JP7378550B2 - Reactive polycarboxylic acid compound, active energy ray-curable resin composition using the same, cured product thereof, and uses thereof - Google Patents

Reactive polycarboxylic acid compound, active energy ray-curable resin composition using the same, cured product thereof, and uses thereof Download PDF

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Description

本発明は、新規な反応性ポリカルボン酸化合物(A)、それを含有する活性エネルギー線硬化型樹脂組成物、その硬化物に関する。特に、カラーレジスト、カラーフィルタ用のレジスト材料、ブラックマトリックス材料としても適用可能なレジスト材料として好適な新規な反応性ポリカルボン酸化合物、それを含有する活性エネルギー線硬化型樹脂組成物、その硬化物に関する。 The present invention relates to a novel reactive polycarboxylic acid compound (A), an active energy ray-curable resin composition containing the same, and a cured product thereof. In particular, a novel reactive polycarboxylic acid compound suitable as a resist material that can also be used as a color resist, a resist material for color filters, and a black matrix material, an active energy ray-curable resin composition containing the same, and a cured product thereof Regarding.

プリント配線板は携帯機器の小型軽量化や通信速度の向上をめざし、高精度、高密度化が求められており、それに伴いその回路自体を被覆するソルダーレジストへの要求も増々高度となり、従来の要求よりも、さらに耐熱性、熱安定性を保ちながら基板密着性、高絶縁性、無電解金メッキ性に耐えうる性能が要求されており、より強靭な硬化物性を有する皮膜形成用材料が求められている。 Printed wiring boards are required to have higher precision and higher density in order to make mobile devices smaller and lighter and to improve communication speed.As a result, the requirements for the solder resist that covers the circuits themselves have become more and more sophisticated. There is a need for a film-forming material with even stronger hardening properties, as it is required to have performance that can withstand substrate adhesion, high insulation, and electroless gold plating while maintaining heat resistance and thermal stability. ing.

これら材料として、一般的なエポキシ樹脂に、カルボン酸と水酸基を有する化合物とアクリル酸を併せて反応せしめて得られるカルボキシレート化合物が、低酸価でありながら優れた現像性を有する材料として公知であり、さらにこの化合物がレジストインキ適性を有することは公知である(特許文献1)。 Among these materials, carboxylate compounds obtained by reacting general epoxy resin with acrylic acid and compounds having carboxylic acid and hydroxyl groups are known as materials that have excellent developability despite having a low acid value. Furthermore, it is known that this compound has resist ink suitability (Patent Document 1).

一方、フェノールアラルキル型エポキシ樹脂(例えば日本化薬製NC-3000など)を基本骨格とした酸変性エポキシアクリレートは、硬化後に高い強靭性を示す材料として一般に公知であり、またこれを用いたソルダーレジストとしての用途についても検討が行われている(特許文献2)。 On the other hand, acid-modified epoxy acrylate whose basic skeleton is a phenol aralkyl epoxy resin (for example, NC-3000 manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.) is generally known as a material that exhibits high toughness after curing. Studies are also being conducted on its use as a device (Patent Document 2).

この他、フェノールアラルキル型エポキシ樹脂を基本骨格とした酸変性エポキシアクリレートにカーボンブラック等を分散させ液晶表示パネル等に用いられるブラックマトリクスレジストに応用する試みも知られている(特許文献3)。さらに、その他フェノール-ジシクロペンタジエン骨格においてもブラックレジストに適用出来るように取り組みはなされており、良好な着色顔料との親和性を有していることを見出し、得られる組成物は高い顔料濃度でも良好な現像性を持つレジスト材料等となり得ることを見出している(特許文献4)。 In addition, an attempt has been made to disperse carbon black or the like in an acid-modified epoxy acrylate having a basic skeleton of a phenol aralkyl type epoxy resin and apply it to a black matrix resist used in liquid crystal display panels and the like (Patent Document 3). Furthermore, efforts have been made to apply other phenol-dicyclopentadiene skeletons to black resists, and it has been found that they have good affinity with color pigments, and the resulting compositions can be used even at high pigment concentrations. It has been found that this can be used as a resist material etc. with good developability (Patent Document 4).

特開平06-324490号公報Japanese Patent Application Publication No. 06-324490 特開平09-211860号公報Japanese Patent Application Publication No. 09-211860 特開2004-295094号公報Japanese Patent Application Publication No. 2004-295094 特開2009-102501号公報Japanese Patent Application Publication No. 2009-102501

しかしながら、フェノール-ジシクロペンタジエン骨格を有するエポキシ樹脂を基本骨格とした酸変性エポキシアクリレートはカーボンブラック等の着色顔料が良好に樹脂と親和し顔料が分散するものの、現像性が悪いため、より高顔料濃度での現像性を有する必要である。
そこで、本発明は、上記の従来技術の問題点を改善し、着色顔料等の分散性に優れ、かつ高い顔料濃度でも良好な現像特性を有する酸変性エポキシアクリレート化合物及び、それを含有する活性エネルギー線硬化型樹脂組成物を提供することを目的とする。
However, acid-modified epoxy acrylate whose basic skeleton is an epoxy resin having a phenol-dicyclopentadiene skeleton has a good affinity with the resin and disperses coloring pigments such as carbon black, but has poor developability and requires a high pigment content. It is necessary to have developability at a certain density.
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention aims to improve the problems of the prior art described above, and provides an acid-modified epoxy acrylate compound that has excellent dispersibility of color pigments and has good development characteristics even at high pigment concentrations, and an active energy containing the acid-modified epoxy acrylate compound. The purpose of the present invention is to provide a line-curable resin composition.

本発明者らは前記課題を解決するため、鋭意検討を行った結果、フェノール-ジシクロペンタジエン構造を有するエポキシ樹脂と不飽和基含有カルボン酸、必要に応じて一分子中に水酸基とカルボキシ基を併せ持つ化合物との反応物を、特定の多塩基酸無水物との反応物を用いた樹脂組成物が前記課題を解決することを見いだし、本発明に到達した。 In order to solve the above problem, the present inventors conducted intensive studies and found that an epoxy resin having a phenol-dicyclopentadiene structure and a carboxylic acid containing an unsaturated group, and a hydroxyl group and a carboxyl group in one molecule as necessary. The inventors have discovered that a resin composition using a reactant with a specific polybasic acid anhydride as a reactant with a compound can solve the above-mentioned problems, and have arrived at the present invention.

即ち、本発明は、
[1]下記式(1)で表されるエポキシ樹脂(a)に、一分子中に重合可能なエチレン性不飽和基とカルボキシ基を併せ持つカルボン酸化合物(b)、必要に応じて一分子中に水酸基とカルボキシ基を併せ持つ化合物(c)を反応させて得られる反応性エポキシカルボキシレート化合物(d)を、下記式(2)又は式(3)で表される多塩基酸無水物(e)と反応させた反応性ポリカルボン酸化合物(A)、
That is, the present invention
[1] Add a carboxylic acid compound (b) having both a polymerizable ethylenically unsaturated group and a carboxyl group in one molecule to the epoxy resin (a) represented by the following formula (1), if necessary, in one molecule. A reactive epoxy carboxylate compound (d) obtained by reacting a compound (c) having both a hydroxyl group and a carboxyl group with a polybasic acid anhydride (e) represented by the following formula (2) or formula (3) a reactive polycarboxylic acid compound (A) reacted with

Figure 0007378550000001
Figure 0007378550000001

(式中、Rは同一でも異なっていてもよく、水素原子、ハロゲン原子又は炭素数1~4の炭化水素基を示し、aはそれぞれ1~3を表す。nは平均値で1~20の整数を示す。) (In the formula, R may be the same or different and represent a hydrogen atom, a halogen atom, or a hydrocarbon group having 1 to 4 carbon atoms, and each a represents 1 to 3. n is an average value of 1 to 20. (Indicates an integer.)

Figure 0007378550000002
Figure 0007378550000002

(式(2)中Rは、各々独立して水素原子、炭素数1~10のアルキル基を表わす。mは1~3の整数を表わす。) (In formula (2), R 1 each independently represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms. m represents an integer of 1 to 3.)

[2]前項[1]に記載の反応性ポリカルボン酸化合物(A)を含む活性エネルギー線硬化型樹脂組成物、
[3]前記反応性ポリカルボン酸化合物(A)以外の反応性化合物(B)を含む前項[2]に記載の活性エネルギー線硬化型樹脂組成物、
[4]光重合開始剤を含む前項[2]又は[3]に記載の活性エネルギー線硬化型樹脂組成物、
[5]成形用材料である前項[2]~[4]のいずれか一項に記載の活性エネルギー線硬化型樹脂組成物、
[6]皮膜形成用材料である前項[2]~[4]のいずれか一項に記載の活性エネルギー線硬化型樹脂組成物、
[7]レジスト材料組成物である前項[2]~[4]のいずれか一項に記載の活性エネルギー線硬化型樹脂組成物、
[8]前項[2]~[7]のいずれか一項に記載の活性エネルギー線硬化型樹脂組成物の硬化物、
[9]前項[8]に記載の硬化物でオーバーコートされた物品、
に関する。
[2] An active energy ray-curable resin composition containing the reactive polycarboxylic acid compound (A) according to the preceding item [1],
[3] The active energy ray-curable resin composition according to the preceding clause [2], which contains a reactive compound (B) other than the reactive polycarboxylic acid compound (A),
[4] The active energy ray-curable resin composition according to the preceding item [2] or [3] containing a photopolymerization initiator,
[5] The active energy ray-curable resin composition according to any one of the preceding items [2] to [4], which is a molding material;
[6] The active energy ray-curable resin composition according to any one of the preceding items [2] to [4], which is a film-forming material;
[7] The active energy ray-curable resin composition according to any one of the preceding items [2] to [4], which is a resist material composition;
[8] A cured product of the active energy ray-curable resin composition according to any one of the preceding sections [2] to [7],
[9] An article overcoated with the cured product according to the preceding item [8],
Regarding.

