JP2013108093A - Reactive carboxylate compound, active energy ray-curable resin composition using the same, and application thereof - Google Patents

Reactive carboxylate compound, active energy ray-curable resin composition using the same, and application thereof Download PDF

Info

Publication number
JP2013108093A
JP2013108093A JP2013034360A JP2013034360A JP2013108093A JP 2013108093 A JP2013108093 A JP 2013108093A JP 2013034360 A JP2013034360 A JP 2013034360A JP 2013034360 A JP2013034360 A JP 2013034360A JP 2013108093 A JP2013108093 A JP 2013108093A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
compound
active energy
resin composition
energy ray
reactive
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2013034360A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Kazuyoshi Yamamoto
和義 山本
Toru Kurihashi
透 栗橋
Takafumi Horiguchi
尚文 堀口
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Nippon Kayaku Co Ltd
Original Assignee
Nippon Kayaku Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Nippon Kayaku Co Ltd filed Critical Nippon Kayaku Co Ltd
Priority to JP2013034360A priority Critical patent/JP2013108093A/en
Publication of JP2013108093A publication Critical patent/JP2013108093A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Epoxy Resins (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a dispersant of a color pigment which provides an active energy ray-curable resin composition with good hardness and flame retardancy.SOLUTION: A reactive epoxy carboxylate compound (A) which is the dispersant of a color pigment, a reactive polycarboxylic acid compound thereof, and a resin composition including them are provided.

Description

本発明は、ビフェニル骨格を有するフェノールアラルキル型エポキシ樹脂(a)に、アクリル酸等に代表される分子中に一個以上の重合可能なエチレン性不飽和基と一個以上のカルボキシル基を併せ持つ化合物(b)反応せしめて得られる反応性エポキシカルボキシレート化合物(A)、及びその酸変性物である反応性ポリカルボン酸化合物(B)に関する。これら反応性エポキシカルボキシレート化合物(A)及び反応性ポリカルボン酸化合物(B)は顔料への良好な親和性を有しており、またこれらを含む樹脂組成物からは強靭な硬化物を得ることができる。 The present invention relates to a compound (b) having at least one polymerizable ethylenically unsaturated group and one or more carboxyl groups in a molecule represented by acrylic acid or the like (b) in a phenol aralkyl type epoxy resin (a) having a biphenyl skeleton. ) reactivity obtained by reacting an epoxy carboxylate compound (a), and the reactive polycarboxylic acid compound is an acid-modified product relates (B). These reactive epoxycarboxylate compound (A) and reactive polycarboxylic acid compound (B) have good affinity for the pigment, and a tough cured product is obtained from the resin composition containing them. Can do.

プリント配線板は携帯機器の小型軽量化や通信速度の向上をめざし、高精度、高密度化が求められており、それに伴いその回路自体を被覆するソルダーレジストへの要求も増々高度となり、従来の要求よりも、さらに耐熱性、熱安定性を保ちながら基板密着性、高絶縁性、無電解金メッキ性に耐えうる性能が要求されており、より強靭な硬化物性を有する皮膜形成用材料が求められていた。   With the aim of reducing the size and weight of portable devices and improving communication speed, printed wiring boards are required to have high precision and high density. With this, the demand for solder resists that cover the circuit itself has become increasingly sophisticated. Performance that can withstand substrate adhesion, high insulation, and electroless gold plating while maintaining heat resistance and thermal stability is required more than required, and a film forming material with tougher cured material properties is required. It was.

これら材料として、一般的なエポキシ樹脂にアクリル酸と水酸基を有するカルボン酸化合物を併せて反応せしめて得られるカルボキシレート化合物が、低酸価でありながら優れた現像性を有する材料として公知であり、さらにこの化合物がレジストインキ適性を有することは公知である。(特許文献1)   As these materials, a carboxylate compound obtained by reacting a common epoxy resin with a carboxylic acid compound having a hydroxyl group and a common epoxy resin is known as a material having excellent developability while having a low acid value, Furthermore, it is known that this compound has resist ink suitability. (Patent Document 1)

一方フェノールアラルキル型エポキシ樹脂(例えば日本化薬製NC−3000など)を基本骨格とした酸変性エポキシアクリレートは、硬化後に高い強靭性を示す材料として一般に公知であり、またこれを用いたソルダーレジストとしての用途についても検討が行われている。(特許文献2))   On the other hand, acid-modified epoxy acrylate having a phenol aralkyl type epoxy resin (for example, NC-3000 manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.) as a basic skeleton is generally known as a material exhibiting high toughness after curing, and as a solder resist using this. The use of is also being studied. (Patent Document 2))

この他、フェノールアラルキル型エポキシ樹脂(例えば日本化薬製NC−3000など)を基本骨格とした酸変性エポキシアクリレートにカーボンブラック等を分散させ液晶表示パネル等に用いられるブラックマトリクスレジストに応用する試みも知られている。(特許文献3)
本用途においては、カーボンブラック等の着色顔料を高濃度に配合する場合には、顔料が良好に樹脂と親和し顔料が分散することで、高濃度に顔料が存在しても良好な現像性を示し、顔料残渣がなく現像が可能になる。従来の酸変性エポキシアクリレート類、特にビフェニル骨格を有する酸変性エポキシアクリレート類は比較的良好な分散性を示すものの、より高顔料濃度での現像性、即ちより高い顔料分散性を求められていた。しかしながら、良好な顔料との親和性と骨格が剛直な構造を有しているために、顔料分散体とした場合にその分散液が擬似的に凝集してしまい、安定性が良くないという難点があった。
In addition, an attempt to apply a black matrix resist used in liquid crystal display panels by dispersing carbon black or the like in an acid-modified epoxy acrylate having a phenol aralkyl type epoxy resin (eg, Nippon Kayaku NC-3000) as a basic skeleton. Are known. (Patent Document 3)
In this application, when coloring pigments such as carbon black are blended at a high concentration, the pigment has good affinity with the resin and the pigment is dispersed, so that good developability can be obtained even when the pigment is present at a high concentration. As shown, there is no pigment residue and development is possible. Conventional acid-modified epoxy acrylates, particularly acid-modified epoxy acrylates having a biphenyl skeleton, exhibit relatively good dispersibility, but have been required to have developability at a higher pigment concentration, that is, higher pigment dispersibility. However, since the affinity with the good pigment and the skeleton have a rigid structure, when the pigment dispersion is made, the dispersion liquid is pseudo-aggregated and the stability is not good. there were.

なお、本発明において用いられるエポキシ樹脂(a)は、すでに公知である(特許文献4)。   In addition, the epoxy resin (a) used in this invention is already well-known (patent document 4).

特開平06−324490号公報Japanese Patent Laid-Open No. 06-324490 特開平11−140144号公報JP-A-11-140144 特開2005−55814号公報JP 2005-55814 A 特許第2952094号公報Japanese Patent No. 2952094

前記、フェノールアラルキル型のエポキシ樹脂を使用する硬化型樹脂組成物は比較的強靭な硬化物を得ることができるものの、基板の折り曲げ等にも耐えられるさらなる強靭な硬化物性が求められている。
さらに、着色顔料、特にカーボンブラック等への分散がより高く、高い顔料濃度でも良好な現像特性を有する酸変性エポキシアクリレートが求められている。この際、比較的高い分子量を有しており、かつ適度な現像性を有している材料が求められている。
本発明の反応性エポキシカルボキシレート化合物を用いることで、紫外線等の活性エネルギー線等により硬化し、良好な保存安定性を有し、また、良好な難燃特性を有しつつ、さらに耐折性に優れた強靭な皮膜を得ることができる。
この他、着色系のレジスト組成物とした場合、高い顔料濃度においても良好な現像特性を得ることが出来る。
Although the curable resin composition using the phenol aralkyl type epoxy resin can obtain a relatively tough cured product, there is a demand for further toughened cured material properties that can withstand bending of the substrate.
Furthermore, there is a need for acid-modified epoxy acrylates that have higher dispersion in colored pigments, especially carbon black, and that have good development characteristics even at high pigment concentrations. At this time, a material having a relatively high molecular weight and appropriate developability is required.
By using the reactive epoxycarboxylate compound of the present invention, it is cured by active energy rays such as ultraviolet rays, has good storage stability, and also has good flame retardancy and further folding resistance. A tough film with excellent resistance can be obtained.
In addition, when a colored resist composition is used, good development characteristics can be obtained even at a high pigment concentration.

本発明者らは前述の課題を解決するため、特定構造を有するエポキシ樹脂に、分子中に一個以上の重合可能なエチレン性不飽和基と一個以上のカルボキシル基を併せ持つ化合物(b)反応せしめて得られる反応性エポキシカルボキシレート化合物、更にはそれに多塩基酸無水物(d)を反応せしめて得られる反応性ポリカルボン酸化合物が、特に優れた樹脂物性を有することを見出した。
さらには、特に良好な着色顔料との親和性を有していることを見出し、高い顔料濃度でも良好な現像性を持つレジスト材料となりうることを見出した。
即ち、本発明は、
下記一般式(1)で示されるエポキシ樹脂(a)一分子中に一個以上の重合可能なエチレン性不飽和基と一個以上のカルボキシル基を併せ持つ化合物(b)反応せしめて得られる着色顔料の分散剤である反応性エポキシカルボキシレート化合物(A)に関する。
Since the present inventors to solve the problems described above, the epoxy resin having a specific structure, reacted the compound having one or more polymerizable ethylenically unsaturated groups and one or more carboxyl groups in the molecule (b) It has been found that the reactive epoxycarboxylate compound obtained in this way, and the reactive polycarboxylic acid compound obtained by reacting it with the polybasic acid anhydride (d) have particularly excellent resin properties.
Furthermore, it has been found that it has a particularly good affinity with colored pigments and can be a resist material having good developability even at a high pigment concentration.
That is, the present invention
Colored pigments obtained by reacting the compound (b) to the epoxy resin (a) in one molecule both a one or more polymerizable ethylenically unsaturated groups and one or more carboxyl groups represented by the following general formula (1) It is related with the reactive epoxy carboxylate compound (A) which is a dispersing agent of this .

Figure 2013108093
Figure 2013108093

(式中、R1は同一もしくは異なり、水素原子、ハロゲン原子または炭素数1〜4の炭化水素基を、mは1〜4の整数を、またnは平均値で1〜10の正数をそれぞれ示す。)
さらに、上記で得られたカルボキシレート化合物(A)に多塩基酸無水物(d)を反応せしめて得られる着色顔料の分散剤である反応性ポリカルボン酸化合物(B)に関する。
さらに、上記カルボキシレート化合物(A)及び/又は反応性ポリカルボン酸化合物(B)を含むことを特徴とする活性エネルギー線硬化型樹脂組成物に関する。
さらに、(A)、(B)以外の反応性化合物(C)を含むことを特徴とする活性エネルギー線硬化型樹脂組成物に関する。
さらに、上記活性エネルギー線硬化型樹脂組成物に着色顔料を含有させることを特徴とする活性エネルギー線硬化型樹脂組成物に関する。
さらに、成形用材料である上記活性エネルギー線硬化型樹脂組成物に関する。
さらに、皮膜形成用材料である上記活性エネルギー線硬化型樹脂組成物に関する。
さらに、レジスト材料組成物である上記活性エネルギー線硬化型樹脂組成物に関する。
さらに、上記活性エネルギー線硬化型樹脂組成物の硬化物に関する。
さらに、上記活性エネルギー線硬化型樹脂組成物でオーバーコートされた物品に関する。
Wherein R 1 is the same or different and represents a hydrogen atom, a halogen atom or a hydrocarbon group having 1 to 4 carbon atoms, m is an integer of 1 to 4, and n is a positive number of 1 to 10 on average. Respectively.)
Furthermore, it is related with the reactive polycarboxylic acid compound (B) which is a dispersing agent of the coloring pigment obtained by making the carboxylate compound (A) obtained above react with a polybasic acid anhydride (d).
Furthermore, the present invention relates to an active energy ray-curable resin composition comprising the carboxylate compound (A) and / or a reactive polycarboxylic acid compound (B).
Furthermore, the present invention relates to an active energy ray-curable resin composition comprising a reactive compound (C) other than (A) and (B).
Furthermore, the present invention relates to an active energy ray-curable resin composition characterized by containing a coloring pigment in the active energy ray-curable resin composition.
Furthermore, it is related with the said active energy ray hardening-type resin composition which is a molding material.
Furthermore, it is related with the said active energy ray hardening-type resin composition which is a film forming material.
Furthermore, it is related with the said active energy ray hardening-type resin composition which is a resist material composition.
Furthermore, it is related with the hardened | cured material of the said active energy ray curable resin composition.
Further, the present invention relates to an article overcoated with the active energy ray-curable resin composition.

本発明の特定構造を有するエポキシ樹脂を含む活性エネルギー線硬化型樹脂組成物は、強靭な硬化物を得るだけではなく溶剤を乾燥させただけの状態においても優れた樹脂物性を有している。本発明の活性エネルギー線硬化型樹脂組成物から得られる硬化物は、熱的、及び機械的強靭性を求められる皮膜形成用材料に好適に用いることが出来る。
さらに好適にはプリント配線板用ソルダーレジスト、多層プリント配線板用層間絶縁材料、フレキシブルプリント配線板用ソルダーレジスト、メッキレジスト、感光性光導波路等の特に高い特性を求められる用途に用いることが出来る。
さらに、カーボンブラック等の着色顔料との高い親和性を有していることから、高い顔料濃度においても良好な現像性を発揮することが出来ることから、カラーレジスト、カラーフィルタ用のレジスト材料、特にブラックマトリックス材料等にも好適に用いることが出来る。
The active energy ray-curable resin composition containing an epoxy resin having a specific structure of the present invention has excellent resin properties not only in obtaining a tough cured product but also in a state where the solvent is only dried. The cured product obtained from the active energy ray-curable resin composition of the present invention can be suitably used as a film-forming material that requires thermal and mechanical toughness.
More preferably, it can be used for applications requiring particularly high characteristics such as solder resists for printed wiring boards, interlayer insulating materials for multilayer printed wiring boards, solder resists for flexible printed wiring boards, plating resists, and photosensitive optical waveguides.
Furthermore, since it has high affinity with colored pigments such as carbon black, it can exhibit good developability even at high pigment concentrations, so that resist materials for color resists and color filters, particularly It can be suitably used for a black matrix material or the like.

