethylenically unsaturated group when there are too few carboxylic acid compounds (b) can be prevented, and the carboxylic acid compound (c) when there are too few carboxylic acid compounds (c). ) Can be prevented from becoming dilute.

本エポキシカルボキシレート化反応は無溶剤若しくは溶剤で希釈して反応させることが出来る。溶剤はエポキシカルボキシレート化反応に影響しない溶剤であれば特に限定はない。
溶剤の使用量は得られる樹脂の粘度や使途により適宜調整すればよく、好ましくは固形分として90〜30重量%、より好ましくは80〜50重量%となるように用いればよい。
以下に溶剤を例示するが、本発明ではこれらを混合して用いてもよい。
This epoxycarboxylation reaction can be carried out without solvent or diluted with a solvent. The solvent is not particularly limited as long as it does not affect the epoxycarboxylation reaction.
What is necessary is just to adjust the usage-amount of a solvent suitably with the viscosity and usage of resin to obtain, Preferably it is 90 to 30 weight% as solid content, More preferably, it may be used so that it may become 80 to 50 weight%.
Although the solvent is illustrated below, in the present invention, these may be mixed and used.

該溶剤としては、例えば、トルエン、キシレン、エチルベンゼン、テトラメチルベンゼン等の芳香族系炭化水素溶剤、ヘキサン、オクタン、デカン等の脂肪族系炭化水素溶剤及びそれらの混合物である石油エーテル、ホワイトガソリン、ソルベントナフサ等が挙げられる。   Examples of the solvent include aromatic hydrocarbon solvents such as toluene, xylene, ethylbenzene, and tetramethylbenzene, aliphatic hydrocarbon solvents such as hexane, octane, and decane, and mixtures thereof such as petroleum ether, white gasoline, Solvent naphtha etc. are mentioned.

該溶剤としてはエステル系溶剤でもよく、例えば、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル等のアルキルアセテート類、γ−ブチロラクトン等の環状エステル類、エチレングリコールモノメチルエーテルモノアセテート、ジエチレングリコールモノメチルエーテルモノアセテート、ジエチレングリコールモノエチルエーテルモノアセテート、トリエチレングリコールモノエチルエーテルモノアセテート、ジエチレングリコールモノブチルエーテルモノアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルモノアセテート、ブチレングリコールモノメチルエーテルモノアセテート等のモノ若しくはポリアルキレングリコールモノアルキルエーテルモノアセテート類、グルタル酸ジアルキル、コハク酸ジアルキル、アジピン酸ジアルキル等のポリカルボン酸アルキルエステル類等が挙げられる。   The solvent may be an ester solvent such as alkyl acetates such as ethyl acetate, propyl acetate and butyl acetate, cyclic esters such as γ-butyrolactone, ethylene glycol monomethyl ether monoacetate, diethylene glycol monomethyl ether monoacetate, diethylene glycol monoacetate. Mono- or polyalkylene glycol monoalkyl ether monoacetates such as ethyl ether monoacetate, triethylene glycol monoethyl ether monoacetate, diethylene glycol monobutyl ether monoacetate, propylene glycol monomethyl ether monoacetate, butylene glycol monomethyl ether monoacetate, dialkyl glutarate , Dialkyl succinate, dialkyl adipate, etc. Carboxylic acid alkyl esters.

該溶剤としてはエーテル系溶剤でもよく、例えば、ジエチルエーテル、エチルブチルエーテル等のアルキルエーテル類、エチレングリコールジメチルエーテル、エチレングリコールジエチルエーテル、ジプロピレングリコールジメチルエーテル、ジプロピレングリコールジエチルエーテル、トリエチレングリコールジメチルエーテル、トリエチレングリコールジエチルエーテル等のグリコールエーテル類、テトラヒドロフラン等の環状エーテル類等が挙げられる。   The solvent may be an ether solvent, for example, alkyl ethers such as diethyl ether and ethyl butyl ether, ethylene glycol dimethyl ether, ethylene glycol diethyl ether, dipropylene glycol dimethyl ether, dipropylene glycol diethyl ether, triethylene glycol dimethyl ether, triethylene Examples include glycol ethers such as glycol diethyl ether and cyclic ethers such as tetrahydrofuran.

該溶剤としてはケトン系溶剤でもよく、例えば、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、イソホロン等が挙げられる。   The solvent may be a ketone solvent, and examples thereof include acetone, methyl ethyl ketone, cyclohexanone, isophorone and the like.

更に、該溶剤の代わりに、後記のエポキシカルボキシレート(A)、ポリカルボン酸化合物(B)以外の反応性化合物(C)から選ばれる単独又は混合溶媒中で行うことも出来る。この場合、硬化型組成物として使用に際し、そのまま利用することが出来るので好ましい。   Furthermore, it can also carry out in the single or mixed solvent chosen from reactive compounds (C) other than the epoxy carboxylate (A) of the postscript, and a polycarboxylic acid compound (B) instead of this solvent. In this case, it is preferable because it can be used as it is when used as a curable composition.

エポキシカルボキシレート化反応時には、反応を促進させるために触媒を使用することが好ましく、該触媒を使用する場合、その使用量は反応物の総量に対して0.1〜10重量%程度である。その際の反応温度は60〜150℃であり、反応時間は好ましくは5〜60時間である。
該触媒としては、例えば、トリエチルアミン、ベンジルジメチルアミン、トリエチルアンモニウムクロリド、ベンジルトリメチルアンモニウムブロミド、ベンジルトリメチルアンモニウムイオジド、トリフェニルホスフィン、トリフェニルスチビン、メチルトリフェニルスチビン、オクタン酸クロム、オクタン酸ジルコニウム等の塩基性触媒等が挙げられる。
In the epoxy carboxylation reaction, a catalyst is preferably used to promote the reaction. When the catalyst is used, the amount used is about 0.1 to 10% by weight based on the total amount of the reactants. The reaction temperature at that time is 60 to 150 ° C., and the reaction time is preferably 5 to 60 hours.
Examples of the catalyst include triethylamine, benzyldimethylamine, triethylammonium chloride, benzyltrimethylammonium bromide, benzyltrimethylammonium iodide, triphenylphosphine, triphenylstibine, methyltriphenylstibine, chromium octoate, and zirconium octoate. A basic catalyst etc. are mentioned.

又、熱重合禁止剤の使用が好ましく、該熱重合禁止剤としては、例えば、ハイドロキノンモノメチルエーテル、2−メチルハイドロキノン、ハイドロキノン、ジフェニルピクリルヒドラジン、ジフェニルアミン、3,5−ジ−tert−ブチル−4−ヒドロキシトルエン等が挙げられる。   The use of a thermal polymerization inhibitor is preferred. Examples of the thermal polymerization inhibitor include hydroquinone monomethyl ether, 2-methylhydroquinone, hydroquinone, diphenylpicrylhydrazine, diphenylamine, and 3,5-di-tert-butyl-4. -Hydroxy toluene etc. are mentioned.

本エポキシカルボキシレート化反応は、適宜サンプリングしながら反応物の酸価が5mgKOH/g以下、好ましくは2mgKOH/g以下となった時点を終点とする。   The end point of this epoxycarboxylation reaction is the time when the acid value of the reaction product becomes 5 mgKOH / g or less, preferably 2 mgKOH / g or less, while sampling appropriately.

こうして得られたエポキシカルボキシレート化合物(A)の好ましい分子量範囲としては、GPC(ゲルろ過クロマトグラフィー)におけるポリスチレン換算重量平均分子量が1,000から30,000の範囲であり、より好ましくは1,500から20,000である。
この分子量よりも小さい場合には硬化物の強靭性が充分に発揮されず、又、これよりも大きい場合には、粘度が高くなり塗工等が困難となる。
As a preferable molecular weight range of the epoxycarboxylate compound (A) thus obtained, the polystyrene-equivalent weight average molecular weight in GPC (gel filtration chromatography) is in the range of 1,000 to 30,000, more preferably 1,500. To 20,000.
When the molecular weight is smaller than this, the toughness of the cured product is not sufficiently exhibited. When the molecular weight is larger than this, the viscosity becomes high and coating or the like becomes difficult.

次に、本発明のポリカルボン酸(B)について説明する。ポリカルボン酸(B)は前記エポキシカルボキシレート化合物(A)に多塩基酸無水物(d)を反応させて得られる。
この酸付加工程によりカルボキシル基を導入する理由としては、例えば、レジストパターニング等が必要とされる用途において活性エネルギー線非照射部にアルカリ水への可溶性を付与させること、及び金属、無機物等への密着性を付与させること等である。
この酸付加工程は、エポキシカルボキシレート化合物の水酸基に多塩基酸無水物(d)を反応させてエステル結合を介してカルボキシル基を導入するものである。
Next, the polycarboxylic acid (B) of the present invention will be described. The polycarboxylic acid (B) is obtained by reacting the epoxycarboxylate compound (A) with a polybasic acid anhydride (d).
Reasons for introducing a carboxyl group by this acid addition step include, for example, imparting solubility in alkaline water to an active energy ray non-irradiated part in applications where resist patterning or the like is required, and to metals, inorganic substances, etc. For example, imparting adhesiveness.
In this acid addition step, a polybasic acid anhydride (d) is reacted with a hydroxyl group of an epoxycarboxylate compound to introduce a carboxyl group via an ester bond.

該多塩基酸無水物(d)としては、例えば、一分子中に環状酸無水物構造を有する化合物であればすべて用いることが出来るが、アルカリ水溶液現像性、耐熱性、加水分解耐性等に優れた無水コハク酸、無水フタル酸、テトラヒドロ無水フタル酸、ヘキサヒドロ無水フタル酸、無水イタコン酸、3−メチル−テトラヒドロ無水フタル酸、4−メチル−ヘキサヒドロ無水フタル酸、無水トリメリット酸又は無水マレイン酸が好ましい。   As the polybasic acid anhydride (d), for example, any compound having a cyclic acid anhydride structure in one molecule can be used, but it is excellent in alkaline aqueous solution developability, heat resistance, hydrolysis resistance and the like. Succinic anhydride, phthalic anhydride, tetrahydrophthalic anhydride, hexahydrophthalic anhydride, itaconic anhydride, 3-methyl-tetrahydrophthalic anhydride, 4-methyl-hexahydrophthalic anhydride, trimellitic anhydride or maleic anhydride preferable.