本発明の反応性ポリカルボン酸化合物(A)を含む活性エネルギー線硬化型樹脂組成物は強靭な硬化物を得るだけではなく、溶剤を乾燥させただけの状態においても優れた樹脂物性を有している。又、本発明の活性エネルギー線硬化型樹脂組成物を紫外線等の活性エネルギー線等により硬化して得られる硬化物は、耐熱性に優れ、微細にアルカリ現像可能であることから成形用材料、皮膜形成用材料、レジスト材料に好適である。
また、着色顔料との高い親和性から、本発明の反応性ポリカルボン酸変性化合物及びそれを含む活性エネルギー線硬化型樹脂組成物は高い顔料濃度においても良好な現像性を発揮することから、カラーレジスト、カラーフィルタ用のレジスト材料、特にブラックマトリックス材料等に適している。
The active energy ray-curable resin composition containing the reactive polycarboxylic acid compound (A) of the present invention not only provides a tough cured product, but also has excellent resin physical properties even in a state where the solvent is simply dried. ing. In addition, the cured product obtained by curing the active energy ray-curable resin composition of the present invention with active energy rays such as ultraviolet rays has excellent heat resistance and can be finely developed with alkali, so it can be used as a molding material or a coating. Suitable for forming materials and resist materials.
In addition, due to its high affinity with color pigments, the reactive polycarboxylic acid-modified compound of the present invention and the active energy ray-curable resin composition containing the same exhibit good developability even at high pigment concentrations. Suitable for resists, resist materials for color filters, especially black matrix materials, etc.

さらに、本発明の反応性ポリカルボン酸化合物(A)を含む活性エネルギー線硬化型樹脂組成物は熱的及び機械的な強靭性、良好な保存安定性、更には高温高湿や冷熱衝撃に耐える高い信頼性を有することから、特に高い信頼性を求められるプリント配線板用ソルダーレジスト、多層プリント配線板用層間絶縁材料、フレキシブルプリント配線板用ソルダーレジスト、メッキレジスト、感光性光導波路等の用途にも用いられる。 Furthermore, the active energy ray-curable resin composition containing the reactive polycarboxylic acid compound (A) of the present invention has thermal and mechanical toughness, good storage stability, and is resistant to high temperature, high humidity, and cold shock. Due to its high reliability, it is suitable for applications that require particularly high reliability, such as solder resists for printed wiring boards, interlayer insulation materials for multilayer printed wiring boards, solder resists for flexible printed wiring boards, plating resists, and photosensitive optical waveguides. is also used.

以下、本発明について詳細に説明する。
本発明の反応性ポリカルボン酸化合物(A)は、下記式(1)で表される構造を有するエポキシ樹脂(a)と、一分子中に重合可能なエチレン性不飽和基とカルボキシ基を併せ持つカルボン酸化合物(b)、必要に応じて一分子中に水酸基とカルボキシ基を併せ持つ化合物(c)とを反応させ、反応性エポキシカルボキシレート化合物(d)を得る。次いで、下記式(2)又は式(3)で表される多塩基酸無水物(e)を反応させることによって得ることができる。
The present invention will be explained in detail below.
The reactive polycarboxylic acid compound (A) of the present invention has an epoxy resin (a) having a structure represented by the following formula (1), and a polymerizable ethylenically unsaturated group and a carboxyl group in one molecule. A reactive epoxy carboxylate compound (d) is obtained by reacting the carboxylic acid compound (b) with a compound (c) having both a hydroxyl group and a carboxyl group in one molecule, if necessary. Then, it can be obtained by reacting a polybasic acid anhydride (e) represented by the following formula (2) or formula (3).

Figure 0007378550000003
Figure 0007378550000003

(式中、Rは同一でも異なっていてもよく、水素原子、ハロゲン原子又は炭素数1~4の炭化水素基を示し、aはそれぞれ1~3を表す。nは平均値で1~20の整数を示す。) (In the formula, R may be the same or different and represent a hydrogen atom, a halogen atom, or a hydrocarbon group having 1 to 4 carbon atoms, and each a represents 1 to 3. n is an average value of 1 to 20. (Indicates an integer.)

Figure 0007378550000004
Figure 0007378550000004

(式(2)中Rは、各々独立して水素原子、炭素数1~10のアルキル基を表わす。mは1~3の整数を表わす。)
前記式(1)中の炭素数1~4の炭化水素基とは、メチル基、エチル基、エチレン基、プロピル基、プロピレン基、ブチル基、ブチレン基等の飽和及び不飽和炭化水素基を示す。
(In formula (2), R 1 each independently represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms. m represents an integer of 1 to 3.)
The hydrocarbon group having 1 to 4 carbon atoms in the formula (1) refers to saturated and unsaturated hydrocarbon groups such as methyl group, ethyl group, ethylene group, propyl group, propylene group, butyl group, and butylene group. .

まず、カルボキシレート化合物に反応性を付与させ、反応性エポキシカルボキシレート化合物(d)を得るための、カルボキシレート化工程について説明する。 First, a carboxylation step for imparting reactivity to a carboxylate compound to obtain a reactive epoxycarboxylate compound (d) will be described.

本発明において用いる前記式(1)で表されるエポキシ樹脂(a)(以下、単に「エポキシ樹脂(a)」とも表す。)は、種々の商品名で、たとえば、XD-1000(日本化薬(株)製)等として、一般に入手可能である。 The epoxy resin (a) represented by the formula (1) used in the present invention (hereinafter also simply referred to as "epoxy resin (a)") has various trade names, such as XD-1000 (Nippon Kayaku Co., Ltd.), etc., and are generally available.

本発明において、一分子中に重合可能なエチレン性不飽和基とカルボキシ基を併せ持つカルボン酸化合物(b)(以下、単に「カルボン酸化合物(b)」とも表す。)は、活性エネルギー線への反応性を付与させるために反応せしめるものである。エチレン性不飽和基とカルボキシ基はそれぞれ分子内に一個以上あるものであれば制限はない。 In the present invention, a carboxylic acid compound (b) having both a polymerizable ethylenically unsaturated group and a carboxy group in one molecule (hereinafter also simply referred to as "carboxylic acid compound (b)") is sensitive to active energy rays. It is caused to react in order to impart reactivity. There are no restrictions on the ethylenically unsaturated group and the carboxy group as long as there is one or more each in the molecule.

一分子中に重合可能なエチレン性不飽和基とカルボキシ基を併せ持つカルボン酸化合物(b)としては、例えば、(メタ)アクリル酸類やクロトン酸、α-シアノ桂皮酸、桂皮酸、或いは飽和または不飽和二塩基酸と不飽和基含有モノグリシジル化合物との反応物等が挙げられる。上記において(メタ)アクリル酸類としては、例えば(メタ)アクリル酸、β-スチリルアクリル酸、β-フルフリルアクリル酸、(メタ)アクリル酸二量体、飽和または不飽和二塩基酸無水物と1分子中に1個の水酸基を有する(メタ)アクリレート誘導体との等モル反応物である半エステル類、飽和または不飽和二塩基酸とモノグリシジル(メタ)アクリレート誘導体類との等モル反応物である半エステル類等の一分子中にカルボキシ基を一個含むモノカルボン酸化合物、さらに一分子中に複数の水酸基を有する(メタ)アクリレート誘導体との等モル反応物である半エステル類、飽和または不飽和二塩基酸と複数のエポキシ基を有するグリシジル(メタ)アクリレート誘導体類との等モル反応物である半エステル類等の一分子中にカルボキシ基を複数有するポリカルボン酸化合物等が挙げられる。 Examples of the carboxylic acid compound (b) having both a polymerizable ethylenically unsaturated group and a carboxy group in one molecule include (meth)acrylic acids, crotonic acid, α-cyanocinnamic acid, cinnamic acid, or saturated or unsaturated Examples include a reaction product of a saturated dibasic acid and an unsaturated group-containing monoglycidyl compound. In the above, (meth)acrylic acids include (meth)acrylic acid, β-styrylacrylic acid, β-furfurylacrylic acid, (meth)acrylic acid dimer, saturated or unsaturated dibasic acid anhydride, and Half esters are equimolar reaction products with (meth)acrylate derivatives having one hydroxyl group in the molecule, and equimolar reaction products of saturated or unsaturated dibasic acids and monoglycidyl (meth)acrylate derivatives. Monocarboxylic acid compounds containing one carboxy group in one molecule such as half esters, and half esters which are equimolar reaction products with (meth)acrylate derivatives having multiple hydroxyl groups in one molecule, saturated or unsaturated. Examples include polycarboxylic acid compounds having a plurality of carboxyl groups in one molecule, such as half esters which are equimolar reaction products of a dibasic acid and a glycidyl (meth)acrylate derivative having a plurality of epoxy groups.

これらのうち、エポキシ樹脂(a)とカルボン酸化合物(b)、の反応の安定性を考慮すると、カルボン酸化合物(b)としてはモノカルボン酸であることが好ましく、モノカルボン酸とポリカルボン酸を併用する場合でも、モノカルボン酸のモル量/ポリカルボン酸のモル量で表される値が15以上であることが好ましい。
最も好ましくは、活性エネルギー線硬化型樹脂組成物としたときの感度の点で(メタ)アクリル酸、(メタ)アクリル酸とε-カプロラクトンとの反応生成物または桂皮酸が挙げられる。
一分子中に一個以上の重合可能なエチレン性不飽和基と一個以上のカルボキシ基を併せ持つ化合物としては、化合物中に水酸基を有さないものが好ましい。
Among these, in consideration of the stability of the reaction between the epoxy resin (a) and the carboxylic acid compound (b), the carboxylic acid compound (b) is preferably a monocarboxylic acid; Even when used in combination, it is preferable that the value expressed by the molar amount of monocarboxylic acid/molar amount of polycarboxylic acid is 15 or more.
Most preferred are (meth)acrylic acid, a reaction product of (meth)acrylic acid and ε-caprolactone, or cinnamic acid in terms of sensitivity when used as an active energy ray-curable resin composition.
As a compound having both one or more polymerizable ethylenically unsaturated groups and one or more carboxyl groups in one molecule, it is preferable that the compound does not have a hydroxyl group.