本発明の反応性エポキシカルボキシレート化合物(A)は、特徴的なビフェニル骨格を有する下記式(1)で示されるエポキシ樹脂(a)に、反応性を付与させるため分子中に一個以上の重合可能なエチレン性不飽和基と一個以上のカルボキシル基を併せ持つ化合物(b)反応させて得られる。 The reactive epoxycarboxylate compound (A) of the present invention can be polymerized with one or more polymers in the molecule in order to impart reactivity to the epoxy resin (a) represented by the following formula (1) having a characteristic biphenyl skeleton. It reacted ethylenically unsaturated group and a compound having both one or more carboxyl groups (b) is obtained.

Figure 2013108093
Figure 2013108093

即ち、エチレン性不飽和基と水酸基を同時にエポキシカルボキシレート化により、分子鎖中に導入することで、本発明の特徴発揮されるものである。 That is, the feature of the present invention is exhibited by simultaneously introducing an ethylenically unsaturated group and a hydroxyl group into a molecular chain by epoxy carboxylation.

本発明において用いられる一般式(1)で示されるエポキシ樹脂(a)は、ビフェニル骨格を有する特定の構造であることが必須である。式中、R1は同一もしくは異なり、水素原子、ハロゲン原子または炭素数1〜4の炭化水素基をしめす。ここで示されるハロゲン原子とは、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子をしめす。また炭素数1〜4の炭化水素基とは、メチル基、エチル基、エチレン基、プロピル基、プロピレン基、ブチル基、ブチレン基等の飽和及び不飽和炭化水素基を示す。
さらに、一般式(1)中、mは1〜4の整数を示し、導入される官能基数を示す。nは平均値で1〜10の正数をそれぞれ示し、好ましくは1〜6である。nの値が10、好ましくは6よりも小さい場合、好適な粘度範囲となる。
It is essential that the epoxy resin (a) represented by the general formula (1) used in the present invention has a specific structure having a biphenyl skeleton. In the formula, R 1 is the same or different and represents a hydrogen atom, a halogen atom or a hydrocarbon group having 1 to 4 carbon atoms. The halogen atom shown here represents a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, or an iodine atom. Moreover, a C1-C4 hydrocarbon group shows saturated and unsaturated hydrocarbon groups, such as a methyl group, an ethyl group, ethylene group, a propyl group, a propylene group, a butyl group, butylene group.
Furthermore, in General formula (1), m shows the integer of 1-4 and shows the number of functional groups introduce | transduced. n is an average value and represents a positive number of 1 to 10, preferably 1 to 6, respectively. If the value of n is less than 10, preferably less than 6, a suitable viscosity range is obtained.

一般式(1)で示されるエポキシ樹脂(a)のうち、R1が全て水素原子であるものが、安価に入手可能であり好ましい。
さらに、これらの製法等については、公知であり、特許文献4に詳しく記載されている。一般的には、日本化薬より、NC−3000シリーズとして市販品を入手可能である。
NC−3000シリーズは、上記式中、R1は全て水素原子であり、またnは平均値で1〜10の正数をそれぞれ示す。本発明ではシリーズのグレード中で好適なものを適宜選択できる。
Of the epoxy resins (a) represented by the general formula (1), those in which R 1 is all hydrogen atoms are preferred because they are available at low cost.
Furthermore, these production methods and the like are known and described in detail in Patent Document 4. Generally, commercial products are available from Nippon Kayaku as NC-3000 series.
In the NC-3000 series, in the above formula, all R 1 are hydrogen atoms, and n is an average value of 1 to 10 positive numbers. In the present invention, a suitable one of the series grades can be appropriately selected.

本発明において用いられる一分子中に一個以上の重合可能なエチレン性不飽和基と一個以上のカルボキシル基を併せ持つ化合物(b)は、活性エネルギー線への反応性を付与させるために反応せしめるものである。これらにはモノカルボン酸化合物、ポリカルボン酸化合物が挙げられる。   The compound (b) having one or more polymerizable ethylenically unsaturated groups and one or more carboxyl groups in one molecule used in the present invention is reacted in order to impart reactivity to active energy rays. is there. These include monocarboxylic acid compounds and polycarboxylic acid compounds.

一分子中にカルボキシル基をひとつ含むモノカルボン酸化合物としては、例えば(メタ)アクリル酸類やクロトン酸、α−シアノ桂皮酸、桂皮酸、或いは飽和または不飽和二塩基酸と不飽和基含有モノグリシジル化合物との反応物が挙げられる。上記においてアクリル酸類としては、例えば(メタ)アクリル酸、β−スチリルアクリル酸、β−フルフリルアクリル酸、(メタ)アクリル酸二量体、飽和または不飽和二塩基酸無水物と一分子中に一個の水酸基を有する(メタ)アクリレート誘導体と当モル反応物である半エステル類、飽和または不飽和二塩基酸とモノグリシジル(メタ)アクリレート誘導体類との当モル反応物である半エステル類等が挙げられる。   Examples of monocarboxylic acid compounds containing one carboxyl group in one molecule include (meth) acrylic acids, crotonic acid, α-cyanocinnamic acid, cinnamic acid, or saturated or unsaturated dibasic acid and unsaturated group-containing monoglycidyl. A reaction product with a compound is mentioned. In the above, examples of the acrylic acid include (meth) acrylic acid, β-styrylacrylic acid, β-furfurylacrylic acid, (meth) acrylic acid dimer, saturated or unsaturated dibasic acid anhydride and one molecule. (Meth) acrylate derivatives having a single hydroxyl group and half-esters that are equimolar reactants, half-esters that are equimolar reactants of saturated or unsaturated dibasic acid and monoglycidyl (meth) acrylate derivatives, etc. Can be mentioned.

さらに一分子中にカルボキシル基を複数有するポリカルボン酸化合物としては、一分子中に複数の水酸基を有する(メタ)アクリレート誘導体と当モル反応物である半エステル類、飽和または不飽和二塩基酸と複数のエポキシ基を有するグリシジル(メタ)アクリレート誘導体類との当モル反応物である半エステル類等が挙げられる。   Furthermore, as a polycarboxylic acid compound having a plurality of carboxyl groups in one molecule, a (meth) acrylate derivative having a plurality of hydroxyl groups in one molecule and a half ester, a saturated or unsaturated dibasic acid as an equimolar reaction product, and And half-esters which are equimolar reaction products with glycidyl (meth) acrylate derivatives having a plurality of epoxy groups.

これらのうち最も好ましくは、活性エネルギー線硬化型樹脂組成物としたときの感度の点で(メタ)アクリル酸、(メタ)アクリル酸とε−カプロラクトンとの反応生成物または桂皮酸が挙げられる。
一分子中に一個以上の重合可能なエチレン性不飽和基と一個以上のカルボキシル基を併せ持つ化合物(b)としては、化合物中に水酸基を有さないものが好ましい。
Of these, most preferable are (meth) acrylic acid, a reaction product of (meth) acrylic acid and ε-caprolactone, or cinnamic acid in terms of sensitivity when an active energy ray-curable resin composition is used.
As the compound (b) having at least one polymerizable ethylenically unsaturated group and at least one carboxyl group in one molecule, those having no hydroxyl group in the compound are preferable.

本発明において用いられる一分子中に一個以上の水酸基と一個以上のカルボキシル基を併せ持つ化合物(c)は、カルボキシレート化合物中に水酸基を導入することを目的として反応せしめるものである。これらには、一分子中に一個の水酸基を一個のカルボキシル基を併せ持つ化合物、一分子中に二つ以上の水酸基と一個のカルボキシル基を合わせもつ化合物、一分子中に一個以上の水酸基と二個以上のカルボキシル基を併せ持つ化合物がある。   The compound (c) having one or more hydroxyl groups and one or more carboxyl groups in one molecule used in the present invention is reacted for the purpose of introducing hydroxyl groups into the carboxylate compound. These include compounds having one hydroxyl group in one molecule and one carboxyl group, compounds having two or more hydroxyl groups and one carboxyl group in one molecule, one or more hydroxyl groups in one molecule and two There are compounds having both of the above carboxyl groups.

一分子中に一個の水酸基を一個のカルボキシル基を併せ持つ化合物としては、例えばヒドロキシプロピオン酸、ヒドロキシブタン酸、ヒドロキシステアリン酸等が挙げられる。
また一分子中に二つ以上の水酸基と一個のカルボキシル基を合わせもつ化合物としては、ジメチロール酢酸、ジメチロールプロピオン酸、ジメチロールブタン酸等が挙げられる。
一分子中に一個以上の水酸基と二個以上のカルボキシル基を併せ持つ化合物としてはヒドロキシフタル酸等が挙げられる。
Examples of the compound having one hydroxyl group and one carboxyl group in one molecule include hydroxypropionic acid, hydroxybutanoic acid, hydroxystearic acid and the like.
Examples of the compound having two or more hydroxyl groups and one carboxyl group in one molecule include dimethylolacetic acid, dimethylolpropionic acid, and dimethylolbutanoic acid.
Examples of the compound having one or more hydroxyl groups and two or more carboxyl groups in one molecule include hydroxyphthalic acid.

これらのうち、水酸基は一分子中に二個以上含まれるものが、本発明の効果を考慮すると好ましい。さらに、カルボキシル基は一分子中一個であるものがカルボキシレート化反応の安定性を考慮すると好ましい。最も好ましくは、一分子中に二個の水酸基と一個のカルボキシル基を有するもの好ましい。原材料の入手を考慮すれば、ジメチロールプロピオン酸とジメチロールブタン酸が特に好適である。
一分子中に一個以上の水酸基と一個以上のカルボキシル基を併せ持つ化合物(c)としては、化合物中に重合可能なエチレン性不飽和基を有さないものが好ましい。
Among these, those having two or more hydroxyl groups in one molecule are preferable in view of the effects of the present invention. Furthermore, it is preferable that the carboxyl group is one in one molecule in view of the stability of the carboxylation reaction. Most preferably, it has two hydroxyl groups and one carboxyl group in one molecule. Considering the availability of raw materials, dimethylolpropionic acid and dimethylolbutanoic acid are particularly suitable.
As the compound (c) having both one or more hydroxyl groups and one or more carboxyl groups in one molecule, those having no polymerizable ethylenically unsaturated group in the compound are preferable.

これらのうち、前記のエポキシ樹脂(a)とカルボン酸化合物(b)および(c)の反応の安定性を考慮すると、(b)および(c)はモノカルボン酸であることが好ましく、モノカルボン酸とポリカルボン酸を併用する場合でも、モノカルボン酸の総計モル量/ポリカルボン酸の総計モル量で表される値が15以上であることが好ましい。   Among these, considering the stability of the reaction between the epoxy resin (a) and the carboxylic acid compounds (b) and (c), it is preferable that (b) and (c) are monocarboxylic acids. Even when the acid and the polycarboxylic acid are used in combination, the value represented by the total molar amount of the monocarboxylic acid / the total molar amount of the polycarboxylic acid is preferably 15 or more.

この反応におけるエポキシ樹脂(a)とカルボン酸化合物(b)および(c)のカルボン酸総計の仕込み割合としては、用途に応じて適宜変更されるべきものである。即ち、全てのエポキシ基をカルボキシレート化した場合は、未反応のエポキシ基が残存しないために、反応性カルボキシレート化合物としての保存安定性は高い。この場合は、導入した二重結合による反応性のみを利用することになる。   The charge ratio of the total carboxylic acid of the epoxy resin (a) and the carboxylic acid compounds (b) and (c) in this reaction should be appropriately changed according to the application. That is, when all the epoxy groups are carboxylated, unreacted epoxy groups do not remain, so that the storage stability as a reactive carboxylate compound is high. In this case, only the reactivity due to the introduced double bond is used.

一方、故意にカルボン酸化合物の仕込み量を減量し未反応の残存エポキシ基を残すことで、導入した不飽和結合による反応性と、残存するエポキシ基による反応、例えば光カチオン触媒による重合反応や熱重合反応を複合的に利用することも可能である。しかし、この場合は反応性カルボキシレート化合物の保存、及び製造条件の検討には注意を払うべきである。   On the other hand, by deliberately reducing the charged amount of the carboxylic acid compound and leaving an unreacted residual epoxy group, the reactivity due to the introduced unsaturated bond and the reaction due to the remaining epoxy group, for example, a polymerization reaction or heat caused by a photocationic catalyst, It is also possible to use the polymerization reaction in combination. In this case, however, attention should be paid to the storage of the reactive carboxylate compound and the examination of the production conditions.

エポキシ基を残存させない反応性カルボキシレート化合物(A)を製造する場合、カルボン酸化合物(b)および(c)の総計が、前記エポキシ樹脂(a)1当量に対し90〜120当量%であることが好ましい。この範囲であれば比較的安定な条件での製造が可能である。これよりもカルボン酸化合物の仕込み量が多い場合には、過剰のカルボン酸化合物(b)が残存してしまうために好ましくない。   When producing the reactive carboxylate compound (A) that does not leave an epoxy group, the total amount of the carboxylic acid compounds (b) and (c) is 90 to 120 equivalent% with respect to 1 equivalent of the epoxy resin (a). Is preferred. Within this range, it is possible to manufacture under relatively stable conditions. When the amount of the carboxylic acid compound charged is larger than this, an excess of the carboxylic acid compound (b) remains, which is not preferable.

また、エポキシ基を故意に残留させる場合には、カルボン酸化合物(b)および(c)の総計が、前記エポキシ樹脂(a)1当量に対し20〜90当量%であることが好ましい。これの範囲を逸脱する場合には、複合硬化の効果が薄くなる。もちろんこの場合は、反応中のゲル化や、カルボキシレート化合物(A)の経時安定性に対して十分な注意が必要である。   Moreover, when leaving an epoxy group intentionally, it is preferable that the total of carboxylic acid compound (b) and (c) is 20-90 equivalent% with respect to 1 equivalent of said epoxy resin (a). When deviating from this range, the effect of the composite curing is reduced. Of course, in this case, sufficient attention must be paid to gelation during the reaction and stability with time of the carboxylate compound (A).