多塩基酸無水物(d)を付加させる反応は、前記エポキシカルボキシレート化合物の溶液に多塩基酸無水物(d)を加えることにより行うことが出来る。添加量は用途に応じて適宜変更すればよい。   The reaction for adding the polybasic acid anhydride (d) can be performed by adding the polybasic acid anhydride (d) to the solution of the epoxycarboxylate compound. What is necessary is just to change suitably the addition amount according to a use.

しかしながら、本発明のポリカルボン酸化合物(B)をアルカリ現像型のレジストとして用いる場合、多塩基酸無水物(d)を、得られるポリカルボン酸化合物(B)の固形分酸価(JIS K5601−2−1:1999に準拠)が30〜120mg・KOH/g、より好ましくは40〜100mg・KOH/gとなる計算量を仕込むことが好ましい。固形分酸価がこの範囲である場合、本発明の活性エネルギー線硬化型樹脂組成物のアルカリ水溶液現像性が良好な性能を示す。即ち、良好なパターニング性と過現像に対する管理幅も広く、且つ、過剰の酸無水物が残留することもない。   However, when the polycarboxylic acid compound (B) of the present invention is used as an alkali development resist, the polybasic acid anhydride (d) is converted into the solid content acid value (JIS K5601- 2-1: According to 1999) is preferably 30 to 120 mg · KOH / g, more preferably 40 to 100 mg · KOH / g. When the solid content acid value is within this range, the alkaline aqueous solution developability of the active energy ray-curable resin composition of the present invention exhibits good performance. That is, good patternability and a wide control range for over-development are possible, and no excess acid anhydride remains.

酸付加反応時には、反応を促進させるために触媒を使用することが好ましく、該触媒の使用量は反応物の総量に対して0.1〜10重量%程度である。反応温度は60〜150℃、反応時間は好ましくは5〜60時間である。該触媒としては、例えば、トリエチルアミン、ベンジルジメチルアミン、トリエチルアンモニウムクロリド、ベンジルトリメチルアンモニウムブロミド、ベンジルトリメチルアンモニウムイオジド、トリフェニルホスフィン、トリフェニルスチビン、メチルトリフェニルスチビン、オクタン酸クロム、オクタン酸ジルコニウム等が挙げられる。   In the acid addition reaction, it is preferable to use a catalyst for promoting the reaction, and the amount of the catalyst used is about 0.1 to 10% by weight based on the total amount of the reactants. The reaction temperature is 60 to 150 ° C., and the reaction time is preferably 5 to 60 hours. Examples of the catalyst include triethylamine, benzyldimethylamine, triethylammonium chloride, benzyltrimethylammonium bromide, benzyltrimethylammonium iodide, triphenylphosphine, triphenylstibine, methyltriphenylstibine, chromium octoate, zirconium octoate and the like. Can be mentioned.

本酸付加反応は無溶剤若しくは溶剤で希釈して反応させることが出来る。溶剤としては、酸付加反応に影響しない溶剤であれば特に限定はない。又、前工程であるエポキシカルボキシレート化反応で溶剤を使用した場合には、酸付加反応に影響しないことを条件に溶剤を除くことなく直接酸付加反応に付することも出来る。   This acid addition reaction can be reacted without solvent or diluted with a solvent. The solvent is not particularly limited as long as it does not affect the acid addition reaction. Further, when a solvent is used in the epoxy carboxylation reaction as the previous step, it can be directly subjected to an acid addition reaction without removing the solvent, provided that the acid addition reaction is not affected.

溶剤の使用量は得られる樹脂の粘度や使途により適宜調整すればよく、好ましくは固形分として90〜30重量%、より好ましくは80〜50重量%になるように用いればよい。
該溶剤としては、前記のエポキシカルボキシレート化工程に使用出来る溶剤として記載した溶剤を挙げることが出来る。
What is necessary is just to adjust the usage-amount of a solvent suitably with the viscosity and usage of resin to obtain, Preferably it is 90 to 30 weight% as solid content, More preferably, it may be used so that it may become 80 to 50 weight%.
Examples of the solvent include the solvents described as solvents that can be used in the epoxy carboxylate-forming step.

又、熱重合禁止剤の使用が好ましく、該熱重合禁止剤としては前記エポキシカルボキシレート化反応における熱重合禁止剤と同様のものが挙げられる。   The use of a thermal polymerization inhibitor is preferred, and examples of the thermal polymerization inhibitor include the same thermal polymerization inhibitors as those used in the epoxy carboxylation reaction.

本酸付加反応は、適宜サンプリングしながら反応物の酸価が設定した酸価のプラスマイナス10%の範囲になった点をもって終点とする。   The end point of this acid addition reaction is determined when the acid value of the reaction product is in the range of plus or minus 10% of the set acid value while sampling appropriately.

本発明の活性エネルギー線硬化型樹脂組成物はエポキシカルボキシレート化合物(A)及び/又はポリカルボン酸化合物(B)を含む。エポキシカルボキシレート化合物(A)及び/又はポリカルボン酸化合物(B)はその用途に応じて適宜使い分けられるものである。例えば、ソルダーレジスト用途でも、現像せずに印刷法によりパターンを成形する場合や溶剤等により未反応部位を流去させる、所謂、溶剤現像型の場合にはエポキシカルボキシレート化合物(A)を用いればよく、アルカリ水により現像させる場合にはポリカルボン酸化合物(B)を用いればよい。一般的にアルカリ水現像型の方が微細なパターンを作りやすいという観点から、この用途にはポリカルボン酸化合物(B)を用いる場合が多い。もちろん併用してもなんら問題はない。   The active energy ray-curable resin composition of the present invention contains an epoxy carboxylate compound (A) and / or a polycarboxylic acid compound (B). The epoxy carboxylate compound (A) and / or the polycarboxylic acid compound (B) can be properly used depending on the application. For example, in the case of a solder resist application, when a pattern is formed by a printing method without development, or in the case of a so-called solvent development type in which an unreacted site is washed away by a solvent, the epoxy carboxylate compound (A) is used. In the case of developing with alkaline water, the polycarboxylic acid compound (B) may be used. In general, the polycarboxylic acid compound (B) is often used for this purpose from the viewpoint that the alkaline water development type can easily form a fine pattern. Of course, there is no problem even if they are used together.

本発明の活性エネルギー線硬化型樹脂組成物は、更にエポキシカルボキシレート化合物(A)及びポリカルボン酸化合物(B)以外の反応性化合物(C)を含んでいてもよい。   The active energy ray-curable resin composition of the present invention may further contain a reactive compound (C) other than the epoxycarboxylate compound (A) and the polycarboxylic acid compound (B).

該反応性化合物(C)としては、カチオン反応型のエポキシ樹脂(a)以外のエポキシ化合物類、ラジカル反応型のアクリレート類、その双方に感応するビニル化合物類等が挙げられる。   Examples of the reactive compound (C) include epoxy compounds other than the cation-reactive epoxy resin (a), radical-reactive acrylates, and vinyl compounds that are sensitive to both.

カチオン反応型のエポキシ樹脂(a)以外のエポキシ化合物類としては特に限定されず、例えば、グリシジル(メタ)アクリレート、メチルグリジジルエーテル、エチルグリシジルエーテル、ブチルグリシジルエーテル、ビスフェノールA ジグリジジルエーテル、3,4−エポキシシクロヘキシルメチル−3,4−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート(ユニオン・カーバイド(株)製「サイラキュアUVR−6110」等)、3,4−エポキシシクロヘキシルエチル−3,4−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート、ビニルシクロヘキセンジオキシド(ユニオン・カーバイド(株)製「ELR−4206」等)、リモネンジオキシド(ダイセル化学工業(株)製「セロキサイド3000」等)、アリルシクロヘキセンジオキシド、3,4−エポキシ−4−メチルシクロヘキシル−2−プロピレンオキシド、2−(3,4−エポキシシクロヘキシル−5,5−スピロ−3,4−エポキシ)シクロヘキサン−m−ジオキサン、ビス(3,4−エポキシシクロヘキシル)アジペート(ユニオン・カーバイド(株)製「サイラキュアUVR−6128」等)、ビス(3,4−エポキシシクロヘキシルメチル)アジペート、ビス(3,4−エポキシシクロヘキシル)エーテル、ビス(3,4−エポキシシクロヘキシルメチル)エーテル、ビス(3,4−エポキシシクロヘキシル)ジエチルシロキサン等が挙げられる。   Epoxy compounds other than the cation-reactive epoxy resin (a) are not particularly limited. For example, glycidyl (meth) acrylate, methyl glycidyl ether, ethyl glycidyl ether, butyl glycidyl ether, bisphenol A diglycidyl ether, 3, 4-epoxycyclohexylmethyl-3,4-epoxycyclohexanecarboxylate (such as “Syracure UVR-6110” manufactured by Union Carbide Co., Ltd.), 3,4-epoxycyclohexylethyl-3,4-epoxycyclohexanecarboxylate, vinylcyclohexene Dioxide (such as “ELR-4206” manufactured by Union Carbide Corporation), limonene dioxide (such as “Celoxide 3000” manufactured by Daicel Chemical Industries, Ltd.), allylcyclohexene dioxide 3,4-epoxy-4-methylcyclohexyl-2-propylene oxide, 2- (3,4-epoxycyclohexyl-5,5-spiro-3,4-epoxy) cyclohexane-m-dioxane, bis (3,4- Epoxycyclohexyl) adipate (such as “Syracure UVR-6128” manufactured by Union Carbide Corp.), bis (3,4-epoxycyclohexylmethyl) adipate, bis (3,4-epoxycyclohexyl) ether, bis (3,4 And epoxy cyclohexyl methyl) ether and bis (3,4-epoxy cyclohexyl) diethyl siloxane.

ラジカル反応型のアクリレート類としては、単官能(メタ)アクリレート類;多官能(メタ)アクリレート類;ウレタンアクリレート類、ポリエステルアクリレート類、エポキシ樹脂(a)以外のエポキシ化合物類のエポキシアクリレート類等の反応性オリゴマー等が挙げられる。   Examples of radical reaction type acrylates include monofunctional (meth) acrylates; polyfunctional (meth) acrylates; urethane acrylates, polyester acrylates, epoxy acrylates of epoxy compounds other than epoxy resin (a), etc. And other oligomers.

