KR101482028B1 - Reactive Carboxylate Compound, Active-energy-ray-curable Resin Composition Utilizing the Same and Use of the Same - Google Patents

Reactive Carboxylate Compound, Active-energy-ray-curable Resin Composition Utilizing the Same and Use of the Same Download PDF

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Abstract

본 발명은 자외선 등의 활성 에너지선 등에 의해 경화하고, 강인한 피막 또는 성형 재료를 얻을 수 있는 수지 조성물을 제공하는 것을 목적으로 한다. 또한 본 발명은 분자 중에 특정 구조를 포함하는 페놀형 에폭시 수지에 분자 중에 1개 이상의 중합 가능한 에틸렌성 불포화기와 1개 이상의 카르복시기를 겸비하는 화합물 및 1 분자 중에 1개 이상의 수산기와 1개 이상의 카르복시기를 겸비하는 화합물로부터 유도되는 반응성 화합물에 관련된다. 또한 이를 이용한 경화형 수지 조성물로부터 강인한 경화물을 얻을 수 있다. 또한 이 반응성 화합물은 양호한 안료 분산성을 발휘한다. An object of the present invention is to provide a resin composition which can be cured by active energy rays such as ultraviolet rays or the like to obtain a strong coating film or molding material. The present invention also relates to a method for producing an epoxy resin composition, which comprises adding to a phenol-type epoxy resin containing a specific structure in a molecule a compound having at least one polymerizable ethylenic unsaturated group and at least one carboxyl group in the molecule and a compound having at least one hydroxyl group and at least one carboxyl group ≪ / RTI > Also, a strong cured product can be obtained from the curable resin composition using the same. This reactive compound also exhibits good pigment dispersibility.

Description

반응성 카르복실레이트 화합물, 이를 이용한 활성 에너지선 경화형 수지 조성물 및 그 용도{Reactive Carboxylate Compound, Active-energy-ray-curable Resin Composition Utilizing the Same and Use of the Same}REACTIVE CARBOXYLATATE COMPOUND, ACTIVE ENERGY THERMOPLASTIC RESIN COMPOSITION USING THE SAME, AND USE THEREOF BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a reactive carboxylate compound,

본 발명은 분자 중에 특정 구조를 포함하는 페놀형 에폭시 수지(a)에 아크릴산 등으로 대표되는 분자 중에 1개 이상의 중합 가능한 에틸렌성 불포화기와 1개 이상의 카르복시기를 겸비하는 화합물(b) 및 분자 중에 1개 이상의 수산기와 1개 이상의 카르복시기를 겸비하는 화합물(c)를 반응시켜 얻어지는 반응성 에폭시카르복실레이트 화합물(A) 및 그의 산변성물인 반응성 폴리카르복시산 화합물(B)에 관련된다. 이러한 반응성 에폭시카르복실레이트 화합물(A) 및 반응성 폴리카르복시산 화합물(B)는 안료와 양호한 친화성을 갖고 또한 이를 포함하는 수지 조성물로부터 강인한 경화물을 얻을 수 있다. The present invention relates to a phenol-type epoxy resin (a) containing a specific structure in a molecule, a compound (b) having both at least one polymerizable ethylenic unsaturated group and at least one carboxyl group in a molecule represented by acrylic acid or the like, (C) having at least one hydroxyl group and at least one carboxyl group, and a reactive polycarboxylic acid compound (B) as an acid-modified product thereof. The reactive epoxycarboxylate compound (A) and the reactive polycarboxylic acid compound (B) have a good affinity with the pigment and can obtain a hardened product from the resin composition containing the same.

프린트 배선판은 휴대 기기의 소형 경량화나 통신 속도의 향상을 목표로 고정도, 고밀도화가 요구되고 있다. 그에 따라 회로 자체를 피복하는 솔더레지스트의 요구도 점점 높아지고, 종래의 요구보다도 한층 더 내열성, 열안정성을 유지하면서 기판 밀착성, 고절연성, 무전해 금도금성에 견딜 수 있는 성능이 요구되고 있으며, 보다 강인한 경화 물성을 갖는 피막 형성용 재료가 요구되고 있다. The printed wiring board is required to have high accuracy and high density in order to reduce the size and weight of the portable device and to improve the communication speed. As a result, there is a growing demand for solder resists for covering the circuit itself, and it is demanded to have a capability to withstand substrate adhesion, high insulation, and electroless gold plating while maintaining heat resistance and thermal stability higher than conventional requirements, A film-forming material having physical properties is required.

솔더레지스트의 고성능화 요구에 따라 분자 중에 특정 구조를 포함하는 에폭시 수지가 개발되고 있으며 이를 포함한 수지 또는 그의 산변성 에폭시카르복실레이트 수지의 경화물이 알려져 있다. Epoxy resins containing specific structures in molecules have been developed in response to demands for high performance of solder resists, and resins containing them or cured products of acid-modified epoxy carboxylate resins are known.

예컨대 페놀 아랄킬형 에폭시 수지(예컨대 일본 화약제 NC-3000 시리즈, NC-2000 시리즈 등)를 기본 골격으로 한 산변성 에폭시 아크릴레이트가 특허문헌 1 또는 특허문헌 2에 기재되어 있고, 경화 후에 높은 강인성을 나타내는 재료로 일반적으로 공지이다. 또한 이를 이용한 솔더레지스트의 용도에 대해서도 검토되고 있다. For example, acid-modified epoxy acrylates having a basic skeleton of a phenol aralkyl type epoxy resin (for example, Nippon Chemical's NC-3000 series, NC-2000 series, etc.) are disclosed in Patent Document 1 or Patent Document 2, It is generally known as a material to represent. The use of solder resists using such solder resists has also been studied.

특허문헌 3에는 다환식 탄화수소기를 갖는 에폭시 수지를 기본 골격으로 한 산변성 에폭시 아크릴레이트 화합물과 그 경화물이 기재되어 있고, 경화 후에 비교적 높은 강인성을 갖는 것이 기재되어 있다. 또한 이를 이용한 솔더레지스트에 대해서도 기재되어 있다. 그러나 이 솔더레지스트는 비교적 높은 신뢰성을 갖고 있지만, 최근 수송기기 등의 전자화에 따라 요구되는 보다 높은 신뢰성을 만족할 수 있는 성능을 충족시키지 않았다. Patent Document 3 describes an acid-modified epoxy acrylate compound having a basic skeleton of an epoxy resin having a polycyclic hydrocarbon group and a cured product thereof, and has a relatively high toughness after curing. A solder resist using the same is also described. However, this solder resist has a comparatively high reliability, but has not satisfied the performance that can satisfy the higher reliability required by the electronicization of transportation equipment and the like in recent years.

또한 이러한 에폭시 수지에 의한 산변성 에폭시 아크릴레이트의 용도로서, 카본 블랙 등의 착색 안료를 분산시켜 액정 표시 패널 등에 이용되는 블랙 매트릭스 레지스트에 응용하는 시도도 이루어지고 있다. Further, as an application of acid-modified epoxy acrylate by such an epoxy resin, an attempt has been made to apply a color pigment such as carbon black to a black matrix resist used for a liquid crystal display panel or the like.

상기 페놀 아랄킬형 에폭시 수지를 기본 골격으로 한 산변성 에폭시 아크릴레이트에 카본 블랙 등의 착색 안료를 분산시킨 블랙 매트릭스 레지스트로의 응용예가 특허문헌 4, 특허문헌 5에 기재되어 있다. Examples of application to a black matrix resist in which a color pigment such as carbon black is dispersed in an acid-modified epoxy acrylate having a phenol aralkyl type epoxy resin as a basic skeleton are described in Patent Document 4 and Patent Document 5. [

또한 다환식 탄화수소기를 갖는 에폭시 수지를 기본 골격으로 한 산변성 에폭시 아크릴레이트 화합물에 카본 블랙 등의 착색 안료를 분산시켜 블랙 매트릭스 레지스트에 응용하는 시도도 알려져 있다(특허문헌 6).It is also known to disperse a colored pigment such as carbon black in an acid-modified epoxy acrylate compound having an epoxy resin having a polycyclic hydrocarbon group as a basic skeleton and apply it to a black matrix resist (Patent Document 6).

그러나 액정 표시 패널 등에 이용되는 블랙 매트릭스 레지스트 용도에서 카본 블랙 등의 착색 안료를 고농도로 배합하는 경우, 안료가 수지와 친화하여 양호하게 분산함에 따라 고농도로 안료가 존재해도 양호한 현상성을 나타내고, 안료 잔사가 없는 현상이 가능하게 된다. 이 경우, 보다 높은 안료 농도에서의 현상성, 즉 보다 높은 안료 분산성이 요구된다. 종래의 산변성 에폭시 아크릴레이트류는 비교적 양호한 안료 분산성을 나타내지만, 안료 분산액이 의사적으로 응집하여 안정성이 좋지 않다는 단점이 있었다. However, when a coloring pigment such as carbon black is mixed at a high concentration in the use of a black matrix resist used for a liquid crystal display panel or the like, since the pigment is affinity with a resin and is well dispersed, good developability is obtained even if a pigment exists at a high concentration, It is possible to realize a phenomenon in which there is no gap. In this case, developability at a higher pigment concentration, i.e. higher pigment dispersibility, is required. Conventional acid-modified epoxy acrylates exhibit comparatively good pigment dispersibility, but they have disadvantages in that the pigment dispersion is pseudomorphically aggregated and poor in stability.

한편, 일반적인 에폭시 수지에 아크릴산과 수산기를 갖는 카르복시산 화합물을 병용하여 반응시켜 얻어지는 카르복실레이트 화합물이 저산가이면서 우수한 현상성을 갖는 재료로 알려져 있고, 나아가 이 화합물이 레지스트 잉크 적성을 갖는 것이 특허문헌 7에 기재되어 있다.On the other hand, a carboxylate compound obtained by reacting acrylic acid with a carboxylic acid compound having a hydroxyl group in a general epoxy resin is known as a material having low acid value and excellent developability, and further, the compound has a resist ink suitability is disclosed in Patent Document 7 .

특허문헌1:특개평11-140144호공보Patent Document 1: JP-A-11-140144 특허문헌2:특개평5-194708호공보Patent Document 2: JP-A-5-194708 특허문헌3:특개평5-214048호공보Patent Document 3: JP-A-5-214048 특허문헌4:특개2005-55814호공보Patent Document 4: JP-A-2005-55814 특허문헌5:특개2003-183354호공보Patent Document 5: JP-A-2003-183354 특허문헌6:특개2004-295084호공보Patent Document 6: JP-A-2004-295084 특허문헌7:특개평6-324490호공보Patent Document 7: JP-A-6-324490

상기 분자 중에 특정 구조를 포함한 에폭시 수지를 사용하는 경화형 수지 조성물은 비교적 강인한 경화물을 얻을 수 있지만, 수송 기기라는 극히 높은 신뢰성이 요구되는 용도로의 재료로서는 기판의 절곡에도 견딜 수 있는 등의 새로운 강인한 경화 물성이 요구되고 있다. A curable resin composition using an epoxy resin containing a specific structure in the molecule can obtain a comparatively hardened cured product. However, as a material for an application requiring extremely high reliability as a transportation device, a new tough Curing properties are required.

또한 착색계 레지스트 재료로서의 용도에서 그 조성물로 만들었을 경우, 착색 안료, 특히 카본 블랙 등으로의 분산이 보다 높고, 높은 안료 농도에서도 양호한 현상 특성을 갖는 산변성 에폭시 아크릴레이트가 요구되고 있다. 이때, 비교적 높은 분자량을 갖는 한편 적당한 현상성을 갖는 재료가 요구되고 있다. 또한 안료 분산액에서 응집이 발생되지 않고 장기 보존 안정성을 나타내는 착색 안료 분산 수지 조성물이 요구되고 있다. In addition, when the composition is used as a coloring resist composition, there is a demand for an acid-modified epoxy acrylate having a high dispersibility in a coloring pigment, particularly carbon black or the like, and having good developing characteristics even at a high pigment concentration. At this time, there is a demand for a material having a relatively high molecular weight and suitable developing properties. There is also a demand for a colored pigment dispersion resin composition which does not cause aggregation in the pigment dispersion and exhibits long-term storage stability.

본 발명자 등은 상술한 과제를 해결하기 위하여 분자 중에 특정 구조를 포함한 에폭시 수지에 분자 중에 1개 이상의 중합 가능한 에틸렌성 불포화기와 1개 이상의 카르복시기를 겸비하는 화합물(b), 1 분자 중에 1개 이상의 수산기와 1개 이상의 카르복시기를 겸비하는 화합물(c)를 반응시켜 얻어지는 반응성 에폭시카르복실레이트 화합물, 나아가 여기에 다염기산 무수물(d)를 반응시켜 얻어지는 반응성 폴리카르복시산 화합물이 특히 뛰어난 수지 물성 및 경화물로서의 수지 물성을 갖는 것을 밝혀내었다. In order to solve the above-mentioned problems, the inventors of the present invention have found out that a compound (b) having an epoxy resin containing a specific structure in a molecule and having at least one polymerizable ethylenic unsaturated group and at least one carboxyl group in the molecule, And a compound (c) having at least one carboxyl group, and further, a reactive polycarboxylic acid compound obtained by reacting a polybasic acid anhydride (d) with a reactive epoxycarboxylate compound, and particularly a resin property and a resin property .

또한 그러한 수지 조성물이 특히 착색 안료와의 양호한 친화성을 갖는 것을 밝혀내고, 높은 안료 농도에서도 양호한 현상성을 갖는 레지스트 재료가 될 수 있다는 것을 밝혀내었다. It has also been found that such a resin composition has a particularly good affinity with a colored pigment and can be a resist material having good developability even at a high pigment concentration.

즉, 본 발명은 하기 일반식(1)로 표시되는 에폭시 수지(a), 1 분자 중에 1개 이상의 중합 가능한 에틸렌성 불포화기와 1개 이상의 카르복시기를 겸비하는 화합물(b) 및 1 분자 중에 1개 이상의 수산기와 1개 이상의 카르복시기를 겸비하는 화합물(c)를 반응시켜 얻어지는 반응성 에폭시카르복실레이트 화합물(A)에 관련된다. That is, the present invention relates to an epoxy resin composition comprising (a) an epoxy resin represented by the following general formula (1), (b) a compound having at least one polymerizable ethylenic unsaturated group and at least one carboxyl group in one molecule, (A) obtained by reacting a compound (c) having a hydroxyl group and at least one carboxyl group.

Figure 112010003132778-pct00001
Figure 112010003132778-pct00001

(식 중, R1은 서로 동일 또는 상이하게 수소 원자, 할로겐 원자 또는 탄소수 1~4의 탄화수소기를, R2는 탄소수 7~16의 2가 다환식 탄화수소기 또는 탄소수 7~18의 아랄킬렌기를, m은 1~4의 정수를, 또 n은 평균치로 1~10의 정수를 각각 나타낸다)Wherein R 1 is a hydrogen atom, a halogen atom or a hydrocarbon group having 1 to 4 carbon atoms, R 2 is a divalent polycyclic hydrocarbon group having 7 to 16 carbon atoms or an aralkylene group having 7 to 18 carbon atoms, m is an integer of 1 to 4, and n is an integer of 1 to 10, respectively)

본 발명은 또한 에폭시 수지(a)가 일반식(2)인 반응성 에폭시카르복실레이트 화합물(A)에 관련된다.The present invention also relates to a reactive epoxycarboxylate compound (A) wherein the epoxy resin (a) is the general formula (2).

Figure 112010003132778-pct00002
Figure 112010003132778-pct00002

(식 중, R3은 서로 동일 또는 상이하게 수소 원자, 할로겐 원자 또는 탄소수 1~4의 탄화수소기를, o는 1~4의 정수를, 또 p는 평균치로 1~10의 정수를 각각 나타낸다) (Wherein R 3 is the same or different and represents a hydrogen atom, a halogen atom or a hydrocarbon group of 1 to 4 carbon atoms, o represents an integer of 1 to 4, and p represents an integer of 1 to 10, respectively)

본 발명은 또한 에폭시 수지(a)가 일반식(3)인 반응성 에폭시카르복실레이트 화합물(A)에 관련된다.The present invention also relates to a reactive epoxycarboxylate compound (A) wherein the epoxy resin (a) is a general formula (3).

Figure 112010003132778-pct00003
Figure 112010003132778-pct00003

(식 중, R4는 서로 동일 또는 상이하게 수소 원자, 할로겐 원자 또는 탄소수 1~4의 탄화수소기를, q는 1~4의 정수를, 또 r은 평균치로 1~10의 정수를 각각 나타낸다) (Wherein R 4 is the same or different and represents a hydrogen atom, a halogen atom or a hydrocarbon group of 1 to 4 carbon atoms, q represents an integer of 1 to 4, and r represents an integer of 1 to 10, respectively,

본 발명은 또한 에폭시 수지(a)가 일반식(4)인 반응성 에폭시카르복실레이트 화합물(A)에 관련된다.The present invention also relates to a reactive epoxycarboxylate compound (A) wherein the epoxy resin (a) is the general formula (4).

Figure 112010003132778-pct00004
Figure 112010003132778-pct00004

(식 중, R5는 서로 동일 또는 상이하게 수소 원자, 할로겐 원자 또는 탄소수 1~4의 탄화수소기를, s는 1~4의 정수를, 또 t는 평균치로 1~10의 정수를 각각 나타낸다) (Wherein, R 5 are the same or different a hydrogen atom, a halogen atom or a hydrocarbon group of a carbon number of 1-4 together, s is an integer of 1 to 4, and t represents an integer of 1 to 10 as a mean value, respectively)

본 발명은 또한 상기에서 얻어진 반응성 카르복실레이트 화합물(A)에 다염기산 무수물(d)를 반응시켜 얻어지는 반응성 폴리카르복시산 화합물(B)에 관련된다.The present invention also relates to a reactive polycarboxylic acid compound (B) obtained by reacting the above-obtained reactive carboxylate compound (A) with a polybasic acid anhydride (d).

본 발명은 또한 상기 반응성 카르복실레이트 화합물(A) 및/또는 반응성 폴리카르복시산 화합물(B)를 포함하는 것을 특징으로 하는 활성 에너지선 경화형 수지 조성물에 관련된다.The present invention also relates to an active energy ray-curable resin composition characterized by comprising the reactive carboxylate compound (A) and / or the reactive polycarboxylic acid compound (B).

본 발명은 또한 (A), (B) 이외의 반응성 화합물(C)를 추가로 포함하는 것을 특징으로 하는 활성 에너지선 경화형 수지 조성물에 관련된다.The present invention also relates to an active energy ray-curable resin composition, which further comprises a reactive compound (C) other than (A) and (B).

본 발명은 또한 착색 안료를 추가로 함유하는 것을 특징으로 하는 활성 에너지선 경화형 수지 조성물에 관련된다.The present invention also relates to an active energy ray-curable resin composition characterized by further comprising a coloring pigment.

본 발명은 또한 광중합 개시제를 추가로 포함하는 것을 특징으로 하는 활성 에너지선 경화형 수지 조성물에 관련된다.The present invention also relates to an active energy ray-curable resin composition characterized by further comprising a photopolymerization initiator.

본 발명은 또한 성형용 재료인 활성 에너지선 경화형 수지 조성물에 관련된다. The present invention also relates to an active energy ray-curable resin composition which is a molding material.

본 발명은 또한 피막 형성용 재료인 활성 에너지선 경화형 수지 조성물에 관련된다.The present invention also relates to an active energy ray-curable resin composition which is a film-forming material.

본 발명은 또한 레지스트 재료 조성물인 활성 에너지선 경화형 수지 조성물에 관련된다.The present invention also relates to an active energy ray-curable resin composition which is a resist material composition.

본 발명은 또한 상기 활성 에너지선 경화형 수지 조성물의 경화물에 관련된다.The present invention also relates to a cured product of the active energy ray-curable resin composition.

본 발명은 또한 상기 활성 에너지선 경화형 수지 조성물로 오버코트된 물품에 관련된다.The present invention also relates to an article overcoated with the active energy ray-curable resin composition.