一個以上の重合可能なエチレン性不飽和基と一個以上のカルボキシル基を併せ持つ化合物(b)と一個以上の水酸基と一個以上のカルボキシル基を併せ持つ化合物(c)の使用比率は、カルボン酸に対するモル比において(b):(c)が9:1〜1:9、さらには4:6〜8:2の範囲が好ましい。この範囲であれば(b)が少なすぎる場合の感度の低下を防ぐことが出来、また(c)が少なすぎる場合の(c)の効果が希薄になるのを防ぐことが出来る。   The use ratio of the compound (b) having one or more polymerizable ethylenically unsaturated groups and one or more carboxyl groups and the compound (c) having one or more hydroxyl groups and one or more carboxyl groups is the molar ratio to the carboxylic acid. (B) :( c) is preferably in the range of 9: 1 to 1: 9, more preferably 4: 6 to 8: 2. If it is this range, the fall of the sensitivity when (b) is too few can be prevented, and the effect of (c) when (c) is too little can be prevented from becoming diluted.

本カルボキシレート化反応は、無溶剤で反応させる、若しくは溶剤で希釈して反応させることも出来る。ここで用いることが出来る溶剤としては、カルボキシレート化反応に対してイナート溶剤であれば特に限定はない。
好ましい溶剤の使用量は、得られる樹脂の粘度や使途により適宜調整されるべきものであるが、好ましくは固形分として90〜30重量%、よりこのましくは80〜50重量%となるように溶剤を用いる。
This carboxylation reaction can be carried out without a solvent or diluted with a solvent. The solvent that can be used here is not particularly limited as long as it is an inert solvent for the carboxylation reaction.
The preferred amount of solvent used should be adjusted as appropriate depending on the viscosity and intended use of the resulting resin, but is preferably 90 to 30% by weight, more preferably 80 to 50% by weight as the solid content. Use a solvent.

上記の溶剤として使用しうるものを具体的に例示すれば、例えばトルエン、キシレン、エチルベンゼン、テトラメチルベンゼン等の芳香族系炭化水素溶剤、ヘキサン、オクタン、デカン等の脂肪族系炭化水素溶剤、及びそれらの混合物である石油エーテル、ホワイトガソリン、ソルベントナフサ等が挙げられる。
また、エステル系溶剤としては、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル等のアルキルアセテート類、γ−ブチロラクトン等の環状エステル類、エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノメチルエーテルモノアセテート、ジエチレングリコールモノエチルエーテルモノアセテート、トリエチレングリコールモノエチルエーテルモノアセテート、ジエチレングリコールモノブチルエーテルモノアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ブチレングリコールモノメチルエーテルアセテート等のモノ、若しくはポリアルキレングリコールモノアルキルエーテルモノアセテート類、グルタル酸ジアルキル、コハク酸ジアルキル、アジピン酸ジアルキル等のポリカルボン酸アルキルエステル類等が挙げられる。
また、エーテル系溶剤としては、ジエチルエーテル、エチルブチルエーテル等のアルキルエーテル類、エチレングリコールジメチルエーテル、エチレングリコールジエチルエーテル、ジプロピレングリコールジメチルエーテル、ジプロピレングリコールジエチルエーテル、トリエチレングリコールジメチルエーテル、トリエチレングリコールジエチルエーテル等のグリコールエーテル類、テトラヒドロフラン等の環状エーテル類等が挙げられる。
また、ケトン系溶剤としては、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、イソホロン等が挙げられる。
Specific examples of what can be used as the above solvent include aromatic hydrocarbon solvents such as toluene, xylene, ethylbenzene and tetramethylbenzene, aliphatic hydrocarbon solvents such as hexane, octane and decane, and Examples thereof include petroleum ether, white gasoline, and solvent naphtha.
Examples of ester solvents include alkyl acetates such as ethyl acetate, propyl acetate, and butyl acetate, cyclic esters such as γ-butyrolactone, ethylene glycol monomethyl ether acetate, diethylene glycol monomethyl ether monoacetate, diethylene glycol monoethyl ether monoacetate, Mono- or polyalkylene glycol monoalkyl ether monoacetates such as triethylene glycol monoethyl ether monoacetate, diethylene glycol monobutyl ether monoacetate, propylene glycol monomethyl ether acetate, butylene glycol monomethyl ether acetate, dialkyl glutarate, dialkyl succinate, adipine Polyesters of polycarboxylic acids such as dialkyl acids Kind, and the like.
Examples of ether solvents include alkyl ethers such as diethyl ether and ethyl butyl ether, ethylene glycol dimethyl ether, ethylene glycol diethyl ether, dipropylene glycol dimethyl ether, dipropylene glycol diethyl ether, triethylene glycol dimethyl ether, and triethylene glycol diethyl ether. Glycol ethers, and cyclic ethers such as tetrahydrofuran.
Examples of the ketone solvent include acetone, methyl ethyl ketone, cyclohexanone, and isophorone.

このほかにも、(A)、(B)以外の反応性化合物(C)等の単独または混合有機溶媒中で行うことができる。この場合、硬化型組成物として使用した場合には、直接に組成物として利用することが出来るので好ましい。   In addition, it can carry out in single or mixed organic solvents, such as reactive compounds (C) other than (A) and (B). In this case, when it is used as a curable composition, it can be used directly as a composition, which is preferable.

反応時には、反応を促進させるために触媒を使用することが好ましく、該触媒の使用量は、反応物、即ち上記エポキシ化合物(a)、カルボン酸化合物(b)、及び場合により溶剤その他を加えた反応物の総量に対して0.1〜10重量%である。その際の反応温度は60〜150℃であり、また反応時間は、好ましくは5〜60時間である。使用しうる触媒の具体例としては、例えばトリエチルアミン、ベンジルジメチルアミン、トリエチルアンモニウムクロライド、ベンジルトリメチルアンモニウムブロマイド、ベンジルトリメチルアンモニウムアイオダイド、トリフェニルフォスフィン、トリフェニルスチビン、メチルトリフェニルスチビン、オクタン酸クロム、オクタン酸ジルコニウム等既知一般の塩基性触媒等が挙げられる。   During the reaction, it is preferable to use a catalyst to accelerate the reaction, and the amount of the catalyst used is the reaction product, that is, the epoxy compound (a), the carboxylic acid compound (b), and optionally a solvent or the like. 0.1 to 10% by weight based on the total amount of reactants. The reaction temperature at that time is 60 to 150 ° C., and the reaction time is preferably 5 to 60 hours. Specific examples of the catalyst that can be used include, for example, triethylamine, benzyldimethylamine, triethylammonium chloride, benzyltrimethylammonium bromide, benzyltrimethylammonium iodide, triphenylphosphine, triphenylstibine, methyltriphenylstibine, chromium octoate, Examples include known general basic catalysts such as zirconium octoate.

また、熱重合禁止剤として、ハイドロキノンモノメチルエーテル、2−メチルハイドロキノン、ハイドロキノン、ジフェニルピクリルヒドラジン、ジフェニルアミン、3,5−ジ−tert−ブチル−4ヒドロキシトルエン等を使用するのが好ましい。   Moreover, it is preferable to use hydroquinone monomethyl ether, 2-methylhydroquinone, hydroquinone, diphenylpicrylhydrazine, diphenylamine, 3,5-di-tert-butyl-4hydroxytoluene and the like as a thermal polymerization inhibitor.

本反応は、適宜サンプリングしながら、サンプルの酸価が5mgKOH/g以下、好ましくは2mgKOH/g以下となった時点を終点とする。   The end point of this reaction is the time when the acid value of the sample is 5 mgKOH / g or less, preferably 2 mgKOH / g or less, while sampling appropriately.

こうして得られた反応性カルボキシレート化合物(A)の好ましい分子量範囲としては、GPCにおけるポリスチレン換算重量平均分子量が1,000から30,000の範囲であり、より好ましくは1,500から20,000である。
この分子量よりも小さい場合には硬化物の強靭性が充分に発揮されず、またこれよりも大きすぎる場合には、粘度か高くなり塗工等が困難となる。
As a preferable molecular weight range of the reactive carboxylate compound (A) thus obtained, the polystyrene-equivalent weight average molecular weight in GPC is in the range of 1,000 to 30,000, more preferably 1,500 to 20,000. is there.
When the molecular weight is smaller than this, the toughness of the cured product is not sufficiently exhibited, and when it is larger than this, the viscosity becomes high and coating or the like becomes difficult.

次に、酸付加工程について詳細に説明する。酸付加工程は、前工程において得られた反応性カルボキシレート化合物(A)に必要に応じてカルボキシル基を導入し、反応性ポリカルボン酸(B)を得ることを目的として行われる。カルボキシル基を導入する理由としては、例えばレジストパターニング等が必要とされる用途において、活性エネルギー線非照射部にアルカリ水への可溶性を付与させる、また金属、無機物等への密着性を付与させる等の目的を持って導入される。
具体的には、カルボキシレート化反応により生じた水酸基に多塩基酸無水物(d)を付加反応させることで、エステル結合を介してカルボキシル基を導入させる。
Next, the acid addition step will be described in detail. The acid addition step is performed for the purpose of obtaining a reactive polycarboxylic acid (B) by introducing a carboxyl group into the reactive carboxylate compound (A) obtained in the previous step as necessary. Reasons for introducing a carboxyl group include, for example, in applications where resist patterning or the like is required, imparting solubility in alkaline water to active energy ray non-irradiated parts, and imparting adhesion to metals, inorganic substances, etc. It is introduced with the purpose of.
Specifically, the carboxyl group is introduced through an ester bond by addition reaction of the polybasic acid anhydride (d) to the hydroxyl group generated by the carboxylation reaction.

多塩基酸無水物(d)の具体例としては、例えば、一分子中に酸無水物構造を有する化合物であればすべて用いることができるが、アルカリ水溶液現像性、耐熱性、加水分解耐性等に優れた無水コハク酸、無水フタル酸、テトラヒドロ無水フタル酸、ヘキサヒドロ無水フタル酸、無水イタコン酸、3−メチル−テトラヒドロ無水フタル酸、4−メチル−ヘキサヒドロ無水フタル酸、無水トリメリット酸または、無水マレイン酸が特に好ましい。   As specific examples of the polybasic acid anhydride (d), for example, any compound having an acid anhydride structure in one molecule can be used. For example, it can be used in alkaline aqueous solution developability, heat resistance, and hydrolysis resistance. Excellent succinic anhydride, phthalic anhydride, tetrahydrophthalic anhydride, hexahydrophthalic anhydride, itaconic anhydride, 3-methyl-tetrahydrophthalic anhydride, 4-methyl-hexahydrophthalic anhydride, trimellitic anhydride or maleic anhydride Acid is particularly preferred.

多塩基酸無水物(d)を付加させる反応は、前記カルボキシレート化反応液に多塩基酸無水物(d)を加えることにより行うことができる。添加量は用途に応じて適宜変更されるべきものである。   The reaction for adding the polybasic acid anhydride (d) can be performed by adding the polybasic acid anhydride (d) to the carboxylation reaction solution. The amount added should be changed as appropriate according to the application.

しかしながら、本発明のポリカルボン酸化合物(B)をアルカリ現像型のレジストとして用いようとする場合は、多塩基酸無水物(d)を最終的に得られる反応性ポリカルボン酸化合物(B)の固形分酸価(JIS K5601−2−1:1999に準拠)が30〜120mg・KOH/g、より好ましくは40〜105mg・KOH/g、となる計算値を仕込むことが好ましい。このときの固形分酸価がこの範囲である場合、本発明の活性エネルギー線硬化型樹脂組成物のアルカリ水溶液現像性が良好な現像性を示す。即ち、良好なパターニング性と過現像に対する管理幅も広く、また過剰の酸無水物が残留することもない。   However, when the polycarboxylic acid compound (B) of the present invention is to be used as an alkali development resist, the polybasic acid anhydride (d) is finally obtained from the reactive polycarboxylic acid compound (B). It is preferable to charge a calculated value such that the solid content acid value (based on JIS K5601-2-1: 1999) is 30 to 120 mg · KOH / g, more preferably 40 to 105 mg · KOH / g. When the solid content acid value at this time is within this range, the developability of the aqueous alkaline solution developability of the active energy ray-curable resin composition of the present invention is good. That is, good patternability and a wide control range for over-development are possible, and no excess acid anhydride remains.

反応時には、反応を促進させるために触媒を使用することが好ましく、該触媒の使用量は、反応物、即ち前記エポキシ化合物(a)、カルボン酸化合物(b)及び(c)から得られたカルボキシレート化合物、及び他塩基酸無水物(d)、場合により溶剤その他を加えた反応物の総量に対して0.1〜10重量%である。その際の反応温度は60〜150℃であり、また反応時間は、好ましくは5〜60時間である。使用しうる触媒の具体例としては、例えばトリエチルアミン、ベンジルジメチルアミン、トリエチルアンモニウムクロライド、ベンジルトリメチルアンモニウムブロマイド、ベンジルトリメチルアンモニウムアイオダイド、トリフェニルフォスフィン、トリフェニルスチビン、メチルトリフェニルスチビン、オクタン酸クロム、オクタン酸ジルコニウム等が挙げられる。   In the reaction, it is preferable to use a catalyst to promote the reaction, and the amount of the catalyst used is a reaction product, that is, a carboxy obtained from the epoxy compound (a), the carboxylic acid compound (b) and (c). It is 0.1 to 10% by weight with respect to the total amount of the reaction product including the rate compound and other basic acid anhydride (d), and optionally a solvent and the like. The reaction temperature at that time is 60 to 150 ° C., and the reaction time is preferably 5 to 60 hours. Specific examples of the catalyst that can be used include, for example, triethylamine, benzyldimethylamine, triethylammonium chloride, benzyltrimethylammonium bromide, benzyltrimethylammonium iodide, triphenylphosphine, triphenylstibine, methyltriphenylstibine, chromium octoate, Examples include zirconium octoate.