本発明において用いられる一分子中に水酸基とカルボキシ基を併せ持つ化合物(c)(以下、単に「化合物(c)」とも表す。)は、カルボキシレート化合物中に水酸基を導入することを目的として反応せしめるものである。これらには、一分子中に一個の水酸基と一個のカルボキシ基を併せ持つ化合物、一分子中に二個以上の水酸基と一個のカルボキシ基を合わせもつ化合物、一分子中に一個以上の水酸基と二個以上のカルボキシ基を併せ持つ化合物がある。 The compound (c) having both a hydroxyl group and a carboxy group in one molecule (hereinafter also simply referred to as "compound (c)") used in the present invention is reacted with the purpose of introducing a hydroxyl group into a carboxylate compound. It is something. These include compounds that have both one hydroxyl group and one carboxyl group in one molecule, compounds that have two or more hydroxyl groups and one carboxyl group in one molecule, and compounds that have one or more hydroxyl groups and two carboxy groups in one molecule. There are compounds that have both of the above carboxy groups.

一分子中に一個の水酸基と一個のカルボキシ基を併せ持つ化合物としては、例えばヒドロキシプロピオン酸、ヒドロキシブタン酸、ヒドロキシステアリン酸等が挙げられる。また一分子中に二個以上の水酸基と一個のカルボキシ基を合わせもつ化合物としては、ジメチロール酢酸、ジメチロールプロピオン酸、ジメチロールブタン酸等が挙げられる。一分子中に一個以上の水酸基と二個以上のカルボキシ基を併せ持つ化合物としてはヒドロキシフタル酸等が挙げられる。
これらのうち、水酸基は一分子中に二個以上含まれるものが、本発明の効果を考慮すると好ましい。さらに、カルボキシ基は一分子中一個であるものがカルボキシレート化反応の安定性を考慮すると好ましい。最も好ましくは、一分子中に二個の水酸基と一個のカルボキシル基を有するものが好ましい。原材料の入手を考慮すれば、ジメチロールプロピオン酸とジメチロールブタン酸が特に好適である。
一分子中に一個以上の水酸基と一個以上のカルボキシ基を併せ持つ化合物としては、化合物中に重合可能なエチレン性不飽和基を有さないものが好ましい。
Examples of compounds having one hydroxyl group and one carboxyl group in one molecule include hydroxypropionic acid, hydroxybutanoic acid, and hydroxystearic acid. Compounds having two or more hydroxyl groups and one carboxyl group in one molecule include dimethylol acetic acid, dimethylol propionic acid, dimethylol butanoic acid, and the like. Examples of compounds having one or more hydroxyl groups and two or more carboxyl groups in one molecule include hydroxyphthalic acid.
Among these, those containing two or more hydroxyl groups in one molecule are preferred in view of the effects of the present invention. Furthermore, in consideration of the stability of the carboxylation reaction, it is preferable that one carboxy group is present in each molecule. Most preferably, one having two hydroxyl groups and one carboxyl group in one molecule is preferable. Considering the availability of raw materials, dimethylolpropionic acid and dimethylolbutanoic acid are particularly suitable.
As a compound having both one or more hydroxyl group and one or more carboxyl group in one molecule, it is preferable that the compound does not have a polymerizable ethylenically unsaturated group.

このカルボキシレート化反応におけるエポキシ樹脂(a)とカルボン酸化合物(b)および化合物(c)の仕込み割合としては、用途に応じて適宜変更されるべきものである。即ち、全てのエポキシ基をカルボキシレート化した場合は、未反応のエポキシ基が残存しないために、反応性エポキシカルボキシレート化合物(d)としての保存安定性は高い。この場合は、導入した二重結合による反応性のみを利用することになる。 The ratio of the epoxy resin (a), the carboxylic acid compound (b), and the compound (c) in this carboxylation reaction should be changed as appropriate depending on the application. That is, when all the epoxy groups are carboxylated, no unreacted epoxy groups remain, so the storage stability of the reactive epoxy carboxylate compound (d) is high. In this case, only the reactivity due to the introduced double bond is utilized.

一方、カルボン酸化合物(b)および化合物(c)の仕込み量を減量し未反応の残存エポキシ基を残すことで、導入した不飽和結合による反応性と、残存するエポキシ基による反応、例えば光カチオン触媒による重合反応や熱重合反応を複合的に利用することも可能である。しかし、この場合は反応性エポキシカルボキシレート化合物(d)の保存、及び製造条件の検討には注意を払うべきである。 On the other hand, by reducing the amounts of carboxylic acid compound (b) and compound (c) and leaving unreacted residual epoxy groups, the reactivity due to the introduced unsaturated bonds and the reaction due to the remaining epoxy groups, such as photocations, can be reduced. It is also possible to use a combination of catalytic polymerization reactions and thermal polymerization reactions. However, in this case, care should be taken in the storage of the reactive epoxycarboxylate compound (d) and in considering the manufacturing conditions.

エポキシ基を残存させない反応性エポキシカルボキシレート化合物(d)を製造する場合、カルボン酸化合物(b)および化合物(c)の総計が、エポキシ樹脂(a)1当量に対し90~120当量%であることが好ましい。この範囲であれば比較的安定な条件での製造が可能である。これよりもカルボン酸化合物の仕込み量が多い場合には、過剰のカルボン酸化合物(b)および化合物(c)が残存してしまうために好ましくない。 When producing a reactive epoxy carboxylate compound (d) in which no epoxy group remains, the total amount of the carboxylic acid compound (b) and compound (c) is 90 to 120 equivalent % based on 1 equivalent of the epoxy resin (a). It is preferable. Within this range, production can be performed under relatively stable conditions. If the amount of carboxylic acid compound charged is larger than this, it is not preferable because excess carboxylic acid compound (b) and compound (c) will remain.

また、エポキシ基を残留させる場合には、カルボン酸化合物(b)および化合物(c)の総計が、エポキシ樹脂(a)1当量に対し20~90当量%であることが好ましい。これの範囲を逸脱する場合には、複合硬化の効果が薄くなる。もちろんこの場合は、反応中のゲル化や、反応性エポキシカルボキシレート化合物(d)の経時安定性に対して十分な注意が必要である。 In addition, when the epoxy group is left to remain, it is preferable that the total amount of the carboxylic acid compound (b) and the compound (c) is 20 to 90 equivalent % based on 1 equivalent of the epoxy resin (a). If it deviates from this range, the effect of composite curing will be diminished. Of course, in this case, sufficient attention must be paid to gelation during the reaction and stability over time of the reactive epoxycarboxylate compound (d).

カルボキシレート化反応は、無溶剤で反応させる、若しくは溶剤で希釈して反応させることも出来る。ここで用いることが出来る溶剤としては、カルボキシレート化反応に対してイナート溶剤であれば特に限定はない。 The carboxylation reaction can be carried out without a solvent or after diluting with a solvent. The solvent that can be used here is not particularly limited as long as it is an inert solvent for the carboxylation reaction.

好ましい溶剤の使用量は、得られる樹脂の粘度や使途により適宜調整されるべきものであるが、好ましくは固形分含有率90~30質量%、より好ましくは80~50質量%になるように使用される。 The preferred amount of the solvent to be used should be adjusted appropriately depending on the viscosity of the resulting resin and the intended use, but it is preferably used so that the solid content is 90 to 30% by mass, more preferably 80 to 50% by mass. be done.

具体的に例示すれば、例えばトルエン、キシレン、エチルベンゼン、テトラメチルベンゼン等の芳香族系炭化水素溶剤、ヘキサン、オクタン、デカン等の脂肪族系炭化水素溶剤、及びそれらの混合物である石油エーテル、ホワイトガソリン、ソルベントナフサ等、エステル系溶剤、エーテル系溶剤、ケトン系溶剤等が挙げられる。 Specific examples include aromatic hydrocarbon solvents such as toluene, xylene, ethylbenzene, and tetramethylbenzene, aliphatic hydrocarbon solvents such as hexane, octane, and decane, and petroleum ether and white mixtures thereof. Examples include gasoline, solvent naphtha, ester solvents, ether solvents, ketone solvents, and the like.

エステル系溶剤としては、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル等のアルキルアセテート類、γ-ブチロラクトン等の環状エステル類、エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノメチルエーテルモノアセテート、ジエチレングリコールモノエチルエーテルモノアセテート、トリエチレングリコールモノエチルエーテルモノアセテート、ジエチレングリコールモノブチルエーテルモノアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルモノアセテート、ブチレングリコールモノメチルエーテルアセテート等のモノ、若しくはポリアルキレングリコールモノアルキルエーテルモノアセテート類、グルタル酸ジアルキル、コハク酸ジアルキル、アジピン酸ジアルキル等のポリカルボン酸アルキルエステル類等が挙げられる。 Examples of ester solvents include alkyl acetates such as ethyl acetate, propyl acetate, and butyl acetate, cyclic esters such as γ-butyrolactone, ethylene glycol monomethyl ether acetate, diethylene glycol monomethyl ether monoacetate, diethylene glycol monoethyl ether monoacetate, and triethylene. Mono- or polyalkylene glycol monoalkyl ether monoacetates such as glycol monoethyl ether monoacetate, diethylene glycol monobutyl ether monoacetate, propylene glycol monomethyl ether monoacetate, butylene glycol monomethyl ether acetate, dialkyl glutarate, dialkyl succinate, adipic acid Examples include polycarboxylic acid alkyl esters such as dialkyl.