본 발명의 분자 중에 특정 구조를 갖는 에폭시 수지를 포함한 활성 에너지선 경화형 수지 조성물은 강인한 경화물을 제공할 뿐만 아니라 단지 용제를 건조시킨 상태에서도 뛰어난 수지 물성을 갖는다. 본 발명의 활성 에너지선 경화형 수지 조성물로부터 얻어지는 경화물은 열적 및 기계적 강인성이 요구되는 피막 형성용 재료로 매우 적합하게 이용할 수 있다. 특히 바람직한 용도로서는 프린트 배선판용 솔더레지스트, 다층 프린트 배선판용 층간절연 재료, 플렉서블 프린트 배선판용 솔더레지스트, 도금 레지스트, 감광성 광도파로 등을 들 수 있고, 특히 높은 특성이 요구되는 용도로 이용할 수 있다. The active energy ray-curable resin composition containing an epoxy resin having a specific structure in the molecule of the present invention not only provides a strong cured product, but also has excellent resin properties even when the solvent is dried. The cured product obtained from the active energy ray-curable resin composition of the present invention can be suitably used as a film-forming material requiring thermal and mechanical toughness. Particularly preferable applications include solder resists for printed wiring boards, interlayer insulating materials for multilayer printed wiring boards, solder resists for flexible printed wiring boards, plating resists, photosensitive optical waveguides, and the like.

또한 얻어지는 활성 에너지선 경화형 수지 조성물은 카본 블랙 등의 착색 안료와 높은 친화성을 갖기 때문에 높은 안료 농도에서도 양호한 안료 분산성을 나타내고 높은 현상성을 발휘할 수 있다. 또한 그 착색 안료 분산액의 안료의 분산 상태를 장기간 유지할 수 있고 높은 분산 상태 보존 안정성이 확보되는 수지 조성물을 제공할 수 있다. 따라서 특히 바람직한 용도로서 칼라 레지스트, 칼라 필터용의 레지스트 재료, 특히 블랙 매트릭스 재료 등에 매우 적합하게 이용할 수 있다. Also, the obtained active energy ray-curable resin composition has high affinity with colored pigments such as carbon black, so that it exhibits good pigment dispersibility even at high pigment concentration and can exhibit high developability. It is possible to provide a resin composition capable of maintaining the dispersion state of the pigment of the colored pigment dispersion for a long period of time and ensuring high dispersion state storage stability. Therefore, it can be suitably used for a color resist and a resist material for a color filter, particularly, a black matrix material as a particularly preferable use.

발명을 실시하기 위한 최선의 형태 BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION

본 발명의 반응성 에폭시카르복실레이트 화합물(A)는 페놀 에폭시기를 특정 구조의 탄화수소기로 이은 하기와 같은 식(1)로 표시되는 특징적인 골격의 페놀형 에폭시 수지(a)에 반응성을 부여하기 위해 분자 중에 1개 이상의 중합가능한 에틸렌성 불포화기와 1개 이상의 카르복시기를 겸비하는 화합물(b) 및 1 분자 중에 1개 이상의 수산기와 1개 이상의 카르복시기를 겸비하는 화합물(c)를 반응시켜 얻을 수 있다. 즉, 에폭시카르복실레이트화에 의해 에틸렌성 불포화기와 수산기를 동시에 분자쇄 중에 도입함으로써 본 발명의 특징이 발휘되는 것이다. The reactive epoxycarboxylate compound (A) of the present invention is obtained by reacting a phenolic epoxy group with a hydrocarbon group having a specific structure to give a reactive group to the phenolic epoxy resin (a) having a characteristic skeleton represented by the following formula (1) (B) having at least one polymerizable ethylenic unsaturated group and at least one carboxyl group in the molecule and a compound (c) having at least one hydroxyl group and at least one carboxyl group in one molecule. That is, the characteristics of the present invention are exhibited by introducing an ethylenically unsaturated group and a hydroxyl group into the molecular chain at the same time by epoxycarboxylation.

Figure 112010003132778-pct00005
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본 발명에 이용되는 일반식 (1)로 표시되는 에폭시 수지(a)는 페놀형 에폭시기와 R2로 표시되는 탄소수 7~16의 2가 다환식 탄화수소기 또는 탄소수 7~18의 아랄킬렌기의 탄화수소기의 반복 골격에 의한 페놀형 에폭시 수지인 것이 특징이다.Epoxy resin (a) represented by the general formula (1) used in the present invention is a two-carbon number 7-16 represented by phenol type epoxy group and R 2, a cyclic hydrocarbon group or aralkyl group hydrocarbon of a carbon number of 7-18 Is a phenol-type epoxy resin formed by repeating skeletons of the formula (I).

상기 식 중, R1은 서로 동일 또는 상이하게 수소 원자, 할로겐 원자 또는 탄소수 1~4의 탄화수소기를 나타낸다. 여기서 할로겐 원자는 불소 원자, 염소 원자, 브롬 원자, 요오드 원자를 나타낸다. 또한 탄소수 1~4의 탄화수소기는 메틸기, 에틸기, 비닐기, n-프로필기, i-프로필기, 프로페닐기, n-부틸기, i-부틸기, s-부틸기, t-부틸기, 부테닐기 등의 포화 및 불포화 탄화수소기를 나타낸다. In the formula, R 1 represents the same or different hydrogen atom, halogen atom or hydrocarbon group of 1 to 4 carbon atoms. Here, the halogen atom represents a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, or an iodine atom. The hydrocarbon group having 1 to 4 carbon atoms is preferably a methyl group, an ethyl group, a vinyl group, an n-propyl group, an i-propyl group, a propenyl group, Or a saturated or unsaturated hydrocarbon group.

R2는 탄소수 7~16의 2가 다환식 탄화수소기 또는 탄소수 7~18의 아랄킬렌기를 나타낸다. 탄소수 7~16의 2가 다환식 탄화수소기는 비시클로[2,2,1]헵탄디일기, 비시클로[2,2,2]옥탄디일기, 옥타히드로펜탈렌디일기, 데카히드로나프탈렌디일기, 테트라히드로디시클로펜타디엔디일기, 테트라히드로디시클로헥사디엔디일기를 들 수 있다. 이 중, 테트라히드로디시클로펜타디엔디일기가 적합하게 이용된다. R 2 represents a divalent polycyclic hydrocarbon group having 7 to 16 carbon atoms or an aralkylene group having 7 to 18 carbon atoms. The divalent polycyclic hydrocarbon group having 7 to 16 carbon atoms is preferably a bicyclo [2,2,1] heptanediyl group, a bicyclo [2,2,2] octanediyl group, an octahydronaphthalenediyl group, a decahydronaphthalenediyl group, a tetra Hydroiodicycloheptadienediyl group, tetrahydrodicyclopentadienediyl group, and tetrahydrodicyclopentadienediyl group. Among them, a tetrahydrodicyclopentadienediyl group is preferably used.

또한 탄소수 7~18의 아랄킬렌기는 페닐렌비스메틸렌기, 페닐렌비스에틸렌기, 비페닐렌비스메틸렌기, 비페닐렌비스에틸렌기, 나프틸렌비스메틸렌기, 안트라센비스메틸렌기, 페난트렌비스메틸렌기, 피렌비스메틸렌기 등을 들 수 있다. 이 중, 페닐렌비스메틸렌기, 비페닐렌비스메틸렌기가 적합하게 이용된다. The aralkylene group having 7 to 18 carbon atoms is preferably a phenylene group, a phenylene group, an naphthylene group, a naphthylene group, an naphthylene group, an anthracene group, Group, a pyrenebis methylene group, and the like. Among them, a phenylene bismethylene group and a biphenylene bismethylene group are suitably used.

또한 일반식(1) 중, m은 1~4의 정수를 나타내고, 도입되는 관능기 수를 나타낸다. n은 평균치로 1~10의 정수를 각각 나타내고, 바람직하게는 1~6이다. n의 값이 10, 바람직하게는 6보다 작은 경우 적합한 점도 범위가 된다. 또한 n의 평균치는 평균 반복수를 나타내고, 겔투과 크로마토그래피(GPC)에 의한 측정치로부터 산출할 수 있다. In the general formula (1), m represents an integer of 1 to 4 and represents the number of functional groups introduced. n represents an average value of an integer of 1 to 10, preferably 1 to 6, When n is less than 10, preferably less than 6, a suitable viscosity range is obtained. The average value of n represents the average number of repeats and can be calculated from the measurement value by gel permeation chromatography (GPC).

본 발명에 이용되는 에폭시 수지(a)는 바람직하게는 하기와 같이 일반식(2)로 표시되는 특징적인 비페닐 골격을 갖는 에폭시 수지를 이용할 수 있다.The epoxy resin (a) used in the present invention may preferably be an epoxy resin having a characteristic biphenyl skeleton represented by the general formula (2) as described below.

Figure 112010003132778-pct00006
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상기 식 중, R3는 서로 동일 또는 상이하게 수소 원자, 할로겐 원자 또는 탄소수 1~4의 탄화수소기를 나타낸다. 할로겐 원자는 불소 원자, 염소 원자, 브롬 원자, 요오드 원자를 나타낸다. 또한 o는 1~4의 정수를 나타내고, p는 평균치로 1~10의 정수를 각각 나타내며, 바람직하게는 1~6이다. p의 값이 10, 바람직하게는 6보다 작은 경우 적합한 점도 범위가 된다. In the formula, R 3 represents the same or different hydrogen atom, halogen atom or hydrocarbon group of 1 to 4 carbon atoms. The halogen atom represents a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, or an iodine atom. O represents an integer of 1 to 4, and p represents an average value of an integer of 1 to 10, preferably 1 to 6, When the value of p is less than 10, preferably less than 6, a suitable viscosity range is obtained.

일반식(2)로 표시되는 에폭시 수지(a) 중, R3가 모두 수소 원자인 것이 저가로 입수가능하여 바람직하다. 일반적으로는 일본 화약에서, NC-3000 시리즈로서 시판품을 입수할 수 있다. NC-3000 시리즈는 상기 식 중, R3가 모두 수소 원자이며, 또한 p는 평균치로 1~10의 정수를 각각 나타낸다. 본 발명에서는 시리즈의 그레이드 중에서 적합한 것을 적당히 선택할 수 있다. Among the epoxy resins (a) represented by the general formula (2), it is preferable that all of R 3 are hydrogen atoms at a low cost. In general, a commercially available product is available as a NC-3000 series in Japanese explosives. In the NC-3000 series, R 3 is a hydrogen atom and p is an average of an integer of 1 to 10, respectively. In the present invention, a suitable one among the grades of the series can be appropriately selected.

또한 본 발명에 이용되는 에폭시 수지(a)는 바람직하게는 일반식(3)으로 표시되는 페놀 아랄킬형 에폭시 수지를 이용할 수 있다.The epoxy resin (a) used in the present invention is preferably a phenol aralkyl type epoxy resin represented by the general formula (3).

Figure 112010003132778-pct00007
Figure 112010003132778-pct00007

상기 식 중, R4는 서로 동일 또는 상이하게 수소 원자, 할로겐 원자 또는 탄소수 1~4의 탄화수소기를 나타낸다. 또한 q는 치환수이며 1~4의 정수를, 또한 r은 평균치로 1~10의 정수를 각각 나타낸다. In the formula, R 4 are the same or different and each represents a hydrogen atom, a halogen atom or a hydrocarbon group of 1 to 4 carbon atoms. Q is a substitution number and is an integer of 1 to 4, and r is an average value of an integer of 1 to 10, respectively.

일반식(3)으로 표시되는 에폭시 수지 중, R4가 모두 수소 원자 또는 메틸기인 것이 바람직하다. 일반식(3)으로 표시되는 에폭시 수지는 일반적으로 일본 화약에서 NC-2000 시리즈로 입수 가능하다. NC-2000 시리즈는 상기 식 중, R4가 모두 수소 원자이며, 또한 r이 평균치로 1~10의 정수이다. 본 발명에서는 시리즈의 그레이드 중에서 적합한 것을 적당히 선택할 수 있다. Among the epoxy resins represented by the general formula (3), it is preferable that R 4 is a hydrogen atom or a methyl group. The epoxy resin represented by the general formula (3) is generally available as a NC-2000 series in Japanese explosives. In the NC-2000 series, R 4 is a hydrogen atom and r is an integer of 1 to 10 on average. In the present invention, a suitable one among the grades of the series can be appropriately selected.

또한 본 발명에 이용되는 에폭시 수지(a)는 바람직하게는 일반식(4)로 표시되는 다환식 탄화수소기를 갖는 에폭시 수지를 이용할 수 있다. The epoxy resin (a) used in the present invention is preferably an epoxy resin having a polycyclic hydrocarbon group represented by the general formula (4).

Figure 112010003132778-pct00008
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상기 식 중, R5는 서로 동일 또는 상이하게 수소 원자, 할로겐 원자 또는 탄소수 1~4의 탄화수소기를, s는 치환수인 1~4의 정수를, 또한 t는 평균치로 1~10의 정수를 각각 나타낸다. In the formula, R 5 is the same or different and is a hydrogen atom, a halogen atom or a hydrocarbon group of 1 to 4 carbon atoms, s is an integer of 1 to 4 which is a substitution number, and t is an integer of 1 to 10 .

그 중에서, R5가 모두 수소 원자인 화합물 또는 메틸기인 화합물이 저가로 입수 가능하여 바람직하다. R5가 모두 수소 원자이며, t가 평균치로 1~10의 정수를 나타내는 화합물은 일본 화약(주)으로부터 XD-1000 시리즈로서 입수 가능하다. 본 발명에서는 시리즈의 그레이드 중에서 적합한 화합물을 적당히 선택할 수 있다. Among them, a compound in which all of R < 5 > are hydrogen atoms or a compound in which R < 5 > R 5 are all hydrogen atoms, and t represents an integer of 1 to 10 on average, is available as XD-1000 series from Japan Chemical Industry Co., Ltd. In the present invention, suitable compounds among the grades of the series can be appropriately selected.

본 발명에 이용되는 1 분자 중에 1개 이상의 중합 가능한 에틸렌성 불포화기와 1개 이상의 카르복시기를 겸비하는 화합물(b)는 활성 에너지선에의 반응성을 부여하기 위해 반응시키는 것이다. 이들에는 모노카르복시산 화합물, 폴리카르복시산 화합물을 들 수 있다. The compound (b) having at least one polymerizable ethylenically unsaturated group and at least one carboxyl group in the molecule used in the present invention is reacted to give reactivity to an active energy ray. These include monocarboxylic acid compounds and polycarboxylic acid compounds.

1 분자 중에 카르복시기를 1개 포함한 모노카르복시산 화합물로는 예컨대(메타)아크릴산류나 크로톤산, α-시아노 계피산, 계피산 또는 포화 또는 불포화 이염기산과 불포화기 함유 모노글리시딜 화합물의 반응물을 들 수 있다. 상기에서 아크릴산류로는 예컨대 (메타)아크릴산, β-스티릴아크릴산, β-푸르푸릴아크릴산, (메타)아크릴산 2량체, 포화 또는 불포화 이염기산 무수물과 1 분자 중에 1개의 수산기를 갖는 (메타)아크릴레이트 유도체와의 당몰 반응물인 반에스테르류, 포화 또는 불포화 이염기산과 모노글리시딜(메타)아크릴레이트 유도체류와의 당몰 반응물인 반에스테르류 등을 들 수 있다. Examples of the monocarboxylic acid compound having one carboxyl group in one molecule include (meth) acrylic acid, crotonic acid,? -Cyano cinnamic acid, cinnamic acid, or a reaction product of a saturated or unsaturated dibasic acid and a monoglycidyl compound containing an unsaturated group . Examples of the acrylic acids include (meth) acrylic acid,? -Styryl acrylic acid,? -Furfuryl acrylic acid, (meth) acrylic acid dimer, saturated or unsaturated dibasic acid anhydride, and Semi-esters, which are reaction products of mono-glycidyl (meth) acrylate with unsaturated dicarboxylic acids and mono-glycidyl (meth) acrylate derivatives, and the like.

또한 1 분자 중에 카르복시기를 복수개 갖는 폴리카르복시산 화합물로는 1 분자 중에 복수의 수산기를 갖는 (메타)아크릴레이트 유도체와 이염기산 무수물과의 당몰 반응물인 반에스테르류, 포화 또는 불포화 이염기산과 복수의 에폭시기를 갖는 글리시딜(메타)아크릴레이트 유도체류와의 당몰 반응물인 반에스테르류 등을 들 수 있다. Examples of the polycarboxylic acid compound having a plurality of carboxyl groups in one molecule include half esters, which are monovalent reactants of a (meth) acrylate derivative having a plurality of hydroxyl groups in one molecule with a dibasic acid anhydride, a saturated or unsaturated dibasic acid and a plurality of epoxy groups And half esters, which are the reaction products of the glycidyl (meth) acrylate with a noble metal moiety, and the like.

이 중, 가장 바람직하게는 활성 에너지선 경화형 수지 조성물로 만들었을 때의 감도 면에서 (메타)아크릴산, (메타)아크릴산과 ε-카프로락톤과의 반응 생성물 또는 계피산을 들 수 있다. Of these, the most preferable ones are reaction products of (meth) acrylic acid, (meth) acrylic acid and? -Caprolactone, or cinnamic acid in terms of sensitivity when made into an active energy ray curable resin composition.

1 분자 중에 1개 이상의 중합 가능한 에틸렌성 불포화기와 1개 이상의 카르복시기를 겸비하는 화합물(b)는 화합물 중에 수산기를 갖지 않는 것이 바람직하다. The compound (b) having at least one polymerizable ethylenic unsaturated group and at least one carboxyl group in one molecule is preferably free of a hydroxyl group in the compound.

본 발명에 이용되는 1 분자 중에 1개 이상의 수산기와 1개 이상의 카르복시기를 겸비하는 화합물(c)는 카르복실레이트 화합물 중에 수산기를 도입하는 것을 목적으로 반응시키는 것이다. 이들에는 1 분자 중에 1개의 수산기와 1개의 카르복시기를 겸비하는 화합물, 1 분자 중에 2개 이상의 수산기와 1개의 카르복시기를 겸비하는 화합물, 1 분자 중에 1개 이상의 수산기와 2개 이상의 카르복시기를 겸비하는 화합물이 있다. The compound (c) having at least one hydroxyl group and at least one carboxyl group in the molecule used in the present invention reacts for the purpose of introducing a hydroxyl group into the carboxylate compound. These include a compound having one hydroxyl group and one carboxyl group in one molecule, a compound having two or more hydroxyl groups and one carboxyl group in one molecule, a compound having at least one hydroxyl group and two or more carboxyl groups in one molecule have.

1 분자 중에 1개의 수산기와 1개의 카르복시기를 겸비하는 화합물로는 예컨대 히드록시 프로피온산, 히드록시 부탄산, 히드록시 스테아린산 등을 들 수 있다. Examples of the compound having one hydroxyl group and one carboxyl group in one molecule include hydroxypropionic acid, hydroxybutanoic acid, and hydroxystearic acid.

또한 1 분자 중에 2개 이상의 수산기와 1개의 카르복시기를 겸비하는 화합물로는 디메틸올초산, 디메틸올르프로피온산, 디메틸올부탄산 등을 들 수 있다. Examples of the compound having two or more hydroxyl groups and one carboxyl group in one molecule include dimethylol acetic acid, dimethylol propionic acid, dimethylolbutanoic acid and the like.

1 분자 중에 1개 이상의 수산기와 2개 이상의 카르복시기를 겸비하는 화합물로는 히드록시프탈산 등을 들 수 있다. Examples of the compound having at least one hydroxyl group and at least two carboxyl groups in one molecule include hydroxyphthalic acid and the like.