単官能(メタ)アクリレート類としては、メチル(メタ)アクリレート、エチル(メタ)アクリレート、ブチル(メタ)アクリレート、ラウリル(メタ)アクリレート、ポリエチレングリコールモノ(メタ)アクリレート、ポリエチレングリコールモノ(メタ)アクリレートモノメチルエーテル、フェニルエチル(メタ)アクリレート、イソボルニル(メタ)アクリレート、シクロヘキシル(メタ)アクリレート、ベンジル(メタ)アクリレート、テトラヒドロフルフリル(メタ)アクリレート等が挙げられる。   Monofunctional (meth) acrylates include methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, butyl (meth) acrylate, lauryl (meth) acrylate, polyethylene glycol mono (meth) acrylate, polyethylene glycol mono (meth) acrylate monomethyl Examples include ether, phenylethyl (meth) acrylate, isobornyl (meth) acrylate, cyclohexyl (meth) acrylate, benzyl (meth) acrylate, and tetrahydrofurfuryl (meth) acrylate.

多官能(メタ)アクリレート類としては、ブタンジオールジ(メタ)アクリレート、ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート、ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート、ノナンジオールジ(メタ)アクリレート、グリコールジ(メタ)アクリレート、ジエチレンジ(メタ)アクリレート、ポリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、トリス(メタ)アクリロイルオキシエチルイソシアヌレート、ポリプロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、アジピン酸エポキシジ(メタ)アクリレート、ビスフェノールエチレンオキシドジ(メタ)アクリレート、水素化ビスフェノールエチレンオキシドジ(メタ)アクリレート、ビスフェノールジ(メタ)アクリレート、ヒドロキシビバリン酸ネオペンチルグリコールのε−カプロラクトン付加物のジ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールとε−カプロラクトンの反応物のポリ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールポリ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、トリエチロールプロパントリ(メタ)アクリレート若しくはそのエチレンオキサイド付加物、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート若しくはそのエチレンオキサイド付加物、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート若しくはそのエチレンオキサイド付加物等が挙げられる。   As polyfunctional (meth) acrylates, butanediol di (meth) acrylate, hexanediol di (meth) acrylate, neopentyl glycol di (meth) acrylate, nonanediol di (meth) acrylate, glycol di (meth) acrylate, Diethylene di (meth) acrylate, polyethylene glycol di (meth) acrylate, tris (meth) acryloyloxyethyl isocyanurate, polypropylene glycol di (meth) acrylate, adipic acid epoxy di (meth) acrylate, bisphenol ethylene oxide di (meth) acrylate, hydrogenated Ε-Capro of bisphenol ethylene oxide di (meth) acrylate, bisphenol di (meth) acrylate, neopentyl glycol hydroxybivalate Di (meth) acrylate of kuton adduct, poly (meth) acrylate of reaction product of dipentaerythritol and ε-caprolactone, dipentaerythritol poly (meth) acrylate, trimethylolpropane tri (meth) acrylate, triethylolpropane tri ( And (meth) acrylate or its ethylene oxide adduct, pentaerythritol tri (meth) acrylate or its ethylene oxide adduct, pentaerythritol tetra (meth) acrylate, dipentaerythritol hexa (meth) acrylate or its ethylene oxide adduct, etc. .

更に、活性エネルギー線に反応性を有する官能基とウレタン結合を同一分子内に併せ持つウレタンアクリレート類、活性エネルギー線に反応性を有する官能基とエステル結合を同一分子内に併せ持つポリエステルアクリレート類、エポキシ樹脂(a)以外のエポキシ化合物類から誘導され、且つ、活性エネルギー線に反応性を有する官能基を同一分子内に併せ持つエポキシアクリレート類、これらを複合的に同一分子内に併せ持つ反応性オリゴマー等が挙げられる。   Furthermore, urethane acrylates having both functional groups reactive to active energy rays and urethane bonds in the same molecule, polyester acrylates having functional groups reactive to active energy rays and ester bonds in the same molecule, epoxy resins Examples include epoxy acrylates derived from epoxy compounds other than (a) and having functional groups reactive to active energy rays in the same molecule, and reactive oligomers having these combined in the same molecule. It is done.

該ビニル化合物類としては、ビニルエーテル類、スチレン類、その他のビニル化合物が挙げられる。   Examples of the vinyl compounds include vinyl ethers, styrenes, and other vinyl compounds.

ビニルエーテル類としては、例えば、エチルビニルエーテル、プロピルビニルエーテル、ヒドロキシエチルビニルエーテル、エチレングリコールジビニルエーテル等が挙げられる。
スチレン類としては、例えば、スチレン、メチルスチレン、エチルスチレン等が挙げられる。
その他のビニル化合物としては、例えば、トリアリルイソシアヌレート、トリメタアリルイソシアヌレート等が挙げられる。
Examples of vinyl ethers include ethyl vinyl ether, propyl vinyl ether, hydroxyethyl vinyl ether, ethylene glycol divinyl ether, and the like.
Examples of styrenes include styrene, methyl styrene, and ethyl styrene.
Examples of other vinyl compounds include triallyl isocyanurate and trimethallyl isocyanurate.

これらのうち、反応性化合物(C)としてはラジカル反応型のアクリレート類が好ましい。カチオン反応型化合物の場合、エポキシ基とカルボキシ基とが反応してしまうのを避けるため2液混合型にする必要が生じる。   Of these, the reactive compound (C) is preferably a radical reaction type acrylate. In the case of a cation-reactive compound, it is necessary to use a two-component mixed type in order to avoid a reaction between an epoxy group and a carboxy group.

本発明の(A)及び/又はポリカルボン酸化合物(B)と、必要に応じてエポキシカルボキシレート化合物(A)及びポリカルボン酸化合物(B)以外の反応性化合物(C)とを混合して本発明の活性エネルギー線硬化型樹脂組成物を得ることが出来る。この際には該組成物の用途に応じて適宜その他の成分を加えてもよい。   The reactive compound (C) other than the epoxycarboxylate compound (A) and the polycarboxylic acid compound (B) is mixed with the (A) and / or the polycarboxylic acid compound (B) of the present invention as necessary. The active energy ray-curable resin composition of the present invention can be obtained. In this case, other components may be appropriately added depending on the use of the composition.

本発明の活性エネルギー線硬化型樹脂組成物は、組成物中にエポキシカルボキシレート化合物(A)及び/又はポリカルボン酸化合物(B)を97〜5重量%、好ましくは87〜10重量%、エポキシカルボキシレート化合物(A)及びポリカルボン酸化合物(B)以外の反応性化合物(C)を3〜95重量%、好ましくは3〜80重量%含む。必要に応じてその他の成分を70重量%程度を上限に含んでもよい。   The active energy ray-curable resin composition of the present invention contains 97 to 5% by weight, preferably 87 to 10% by weight, of epoxy carboxylate compound (A) and / or polycarboxylic acid compound (B) in the composition. The reactive compound (C) other than the carboxylate compound (A) and the polycarboxylic acid compound (B) is contained in an amount of 3 to 95% by weight, preferably 3 to 80% by weight. If necessary, other components may be included up to about 70% by weight.

本発明の活性エネルギー線硬化型樹脂組成物には、更に着色顔料を含んでいてもよく、着色顔料は本発明の樹脂組成物を着色材料とするために用いられるものである。本発明の活性エネルギー線硬化型樹脂組成物で用いられるエポキシカルボキシレート化合物(A)やポリカルボン酸化合物(B)の水酸基により、特に優れた顔料への親和性、即ち分散性が発揮されると推察される。分散性が良好である結果として顔料濃度を高くすることが出来る。又、現像を必要とされる組成物においては分散性がより好適であり、良好なパターニング特性が発揮され、又、現像溶解部における現像残渣も少なく好適である。   The active energy ray-curable resin composition of the present invention may further contain a color pigment, and the color pigment is used for using the resin composition of the present invention as a coloring material. When the epoxy carboxylate compound (A) or polycarboxylic acid compound (B) used in the active energy ray-curable resin composition of the present invention has a particularly excellent affinity for the pigment, that is, dispersibility. Inferred. As a result of good dispersibility, the pigment concentration can be increased. Further, in a composition that requires development, dispersibility is more suitable, good patterning characteristics are exhibited, and there are few development residues in the development-dissolved part, which is also suitable.

該着色顔料としては、フタロシアニン系、アゾ系、キナクリドン系等の有機顔料、カーボンブラック、酸化チタン等の無機顔料が挙げられる。これらのうちカーボンブラックの分散性が高く好ましい。   Examples of the coloring pigment include organic pigments such as phthalocyanine, azo, and quinacridone, and inorganic pigments such as carbon black and titanium oxide. Of these, carbon black is preferred because of its high dispersibility.

本発明は成形用材料、皮膜形成用材料又はレジスト材料組成物である活性エネルギー線硬化型樹脂組成物である。
本発明において成形用材料とは、未硬化の組成物を型にいれ、若しくは型を押し付けて物体を成形したのち、活性エネルギー線により硬化反応を起こさせ成形させるもの、あるいは未硬化の組成物にレーザー等の焦点光等を照射し、硬化反応を起こさせ成形させる用途に用いられる材料を指す。即ち、平面状に成形したシート、素子を保護するための封止材、未硬化の組成物に微細加工された「型」を押し当て微細な成形を行う、所謂、ナノインプリント材料、更には特に熱的な要求の厳しい発光ダイオード、光電変換素子等の周辺封止材料等が好適な用途として挙げられる。
The present invention is an active energy ray-curable resin composition that is a molding material, a film-forming material, or a resist material composition.
In the present invention, the molding material is an uncured composition put into a mold, or an object is molded by pressing the mold and then molded by causing a curing reaction with active energy rays, or an uncured composition. It refers to a material used for applications in which a focus reaction such as laser is irradiated to cause a curing reaction to be molded. That is, a so-called nanoimprint material, especially a heat imprinting material, which is formed by pressing a flatly formed sheet, a sealing material for protecting the element, a “mold” finely processed into an uncured composition Examples of suitable applications include peripheral sealing materials such as light-emitting diodes and photoelectric conversion elements that are severely demanding.

本発明において皮膜形成用材料とは、基材表面を被覆することを目的として利用されるものである。即ち、グラビアインキ、フレキソインキ、シルクスクリーンインキ、オフセットインキ等のインキ材料;ハードコート、トップコート、オーバープリントニス、クリヤコート等の塗工材料;ラミネート用、光ディスク用他各種接着剤、粘着剤等の接着材料;ソルダーレジスト、エッチングレジスト、マイクロマシン用レジスト等のレジスト材料等が挙げられる。更には、皮膜形成用材料を一時的に剥離性基材に塗工しフイルム化した後、本来目的とする基材に貼合し皮膜を形成させる、いわゆる、ドライフイルムも本発明における皮膜形成用材料に該当する。
これらのうち、ポリカルボン酸化合物(B)のカルボキシ基によって基材への密着性が高まるため、プラスチック基材若しくは金属基材を被覆するための用途が好ましい。
In the present invention, the film forming material is used for the purpose of coating the surface of a substrate. That is, ink materials such as gravure ink, flexo ink, silk screen ink, offset ink; coating materials such as hard coat, top coat, overprint varnish, clear coat; various adhesives for laminating, optical disks, adhesives, etc. Adhesive materials; resist materials such as solder resist, etching resist, and micromachine resist. Furthermore, after the film-forming material is temporarily applied to a peelable substrate and formed into a film, the so-called dry film is also used for forming a film in the present invention. Applicable to the material.
Among these, since the adhesiveness to a base material increases with the carboxy group of a polycarboxylic acid compound (B), the use for coat | covering a plastic base material or a metal base material is preferable.