エーテル系溶剤としては、ジエチルエーテル、エチルブチルエーテル等のアルキルエーテル類、エチレングリコールジメチルエーテル、エチレングリコールジエチルエーテル、ジプロピレングリコールジメチルエーテル、ジプロピレングリコールジエチルエーテル、トリエチレングリコールジメチルエーテル、トリエチレングリコールジエチルエーテル等のグリコールエーテル類、テトラヒドロフラン等の環状エーテル類等が挙げられる。 Ether solvents include alkyl ethers such as diethyl ether and ethyl butyl ether, glycols such as ethylene glycol dimethyl ether, ethylene glycol diethyl ether, dipropylene glycol dimethyl ether, dipropylene glycol diethyl ether, triethylene glycol dimethyl ether, and triethylene glycol diethyl ether. Examples include ethers and cyclic ethers such as tetrahydrofuran.

ケトン系溶剤としては、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、イソホロン等が挙げられる。 Examples of the ketone solvent include acetone, methyl ethyl ketone, cyclohexanone, isophorone, and the like.

このほかにも、後述する反応性ポリカルボン酸化合物(A)以外の反応性化合物(B)(以下、単に「反応性化合物(B)」とも表す。)等の単独または混合有機溶剤中で行うことができる。この場合、硬化型樹脂組成物として使用した場合には、直接に組成物として利用することが出来るので好ましい。 In addition, reactive compounds (B) other than the reactive polycarboxylic acid compound (A) (hereinafter also simply referred to as "reactive compound (B)"), which will be described later, may be used alone or in a mixed organic solvent. be able to. In this case, when used as a curable resin composition, it is preferable because it can be used directly as a composition.

反応時には、反応を促進させるために触媒を使用することが好ましく、該触媒の使用量は、反応物、即ちエポキシ樹脂(a)、カルボン酸化合物(b)および化合物(c)、及び場合により溶剤その他を加えた反応物の総量100質量部に対して0.1~10質量部である。その際の反応温度は60~150℃であり、また反応時間は、好ましくは5~60時間である。使用しうる触媒の具体例としては、例えばトリエチルアミン、ベンジルジメチルアミン、トリエチルアンモニウムクロライド、ベンジルトリメチルアンモニウムブロマイド、ベンジルトリメチルアンモニウムアイオダイド、トリフェニルホスフィン、トリフェニルスチビン、メチルトリフェニルスチビン、オクタン酸クロム、オクタン酸ジルコニウム等既知一般の塩基性触媒等が挙げられる。 During the reaction, it is preferable to use a catalyst to promote the reaction, and the amount of the catalyst used is determined by the amount of the catalyst used, that is, the epoxy resin (a), the carboxylic acid compound (b), the compound (c), and optionally the solvent. The amount is 0.1 to 10 parts by weight based on 100 parts by weight of the total amount of reactants including other substances. The reaction temperature at that time is 60 to 150°C, and the reaction time is preferably 5 to 60 hours. Specific examples of catalysts that can be used include triethylamine, benzyldimethylamine, triethylammonium chloride, benzyltrimethylammonium bromide, benzyltrimethylammonium iodide, triphenylphosphine, triphenylstibine, methyltriphenylstibine, chromium octoate, and octane. Examples include commonly known basic catalysts such as acid zirconium.

また、熱重合禁止剤を用いることもできる。熱重合禁止剤として、ハイドロキノンモノメチルエーテル、2-メチルハイドロキノン、ハイドロキノン、ジフェニルピクリルヒドラジン、ジフェニルアミン、3,5-ジ-tert-ブチル-4ヒドロキシトルエン等を使用するのが好ましい。 Moreover, a thermal polymerization inhibitor can also be used. As the thermal polymerization inhibitor, hydroquinone monomethyl ether, 2-methylhydroquinone, hydroquinone, diphenylpicrylhydrazine, diphenylamine, 3,5-di-tert-butyl-4-hydroxytoluene, etc. are preferably used.

カルボキシレート化反応は、適宜サンプリングしながら、サンプルの酸価が5mgKOH/g以下、好ましくは3mgKOH/g以下となった時点を終点とする。 The carboxylation reaction is carried out with appropriate sampling, and the end point is when the acid value of the sample becomes 5 mgKOH/g or less, preferably 3 mgKOH/g or less.

こうして得られた反応性エポキシカルボキシレート化合物(d)の好ましい分子量範囲としては、GPCにおけるポリスチレン換算重量平均分子量が1,000から50,000の範囲であり、より好ましくは2,000から30,000である。 The preferable molecular weight range of the reactive epoxy carboxylate compound (d) obtained in this way is that the weight average molecular weight in terms of polystyrene in GPC is in the range of 1,000 to 50,000, more preferably 2,000 to 30,000. It is.

上記分子量よりも小さい場合には硬化物の強靭性が充分に発揮されず、また上記分子量よりも大きすぎる場合には、粘度が高くなり塗工等が困難となる。 If the molecular weight is smaller than the above, the cured product will not exhibit sufficient toughness, and if the molecular weight is too large, the viscosity will become high, making coating difficult.

次に、酸付加工程(以下、単に「本酸付加反応」ともいう)について詳述する。酸付加工程は、前工程において得られた反応性エポキシカルボキシレート化合物(d)に必要に応じてカルボキシ基を導入し、反応性ポリカルボン酸化合物(A)を得ることを目的として行われる。即ち、カルボキシレート化反応により生じた水酸基に、前記式(2)又は式(3)で表される多塩基酸無水物(e)(以下、単に「多塩基酸無水物(e)」とも表す。)を付加反応させることで、エステル結合を介してカルボキシ基を導入する。 Next, the acid addition step (hereinafter also simply referred to as "acid addition reaction") will be described in detail. The acid addition step is carried out for the purpose of obtaining a reactive polycarboxylic acid compound (A) by introducing a carboxyl group into the reactive epoxycarboxylate compound (d) obtained in the previous step, if necessary. That is, the polybasic acid anhydride (e) represented by the above formula (2) or formula (3) (hereinafter also simply referred to as "polybasic acid anhydride (e)") is added to the hydroxyl group generated by the carboxylation reaction. ) to introduce a carboxy group via an ester bond.

前記式(2)中の炭素数1~10のアルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル、デシル基が挙げられる。前記式(2)中Rは水素原子、メチル基が好ましい。 Examples of the alkyl group having 1 to 10 carbon atoms in formula (2) include methyl group, ethyl group, propyl group, butyl group, pentyl group, hexyl group, heptyl group, octyl group, nonyl, and decyl group. In the formula (2), R 1 is preferably a hydrogen atom or a methyl group.

前記多塩基酸無水物(e)として、下記式(4)で表される化合物が好ましい。

Figure 0007378550000005
As the polybasic acid anhydride (e), a compound represented by the following formula (4) is preferable.
Figure 0007378550000005

前記多塩基酸無水物(e)を付加させる反応は、前記カルボキシレート化反応液に多塩基酸無水物(e)を加えることにより行うことができる。添加量は用途に応じて適宜変更されるべきものである。 The reaction of adding the polybasic acid anhydride (e) can be carried out by adding the polybasic acid anhydride (e) to the carboxylation reaction solution. The amount added should be changed as appropriate depending on the application.

前記多塩基酸無水物(e)の添加量は例えば、本発明の反応性ポリカルボン酸化合物(A)をアルカリ水溶液現像型のレジスト材料として用いようとする場合は、多塩基酸無水物(e)を最終的に得られる反応性ポリカルボン酸化合物(A)の固形分酸価(JISK5601-2-1:1999に準拠)が好ましくは20~120mg・KOH/gであり、より好ましくは30~110mg・KOH/g、となる計算値を仕込むことが好ましい。このときの固形分酸価がこの範囲である場合、本発明の活性エネルギー線硬化型樹脂組成物のアルカリ水溶液現像性が良好な現像性を示す。即ち、良好なパターニング性と過現像に対する管理幅も広く、また過剰の酸無水物が残留することもない。 For example, when the reactive polycarboxylic acid compound (A) of the present invention is to be used as an alkaline aqueous solution developable resist material, the amount of the polybasic acid anhydride (e) to be added is, for example, ) The solid content acid value (according to JIS K5601-2-1:1999) of the reactive polycarboxylic acid compound (A) finally obtained is preferably 20 to 120 mg·KOH/g, more preferably 30 to It is preferable to prepare a calculated value of 110 mg·KOH/g. When the solid content acid value at this time is within this range, the active energy ray-curable resin composition of the present invention exhibits good developability in aqueous alkali solution. That is, it has good patterning properties and a wide range of control over overdevelopment, and no excess acid anhydride remains.

反応時には、反応を促進させるために触媒を使用することが好ましく、該触媒の使用量は、反応物、即ちエポキシ化合物(a)、カルボン酸化合物(b)および化合物(c)から得られた反応性エポキシカルボキシレート化合物(d)、及び多塩基酸無水物(e)、場合により溶剤その他を加えた反応物の総量に対して0.1~10質量部である。その際の反応温度は60~150℃であり、また反応時間は、好ましくは5~60時間である。使用しうる触媒の具体例としては、例えばトリエチルアミン、ベンジルジメチルアミン、トリエチルアンモニウムクロライド、ベンジルトリメチルアンモニウムブロマイド、ベンジルトリメチルアンモニウムアイオダイド、トリフェニルホスフィン、トリフェニルスチビン、メチルトリフェニルスチビン、オクタン酸クロム、オクタン酸ジルコニウム等が挙げられる。 During the reaction, it is preferable to use a catalyst to promote the reaction, and the amount of the catalyst used is determined based on the amount of reaction obtained from the reactants, that is, the epoxy compound (a), the carboxylic acid compound (b), and the compound (c). The amount is 0.1 to 10 parts by mass based on the total amount of the reactants including the polybasic epoxy carboxylate compound (d), the polybasic acid anhydride (e), and optionally a solvent and the like. The reaction temperature at that time is 60 to 150°C, and the reaction time is preferably 5 to 60 hours. Specific examples of catalysts that can be used include triethylamine, benzyldimethylamine, triethylammonium chloride, benzyltrimethylammonium bromide, benzyltrimethylammonium iodide, triphenylphosphine, triphenylstibine, methyltriphenylstibine, chromium octoate, and octane. Examples include acid zirconium.