本酸付加反応は、無溶剤で反応させる、若しくは溶剤で希釈して反応させることも出来る。ここで用いることが出来る溶剤としては、酸付加反応に対してイナート溶剤であれば特に限定はない。また、前工程であるカルボキシレート化反応で溶剤を用いて製造した場合には、その両反応にイナートであることを条件に、溶剤を除くことなく直接次工程である酸付加反応に供することもできる。
好ましい溶剤の使用量は、得られる樹脂の粘度や使途により適宜調整されるべきものであるが、好ましくは固形分として90〜30重量%、より好ましくは80〜50重量%になるように溶剤を用いる。
The acid addition reaction can be performed without a solvent or diluted with a solvent. The solvent that can be used here is not particularly limited as long as it is an inert solvent for the acid addition reaction. In addition, in the case of producing using a solvent in the carboxylation reaction that is the previous step, it may be subjected directly to the acid addition reaction that is the next step without removing the solvent, provided that both reactions are inert. it can.
The preferred amount of solvent to be used should be appropriately adjusted depending on the viscosity and use of the resin obtained, but preferably 90 to 30% by weight, more preferably 80 to 50% by weight as the solid content. Use.

具体的に例示すれば、例えばトルエン、キシレン、エチルベンゼン、テトラメチルベンゼン等の芳香族系炭化水素溶剤、ヘキサン、オクタン、デカン等の脂肪族系炭化水素溶剤、及びそれらの混合物である石油エーテル、ホワイトガソリン、ソルベントナフサ等が挙げられる。
また、エステル系溶剤としては、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル等のアルキルアセテート類、γ−ブチロラクトン等の環状エステル類、エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノメチルエーテルモノアセテート、ジエチレングリコールモノエチルエーテルモノアセテート、トリエチレングリコールモノエチルエーテルモノアセテート、ジエチレングリコールモノブチルエーテルモノアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ブチレングリコールモノメチルエーテルアセテート等のモノ、若しくはポリアルキレングリコールモノアルキルエーテルモノアセテート類、グルタル酸ジアルキル、コハク酸ジアルキル、アジピン酸ジアルキル等のポリカルボン酸アルキルエステル類等が挙げられる。
また、エーテル系溶剤としては、ジエチルエーテル、エチルブチルエーテル等のアルキルエーテル類、エチレングリコールジメチルエーテル、エチレングリコールジエチルエーテル、ジプロピレングリコールジメチルエーテル、ジプロピレングリコールジエチルエーテル、トリエチレングリコールジメチルエーテル、トリエチレングリコールジエチルエーテル等のグリコールエーテル類、テトラヒドロフラン等の環状エーテル類等が挙げられる。
また、ケトン系溶剤としては、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、イソホロン等が挙げられる。
Specifically, for example, aromatic hydrocarbon solvents such as toluene, xylene, ethylbenzene and tetramethylbenzene, aliphatic hydrocarbon solvents such as hexane, octane and decane, and mixtures thereof, petroleum ether, white Examples include gasoline and solvent naphtha.
Examples of ester solvents include alkyl acetates such as ethyl acetate, propyl acetate, and butyl acetate, cyclic esters such as γ-butyrolactone, ethylene glycol monomethyl ether acetate, diethylene glycol monomethyl ether monoacetate, diethylene glycol monoethyl ether monoacetate, Mono- or polyalkylene glycol monoalkyl ether monoacetates such as triethylene glycol monoethyl ether monoacetate, diethylene glycol monobutyl ether monoacetate, propylene glycol monomethyl ether acetate, butylene glycol monomethyl ether acetate, dialkyl glutarate, dialkyl succinate, adipine Polyesters of polycarboxylic acids such as dialkyl acids Kind, and the like.
Examples of ether solvents include alkyl ethers such as diethyl ether and ethyl butyl ether, ethylene glycol dimethyl ether, ethylene glycol diethyl ether, dipropylene glycol dimethyl ether, dipropylene glycol diethyl ether, triethylene glycol dimethyl ether, and triethylene glycol diethyl ether. Glycol ethers, and cyclic ethers such as tetrahydrofuran.
Examples of the ketone solvent include acetone, methyl ethyl ketone, cyclohexanone, and isophorone.

このほかにも、後記する反応性化合物(C)等の単独または混合有機溶媒中で行うことができる。この場合、硬化型組成物として使用した場合には、直接に組成物として利用することが出来るので好ましい。   In addition, the reaction can be performed in a single or mixed organic solvent such as a reactive compound (C) described later. In this case, when it is used as a curable composition, it can be used directly as a composition, which is preferable.

また、熱重合禁止剤等は、前記カルボキシレート化反応における例示と同様のものを使用することが好ましい。   Moreover, it is preferable to use the thing similar to the illustration in the said carboxylation reaction as a thermal-polymerization inhibitor.

本反応は、適宜サンプリングしながら、反応物の酸価が、設定した酸価のプラスマイナス10%の範囲になった点をもって終点とする。   In this reaction, the end point is determined when the acid value of the reaction product is within a range of plus or minus 10% of the set acid value while appropriately sampling.

本発明において使用しうる反応性化合物(C)の具体例としては、ラジカル反応型のアクリレート類、カチオン反応型のその他エポキシ化合物類、その双方に感応するビニル化合物類等のいわゆる反応性オリゴマー類が挙げられる。   Specific examples of the reactive compound (C) that can be used in the present invention include so-called reactive oligomers such as radical-reactive acrylates, cation-reactive other epoxy compounds, and vinyl compounds sensitive to both. Can be mentioned.

使用しうるアクリレート類としては、単官能(メタ)アクリレート類、多官能(メタ)アクリレート、その他エポキシアクリレート、ポリエステルアクリレート、ウレタンアクリレート等が挙げられる。   Examples of acrylates that can be used include monofunctional (meth) acrylates, polyfunctional (meth) acrylates, other epoxy acrylates, polyester acrylates, urethane acrylates, and the like.

単官能(メタ)アクリレート類としては、メチル(メタ)アクリレート、エチル(メタ)アクリレート、ブチル(メタ)アクリレート、ラウリル(メタ)アクリレート、ポリエチレングリコール(メタ)アクリレート、ポリエチレングリコール(メタ)アクリレートモノメチルエーテル、フェニルエチル(メタ)アクリレート、イソボルニル(メタ)アクリレート、シクロヘキシル(メタ)アクリレート、ベンジル(メタ)アクリレート、テトラヒドロフルフリル(メタ)アクリレート等が挙げられる。   Monofunctional (meth) acrylates include methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, butyl (meth) acrylate, lauryl (meth) acrylate, polyethylene glycol (meth) acrylate, polyethylene glycol (meth) acrylate monomethyl ether, Examples include phenylethyl (meth) acrylate, isobornyl (meth) acrylate, cyclohexyl (meth) acrylate, benzyl (meth) acrylate, and tetrahydrofurfuryl (meth) acrylate.

多官能(メタ)アクリレート類としては、ブタンジオールジ(メタ)アクリレート、ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート、ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート、ノナンジオールジ(メタ)アクリレート、グリコールジ(メタ)アクリレート、ジエチレンジ(メタ)アクリレート、ポリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、トリス(メタ)アクリロイルオキシエチルイソシアヌレート、ポリプロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、アジピン酸エポキシジ(メタ)アクリレート、ビスフェノールエチレンオキサイドジ(メタ)アクリレート、水素化ビスフェノールエチレンオキサイド(メタ)アクリレート、ビスフェノールジ(メタ)アクリレート、ヒドロキシビバリン酸ネオペングリコールのε−カプロラクトン付加物のジ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールとε−カプロラクトンの反応物のポリ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールポリ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、トリエチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、及びそのエチレンオキサイド付加物、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、及びそのエチレンオキサイド付加物、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、およびそのエチレンオキサイド付加物等が挙げられる。   As polyfunctional (meth) acrylates, butanediol di (meth) acrylate, hexanediol di (meth) acrylate, neopentyl glycol di (meth) acrylate, nonanediol di (meth) acrylate, glycol di (meth) acrylate, Diethylene di (meth) acrylate, polyethylene glycol di (meth) acrylate, tris (meth) acryloyloxyethyl isocyanurate, polypropylene glycol di (meth) acrylate, adipic acid epoxy di (meth) acrylate, bisphenol ethylene oxide di (meth) acrylate, hydrogen Ε-Caprola of bisphenol ethylene oxide (meth) acrylate, bisphenol di (meth) acrylate, and neopent glycol hydroxybivalate Tone adduct di (meth) acrylate, poly (meth) acrylate, dipentaerythritol poly (meth) acrylate, reaction product of dipentaerythritol and ε-caprolactone, trimethylolpropane tri (meth) acrylate, triethylolpropane tri ( (Meth) acrylate and its ethylene oxide adduct, pentaerythritol tri (meth) acrylate and its ethylene oxide adduct, pentaerythritol tetra (meth) acrylate, dipentaerythritol hexa (meth) acrylate and its ethylene oxide adduct, etc. Is mentioned.

使用しうるビニル化合物類としてはビニルエーテル類、スチレン類、その他ビニル化合物が挙げられる。ビニルエーテル類としては、エチルビニルエーテル、プロピルビニルエーテル、ヒドロキシエチルビニルエーテル、エチレングリコールジビニルエーテル等が挙げられる。スチレン類としては、スチレン、メチルスチレン、エチルスチレン等が挙げられる。その他ビニル化合物としてはトリアリルイソイシアヌレート、トリメタアリルイソシアヌレート等が挙げられる。   Examples of vinyl compounds that can be used include vinyl ethers, styrenes, and other vinyl compounds. Examples of vinyl ethers include ethyl vinyl ether, propyl vinyl ether, hydroxyethyl vinyl ether, and ethylene glycol divinyl ether. Examples of styrenes include styrene, methyl styrene, and ethyl styrene. Other vinyl compounds include triallyl isocyanurate and trimethallyl isocyanurate.

さらに、いわゆる反応性オリゴマー類としては、活性エネルギー線に官能可能な官能基とウレタン結合を同一分子内に併せ持つウレタンアクリレート、同様に活性エネルギー線に官能可能な官能基とエステル結合を同一分子内に併せ持つポリエステルアクリレート、
その他エポキシ樹脂から誘導され、活性エネルギー線に官能可能な官能基を同一分子内に併せ持つエポキシアクリレート、これらの結合が複合的に用いられている反応性オリゴマー等が挙げられる。
Furthermore, as so-called reactive oligomers, urethane acrylate having a functional group capable of acting on active energy rays and a urethane bond in the same molecule, and similarly a functional group capable of acting on active energy rays and an ester bond in the same molecule. Polyester acrylate,
Other examples include epoxy acrylates derived from epoxy resins and having functional groups capable of acting on active energy rays in the same molecule, and reactive oligomers in which these bonds are used in combination.

また、カチオン反応型単量体としては、一般的にエポキシ基を有する化合物であれば特に限定はない。例えば、グリシジル(メタ)アクリレート、メチルグリジジルエーテル、エチルグリシジルエーテル、ブチルグリシジルエーテル、ビスフェノールAジグリジジルエーテル、3,4−エポキシシクロヘキシルメチル−3,4,−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート(ユニオン・カーバイド社製「サイラキュアUVR−6110」等)、3,4−エポキシシクロヘキシルエチル−3,4−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート、ビニルシクロヘキセンジオキシド(ユニオン・カーバイド社製「ELR−4206」等)、リモネンジオキシド(ダイセル化学工業社製「セロキサイド3000」等)、アリルシクロヘキセンジオキシド、3,4,−エポキシ−4−メチルシクロヘキシル−2−プロピレンオキシド、2−(3,4−エポキシシクロヘキシル−5,5−スピロ−3,4−エポキシ)シクロヘキサン−m−ジオキサン、ビス(3,4−エポキシシクロヘキシル)アジペート(ユニオン・カーバイド社製「サイラキュアUVR−6128」等)、ビス(3,4−エポキシシクロヘキシルメチル)アジペート、ビス(3,4−エポキシシクロヘキシル)エーテル、ビス(3,4−エポキシシクロヘキシルメチル)エーテル、ビス(3,4−エポキシシクロヘキシル)ジエチルシロキサン等が挙げられる。   The cation reactive monomer is not particularly limited as long as it is generally a compound having an epoxy group. For example, glycidyl (meth) acrylate, methyl glycidyl ether, ethyl glycidyl ether, butyl glycidyl ether, bisphenol A diglycidyl ether, 3,4-epoxycyclohexylmethyl-3,4, -epoxycyclohexanecarboxylate (manufactured by Union Carbide) "Syracure UVR-6110" etc.), 3,4-epoxycyclohexylethyl-3,4-epoxycyclohexanecarboxylate, vinylcyclohexene dioxide (such as "ELR-4206" manufactured by Union Carbide), limonene dioxide (Daicel Chemical) “Celoxide 3000” manufactured by Kogyo Co., Ltd.), allyl cyclohexylene dioxide, 3,4, -epoxy-4-methylcyclohexyl-2-propylene oxide, 2- (3,4-epoxy) Cyclohexyl-5,5-spiro-3,4-epoxy) cyclohexane-m-dioxane, bis (3,4-epoxycyclohexyl) adipate (such as “Syracure UVR-6128” manufactured by Union Carbide), bis (3,4 -Epoxycyclohexylmethyl) adipate, bis (3,4-epoxycyclohexyl) ether, bis (3,4-epoxycyclohexylmethyl) ether, bis (3,4-epoxycyclohexyl) diethylsiloxane and the like.

これらのうち、反応性化合物(C)としては、ラジカル硬化型であるアクリレート類が最も好ましい。カチオン型の場合、カルボン酸とエポキシが反応してしまうため2液混合型にする必要が生じる。   Of these, the reactive compound (C) is most preferably an acrylate that is radically curable. In the case of the cation type, the carboxylic acid and the epoxy react with each other, so that a two-component mixed type is required.

本発明のカルボキシレート化合物(A)及び/又は反応性ポリカルボン酸化合物(B)と、必要に応じて(A)、(B)以外の反応性化合物(C)とを混合せしめて本発明の活性エネルギー線硬化型樹脂組成物を得ることができる。このとき、用途に応じて適宜その他の成分を加えてもよい。   The carboxylate compound (A) and / or the reactive polycarboxylic acid compound (B) of the present invention and the reactive compound (C) other than (A) and (B), if necessary, are mixed to obtain the present invention. An active energy ray-curable resin composition can be obtained. At this time, you may add another component suitably according to a use.