本発明においてレジスト材料組成物とは、基材上に該組成物の皮膜層を形成させ、その後、紫外線等の活性エネルギー線を部分的に照射し、照射部、未照射部の物性的な差異を利用して描画しようとする活性エネルギー線感応型の組成物を指す。即ち、照射部又は未照射部を何らかの方法、例えば、溶剤やアルカリ溶液等で溶解させる等して除去し、描画を行う組成物である。
特に、本発明のポリカルボン酸化合物(B)を含む活性エネルギー線硬化型樹脂組成物は、アルカリ水溶液に可溶性となる特徴を生かしてアルカリ水現像型レジスト材料組成物として優れている。
In the present invention, the resist material composition is formed by forming a film layer of the composition on a substrate, and then partially irradiating active energy rays such as ultraviolet rays, and the physical difference between irradiated and unirradiated parts. This refers to an active energy ray-sensitive composition that is intended to be drawn using. That is, it is a composition that draws by removing the irradiated or unirradiated portion by dissolving the irradiated portion or unirradiated portion with some method such as a solvent or an alkaline solution.
In particular, the active energy ray-curable resin composition containing the polycarboxylic acid compound (B) of the present invention is excellent as an alkaline water developing resist composition by taking advantage of its solubility in an alkaline aqueous solution.

本発明のレジスト用活性エネルギー線硬化型樹脂組成物は、パターニングが可能な種々の材料に適応出来、例えば、ソルダーレジスト材料、ビルドアップ工法用の層間絶縁材に有用であり、更には光導波路としてプリント配線板、光電子基板や光基板のような電気・電子・光基材等にも利用される。
中でも、強靭な硬化物を得ることが出来る特性を生かしてソルダーレジスト等の永久レジスト用途、顔料分散性が良好であるとの特性を生かして印刷インキ、カラーフィルタ等のカラーレジスト、特にブラックマトリックス用レジストの用途が好ましい。
The active energy ray-curable resin composition for resists of the present invention can be applied to various materials that can be patterned, and is useful, for example, as a solder resist material, an interlayer insulating material for a buildup method, and as an optical waveguide. It can also be used for printed wiring boards, electrical / electronic / optical substrates such as optoelectronic substrates and optical substrates.
Above all, it is used for permanent resists such as solder resists by making use of the characteristics that can obtain toughened cured products, and it is used for color resists such as printing inks and color filters, especially for black matrix, making use of the characteristics that pigment dispersibility is good. The use of resist is preferred.

又、活性エネルギー線による硬化反応前の機械的強度が求められ、現像性も求められるようなドライフイルムにも好適に用いられる。即ち、本発明の活性エネルギー線硬化型樹脂組成物は前記エポキシ樹脂(a)によりエポキシカルボキシレート化合物(A)が比較的高い分子量であるにも関わらず、良好な現像性を発揮させることが出来る。
皮膜形成させる方法としては特に制限はないが、グラビア等の凹版印刷方式、フレキソ等の凸版印刷方式、シルクスクリーン等の孔版印刷方式、オフセット等の平版印刷方式、ロールコーター、ナイフコーター、ダイコーター、カーテンコーター、スピンコーター等の各種塗工方式が任意に採用出来る。
Further, it is also suitably used for dry films in which mechanical strength before the curing reaction by active energy rays is required and developability is also required. That is, the active energy ray-curable resin composition of the present invention can exhibit good developability despite the epoxy carboxylate compound (A) having a relatively high molecular weight due to the epoxy resin (a). .
There are no particular restrictions on the method for forming the film, but an intaglio printing method such as gravure, a relief printing method such as flexo, a stencil printing method such as silk screen, a lithographic printing method such as offset, a roll coater, a knife coater, a die coater, Various coating methods such as curtain coater and spin coater can be arbitrarily adopted.

本発明の活性エネルギー線硬化型樹脂組成物は活性エネルギー線を照射することによって容易に硬化させることが出来、得られる硬化物も本発明に含まれる。ここで活性エネルギー線としては、紫外線、可視光線、赤外線、X線、ガンマー線、レーザー光線等の電磁波、アルファー線、ベータ線、電子線等の粒子線等が挙げられる。用途により適宜選択すればよいが、これらのうち、紫外線、レーザー光線、可視光線、又は電子線が好ましい。   The active energy ray-curable resin composition of the present invention can be easily cured by irradiation with active energy rays, and the resulting cured product is also included in the present invention. Examples of active energy rays include electromagnetic waves such as ultraviolet rays, visible rays, infrared rays, X-rays, gamma rays, and laser rays, and particle rays such as alpha rays, beta rays, and electron beams. Although what is necessary is just to select suitably by a use, among these, an ultraviolet-ray, a laser beam, visible light, or an electron beam is preferable.

上記のように、本発明の活性エネルギー線硬化型樹脂組成物に70重量%を上限に含有させてもよいその他の成分としては上記の着色材料の他に、光重合開始剤、その他の添加剤、塗工適性付与等を目的に粘度調整のため添加される揮発性溶剤等が挙げられる。   As described above, as other components that may contain the upper limit of 70% by weight in the active energy ray-curable resin composition of the present invention, in addition to the coloring material, a photopolymerization initiator and other additives And volatile solvents added for viscosity adjustment for the purpose of imparting coating suitability.

ラジカル型光重合開始剤としては、例えば、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインプロピルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテル等のベンゾイン類;アセトフェノン、2,2−ジエトキシ−2−フェニルアセトフェノン、2,2−ジエトキシ−2−フェニルアセトフェノン、1,1−ジクロロアセトフェノン、2−ヒドロキシ−2−メチルフェニルプロパン−1−オン、ジエトキシアセトフェノン、1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、2−メチル−1−[4−(メチルチオ)フェニル]−2−モルホリノ−プロパン−1−オン等のアセトフェノン類;2−エチルアントラキノン、2−t−ブチルアントラキノン、2−クロロアントラキノン、2−アミルアントラキノン等のアントラキノン類;2,4−ジエチルチオキサントン、2−イソプロピルチオキサントン、2−クロロチオキサントン等のチオキサントン類;アセトフエノンジメチルケタール、ベンジルジメチルケタール等のケタール類;ベンゾフェノン、4−ベンゾイル−4’−メチルジフェニルスルフィド、4,4’−ビスメチルアミノベンゾフェノン等のベンゾフェノン類;2,4,6−トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキシド、ビス(2,4,6−トリメチルベンゾイル)フェニルホスフィンオキシド等のホスフィンオキシド類等の一般のラジカル型光反応開始剤が挙げられる。   Examples of the radical photopolymerization initiator include benzoins such as benzoin, benzoin methyl ether, benzoin ethyl ether, benzoin propyl ether, and benzoin isobutyl ether; acetophenone, 2,2-diethoxy-2-phenylacetophenone, 2,2- Diethoxy-2-phenylacetophenone, 1,1-dichloroacetophenone, 2-hydroxy-2-methylphenylpropan-1-one, diethoxyacetophenone, 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone, 2-methyl-1- [4- (methylthio ) Acetophenones such as phenyl] -2-morpholino-propan-1-one; ant such as 2-ethylanthraquinone, 2-t-butylanthraquinone, 2-chloroanthraquinone, 2-amylanthraquinone Quinones; thioxanthones such as 2,4-diethylthioxanthone, 2-isopropylthioxanthone, 2-chlorothioxanthone; ketals such as acetophenone dimethyl ketal and benzyldimethyl ketal; benzophenone, 4-benzoyl-4′-methyldiphenyl sulfide Benzophenones such as 4,4′-bismethylaminobenzophenone; phosphine oxides such as 2,4,6-trimethylbenzoyldiphenylphosphine oxide, bis (2,4,6-trimethylbenzoyl) phenylphosphine oxide, etc. A radical type photoinitiator is mentioned.

又、カチオン系光重合開始剤としては、ルイス酸のジアゾニウム塩、ルイス酸のヨードニウム塩、ルイス酸のスルホニウム塩、ルイス酸のホスホニウム塩、その他のハロゲン化物、トリアジン系開始剤、ボーレート系開始剤及びその他の光酸発生剤等が挙げられる。   As cationic photopolymerization initiators, Lewis acid diazonium salts, Lewis acid iodonium salts, Lewis acid sulfonium salts, Lewis acid phosphonium salts, other halides, triazine initiators, borate initiators and Other photoacid generators can be mentioned.

ルイス酸のジアゾニウム塩としては、例えば、p−メトキシフェニルジアゾニウムフルオロホスホネート、N,N−ジエチルアミノフェニルジアゾニウムヘキサフルオロホスホネート(三新化学工業社製サンエイド SI−60L、SI−80L、SI−100L等)等が挙げられる。
ルイス酸のヨードニウム塩としては、例えば、ジフェニルヨードニウムヘキサフルオロホスホネート、ジフェニルヨードニウムヘキサフルオロアンチモネート等が挙げられる。
Examples of the diazonium salt of Lewis acid include p-methoxyphenyldiazonium fluorophosphonate, N, N-diethylaminophenyldiazonium hexafluorophosphonate (Sun Shine SI-60L, SI-80L, SI-100L, etc. manufactured by Sanshin Chemical Industry Co., Ltd.), etc. Is mentioned.
Examples of the iodonium salt of Lewis acid include diphenyliodonium hexafluorophosphonate and diphenyliodonium hexafluoroantimonate.

ルイス酸のスルホニウム塩としては、例えば、トリフェニルスルホニウムヘキサフルオロホスホネート(Union Carbide社製 Cyracure UVI−6990等)、トリフェニルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネート(Union Carbide社製 Cyracure UVI−6974等)等が挙げられる。
ルイス酸のホスホニウム塩としては、例えば、トリフェニルホスホニウムヘキサフルオロアンチモネート等が挙げられる。
Examples of the sulfonium salt of Lewis acid include triphenylsulfonium hexafluorophosphonate (such as Cyracure UVI-6990 manufactured by Union Carbide), triphenylsulfonium hexafluoroantimonate (such as Cyracure UVI-6974 manufactured by Union Carbide), and the like. .
Examples of the phosphonium salt of Lewis acid include triphenylphosphonium hexafluoroantimonate.