本酸付加反応は、無溶剤で反応するか、若しくは溶剤で希釈して反応させることも出来る。ここで用いることが出来る溶剤としては、酸付加反応に対してイナート溶剤であれば特に限定はない。また、前工程であるカルボキシレート化反応で溶剤を用いて製造した場合には、その両反応にイナートであることを条件に、溶剤を除くことなく直接次工程である酸付加反応に供することもできる。用い得る溶剤はカルボキシレート化反応で用い得るものと同一のものでよい。 This acid addition reaction can be carried out without a solvent or after being diluted with a solvent. The solvent that can be used here is not particularly limited as long as it is an inert solvent for the acid addition reaction. In addition, if the product is produced using a solvent in the carboxylation reaction, which is the previous step, it may be directly subjected to the acid addition reaction, which is the next step, without removing the solvent, provided that it is inert in both reactions. can. The solvents that can be used may be the same as those that can be used in the carboxylation reaction.

好ましい溶剤の使用量は、得られる樹脂の粘度や使途により適宜調整されるべきものであるが、好ましくは固形分含有率90~30質量%、より好ましくは80~50質量%になるように用いられる。 The preferred amount of the solvent to be used should be adjusted appropriately depending on the viscosity of the resulting resin and the intended use, but it is preferably used so that the solid content is 90 to 30% by mass, more preferably 80 to 50% by mass. It will be done.

このほかにも、前記反応性化合物(B)等の単独または混合有機溶剤中で行うことができる。この場合、硬化型樹脂組成物として使用した場合には、直接に組成物として利用することが出来るので好ましい。 In addition, the reaction can be carried out using the reactive compound (B) or the like alone or in a mixed organic solvent. In this case, when used as a curable resin composition, it is preferable because it can be used directly as a composition.

また、熱重合禁止剤等は、前記カルボキシレート化反応における例示と同様のものを使用することが好ましい。 Moreover, it is preferable to use the same thermal polymerization inhibitor as exemplified in the carboxylation reaction.

本酸付加反応は、適宜サンプリングしながら、反応物の酸価が、設定した酸価のプラスマイナス10%の範囲になった点をもって終点とする。 This acid addition reaction is terminated when the acid value of the reactant reaches a range of plus or minus 10% of the set acid value, with appropriate sampling.

こうして得られた反応性ポリカルボン酸化合物(A)の好ましい分子量範囲としては、GPCにおけるポリスチレン換算重量平均分子量が500から50,000の範囲であり、より好ましくは1,000から30,000であり、特に好ましくは1000~10000である。 The preferable molecular weight range of the reactive polycarboxylic acid compound (A) obtained in this way is that the weight average molecular weight in terms of polystyrene measured by GPC is in the range of 500 to 50,000, more preferably 1,000 to 30,000. , particularly preferably from 1,000 to 10,000.

上記分子量よりも小さい場合には硬化物の強靭性が充分に発揮されず、また上記分子量よりも大きすぎる場合には、粘度が高くなり塗工等が困難となる。 If the molecular weight is smaller than the above, the cured product will not exhibit sufficient toughness, and if the molecular weight is too large, the viscosity will become high, making coating difficult.

本発明において使用しうる反応性化合物(B)の具体例としては、ラジカル反応型のアクリレート類、カチオン反応型のその他エポキシ化合物類、その双方に感応するビニル化合物類等のいわゆる反応性オリゴマー類が挙げられる。 Specific examples of the reactive compound (B) that can be used in the present invention include so-called reactive oligomers such as radical-reactive acrylates, cation-reactive epoxy compounds, and vinyl compounds that are sensitive to both. Can be mentioned.

使用しうるアクリレート類としては、単官能(メタ)アクリレート類、多官能(メタ)アクリレート類、その他エポキシアクリレート、ポリエステルアクリレート、ウレタンアクリレート等が挙げられる。 Examples of acrylates that can be used include monofunctional (meth)acrylates, polyfunctional (meth)acrylates, epoxy acrylates, polyester acrylates, urethane acrylates, and the like.

単官能(メタ)アクリレート類としては、メチル(メタ)アクリレート、エチル(メタ)アクリレート、ブチル(メタ)アクリレート、ラウリル(メタ)アクリレート、ポリエチレングリコール(メタ)アクリレート、ポリエチレングリコール(メタ)アクリレートモノメチルエーテル、フェニルエチル(メタ)アクリレート、イソボルニル(メタ)アクリレート、シクロヘキシル(メタ)アクリレート、ベンジル(メタ)アクリレート、テトラヒドロフルフリル(メタ)アクリレート等が挙げられる。 Monofunctional (meth)acrylates include methyl (meth)acrylate, ethyl (meth)acrylate, butyl (meth)acrylate, lauryl (meth)acrylate, polyethylene glycol (meth)acrylate, polyethylene glycol (meth)acrylate monomethyl ether, Examples include phenylethyl (meth)acrylate, isobornyl (meth)acrylate, cyclohexyl (meth)acrylate, benzyl (meth)acrylate, and tetrahydrofurfuryl (meth)acrylate.

多官能(メタ)アクリレート類としては、ブタンジオールジ(メタ)アクリレート、ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート、ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート、ノナンジオールジ(メタ)アクリレート、エチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ジエチレンジ(メタ)アクリレート、ポリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、トリス(メタ)アクリロイルオキシエチルイソシアヌレート、ポリプロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、アジピン酸エポキシジ(メタ)アクリレート、ビスフェノールエチレンオキサイドジ(メタ)アクリレート、水素化ビスフェノールエチレンオキサイドジ(メタ)アクリレート、ビスフェノールジ(メタ)アクリレート、ヒドロキシビバリン酸ネオペングリコールのε-カプロラクトン付加物のジ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールとε-カプロラクトンの反応物のポリ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールポリ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、トリエチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、及びそのエチレンオキサイド付加物、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、及びそのエチレンオキサイド付加物、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、及びそのエチレンオキサイド付加物、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、及びそのエチレンオキサイド付加物等が挙げられる。 Polyfunctional (meth)acrylates include butanediol di(meth)acrylate, hexanediol di(meth)acrylate, neopentyl glycol di(meth)acrylate, nonanediol di(meth)acrylate, and ethylene glycol di(meth)acrylate. , diethylene di(meth)acrylate, polyethylene glycol di(meth)acrylate, tris(meth)acryloyloxyethyl isocyanurate, polypropylene glycol di(meth)acrylate, adipic acid epoxy di(meth)acrylate, bisphenol ethylene oxide di(meth)acrylate, Hydrogenated bisphenol ethylene oxide di(meth)acrylate, bisphenol di(meth)acrylate, di(meth)acrylate of ε-caprolactone adduct of hydroxybivalic acid neopene glycol, poly of the reaction product of dipentaerythritol and ε-caprolactone (meth)acrylate, dipentaerythritol poly(meth)acrylate, trimethylolpropane tri(meth)acrylate, triethylolpropane tri(meth)acrylate, and its ethylene oxide adduct, pentaerythritol tri(meth)acrylate, and its ethylene Examples include oxide adducts, pentaerythritol tetra(meth)acrylate, and its ethylene oxide adducts, dipentaerythritol hexa(meth)acrylate, and its ethylene oxide adducts.

使用できるビニル化合物類としてはビニルエーテル類、スチレン類、その他ビニル化合物が挙げられる。ビニルエーテル類としては、エチルビニルエーテル、プロピルビニルエーテル、ヒドロキシエチルビニルエーテル、エチレングリコールジビニルエーテル等が挙げられる。スチレン類としては、スチレン、メチルスチレン、エチルスチレン等が挙げられる。その他ビニル化合物としてはトリアリルイソシアヌレート、トリメタアリルイソシアヌレート等が挙げられる。 Vinyl compounds that can be used include vinyl ethers, styrenes, and other vinyl compounds. Examples of vinyl ethers include ethyl vinyl ether, propyl vinyl ether, hydroxyethyl vinyl ether, ethylene glycol divinyl ether, and the like. Styrenes include styrene, methylstyrene, ethylstyrene, and the like. Other vinyl compounds include triallylisocyanurate, trimetaallylisocyanurate, and the like.

さらに、いわゆる反応性オリゴマー類としては、活性エネルギー線に感応可能な官能基とウレタン結合を同一分子内に併せ持つウレタンアクリレート、同様に活性エネルギー線に感応可能な官能基とエステル結合を同一分子内に併せ持つポリエステルアクリレート、その他エポキシ樹脂から誘導され、活性エネルギー線に感応可能な官能基を同一分子内に併せ持つエポキシアクリレート、これらの結合が複合的に用いられている反応性オリゴマー等が挙げられる。 Furthermore, so-called reactive oligomers include urethane acrylate, which has a functional group sensitive to active energy rays and a urethane bond in the same molecule; Examples include polyester acrylate, which is derived from other epoxy resins and has functional groups sensitive to active energy rays in the same molecule, and reactive oligomers in which these bonds are used in combination.