本発明の活性エネルギー線硬化型樹脂組成物は、組成物中にカルボキシレート化合物(A)及び/又は反応性ポリカルボン酸化合物(B)97〜5重量%、好ましくは87〜10重量%、(A),(B)以外の反応性化合物(C)3〜95重量%、さらに好ましくは3〜90重量%を含む。必要に応じてその他の成分を70重量%程度を上限に含んでいてよい。   The active energy ray-curable resin composition of the present invention has a carboxylate compound (A) and / or a reactive polycarboxylic acid compound (B) of 97 to 5% by weight, preferably 87 to 10% by weight in the composition. A reactive compound (C) other than A) and (B) is contained in an amount of 3 to 95% by weight, more preferably 3 to 90% by weight. If necessary, other components may be contained up to about 70% by weight.

本発明の活性エネルギー線硬化型樹脂組成物における、カルボキシレート化合物(A)もしくは反応性ポリカルボン酸化合物(B)は、その用途に応じて適宜使い分けられるものである。例えば、同じソルダーレジスト用途でも現像せず、印刷法によりパターンを成形する場合や溶剤等により未反応部位を流去させる、所謂溶剤現像型の場合にはカルボキシレート化合物(A)を用い、アルカリ水により現像させる場合には反応性ポリカルボン酸化合物(B)を用いる。一般的にアルカリ水現像型の方が微細なパターンを作りやすいという観点から、この用途には反応性ポリカルボン酸化合物(B)を用いる場合が多い。もちろん(A)と(B)を併用してもなんら問題はない。   The carboxylate compound (A) or the reactive polycarboxylic acid compound (B) in the active energy ray-curable resin composition of the present invention can be appropriately used depending on the application. For example, in the case of a so-called solvent development type in which a pattern is formed by a printing method or an unreacted site is washed away by a solvent or the like without developing even in the same solder resist application, a carboxylate compound (A) is used and alkaline water is used. In the case of developing by using a reactive polycarboxylic acid compound (B). In general, the reactive polycarboxylic acid compound (B) is often used for this application from the viewpoint that the alkaline water development type can easily form a fine pattern. Of course, there is no problem even if (A) and (B) are used in combination.

本発明の活性エネルギー線硬化型樹脂組成物は活性エネルギー線によって容易に硬化する。ここで活性エネルギー線の具体例としては、紫外線、可視光線、赤外線、X線、ガンマー線、レーザー光線等の電磁波、アルファー線、ベータ線、電子線等の粒子線等が挙げられる。本発明の好適な用途を考慮すれば、これらのうち、紫外線、レーザー光線、可視光線、または電子線が好ましい。   The active energy ray-curable resin composition of the present invention is easily cured by active energy rays. Specific examples of the active energy rays include electromagnetic waves such as ultraviolet rays, visible rays, infrared rays, X rays, gamma rays and laser rays, particle rays such as alpha rays, beta rays and electron rays. Of these, ultraviolet rays, laser beams, visible rays, or electron beams are preferred in view of suitable applications of the present invention.

本発明において用いうる着色顔料とは、本発明の活性エネルギー線樹脂組成物を着色材料とするために用いられるものである。本発明で用いられるカルボキシレート化合物(A)、反応性ポリカルボン酸化合物(B)の水酸基、のバランスが特定の範囲にあるがゆえに、特に優れた顔料への親和性、即ち分散性が発揮されると推察される。   The color pigment that can be used in the present invention is used to make the active energy ray resin composition of the present invention a coloring material. Since the balance between the carboxylate compound (A) used in the present invention and the hydroxyl group of the reactive polycarboxylic acid compound (B) is in a specific range, particularly excellent affinity to the pigment, that is, dispersibility is exhibited. It is guessed.

この機構については定かではないが、分散が良好に進行するために結果として顔料濃度を濃くすることが出来る、また現像を必要とされる組成物においては、分散がより好適な状態にあるために、良好なパターニング特性が発揮され、また現像溶解部における現像残渣も少ないため、好適である。   Although this mechanism is not clear, since the dispersion proceeds well, the pigment concentration can be increased as a result, and in a composition that requires development, the dispersion is in a more favorable state. Good patterning characteristics are exhibited, and there are few development residues in the development and dissolution area, which is preferable.

着色顔料としては、フタロシアニン系、アゾ系、キナクリドン系等の有機顔料、カーボンブラック等、酸化チタン等の無機顔料が挙げられる。これらのうちカーボンブラックの分散性が高くもっとも好ましい。   Examples of the color pigment include organic pigments such as phthalocyanine, azo, and quinacridone, carbon black, and inorganic pigments such as titanium oxide. Of these, carbon black is most preferred because of its high dispersibility.

本発明において成形用材料とは、未硬化の組成物を型にいれ、もしくは型を押し付け物体を成形したのち、活性エネルギー線により硬化反応を起こさせ成形させるもの、もしくは未硬化の組成物にレーザー等の焦点光などを照射し、硬化反応を起こさせ成形させる用途に用いられる材料を指す。   In the present invention, the molding material refers to a material in which an uncured composition is put into a mold or an object is molded by pressing the mold and then a curing reaction is caused by active energy rays, or a laser is applied to the uncured composition. It refers to a material that is used for applications in which it is irradiated with a focused light such as to cause a curing reaction to be molded.

具体的な用途としては、平面状に成形したシート、素子を保護するための封止材、未硬化の組成物に微細加工された「型」を押し当て微細な成形を行う、所謂ナノインプリント材料、さらには特に熱的な要求の厳しい発光ダイオード、光電変換素子等の周辺封止材料等が好適な用途として挙げられる。   Specific applications include a sheet formed into a flat shape, a sealing material for protecting the element, a so-called nanoimprint material that performs fine molding by pressing a "mold" that has been micro-processed into an uncured composition, Furthermore, particularly suitable applications include peripheral sealing materials such as light-emitting diodes and photoelectric conversion elements, which have particularly severe thermal requirements.

本発明において皮膜形成用材料とは、基材表面を被覆することを目的として利用されるものである。具体的な用途としては、グラビアインキ、フレキソインキ、シルクスクリーンインキ、オフセットインキ等のインキ材料、ハードコート、トップコート、オーバープリントニス、クリヤコート等の塗工材料、ラミネート用、光ディスク用他各種接着剤、粘着剤等の接着材料、ソルダーレジスト、エッチングレジスト、マイクロマシン用レジスト等のレジスト材料等これに該当する。さらには、皮膜形成用材料を一時的に剥離性基材に塗工しフイルム化した後、本来目的とする基材に貼合し皮膜を形成させる、いわゆるドライフイルムも皮膜形成用材料に該当する。   In the present invention, the film forming material is used for the purpose of coating the surface of a substrate. Specific applications include gravure inks, flexo inks, silk screen inks, offset inks and other ink materials, hard coats, top coats, overprint varnishes, clear coats and other coating materials, laminating, optical disk and other various adhesives. This corresponds to adhesive materials such as adhesives and adhesives, resist materials such as solder resists, etching resists, and resists for micromachines. Furthermore, after the film forming material is temporarily applied to the peelable substrate and formed into a film, it is bonded to the original target substrate to form a film, so-called dry film also corresponds to the film forming material. .

これらのうち、反応性ポリカルボン酸化合物(B)のカルボキシル基の導入によって、基材への密着性が高まるため、プラスチック基材、若しくは金属基材を被覆するための用途として用いることが好ましい。   Among these, the introduction of the carboxyl group of the reactive polycarboxylic acid compound (B) increases the adhesion to the substrate, and therefore, it is preferably used as an application for coating a plastic substrate or a metal substrate.

さらには、未反応の反応性ポリカルボン酸化合物(B)が、アルカリ水溶液に可溶性となる特徴を生かして、アルカリ水現像型レジスト材料組成物として用いることも好ましい。   Furthermore, taking advantage of the feature that the unreacted reactive polycarboxylic acid compound (B) is soluble in an alkaline aqueous solution, it is also preferable to use it as an alkaline water developable resist material composition.

本発明においてレジスト材料組成物とは、基材上に該組成物の皮膜層を形成させ、その後、紫外線等の活性エネルギー線を部分的に照射し、照射部、未照射部の物性的な差異を利用して描画しようとする活性エネルギー線感応型の組成物を指す。具体的には、照射部、または未照射部を何らかの方法、例えば溶剤等やアルカリ溶液等で溶解させるなどして除去し、描画を行うことを目的として用いられる組成物である。   In the present invention, the resist material composition is formed by forming a film layer of the composition on a substrate, and then partially irradiating active energy rays such as ultraviolet rays, and the physical difference between irradiated and unirradiated parts. This refers to an active energy ray-sensitive composition that is intended to be drawn using. Specifically, the composition is used for the purpose of removing the irradiated part or the unirradiated part by dissolving the irradiated part or the non-irradiated part with, for example, a solvent or an alkaline solution.

本発明のレジスト用活性エネルギー線硬化型樹脂組成物は、パターニングが可能な種々の材料に適応でき、例えば特に、ソルダーレジスト材料、ビルドアップ工法用の層間絶縁材に有用であり、さらには光導波路としてプリント配線板、光電子基板や光基板のような電気・電子・光基材等にも利用される。   The active energy ray-curable resin composition for resists of the present invention can be applied to various materials that can be patterned, and is particularly useful for solder resist materials, interlayer insulating materials for build-up methods, and optical waveguides. It is also used for printed wiring boards, electrical / electronic / optical substrates such as optoelectronic substrates and optical substrates.

特に好適な用途としては、強靭な硬化物を得ることができる特性を生かして、ソルダーレジスト等の永久レジスト用途、顔料分散性が良好であるとの特性を生かして、印刷インキ、カラーフィルタ等のカラーレジスト、特にブラックマトリックス用レジストの用途が好ましい。   As a particularly suitable application, taking advantage of the property that a tough cured product can be obtained, making use of a permanent resist application such as a solder resist, and the property of good pigment dispersibility, printing inks, color filters, etc. The use of a color resist, particularly a black matrix resist is preferred.

この他、活性エネルギー線による硬化反応前の機械的強度が求められるドライフィルム用途として特に好適に用いられる。即ち、本発明で用いられる前記エポキシ樹脂(a)の水酸基、エポキシ基のバランスが特定の範囲にあるがゆえに、本発明の反応性カルボキシレート化合物が比較的高い分子量であるにも関わらず、良好な現像性を発揮させることが出来る。   In addition, it is particularly suitably used as a dry film application that requires mechanical strength before the curing reaction with active energy rays. That is, since the balance of the hydroxyl group and epoxy group of the epoxy resin (a) used in the present invention is in a specific range, the reactive carboxylate compound of the present invention has a relatively high molecular weight. Excellent developability can be exhibited.

皮膜形成させる方法としては特に制限はないが、グラビア等の凹版印刷方式、フレキソ等の凸版印刷方式、シルクスクリーン等の孔版印刷方式、オフセット等の平版印刷方式、ロールコーター、ナイフコーター、ダイコーター、カーテンコーター、スピンコーター等の各種塗工方式が任意に採用できる。   There are no particular restrictions on the method of forming the film, but an intaglio printing method such as gravure, a relief printing method such as flexo, a stencil printing method such as silk screen, a lithographic printing method such as offset, a roll coater, a knife coater, a die coater Various coating methods such as curtain coater and spin coater can be arbitrarily adopted.

本発明の活性エネルギー線硬化型樹脂組成物の硬化物とは、本発明の活性エネルギー線硬化型樹脂組成物に活性エネルギー線を照射し硬化させたものを指す。   The cured product of the active energy ray-curable resin composition of the present invention refers to a product obtained by irradiating and curing the active energy ray-curable resin composition of the present invention with active energy rays.

この他、本発明の活性エネルギー線硬化型樹脂組成物を各種用途に適合させる目的で、樹脂組成物中に70重量%を上限にその他の成分を加えることもできる。その他の成分としては光重合開始剤、その他の添加剤、着色材料、また塗工適性付与等を目的に粘度調整のため添加される揮発性溶剤等が挙げられる。下記に使用しうるその他の成分を例示する。   In addition, for the purpose of adapting the active energy ray-curable resin composition of the present invention to various uses, other components may be added to the resin composition up to 70% by weight. Examples of other components include a photopolymerization initiator, other additives, a coloring material, and a volatile solvent added for viscosity adjustment for the purpose of imparting coating suitability. Examples of other components that can be used are shown below.

ラジカル型光重合開始剤としては、例えばベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインプロピルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテル等のベンゾイン類;アセトフェノン、2,2−ジエトキシ−2−フェニルアセトフェノン、2,2−ジエトキシ−2−フェニルアセトフェノン、1,1−ジクロロアセトフェノン、2−ヒドロキシ−2−メチル−フェニルプロパン−1−オン、ジエトキシアセトフェノン、1−ヒドロキシンクロヘキシルフェニルケトン、2−メチル−1−[4−(メチルチオ)フェニル]−2−モルホリノ−プロパン−1−オン等のアセトフェノン類;2−エチルアントラキノン、2−t−ブチルアントラキノン、2−クロロアントラキノン、2−アミルアントラキノン等のアントラキノン類;2,4−ジエチルチオキサントン、2−イソプロピルチオキサントン、2−クロロチオキサントン等のチオキサントン類;アセトフエノンジメチルケタール、ベンジルジメチルケタール等のケタール類;ベンゾフェノン、4−ベンゾイル−4’−メチルジフェニルサルファイド、4,4’−ビスメチルアミノベンゾフェノン等のベンゾフェノン類;2,4,6−トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキサイド、ビス(2,4,6−トリメチルベンゾイル)−フェニルホスフィンオキサイド等のホスフィンオキサイド類等の公知一般のラジカル型光反応開始剤が挙げられる。   Examples of the radical photopolymerization initiator include benzoins such as benzoin, benzoin methyl ether, benzoin ethyl ether, benzoin propyl ether, and benzoin isobutyl ether; acetophenone, 2,2-diethoxy-2-phenylacetophenone, 2,2-diethoxy 2-phenylacetophenone, 1,1-dichloroacetophenone, 2-hydroxy-2-methyl-phenylpropan-1-one, diethoxyacetophenone, 1-hydroxyhexylphenyl ketone, 2-methyl-1- [4- ( Acetophenones such as methylthio) phenyl] -2-morpholino-propan-1-one; ant such as 2-ethylanthraquinone, 2-t-butylanthraquinone, 2-chloroanthraquinone, 2-amylanthraquinone Quinones; thioxanthones such as 2,4-diethylthioxanthone, 2-isopropylthioxanthone, 2-chlorothioxanthone; ketals such as acetophenone dimethyl ketal and benzyldimethyl ketal; benzophenone, 4-benzoyl-4′-methyldiphenyl sulfide Benzophenones such as 4,4'-bismethylaminobenzophenone; phosphine oxides such as 2,4,6-trimethylbenzoyldiphenylphosphine oxide and bis (2,4,6-trimethylbenzoyl) -phenylphosphine oxide A general radical type photoinitiator is mentioned.