ハロゲン化物としては、例えば、2,2,2−トリクロロ−1−[4’−(ジメチルエチル)フェニル]エタノン(AKZO社製 Trigonal PI等)、2,2−ジクロロ−1−[4−(フェノキシフェニル)]エタノン(Sandoz社製 Sandray 1000等)、α,α,α−トリブロモメチルフェニルスルホン(製鉄化学社製 BMPS等)等が挙げられる。
トリアジン系開始剤としては、例えば、2,4,6−トリス(トリクロロメチル)−トリアジン、2,4−トリクロロメチル−(4’−メトキシフェニル)−6−トリアジン(Panchim社製 Triazine A等)、2,4−トリクロロメチル−(4’−メトキシスチリル)−6−トリアジン(Panchim社製 Triazine PMS等)、2,4−トリクロロメチル−(4’−メトキシナフチル)−6−トリアジン(Panchim社製 Triazine B等)、2−[2’−(5’’−メチルフリル)エチリデン]−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン(三和ケミカル社製等)、2−(2’−フリルエチリデン)−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン(三和ケミカル社製)等が挙げられる。
Examples of the halide include 2,2,2-trichloro-1- [4 ′-(dimethylethyl) phenyl] ethanone (Trigonal PI, etc., manufactured by AKZO), 2,2-dichloro-1- [4- (phenoxy Phenyl)] ethanone (Sandray 1000, etc. manufactured by Sandoz), α, α, α-tribromomethylphenylsulfone (BMPS, manufactured by Iron Chemical Co., Ltd.) and the like.
Examples of the triazine-based initiator include 2,4,6-tris (trichloromethyl) -triazine, 2,4-trichloromethyl- (4′-methoxyphenyl) -6-triazine (such as Triazine A manufactured by Panchi), 2,4-trichloromethyl- (4′-methoxystyryl) -6-triazine (Triazine PMS, etc., manufactured by Panchim), 2,4-trichloromethyl- (4′-methoxynaphthyl) -6-triazine (manufactured by Panchi, Triazine) B), 2- [2 ′-(5 ″ -methylfuryl) ethylidene] -4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine (manufactured by Sanwa Chemical Co., Ltd.), 2- (2′-furyl) And ethylidene) -4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine (manufactured by Sanwa Chemical Co., Ltd.).

ボーレート系開始剤としては、例えば、日本感光色素製NK−3876及びNK−3881等が挙げられる。
その他の光酸発生剤等としては、例えば、9−フェニルアクリジン、2,2’−ビス(o−クロロフェニル)−4,4’,5,5’−テトラフェニル−1,2−ビイミダゾール(黒金化成社製ビイミダゾール等)、2,2−アゾビス(2−アミノ−プロパン)ジヒドロクロリド(和光純薬社製 V50等)、2,2−アゾビス[2−(イミダゾリン−2イル)プロパン]ジヒドロクロリド(和光純薬社製 VA044等)、[イータ−5−2−4−(シクロペンタデシル)(1,2,3,4,5,6,イータ)−(メチルエチル)−ベンゼン]鉄(II)ヘキサフルオロホスホネート(Ciba Geigy社製 Irgacure 261等)、ビス(イータ−5−シクロペンタジエニル)ビス[2,6−ジフルオロ−3−(1H−ピリ−1−イル)フェニル]チタニウム(Ciba Geigy社製 CGI−784等)等が挙げられる。
Examples of the baud rate initiator include NK-3876 and NK-3881 manufactured by Nippon Photosensitive Dye.
Examples of other photoacid generators include 9-phenylacridine, 2,2′-bis (o-chlorophenyl) -4,4 ′, 5,5′-tetraphenyl-1,2-biimidazole (black). Biimidazole manufactured by Kasei Chemical Co., Ltd.), 2,2-azobis (2-amino-propane) dihydrochloride (V50 manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.), 2,2-azobis [2- (imidazolin-2-yl) propane] dihydro Chloride (VA044 manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.), [eta-5-2-4- (cyclopentadecyl) (1,2,3,4,5,6, eta)-(methylethyl) -benzene] iron ( II) Hexafluorophosphonate (Irgacure 261, etc. manufactured by Ciba Geigy), bis (eta-5-cyclopentadienyl) bis [2,6-difluoro-3- (1H-py-1-yl) Eniru] titanium (Ciba Geigy Corp. CGI-784, etc.), and the like.

又、アゾビスイソブチロニトリル等のアゾ系開始剤、過酸化ベンゾイル等の熱に感応する過酸化物系ラジカル型開始剤等を併せて用いてもよい。
又、ラジカル系とカチオン系の双方の光重合開始剤を併せて用いてもよい。光重合開始剤は1種類を単独で用いることも出来るし、2種類以上を併せて用いることも出来る。
Further, an azo initiator such as azobisisobutyronitrile, a peroxide radical initiator sensitive to heat such as benzoyl peroxide, and the like may be used in combination.
Further, both radical and cationic photopolymerization initiators may be used in combination. A photoinitiator can also be used individually by 1 type and can also be used in combination of 2 or more types.

その他の添加剤としては、例えば、メラミン等の熱硬化触媒、アエロジル等のチキソトロピー付与剤、シリコーン系、フッ素系のレベリング剤や消泡剤、ハイドロキノン、ハイドロキノンモノメチルエーテル等の重合禁止剤、安定剤、酸化防止剤等を使用することが出来る。   Other additives include, for example, thermosetting catalysts such as melamine, thixotropic agents such as aerosil, silicone-based, fluorine-based leveling agents and antifoaming agents, polymerization inhibitors such as hydroquinone and hydroquinone monomethyl ether, stabilizers, An antioxidant etc. can be used.

又、その他の顔料材料として、例えば、着色を目的としないものである体質顔料を用いることも出来る。体質顔料としては、例えば、タルク、硫酸バリウム、炭酸カルシウム、炭酸マグネシウム、チタン酸バリウム、水酸化アルミニウム、シリカ、クレー等が挙げられる。   As other pigment materials, for example, extender pigments that are not intended for coloring can also be used. Examples of extender pigments include talc, barium sulfate, calcium carbonate, magnesium carbonate, barium titanate, aluminum hydroxide, silica, and clay.

又、その他の添加剤として活性エネルギー線に反応性を示さない樹脂類(いわゆる、イナートポリマー)、例えば、上記以外のエポキシ樹脂、フェノール樹脂、ウレタン樹脂、ポリエステル樹脂、ケトンホルムアルデヒド樹脂、クレゾール樹脂、キシレン樹脂、ジアリルフタレート樹脂、スチレン樹脂、グアナミン樹脂、天然及び合成ゴム、アクリル樹脂、ポリオレフィン樹脂、及びこれらの変性物を用いることも出来る。これらを本発明の活性エネルギー線硬化型樹脂組成物に含む場合、その該組成物中の含有割合は40重量%までの範囲が好ましい。   In addition, as other additives, resins that do not react with active energy rays (so-called inert polymers), for example, epoxy resins other than the above, phenol resins, urethane resins, polyester resins, ketone formaldehyde resins, cresol resins, xylenes Resins, diallyl phthalate resins, styrene resins, guanamine resins, natural and synthetic rubbers, acrylic resins, polyolefin resins, and modified products thereof can also be used. When these are included in the active energy ray-curable resin composition of the present invention, the content in the composition is preferably in the range of up to 40% by weight.

特に、ソルダーレジスト用用途としてポリカルボン酸化合物(B)を用いる場合には、硬化、現像後に残留するカルボキシ基をなくし、且つ、より強固な硬化皮膜を得ることを目的としてエポキシ樹脂の使用が好ましい。これは活性エネルギー線によって反応、硬化させた後もポリカルボン酸化合物(B)に由来するカルボキシル基が残留し、その硬化物は耐水性や加水分解性に劣る場合がある。そのような際にエポキシ樹脂を用いることにより残留するカルボキシ基とエポキシカルボキシレート化反応を起こすことで、更に強固な架橋構造を形成させることが出来る。   In particular, when the polycarboxylic acid compound (B) is used as a solder resist application, it is preferable to use an epoxy resin for the purpose of eliminating a carboxy group remaining after curing and development and obtaining a stronger cured film. . In this case, a carboxyl group derived from the polycarboxylic acid compound (B) remains even after being reacted and cured by active energy rays, and the cured product may be inferior in water resistance or hydrolyzability. In such a case, a stronger cross-linked structure can be formed by causing an epoxy carboxylation reaction with a remaining carboxy group by using an epoxy resin.

又、使用目的に応じた粘度を調整する目的で、活性エネルギー線硬化型樹脂組成物中に50重量%、更に好ましくは35重量%までの範囲において揮発性溶剤を添加することも出来る。   In order to adjust the viscosity according to the purpose of use, a volatile solvent may be added to the active energy ray-curable resin composition in a range of 50% by weight, more preferably up to 35% by weight.

以下、本発明を実施例により更に詳細に説明するが、本発明はこれら実施例に限定されるものではない。又、実施例中特に断りがない限り、部は重量部を示す。   EXAMPLES Hereinafter, although an Example demonstrates this invention still in detail, this invention is not limited to these Examples. Moreover, unless otherwise indicated in an Example, a part shows a weight part.