また、カチオン反応型単量体としては、一般的にエポキシ基を有する化合物であれば特に限定はない。例えば、グリシジル(メタ)アクリレート、メチルグリシジルエーテル、エチルグリシジルエーテル、ブチルグリシジルエーテル、ビスフェノールAジグリシジルエーテル、3,4-エポキシシクロヘキシルメチル-3,4-エポキシシクロヘキサンカルボキシレート(ユニオン・カーバイド社製「サイラキュアUVR-6110」等)、3,4-エポキシシクロヘキシルエチル-3,4-エポキシシクロヘキサンカルボキシレート、ビニルシクロヘキセンジオキシド(ユニオン・カーバイド社製「ELR-4206」等)、リモネンジオキシド(ダイセル化学工業社製「セロキサイド3000」等)、アリルシクロヘキセンジオキシド、3,4-エポキシ-4-メチルシクロヘキシル-2-プロピレンオキシド、2-(3,4-エポキシシクロヘキシル-5,5-スピロ-3,4-エポキシ)シクロヘキサン-m-ジオキサン、ビス(3,4-エポキシシクロヘキシル)アジペート(ユニオン・カーバイド社製「サイラキュアUVR-6128」等)、ビス(3,4-エポキシシクロヘキシルメチル)アジペート、ビス(3,4-エポキシシクロヘキシル)エーテル、ビス(3,4-エポキシシクロヘキシルメチル)エーテル、ビス(3,4-エポキシシクロヘキシル)ジエチルシロキサン等が挙げられる。 Further, the cation-reactive monomer is not particularly limited as long as it is a compound that generally has an epoxy group. For example, glycidyl (meth)acrylate, methyl glycidyl ether, ethyl glycidyl ether, butyl glycidyl ether, bisphenol A diglycidyl ether, 3,4-epoxycyclohexylmethyl-3,4-epoxycyclohexane carboxylate (Union Carbide's "Silacure") UVR-6110, etc.), 3,4-epoxycyclohexylethyl-3,4-epoxycyclohexanecarboxylate, vinylcyclohexene dioxide (Union Carbide Co., Ltd.'s "ELR-4206", etc.), limonene dioxide (Daicel Chemical Industries, Ltd.) "Celoxide 3000", etc.), allylcyclohexene dioxide, 3,4-epoxy-4-methylcyclohexyl-2-propylene oxide, 2-(3,4-epoxycyclohexyl-5,5-spiro-3,4-epoxy) ) cyclohexane-m-dioxane, bis(3,4-epoxycyclohexyl) adipate (such as Union Carbide's "Cyracure UVR-6128"), bis(3,4-epoxycyclohexylmethyl) adipate, bis(3,4- Examples include epoxycyclohexyl) ether, bis(3,4-epoxycyclohexylmethyl)ether, and bis(3,4-epoxycyclohexyl)diethylsiloxane.

これらのうち、反応性化合物(B)としては、ラジカル硬化型であるアクリレート類が最も好ましい。カチオン型の場合、カルボン酸とエポキシ基が反応してしまうため2液混合型にする必要が生じる。 Among these, as the reactive compound (B), radical curable acrylates are most preferable. In the case of a cationic type, since the carboxylic acid and epoxy group react, it is necessary to use a two-liquid mixed type.

本発明の反応性ポリカルボン酸化合物(A)と、そのほかの反応性化合物(B)とを混合せしめて本発明の活性エネルギー線硬化型樹脂組成物を得ることができる。このとき、用途に応じて適宜その他の成分を加えてもよい。 The active energy ray-curable resin composition of the present invention can be obtained by mixing the reactive polycarboxylic acid compound (A) of the present invention with other reactive compounds (B). At this time, other components may be added as appropriate depending on the purpose.

本発明の活性エネルギー線硬化型樹脂組成物は、組成物中に反応性ポリカルボン酸化合物(A)を97~5質量部、好ましくは87~10質量部、その他反応性化合物(B)3~95質量部、さらに好ましくは3~90質量部を含む。必要に応じてその他の成分を0~80質量部含んでいてよい。 The active energy ray-curable resin composition of the present invention contains 97 to 5 parts by mass, preferably 87 to 10 parts by mass, of a reactive polycarboxylic acid compound (A) and 3 to 3 parts by mass of other reactive compounds (B). It contains 95 parts by weight, more preferably 3 to 90 parts by weight. 0 to 80 parts by mass of other components may be included as necessary.

この他、本発明の活性エネルギー線硬化型樹脂組成物を各種用途に適合させる目的で、組成物中に70重量部を上限にその他の成分を加えることもできる。その他の成分としては光重合開始剤、その他の添加剤、着色材料、硬化促進剤、また塗工適性付与等を目的に粘度調整のため添加される揮発性溶剤等が挙げられる。下記に使用しうるその他の成分を例示する。 In addition, for the purpose of adapting the active energy ray-curable resin composition of the present invention to various uses, other components may be added to the composition up to 70 parts by weight. Other components include a photopolymerization initiator, other additives, coloring materials, curing accelerators, and volatile solvents added to adjust viscosity for the purpose of imparting coating suitability. Examples of other components that can be used are listed below.

本発明の活性エネルギー線硬化型樹脂組成物は、さらに光重合開始剤を含むことができる。光重合開始剤としてはラジカル型光重合開始剤、カチオン系光重合開始剤が好ましい。
ラジカル型光重合開始剤としては、例えばベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインプロピルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテル等のベンゾイン類;アセトフェノン、2,2-ジエトキシ-2-フェニルアセトフェノン、1,1-ジクロロアセトフェノン、2-ヒドロキシ-2-メチル-フェニルプロパン-1-オン、ジエトキシアセトフェノン、1-ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、2-メチル-1-[4-(メチルチオ)フェニル]-2-モルホリノ-プロパン-1-オン等のアセトフェノン類;2-エチルアントラキノン、2-t-ブチルアントラキノン、2-クロロアントラキノン、2-アミルアントラキノン等のアントラキノン類;2,4-ジエチルチオキサントン、2-イソプロピルチオキサントン、2-クロロチオキサントン等のチオキサントン類;アセトフェノンジメチルケタール、ベンジルジメチルケタール等のケタール類;ベンゾフェノン、4-ベンゾイル-4’-メチルジフェニルサルファイド、4,4’-ビスメチルアミノベンゾフェノン等のベンゾフェノン類;2,4,6-トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキサイド、ビス(2,4,6-トリメチルベンゾイル)-フェニルホスフィンオキサイド等のホスフィンオキサイド類等の公知一般のラジカル型光重合開始剤が挙げられる。
The active energy ray-curable resin composition of the present invention can further contain a photopolymerization initiator. As the photopolymerization initiator, radical type photopolymerization initiators and cationic photopolymerization initiators are preferable.
Examples of radical photopolymerization initiators include benzoins such as benzoin, benzoin methyl ether, benzoin ethyl ether, benzoin propyl ether, and benzoin isobutyl ether; acetophenone, 2,2-diethoxy-2-phenylacetophenone, 1,1-dichloro Acetophenone, 2-hydroxy-2-methyl-phenylpropan-1-one, diethoxyacetophenone, 1-hydroxycyclohexylphenylketone, 2-methyl-1-[4-(methylthio)phenyl]-2-morpholino-propane-1 Acetophenones such as -one; anthraquinones such as 2-ethylanthraquinone, 2-t-butylanthraquinone, 2-chloroanthraquinone, 2-amylanthraquinone; 2,4-diethylthioxanthone, 2-isopropylthioxanthone, 2-chlorothioxanthone, etc. Ketals such as acetophenone dimethyl ketal and benzyl dimethyl ketal; Benzophenones such as benzophenone, 4-benzoyl-4'-methyldiphenyl sulfide, and 4,4'-bismethylaminobenzophenone; 2,4,6-trimethyl Commonly known radical photopolymerization initiators include phosphine oxides such as benzoyldiphenylphosphine oxide and bis(2,4,6-trimethylbenzoyl)-phenylphosphine oxide.

また、カチオン系光重合開始剤としては、ルイス酸のジアゾニウム塩、ルイス酸のヨードニウム塩、ルイス酸のスルホニウム塩、ルイス酸のホスホニウム塩、その他のハロゲン化物、トリアジン系開始剤、ボレート系開始剤及びその他の光酸発生剤等が挙げられる。 In addition, examples of cationic photopolymerization initiators include diazonium salts of Lewis acids, iodonium salts of Lewis acids, sulfonium salts of Lewis acids, phosphonium salts of Lewis acids, other halides, triazine initiators, borate initiators, and Examples include other photoacid generators.

ルイス酸のジアゾニウム塩としては、p-メトキシフェニルジアゾニウムフロロホスホネート、N,N-ジエチルアミノフェニルジアゾニウムヘキサフロロホスホネート(三新化学工業社製サンエイドSI-60L/SI-80L/SI-100L等)等が挙げられ、ルイス酸のヨードニウム塩としては、ジフェニルヨードニウムヘキサフロロホスホネート、ジフェニルヨードニウムヘキサフロロアンチモネート等が挙げられ、ルイス酸のスルホニウム塩としては、トリフェニルスルホニウムヘキサフロロホスホネート(UnionCarbide社製CyracureUVI-6990等)、トリフェニルスルホニウムヘキサフロロアンチモネート(UnionCarbide社製CyracureUVI-6974等)等が挙げられ、ルイス酸のホスホニウム塩としては、トリフェニルホスホニウムヘキサフロロアンチモネート等が挙げられる。 Examples of diazonium salts of Lewis acids include p-methoxyphenyldiazonium fluorophosphonate, N,N-diethylaminophenyldiazonium hexafluorophosphonate (Sanshin Kagaku Kogyo Co., Ltd. Sunaid SI-60L/SI-80L/SI-100L, etc.). Examples of iodonium salts of Lewis acids include diphenyliodonium hexafluorophosphonate and diphenyliodonium hexafluoroantimonate, and examples of sulfonium salts of Lewis acids include triphenylsulfonium hexafluorophosphonate (Cyracure UVI-6990, manufactured by Union Carbide, etc.). , triphenylsulfonium hexafluoroantimonate (such as Cyracure UVI-6974 manufactured by Union Carbide), and examples of the phosphonium salt of a Lewis acid include triphenylphosphonium hexafluoroantimonate.