이 중, 수산기는 1 분자 중에 2개 이상 포함되는 것이 본 발명의 효과를 고려할 때 바람직하다. 또한 카르복시기는 1 분자중 1개인 것이 카르복실레이트화 반응의 안정성을 고려하면 바람직하다. 가장 바람직하게는 1 분자 중에 2개의 수산기와 1개의 카르복시기를 갖는 것이 바람직하다. 원재료의 입수를 고려하면 디메틸올프로피온산과 디메틸올부탄산이 특히 매우 적합하다. Among them, it is preferable that two or more hydroxyl groups are contained in one molecule in consideration of the effect of the present invention. The carboxyl group is preferably one in one molecule in consideration of the stability of the carboxylation reaction. Most preferably two hydroxyl groups and one carboxy group in one molecule. Dimethylolpropionic acid and dimethylolbutanoic acid are particularly suitable considering the raw material availability.

1 분자 중에 1개 이상의 수산기와 1개 이상의 카르복시기를 겸비하는 화합물(c)는 화합물 중에 중합 가능한 에틸렌성 불포화기를 갖지 않는 것이 바람직하다.The compound (c) having at least one hydroxyl group and at least one carboxyl group in one molecule preferably has no ethylenic unsaturated group polymerizable in the compound.

이 중, 상기 에폭시 수지(a)와 2 종류의 카르복시산 화합물(b) 및 (c)의 반응의 안정성을 고려하면, (b) 및 (c)는 모노카르복시산인 것이 바람직하고, 모노카르복시산과 폴리카르복시산을 병용하는 경우도, 모노카르복시산의 총계 몰량/폴리카르복시산의 총계 몰량으로 표현되는 값이 15 이상인 것이 바람직하다. Among them, in consideration of the stability of the reaction between the epoxy resin (a) and the two types of carboxylic acid compounds (b) and (c), (b) and (c) are preferably monocarboxylic acids, and monocarboxylic acids and polycarboxylic acids , It is preferable that the value represented by the total molar amount of the monocarboxylic acid / the total molar amount of the polycarboxylic acid is 15 or more.

이 반응에서 에폭시 수지(a)와 카르복시산 화합물(b) 및 (c)의 카르복시산의 총계의 주입 비율은 용도에 따라 적당히 변경되어야 한다. 즉, 모든 에폭시기를 카르복실레이트화 한 경우, 미반응의 에폭시기가 잔존하지 않기 때문에 반응성 카르복실레이트 화합물로서의 보존 안정성이 높다. 이 경우, 도입한 이중 결합에 의한 반응성만을 이용하게 된다. In this reaction, the injection ratio of the total amount of the carboxylic acid of the epoxy resin (a) and the carboxylic acid compounds (b) and (c) should be appropriately changed depending on the application. That is, when all the epoxy groups are carboxylated, unreacted epoxy groups do not remain, so that the storage stability of the reactive carboxylate compound is high. In this case, only the reactivity due to the introduced double bond is used.

한편, 카르복시산 화합물(b) 및 (c)의 주입량을 감량하여 미반응 잔존 에폭시기를 고의로 잔류시키는 것에 의해, 도입한 불포화 결합에 의한 반응성과 잔존하는 에폭시기에 의한 반응, 예컨대 광양이온 촉매에 의한 중합 반응이나 열중합 반응을 복합적으로 이용하는 것도 가능하다. 그러나 이 경우 반응성 카르복실레이트 화합물의 보존 및 제조 조건의 검토에 주의를 기울여야 한다. On the other hand, by reducing the amount of the carboxylic acid compounds (b) and (c) intentionally left unreacted residual epoxy groups, the reactivity by the introduced unsaturated bonds and the reaction by the remaining epoxy groups, Or a thermal polymerization reaction may be used in combination. In this case, however, care must be taken to examine the preservation and production conditions of the reactive carboxylate compound.

반응성 에폭시기가 잔존하지 않는 반응성 에폭시카르복실레이트 화합물(A)를 제조하는 경우, 카르복시산 화합물(b) 및 (c)의 총계가 상기 에폭시 수지(a)의 에폭시기 1당량에 대해 90~120당량%인 것이 바람직하다. 이 범위이면 비교적 안정적인 조건에서의 제조가 가능하다. 이 보다 카르복시산 화합물의 주입량이 많은 경우, 과잉의 카르복시산 화합물(b)가 잔존하기 때문에 바람직하지 않다. (B) and (c) is 90 to 120 equivalent% based on 1 equivalent of the epoxy group of the epoxy resin (a) when the reactive epoxycarboxylate compound (A) . Within this range, production under relatively stable conditions is possible. When the amount of the carboxylic acid compound to be injected is larger than this, the excess carboxylic acid compound (b) remains, which is not preferable.

또한 에폭시기를 고의로 잔류시키는 경우, 카르복시산 화합물(b) 및 (c)의 총계가 상기 에폭시 수지(a) 1당량에 대해 20~90당량%인 것이 바람직하다. 이 범위를 벗어나는 경우, 복합 경화의 효과가 떨어진다. 물론 이 경우, 반응 중의 겔화나 카르복실레이트 화합물(A)의 시간 경과 안정성에 대해서 충분한 주의가 필요하다. When the epoxy group is intentionally left to remain, the total amount of the carboxylic acid compounds (b) and (c) is preferably 20 to 90 equivalent% based on 1 equivalent of the epoxy resin (a). Outside this range, the effect of complex curing is reduced. Of course, in this case, it is necessary to pay sufficient attention to the gelation during the reaction and the stability with time of the carboxylate compound (A).

1개 이상의 중합 가능한 에틸렌성 불포화기와 1개 이상의 카르복시기를 겸비하는 화합물(b)과 1개 이상의 수산기와 1개 이상의 카르복시기를 겸비하는 화합물(c)의 사용 비율은 카르복시기의 몰비에 대하여 (b):(c)가 9:1~1:9 또는 4:6~8:2의 범위가 바람직하다. 이 범위이면 (b)가 너무 적은 경우의 감도 저하를 막을 수 있고 또한 (c)가 너무 적은 경우의 (c)의 효과가 희박하게 되는 것을 막을 수 있다. The ratio of the compound (b) having at least one polymerizable ethylenic unsaturated group and at least one carboxyl group and the compound (c) having at least one hydroxyl group and at least one carboxyl group is preferably selected from the group consisting of (b) (c) is in the range of 9: 1 to 1: 9 or 4: 6 to 8: 2. Within this range, it is possible to prevent a decrease in sensitivity when the amount of (b) is too small, and to prevent the effect of (c) from becoming less effective when the amount of (c) is too small.

본 카르복실레이트화 반응은 무용제로 반응시킬 수도 있고 또는 용제로 희석해 반응시킬 수도 있다. 여기서 이용할 수 있는 용제로는 카르복실레이트화 반응에 불활성인 용제이면 특별히 한정되지는 않는다. The carboxylation reaction may be carried out in the absence of a solvent or may be carried out by dilution with a solvent. The solvent usable here is not particularly limited as long as it is a solvent inert to the carboxylation reaction.

바람직한 용제의 사용량은 얻어지는 수지의 점도나 용도에 의해 적당히 조정되어야 하지만, 바람직하게는 고형분으로서 90~30질량%, 보다 바람직하게는 80~50질량%가 되도록 용제를 이용한다. The amount of the solvent to be used is appropriately adjusted depending on the viscosity and the purpose of the resin to be obtained, but a solvent is preferably used so that the solid content is 90 to 30 mass%, more preferably 80 to 50 mass%.

상기 용제로 사용할 수 있는 것을 구체적으로 예시하면 예컨대 톨루엔, 크실렌, 에틸벤젠, 테트라메틸벤젠 등의 방향족계 탄화수소 용제, 헥산, 옥탄, 데칸 등의 지방족계 탄화수소 용제 및 그의 혼합물인 석유 에테르, 화이트 가솔린, 솔벤트 나프타 등을 들 수 있다. Specific examples of the solvent include aromatic hydrocarbon solvents such as toluene, xylene, ethylbenzene and tetramethylbenzene, aliphatic hydrocarbon solvents such as hexane, octane and decane, and mixtures thereof, petroleum ether, white gasoline, And solvent naphtha.

또한 에스테르계 용제로서 초산에틸, 초산프로필, 초산부틸 등의 알킬아세테이트류, γ-부틸올락톤 등의 환상 에스테르류, 에틸렌글리콜모노메틸에테르아세테이트, 디에틸렌글리콜모노메틸에테르모노아세테이트, 디에틸렌글리콜모노에틸에테르모노아세테이트, 트리에틸렌글리콜모노에틸에테르모노아세테이트, 디에틸렌글리콜모노부틸에테르모노아세테이트, 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트, 부틸렌글리콜모노메틸에테르아세테이트 등의 모노 또는 폴리 알킬렌글리콜모노알킬에테르모노아세테이트류, 글루타르산디알킬, 숙신산디알킬, 아디핀산디알킬 등의 폴리카르복시산알킬에스테르류 등을 들 수 있다. Examples of the ester solvent include alkyl acetates such as ethyl acetate, propyl acetate and butyl acetate, cyclic esters such as? -Butylolactone, ethylene glycol monomethyl ether acetate, diethylene glycol monomethyl ether monoacetate, diethylene glycol mono Mono or polyalkylene glycol monoalkyl ether monoacetates such as ethyl ether monoacetate, triethylene glycol monoethyl ether monoacetate, diethylene glycol monobutyl ether monoacetate, propylene glycol monomethyl ether acetate, and butylene glycol monomethyl ether acetate; Polycarboxylic acid alkyl esters such as diethyl glutarate, dialkyl succinate, dialkyl adipate and the like.

또한 에테르계 용제로서 디에틸에테르, 에틸부틸에테르 등의 알킬에테르류, 에틸렌글리콜디메틸에테르, 에틸렌글리콜디에틸에테르, 디프로필렌글리콜디메틸에테르, 디프로필렌글리콜디에틸에테르, 트리에틸렌글리콜디메틸에테르, 트리에틸렌 글리콜디에틸에테르 등의 글리콜에테르류, 테트라히드로푸란 등의 환상 에테르류 등을 들 수 있다. Examples of the ether solvent include alkyl ethers such as diethyl ether and ethylbutyl ether; ketones such as ethylene glycol dimethyl ether, ethylene glycol diethyl ether, dipropylene glycol dimethyl ether, dipropylene glycol diethyl ether, triethylene glycol dimethyl ether, Glycol ethers such as glycol diethyl ether, and cyclic ethers such as tetrahydrofuran.

또한 케톤계 용제로서 아세톤, 메틸에틸케톤, 시클로헥사논, 이소포론 등을 들 수 있다. Examples of the ketone solvent include acetone, methyl ethyl ketone, cyclohexanone, and isophorone.

이 외에 후술하는 (A), (B) 이외의 반응성 화합물(C) 등의 단독 또는 혼합 유기 용매 중에서 실시할 수 있다. 이 경우, 경화형 조성물로 사용하였을 경우, 직접 조성물로 이용할 수 있으므로 바람직하다. And the reactive compound (C) other than (A) and (B) to be described later. In this case, when the composition is used as a curable composition, it can be used directly as a composition, which is preferable.

반응시에, 반응을 촉진시키기 위해서 촉매를 사용하는 것이 바람직하고, 촉매의 사용량은 반응물, 즉 상기 에폭시 화합물(a), 화합물(b), 화합물(c) 및 경우에 따라 용제 기타 물질을 부가한 반응물의 총량에 대해서 0.1~10질량%이다. 이때 반응 온도는 60~150℃이고, 또한 반응 시간은 바람직하게는 5~60시간이다. 사용할 수 있는 촉매의 구체적인 예로는 예컨대 트리에틸아민, 벤질디메틸아민, 트리에틸암모늄클로라이드, 벤질트리메틸암모늄브로마이드, 벤질트리메틸암모늄아이오다이드, 트리페닐포스핀, 트리페닐스틸빈, 메틸트리페닐스틸빈, 옥탄산크롬, 옥탄산지르코늄 등 기존 일반의 염기성 촉매 등을 들 수 있다. In the reaction, it is preferable to use a catalyst in order to accelerate the reaction. The amount of the catalyst to be used is preferably in the range of 1 to 20 parts by weight per 100 parts by weight of the epoxy compound (a), the compound (b) Based on the total amount of the reactants. The reaction temperature is 60 to 150 ° C, and the reaction time is preferably 5 to 60 hours. Specific examples of the catalyst that can be used include triethylamine, benzyldimethylamine, triethylammonium chloride, benzyltrimethylammonium bromide, benzyltrimethylammonium iodide, triphenylphosphine, triphenylstilbine, methyltriphenylstilbene, Chromium octanoate, zirconium octanoate, and the like.

또한 열중합 금지제로서 하이드로퀴논모노메틸에테르, 2-메틸하이드로퀴논, 하이드로퀴논, 디페닐피크릴히드라진, 디페닐아민, 3,5-디-t-부틸-4-히드록시톨루엔 등을 사용하는 것이 바람직하다. In addition, the use of hydroquinone monomethyl ether, 2-methylhydroquinone, hydroquinone, diphenyl picrylhydrazine, diphenylamine, 3,5-di-t-butyl-4-hydroxytoluene, .

반응은 적당히 샘플링하면서 샘플의 산가가 5mgKOH/g 이하, 바람직하게는 2mgKOH/g 이하가 된 시점을 종점으로 한다. The reaction is terminated when the acid value of the sample becomes 5 mgKOH / g or less, preferably 2 mgKOH / g or less while appropriately sampling.

이렇게 하여 얻어지는 반응성 카르복실레이트 화합물(A)의 바람직한 분자량 범위는 GPC에서 폴리스티렌 환산 중량 평균 분자량이 1,000에서 30,000의 범위, 보다 바람직하게는 1,500에서 20,000이다. The preferred molecular weight range of the reactive carboxylate compound (A) thus obtained is in the range of 1,000 to 30,000, more preferably 1,500 to 20,000 in terms of polystyrene-equivalent weight average molecular weight in GPC.

이 분자량보다 작은 경우에는 경화물의 강인성이 충분히 발휘되지 않고, 또한 이보다 너무 큰 경우, 점도가 높아져 도공 등이 곤란해진다. If the molecular weight is smaller than the molecular weight, the hardness of the cured product is not sufficiently exhibited. If the molecular weight is too large, the viscosity becomes high and the coating becomes difficult.

다음, 산부가 공정에 의해 얻어지는 본 발명의 반응성 폴리카르복시산 화합물(B)에 대해 설명한다. 산부가 공정은 이전 공정에서 얻어지는 반응성 카르복실레이트 화합물(A)에 필요에 따라 카르복시기를 도입하여 반응성 폴리카르복시산 화합물(B)를 얻는 것을 목적으로 하여 수행된다. 카르복시기는 예컨대 레지스트 패터닝 등이 필요하게 되는 용도에서 활성 에너지선 비조사부에 알칼리수로의 가용성을 부여한다, 또한 금속, 무기물 등으로의 밀착성을 부여시키는 등의 목적으로 도입된다. Next, the reactive polycarboxylic acid compound (B) of the present invention obtained by the acid part process will be explained. The acid part treatment is carried out for the purpose of obtaining a reactive polycarboxylic acid compound (B) by introducing a carboxyl group into the reactive carboxylate compound (A) obtained in the previous step, if necessary. Carboxy groups are introduced for the purpose of imparting solubility to alkaline water to the active energy beam unexposed sites in applications where resist patterning or the like is required, and for imparting adhesion to metals, minerals, and the like.

구체적으로는, 에폭시카르복실레이트화 반응에 의해 생긴 수산기에 다염기산 무수물(d)를 부가 반응시키는 것에 의해 에스테르 결합을 통해 카르복시기를 도입한다. Specifically, a carboxyl group is introduced through an ester bond by subjecting a hydroxyl group formed by an epoxycarboxylation reaction to an addition reaction of a polybasic acid anhydride (d).

다염기산 무수물(d)의 구체적인 예로는 예컨대 1 분자 중에 산무수물 구조를 갖는 화합물이면 모두 이용할 수 있지만, 알칼리 수용액 현상성, 내열성, 가수분해 내성 등이 뛰어난 무수 숙신산, 무수 프탈산, 테트라히드로 무수 프탈산, 헥사히드로 무수 프탈산, 무수 이타콘산, 3-메틸테트라히드로 무수 프탈산, 4-메틸헥사히드로 무수 프탈산, 무수 트리멜리트산 또는 무수 말레인산이 특히 바람직하다. Specific examples of the polybasic acid anhydride (d) can be any compound having an acid anhydride structure in a molecule, but examples thereof include anhydrous succinic acid, anhydrous phthalic acid, tetrahydrophthalic anhydride, hexa Particularly preferred are phthalic anhydride, itaconic anhydride, 3-methyltetrahydrophthalic anhydride, 4-methylhexahydrophthalic anhydride, trimellitic anhydride or maleic anhydride.

다염기산 무수물(d)를 부가시키는 반응은 상기 카르복실레이트화 반응액에 다염기산 무수물(d)를 부가하는 것에 의해 실시할 수 있다. 첨가량은 용도에 따라 적당히 변경되어야 한다. The reaction of adding the polybasic acid anhydride (d) can be carried out by adding the polybasic acid anhydride (d) to the carboxylation reaction solution. The addition amount should be appropriately changed depending on the application.

그러나 본 발명의 폴리카르복시산 화합물(B)를 알칼리 현상형의 레지스트로 이용하고자 하는 경우, 다염기산 무수물(d)를 최종적으로 얻어지는 반응성 폴리카르복시산 화합물(B)의 고형분 산가(JIS K5601-2-1:1999에 준거)가 30~120mg·KOH/g, 보다 바람직하게는 40~105mg·KOH/g가 되는 계산치를 주입하는 것이 바람직하다. 이때 고형분 산가가 이 범위인 경우, 본 발명의 활성 에너지선 경화형 수지 조성물의 알칼리 수용액 현상성이 양호한 현상성을 나타낸다. 즉, 양호한 패터닝성 및 과현상에 대한 관리폭도 넓고 또한 과잉 산무수물이 잔류하지도 않는다. However, when the polycarboxylic acid compound (B) of the present invention is to be used as an alkali developing type resist, the solid acid value of the reactive polycarboxylic acid compound (B) finally obtained from the polybasic acid anhydride (d) (JIS K5601-2-1: 1999 Is in the range of 30 to 120 mg · KOH / g, and more preferably 40 to 105 mg · KOH / g. When the solid acid value is in this range, the developability of the aqueous alkali solution of the active energy ray-curable resin composition of the present invention is satisfactory. That is, the patterning property and the phenomenon of overexposure are wide and the excess acid anhydride does not remain.

반응시에, 반응을 촉진시키기 위해서 촉매를 사용하는 것이 바람직하고, 촉매의 사용량은 반응물, 즉 상기 에폭시 화합물(a), 카르복시산 화합물(b) 및 (c)로부터 얻어진 카르복실레이트 화합물(A) 및 다염기산 무수물(d) 경우에 따라 용제 기타 물질을 더한 반응물의 총량에 대해서 0.1~10질량%이다. 이때 반응 온도는 60~150℃, 또한 반응 시간은 바람직하게는 5~60시간이다. 사용할 수 있는 촉매의 구체적인 예로는 예컨대 트리에틸아민, 벤질디메틸아민, 트리에틸암모늄클로라이드, 벤질트리메틸암모늄브로마이드, 벤질트리메틸암모늄아이오다이드, 트리페닐포스핀, 트리페닐스틸빈, 메틸트리페닐스틸빈, 옥탄산크롬, 옥탄산지르코늄 등을 들 수 있다. In the reaction, it is preferable to use a catalyst in order to accelerate the reaction. The amount of the catalyst to be used is not particularly limited, and the amount of the catalyst to be used may be appropriately selected depending on the kind of the reaction product, namely the carboxylate compound (A) obtained from the epoxy compound (a), the carboxylic acid compound (b) (D) 0.1 to 10% by mass, based on the total amount of reactants added to the solvent and other substances depending on the case. At this time, the reaction temperature is 60 to 150 ° C, and the reaction time is preferably 5 to 60 hours. Specific examples of the catalyst that can be used include triethylamine, benzyldimethylamine, triethylammonium chloride, benzyltrimethylammonium bromide, benzyltrimethylammonium iodide, triphenylphosphine, triphenylstilbine, methyltriphenylstilbene, Chromium octanoate, zirconium octanoate, and the like.