軟化点、エポキシ当量は以下の条件で測定した。
1)エポキシ当量:JIS K 7236:2001に準じた方法で測定した。
2)軟化点:JIS K 7234:1986に準じた方法で測定した。
3)酸価:JIS K 0070:1992に準じた方法で測定した。
4)GPCの測定条件は以下の通りである。
機種:TOSOH HLC−8220GPC
カラム:TSKGEL Super HZM−N
溶離液:THF(テトラヒドロフラン);0.35ml/分 40℃
検出器:示差屈折計
分子量標準:ポリスチレン
The softening point and epoxy equivalent were measured under the following conditions.
1) Epoxy equivalent: Measured by a method according to JIS K 7236: 2001.
2) Softening point: Measured by a method according to JIS K 7234: 1986.
3) Acid value: measured by a method according to JIS K 0070: 1992.
4) GPC measurement conditions are as follows.
Model: TOSOH HLC-8220GPC
Column: TSKGEL Super HZM-N
Eluent: THF (tetrahydrofuran); 0.35 ml / min 40 ° C
Detector: Differential refractometer Molecular weight standard: Polystyrene

実施例1:エポキシカルボキシレート化合物(A)の製造   Example 1: Production of epoxycarboxylate compound (A)

エポキシ樹脂(a)としてXD−1000 (日本化薬(株)製、軟化点70℃、エポキシ当量250g/eq、一般式(1)で示されるRは全て水素原子、nは平均値で3)を250g、一分子中に重合可能なエチレン性不飽和基とカルボキシ基を併せ持つ化合物(b)としてアクリル酸(略称AA、Mw=72)を表1中の記載量、一分子中に水酸基とカルボキシ基を併せ持つ化合物(c)としてジメタノールプロピオン酸(略称DMPA、Mw=134)を表1中記載量を混合した。
触媒としてトリフェニルホスフィン3gを使用し、溶剤としてプロピレングリコールモノメチルエーテルモノアセテートを固形分80%となるように加え、100℃24時間反応させ、エポキシカルボキシレート化合物(A)溶液を得た。
XD-1000 as an epoxy resin (a) (Nippon Kayaku Co., Ltd., softening point 70 ° C., epoxy equivalent 250 g / eq, R in the general formula (1) are all hydrogen atoms, n is 3 on average) As a compound (b) having both an ethylenically unsaturated group polymerizable in one molecule and a carboxy group, acrylic acid (abbreviation AA, Mw = 72) is listed in Table 1, and hydroxyl group and carboxy in one molecule. As the compound (c) having both groups, dimethanolpropionic acid (abbreviation DMPA, Mw = 134) was mixed in the amounts shown in Table 1.
Using 3 g of triphenylphosphine as a catalyst, propylene glycol monomethyl ether monoacetate as a solvent was added so as to have a solid content of 80%, and reacted at 100 ° C. for 24 hours to obtain an epoxy carboxylate compound (A) solution.

反応終点は固形分酸価(AV)にて決定し、測定値を表1中に記載した。酸価測定は、反応溶液にて測定し固形分としての酸価に換算した。   The reaction end point was determined by solid content acid value (AV), and the measured values are shown in Table 1. The acid value was measured with a reaction solution and converted into an acid value as a solid content.

比較例1−1:比較するエポキシカルボキシレート化合物の調製
XD−1000(日本化薬(株)製、軟化点70℃、エポキシ当量250g/eq)を250g、一分子中に重合可能なエチレン性不飽和基とカルボキシ基を併せ持つアクリル酸(略称AA、Mw=72)を表1中記載量、触媒としてトリフェニルホスフィン3gに、溶剤としてプロピレングリコールモノメチルエーテルモノアセテートを固形分80%となるように加え、100℃24時間反応させ、エポキシカルボキシレート化合物溶液を得た。
Comparative Example 1-1: Preparation of Epoxy Carboxylate Compound to be Compared 250 g of XD-1000 (manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd., softening point 70 ° C., epoxy equivalent 250 g / eq), an ethylenic polymer that can be polymerized in one molecule Acrylic acid having both a saturated group and a carboxy group (abbreviation AA, Mw = 72) described in Table 1, added to 3 g of triphenylphosphine as a catalyst, and propylene glycol monomethyl ether monoacetate as a solvent to a solid content of 80% And reacted at 100 ° C. for 24 hours to obtain an epoxycarboxylate compound solution.

反応終点は固形分酸価(AV)にて決定し、測定値を表1中に記載した。酸価測定は、反応溶液にて測定し固形分としての酸価に換算した。   The reaction end point was determined by solid content acid value (AV), and the measured values are shown in Table 1. The acid value was measured with a reaction solution and converted into an acid value as a solid content.

比較例1−2:比較するエポキシカルボキシレート化合物の調製
クレゾールノボラック型エポキシ樹脂EOCN−103S(日本化薬(株)製、軟化点80℃、エポキシ当量200g/eq))を200g、一分子中に重合可能なエチレン性不飽和基とカルボキシ基を併せ持つアクリル酸(略称AA、Mw=72)を表1中記載量、一分子中に水酸基とカルボキシ基を併せ持つジメタノールプロピオン酸(略称DMPA、Mw=134)を表1中記載量混合した。
触媒としてトリフェニルホスフィン3gを加え、溶剤としてプロピレングリコールモノメチルエーテルモノアセテートを固形分80%となるように加えて、100℃24時間反応させ、エポキシカルボキシレート化合物溶液を得た。
Comparative Example 1-2: Preparation of epoxy carboxylate compound to be compared 200 g of cresol novolac type epoxy resin EOCN-103S (manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd., softening point 80 ° C., epoxy equivalent 200 g / eq)) in one molecule Acrylic acid having a polymerizable ethylenically unsaturated group and a carboxy group (abbreviation AA, Mw = 72) in the amount shown in Table 1, dimethanolpropionic acid having both a hydroxyl group and a carboxy group in one molecule (abbreviation DMPA, Mw = 134) were mixed in the amounts shown in Table 1.
3 g of triphenylphosphine was added as a catalyst, and propylene glycol monomethyl ether monoacetate was added as a solvent to a solid content of 80% and reacted at 100 ° C. for 24 hours to obtain an epoxycarboxylate compound solution.

反応終点は固形分酸価(AV;mgKOH/g)にて決定し、測定値を表1中に記載した。酸価測定は、反応溶液にて測定し固形分としての酸価に換算した。   The reaction end point was determined by the solid content acid value (AV; mgKOH / g), and the measured values are shown in Table 1. The acid value was measured with a reaction solution and converted into an acid value as a solid content.

表1:実施例1及び比較例1のエポキシカルボキシレート化合物
実施例 エポキシ樹脂 AA量 DMPA量 固形分酸価
(モル比) (モル比)
実施例1−1 XD−1000 14(0.2) 107(0.8) 2.4
実施例1−2 XD−1000 36(0.5) 67(0.5) 2.1
実施例1−3 XD−1000 58(0.8) 27(0.2) 2.8
実施例1−4 XD−1000 22(0.3) 27(0.2) 0.9

比較例1−1 XD−1000 72(1.0) 0(0.0) 2.5
比較例1−2 EOCN−104S 36(0.5) 67(0.5) 2.2
Table 1: Example of epoxy carboxylate compound of Example 1 and Comparative Example 1 Epoxy resin AA amount DMPA amount Solid content acid value
(Molar ratio) (Molar ratio)
Example 1-1 XD-1000 14 (0.2) 107 (0.8) 2.4
Example 1-2 XD-1000 36 (0.5) 67 (0.5) 2.1
Example 1-3 XD-1000 58 (0.8) 27 (0.2) 2.8
Example 1-4 XD-1000 22 (0.3) 27 (0.2) 0.9

Comparative Example 1-1 XD-1000 72 (1.0) 0 (0.0) 2.5
Comparative Example 1-2 EOCN-104S 36 (0.5) 67 (0.5) 2.2

実施例2:ポリカルボン酸化合物(B)の製造
実施例1−1、1−2、1−3として各々得られたエポキシカルボキシレート化合物(A)溶液299gに、多塩基酸無水物(c)としてテトラヒドロ無水フタル酸(略称THPA)を表2中記載量及び溶剤として固形分が65重量%となるようにプロピレングリコールモノメチルエーテルモノアセテートを添加し、100℃に加熱し酸付加反応させポリカルボン酸化合物(B)溶液を得た。固形分酸価(mgKOH/g)を表2中に示す。
Example 2 Production of Polycarboxylic Acid Compound (B) Polybasic acid anhydride (c) was added to 299 g of the epoxycarboxylate compound (A) solution obtained as each of Examples 1-1, 1-2, and 1-3. Polytetrahydrophthalic anhydride (abbreviated as THPA) in Table 2 and propylene glycol monomethyl ether monoacetate as a solvent so that the solid content is 65% by weight and heated to 100 ° C. for acid addition reaction A compound (B) solution was obtained. The solid content acid value (mgKOH / g) is shown in Table 2.

比較例2:ポリカルボン酸化合物の調製
比較例1−1、1−2において得られたエポキシカルボキシレート化合物溶液299gに、多塩基酸無水物であるテトラヒドロ無水フタル酸(略称THPA)表2中記載量及び溶剤として固形分が65重量%となるようにプロピレングリコールモノメチルエーテルモノアセテートを添加し、100℃に加熱し酸付加反応させポリカルボン酸化合物溶液を得た。固形分酸価(mgKOH/g)を表2中に示す。
Comparative Example 2: Preparation of polycarboxylic acid compound To 299 g of the epoxycarboxylate compound solution obtained in Comparative Examples 1-1 and 1-2, tetrahydrophthalic anhydride (abbreviated as THPA), which is a polybasic acid anhydride, is listed in Table 2. Propylene glycol monomethyl ether monoacetate was added as an amount and a solvent so that the solid content was 65% by weight, and the mixture was heated to 100 ° C. to cause an acid addition reaction to obtain a polycarboxylic acid compound solution. The solid content acid value (mgKOH / g) is shown in Table 2.

表2:実施例2及び比較例2の反応性ポリカルボン酸化合物
実施例 化合物(A) (b)/(c) THPA量 固形分酸価
実施例2−1 実施例1−1 0.2/0.8 66g 81
実施例2−2 実施例1−2 0.5/0.5 66g 82
実施例2−3 実施例1−3 0.8/0.2 66g 80
実施例2−4 実施例1−2 0.5/0.5 29g 41

比較例2−1 比較例1−1 1.0/0.0 66g 81
比較例2−2 比較例1−2 0.5/0.5 66g 80
比較例2−3 比較例1−1 1.0/0.0 29g 40
Table 2: Examples of reactive polycarboxylic acid compounds of Example 2 and Comparative Example 2 Compound (A) (b) / (c) THPA amount Solid content acid value Example 2-1 Example 1-1 0.2 / 0.8 66g 81
Example 2-2 Example 1-2 0.5 / 0.5 66 g 82
Example 2-3 Example 1-3 0.8 / 0.2 66g 80
Example 2-4 Example 1-2 0.5 / 0.5 29g 41

Comparative Example 2-1 Comparative Example 1-1 1.0 / 0.0 66 g 81
Comparative Example 2-2 Comparative Example 1-2 0.5 / 0.5 66 g 80
Comparative Example 2-3 Comparative Example 1-1 1.0 / 0.0 29 g 40

実施例3及び比較例3:ハードコート用組成物の調製
実施例1及び比較例1において合成したエポキシカルボキシレート化合物20g、ラジカル硬化型の反応性化合物であるジペンタエリスリトールヘキサアクリレート4g、紫外線反応型光重合開始剤としてイルガキュア184を1.5g加熱溶解した。(実施例3−4にはカチオン系光重合開始剤としてUVI−6990を1.0g追添加した。)
次いで、乾燥時の膜厚20ミクロンになるようハンドアプリケータによってポリカーボネート板上に塗工し、80℃30分間電気オーブンにて溶剤乾燥を実施した。乾燥後、高圧水銀ランプを具備した紫外線垂直露光装置(オーク製作所製)によって照射線量1000mJの紫外線を照射、硬化させ皮膜形成物を得た。
Example 3 and Comparative Example 3: Preparation of composition for hard coat 20 g of epoxycarboxylate compound synthesized in Example 1 and Comparative Example 1, 4 g of dipentaerythritol hexaacrylate which is a radical curable reactive compound, UV reactive type As a photopolymerization initiator, 1.5 g of Irgacure 184 was dissolved by heating. (In Example 3-4, 1.0 g of UVI-6990 was additionally added as a cationic photopolymerization initiator.)
Subsequently, it coated on the polycarbonate board with the hand applicator so that it might become the film thickness of 20 micrometers at the time of drying, and solvent drying was implemented in 80 degreeC for 30 minutes. After drying, an ultraviolet ray exposure apparatus (Oak Seisakusho) equipped with a high-pressure mercury lamp was irradiated with an ultraviolet ray with an irradiation dose of 1000 mJ and cured to obtain a film-formed product.