その他のハロゲン化物としては、2,2,2-トリクロロ-[1-4’-(ジメチルエチル)フェニル]エタノン(AKZO社製TrigonalPI等)、2,2-ジクロロ-1-4-(フェノキシフェニル)エタノン(Sandoz社製Sandray1000等)、α,α,α-トリブロモメチルフェニルスルホン(製鉄化学社製BMPS等)等が挙げられる。トリアジン系開始剤としては、2,4,6-トリス(トリクロロメチル)-トリアジン、2,4-トリクロロメチル-(4’-メトキシフェニル)-6-トリアジン(Panchim社製TriazineA等)、2,4-トリクロロメチル-(4’-メトキシスチリル)-6-トリアジン(Panchim社製TriazinePMS等)、2,4-トリクロロメチル-(ピプロニル)-6-トリアジン(Panchim社製TriazinePP等)、2,4-トリクロロメチル-(4’-メトキシナフチル)-6-トリアジン(Panchim社製TriazineB等)、2[2’(5-メチルフリル)エチリデン]-4,6-ビス(トリクロロメチル)-s-トリアジン(三和ケミカル社製等)、2(2’-フリルエチリデン)-4,6-ビス(トリクロロメチル)-s-トリアジン(三和ケミカル社製)等が挙げられる。 Other halides include 2,2,2-trichloro-[1-4'-(dimethylethyl)phenyl]ethanone (TrigonalPI manufactured by AKZO, etc.), 2,2-dichloro-1-4-(phenoxyphenyl) Examples include ethanone (Sandray 1000, manufactured by Sandoz, etc.), α,α,α-tribromomethylphenylsulfone (BMPS, manufactured by Steel Chemical Co., Ltd., etc.), and the like. Examples of triazine-based initiators include 2,4,6-tris(trichloromethyl)-triazine, 2,4-trichloromethyl-(4'-methoxyphenyl)-6-triazine (Triazine A manufactured by Panchim, etc.), 2,4 -Trichloromethyl-(4'-methoxystyryl)-6-triazine (TriazinePMS, manufactured by Panchim, etc.), 2,4-trichloromethyl-(pipronyl)-6-triazine (TriazinePP, manufactured by Panchim, etc.), 2,4-trichloro Methyl-(4'-methoxynaphthyl)-6-triazine (Triazine B manufactured by Panchim, etc.), 2[2'(5-methylfuryl)ethylidene]-4,6-bis(trichloromethyl)-s-triazine (Sanwa (manufactured by Chemical Co., Ltd.), 2(2'-furylethylidene)-4,6-bis(trichloromethyl)-s-triazine (manufactured by Sanwa Chemical Co., Ltd.), and the like.

ボレート系光重合開始剤としては、日本感光色素製NK-3876及びNK-3881等が挙げられ、その他の光酸発生剤等としては、9-フェニルアクリジン、2,2’-ビス(o-クロロフェニル)-4,4’,5,5’-テトラフェニル-1,2-ビイミダゾール(黒金化成社製ビイミダゾール等)、2,2-アゾビス(2-アミノ-プロパン)ジヒドロクロリド(和光純薬社製V50等)、2,2-アゾビス[2-(イミダゾリン-2イル)プロパン]ジヒドロクロリド(和光純薬社製VA044等)、[イータ-5-2-4-(シクロペンタデシル)(1,2,3,4,5,6,イータ)-(メチルエチル)-ベンゼン]鉄(II)ヘキサフロロホスホネート(CibaGeigy社製Irgacure261等)、ビス(y5-シクロペンタジエニル)ビス[2,6-ジフルオロ-3-(1H-ピリ-1-イル)フェニル]チタニウム(CibaGeigy社製CGI-784等)等が挙げられる。 Examples of borate photopolymerization initiators include NK-3876 and NK-3881 manufactured by Nippon Kanko Shiki Co., Ltd.; other photoacid generators include 9-phenylacridine, 2,2'-bis(o-chlorophenyl )-4,4',5,5'-tetraphenyl-1,2-biimidazole (biimidazole manufactured by Kurogane Kasei Co., Ltd., etc.), 2,2-azobis(2-amino-propane) dihydrochloride (Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) 2,2-Azobis[2-(imidazolin-2yl)propane] dihydrochloride (VA044, etc. manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.), [Eta-5-2-4-(cyclopentadecyl) (1 ,2,3,4,5,6,eta)-(methylethyl)-benzene]iron(II) hexafluorophosphonate (Irgacure 261 manufactured by CibaGeigy, etc.), bis(y5-cyclopentadienyl)bis[2,6 -difluoro-3-(1H-pyry-1-yl)phenyl]titanium (CGI-784 manufactured by CibaGeigy, etc.) and the like.

この他、アゾビスイソブチロニトリル等のアゾ系開始剤、過酸化ベンゾイル等の熱に感応する過酸化物系ラジカル型開始剤等を併せて用いても良い。また、ラジカル系とカチオン系の双方の光重合開始剤を併せて用いても良い。光重合開始剤は、1種類を単独で用いることもできるし、2種類以上を併せて用いることもできる。 In addition, an azo initiator such as azobisisobutyronitrile, a heat-sensitive peroxide radical initiator such as benzoyl peroxide, etc. may also be used. Furthermore, both radical and cationic photopolymerization initiators may be used in combination. One type of photopolymerization initiator can be used alone, or two or more types can be used in combination.

これらのうち、本発明の反応性ポリカルボン酸化合物(A)の特性を考慮すれば、ラジカル型光重合開始剤が特に好ましい。 Among these, radical type photoinitiators are particularly preferable in consideration of the characteristics of the reactive polycarboxylic acid compound (A) of the present invention.

さらに、本発明の活性エネルギー線硬化型樹脂組成物は、着色顔料を含むことができる。着色顔料としては例えば、着色を目的としないもの、いわゆる体質顔料を用いることも出来る。例えば、タルク、硫酸バリウム、炭酸カルシウム、炭酸マグネシウム、チタン酸バリウム、水酸化アルミニウム、シリカ、クレー等が挙げられる。 Furthermore, the active energy ray-curable resin composition of the present invention can contain a colored pigment. As the coloring pigment, for example, a so-called extender pigment, which is not intended for coloring, can also be used. Examples include talc, barium sulfate, calcium carbonate, magnesium carbonate, barium titanate, aluminum hydroxide, silica, clay, and the like.

さらに、本発明の活性エネルギー線硬化型樹脂組成物は、必要に応じ、その他の添加剤を含むことができる。その他の添加剤としては、例えばメラミン等の熱硬化触媒、アエロジル等のチキソトロピー付与剤、シリコーン系、フッ素系のレベリング剤や消泡剤、ハイドロキノン、ハイドロキノンモノメチルエーテル等の重合禁止剤、安定剤、酸化防止剤等を使用することが出来る。 Furthermore, the active energy ray-curable resin composition of the present invention can contain other additives, if necessary. Other additives include thermosetting catalysts such as melamine, thixotropy agents such as Aerosil, silicone-based and fluorine-based leveling agents and antifoaming agents, polymerization inhibitors such as hydroquinone and hydroquinone monomethyl ether, stabilizers, and oxidizing agents. Inhibitors etc. can be used.

この他に活性エネルギー線に反応性を示さない樹脂類(いわゆるイナートポリマー)として、たとえばその他のエポキシ樹脂、フェノール樹脂、ウレタン樹脂、ポリエステル樹脂、ケトンホルムアルデヒド樹脂、クレゾール樹脂、キシレン樹脂、ジアリルフタレート樹脂、スチレン樹脂、グアナミン樹脂、天然及び合成ゴム、アクリル樹脂、ポリオレフィン樹脂、及びこれらの変性物を用いることもできる。これらは樹脂組成物中に40質量部までの範囲において用いることが好ましい。 In addition, examples of resins that do not show reactivity to active energy rays (so-called inert polymers) include other epoxy resins, phenol resins, urethane resins, polyester resins, ketone formaldehyde resins, cresol resins, xylene resins, diallyl phthalate resins, Styrene resins, guanamine resins, natural and synthetic rubbers, acrylic resins, polyolefin resins, and modified products thereof can also be used. It is preferable to use up to 40 parts by mass of these in the resin composition.

特に、ソルダーレジスト用途に反応性ポリカルボン酸化合物(A)を用いようとする場合には、活性エネルギー線に反応性を示さない樹脂類として公知一般のエポキシ樹脂を用いることが好ましい。これは活性エネルギー線によって反応、硬化させた後も反応性ポリカルボン酸化合物(A)に由来するカルボキシ基が残留してしまい、結果としてその硬化物は耐水性や加水分解性に劣ってしまう。したがって、エポキシ樹脂を用いることで残留するカルボキシル基をさらにカルボキシレート化し、さらに強固な架橋構造を形成させる。該公知一般のエポキシ樹脂は、前記カチオン反応型単量体を用いることができる。 In particular, when using the reactive polycarboxylic acid compound (A) for solder resist applications, it is preferable to use commonly known epoxy resins as resins that do not show reactivity to active energy rays. This is because the carboxy groups derived from the reactive polycarboxylic acid compound (A) remain even after reaction and curing with active energy rays, resulting in the cured product having poor water resistance and hydrolyzability. Therefore, by using an epoxy resin, the remaining carboxyl groups are further carboxylated to form an even stronger crosslinked structure. The above-mentioned cation-reactive monomer can be used for the known general epoxy resin.

また使用目的に応じて、粘度を調整する目的で、樹脂組成物中に50質量部、さらに好ましくは35質量部までの範囲において揮発性溶剤を添加することも出来る。 Further, depending on the purpose of use, a volatile solvent may be added to the resin composition in an amount of 50 parts by mass, more preferably up to 35 parts by mass, for the purpose of adjusting the viscosity.

本発明の活性エネルギー線硬化型樹脂組成物は活性エネルギー線によって容易に硬化する。ここで活性エネルギー線の具体例としては、紫外線、可視光線、赤外線、X線、ガンマー線、レーザー光線等の電磁波、アルファー線、ベータ線、電子線等の粒子線等が挙げられる。本発明の好適な用途を考慮すれば、これらのうち、紫外線、レーザー光線、可視光線、または電子線が好ましい。 The active energy ray-curable resin composition of the present invention is easily cured by active energy rays. Specific examples of active energy rays include electromagnetic waves such as ultraviolet rays, visible rays, infrared rays, X-rays, gamma rays, and laser beams, and particle beams such as alpha rays, beta rays, and electron beams. Among these, ultraviolet rays, laser beams, visible light, or electron beams are preferred in view of the preferred applications of the present invention.