본 산부가 반응은 무용제로 반응시킬 수도 있고 또는 용제로 희석하여 반응시킬 수도 있다. 여기서 이용할 수 있는 용제로는 산부가 반응에 대해서 불활성인 용제이면 특별히 한정되지 않는다. 구체적으로, 이전 공정의 카르복실레이트화 반응에서 예시한 용매와 동일한 것을 사용할 수 있다. 이전 공정의 카르복실레이트화 반응에서 용제를 이용하여 제조했을 경우, 양 반응에 불활성인 것을 조건으로, 용제를 제외함이 없이 직접 다음 공정인 산부가 반응에 제공할 수도 있다. The acid part of the acid part may be reacted with a solvent or diluted with a solvent. The solvent which can be used here is not particularly limited as long as the acid part is a solvent inert to the reaction. Specifically, the same solvent as the one exemplified in the carboxylation reaction of the previous step can be used. When the solvent is prepared by using a solvent in the carboxylation reaction of the previous step, the acid may be directly supplied to the reaction by the next step without removing the solvent, provided that the reaction is inert to both reactions.

바람직한 용제의 사용량은 얻어지는 수지의 점도나 용도에 의해 적당히 조정되어야 하지만, 바람직하게는 고형분으로서 90~30질량%, 보다 바람직하게는 80~50질량%가 되도록 용제를 이용한다. The amount of the solvent to be used is appropriately adjusted depending on the viscosity and the purpose of the resin to be obtained, but a solvent is preferably used so that the solid content is 90 to 30 mass%, more preferably 80 to 50 mass%.

기타, 후기하는 반응성 화합물(C) 등의 단독 또는 혼합 유기용매 중에서 실시할 수 있다. 이 경우, 경화형 조성물로서 사용했을 경우, 직접 조성물로서 이용할 수 있으므로 바람직하다. And other reactive compounds (C) described later, and the like. In this case, when the composition is used as a curable composition, it is preferable because it can be used as a direct composition.

또한 열중합 금지제 등은 상기 카르복실레이트화 반응에서의 예시와 동일한 것을 사용하는 것이 바람직하다. The heat polymerization inhibitor and the like are preferably the same as those exemplified in the above carboxylation reaction.

본 반응은 적당히 샘플링하면서 반응물의 산가가 설정한 산가의 플러스 마이너스 10%의 범위가 된 점을 종점으로 한다. This reaction is defined as the point where the acid value of the reactant is in the range of plus or minus 10% of the set acid value while appropriately sampling.

본 발명의 활성 에너지선 경화형 수지 조성물은 에폭시카르복실레이트 화합물(A) 및/또는 폴리카르복시산 화합물(B)를 포함한다. 에폭시카르복실레이트 화합물(A) 및/또는 폴리카르복시산 화합물(B)는 용도에 따라 적당히 나누어 사용할 수 있다. 예컨대, 솔더레지스트 용도에서도 현상함이 없이 인쇄법에 의해 패턴을 성형하는 경우나 용제 등에 의해 미반응 부위를 유거시키는 소위, 용제 현상형의 경우에는 에폭시카르복실레이트 화합물(A)를 이용하면 좋고, 알칼리수에 의해 현상시키는 경우에는 폴리카르복시산 화합물(B)를 이용하면 좋다. 일반적으로 알칼리수 현상형이 미세한 패턴을 만들기 쉽다는 점에서 이 용도에는 폴리카르복시산 화합물(B)를 이용하는 경우가 많다. 물론 병용해도 아무런 문제는 없다. The active energy ray-curable resin composition of the present invention comprises an epoxycarboxylate compound (A) and / or a polycarboxylic acid compound (B). The epoxycarboxylate compound (A) and / or the polycarboxylic acid compound (B) can be appropriately used in accordance with the intended use. For example, the epoxy carboxylate compound (A) may be used in the case of a so-called solvent developing type in which a pattern is formed by a printing method without developing in the use of a solder resist or in the case of a so-called solvent developing type in which an unreacted portion is disturbed by a solvent, In the case of developing with alkaline water, the polycarboxylic acid compound (B) may be used. In general, the polycarboxylic acid compound (B) is often used in this application since an alkaline water developing type is easy to form a fine pattern. Of course, there is no problem with using it together.

본 발명의 활성 에너지선 경화형 수지 조성물은 추가로 에폭시카르복실레이트 화합물(A) 및 폴리카르복시산 화합물(B) 이외의 반응성 화합물(C)를 포함하고 있어도 좋다.The active energy ray-curable resin composition of the present invention may further contain a reactive compound (C) other than the epoxycarboxylate compound (A) and the polycarboxylic acid compound (B).

본 발명에 사용할 수 있는 반응성 화합물(C)의 구체적인 예로는 라디칼 반응형의 아크릴레이트류, 양이온 반응형의 기타 에폭시 화합물류, 그 양방에 감응하는 비닐 화합물류 등의 이른바 반응성 올리고머류를 들 수 있다. Specific examples of the reactive compound (C) usable in the present invention include so-called reactive oligomers such as radical reaction type acrylates, cationic reaction type other epoxy compounds, and vinyl compounds sensitive to both of them .

사용할 수 있는 아크릴레이트류로는 단관능 (메타)아크릴레이트류, 다관능 (메타)아크릴레이트, 기타 에폭시 아크릴레이트, 폴리에스테르 아크릴레이트, 우레탄 아크릴레이트 등을 들 수 있다. Examples of the acrylates that can be used include monofunctional (meth) acrylates, polyfunctional (meth) acrylates, other epoxy acrylates, polyester acrylates, and urethane acrylates.

단관능 (메타)아크릴레이트류로는 메틸(메타)아크릴레이트, 에틸(메타)아크릴레이트, 부틸(메타)아크릴레이트, 라우릴(메타)아크릴레이트, 폴리에틸렌글리콜(메타)아크릴레이트, 폴리에틸렌글리콜(메타)아크릴레이트 모노메틸에테르, 페닐 에틸(메타)아크릴레이트, 이소보닐(메타)아크릴레이트, 시클로헥실(메타)아크릴레이트, 벤질(메타)아크릴레이트, 테트라히드로푸르푸릴(메타)아크릴레이트 등을 들 수 있다. Examples of monofunctional (meth) acrylates include methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, butyl (meth) acrylate, lauryl (meth) acrylate, polyethylene glycol (meth) acrylate, polyethylene glycol (Meth) acrylate, phenylethyl (meth) acrylate, isobonyl (meth) acrylate, cyclohexyl (meth) acrylate, benzyl (meth) acrylate and tetrahydrofurfuryl .

다관능 (메타)아크릴레이트류로는 부탄디올디(메타)아크릴레이트, 헥산디올디(메타)아크릴레이트, 네오펜틸글리콜디(메타)아크릴레이트, 노난디올디(메타)아크릴레이트, 글리콜디(메타)아크릴레이트, 디에틸렌디(메타)아크릴레이트, 폴리에틸렌글리콜디(메타)아크릴레이트, 트리스(메타)아크릴로일옥시에틸이소시아누레이트, 폴리프로필렌글리콜디(메타)아크릴레이트, 아디핀산에폭시디(메타)아크릴레이트, 비스페놀에틸렌옥시드디(메타)아크릴레이트, 수소화비스페놀에틸렌옥사이드(메타)아크릴레이트, 비스페놀디(메타)아크릴레이트, 히드록시피발린산네오펜틸글리콜의 ε-카프로락톤 부가물의 디(메타)아크릴레이트, 디펜타에리트리톨과 ε-카프로락톤의 반응물의 폴리(메타)아크릴레이트, 디펜타에리트리톨폴리(메타)아크릴레이트, 트리메틸올프로판트리(메타)아크릴레이트, 트리에틸올프로판트리(메타)아크릴레이트 및 그 에틸렌옥사이드 부가물, 펜타에리트리톨트리(메타)아크릴레이트 및 그 에틸렌옥사이드 부가물, 펜타에리트리톨테트라(메타)아크릴레이트, 디펜타에리트리톨헥사(메타)아크릴레이트 및 그 에틸렌옥사이드 부가물 등을 들 수 있다. Examples of polyfunctional (meth) acrylates include butanediol di (meth) acrylate, hexanediol di (meth) acrylate, neopentyl glycol di (meth) acrylate, nonanediol di (meth) acrylate, ) Acrylate, diethylenedi (meth) acrylate, polyethylene glycol di (meth) acrylate, tris (meth) acryloyloxyethyl isocyanurate, polypropylene glycol di (meth) acrylate, adipic acid epoxy Caprolactone adduct of bisphenol ethylene oxide di (meth) acrylate, hydrogenated bisphenol ethylene oxide (meth) acrylate, bisphenol di (meth) acrylate, hydroxypivalic acid neopentyl glycol, Poly (meth) acrylates of dipentaerythritol and ε-caprolactone, dipentaerythritol poly (meth) acrylate, trimethyl (meth) acrylate, (Meth) acrylate, ethylene oxide adduct thereof, pentaerythritol tri (meth) acrylate and ethylene oxide adduct thereof, pentaerythritol tetra (meth) acrylate, , Dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, and ethylene oxide adduct thereof.

사용할 수 있는 비닐 화합물류로는 비닐 에테르류, 스티렌류, 기타 비닐 화합물을 들 수 있다. 비닐 에테르류로는 에틸비닐에테르, 프로필비닐에테르, 히드록시에틸비닐에테르, 에틸렌글리콜디비닐에테르 등을 들 수 있다. 스티렌류로는 스티렌, 메틸스티렌, 에틸스티렌 등을 들 수 있다. 기타 비닐 화합물로는 트리알릴이소시누레이트, 트리메타알릴이소시아누레이트 등을 들 수 있다. Examples of the vinyl compound that can be used include vinyl ethers, styrenes, and other vinyl compounds. Examples of the vinyl ethers include ethyl vinyl ether, propyl vinyl ether, hydroxyethyl vinyl ether, and ethylene glycol divinyl ether. Examples of the styrene include styrene, methylstyrene, and ethylstyrene. Other vinyl compounds include triallyl isocyanurate and trimethallyl isocyanurate.

또한 소위 반응성 올리고머류로는 활성 에너지선에 관능가능한 관능기와 우레탄 결합을 동일 분자내에 겸비하는 우레탄 아크릴레이트, 동일하게 활성 에너지선에 관능가능한 관능기와 에스테르 결합을 동일 분자내에 겸비하는 폴리에스테르아크릴레이트, 기타 에폭시 수지로부터 유도되어 활성 에너지선에 감응가능한 관능기를 동일 분자내에 겸비하는 에폭시아크릴레이트, 이러한 결합이 복합적으로 이용되는 반응성 올리고머 등을 들 수 있다. Examples of the so-called reactive oligomers include urethane acrylate which combines a functional group capable of forming an active energy ray and a urethane bond in the same molecule, a polyester acrylate having both a functional group capable of forming an active energy ray and an ester bond in the same molecule, Epoxy acrylates derived from other epoxy resins and having functional groups capable of reacting with active energy rays in the same molecule, and reactive oligomers in which these bonds are used in combination.

또한 양이온 반응형 단량체로는 일반적으로 에폭시기를 갖는 화합물이면 특별히 한정되지는 않는다. 예컨대 글리시딜(메타)아크릴레이트, 메틸글리시딜에테르, 에틸렌글리시딜에테르, 부틸글리시딜에테르, 비스페놀A디글리시딜에테르, 3,4-에폭시시클로헥실메틸-3,4-에폭시시클로헥산카르복실레이트(유니온·카바이드 사제「사이라큐아 UVR-6110」등), 3,4-에폭시시클로헥실에틸-3,4-에폭시시클로헥산카르복실레이트, 비닐시클로헥센디옥시드(유니온·카바이드 사제「ELR-4206」등), 리모넨디옥시드(다이셀 화학공업 사제「세로키사이드 3000」등), 알릴시크로헥센디옥시드, 3,4-에폭시-4-메틸시클로헥실-2-프로필렌옥시드, 2-(3,4-에폭시시클로헥실-5,5-스피로-3,4-에폭시)시클로헥산-m-디옥산, 비스(3,4-에폭시시클로헥실)아디페이트(유니온·카바이드 사제「사이라큐아 UVR-6128」등), 비스(3,4-에폭시시클로헥실메틸)아디페이트, 비스(3,4-에폭시시클로헥실)에테르, 비스(3,4-에폭시시클로헥실메틸)에테르, 비스(3,4-에폭시시클로헥실)디에틸실록산 등을 들 수 있다. The cationic reaction type monomer is not particularly limited so long as it is a compound having an epoxy group in general. Such as glycidyl (meth) acrylate, methyl glycidyl ether, ethylene glycidyl ether, butyl glycidyl ether, bisphenol A diglycidyl ether, 3,4-epoxycyclohexylmethyl-3,4-epoxy Cyclohexanecarboxylate ("SAIRACURE UVR-6110" manufactured by Union Carbide Corp.), 3,4-epoxycyclohexylethyl-3,4-epoxycyclohexanecarboxylate, vinylcyclohexene dioxide (union carbide ELR-4206 "manufactured by Daicel Chemical Industries, Ltd.), limonene dioxide (" Vertical Side 3000 "manufactured by Daicel Chemical Industries, Ltd.), allyl cyclohexene dioxide, 3,4-epoxy-4-methylcyclohexyl- (3,4-epoxycyclohexyl-5,5-spiro-3,4-epoxy) cyclohexane-m-dioxane, bis (3,4-epoxycyclohexyl) adipate (3,4-epoxycyclohexylmethyl) adipate, bis (3,4-epoxycyclohexyl) ether, bis (3,4-epoxycyclohexylmethyl) ether, bis (3,4-epoxycyclohexyl) diethylsiloxane, and the like.

이 중, 반응성 화합물(C)로는 라디칼 경화형인 아크릴레이트류가 가장 바람직하다. 양이온형의 경우, 카르복시산과 에폭시기가 반응하기 때문에 2액 혼합형으로 할 필요가 있다. Of these, as the reactive compound (C), acrylate which is in the radical curing type is most preferable. In the case of the cationic type, since a carboxylic acid and an epoxy group react with each other, it is necessary to prepare a two-liquid mixture type.

본 발명의 카르복실레이트 화합물(A) 및/또는 반응성 폴리카르복시산 화합물(B)와 필요에 따라 (A), (B) 이외의 반응성 화합물(C)를 혼합하여 본 발명의 활성 에너지선 경화형 수지 조성물을 얻을 수 있다. 이때, 용도에 따라 적당히 기타 성분을 부가해도 좋다. The active energy ray-curable resin composition (B) of the present invention is prepared by mixing the carboxylate compound (A) and / or the reactive polycarboxylic acid compound (B) of the present invention with the reactive compound (C) Can be obtained. At this time, other components may be appropriately added depending on the application.

본 발명의 활성 에너지선 경화형 수지 조성물은 조성물 중에 카르복실레이트 화합물(A) 및/또는 반응성 폴리카르복시산 화합물(B)를 97~5질량%, 바람직하게는87~10질량%, (A), (B) 이외의 반응성 화합물(C)를 3~95질량%, 보다 바람직하게는3~90질량% 포함한다. 필요에 따라 기타 성분을 70질량% 정도를 상한으로 포함해도 좋다. The active energy ray-curable resin composition of the present invention contains the carboxylate compound (A) and / or the reactive polycarboxylic acid compound (B) in an amount of 97 to 5 mass%, preferably 87 to 10 mass%, (A), And 3 to 95 mass%, more preferably 3 to 90 mass%, of the reactive compound (C) other than the reactive compound (B). If necessary, other components may be contained in an upper limit of about 70% by mass.

본 발명에 이용할 수 있는 착색 안료는 본 발명의 활성 에너지선 경화형 수지 조성물을 착색 재료로 만들기 위해서 이용된다. 본 발명에 이용되는 카르복실레이트 화합물(A), 반응성 폴리카르복시산 화합물(B)의 수산기의 밸런스가 특정 범위에 있기 때문에 특별히 뛰어난 안료에의 친화성, 즉 분산성이 발휘된다고 추측된다. 그 기구에 대해서는 확실하지 않지만 분산이 양호하게 진행하기 때문에 결과적으로 안료 농도를 진하게 할 수 있다, 또한 현상이 필요한 조성물에서는 분산이 보다 매우 적합한 상태에 있기 때문에 양호한 패터닝 특성이 발휘되고 또한 현상 용해부에서 현상 잔사도 적기 때문에 적합하다. A coloring pigment usable in the present invention is used to make the active energy ray-curable resin composition of the present invention as a coloring material. Since the balance of the hydroxyl groups of the carboxylate compound (A) and the reactive polycarboxylic acid compound (B) used in the present invention falls within a specific range, it is presumed that the compatibility with the pigment, that is, the dispersibility is excellently exerted. The pigment can be thickened as a result because the dispersion is satisfactorily progressed although it is not sure about the mechanism, and in a composition requiring development, the dispersion is in a more suitable state, so that good patterning characteristics are exhibited, It is suitable because there are few residual phenomena.

착색 안료로는 프탈로시아닌계, 아조계, 퀴나크리돈계 등의 유기안료, 카본 블랙 등, 산화 티탄 등의 무기 안료를 들 수 있다. 이 중 카본 블랙의 분산성이 높아 가장 바람직하다. Examples of the color pigment include organic pigments such as phthalocyanine pigments, azo pigments and quinacridone pigments, and inorganic pigments such as carbon black and titanium oxide. Of these, the dispersibility of carbon black is most preferred.

본 발명의 활성 에너지선 경화형 수지 조성물에서 효율적으로 또 충분한 경화를 실시하기 위해서 광중합 개시제를 첨가할 수 있다. 광중합 개시제로는 라디칼형 광중합 개시제, 양이온계 광중합 개시제, 그 외의 중합 개시제를 들 수 있다. A photopolymerization initiator can be added to efficiently and sufficiently cure the active energy ray-curable resin composition of the present invention. Examples of the photopolymerization initiator include a radical photopolymerization initiator, a cationic photopolymerization initiator, and other polymerization initiators.

라디칼형 광중합 개시제로는 예컨대 벤조인, 벤조인메틸에테르, 벤조인에틸에테르, 벤조인프로필에테르, 벤조인이소부틸에테르 등의 벤조인류; 아세토페논, 2,2-디에톡시-2-페닐아세토페논, 2,2-디에톡시-2-페닐아세토페논, 1,1-디클로로아세토페논, 2-히드록시-2-메틸페닐프로판-1-온, 디에톡시아세토페논, 1-히드록시시클로헥실페닐케톤, 2-메틸-1-[4-(메틸티오)페닐]-2-모르폴리노프로판-1-온 등의 아세토페논류; 2-에틸안트라퀴논, 2-t-부틸안트라퀴논, 2-클로로안트라퀴논, 2-아밀 안트라퀴논 등의 안트라퀴논류; 2,4-디에틸티옥산톤, 2-이소프로필티옥산톤, 2-클로로티옥산톤 등의 티옥산톤류; 아세토페논디메틸케탈, 벤질디메틸케탈 등의 케탈류; 벤조페논, 4-벤조일-4'-메틸디페닐설파이드, 4,4'-비스메틸아미노벤조페논 등의 벤조페논류; 2,4,6-트리메틸벤조일디페닐포스핀옥사이드, 비스(2,4,6-트리메틸벤조일)페닐포스핀옥사이드 등의 포스핀 옥사이드류 등의 공지 일반의 라디칼형광반응 개시제를 들 수 있다. Examples of the radical type photopolymerization initiator include benzoins such as benzoin, benzoin methyl ether, benzoin ethyl ether, benzoin propyl ether and benzoin isobutyl ether; Acetophenone, 2,2-diethoxy-2-phenylacetophenone, 2,2-diethoxy-2-phenylacetophenone, 1,1-dichloroacetophenone, 2-hydroxy- Acetophenones such as diethoxyacetophenone, 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone, and 2-methyl-1- [4- (methylthio) phenyl] -2-morpholinopropane-1-one; Anthraquinones such as 2-ethyl anthraquinone, 2-t-butyl anthraquinone, 2-chloro anthraquinone, and 2-amylanthraquinone; Thioxanthones such as 2,4-diethylthioxanthone, 2-isopropylthioxanthone and 2-chlorothioxanthone; Ketal such as acetophenone dimethyl ketal and benzyl dimethyl ketal; Benzophenones such as benzophenone, 4-benzoyl-4'-methyldiphenyl sulfide and 4,4'-bismethylaminobenzophenone; And phosphine oxides such as 2,4,6-trimethylbenzoyldiphenylphosphine oxide and bis (2,4,6-trimethylbenzoyl) phenylphosphine oxide, and the like.