この形成物の塗膜の硬度をJIS K5600−5−4:1999により測定し、更に冷熱衝撃性の試験をJIS K5600−7−4:1999により測定した。
○:傷、はがれなし
△:僅かに傷あり
×:剥がれた
The hardness of the coating film of this formed product was measured according to JIS K5600-5-4: 1999, and a test for thermal shock resistance was further measured according to JIS K5600-7-4: 1999.
○: No scratch or peeling △: Slightly scratched ×: Peeled

表4 実施例3及び比較例3のハードコート用組成物
実施例No. 化合物(A) (b)/(c) 鉛筆硬度 耐冷熱衝撃性
実施例3−1 実施例1−1 0.2/0.8 HB ○
実施例3−2 実施例1−2 0.5/0.5 2H ○
実施例3−3 実施例1−3 0.8/0.2 3H △
実施例3−4 実施例1−4 0.3/0.2 3H ○

比較例3−1 比較例1−1 1.0/0.0 3H ×
比較例3−2 比較例1−2 0.5/0.5 H ×
Table 4 Composition examples for hard coat of Example 3 and Comparative Example 3 Compound (A) (b) / (c) Pencil hardness Cold resistance to thermal shock Example 3-1 Example 1-1 0.2 / 0.8 HB ○
Example 3-2 Example 1-2 0.5 / 0.5 2H ○
Example 3-3 Example 1-3 0.8 / 0.2 3H Δ
Example 3-4 Example 1-4 0.3 / 0.2 3H ○

Comparative Example 3-1 Comparative Example 1-1 1.0 / 0.0 3H ×
Comparative Example 3-2 Comparative Example 1-2 0.5 / 0.5 H ×

以上の結果から明らかなように、一分子中に水酸基とカルボキシ基を併せ持つ化合物(c)を使用せずエポキシ基を全てエポキシアクリレート化した比較例1−1、一般式(1)で示されるエポキシ樹脂(a)の代わりにクレゾールノボラック型エポキシ樹脂を使用し誘導した比較例1−2と比べて、本発明のエポキシカルボキシレート化合物は耐冷熱衝撃性が向上した。この向上した理由としては、化合物(c)の導入に伴い不飽和基の密度が適度に低下したこと、又、水酸基導入に伴い水素結合による緩やかな架橋構造が良い影響を及ぼしたものと考えられる。   As is clear from the above results, Comparative Example 1-1 in which all the epoxy groups were converted to an epoxy acrylate without using the compound (c) having both a hydroxyl group and a carboxy group in one molecule, an epoxy represented by the general formula (1) Compared to Comparative Example 1-2, which was derived using a cresol novolac type epoxy resin instead of the resin (a), the epoxy carboxylate compound of the present invention had improved thermal shock resistance. The reason for this improvement is considered to be that the density of unsaturated groups was moderately lowered with the introduction of the compound (c), and that the moderately crosslinked structure due to hydrogen bonding had a positive effect with the introduction of the hydroxyl group. .

実施例4及び比較例4:ドライフイルム型レジスト組成物
実施例2−1〜2−4又は比較例2−1〜2−3で得られたポリカルボン酸化合物をそれぞれ54.44g、反応性化合物(C)としてHX−220(商品名:日本化薬(株)製 ジアクリレート単量体)3.54g、光重合開始剤としてイルガキュアー907(チバスペシャリチィーケミカルズ(株)製)を4.72g及びカヤキュアーDETX−S(日本化薬(株)製)を0.47g、硬化成分としてGTR−1800(日本化薬(株)製)を14.83g、熱硬化触媒としてメラミンを1.05g並びに濃度調整溶媒としてメチルエチルケトンを20.95g加え、ビーズミルにて混練し均一に分散させレジスト樹脂組成物を得た。
Example 4 and Comparative Example 4: Dried Film Type Resist Composition 54.44 g of each of the polycarboxylic acid compounds obtained in Examples 2-1 to 2-4 or Comparative Examples 2-1 to 2-3, and a reactive compound (C) 3.54 g of HX-220 (trade name: manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.) and 4.72 g of Irgacure 907 (manufactured by Ciba Specialty Chemicals) as a photopolymerization initiator. And Kayacure DETX-S (manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.), 0.47 g of GTR-1800 (manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.) as a curing component, 1.05 g of melamine as a thermosetting catalyst and concentration 20.95 g of methyl ethyl ketone was added as an adjusting solvent, kneaded with a bead mill and uniformly dispersed to obtain a resist resin composition.

得られた組成物をワイヤーバーコータ#20を用い、支持フイルムとなるポリエチレンテレフタレートフイルムに均一に塗布し、温度70℃の熱風乾燥炉を通過させ、厚さ20μmの樹脂層を形成した後、この樹脂層上に保護フィルムとなるポリエチレンフイルムを貼り付けドライフイルムを得た。得られたドライフイルムをポリイミドプリント基板(銅回路厚:12μm、ポリイミドフイルム厚:25μm)に、温度80℃の加熱ロールを用いて保護フィルムを剥離しながら樹脂層を基板全面に貼り付けた。
なお、実施例4−5で用いた(A),(B)混合品とは、エポキシカルボキシレート化合物(A)として実施例1−1で製造したものと、ポリカルボン酸化合物(B)として実施例2−1で製造したものを溶液重量50:50にて混合したものである。
The obtained composition was uniformly applied to a polyethylene terephthalate film as a support film using a wire bar coater # 20, passed through a hot air drying furnace at a temperature of 70 ° C., and a resin layer having a thickness of 20 μm was formed. A polyethylene film serving as a protective film was pasted on the resin layer to obtain a dry film. The obtained dry film was attached to a polyimide printed circuit board (copper circuit thickness: 12 μm, polyimide film thickness: 25 μm) while the protective film was peeled off using a heating roll at a temperature of 80 ° C., and the resin layer was attached to the entire surface of the substrate.
In addition, (A) and (B) mixed goods used in Example 4-5 are what was manufactured in Example 1-1 as an epoxy carboxylate compound (A), and implemented as a polycarboxylic acid compound (B). What was manufactured in Example 2-1 was mixed with a solution weight of 50:50.

次いで、紫外線露光装置((株)オーク製作所、型式HMW−680GW)を用い回路パターンの描画されたマスク及び感度を見積もるために、コダック製ステップタブレットNo.2を通して500mJ/cmの紫外線を照射した。その後、ドライフイルム上のフイルムを剥離し剥離状態を確認した。その後、1%炭酸ナトリウム水溶液でスプレー現像を行って紫外線未照射部の樹脂を除去した。水洗乾燥した後、プリント基板を150℃の熱風乾燥器で60分加熱硬化反応させ硬化膜を得た。 Next, in order to estimate the mask on which the circuit pattern was drawn and the sensitivity using an ultraviolet exposure apparatus (Oak Manufacturing Co., Ltd., model HMW-680GW), Kodak Step Tablet No. 2 was irradiated with ultraviolet rays of 500 mJ / cm 2 . Thereafter, the film on the dry film was peeled off and the peeled state was confirmed. Thereafter, spray development was performed with a 1% sodium carbonate aqueous solution to remove the resin in the non-irradiated part. After washing with water and drying, the printed circuit board was subjected to a heat curing reaction in a hot air dryer at 150 ° C. for 60 minutes to obtain a cured film.

耐冷熱衝撃性評価
レジストの硬化膜を形成したポリイミドプリント基板を−65〜120℃の範囲で冷熱衝撃試験を実施した。試験方法はJIS C5012−9.1:1993に準拠した。試験終了後、セロハンテープ(登録商標)による剥離試験を実施した。
○:剥がれなし
△:僅かな剥がれが観察される
×:剥離する
Evaluation of cold thermal shock resistance A thermal shock test was performed on a polyimide printed board on which a cured resist film was formed in the range of −65 to 120 ° C. The test method was based on JIS C5012-9.1: 1993. After completion of the test, a peel test using cellophane tape (registered trademark) was performed.
○: No peeling Δ: Slight peeling is observed ×: Peeling

高温耐湿性評価
レジストの硬化膜を形成したポリイミドプリント基板を120℃のオートクレーブ中に1時間入れた。基板を取り出し、室温で風乾させた後、セロハンテープ(登録商標)による剥離試験を実施した。
○:剥がれなし
△:僅かな剥がれが観察される
×:剥離する
Evaluation of high temperature and humidity resistance A polyimide printed circuit board on which a cured resist film was formed was placed in an autoclave at 120 ° C. for 1 hour. The substrate was taken out, allowed to air dry at room temperature, and then subjected to a peeling test using cellophane tape (registered trademark).
○: No peeling Δ: Slight peeling is observed ×: Peeling

感度評価
感度は、ステップタブレットを透過した露光部に、何段目の濃度部分までが現像時に残存したかで判定した。段数(値)が大きいほうがタブレットの濃部で高感度と判定される(単位:段)。
Sensitivity evaluation Sensitivity was determined based on how many density portions remained in the exposed portion that passed through the step tablet during development. The higher the number of steps (value), the higher sensitivity is determined in the dark part of the tablet (unit: step).