また、カチオン系光重合開始剤としては、ルイス酸のジアゾニウム塩、ルイス酸のヨードニウム塩、ルイス酸のスルホニウム塩、ルイス酸のホスホニウム塩、その他のハロゲン化物、トリアジン系開始剤、ボーレート系開始剤、及びその他の光酸発生剤等が挙げられる。   As cationic photopolymerization initiators, Lewis acid diazonium salt, Lewis acid iodonium salt, Lewis acid sulfonium salt, Lewis acid phosphonium salt, other halides, triazine initiator, borate initiator, And other photoacid generators.

ルイス酸のジアゾニウム塩としては、p−メトキシフェニルジアゾニウムフロロホスホネート、N,N−ジエチルアミノフェニルジアゾニウムヘキサフロロホスホネート(三新化学工業社製サンエイドSI−60L/SI−80L/SI−100Lなど)等が挙げられ、ルイス酸のヨードニウム塩としては、ジフェニルヨードニウムヘキサフロロホスホネート、ジフェニルヨードニウムヘキサフロロアンチモネート等が挙げられ、ルイス酸のスルホニウム塩としては、トリフェニルスルホニウムヘキサフロロホスホネート(UnionCarbide社製CyracureUVI−6990など)、トリフェニルスルホニウムヘキサフロロアンチモネート(UnionCarbide社製CyracureUVI−6974など)等が挙げられ、ルイス酸のホスホニウム塩としては、トリフェニルホスホニウムヘキサフロロアンチモネート等が挙げられる。   Examples of the diazonium salt of Lewis acid include p-methoxyphenyldiazonium fluorophosphonate, N, N-diethylaminophenyldiazonium hexafluorophosphonate (Sun Shine SI-60L / SI-80L / SI-100L, etc., manufactured by Sanshin Chemical Industry Co., Ltd.) and the like. Examples of the iodonium salt of Lewis acid include diphenyliodonium hexafluorophosphonate and diphenyliodonium hexafluoroantimonate. Examples of the sulfonium salt of Lewis acid include triphenylsulfonium hexafluorophosphonate (such as Cyracure UVI-6990 manufactured by Union Carbide). And triphenylsulfonium hexafluoroantimonate (such as Cyracure UVI-6974 manufactured by Union Carbide). As the phosphonium salt of a Lewis acid, triphenyl phosphonium hexafluoroantimonate, and the like.

その他のハロゲン化物としては、2,2,2−トリクロロ−[1−4’−(ジメチルエチル)フェニル]エタノン(AKZO社製TrigonalPIなど)、2.2−ジクロロ−1−4−(フェノキシフェニル)エタノン(Sandoz社製Sandray1000など)、α,α,α−トリブロモメチルフェニルスルホン(製鉄化学社製BMPSなど)等が挙げられる。トリアジン系開始剤としては、2,4,6−トリス(トリクロロメチル)−トリアジン、2,4−トリクロロメチル−(4’−メトキシフェニル)−6−トリアジン(Panchim社製TriazineAなど)、2,4−トリクロロメチル−(4’−メトキシスチリル)−6−トリアジン(Panchim社製TriazinePMSなど)、2,4−トリクロロメチル−(ピプロニル)−6−トリアジン(Panchim社製TriazinePPなど)、2,4−トリクロロメチル−(4’−メトキシナフチル)−6−トリアジン(Panchim社製TriazineBなど)、2[2’(5’’−メチルフリル)エチリデン]−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン(三和ケミカル社製など)、2(2’−フリルエチリデン)−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン(三和ケミカル社製)等が挙げられる。   Other halides include 2,2,2-trichloro- [1-4 ′-(dimethylethyl) phenyl] ethanone (such as TrigonalPI manufactured by AKZO), 2.2-dichloro-1--4- (phenoxyphenyl) Examples include ethanone (such as Sandray 1000 manufactured by Sandoz), α, α, α-tribromomethylphenylsulfone (such as BMPS manufactured by Iron Chemical). Examples of the triazine-based initiator include 2,4,6-tris (trichloromethyl) -triazine, 2,4-trichloromethyl- (4′-methoxyphenyl) -6-triazine (such as Triazine A manufactured by Panchi), 2,4 -Trichloromethyl- (4'-methoxystyryl) -6-triazine (such as Triazine PMS manufactured by Panchim), 2,4-trichloromethyl- (pipronyl) -6-triazine (such as TriazinePP manufactured by Panchim), 2,4-trichloro Methyl- (4′-methoxynaphthyl) -6-triazine (such as Triazine B manufactured by Panchim), 2 [2 ′ (5 ″ -methylfuryl) ethylidene] -4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine ( Sanwa Chemical Co., Ltd.), 2 (2'-furyl) Chiriden) -4,6-bis (manufactured by trichloromethyl) -s-triazine (Sanwa Chemical Co., Ltd.).

ボーレート系開始剤としては、日本感光色素製NK−3876及びNK−3881等が挙げられ、その他の光酸発生剤等としては、9−フェニルアクリジン、2,2’−ビス(o−クロロフェニル)−4,4’,5,5’−テトラフェニル−1,2−ビイミダゾール(黒金化成社製ビイミダゾールなど)、2,2−アゾビス(2−アミノ−プロパン)ジヒドロクロリド(和光純薬社製V50など)、2,2−アゾビス[2−(イミダソリン−2イル)プロパン]ジヒドロクロリド(和光純薬社製VA044など)、[イータ−5−2−4−(シクロペンタデシル)(1,2,3,4,5,6,イータ)−(メチルエチル)−ベンゼン]鉄(II)ヘキサフロロホスホネート(CibaGeigy
社製Irgacure261など)、ビス(y5−シクロペンタジエニル)ビス[2,6−ジフルオロ−3−(1H−ピリ−1−イル)フェニル]チタニウム(CibaGeigy社製CGI−784など)等が挙げられる。
Examples of the borate initiator include NK-3876 and NK-3881 manufactured by Nippon Senshoku Dye Co., Ltd. Other photoacid generators include 9-phenylacridine, 2,2′-bis (o-chlorophenyl)- 4,4 ′, 5,5′-tetraphenyl-1,2-biimidazole (such as biimidazole manufactured by Kurokin Kasei), 2,2-azobis (2-amino-propane) dihydrochloride (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) V50), 2,2-azobis [2- (imidazolin-2-yl) propane] dihydrochloride (VA044 manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.), [eta-5-2-4- (cyclopentadecyl) (1,2 , 3,4,5,6, eta)-(methylethyl) -benzene] iron (II) hexafluorophosphonate (CibaGeigy
Irgacure 261, etc.), bis (y5-cyclopentadienyl) bis [2,6-difluoro-3- (1H-py-1-yl) phenyl] titanium (CGI-784, CibaGeigy) and the like. .

この他、アゾビスイソブチロニトリル等のアゾ系開始剤、過酸化ベンゾイル等の熱に感応する過酸化物系ラジカル型開始剤等を併せて用いても良い。また、ラジカル系とカチオン系の双方の開始剤を併せて用いても良い。開始剤は、1種類を単独で用いることもできるし、2種類以上を併せて用いることもできる。   In addition, an azo initiator such as azobisisobutyronitrile, a peroxide radical initiator sensitive to heat such as benzoyl peroxide, and the like may be used in combination. Further, both radical and cationic initiators may be used in combination. One type of initiator can be used alone, or two or more types can be used in combination.

その他の添加剤としては、例えばメラミン等の熱硬化触媒、アエロジル等のチキソトロピー付与剤、シリコーン系、フッ素系のレベリング剤や消泡剤、ハイドロキノン、ハイドロキノンモノメチルエーテル等の重合禁止剤、安定剤、酸化防止剤等を使用することが出来る。   Other additives include, for example, thermosetting catalysts such as melamine, thixotropy imparting agents such as Aerosil, silicone-based and fluorine-based leveling agents and antifoaming agents, polymerization inhibitors such as hydroquinone and hydroquinone monomethyl ether, stabilizers, oxidation An inhibitor or the like can be used.

また、その他の顔料材料としては例えば、着色を目的としないもの、いわゆる体質顔料を用いることも出来る。例えば、タルク、硫酸バリウム、炭酸カルシウム、炭酸マグネシウム、チタン酸バリウム、水酸化アルミニウム、シリカ、クレー等が挙げられる。   Further, as other pigment materials, for example, those not intended for coloring, so-called extender pigments can be used. Examples include talc, barium sulfate, calcium carbonate, magnesium carbonate, barium titanate, aluminum hydroxide, silica, clay and the like.

この他に活性エネルギー線に反応性を示さない樹脂類(いわゆるイナートポリマー)、たとえばその他のエポキシ樹脂、フェノール樹脂、ウレタン樹脂、ポリエステル樹脂、ケトンホルムアルデヒド樹脂、クレゾール樹脂、キシレン樹脂、ジアリルフタレート樹脂、スチレン樹脂、グアナミン樹脂、天然及び合成ゴム、アクリル樹脂、ポリオレフィン樹脂、及びこれらの変性物を用いることもできる。これらは40重量%までの範囲において用いることが好ましい。   Other resins that are not reactive with active energy rays (so-called inert polymers), such as other epoxy resins, phenol resins, urethane resins, polyester resins, ketone formaldehyde resins, cresol resins, xylene resins, diallyl phthalate resins, styrene Resins, guanamine resins, natural and synthetic rubbers, acrylic resins, polyolefin resins, and modified products thereof can also be used. These are preferably used in the range of up to 40% by weight.

特に、ソルダーレジスト用途に反応性ポリカルボン酸化合物(B)を用いようとする場合には、活性エネルギー線に反応性を示さない樹脂類として公知一般のエポキシ樹脂を用いることが好ましい。これは活性エネルギー線によって反応、硬化させた後も(B)に由来するカルボキシル基が残留してしまい、結果としてその硬化物は耐水性や加水分解性に劣ってしまう。したがって、エポキシ樹脂を用いることで残留するカルボキシル基をさらにカルボキシレート化し、さらに強固な架橋構造を形成させる。   In particular, when the reactive polycarboxylic acid compound (B) is to be used for solder resist applications, it is preferable to use a known general epoxy resin as a resin that does not show reactivity to active energy rays. This is because the carboxyl group derived from (B) remains even after being reacted and cured by active energy rays, and as a result, the cured product is inferior in water resistance and hydrolyzability. Therefore, by using an epoxy resin, the remaining carboxyl group is further carboxylated to form a stronger cross-linked structure.

また使用目的に応じて、粘度を調整する目的で、樹脂組成物中に50重量%、さらに好ましくは35重量%までの範囲において揮発性溶剤を添加することも出来る。   Depending on the purpose of use, for the purpose of adjusting the viscosity, a volatile solvent may be added to the resin composition in a range of 50% by weight, more preferably up to 35% by weight.

以下、本発明を実施例により更に詳細に説明するが、本発明はこれら実施例に限定されるものではない。また、実施例中特に断りがない限り、部は重量部を示す。   EXAMPLES Hereinafter, although an Example demonstrates this invention still in detail, this invention is not limited to these Examples. Moreover, unless otherwise indicated in an Example, a part shows a weight part.

軟化点、エポキシ当量は以下の条件で測定した。
1)エポキシ当量:JIS K 7236:2001に準じた方法で測定した。
2)軟化点:JIS K 7234:1986に準じた方法で測定
3)酸価:JIS K 0070:1992に準じた方法で測定
4)GPCの測定条件は以下の通りである。
機種:TOSOH HLC−8220GPC
カラム:TSKGEL Super HZM−N
溶離液:THF(テトラヒドロフラン);0.35ml毎分.40℃
検出器:示差屈折計
分子量標準:ポリスチレン
The softening point and epoxy equivalent were measured under the following conditions.
1) Epoxy equivalent: Measured by a method according to JIS K 7236: 2001.
2) Softening point: measured by a method according to JIS K 7234: 1986 3) Acid value: measured by a method according to JIS K 0070: 1992 4) GPC measurement conditions are as follows.
Model: TOSOH HLC-8220GPC
Column: TSKGEL Super HZM-N
Eluent: THF (tetrahydrofuran); 0.35 ml per minute. 40 ° C
Detector: Differential refractometer Molecular weight standard: Polystyrene

実施例1:カルボキシレート化合物(A)の調製
NC−3000H(日本化薬製、軟化点70℃、エポキシ当量288g/eq)を288g、分子中に一個以上の重合可能なエチレン性不飽和基と一個以上のカルボキシル基を併せ持つ化合物(b)としてアクリル酸(略称AA、Mw=72)を表1中記載量、触媒としてトリフェニルフォスフィン3g、溶剤としてプロピレングリコールモノメチルエーテルモノアセテートを固形分80%となるように加え、100℃24時間反応させ、カルボキシレート化合物溶液を得た。
反応終点は固形分酸価(AV)にて決定し、測定値を表中に記載した。酸価測定は、反応溶液にて測定し固形分としての酸価に換算した。
Example 1: Preparation of carboxylate compound (A) NC-3000H (manufactured by Nippon Kayaku, softening point 70 ° C., epoxy equivalent 288 g / eq) 288 g, with one or more polymerizable ethylenically unsaturated groups in the molecule As compound (b) having one or more carboxyl groups, acrylic acid (abbreviation AA, Mw = 72) is listed in Table 1, 3 g of triphenylphosphine as catalyst, and 80% solid content of propylene glycol monomethyl ether monoacetate as solvent. And reacted at 100 ° C. for 24 hours to obtain a carboxylate compound solution.
The reaction end point was determined by the solid content acid value (AV), and the measured value was described in the table. The acid value was measured with a reaction solution and converted into an acid value as a solid content.