또한 양이온계 광중합 개시제로는 루이스산의 디아조늄염, 루이스산의 요오드늄염, 루이스산의 술포늄염, 루이스산의 포스포늄염, 그 외의 할로겐화물, 트리아진계 개시제, 보레이트계 개시제 및 그 외의 광산발생제 등을 들 수 있다. Examples of the cationic photopolymerization initiator include a diazonium salt of Lewis acid, an iodonium salt of Lewis acid, a sulfonium salt of Lewis acid, a phosphonium salt of Lewis acid, other halides, a triazine initiator, a borate initiator, And the like.

루이스산의 디아조늄염으로는 p-메톡시페닐디아조늄플로로포스포네이트, N,N-디에틸아미노페닐디아조늄헥사플로로포스포네이트(삼신화학공업 사제 산에이드 SI-60L/SI-80L/SI-100L 등) 등을 들 수 있고, 루이스산의 요오드늄으로는 디페닐요오드늄헥사플로로포스포네이트, 디페닐요오드늄헥사플로로안티모네이트 등을 들 수 있으며, 루이스산의 술포늄염으로는 트리페닐술포늄헥사플로로포스포네이트(Union Carbide 사제 Cyracure UVI-6990 등), 트리페닐술포늄헥사플로로안티모네이트(Union Carbide 사제 Cyracure UVI-6974 등) 등을 들 수 있고, 루이스산의 포스포늄염으로는 트리페닐포스포늄헥사플로로안티모네이트 등을 들 수 있다. Examples of the diazonium salt of Lewis acid include p-methoxyphenyldiazonium fluorophosphonate, N, N-diethylaminophenyldiazonium hexafluorophosphonate (San-Ae SI-60L / SI- 80L / SI-100L, etc.), and the iodonium of Lewis acid includes diphenyliodonium hexafluorophosphate, diphenyliodonium hexafluoroantimonate, and the like. Examples of the sulfonium salts include triphenylsulfonium hexafluorophosphonate (Cyracure UVI-6990 manufactured by Union Carbide, etc.), triphenylsulfonium hexafluoroantimonate (Cyracure UVI-6974 manufactured by Union Carbide), and the like , And phosphonium salts of Lewis acids include triphenylphosphonium hexafluoroantimonate and the like.

그 외의 할로겐화물로는 2,2,2-트리클로로-[1-4'-(디메틸에틸)페닐]에타논(AKZO 사제 Trigonal PI 등), 2,2-디클로로-1-4-(페녹시페닐)에타논(Sandoz 사제 Sandray 1000 등), α,α,α-트리브로모메틸페닐술폰(제철 화학 사제 BMPS 등) 등을 들 수 있다. 트리아진계 개시제로는 2,4,6-트리스(트리클로로메틸)-트리아진, 2,4-트리클로로메틸-(4'-메톡시페닐)-6-트리아진(Panchim 사제 Triazine A 등), 2,4-트리클로로메틸-(4'-메톡시스티릴)-6-트리아진(Panchim 사제 Triazine PMS 등), 2,4-트리클로로메틸-(피프로닐)-6-트리아진(Panchim 사제 Triazine PP 등), 2,4-트리클로로메틸-(4'-메톡시나프틸)-6-트리아진(Panchim 사제 Triazine B 등), 2-[2'-(5"-메틸프릴)에틸리덴]-4,6-비스(트리클로로메틸)-s-트리아진(삼화 케미컬 사제 등), 2-(2'-프릴에틸리덴)-4,6-비스(트리클로로메틸)-s-트리아진(삼화 케미컬 사제) 등을 들 수 있다. Other halides include 2,2,2-trichloro- [1-4 '- (dimethylethyl) phenyl] ethanone (such as Trigonal PI from AKZO), 2,2-dichloro- Phenyl) ethanone (Sandray 1000 manufactured by Sandoz Co., Ltd.), and alpha, alpha, alpha -tribromomethylphenylsulfone (BMPS manufactured by Iron & Steel Chemistry Co., Ltd.). Examples of triazine initiators include 2,4,6-tris (trichloromethyl) -triazine, 2,4-trichloromethyl- (4'-methoxyphenyl) -6-triazine (Triazine A, (2,4-trichloromethyl- (4'-methoxystyryl) -6-triazine (Triazine PMS from Panchim, etc.), 2,4-trichloromethyl- (fiphenyl- 6,4'-methoxynaphthyl) -6-triazine (manufactured by Panchim Corp., etc.), 2- [2 '- (5 "-methylpyryl) ethyl (Trichloromethyl) -s-triazine (manufactured by Sampling Chemical Co., Ltd.), 2- (2'-pryethylidene) -4,6-bis (trichloromethyl) And triazine (manufactured by Samhwa Chemical Co., Ltd.).

보레이트계 개시제로는 일본 감광 색소제 NK-3876 및 NK-3881 등을 들 수 있고, 그 외의 광산발생제 등으로는 9-페닐아크리딘, 2,2'-비스(o-클로로페닐)-4,4', 5,5'-테트라페닐-1,2-비이미다졸(흑김 화성사제 비이미다졸 등), 2,2-아조비스(2-아미노프로판)디히드로클로라이드(화광순약사제 V50 등), 2,2-아조비스[2-(이미다졸린-2일)프로판]디히드로클로라이드(화광순약사제 VA044 등), [이타-5-2-4-(시클로펜타데실)(1,2,3,4,5,6,이타)-(메틸에틸)-벤젠]철(II)헥사플로로포스포네이트(Ciba Geigy 사제 Irgacure 261 등), 비스(y5-시클로펜타디에닐)비스[2,6-디플루오로-3-(1H-피리-1-일)페닐]티타늄(Ciba Geigy 사제 CGI-784 등) 등을 들 수 있다. Examples of the borate initiator include NK-3876 and NK-3881, which are Japanese photosensitive dyes, and other photoacid generators include 9-phenyl acridine, 2,2'-bis (o-chlorophenyl) 4,4 ', 5,5'-tetraphenyl-1,2-biimidazole (biimidazole, manufactured by KKM Ltd.), 2,2-azobis (2-aminopropane) dihydrochloride V50 and the like), 2,2-azobis [2- (imidazolin-2-yl) propane] dihydrochloride (VA044 and the like), [ita-5-2-4- (cyclopentadecyl) (II) hexafluorophosphonate (Irgacure 261 manufactured by Ciba Geigy, etc.), bis (cyclopentadienyl) bis (cyclopentadienyl) Bis [2,6-difluoro-3- (1H-pyryl-1-yl) phenyl] titanium (CGI-784 manufactured by Ciba Geigy).

그 외, 아조비스 이소부티로니트릴 등의 아조계 개시제, 과산화 벤조일 등의 열에 감응하는 과산화물계 라디칼형 개시제 등을 병용해도 좋다. 또한 라디칼계와 양이온계 양방의 개시제를 병용해도 좋다. 개시제는 1 종류를 단독으로 이용할 수도 있고, 2 종류 이상을 병용할 수도 있다. In addition, an azo-based initiator such as azobisisobutyronitrile, a peroxide-based radical-type initiator that responds to heat such as benzoyl peroxide, or the like may be used in combination. Both radical-type and cation-type initiators may be used in combination. One type of initiator may be used alone, or two or more types may be used in combination.

그 외, 본 발명의 활성 에너지선 경화형 수지 조성물을 각종 용도에 적합하게 사용할 목적으로 수지 조성물 중에 70질량%를 상한으로 기타 성분을 부가할 수도 있다. 기타 성분으로는 기타 첨가제, 안료 재료, 착색 재료, 또한 도공 적성 부여 등을 목적으로 점도 조정을 위해 첨가되는 휘발성 용제 등을 들 수 있다. 하기에 사용할 수 있는 기타 성분을 예시한다. In addition, in order to suitably use the active energy ray-curable resin composition of the present invention for various applications, other components may be added to the resin composition at an upper limit of 70% by mass. Examples of the other components include other additives, pigment materials, coloring materials, and volatile solvents added for viscosity adjustment for the purpose of imparting a coating property. Other ingredients that can be used are illustrated below.

기타 첨가제로는 예컨대 멜라민 등의 열경화 촉매, 에러로질 등의 틱소트로피 부여제, 실리콘계, 불소계 레벨링제나 소포제, 하이드로퀴논, 하이드로퀴논 모노메틸에테르 등의 중합 금지제, 안정제, 산화 방지제 등을 사용할 수 있다. Examples of other additives include thermosetting catalysts such as melamine, thixotropy imparting agents such as errors in quality, polymerization inhibitors such as silicones, fluorine leveling agents and defoamers, hydroquinone and hydroquinone monomethyl ether, stabilizers, and antioxidants .

또한 기타 안료 재료로는 예컨대 착색을 목적으로 하지 않는 것, 소위 체질 안료를 이용할 수도 있다. 예컨대 탈크, 황산바륨, 탄산칼슘, 탄산마그네슘, 티탄산바륨, 수산화알루미늄, 실리카, 클레이 등을 들 수 있다. As the other pigment materials, for example, those not intended for coloring, so-called extender pigments may be used. For example, talc, barium sulfate, calcium carbonate, magnesium carbonate, barium titanate, aluminum hydroxide, silica, and clay.

그 밖에 활성 에너지선에 반응성을 나타내지 않는 수지류(소위 이너트 폴리머), 예컨대 기타 에폭시 수지, 페놀 수지, 우레탄 수지, 폴리에스테르 수지, 케톤 포름알데히드 수지, 크레졸 수지, 크실렌 수지, 디알릴 프탈레이트 수지, 스티렌 수지, 구아나민 수지, 천연 및 합성고무, 아크릴 수지, 폴리올레핀 수지 및 그의 변성물을 이용할 수도 있다. 이들은 40질량%까지의 범위로 이용하는 것이 바람직하다. (So-called inner polymer) such as an epoxy resin, a phenol resin, a urethane resin, a polyester resin, a ketone formaldehyde resin, a cresol resin, a xylene resin, a diallyl phthalate resin, Styrene resins, guanamine resins, natural and synthetic rubbers, acrylic resins, polyolefin resins and modified products thereof. These are preferably used in the range of up to 40% by mass.

특히 솔더레지스트 용도로 반응성 폴리카르복시산 화합물(B)를 이용하는 경우, 활성 에너지선에 반응성을 나타내지 않는 수지류로서 공지 일반의 에폭시 수지를 이용하는 것이 바람직하다. 이것은 활성 에너지선에 의해 반응, 경화시킨 후에도 (B)에서 유래하는 카르복시기가 잔류하여 결과적으로 그 경화물은 내수성이나 가수분해성이 뒤떨어진다. 따라서, 에폭시 수지를 이용하는 것으로 잔류하는 카르복시기를 한층 더 카르복실레이트화 하여 더욱 강고한 가교 구조를 형성시킨다. Particularly when a reactive polycarboxylic acid compound (B) is used for a solder resist, it is preferable to use a known general epoxy resin as a resin which does not show reactivity with an active energy ray. This is because the carboxyl group derived from (B) remains after the reaction and curing by the active energy ray, and as a result, the cured product is poor in water resistance and hydrolysis resistance. Therefore, by using an epoxy resin, the remaining carboxyl groups are further carboxylated to form a stronger crosslinked structure.

또한 사용 목적에 따라 점도를 조정할 목적으로 수지 조성물 중에 50질량%, 보다 바람직하게는 35질량%까지의 범위로 휘발성 용제를 첨가할 수도 있다. A volatile solvent may be added to the resin composition in an amount of up to 50% by mass, more preferably up to 35% by mass for the purpose of adjusting the viscosity depending on the purpose of use.

본 발명은 성형용 재료, 피막 형성용 재료 또는 레지스트 재료 조성물인 활성 에너지선 경화형 수지 조성물이다. The present invention is an active energy ray curable resin composition which is a molding material, a film forming material, or a resist material composition.

본 발명에서 성형용 재료는 미경화 조성물을 형에 넣거나 또는 형을 눌러 물체를 성형한 후, 활성 에너지선에 의해 경화 반응을 일으키게 하여 성형시키는 것, 또는 미경화 조성물에 레이저 등의 초점광 등을 조사하여 경화 반응을 일으키게 하여 성형시키는 용도로 이용되는 재료를 나타낸다. In the present invention, the molding material may be obtained by forming the uncured composition in a mold or by molding the mold by pressing the mold, causing the curing reaction to occur by an active energy ray, or forming the uncured composition by focusing light such as a laser And irradiating the material to cause a curing reaction.

구체적인 용도로는 평면상으로 성형한 시트, 소자를 보호하기 위한 봉지재, 미경화 조성물에 미세 가공된「형」을 눌러 미세한 성형을 실시하는 소위 나노 프린트 재료, 또한 특히 열적인 요구에 엄격한 발광 다이오드, 광전 변환 소자 등의 주위 봉지 재료 등을 적합한 용도로 들 수 있다. Specific examples thereof include a sheet formed in a plane shape, a sealing material for protecting the element, a so-called nano-print material for finely molding by pressing a " mold " finely processed in the uncured composition, , A surrounding encapsulating material such as a photoelectric conversion element or the like can be used as a suitable use.

본 발명에서 피막 형성용 재료는 기재 표면을 피복하는 것을 목적으로 하여 이용되는 것이다. 구체적인 용도로는 그라비아 잉크, 후레키소 잉크, 실크 스크린 잉크, 오프셋 잉크 등의 잉크 재료, 하드 코트, 돕 코트, 오버 코트, 오버 프린트 니스, 클리어 코트 등의 도공 재료, 라미네이트용, 광디스크용 외 각종 접착제, 점착제 등의 접착 재료, 솔더레지스트, 에칭 레지스트, 마이크로 머신용 레지스트 등의 레지스트 재료 등이 이에 해당한다. 또한 피막 형성용 재료를 일시적으로 박리성 기재에 도공하여 필름화한 후, 본래 목적으로 하는 기재에 접합하여 피막을 형성시키는 소위 드라이 필름도 피막 형성용 재료에 해당한다. In the present invention, the film-forming material is used for coating the substrate surface. Specific applications include ink materials such as gravure ink, flexo ink, silkscreen ink and offset ink, coating materials such as hard coat, dope coat, over coat, overprint varnish and clear coat, laminates, , Adhesive materials such as pressure-sensitive adhesives, resist materials such as solder resists, etching resists, and resists for micromachines. Called dry film film forming material in which a film forming material is temporarily coated on a releasable substrate to form a film, and then the film is formed by bonding to a substrate intended for the original purpose.

이 중, 반응성 폴리카르복시산 화합물(B)의 카르복시기의 도입에 의해 기재로의 밀착성이 높아지기 때문에 플라스틱 기재 또는 금속 기재를 피복하기 위한 용도로서 이용하는 것이 바람직하다. Among them, since the adhesion of the reactive polycarboxylic acid compound (B) to the substrate is enhanced by the introduction of the carboxyl group, it is preferably used as an application for coating a plastic substrate or a metal substrate.

또한 미반응의 반응성 폴리카르복시산 화합물(B)가 알칼리 수용액에 가용성인 특징을 살려 알칼리수 현상형 레지스트 재료 조성물로서 이용하는 것도 바람직하다.It is also preferable to utilize the unreacted reactive polycarboxylic acid compound (B) as an alkaline water-developing resist composition by taking advantage of its solubility in an aqueous alkali solution.

본 발명에서 레지스트 재료 조성물은 기재 상에 조성물의 피막층을 형성시킨 후 자외선 등의 활성 에너지선을 부분적으로 조사하여 조사부, 미조사부의 물성적 차이를 이용하여 묘화하고자 하는 활성 에너지선 감응형 조성물을 나타낸다. 구체적으로 조사부 또는 미조사부를 임의의 방법, 예컨대 용제 등이나 알칼리 용액 등으로 용해시키는 것 등으로 제거하여 묘화를 수행하는 것을 목적으로 하여 이용되는 조성물이다. In the present invention, a resist material composition is an active energy ray-sensitive composition which is formed by forming a coating layer of a composition on a substrate, partially irradiating an active energy ray such as ultraviolet rays, and drawing the difference in physical properties of an irradiated portion and a non- irradiated portion . Specifically, the composition is used for the purpose of performing drawing by removing the irradiating unit or the non-irradiating unit by any method, for example, dissolving with a solvent, an alkali solution or the like.

본 발명의 활성 에너지선 경화형 수지 조성물은 활성 에너지선에 의해 용이하게 경화한다. 여기서 활성 에너지선의 구체적인 예로는 자외선, 가시광선, 적외선, X선, 감마선, 레이저광선 등의 전자파, 알파선, 베타선, 전자선 등의 입자선 등을 들 수 있다. 본 발명의 적합한 용도를 고려하면 이 중, 자외선, 레이저광선, 가시광선 또는 전자선이 바람직하다. The active energy ray-curable resin composition of the present invention is easily cured by an active energy ray. Specific examples of the active energy ray include electromagnetic waves such as ultraviolet rays, visible rays, infrared rays, X-rays, gamma rays and laser rays, particle beams such as alpha rays, beta rays and electron rays. Of these, ultraviolet rays, laser beams, visible rays or electron beams are preferable in view of the suitable use of the present invention.

본 발명의 활성 에너지선 경화형 수지 조성물은 패터닝이 가능한 여러 가지 재료에 적응할 수 있고, 예컨대 특히 솔더레지스트 재료, 빌드업 공법 용의 층간 절연재로 유용하고 또한 광도파로로서 프린트 배선판, 광전자 기판이나 광기판과 같은 전기·전자·광기재 등에도 이용된다. The active energy ray-curable resin composition of the present invention can be applied to various materials capable of patterning, and is useful, for example, as an interlayer insulating material particularly for a solder resist material and a build-up method, and is also useful as an optical waveguide in a printed wiring board, an optoelectronic substrate, It is also used for electric, electronic, and optical substrates.

특히 적합한 용도로는 강인한 경화물을 얻을 수 있는 특성을 살려 솔더레지스트 등의 영구 레지스트 용도, 안료 분산성이 양호한 특성을 살려 인쇄 잉크, 칼라 필터 등의 칼라 레지스트, 특히 블랙 매트릭스용 레지스트의 용도로 바람직하다. Particularly, it is preferable to use a permanent resist such as solder resist or a color resist such as a color filter such as a printing ink and a black matrix, Do.

그 외, 활성 에너지선에 의한 경화 반응전의 기계적 강도가 요구되는 드라이 필름 용도로서 특히 적합하게 이용된다. 즉, 본 발명에 이용되는 상기 에폭시 수지(a)의 수산기, 에폭시기의 밸런스가 특정의 범위에 있기 때문에 본 발명의 반응성 카르복실레이트 화합물이 비교적 높은 분자량임에도 불구하고 양호한 현상성을 발휘할 수 있다. In addition, it is particularly suitably used as a dry film application requiring mechanical strength before curing reaction by an active energy ray. That is, since the balance of the hydroxyl group and the epoxy group of the epoxy resin (a) used in the present invention falls within a specific range, the reactive carboxylate compound of the present invention can exhibit good developability in spite of a relatively high molecular weight.