現像性評価
現像性は、パターンマスクを透過した露光部を現像する際に、パターン形状部が完全に現像されきるまでの時間、いわゆるブレイクタイムをもって現像性の評価とした(単位:秒)。
Evaluation of developability The developability was evaluated based on the so-called break time (unit: second) until the pattern shape portion was completely developed when developing the exposed portion that passed through the pattern mask.

硬化性評価
硬化性評価は、150℃加熱終了後の硬化膜の鉛筆硬度をもって示した。評価方法は、JIS K5600−5−4:1999に準拠した。
Curability evaluation Curability evaluation was shown by pencil hardness of the cured film after heating at 150 ° C. The evaluation method was based on JIS K5600-5-4: 1999.

表5 実施例4及び比較例4のドライフイルムレジスト
実施例 化合物(B) 冷熱衝撃 耐湿性 感度 現像性 硬化性
実施例4−1 実施例2−1 ○ ○ 4 22 2H
実施例4−2 実施例2−2 ○ ○ 8 31 3H
実施例4−3 実施例2−3 △ ○ 9 49 3H
実施例4−4 実施例2−4 ○ ○ 10 50 3H
実施例4−5 実施例1−1 ○ ○ 7 35 2H
実施例2−1

比較例4−1 比較例2−1 × △ 7 50 3H
比較例4−2 比較例2−2 × × 9 45 3H
比較例4−3 比較例2−3 × △ 現像不可 3H
Table 5 Dried film resist examples of Example 4 and Comparative Example 4 Compound (B) Cold shock Impact resistance Sensitivity Developability Curability Example 4-1 Example 2-1 ○ ○ 4 22 2H
Example 4-2 Example 2-2 ○ ○ 8 31 3H
Example 4-3 Example 2-3 Δ ○ 9 49 3H
Example 4-4 Example 2-4 ○ ○ 10 50 3H
Example 4-5 Example 1-1 ○ ○ 7 35 2H
Example 2-1

Comparative Example 4-1 Comparative Example 2-1 × Δ 7 50 3H
Comparative Example 4-2 Comparative Example 2-2 × × 9 45 3H
Comparative Example 4-3 Comparative Example 2-3 × Δ Development impossible 3H

上記の結果から明らかなように、本発明におけるレジスト組成物は高い耐冷熱衝撃性と高温耐湿性を有している。又、レジストとして良好な現像性と感度を有している。   As is apparent from the above results, the resist composition in the present invention has high cold thermal shock resistance and high temperature and humidity resistance. Moreover, it has good developability and sensitivity as a resist.

実施例5及び比較例5:顔料分散性
実施例2又は比較例2で得られたポリカルボン酸化合物をそれぞれ20g、反応性化合物(C)としてDPHA(商品名:日本化薬(株)製 アクリレート単量体)5.0g、有機溶剤としてプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート10g、着色顔料として三菱カーボンブラック MA−100を10g混合攪拌した。そこに35gのガラスビーズを入れ、ペイントシェーカーで1時間分散を行った。
分散終了後の分散液を、ワイヤーバーコーター#2でポリエチレンテレフタレートフイルム上に塗工し、80℃の温風乾燥機で10分間乾燥を行った。
乾燥終了後の塗膜表面の光沢を、60°反射グロス計(堀場製作所 IG−331光沢計)を用いて測定しカーボンブラックの分散性を評価し、表7に示した。この際、光沢が高いほうが良好な顔料分散性ということを示している。
Example 5 and Comparative Example 5: Pigment dispersibility 20 g of the polycarboxylic acid compound obtained in Example 2 or Comparative Example 2 and DPHA (trade name: Nippon Kayaku Co., Ltd. acrylate) as the reactive compound (C) Monomer) 5.0 g, 10 g of propylene glycol monomethyl ether acetate as an organic solvent, and 10 g of Mitsubishi Carbon Black MA-100 as a color pigment were mixed and stirred. 35 g of glass beads were put there and dispersed for 1 hour with a paint shaker.
The dispersion after completion of the dispersion was coated on a polyethylene terephthalate film with a wire bar coater # 2, and dried for 10 minutes with a hot air dryer at 80 ° C.
The gloss of the coating film surface after drying was measured using a 60 ° reflection gloss meter (Horiba IG-331 gloss meter), and the dispersibility of carbon black was evaluated. At this time, a higher gloss indicates better pigment dispersibility.

表7 実施例5及び比較例5の顔料分散性
実施例 化合物(B) (b)/(c) 光沢
実施例6−1 実施例2−1 0.2/0.8 45
実施例6−2 実施例2−2 0.5/0.5 62
実施例6−3 実施例2−3 0.8/0.2 48
実施例6−4 実施例2−4 0.5/0.5 59

比較例6−1 比較例2−1 1.0/0.0 30
比較例6−2 比較例2−2 0.5/0.5 17
比較例6−3 比較例2−4 1.0/0.0 25
Table 7 Examples of pigment dispersibility of Example 5 and Comparative Example 5 Compound (B) (b) / (c) Glossy Example 6-1 Example 2-1 0.2 / 0.8 45
Example 6-2 Example 2-2 0.5 / 0.5 62
Example 6-3 Example 2-3 0.8 / 0.2 48
Example 6-4 Example 2-4 0.5 / 0.5 59

Comparative Example 6-1 Comparative Example 2-1 1.0 / 0.0 30
Comparative Example 6-2 Comparative Example 2-2 0.5 / 0.5 17
Comparative Example 6-3 Comparative Example 2-4 1.0 / 0.0 25

上記の結果から明らかなように、本発明における反応性ポリカルボン酸の基本骨格となるエポキシ樹脂(a)に一分子中に重合可能なエチレン性不飽和基とカルボキシ基を併せ持つ化合物(b)及び一分子中に水酸基とカルボキシ基を併せ持つ化合物(c)を反応させることにより顔料の分散性が向上することが明らかとなった。   As is clear from the above results, the compound (b) having both an ethylenically unsaturated group polymerizable in one molecule and a carboxy group to the epoxy resin (a) which is the basic skeleton of the reactive polycarboxylic acid in the present invention, and It has been clarified that the dispersibility of the pigment is improved by reacting the compound (c) having both a hydroxyl group and a carboxy group in one molecule.

本発明の活性エネルギー線硬化型組成物とその硬化物は、硬化性と柔軟性、強靭性、難燃性を併せ持つ材料として、ハードコート材料、アルカリ現像可能なフレキシブル性を必要とされるレジスト材料、良好な顔料分散性を発揮する用途に適するが、例えば、活性エネルギー線硬化型の印刷インキ、カラーレジスト、特には顔料分散性と現像性等のレジスト適性を併せ持つ材料としてLCD用のカラーレジスト、特にはブラックマトリックス等に特に好適に用いることが出来る。   The active energy ray-curable composition of the present invention and the cured product thereof are hard coat materials and resist materials that require flexibility capable of alkali development as materials having both curability, flexibility, toughness, and flame retardancy. Suitable for applications exhibiting good pigment dispersibility, for example, active energy ray-curable printing inks, color resists, especially color resists for LCDs as materials having both resist dispersibility and developability, etc. In particular, it can be particularly suitably used for a black matrix or the like.

Claims (11)

下記一般式(1)で示されるエポキシ樹脂(a)に、一分子中に重合可能なエチレン性不飽和基とカルボキシ基を併せ持つ化合物(b)及び一分子中に水酸基とカルボキシ基を併せ持つ化合物(c)を反応させて得られるエポキシカルボキシレート化合物(A)。
Figure 2009102501
[式中、Rは同一でも異なっていてもよく、水素原子、ハロゲン原子又は炭素数1〜4の炭化水素基を示し、nは平均値で1〜10の正数を示す。]
The epoxy resin (a) represented by the following general formula (1) has a compound (b) having both an ethylenically unsaturated group polymerizable in one molecule and a carboxy group, and a compound having both a hydroxyl group and a carboxy group in one molecule ( An epoxycarboxylate compound (A) obtained by reacting c).
Figure 2009102501
[Wherein, R may be the same or different and each represents a hydrogen atom, a halogen atom or a hydrocarbon group having 1 to 4 carbon atoms, and n represents an average value of 1 to 10 positive numbers. ]
請求項1記載のエポキシカルボキシレート化合物(A)に多塩基酸無水物(d)を反応させて得られるポリカルボン酸化合物(B)。 The polycarboxylic acid compound (B) obtained by making a polybasic acid anhydride (d) react with the epoxycarboxylate compound (A) of Claim 1. 請求項1記載のエポキシカルボキシレート化合物(A)及び/又は請求項2記載のポリカルボン酸化合物(B)を含む活性エネルギー線硬化型樹脂組成物。 An active energy ray-curable resin composition comprising the epoxycarboxylate compound (A) according to claim 1 and / or the polycarboxylic acid compound (B) according to claim 2. 更に、エポキシカルボキシレート化合物(A)及びポリカルボン酸化合物(B)以外の反応性化合物(C)を含む請求項3記載の活性エネルギー線硬化型樹脂組成物。 The active energy ray-curable resin composition according to claim 3, further comprising a reactive compound (C) other than the epoxycarboxylate compound (A) and the polycarboxylic acid compound (B). 更に、光重合開始剤を含む請求項3又は4に記載の活性エネルギー線硬化型樹脂組成物。 Furthermore, the active energy ray hardening-type resin composition of Claim 3 or 4 containing a photoinitiator. 更に、着色顔料を含む請求項3〜5のいずれか1項に記載の活性エネルギー線硬化型樹脂組成物。 Furthermore, the active energy ray hardening-type resin composition of any one of Claims 3-5 containing a coloring pigment. 成形用材料である請求項3〜6のいずれか1項に記載の活性エネルギー線硬化型樹脂組成物。 The active energy ray-curable resin composition according to any one of claims 3 to 6, which is a molding material. 皮膜形成用材料である請求項3〜6のいずれか1項に記載の活性エネルギー線硬化型樹脂組成物。 The active energy ray-curable resin composition according to any one of claims 3 to 6, which is a film-forming material. レジスト材料組成物である請求項3〜6のいずれか一項に記載の活性エネルギー線硬化型樹脂組成物。 The active energy ray-curable resin composition according to any one of claims 3 to 6, which is a resist material composition. 請求項3〜9のいずれか一項に記載の活性エネルギー線硬化型樹脂組成物の硬化物。 Hardened | cured material of the active energy ray hardening-type resin composition as described in any one of Claims 3-9. 請求項8に記載の活性エネルギー線硬化型樹脂組成物の硬化物でオーバーコートされた物品。 An article overcoated with a cured product of the active energy ray-curable resin composition according to claim 8.
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