比較例1:比較するカルボキシレート化合物の調製Comparative Example 1: Preparation of carboxylate compounds for comparison
クレゾールノボラック型エポキシ樹脂EOCN-103S(日本化薬製、軟化点80℃、エポキシ当量200g/eq)を200g、分子中に一個以上の重合可能なエチレン性不飽和基と一個以上のカルボキシル基を併せ持つ化合物(b)としてアクリル酸(略称AA、Mw=72)を表中記載量、分子中に一個以上の水酸基と一個以上のカルボキシル基を併せ持つ化合物(c)としてジメタノールプロピオン酸(略称DMPA、Mw=134)を表1中記載量加えた。  200 g of cresol novolac type epoxy resin EOCN-103S (Nippon Kayaku, softening point 80 ° C., epoxy equivalent 200 g / eq), having one or more polymerizable ethylenically unsaturated groups and one or more carboxyl groups in the molecule Acrylic acid (abbreviation AA, Mw = 72) as the compound (b) is described in the table, and dimethanolpropionic acid (abbreviation DMPA, Mw) as the compound (c) having one or more hydroxyl groups and one or more carboxyl groups in the molecule. = 134) was added in the amount shown in Table 1.
触媒としてトリフェニルフォスフィン3g、溶剤としてプロピレングリコールモノメチルエーテルモノアセテートを固形分80%となるように加え、100℃24時間反応させ、カルボキシレート化合物溶液を得た。  3 g of triphenylphosphine as a catalyst and propylene glycol monomethyl ether monoacetate as a solvent were added so as to have a solid content of 80% and reacted at 100 ° C. for 24 hours to obtain a carboxylate compound solution.
反応終点は固形分酸価(AV)にて決定し、測定値を表中に記載した。酸価測定は、反応溶液にて測定し固形分としての酸価に換算した。  The reaction end point was determined by the solid content acid value (AV), and the measured value was described in the table. The acid value was measured with a reaction solution and converted into an acid value as a solid content.

表1:実施例1及び比較例1:エポキシカルボキシレート化合物(A)の調製Table 1: Example 1 and Comparative Example 1: Preparation of epoxycarboxylate compound (A)
実施例 AA量(モル比) DMPA量(モル比) AV(mgKOH/g)Example AA amount (molar ratio) DMPA amount (molar ratio) AV (mgKOH / g)
実施例1 72 (1.0) 0 (0.0) 2.5Example 1 72 (1.0) 0 (0.0) 2.5
比較例1 36 (0.5) 67 (0.5) 2.5Comparative Example 1 36 (0.5) 67 (0.5) 2.5

実施例2:反応性ポリカルボン酸化合物(B)の調製Example 2: Preparation of reactive polycarboxylic acid compound (B)
実施例1、比較例1において得られたカルボキシレート化合物溶液299gに多塩基酸無水物(d)として、テトラヒドロ無水フタル酸(略称THPA)表2中記載量、及び溶剤として固形分が65重量%となるようプロピレングリコールモノメチルエーテルモノアセテートを添加し、100℃に加熱し酸付加反応させ反応性ポリカルボン酸化合物溶液を得た。  As the polybasic acid anhydride (d), tetrahydrophthalic anhydride (abbreviated as THPA) in Table 2 was added to 299 g of the carboxylate compound solution obtained in Example 1 and Comparative Example 1, and the solid content was 65% by weight as the solvent. Then, propylene glycol monomethyl ether monoacetate was added and heated to 100 ° C. to carry out an acid addition reaction to obtain a reactive polycarboxylic acid compound solution.

表2:実施例2及び比較例2:Table 2: Example 2 and Comparative Example 2:
反応性ポリカルボン酸化合物(B)の調製Preparation of reactive polycarboxylic acid compound (B)
実施例 化合物(A) THPA量 固形分酸価Example Compound (A) THPA amount Solid content acid value
実施例2−1 実施例1 88g 101mgKOH/gExample 2-1 Example 1 88 g 101 mg KOH / g
実施例2−2 実施例1 37g 52mgKOH/gExample 2-2 Example 1 37 g 52 mg KOH / g
比較例2 比較例1 88g 102mgKOH/gComparative Example 2 Comparative Example 1 88g 102mgKOH / g

試験例1:エポキシカルボキシレート化合物の保存安定性Test Example 1: Storage stability of epoxycarboxylate compound
実施例1、比較例1で得られたエポキシカルボキシレート化合物溶液を氷点下5℃の冷凍室に保管し、結晶を生じるまでの時間を比較し、下表3に示した。The epoxy carboxylate compound solutions obtained in Example 1 and Comparative Example 1 were stored in a freezing room at 5 ° C. below freezing, and the time taken to produce crystals was compared.

表3 試験例1:エポキシカルボキシレート化合物の保存安定性Table 3 Test Example 1: Storage stability of epoxycarboxylate compound
試験例No. 化合物(A) AA量(モル比) DMPA量(モル比) 時間Test Example No. Compound (A) AA amount (molar ratio) DMPA amount (molar ratio) Time
試験例1 実施例1 72 (1.0) 0(0.0) 3週間Test Example 1 Example 1 72 (1.0) 0 (0.0) 3 weeks

実施例3及び比較例3:ハードコート用組成物の調製Example 3 and Comparative Example 3: Preparation of hard coat composition
実施例1及び比較例1において合成した反応性カルボキシレート化合物(A)20g、ラジカル硬化型の単量体(C)であるジペンタエリスリトールヘキサアクリレート4g、紫外線反応型開始剤としてイルガキュア184を1.5gを加熱溶解した。  20 g of the reactive carboxylate compound (A) synthesized in Example 1 and Comparative Example 1, 4 g of dipentaerythritol hexaacrylate, which is a radical curable monomer (C), and Irgacure 184 as an ultraviolet reactive initiator. 5 g was dissolved by heating.
さらにこれを、乾燥時の膜厚20ミクロンになるようハンドアプリケータによってポリカーボネート板上に塗工し、80℃30分間電気オーブンにて溶剤乾燥を実施した。乾燥後、高圧水銀ランプを具備した紫外線垂直露光装置(オーク製作所製)によって照射線量1000mJの紫外線を照射、硬化させ多層材料を得た。  Further, this was coated on a polycarbonate plate by a hand applicator so as to have a film thickness of 20 microns at the time of drying, and solvent drying was carried out in an electric oven at 80 ° C. for 30 minutes. After drying, a multilayer material was obtained by irradiating and curing ultraviolet rays with an irradiation dose of 1000 mJ using an ultraviolet vertical exposure apparatus (Oak Seisakusho) equipped with a high-pressure mercury lamp.

表4 実施例3及び比較例3:ハードコート用組成物の評価Table 4 Example 3 and Comparative Example 3: Evaluation of hard coat composition
実施例No. 化合物(A) (b)/(c) 鉛筆硬度Example No. Compound (A) (b) / (c) Pencil hardness
実施例3 実施例1 1.0/0.0 3HExample 3 Example 1 1.0 / 0.0 3H
比較例3 比較例1 0.5/0.5 HComparative Example 3 Comparative Example 1 0.5 / 0.5 H

実施例4:ドライフィルム型レジスト組成物の調製Example 4: Preparation of dry film resist composition
実施例2で得られた反応性ポリカルボン酸化合物(B)を54.44g、その他反応性化合物(C)としてHX−220(商品名:日本化薬(株)製 ジアクリレート単量体)3.54g、光重合開始剤としてイルガキュアー907(チバスペシャリチィーケミカルズ製)を4.72g及びカヤキュアーDETX−S(日本化薬(株)製)を0.47g、硬化成分としてGTR−1800(日本化薬製)を14.83g、熱硬化触媒としてメラミンを1.05g及び濃度調整溶媒としてメチルエチルケトンを20.95g加え、ビーズミルにて混練し均一に分散させレジスト樹脂組成物を得た。  54.44 g of the reactive polycarboxylic acid compound (B) obtained in Example 2 and HX-220 (trade name: Nippon Kayaku Co., Ltd. diacrylate monomer) as the other reactive compound (C) 3 .54g, Irgacure 907 (manufactured by Ciba Specialty Chemicals) as the photopolymerization initiator, 4.72g and Kayacure DETX-S (manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.), 0.47g as the curing component, GTR-1800 (Nipponization) 14.83 g (manufactured by Yakuhin), 1.05 g of melamine as a thermosetting catalyst and 20.95 g of methyl ethyl ketone as a concentration adjusting solvent were kneaded with a bead mill and uniformly dispersed to obtain a resist resin composition.
得られた組成物をワイヤーバーコータ#20を用い、支持フィルムとなるポリエチレンテレフタレートフィルムに均一に塗布し、温度70℃の熱風乾燥炉を通過させ、厚さ20μmの樹脂層を形成した後、この樹脂層上に保護フィルムとなるポリエチレンフィルムを貼り付け、ドライフィルムを得た。得られたドライフィルムをポリイミドプリント基板(銅回路厚:12μm、ポリイミドフィルム厚:25μm)に、温度80℃の加熱ロールを用いて、保護フィルムを剥離しながら樹脂層を基板全面に貼り付けた。  The obtained composition was uniformly applied to a polyethylene terephthalate film serving as a support film using a wire bar coater # 20, passed through a hot air drying furnace at a temperature of 70 ° C., and a resin layer having a thickness of 20 μm was formed. A polyethylene film serving as a protective film was pasted on the resin layer to obtain a dry film. The obtained dry film was applied to a polyimide printed circuit board (copper circuit thickness: 12 μm, polyimide film thickness: 25 μm) using a heating roll at a temperature of 80 ° C., and a resin layer was attached to the entire surface of the substrate while peeling off the protective film.

次いで、紫外線露光装置((株)オーク製作所、型式HMW−680GW)を用い回路パターンの描画されたマスク、および感度を見積もるために、コダック製ステップタブレットNo.2を通して500mJ/cm  Next, in order to estimate the sensitivity of the mask on which the circuit pattern was drawn and the sensitivity using an ultraviolet exposure apparatus (Oak Manufacturing Co., Ltd., model HMW-680GW), 500 mJ / cm through Kodak Step Tablet No. 2 22 の紫外線を照射した。その後、ドライフィルム上のフィルムを剥離し剥離状態を確認した。その後1%炭酸ナトリウム水溶液でスプレー現像を行い、紫外線未照射部の樹脂を除去した。水洗乾燥した後、プリント基板を150℃の熱風乾燥器で60分加熱硬化反応させ硬化膜を得た。The ultraviolet rays were irradiated. Then, the film on a dry film was peeled and the peeling state was confirmed. Thereafter, spray development was performed with a 1% aqueous sodium carbonate solution to remove the resin on the non-irradiated part of the ultraviolet rays. After washing with water and drying, the printed circuit board was heat-cured for 60 minutes with a hot air dryer at 150 ° C. to obtain a cured film.

感度評価Sensitivity evaluation
感度は、ステップタブレットを透過した露光部に、何段目の濃度部分までが現像時に残存したかで判定した。段数(値)が大きいほうがタブレットの濃部で高感度と判定される(単位:段)。  Sensitivity was determined by how many density portions remained in the exposed portion that passed through the step tablet during development. The higher the number of steps (value), the higher sensitivity is determined in the dark part of the tablet (unit: step).
現像性評価Developability evaluation
現像性は、パターンマスクを透過した露光部を現像する際に、パターン形状部が完全に現像されきるまでの時間、いわゆるブレイクタイムをもって現像性の評価とした(単位:秒)。  The developability was evaluated based on the time until the pattern shape portion was completely developed, that is, the so-called break time when developing the exposed portion that passed through the pattern mask (unit: second).
硬化性評価  Curability evaluation
硬化性評価は、150℃加熱終了後の硬化膜の鉛筆硬度をもって示した。  The evaluation of curability was shown by the pencil hardness of the cured film after heating at 150 ° C.
評価方法は、JIS K5600−5−4:1999に準拠した。  The evaluation method was based on JIS K5600-5-4: 1999.

表5 実施例4及び比較例4:ドライフィルムレジストの評価Table 5 Example 4 and Comparative Example 4: Evaluation of dry film resist
実施例 化合物(B) (b)/(c) 感度 現像性 硬化性Example Compound (B) (b) / (c) Sensitivity Developability Curability
実施例4−1 実施例2−1 1.0/0.0 9 50 4HExample 4-1 Example 2-1 1.0 / 0.0 9 50 4H
実施例4−2 実施例2−2 1.0/0.0 現像不可 3HExample 4-2 Example 2-2 1.0 / 0.0 Development impossible 3H
比較例4 比較例2 0.5/0.5 9 45 3HComparative Example 4 Comparative Example 2 0.5 / 0.5 9 45 3H

上記の結果から明らかなように、本発明におけるレジスト組成物は、比較的高い硬度を有している。  As is clear from the above results, the resist composition in the present invention has a relatively high hardness.

実施例5:難燃性の評価Example 5: Evaluation of flame retardancy
実施例4で調製したレジスト組成物9.5g、リン酸エステル系難燃剤(SP−703H四国化成)0.5gを混合攪拌し、硬化型樹脂組成物を得た。組成物を膜厚25ミクロンのポリイミドフィルムに、ワイヤーバーコータ#20で塗工、温度70℃の熱風乾燥炉を通過させ、厚さおおよそ15μmの樹脂層を形成した。紫外線露光装置((株)オーク製作所、型式HMW−680GW)を用い500mJ/cm  9.5 g of the resist composition prepared in Example 4 and 0.5 g of a phosphate ester flame retardant (SP-703H Shikoku Kasei) were mixed and stirred to obtain a curable resin composition. The composition was applied to a polyimide film having a film thickness of 25 microns with a wire bar coater # 20, and passed through a hot air drying furnace at a temperature of 70 ° C. to form a resin layer having a thickness of approximately 15 μm. 500 mJ / cm using an ultraviolet exposure device (Oak Manufacturing Co., Ltd., model HMW-680GW) 22 の紫外線を照射した。照射後、プリント基板を150℃の熱風乾燥器で60分加熱硬化反応させ硬化膜を得た。The ultraviolet rays were irradiated. After irradiation, the printed circuit board was subjected to a heat curing reaction for 60 minutes in a hot air dryer at 150 ° C. to obtain a cured film.
得られた硬化膜を、長さ20cm、幅2cmの短冊状にポリイミド基材フィルムと一緒に切り出した。切り出したフィルムを縦長に吊るし、下端よりライターによって火をつけ、難燃性を評価した。(表6)  The obtained cured film was cut out together with the polyimide base film in a strip shape having a length of 20 cm and a width of 2 cm. The cut out film was suspended vertically and lit by a lighter from the lower end to evaluate flame retardancy. (Table 6)
○ :着火するが全焼する前に消火する。×:全焼してしまう。○: Ignite but extinguish before burning. X: It burns out completely.