피막을 형성시키는 방법으로는 특별한 제한은 없지만, 그라비아 등의 요판 인쇄 방식, 후레키소 등의 철판 인쇄 방식, 실크 스크린 등의 공판 인쇄 방식, 오프셋 등의 평판 인쇄 방식, 롤 코터, 나이프 코터, 다이 코터, 커텐 코터, 스핀 코터 등의 각종 도공 방식을 임의로 채용할 수 있다. There are no particular restrictions on the method of forming the film, but it is possible to use various methods such as intaglio printing method such as gravure, iron plate printing method such as Furekiso, stencil printing method such as silk screen, flat plate printing method such as offset, , A curtain coater, a spin coater, and the like can be arbitrarily employed.

본 발명의 활성 에너지선 경화형 수지 조성물의 경화물은 상기 용도로 이용하기 위해서 본 발명의 활성 에너지선 경화형 수지 조성물에 활성 에너지선을 조사해 경화시킨 것을 나타낸다. The cured product of the active energy ray-curable resin composition of the present invention indicates that the active energy ray-curable resin composition of the present invention is cured by irradiation with an active energy ray for use in the above-mentioned use.

본 발명의 활성 에너지선 경화형 수지 조성물로 오버코트된 물품은 적당한 기재 상에 본 발명의 활성 에너지선 경화형 수지 조성물의 피막층을 형성시키고 자외선 등의 활성 에너지선을 부분적으로 조사하여 기재 상의 피막 경화층을 형성시킨 것을 나타낸다. 이때, 기재 상에 해당 수지 조성물의 경화물이 모두 피막 경화층을 형성시킨 물품이어도, 레지스트 패턴용 묘화에 의한 피막 경화층을 형성시킨 물품이어도 특별히 한정되지 않는다. The article overcoated with the active energy ray-curable resin composition of the present invention may be obtained by forming a coat layer of the active energy ray-curable resin composition of the present invention on a suitable substrate and partially irradiating active energy rays such as ultraviolet rays to form a coat- . In this case, whether the cured product of the resin composition is formed on the substrate with the film-cured layer or the film-cured layer formed by drawing for the resist pattern is not particularly limited.

실시예 Example

이하, 본 발명을 실시예에 의해 더욱 상세하게 설명하지만 본 발명은 이들 실시예에 한정되는 것은 아니다. 또 실시예 중 특별한 언급이 없는 한 부는 질량부를 나타낸다. Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to examples, but the present invention is not limited to these examples. Unless otherwise specified in the Examples, "parts" means "parts by mass".

연화점, 에폭시 당량 등은 하기의 조건으로 측정하였다.Softening point, epoxy equivalent, etc. were measured under the following conditions.

1) 에폭시 당량: JIS K 7236:2001에 준한 방법으로 측정하였다.1) Epoxy equivalent: Measured by the method according to JIS K 7236: 2001.

2) 연화점: JIS K 7234:1986에 준한 방법으로 측정하였다.2) Softening point: Measured by the method according to JIS K 7234: 1986.

3) 산가: JIS K 0070:1992에 준한 방법으로 측정하였다.3) Acid value: Measured by the method according to JIS K 0070: 1992.

4) GPC의 측정 조건은 하기와 같다.4) The measurement conditions of GPC are as follows.

기종: TOSOH HLC-8220GPCModel: TOSOH HLC-8220GPC

컬럼: TSKGEL Super HZM-NColumn: TSKGEL Super HZM-N

용리액: THF(테트라히드로푸란); 0.35ml 매분. 40℃Eluent: THF (tetrahydrofuran); 0.35ml per minute. 40 ℃

검출기: 시차 굴절계Detector: differential refractometer

분자량 표준: 폴리스티렌Molecular weight standard: Polystyrene

실시예 1: 일반식(2)로 표시되는 에폭시 수지에 의한 카르복실레이트 화합물(A)의 조제Example 1: Preparation of carboxylate compound (A) with epoxy resin represented by general formula (2)

에폭시 수지(a)로서 NC-3000H(일본 화약제, 연화점 70℃, 에폭시 당량 288 g/eq, 일반식(2)로 표시되는 R3은 모두 수소 원자, p는 평균치로 3)을 288g, 분자 중에 1개 이상의 중합가능한 에틸렌성 불포화기와 1개 이상의 카르복시기를 겸비하는 화합물(b)로서 아크릴산(약칭 AA, Mw=72)을 표 1 중의 기재량, 분자 중에 1개 이상의 수산기와 1개 이상의 카르복시기를 겸비하는 화합물(c)로서 디메틸올프로피온산(약칭 DMPA, Mw=134)을 표 1 중의 기재량 부가하였다. 에폭시기에 대한 각 AA, DMPA 주입 당량비를 몰비로서 기재하였다. 288 g of NC-3000H (Japanese Chemical Medicines, softening point 70 ° C, epoxy equivalent 288 g / eq, R 3 represented by the general formula (2) are all hydrogen atoms and p is an average value of 3) as the epoxy resin (a) Acrylic acid (abbreviated AA, Mw = 72) as the compound (b) having at least one polymerizable ethylenic unsaturated group and at least one carboxyl group in the molecule, at least one hydroxyl group and at least one carboxyl group in the molecule Dimethylolpropionic acid (abbreviated as DMPA, Mw = 134) was added as the compound (c) capable of serving as the starting material. The molar ratio of each AA and DMPA injection equivalents to the epoxy groups was described.

촉매로서 트리페닐포스핀 3g, 용제로서 프로필렌글리콜모노메틸에테르모노아세테이트를 고형분 80질량%가 되도록 부가하고 100℃에서 24시간 반응시켜 본 발명의 카르복실레이트 화합물(A) 용액을 얻었다. 3 g of triphenylphosphine as a catalyst and propylene glycol monomethyl ether monoacetate as a solvent were added so as to have a solid content of 80% by mass and reacted at 100 DEG C for 24 hours to obtain a carboxylate compound (A) solution of the present invention.

반응 종점은 고형분 산가(AV;mgKOH/g)로 결정하고 측정치를 표 1 중에 기재하였다. 산가 측정은 반응 용액에서 측정하여 고형분으로서의 산가로 환산하였다.The reaction end point was determined by the solid acid value (AV; mgKOH / g), and the measured values are shown in Table 1. The acid value measurement was carried out in the reaction solution and converted into an acid value as a solid content.

실시예 2: 일반식(3)으로 표시되는 에폭시 수지에 의한 카르복실레이트 화합물(A)의 조제Example 2: Preparation of carboxylate compound (A) with epoxy resin represented by general formula (3)

에폭시 수지(a)로서 NC-2000(일본 화약제, 연화점 60℃, 에폭시 당량 230 g/eq, 일반식(3)으로 표시되는 R4는 모두 수소 원자, r은 평균치로 5)을 230g, 화합물(b)로서 아크릴산 및 화합물(c)로서 디메틸올프로피온산을 표 1 중의 기재량 부가하였다. 에폭시기에 대한 각 AA, DMPA 주입 당량비를 몰비로서 기재하였다. 230 g of NC-2000 (Japanese chemical, softening point 60 ° C, epoxy equivalent 230 g / eq, R 4 represented by the general formula (3) are all hydrogen atoms and r is an average value of 5) as the epoxy resin (a) (b) and dimethylol propionic acid as the compound (c) were added in the amounts shown in Table 1. The molar ratio of each AA and DMPA injection equivalents to the epoxy groups was described.

촉매로서 트리페닐포스핀 3g, 용제로서 프로필렌글리콜모노메틸에테르모노아세테이트를 고형분이 반응액의 80질량%가 되도록 부가하고 100℃에서 24시간 반응시켜 카르복실레이트 화합물(A) 용액을 얻었다. 3 g of triphenylphosphine as a catalyst and propylene glycol monomethyl ether monoacetate as a solvent were added so that the solid content became 80% by mass of the reaction solution, and reacted at 100 占 폚 for 24 hours to obtain a carboxylate compound (A) solution.

반응 종점은 고형분 산가(AV;mgKOH/g)로 결정하여 측정치를 표 1에 기재하였다. 산가 측정은 반응 용액에서 측정하여 고형분으로서의 산가로 환산하였다.The reaction end point was determined by the solid acid value (AV; mgKOH / g), and the measured values are shown in Table 1. The acid value measurement was carried out in the reaction solution and converted into an acid value as a solid content.

실시예 3: 일반식(4)로 표시되는 에폭시 수지에 의한 에폭시카르복실레이트 화합물(A)의 제조Example 3: Production of Epoxycarboxylate Compound (A) by Epoxy Resin Represented by General Formula (4)

에폭시 수지(a)로서 XD-1000(일본 화약제, 연화점 70℃, 에폭시 당량 250 g/eq, 일반식(4)로 표시되는 R5는 모두 수소 원자, t는 평균치로 3)을 250g, 화합물(b)로서 아크릴산 및 화합물(c)로서 디메틸올프로피온산을 표 1 중의 기재량 부가하였다. 에폭시기에 대한 각 AA, DMPA 주입 당량비를 몰비로서 기재하였다. 250 g of XD-1000 (Japanese chemical, softening point 70 캜, epoxy equivalent 250 g / eq, R 5 represented by the general formula (4) are all hydrogen atoms and t is an average value of 3) as the epoxy resin (a) (b) and dimethylol propionic acid as the compound (c) were added in the amounts shown in Table 1. The molar ratio of each AA and DMPA injection equivalents to the epoxy groups was described.

촉매로서 트리페닐포스핀 3g를 사용하고, 용제로서 프로필렌글리콜모노메틸에테르모노아세테이트를 고형분 80질량%가 되도록 부가하여 100℃에서 24시간 반응시켜 에폭시카르복실레이트 화합물(A) 용액을 얻었다. 3 g of triphenylphosphine was used as a catalyst, and propylene glycol monomethyl ether monoacetate as a solvent was added so as to have a solid content of 80% by mass and reacted at 100 占 폚 for 24 hours to obtain an epoxy carboxylate compound (A) solution.

반응 종점은 고형분 산가(AV;mgKOH/g)로 결정하여 측정치를 표 1 중에 기재하였다. 산가 측정은 반응 용액에서 측정하여 고형분으로서의 산가로 환산하였다.The reaction end point was determined by the solid acid value (AV; mgKOH / g), and the measured values are shown in Table 1. The acid value measurement was carried out in the reaction solution and converted into an acid value as a solid content.

비교예 1: 비교하는 카르복실레이트 화합물의 조제Comparative Example 1: Preparation of Comparative Carboxylate Compound

NC-3000H를 288g, 화합물(b)로서 아크릴산을 72g(몰비;1.0), 촉매로서 트리페닐포스핀 3g, 용제로서 프로필렌글리콜모노메틸에테르모노아세테이트를 고형분 80질량%가 되도록 부가하여 100℃에서 24시간 반응시켜 카르복실레이트 화합물 용액을 얻었다. (Molar ratio: 1.0) as a compound (b), 3 g of triphenylphosphine as a catalyst and propylene glycol monomethyl ether monoacetate as a solvent at a solid content of 80% by mass, And reacted for a time to obtain a carboxylate compound solution.

반응 종점은 고형분 산가(AV;mgKOH/g)로 결정하여 측정치를 표 1 중에 기재하였다. 산가 측정은 반응 용액에서 측정하여 고형분으로서의 산가로 환산하였다.The reaction end point was determined by the solid acid value (AV; mgKOH / g), and the measured values are shown in Table 1. The acid value measurement was carried out in the reaction solution and converted into an acid value as a solid content.

비교예 2: 비교용 카르복실레이트 화합물의 조제Comparative Example 2: Preparation of Comparative Carboxylate Compound

NC-2000을 230g, 화합물(b)로서 아크릴산을 72g(몰비;1.0), 촉매로서 트리페닐포스핀 3g, 용제로서 프로필렌글리콜모노메틸에테르모노아세테이트를 고형분이 반응액의 80질량%가 되도록 부가하고 100℃에서 24시간 반응시켜 카르복실레이트 화합물 용액을 얻었다. (Molar ratio: 1.0) as the compound (b), 3 g of triphenylphosphine as a catalyst, and propylene glycol monomethyl ether monoacetate as a solvent in an amount of 80% by weight of the reaction liquid And reacted at 100 DEG C for 24 hours to obtain a carboxylate compound solution.

반응 종점은 고형분 산가(AV;mgKOH/g)로 결정하여 측정치를 표 1에 기재하였다. 산가 측정은 반응 용액에서 측정하여 고형분으로서의 산가로 환산하였다.The reaction end point was determined by the solid acid value (AV; mgKOH / g), and the measured values are shown in Table 1. The acid value measurement was carried out in the reaction solution and converted into an acid value as a solid content.

비교예 3: 비교하는 에폭시카르복실레이트 화합물의 조제Comparative Example 3: Preparation of comparative epoxy carboxylate compound

XD-1000을 250g, 화합물(b)로서 아크릴산을 72g(몰비;1.0), 촉매로서 트리페닐포스핀 3g에 용제로서 프로필렌글리콜모노메틸에테르모노아세테이트를 고형분 80질량%가 되도록 부가하고 100℃에서 24시간 반응시켜 에폭시카르복실레이트 화합물 용액을 얻었다. Propylene glycol monomethyl ether monoacetate was added as a solvent to 80% by mass of solids, and the mixture was heated at 100 占 폚 for 24 hours at a temperature of 100 占 폚, to which 250g of XD-1000, 72g of acrylic acid as a compound (b) Hour reaction to obtain an epoxy carboxylate compound solution.

반응 종점은 고형분 산가(AV;mgKOH/g)로 결정하여 측정치를 표 1 중에 기재하였다. 산가 측정은 반응 용액에서 측정하여 고형분으로서의 산가로 환산하였다.The reaction end point was determined by the solid acid value (AV; mgKOH / g), and the measured values are shown in Table 1. The acid value measurement was carried out in the reaction solution and converted into an acid value as a solid content.

비교예 4-1: 비교하는 카르복실레이트 화합물의 조제Comparative Example 4-1: Preparation of Comparative Carboxylate Compound

크레졸 노볼락형 에폭시 수지 EOCN-103S(일본 화약제, 연화점 80℃, 에폭시 당량 200g/eq)를 200g, 분자 중에 1개 이상의 중합 가능한 에틸렌성 불포화기와 1개 이상의 카르복시기를 겸비하는 화합물(b)로서 아크릴산을 36g(몰비;0.5), 분자 중에 1개 이상의 수산기와 1개 이상의 카르복시기를 겸비하는 화합물(c)로서 디메틸올프로피온산을 67g(몰비;0.5) 부가하였다. 200 g of cresol novolak type epoxy resin EOCN-103S (Japanese chemical, softening point 80 캜, epoxy equivalent of 200 g / eq) as a compound (b) having both at least one polymerizable ethylenic unsaturated group and at least one carboxyl group 36 g (molar ratio: 0.5) of acrylic acid, and 67 g (molar ratio: 0.5) of dimethylolpropionic acid as a compound (c) having at least one hydroxyl group and at least one carboxyl group in the molecule.

촉매로서 트리페닐포스핀 3g, 용제로서 프로필렌글리콜모노메틸에테르모노아세테이트를 고형분 80질량%가 되도록 부가하고 100℃에서 24시간 반응시켜 비교하는 카르복실레이트 화합물 용액을 얻었다. 3 g of triphenylphosphine as a catalyst and propylene glycol monomethyl ether monoacetate as a solvent were added so as to have a solid content of 80% by mass and reacted at 100 DEG C for 24 hours to obtain a comparative carboxylate compound solution.

반응 종점은 고형분 산가(AV;mgKOH/g)로 결정하여 측정치를 표 1 중에 기재하였다. 산가 측정은 반응 용액에서 측정하여 고형분으로서의 산가로 환산하였다.The reaction end point was determined by the solid acid value (AV; mgKOH / g), and the measured values are shown in Table 1. The acid value measurement was carried out in the reaction solution and converted into an acid value as a solid content.

비교예 4-2: 비교용 카르복실레이트 화합물의 조제Comparative Example 4-2: Preparation of Comparative Carboxylate Compound

크레졸 노볼락형 에폭시 수지 jER-1002(재팬 에폭시 레진 사제, 에폭시 당량 400g/eq)를 200g, (b)로서 아크릴산 18g(몰비;0.5), 화합물(c)로서 디메틸올프로피온산 34g(몰비;0.5) 부가하였다. (Molar ratio: 0.5) as the compound (c), 18 g of the acrylic acid (molar ratio: 0.5) as the component (b), 20 g of the component (c), and 20 g of the cresol novolac epoxy resin jER-1002 (manufactured by Japan Epoxy Resin, epoxy equivalent: 400 g / Respectively.

촉매로서 트리페닐포스핀 3g, 용제로서 프로필렌글리콜모노메틸에테르모노아세테이트를 고형분이 반응액의 80질량%가 되도록 부가하고 100℃에서 24시간 반응시켜 비교하는 카르복실레이트 화합물 용액을 얻었다. 3 g of triphenylphosphine as a catalyst and propylene glycol monomethyl ether monoacetate as a solvent were added so that the solid content became 80% by mass of the reaction solution, and reacted at 100 ° C for 24 hours to obtain a comparative carboxylate compound solution.

반응 종점은 고형분 산가(AV;mgKOH/g)로 결정하여 측정치를 표 1에 기재하였다. 산가 측정은 반응 용액에서 측정하여 고형분으로서의 산가로 환산하였다.The reaction end point was determined by the solid acid value (AV; mgKOH / g), and the measured values are shown in Table 1. The acid value measurement was carried out in the reaction solution and converted into an acid value as a solid content.

[표 1] [Table 1]

Figure 112010003132778-pct00009
Figure 112010003132778-pct00009

시험예 1: 에폭시카르복실레이트 화합물(A)의 보존 안정성Test Example 1: Storage stability of the epoxycarboxylate compound (A)

실시예 1 및 비교예 1에서 얻어진 에폭시카르복실레이트 화합물 용액을 영하 5℃의 냉동실에 보관하여 결정이 생길 때까지의 시간을 비교하고 표 2에 나타내었다.The epoxycarboxylate compound solutions obtained in Example 1 and Comparative Example 1 were stored in a freezer at a temperature of minus 5 캜 to compare the times until crystals were formed.

[표 2] [Table 2]

Figure 112010003132778-pct00010
Figure 112010003132778-pct00010

이상의 결과로부터 분자 중에 1개 이상의 수산기와 1개 이상의 카르복시기를 겸비하는 화합물(c)의 도입에 따라 수지 용액의 보존 안정성이 향상하는 것을 명확하게 알 수 있다. From the above results, it can be clearly seen that the storage stability of the resin solution improves with the introduction of the compound (c) having at least one hydroxyl group and at least one carboxyl group in the molecule.

실시예 4: 일반식(2)로 표시되는 에폭시 수지에 의한 반응성 폴리카르복시산 화합물(B)의 조제Example 4: Preparation of reactive polycarboxylic acid compound (B) with epoxy resin represented by general formula (2)

실시예 1-1, 1-2, 1-3에서 각각 얻어진 카르복실레이트 화합물(A) 용액 299g에 다염기산 무수물(d)로서 테트라히드로무수프탈산(약칭 THPA)을 표 3 중의 기재량 및 용제로서 고형분이 65질량%가 되도록 프로필렌글리콜모노메틸에테트모노아세테이트를 첨가하고 100℃로 가열하여 산부가 반응시켜 본 발명의 반응성 폴리카르복시산 화합물(B) 용액을 얻었다(실시예 4-1, 4-2, 4-3, 4-4). 고형분 산가(mgKOH/g)를 표 3에 나타내었다.Tetrahydrophthalic anhydride (abbreviated as THPA) as a polybasic acid anhydride (d) was added to 299 g of the carboxylate compound (A) solution obtained in each of Examples 1-1, 1-2 and 1-3, Propylene glycol monomethyl ether acetate was added to 65% by mass of propylene glycol monomethyl ether acetate, and the mixture was heated to 100 占 폚 to react with an acid moiety to obtain a solution of the reactive polycarboxylic acid compound (B) of the present invention (Examples 4-1, 4-2, 4-3, 4-4). The solid acid value (mg KOH / g) is shown in Table 3.

실시예 5: 일반식(3)으로 표시되는 에폭시 수지에 의한 반응성 폴리카르복시산 화합물(B)의 조제Example 5: Preparation of reactive polycarboxylic acid compound (B) with epoxy resin represented by general formula (3)

실시예 2-1, 2-2, 2-3, 2-4에서 각각 얻어진 카르복실레이트 화합물(A) 용액 299g에 다염기산 무수물(d)로서 테트라히드로무수프탈산을 표 3에 기재된 양 및 용제로서 고형분이 반응액의 65질량%가 되도록 프로필렌글리콜모노메틸에테르모노아세테이트를 첨가하여 100℃로 가열해 3시간 산부가 반응시켜 본 발명의 반응성 폴리카르복시산 화합물(B) 용액을 얻었다(실시예 5-1, 5-2, 5-3, 5-4, 5-5). 고형분 산가(mgKOH/g)를 표 3에 나타내었다.Tetrahydrophthalic anhydride as the polybasic acid anhydride (d) was added to 299 g of the carboxylate compound (A) solution obtained in each of Examples 2-1, 2-2, 2-3 and 2-4, Propylene glycol monomethyl ether monoacetate was added to 65% by mass of the reaction solution, and the mixture was heated to 100 占 폚 for 3 hours to give a reactive polycarboxylic acid compound (B) solution of the present invention (Examples 5-1, 5-2, 5-3, 5-4, 5-5). The solid acid value (mg KOH / g) is shown in Table 3.

실시예 6: 일반식(4)로 표시되는 에폭시 수지에 의한 폴리카르복시산 화합물(B)의 제조Example 6: Production of polycarboxylic acid compound (B) with epoxy resin represented by general formula (4)

실시예 3-1, 3-2, 3-3에서 각각 얻어진 에폭시카르복실레이트 화합물(A) 용액 299g에 다염기산 무수물(d)로서 테트라히드로무수프탈산을 표 3 중의 기재량 및 용제로서 고형분이 65질량%가 되도록 프로필렌글리콜모노메틸에테르모노아세테이트를 첨가하고 100℃로 가열하여 산부가 반응시켜 폴리카르복시산 화합물(B) 용액을 얻었다(실시예 6-1, 6-2, 6-3, 6-4). 고형분 산가(mgKOH/g)를 표 3 중에 나타내었다.Tetrahydrophthalic anhydride as the polybasic acid anhydride (d) was added to 299 g of the epoxy carboxylate compound (A) solution obtained in each of Examples 3-1, 3-2 and 3-3 in an amount of 65 g %, And the acid part was reacted by heating to 100 ° C to obtain a solution of the polycarboxylic acid compound (B) (Examples 6-1, 6-2, 6-3, 6-4) . The solid acid value (mg KOH / g) is shown in Table 3.

비교예 5: 비교용 반응성 폴리카르복시산 화합물의 조제Comparative Example 5: Preparation of comparative reactive polycarboxylic acid compound

비교예 1에서 얻어진 카르복실레이트 화합물 용액 299g에 다염기산 무수물(d)로서 테트라히드로무수프탈산을 표 3 중의 기재량 및 용제로서 고형분이 65질량%가 되도록 프로필렌글리콜모노메틸에테르모노아세테이트를 첨가하고 100℃로 가열하여 산부가 반응시켜 반응성 폴리카르복시산 화합물 용액을 얻었다(비교예 5-1, 5-2). 고형분 산가(mgKOH/g)를 표 3 중에 나타내었다.Propylene glycol monomethyl ether monoacetate was added to 299 g of the carboxylate compound solution obtained in Comparative Example 1 so as to have a solid content of 65% by mass as the amount of the base material and solvent of tetrahydrophthalic anhydride as the polybasic acid anhydride (d) in Table 3, To give a reactive polycarboxylic acid compound solution (Comparative Examples 5-1 and 5-2). The solid acid value (mg KOH / g) is shown in Table 3.

비교예 6: 비교용 반응성 폴리카르복시산 화합물의 조제Comparative Example 6: Preparation of comparative reactive polycarboxylic acid compound

비교예 2에서 얻어진 카르복실레이트 화합물 용액 299g에 다염기산 무수물(d)로서 테트라히드로무수프탈산을 표 3에 기재된 양 및 용제로서 고형분이 반응액의 65질량%가 되도록 프로필렌글리콜모노메틸에테르모노아세테이트를 첨가하고 100℃로 가열하여 3시간 산부가 반응시켜 반응성 폴리카르복시산 화합물 용액을 얻었다(비교예 6-1, 6-2). 고형분 산가(mgKOH/g)를 표 3 중에 나타내었다.To 299 g of the carboxylate compound solution obtained in Comparative Example 2, tetrahydrophthalic anhydride as the polybasic acid anhydride (d) was added in the amount shown in Table 3 and propylene glycol monomethyl ether monoacetate was added as a solvent so that the solid content became 65% And heated at 100 ° C. for 3 hours to react with the acid moiety to obtain a reactive polycarboxylic acid compound solution (Comparative Examples 6-1 and 6-2). The solid acid value (mg KOH / g) is shown in Table 3.

비교예 7: 비교용 반응성 폴리카르복시산 화합물의 조제Comparative Example 7: Preparation of comparative reactive polycarboxylic acid compound

비교예 3에서 얻어진 에폭시카르복실레이트 화합물 용액 299g에 다염기산 무수물(d)로서 테트라히드로무수프탈산을 표 3 중의 기재량 및 용제로서 고형분이 65질량%가 되도록 프로필렌글리콜모노메틸에테르모노아세테이트를 첨가하고 100℃로 가열하여 산부가 반응시켜 폴리카르복시산 화합물 용액을 얻었다(비교예 7-1, 7-2). 고형분 산가(mgKOH/g)를 표 3 중에 나타내였다.Propylene glycol monomethyl ether monoacetate was added to 299 g of the epoxy carboxylate compound solution obtained in comparative example 3 so as to have a solid content of 65% by mass as the amount of the base material and solvent of tetrahydrophthalic anhydride as the polybasic acid anhydride (d) And the acid part was reacted to obtain a polycarboxylic acid compound solution (Comparative Examples 7-1 and 7-2). The solid acid value (mg KOH / g) is shown in Table 3.

비교예 8: 비교용 반응성 폴리카르복시산 화합물의 조제Comparative Example 8: Preparation of comparative reactive polycarboxylic acid compound

비교예 4-1, 4-2에서 얻어진 에폭시카르복실레이트 화합물 용액 299g에 다염기산 무수물(d)로서 테트라히드로무수프탈산을 표 3 중의 기재량 및 용제로서 고형분이 65질량%가 되도록 프로필렌글리콜모노메틸에테르모노아세테이트를 첨가하고 100℃로 가열하여 산부가 반응시켜 폴리카르복시산 화합물 용액을 얻었다(비교예 8-1, 8-2, 8-3). 고형분 산가(mgKOH/g)를 표 3 중에 나타내었다.Tetrahydrophthalic anhydride as the polybasic acid anhydride (d) was added to 299 g of the epoxy carboxylate compound solution obtained in Comparative Examples 4-1 and 4-2 in the amount shown in Table 3 and propylene glycol monomethyl ether Monoacetate was added and heated at 100 캜 to react with an acid moiety to obtain a polycarboxylic acid compound solution (Comparative Examples 8-1, 8-2, 8-3). The solid acid value (mg KOH / g) is shown in Table 3.

[표 3] [Table 3]

Figure 112010003132778-pct00011
Figure 112010003132778-pct00011

실시예 7, 8, 9 및 비교예 9, 10, 11, 12: 하드 코트용 조성물 및 그 경화물의 조제 및 그의 경도 평가 시험, 충격성 평가 시험Examples 7, 8 and 9 and Comparative Examples 9, 10, 11 and 12: Preparation of a composition for a hard coat and a cured product thereof, a hardness evaluation test thereof,

실시예 1, 2, 3 및 비교예 1, 2, 3, 4에서 조제한 반응성 카르복실레이트 화합물(A) 20g, 라디칼 경화형 단량체(C)인 디펜타에리트리톨헥사아크릴레이트 4g, 자외선 반응형 개시제로서 이르가큐아 184를 1.5g 가열 용해하였다(실시예 7-4, 8-4, 9-4에서 양이온계 개시제로서 UVI-6990을 1.0g 추첨가하였다).20 g of the reactive carboxylate compound (A) prepared in Examples 1, 2 and 3 and Comparative Examples 1, 2, 3 and 4, 4 g of dipentaerythritol hexaacrylate as the radical-curable monomer (C) Irgacure 184 was dissolved by heating in an amount of 1.5 g (1.0 g of UVI-6990 was added as a cationic initiator in Examples 7-4, 8-4 and 9-4).

이어서 이것을 건조시 막 두께 20미크론이 되도록 핸드 아플리케이터에 의해 폴리카보네이트 판상에 도공하고 80℃, 30분간 전기 오븐에서 용제 건조를 실시하였다. 건조 후 고압 수은 램프를 구비한 자외선 수직 노광 장치(오크제작소제)에 의해 조사선량 1000mJ의 자외선을 조사, 경화시키고 다층 재료를 얻었다. Subsequently, this was coated on a polycarbonate plate with a hand applicator so as to have a film thickness of 20 microns upon drying, and the solvent was dried in an electric oven at 80 DEG C for 30 minutes. After drying, ultraviolet rays having an irradiation dose of 1000 mJ were irradiated and cured by an ultraviolet vertical exposure apparatus (manufactured by OAK) equipped with a high-pressure mercury lamp to obtain a multi-layer material.

이 다층 재료의 도막 경도를 JIS K5600-5-4:1999에 의해 측정(시험예 2)하고 이어서 충격성 시험을 ISO6272-1:2002에 의해(시험예 3), 또한 냉열 충격성 시험을 JIS K5600-7-4:1999에 의해 실시하였다(시험예 4). 조제한 각 시험 검체(실시예 7~9, 비교예 9~12) 및 각 평가 시험 결과(시험예 2~4)를 표 4에 나타내었다.The coating film hardness of this multilayered material was measured by JIS K5600-5-4: 1999 (Test Example 2), followed by impact test by ISO 6272-1: 2002 (Test Example 3), and by cold and heat impact test by JIS K5600-7 -4: 1999 (Test Example 4). The test samples (Examples 7 to 9, Comparative Examples 9 to 12) and the respective evaluation test results (Test Examples 2 to 4) were shown in Table 4.

[표 4] [Table 4]

Figure 112010003132778-pct00012
Figure 112010003132778-pct00012

이상의 결과에 의해 알 수 있는 바와 같이 실시예 7, 8, 9에서 조제한 하드 코트용 재료는 1 분자 중에 수산기와 카르복시기를 겸비하는 화합물(c)을 사용하지 않고 에폭시기를 모두 아크릴레이트화한 비교예 9, 10, 11과 비교하여 내충격성이 향상하였다. 내충격성이 향상한 이유로는 화합물(c)의 도입에 따라 이중 결합의 밀도가 적당히 저하한 것 및 수산기 도입에 따라 수소결합에 의한 완만한 가교 구조가 좋은 영향을 미친 것으로 추론된다. As can be seen from the above results, the hard coat materials prepared in Examples 7, 8, and 9 were prepared in the same manner as in Comparative Example 9 (Comparative Example 9) in which all of the epoxy groups were acrylated without using the compound (c) having a hydroxyl group and a carboxyl group in one molecule. , 10 and 11, respectively. The reason for the improvement of the impact resistance is that the density of the double bond is appropriately lowered according to the introduction of the compound (c) and that the gentle cross-linking structure due to hydrogen bonding has a good influence upon the introduction of the hydroxyl group.

또한 통상의 2 관능 에폭시 수지로부터 유도한 비교예 12-1, 12-2에서는 경화성이 큰폭으로 악화되고 또 내충격성은 낮은 것으로 나타났다.In addition, in Comparative Examples 12-1 and 12-2 derived from a conventional bifunctional epoxy resin, the curability was markedly deteriorated and the impact resistance was low.

실시예 10, 11, 12 및 비교예 13, 14, 15, 16: 드라이 필름형 레지스트 조성물 및 그 경화물의 조제Examples 10, 11 and 12 and Comparative Examples 13, 14, 15 and 16: Preparation of a dry film type resist composition and a cured product thereof

실시예 4, 5, 6 및 비교예 5, 6, 7, 8에서 얻어진 반응성 폴리카르복시산 화합물(B)을 54.44g, 그 외 반응성 화합물(C)로서 HX-220(상품명:일본 화약(주) 디아크릴레이트 단량체) 3.54g, 광중합 개시제로서 이르가큐아 907(시바 스페셜티 케미칼스 제)을 4.72g 및 카야큐어-DETX-S(일본 화약(주) 제) 0.47g, 경화 성분으로서 GTR-1800(일본 화약(주) 제) 14.83g, 열경화 촉매로서 멜라민 1.05g 및 농도 조정 용매로서 메틸에틸케톤 20.95g 부가하고, 비즈 밀에서 혼련하여 균일하게 분산시켜 레지스트 수지 조성물을 얻었다. 54.44 g of the reactive polycarboxylic acid compound (B) obtained in Examples 4, 5 and 6 and Comparative Examples 5, 6, 7 and 8, and HX-220 (trade name: Acrylate monomer), 4.72 g of Irgacure 907 (manufactured by Ciba Specialty Chemicals) as a photopolymerization initiator, 0.47 g of Kayacure-DETX-S (manufactured by Nippon Gakuen Kogyo Co., Ltd.) (Manufactured by JASCO Corporation), 1.05 g of melamine as a thermosetting catalyst, and 20.95 g of methyl ethyl ketone as a concentration adjusting solvent were kneaded in a bead mill and uniformly dispersed to obtain a resist resin composition.

얻어진 조성물을 와이어바 코터 #20를 이용하여 지지 필름이 되는 폴리에틸렌테레프탈레이트 필름에 균일하게 도포하고 온도 70℃의 열풍 건조노를 통과시켜 두께 20μm의 수지층을 형성한 후, 이 수지층 상에 보호 필름이 되는 폴리에틸렌 필름을 붙여 드라이 필름을 얻었다. 얻어진 드라이 필름을 폴리이미드 프린트 기판(동회로 두께:12μm, 폴리이미드 필름 두께: 25μm)에 온도 80℃의 가열 롤을 이용하여 보호 필름을 박리하면서 수지층을 기판 전면에 붙였다. The resulting composition was uniformly applied to a polyethylene terephthalate film as a support film using a wire bar coater # 20 and passed through a hot air drying oven at 70 캜 to form a resin layer having a thickness of 20 탆. Then, A polyethylene film as a film was stuck to obtain a dry film. The obtained dry film was adhered to the entire surface of the substrate while peeling off the protective film using a heating roll having a temperature of 80 占 폚 on a polyimide print substrate (coater thickness 12 占 퐉, polyimide film thickness 25 占 퐉).

또한 실시예 10-5, 11-6, 12-5에서 이용한 (A), (B) 혼합품은 각각 실시예 1-1, 2-1 또는 3-1에서 조제한 산변성 카르복실레이트 화합물(A)와 실시예 4-1, 5-1 또는 6-1에서 조제한 상응하는 에폭시 수지를 이용한 폴리카르복시산 화합물(B)를 용액 중량으로 50:50 혼합한 것이다. (A) and (B) used in Examples 10-5, 11-6 and 12-5 were the same as those of the acid-modified carboxylate compound (A) prepared in Examples 1-1, And the polycarboxylic acid compound (B) using the corresponding epoxy resin prepared in Example 4-1, 5-1 or 6-1 were mixed 50:50 by the weight of the solution.

다음, 자외선 노광 장치((주) 오크제작소, 형식 HMW-680GW)를 이용하여 회로 패턴의 묘화된 마스크 및 감도를 추측하기 위해서 코닥제 스텝 타블렛 No.2를 통해 500mJ/cm2의 자외선을 조사하였다. 그 후, 드라이 필름상의 필름을 박리하고 박리 상태를 확인하였다. 그 후 1% 탄산나트륨 수용액으로 스프레이 현상을 실시하여 자외선 미조사부의 수지를 제거하였다. 수세 건조 후, 프린트 기판을 150℃ 열풍 건조기로 60분 가열 경화 반응시켜 경화막을 얻었다. Next, ultraviolet rays of 500 mJ / cm 2 were irradiated through Kodak Step Tablet No. 2 in order to estimate the mask and sensitivity of the circuit pattern by using an ultraviolet exposure apparatus (manufactured by OAK Corporation, type HMW-680GW) . Thereafter, the film on the dry film was peeled off and the peeling state was confirmed. Thereafter, spraying was performed with a 1% aqueous solution of sodium carbonate to remove the resin from the unexposed portion. After washing with water, the printed board was heated and cured by a hot air drier at 150 ° C for 60 minutes to obtain a cured film.

실시예 10, 11, 12 및 비교예 13, 14, 15, 16에서 얻어진 드라이 필름형 레지스트 경화막의 성능 평가를 하기에 나타낸 평가 방법에 의해 실시하였다(시험예 5~10). 각각 경화막의 평가 시험 결과를 표 5에 나타내었다.The performance evaluation of the dry film type resist cured films obtained in Examples 10, 11 and 12 and Comparative Examples 13, 14, 15 and 16 was carried out by the following evaluation methods (Test Examples 5 to 10). The evaluation test results of the respective cured films are shown in Table 5.

시험예 5: 내절성 평가Test Example 5: Evaluation of bending resistance

레지스트의 경화막을 형성한 폴리이미드 프린트 기판을 경화막측을 위로 출절하여 손가락으로 잘 잡아당겼다. 접곡부를 원래대로 되돌리고 레지스트막을 확대경으로 관찰하였다.The polyimide printed substrate on which the cured film of the resist was formed was spread out on the side of the cured film and pulled with a finger. The folded-back portion was returned to its original state and the resist film was observed with a magnifying glass.

평가 기준: ○: 균열 없음 △:일부 균열이 관찰됨 ×:박리함Evaluation criteria:?: No crack?: Partly crack observed?: Peeled off

시험예 6: 내냉열충격성 평가Test Example 6: Evaluation of cold and heat impact resistance

레지스트의 경화막을 형성한 폴리이미드 프린트 기판을 -65~120℃의 범위에서 냉열 충격시험을 실시하였다. 시험 방법은 JIS C5012-9.1:1993에 준거하였다. 시험 종료후, 셀로판 테이프(등록상표)에 의한 박리 시험을 실시하였다.A polyimide printed substrate having a cured film of a resist formed thereon was subjected to a cold shock test in the range of -65 to 120 캜. The test method was in accordance with JIS C5012-9.1: 1993. After the completion of the test, a peel test with a cellophane tape (registered trademark) was carried out.

평가 기준: ○:벗겨짐이 없음 △: 일부 벗겨짐이 관찰됨 ×:박리함Evaluation criteria:?: No peeling?: Some peeling was observed 占: Peeling was observed

시험예 7: 고온내습성 평가Test Example 7: Evaluation of High Temperature Moisture Resistance

레지스트의 경화막을 형성한 폴리이미드 프린트 기판을 120℃의 오토 클레이브 중에 1시간 넣었다. 기판을 꺼내 실온으로 풍건 시킨 후, 셀로판 테이프(등록상표)에 의한 박리 시험을 실시하였다.The polyimide printed substrate on which the cured film of the resist was formed was placed in an autoclave at 120 캜 for 1 hour. The substrate was taken out and air-dried at room temperature, and then subjected to a peeling test using Cellophane Tape (registered trademark).

평가 기준: ○:벗겨짐이 없음, △: 일부 벗겨짐이 관찰됨 ×:박리함Evaluation criteria:?: No peeling,?: Some peeling was observed, X: Peeling was observed

시험예 8: 감도 평가Test Example 8: Sensitivity evaluation

감도는 스텝 타블렛을 투과 한 노광부에 몇단째의 농도 부분까지가 현상시에 잔존하였는가로 판정하였다. 단수(값)가 큰 쪽이 타블렛의 농부에서 고감도인 것으로 판정된다(단위:단).The degree of sensitivity was judged as to whether or not the exposure to the exposed portion passing through the step tablet up to the concentration level at the second stage had remained at the time of development. It is judged that the one having a larger number (the value) is highly sensitive in the farmer of the tablet (unit: step).