表6 実施例5及び比較例5:難燃性の評価Table 6 Example 5 and Comparative Example 5: Evaluation of flame retardancy
実施例 化合物(B) (b)/(c) 難燃性Example Compound (B) (b) / (c) Flame retardancy
実施例5 実施例4 1.0/0.0 ○Example 5 Example 4 1.0 / 0.0 ○
比較例5 比較例4 0.5/0.5 ×Comparative Example 5 Comparative Example 4 0.5 / 0.5 ×

以上の結果から、本発明のカルボキシレート化合物は、難燃性に優れていることが明らかとなった。  From the above results, it was clarified that the carboxylate compound of the present invention is excellent in flame retardancy.

実施例6:顔料分散性に関する評価Example 6: Evaluation of pigment dispersibility
実施例2で得られた反応性ポリカルボン酸化合物(B)を20g、その他反応性化合物(C)としてDPHA(商品名:日本化薬(株)製 アクリレート単量体)5.0g、有機溶剤としてプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート10g、着色顔料として三菱カーボンブラック MA-100を10gを混合攪拌した。そこに35gのガラスビーズを入れ、ペイントシェーカで1時間分散を行った。  20 g of the reactive polycarboxylic acid compound (B) obtained in Example 2 and 5.0 g of DPHA (trade name: Nippon Kayaku Co., Ltd. acrylate monomer) as the other reactive compound (C), organic solvent 10 g of propylene glycol monomethyl ether acetate and 10 g of Mitsubishi Carbon Black MA-100 as a coloring pigment were mixed and stirred. 35 g of glass beads were put therein and dispersed for 1 hour with a paint shaker.
分散終了後の分散液を、ワイヤーバーコーター#2でポリエチレンテレフタレートフィルム上に塗工し、80℃の温風乾燥機で10分間乾燥を行った。  The dispersion after the dispersion was coated on a polyethylene terephthalate film with a wire bar coater # 2, and dried for 10 minutes with a hot air dryer at 80 ° C.
乾燥終了後の塗膜表面の光沢を、60°反射グロス計(堀場製作所 IG−331光沢計)を用いて測定し、カーボンブラックの分散性を評価した。この際、光沢が高いほうが良好な顔料分散性ということを示している。(表7)  The gloss of the coating film surface after drying was measured using a 60 ° reflection gloss meter (Horiba IG-331 gloss meter) to evaluate the dispersibility of carbon black. At this time, a higher gloss indicates better pigment dispersibility. (Table 7)

表7 実施例6及び比較例6:顔料分散性の評価  Table 7 Example 6 and Comparative Example 6: Evaluation of pigment dispersibility
実施例 化合物(B) (b)/(c) 光沢Example Compound (B) (b) / (c) Gloss
実施例6−1 実施例2−1 1.0/0.0 35 Example 6-1 Example 2-1 1.0 / 0.0 35
実施例6−2 実施例2−2 1.0/0.0 31 Example 6-2 Example 2-2 1.0 / 0.0 31
比較例6 比較例2 0.5/0.5 23Comparative Example 6 Comparative Example 2 0.5 / 0.5 23

上記の結果から明らかなように、本発明における反応性ポリカルボン酸(B)の基本骨格となるエポキシ樹脂(a)に分子中に一個以上の重合可能なエチレン性不飽和基と一個以上のカルボキシル基を併せ持つ化合物(b)を導入することで、顔料の分散性が向上することが明らかとなった。  As apparent from the above results, the epoxy resin (a), which is the basic skeleton of the reactive polycarboxylic acid (B) in the present invention, has one or more polymerizable ethylenically unsaturated groups and one or more carboxyls in the molecule. It was revealed that the dispersibility of the pigment is improved by introducing the compound (b) having both groups.

本発明の活性エネルギー線硬化型樹脂として、硬化性と柔軟性、強靭性、難燃性を併せ持つ材料として、ハードコート材料、アルカリ現像可能なフレキシブル性を必要とされるレジスト材料、良好な顔料分散性を発揮する用途を示したが、例えば活性エネルギー線硬化型の印刷インキ、カラーレジスト、特には顔料分散性と現像性等のレジスト適性を併せ持つ材料としてLCD用のカラーレジスト、特にはブラックマトリックス等に特に好適に用いることが出来る。  As an active energy ray curable resin of the present invention, as a material having both curability, flexibility, toughness, and flame retardancy, a hard coat material, a resist material that requires alkali developability, good pigment dispersion For example, active energy ray-curable printing inks, color resists, especially color resists for LCDs, especially black matrix, etc. as materials having both resist dispersibility and developability, etc. It can be used particularly preferably.

Claims (10)

一般式(1)で示されるエポキシ樹脂(a)に一分子中に一個以上の重合可能なエチレン性不飽和基と一個以上のカルボキシル基を併せ持つ化合物(b)を反応せしめて得られる、着色顔料の分散剤である反応性エポキシカルボキシレート化合物(A)。
Figure 2013108093
(式中、R1は同一もしくは異なり、水素原子、ハロゲン原子または炭素数1〜4の炭化水素基を、mは1〜4の整数を、またnは平均値で1〜10の正数をそれぞれ示す。)
A color pigment obtained by reacting the epoxy resin (a) represented by the general formula (1) with a compound (b) having one or more polymerizable ethylenically unsaturated groups and one or more carboxyl groups in one molecule. Reactive epoxycarboxylate compound (A) which is a dispersant of
Figure 2013108093
Wherein R 1 is the same or different and represents a hydrogen atom, a halogen atom or a hydrocarbon group having 1 to 4 carbon atoms, m is an integer of 1 to 4, and n is a positive number of 1 to 10 on average. Respectively.)
請求項1記載のカルボキシレート化合物(A)に多塩基酸無水物(d)を反応せしめて得られる、着色顔料の分散剤である反応性ポリカルボン酸化合物(B)。A reactive polycarboxylic acid compound (B), which is a color pigment dispersant, obtained by reacting the carboxylate compound (A) according to claim 1 with a polybasic acid anhydride (d). 請求項1記載のカルボキシレート化合物(A)及び/又は請求項2記載の反応性ポリカルボン酸化合物(B)を含むことを特徴とする活性エネルギー線硬化型樹脂組成物。 An active energy ray-curable resin composition comprising the carboxylate compound (A) according to claim 1 and / or the reactive polycarboxylic acid compound (B) according to claim 2. 更に(A)、(B)以外の反応性化合物(C)を含むことを特徴とする請求項3記載の活性エネルギー線硬化型樹脂組成物。 4. The active energy ray-curable resin composition according to claim 3, further comprising a reactive compound (C) other than (A) and (B). 更に着色顔料を含有させることを特徴とする請求項3又は4に記載の活性エネルギー線硬化型樹脂組成物。 Furthermore, a coloring pigment is contained, The active energy ray hardening-type resin composition of Claim 3 or 4 characterized by the above-mentioned. 成形用材料である請求項3〜5に記載の活性エネルギー線硬化型樹脂組成物。 The active energy ray-curable resin composition according to claim 3, which is a molding material. 皮膜形成用材料である請求項3〜5に記載の活性エネルギー線硬化型樹脂組成物。 The active energy ray-curable resin composition according to claim 3, which is a film forming material. レジスト材料組成物である請求項3〜5のいずれか一項に記載の活性エネルギー線硬化型樹脂組成物。 It is a resist material composition, The active energy ray hardening-type resin composition as described in any one of Claims 3-5. 請求項3〜5のいずれか一項に記載の活性エネルギー線硬化型樹脂組成物の硬化物。 Hardened | cured material of the active energy ray hardening-type resin composition as described in any one of Claims 3-5. 請求項3〜5のいずれか一項に記載の活性エネルギー線硬化型樹脂組成物でオーバーコートされた物品。 An article overcoated with the active energy ray-curable resin composition according to any one of claims 3 to 5.
JP2013034360A 2013-02-25 2013-02-25 Reactive carboxylate compound, active energy ray-curable resin composition using the same, and application thereof Pending JP2013108093A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2013034360A JP2013108093A (en) 2013-02-25 2013-02-25 Reactive carboxylate compound, active energy ray-curable resin composition using the same, and application thereof

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2013034360A JP2013108093A (en) 2013-02-25 2013-02-25 Reactive carboxylate compound, active energy ray-curable resin composition using the same, and application thereof

Related Parent Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2007214733A Division JP5279214B2 (en) 2007-08-21 2007-08-21 Reactive carboxylate compound, active energy ray-curable resin composition using the same, and use thereof

Related Child Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2015010140A Division JP5959125B2 (en) 2015-01-22 2015-01-22 Reactive carboxylate compound, active energy ray-curable resin composition using the same, and use thereof

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2013108093A true JP2013108093A (en) 2013-06-06

Family

ID=48705170

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2013034360A Pending JP2013108093A (en) 2013-02-25 2013-02-25 Reactive carboxylate compound, active energy ray-curable resin composition using the same, and application thereof

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2013108093A (en)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2015008596A1 (en) * 2013-07-19 2015-01-22 Dic株式会社 Active energy ray-curable composition, active energy ray-curable printing ink comprising same, and printed matter

Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH11140144A (en) * 1997-11-04 1999-05-25 Nippon Kayaku Co Ltd Resin composition and cured product thereof
JPH11242332A (en) * 1998-02-24 1999-09-07 Nippon Kayaku Co Ltd Resin composition, its hardened body and printed circuit board
JP2000321763A (en) * 1999-03-10 2000-11-24 Hitachi Chem Co Ltd Colored resin composition, photosensitive colored resin composition, photosensitive fluid for forming colored image, photosensitive element, production of colored image and production of color filter
JP2002206014A (en) * 2001-01-09 2002-07-26 Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd Photopolymerizing composition and method of producing color filter using the composition
JP2007161878A (en) * 2005-12-14 2007-06-28 Nippon Kayaku Co Ltd Polycarboxylic acid resin, photosensitive resin composition and its cured product
JP2009046604A (en) * 2007-08-21 2009-03-05 Nippon Kayaku Co Ltd Reactive carboxylate compound, active energy ray-curable resin composition using the same, and use of the composition

Patent Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH11140144A (en) * 1997-11-04 1999-05-25 Nippon Kayaku Co Ltd Resin composition and cured product thereof
JPH11242332A (en) * 1998-02-24 1999-09-07 Nippon Kayaku Co Ltd Resin composition, its hardened body and printed circuit board
JP2000321763A (en) * 1999-03-10 2000-11-24 Hitachi Chem Co Ltd Colored resin composition, photosensitive colored resin composition, photosensitive fluid for forming colored image, photosensitive element, production of colored image and production of color filter
JP2002206014A (en) * 2001-01-09 2002-07-26 Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd Photopolymerizing composition and method of producing color filter using the composition
JP2007161878A (en) * 2005-12-14 2007-06-28 Nippon Kayaku Co Ltd Polycarboxylic acid resin, photosensitive resin composition and its cured product
JP2009046604A (en) * 2007-08-21 2009-03-05 Nippon Kayaku Co Ltd Reactive carboxylate compound, active energy ray-curable resin composition using the same, and use of the composition

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2015008596A1 (en) * 2013-07-19 2015-01-22 Dic株式会社 Active energy ray-curable composition, active energy ray-curable printing ink comprising same, and printed matter
JP5866061B2 (en) * 2013-07-19 2016-02-17 Dic株式会社 Active energy ray curable composition, active energy ray curable printing ink using the same, and printed matter
JPWO2015008596A1 (en) * 2013-07-19 2017-03-02 Dic株式会社 Active energy ray curable composition, active energy ray curable printing ink using the same, and printed matter

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP5279214B2 (en) Reactive carboxylate compound, active energy ray-curable resin composition using the same, and use thereof
JP6576161B2 (en) Novel reactive epoxycarboxylate compound, derivative thereof, resin composition containing the same, and cured product thereof
KR101484661B1 (en) Reactive Carboxylate Compound, Active-energy-ray-curable Resin Composition Utilizing the Same and Use of the Same
JP6075772B2 (en) Resin composition and cured product thereof
JP7361170B2 (en) Reactive polycarboxylic acid compound, active energy ray-curable resin composition using the same, cured product thereof, and uses thereof
JP7462709B2 (en) Reactive polycarboxylic acid compound, active energy ray curable resin composition using the same, cured product thereof, and uses thereof
JP7378550B2 (en) Reactive polycarboxylic acid compound, active energy ray-curable resin composition using the same, cured product thereof, and uses thereof
JP2018123311A (en) Reactive polycarboxylic acid compound, active energy ray-curable resin composition prepared therewith, cured product thereof and use therefor
JP5473208B2 (en) Novel epoxy carboxylate compound, derivative thereof, active energy ray-curable resin composition containing the same, and cured product thereof
JP2009120737A (en) Reactive carboxylate compound, active energy ray-curable resin composition using the same, and application of the resin composition
JP6556735B2 (en) Reactive polyester compound and active energy ray-curable resin composition using the same
JP7419246B2 (en) Reactive polycarboxylic acid resin mixture, active energy ray-curable resin composition using the same and cured product thereof, and reactive epoxycarboxylate resin mixture
WO2013172009A1 (en) Reactive polyester compound and active energy ray-curable resin composition
TWI726088B (en) Epoxy resin, reactive carboxylate compound, curable resin composition using the same, and uses thereof
JP2009275167A (en) Reactive carboxylate compound, active energy ray-curable resin composition utilizing the same, and use of the same
JP5959125B2 (en) Reactive carboxylate compound, active energy ray-curable resin composition using the same, and use thereof
JP2016148874A (en) Reactive carboxylate compound, active energy ray-curable resin composition using the same, and application of the same
JP2013108093A (en) Reactive carboxylate compound, active energy ray-curable resin composition using the same, and application thereof
JP2018012802A (en) Epoxy carboxylate compound, polycarboxylic acid compound, energy ray curable resin composition containing the same and cured product thereof
JP6588346B2 (en) Epoxy resin, reactive carboxylate compound, curable resin composition using the same, and use thereof

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20130225

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20140304

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20140402

A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 20141104