시험예 9: 현상성 평가Test Example 9: Developability Evaluation

현상성은 패턴 마스크를 투과한 노광부를 현상할 때 패턴 형상부가 완전하게 현상될 때까지의 시간, 소위 브레이크 타임을 가지고 현상성을 평가하였다(단위:초).Developability was evaluated in terms of developability (unit: second) with the time until the pattern portion was completely developed when the exposed portion passed through the pattern mask was developed, that is, the so-called break time.

시험예 10: 경화성 평가Test Example 10: Evaluation of Curability

경화성 평가는 150℃ 가열 종료 후의 경화막의 연필 경도를 가지고 나타냈다. 평가방법은 JIS K5600-5-4:1999에 준거하였다.The curability evaluation showed a pencil hardness of the cured film after completion of heating at 150 캜. The evaluation method was in accordance with JIS K5600-5-4: 1999.

[표 5][Table 5]

Figure 112010003132778-pct00013
Figure 112010003132778-pct00013

상기의 결과로부터 알 수 있는 바와 같이 본 발명에서 레지스트 조성물은 비교적 높은 경도를 갖는 경화물을 얻을 수 있고 레지스트로서 양호한 현상성과 감도를 갖는다. 나아가 실시예 10, 11의 경우 높은 내절성을 갖는다. 또한 실시예 12에서 높은 내냉열충격성과 고온내습성을 갖는다. 비교예에 의한 레지스트 조성물 및 그 경화물은 내절성, 열변화에 의한 내충격성, 현상성 및 감도에 대하여 양호한 평가 결과를 나타내지 않고, 드라이 필름 레지스트 재료로서 불만족스러운 성능이었다.As can be seen from the above results, the resist composition in the present invention can obtain a cured product having a relatively high hardness and has good developability and sensitivity as a resist. Furthermore, in Examples 10 and 11, it has a high bendability. Also, in Example 12, it has high resistance to cold and heat and high-temperature moisture resistance. The resist compositions and cured products of the comparative examples did not show satisfactory evaluation results on the resistance to kneading, impact resistance due to thermal changes, developability and sensitivity, and were unsatisfactory as a dry film resist material.

실시예 13 및 비교예 17, 18: 난연성 수지 및 비교용 수지의 조제Example 13 and Comparative Examples 17 and 18: Preparation of flame retardant resin and comparative resin

실시예 10-2 및 비교예 13-1 및 16-1에서 조제한 레지스트 조성물 9.5g, 인산 에스테르계 난연제(시코쿠 화성 SP-703H) 0.5g를 혼합 교반하여 경화형 수지 조성물을 얻었다. 조성물을 막 두께 25미크론의 폴리이미드 필름에 와이어바 코터 #20로 도공, 온도 70℃의 열풍 건조노를 통과시켜 두께 약 15μm의 수지층을 형성하였다. 자외선 노광 장치((주) 오크제작소, 형식 HMW-680GW)를 이용하여 500mJ/cm2의 자외선을 조사하였다. 조사 후, 프린트 기판을 150℃의 열풍 건조기로 60분 가열 경화 반응시켜 경화막을 얻었다(각각 실시예 13, 비교예 17, 18).9.5 g of the resist composition prepared in Example 10-2 and Comparative Examples 13-1 and 16-1 and 0.5 g of a phosphate ester flame retardant (Shikoku Chemical SP-703H) were mixed and stirred to obtain a curable resin composition. The composition was coated on a polyimide film having a thickness of 25 microns with a wire bar coater # 20 and passed through a hot air drying oven at 70 캜 to form a resin layer having a thickness of about 15 탆. And irradiated with ultraviolet light of 500 mJ / cm 2 using an ultraviolet exposure apparatus (OAK Corporation, type HMW-680GW). After irradiation, the printed board was heated and cured by a hot-air dryer at 150 캜 for 60 minutes to obtain a cured film (Example 13, Comparative Examples 17 and 18, respectively).

시험예 11: 난연성 평가Test Example 11: Evaluation of Flame Retardancy

실시예 13, 비교예 17, 18에서 얻어진 경화막을 길이 20cm, 폭 2cm의 단책 상으로 폴리이미드 기재 필름과 함께 절출하였다. 절출한 필름을 종방향으로 매달고 하단부터 라이터로 불을 붙여 난연성을 평가하였다. 내절성과 비교하기 위하여 참고로 실시예 10-2, 비교예 13-1 및 16-1의 내절성 시험 데이터와 함께 하기와 같이 표 6에 기재하였다.The cured films obtained in Example 13 and Comparative Examples 17 and 18 were cut out together with a polyimide base film in a monolithic form having a length of 20 cm and a width of 2 cm. The exfoliated film was hanged in the longitudinal direction, and the flame retardancy was evaluated by lighting from the bottom to the lighter. In order to compare the abrasion resistance, the abrasion resistance test data of Example 10-2 and Comparative Examples 13-1 and 16-1 are shown in Table 6 as follows.

[표 6] [Table 6]

Figure 112010003132778-pct00014
Figure 112010003132778-pct00014

이상의 결과로부터 본 발명의 카르복실레이트 화합물은 난연성과 내절성이 양립할 수 있는 재료인 것을 알 수 있다.From the above results, it can be seen that the carboxylate compound of the present invention is a material capable of achieving compatibility between flame retardancy and abrasion resistance.

실시예 14, 15, 16 및 비교예 19, 20, 21, 22: 착색 안료 분산 수지의 조제Examples 14, 15 and 16 and Comparative Examples 19, 20, 21 and 22: Preparation of colored pigment dispersion resin

실시예 4, 5, 6 및 비교예 5, 6, 7, 8에서 얻어진 반응성 폴리카르복시산 화합물(B)를 20g, 그 외 반응성 화합물(C)로서 DPHA(상품명:일본 화약(주) 제 아크릴레이트 단량체) 5.0g, 유기용제로서 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트 10g, 착색 안료로서 미쯔비시 카본 블랙 MA-100 10g를 혼합 교반하였다. 거기에 35g의 유리 비즈를 넣어 페인트 쉐이커로 1시간 분산을 실시하였다. 20 g of the reactive polycarboxylic acid compound (B) obtained in Examples 4, 5 and 6 and Comparative Examples 5, 6, 7 and 8 and 20 g of DPHA (trade name: Acrylate Monomer ), 10 g of propylene glycol monomethyl ether acetate as an organic solvent, and 10 g of Mitsubishi carbon black MA-100 as a color pigment were mixed and stirred. Then, 35 g of glass beads were put therein and dispersed for 1 hour with a paint shaker.

분산 종료 후 분산액을 와이어바 코터 #2로 폴리에틸렌테레프탈레이트 필름상에 도공하고 80℃의 온풍 건조기로 10분간 건조하여 각 카본 블랙 분산 수지를 얻었다.After the dispersion was completed, the dispersion was coated on a polyethylene terephthalate film with a wire bar coater # 2 and dried in a hot air drier at 80 ° C for 10 minutes to obtain respective carbon black dispersion resins.

시험예 12: 안료 분산성에 관한 평가Test Example 12: Evaluation of pigment dispersibility

실시예 14, 15, 16 및 비교예 19, 20, 21, 22에서 얻어진 카본 블랙 분산 수지의 도막 표면의 광택을 60°반사 글로스계(호리바 제작소 IG-331 광택계)를 이용하여 측정하고 카본 블랙의 분산성을 평가하였다. 이때, 광택이 높은 쪽이 양호한 안료 분산성인 것을 나타낸다. 결과를 표 7에 나타내었다.The gloss of the surface of the coating film of the carbon black dispersion resin obtained in Examples 14, 15 and 16 and Comparative Examples 19, 20, 21 and 22 was measured using a 60 ° reflection gloss meter (HORIBA IG-331 gloss system) Was evaluated. At this time, the higher gloss indicates that the pigment dispersion is good. The results are shown in Table 7.

[표 7] [Table 7]

Figure 112010003132778-pct00015
Figure 112010003132778-pct00015

상기 결과로부터 본 발명의 반응성 폴리카르복시산 화합물(B)는 안료 분산성이 향상되는 것을 명확하게 알 수 있다. 비교예의 폴리카르복시산과의 차이로부터 안료 분산성 작용은 분자 중에 특정 구조를 기본 골격에 포함된 에폭시 수지와 화합물(c)의 첨가에 의한 효과의 차이이라고 고찰된다.From the above results, it can be clearly seen that the reactive polycarboxylic acid compound (B) of the present invention has improved pigment dispersibility. From the difference from the polycarboxylic acid of the comparative example, the pigment dispersing action is considered to be a difference in the effect of adding the epoxy resin and the compound (c) contained in the basic skeleton to the specific structure in the molecule.

실시예 17 및 비교예 23, 24: 착색 안료 분산 수지의 조제Example 17 and Comparative Examples 23 and 24: Preparation of colored pigment dispersion resin

실시예 4-2 및 비교예 5-1, 8-1에서 얻어진 반응성 폴리카르복시산 화합물(B)를 20g, 그 외 반응성 화합물(C)로서 DPHA(상품명:일본 화약(주) 제 아크릴레이트 단량체) 5.0g, 유기용제로서 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트 10g, 착색 안료로서 미쯔비시 카본 블랙 MA-100 10g를 혼합 교반하였다. 거기에 35g의 유리 비즈를 넣어 페인트 쉐이커로 1시간 분산을 실시하였다. 얻어진 카본 블랙 분산 수지액을 샘플병에 채취하여 착색 안료 분산을 얻었다.Except that 20 g of the reactive polycarboxylic acid compound (B) obtained in Example 4-2 and Comparative Examples 5-1 and 8-1 and 5.0 g of a DPHA (trade name: Acrylate Monomer, manufactured by Nippon Gakuin KK) as the other reactive compound (C) 10 g of propylene glycol monomethyl ether acetate as an organic solvent, and 10 g of Mitsubishi carbon black MA-100 as a coloring pigment were mixed and stirred. Then, 35 g of glass beads were put therein and dispersed for 1 hour with a paint shaker. The resulting carbon black dispersion resin solution was taken in a sample bottle to obtain a colored pigment dispersion.

시험예 13: 착색 안료 분산액의 보존 안정성 평가Test Example 13: Evaluation of storage stability of a colored pigment dispersion

실시예 17 및 비교예 23, 24에서 조제한 착색 안료 분산액을 40℃에서 2주간 정치 보관하여 그 분산액 상태를 목시로 평가하였다. 결과를 표 8에 나타내었다.The colored pigment dispersions prepared in Example 17 and Comparative Examples 23 and 24 were kept at 40 占 폚 for 2 weeks, and the state of the dispersions was evaluated. The results are shown in Table 8.

[표 8] [Table 8]

Figure 112010003132778-pct00016
Figure 112010003132778-pct00016

상기의 결과로부터 알 수 있는 바와 같이 실시예에 의한 착색 안료 분산액은 40℃에서 2주간 경과해도 분산액의 분리가 없고 균일한 상태를 유지하고 있다. 한편 비교예 23은 상층에 투명한 층(니스 부유)이 관찰되어 분산 상태가 불안정하였다. 비교예 24에서는 착색 안료의 침전이 생겨 교반해도 균일하게 안 되는 상태가 되었다. As can be seen from the above results, the dispersion of the coloring pigment according to the example maintains a uniform state without separation of the dispersion even after 2 weeks at 40 占 폚. On the other hand, in Comparative Example 23, a transparent layer (varnish suspension) was observed in the upper layer and the dispersion state was unstable. In Comparative Example 24, precipitation of the coloring pigment occurred, and even when stirred, the state was not uniform.

상기의 결과로부터 본 발명의 반응성 폴리카르복시산 화합물(B)에 특정 구조를 기본 골격으로 한 에폭시 수지(a)에 분자 중에 1개 이상의 중합 가능한 에틸렌성 불포화기와 1개 이상의 카르복시기를 겸비하는 화합물(b) 및 분자 중에 1개 이상의 수산기와 1개 이상의 카르복시기를 겸비하는 화합물(c)를 도입하는 것에 의해 안료의 분산성이 향상됨과 동시에 안료 분산액의 보존 안정성이 향상되는 것을 명확하게 알 수 있다. From the above results, it was confirmed that the compound (b) having an ethylenic unsaturated group having at least one polymerizable ethylenic unsaturated group and at least one carboxyl group added to the epoxy resin (a) having a specific structure as a basic skeleton of the reactive polycarboxylic acid compound (B) And the compound (c) having at least one hydroxyl group and at least one carboxyl group in the molecule, thereby improving the dispersibility of the pigment and improving the storage stability of the pigment dispersion.

산업상의 이용 가능성 Industrial availability

본 발명의 활성 에너지선 경화형 수지는 경화성과 유연성, 강인성, 난연성을 겸비하는 재료로서, 하드 코트 재료, 알칼리 현상 가능한 플렉서블성이 필요한 레지스트 재료, 양호한 안료 분산성을 발휘하는 용도를 나타내고, 예컨대 활성 에너지선 경화형의 인쇄 잉크, 칼라 레지스트, 특히 안료 분산성과 현상성 등의 레지스트 적성을 겸비하는 재료로서 LCD용의 칼라 레지스트, 특히 블랙 매트릭스 등에 적합하게 이용할 수 있다. The active energy ray-curable resin of the present invention is a material having both hardenability, flexibility, toughness and flame retardancy, and is used as a hard coat material, a resist material requiring flexibility capable of developing alkali, and an application for exhibiting good pigment dispersibility, And can be suitably used for a color resist for LCDs, in particular, a black matrix, as a material that combines a line-hardening type of printing ink and a color resist, particularly resist properties such as pigment dispersibility and developability.

Claims (14)

일반식(1)로 표시되는 에폭시 수지(a), 1 분자 중에 1개 이상의 중합 가능한 에틸렌성 불포화기와 1개 이상의 카르복시기를 겸비하는 화합물(b) 및 1 분자 중에 1개 이상의 수산기와 1개 이상의 카르복시기를 겸비하는 화합물(c)를 반응시켜 얻어지는 반응성 에폭시카르복실레이트 화합물(A)에 다염기산 무수물(d)를 반응시켜 얻어지는 반응성 폴리카르복시산 화합물(B), 및 착색 안료를 함유하는 것을 특징으로 하는 활성 에너지선 경화형 칼라 레지스트용 수지 조성물.
Figure 112014073406267-pct00017

(식 중, R1은 서로 동일 또는 상이하게 수소 원자, 할로겐 원자 또는 탄소수 1~4의 탄화수소기를, R2는 탄소수 7~16의 2가 다환식 탄화수소기 또는 탄소수 7~18의 아랄킬렌기를, m은 1~4의 정수를, 또한 n은 평균치로 1~10의 정수를 각각 나타낸다)
(B) an epoxy resin (a) represented by the general formula (1), a compound (b) having both at least one polymerizable ethylenic unsaturated group and at least one carboxyl group in one molecule and at least one hydroxyl group and at least one carboxyl group (B) a reactive polycarboxylic acid compound (B) obtained by reacting a reactive epoxycarboxylate compound (A) obtained by reacting a compound (c) having a functional group (EN) Resin composition for line - curable color resist.
Figure 112014073406267-pct00017

Wherein R 1 is a hydrogen atom, a halogen atom or a hydrocarbon group having 1 to 4 carbon atoms, R 2 is a divalent polycyclic hydrocarbon group having 7 to 16 carbon atoms or an aralkylene group having 7 to 18 carbon atoms, m is an integer of 1 to 4, and n is an average value of an integer of 1 to 10, respectively)
제1항에 있어서, 에폭시 수지(a)가 일반식(2)인 활성 에너지선 경화형 칼라 레지스트용 수지 조성물.
Figure 112014073406267-pct00018

(식 중, R3은 서로 동일 또는 상이하게 수소 원자, 할로겐 원자 또는 탄소수 1~4의 탄화수소기를, o는 1~4의 정수를, 또한 p는 평균치로 1~10의 정수를 각각 나타낸다)
The active energy ray-curable color resist composition according to claim 1, wherein the epoxy resin (a) is represented by the general formula (2).
Figure 112014073406267-pct00018

(Wherein, R 3 is the same or different from each other a hydrogen atom, a halogen atom or a hydrocarbon group of a carbon number of 1 to 4, o is an integer of 1-4, and p represents an integer of 1 to 10 as a mean value, respectively)
제1항에 있어서, 에폭시 수지(a)가 일반식(3)인 활성 에너지선 경화형 칼라 레지스트용 수지 조성물.
Figure 112014073406267-pct00019

(식 중, R4는 서로 동일 또는 상이하게 수소 원자, 할로겐 원자 또는 탄소수 1~4의 탄화수소기를, q는 1~4의 정수를, 또한 r은 평균치로 1~10의 정수를 각각 나타낸다)
The active energy ray-curable color resist composition according to claim 1, wherein the epoxy resin (a) is represented by the general formula (3).
Figure 112014073406267-pct00019

(Wherein R 4 is the same or different and represents a hydrogen atom, a halogen atom or a hydrocarbon group of 1 to 4 carbon atoms, q represents an integer of 1 to 4, and r represents an integer of 1 to 10, respectively,
제1항에 있어서, 에폭시 수지(a)가 일반식(4)인 활성 에너지선 경화형 칼라 레지스트용 수지 조성물.
Figure 112014073406267-pct00020

(식 중, R5는 서로 동일 또는 상이하게 수소 원자, 할로겐 원자 또는 탄소수 1~4의 탄화수소기를, s는 1~4의 정수를, 또한 t는 평균치로 1~10의 정수를 각각 나타낸다)
The active energy ray-curable color resist composition according to claim 1, wherein the epoxy resin (a) is represented by the general formula (4).
Figure 112014073406267-pct00020

(Wherein R 5 is the same or different and represents a hydrogen atom, a halogen atom or a hydrocarbon group of 1 to 4 carbon atoms, s represents an integer of 1 to 4, and t represents an integer of 1 to 10, respectively,
제1항 내지 제4항 중 어느 한 항에 있어서, (B) 이외의 반응성 화합물(C)를 추가로 포함하는 것을 특징으로 하는 활성 에너지선 경화형 칼라 레지스트용 수지 조성물. 5. The resin composition for active energy ray-curable color resist according to any one of claims 1 to 4, further comprising a reactive compound (C) other than (B). 제1항 내지 제4항 중 어느 한 항에 있어서, 광중합 개시제를 추가로 포함하는 것을 특징으로 하는 활성 에너지선 경화형 칼라 레지스트용 수지 조성물. 5. The resin composition for active energy ray-curable color resists according to any one of claims 1 to 4, further comprising a photopolymerization initiator. 제1항 내지 제4항 중 어느 한 항에 있어서, 성형용 재료인 활성 에너지선 경화형 칼라 레지스트용 수지 조성물. The active energy ray-curable color resist composition according to any one of claims 1 to 4, which is a molding material. 제1항 내지 제4항 중 어느 한 항에 있어서, 피막 형성용 재료인 활성 에너지선 경화형 칼라 레지스트용 수지 조성물. The resin composition for active energy ray-curable color resist according to any one of claims 1 to 4, which is a film-forming material. 제1항 내지 제4항 중 어느 한 항에 있어서, 레지스트 재료 조성물인 활성 에너지선 경화형 칼라 레지스트용 수지 조성물. The resin composition for active energy ray-curable color resist according to any one of claims 1 to 4, which is a resist material composition. 제1항 내지 제4항 중 어느 한 항에 기재된 활성 에너지선 경화형 칼라 레지스트용 수지 조성물의 경화물.A cured product of the resin composition for active energy ray-curable color resist according to any one of claims 1 to 4. 제1항 내지 제4항 중 어느 한 항에 기재된 활성 에너지선 경화형 칼라 레지스트용 수지 조성물로 오버코트된 물품.
An article overcoated with a resin composition for an active energy ray-curable color resist according to any one of claims 1 to 4.
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