本発明において成形用材料とは、未硬化の組成物を型にいれ、もしくは型を押し付け、物体を成形したのち、活性エネルギー線により硬化反応を起こさせ成形させるもの、もしくは未硬化の組成物にレーザー等の焦点光等を照射し、硬化反応を起こさせ成形させる用途に用いられる材料を指す。 In the present invention, a molding material refers to a material that is molded by putting an uncured composition into a mold or pressing a mold to mold an object, and then causing a curing reaction with active energy rays, or molding the uncured composition into a mold. Refers to a material used for irradiating focused light such as a laser to cause a curing reaction and molding.

具体的な用途としては、平面状に成形したシート、素子を保護するための封止材、未硬化の組成物に微細加工された「型」を押し当て微細な成形を行う、所謂ナノインプリント材料、さらには特に熱的な要求の厳しい発光ダイオード、光電変換素子等の周辺封止材料等が好適な用途として挙げられる。 Specific applications include flat sheets, encapsulants to protect elements, so-called nanoimprint materials that press microfabricated "molds" onto uncured compositions to form microscopic shapes, Furthermore, suitable applications include peripheral sealing materials for light emitting diodes, photoelectric conversion elements, etc., which have particularly strict thermal requirements.

本発明において皮膜形成用材料とは、基材表面を被覆することを目的として利用されるものである。具体的な用途としては、グラビアインキ、フレキソインキ、シルクスクリーンインキ、オフセットインキ等のインキ材料、ハードコート、トップコート、オーバープリントニス、クリヤコート等の塗工材料、ラミネート用、光ディスク用他各種接着剤、粘着剤等の接着材料、ソルダーレジスト、エッチングレジスト、マイクロマシン用レジスト等のレジスト材料等がこれに該当する。さらには、皮膜形成用材料を一時的に剥離性基材に塗工しフィルム化した後、本来目的とする基材に貼合し皮膜を形成させる、いわゆるドライフィルムも皮膜形成用材料に該当する。 In the present invention, the film-forming material is used for the purpose of coating the surface of a base material. Specific applications include ink materials such as gravure ink, flexographic ink, silk screen ink, and offset ink, coating materials such as hard coat, top coat, overprint varnish, and clear coat, and various adhesives for laminating, optical disks, etc. This includes adhesive materials such as adhesives and adhesives, resist materials such as solder resists, etching resists, and resists for micromachines. Furthermore, so-called dry films, in which a film-forming material is temporarily applied to a releasable base material to form a film, and then laminated to the intended base material to form a film, also fall under film-forming materials. .

本発明には前記の硬化型樹脂組成物に活性エネルギー線を照射して得られる硬化物もふくまれ、また、該硬化物の層を有する多層材料も含まれる。 The present invention also includes a cured product obtained by irradiating the above-mentioned curable resin composition with active energy rays, and also includes a multilayer material having a layer of the cured product.

これらのうち、反応性ポリカルボン酸化合物(A)のカルボキシ基の導入によって、基材への密着性が高まるため、プラスチック基材、若しくは金属基材を被覆するための用途として用いることが好ましい。 Among these, introduction of a carboxy group into the reactive polycarboxylic acid compound (A) increases adhesion to the substrate, so it is preferable to use it for coating a plastic substrate or a metal substrate.

さらには、未反応の反応性ポリカルボン酸化合物(A)が、アルカリ水溶液に可溶性となる特徴を生かして、アルカリ水現像型レジスト材料組成物として用いることも好ましい。 Furthermore, it is also preferable to use the unreacted reactive polycarboxylic acid compound (A) as an alkaline water-developable resist material composition by taking advantage of its characteristic of being soluble in an alkaline aqueous solution.

本発明においてレジスト材料組成物とは、基材上に該組成物の皮膜層を形成させ、その後、紫外線等の活性エネルギー線を部分的に照射し、照射部、未照射部の物性的な差異を利用して描画しようとする活性エネルギー線感応型の組成物を指す。具体的には、照射部、または未照射部を何らかの方法、例えば溶剤等やアルカリ溶液等で溶解させる等して除去し、描画を行うことを目的として用いられる組成物である。 In the present invention, the resist material composition refers to the formation of a film layer of the composition on a base material, which is then partially irradiated with active energy rays such as ultraviolet rays, and the difference in physical properties between the irradiated and non-irradiated areas. Refers to active energy ray-sensitive compositions that are intended to be used for drawing. Specifically, it is a composition used for the purpose of drawing by removing the irradiated area or the unirradiated area by some method, such as dissolving it with a solvent or an alkaline solution.

本発明のレジスト材料組成物である活性エネルギー線硬化型樹脂組成物は、パターニングが可能な種々の材料に適用でき、例えば特に、ソルダーレジスト材料、ビルドアップ工法用の層間絶縁材に有用であり、さらには光導波路としてプリント配線板、光電子基板や光基板のような電気・電子・光基材等にも利用される。 The active energy ray-curable resin composition, which is the resist material composition of the present invention, can be applied to various materials that can be patterned, and is particularly useful for solder resist materials and interlayer insulation materials for build-up methods, Furthermore, it is used as an optical waveguide in electrical, electronic, and optical substrates such as printed wiring boards, optoelectronic boards, and optical boards.

特に好適な用途としては、耐熱性や現像性が良好である特性を生かして、感光性フィルム、支持体付き感光性フィルム、プリプレグ等の絶縁樹脂シート、回路基板(積層板用途、多層プリント配線板用途等)、ソルダーレジスト、アンダ-フィル材、ダイボンディング材、半導体封止材、穴埋め樹脂、部品埋め込み樹脂等、樹脂組成物が必要とされる用途の広範囲に使用できる。なかでも、高い顔料濃度においても良好な現像性を発揮することが出来ることから、カラーレジスト、カラーフィルタ用のレジスト材料、特にブラックマトリックス材料等にも好適に用いることが出来る。 Particularly suitable applications are photosensitive films, photosensitive films with supports, insulating resin sheets such as prepregs, and circuit boards (laminated board applications, multilayer printed wiring boards), taking advantage of their good heat resistance and developability. It can be used in a wide range of applications that require resin compositions, such as solder resists, underfill materials, die bonding materials, semiconductor sealing materials, hole filling resins, and component embedding resins. In particular, since it can exhibit good developability even at high pigment concentrations, it can be suitably used for color resists, resist materials for color filters, and especially black matrix materials.

更に、多層プリント配線板の絶縁層用樹脂組成物(感光性樹脂組成物の硬化物を絶縁層とした多層プリント配線板)、層間絶縁層用樹脂組成物(感光性樹脂組成物の硬化物を層間絶縁層とした多層プリント配線板)、メッキ形成用樹脂組成物(感光性樹脂組成物の硬化物上にメッキが形成された多層プリント配線板)等にも好適に用いることが出来る。 Furthermore, resin compositions for insulating layers of multilayer printed wiring boards (multilayer printed wiring boards with insulating layers made of cured products of photosensitive resin compositions), resin compositions for interlayer insulating layers (cured products of photosensitive resin compositions), It can also be suitably used for a multilayer printed wiring board (with an interlayer insulating layer), a resin composition for forming plating (a multilayer printed wiring board in which plating is formed on a cured product of a photosensitive resin composition), and the like.

本発明の活性エネルギー線硬化型樹脂組成物を使用してのパターニングは、例えば次のようにして行うことができる。基板上にスクリーン印刷法、スプレー法、ロールコート法、静電塗装法、カーテンコート法、スピンコート法などの方法で0.1~200μmの膜厚で本発明の活性エネルギー線硬化型樹脂組成物を塗布し、塗膜を通常50~110℃、好ましくは60~100℃の温度で乾燥させることにより、塗膜が形成できる。その後、露光パターンを形成したフォトマスクを通じて塗膜に直接または間接に紫外線などの高エネルギー線を通常10~2000mJ/cm程度の強さで照射し、後述する現像液を用いて、例えばスプレー、振動浸漬、パドル、ブラッシング等により所望のパターンを得ることができる。 Patterning using the active energy ray-curable resin composition of the present invention can be performed, for example, as follows. The active energy ray-curable resin composition of the present invention is applied onto a substrate with a film thickness of 0.1 to 200 μm by a method such as a screen printing method, a spray method, a roll coating method, an electrostatic coating method, a curtain coating method, or a spin coating method. A coating film can be formed by applying and drying the coating film at a temperature of usually 50 to 110°C, preferably 60 to 100°C. Thereafter, the coating film is directly or indirectly irradiated with high-energy rays such as ultraviolet rays at an intensity of usually about 10 to 2000 mJ/cm 2 through a photomask on which an exposure pattern has been formed, and then sprayed, for example, using a developer described later. The desired pattern can be obtained by vibrating dipping, paddling, brushing, etc.

上記現像に使用されるアルカリ水溶液としては水酸化カリウム、水酸化ナトリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム、リン酸ナトリウム、リン酸カリウム等の無機アルカリ水溶液やテトラメチルアンモニウムハイドロオキサイド、テトラエチルアンモニウムハイドロオキサイド、テトラブチルアンモニウムハイドロオキサイド、モノエタノールアミン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミン等の有機アルカリ水溶液が使用できる。この水溶液には、さらに有機溶剤、緩衝剤、錯化剤、染料または顔料を含ませることができる。 Examples of the alkaline aqueous solution used in the above development include inorganic alkaline aqueous solutions such as potassium hydroxide, sodium hydroxide, sodium carbonate, potassium carbonate, sodium bicarbonate, potassium bicarbonate, sodium phosphate, and potassium phosphate, and tetramethylammonium hydroxide. , tetraethylammonium hydroxide, tetrabutylammonium hydroxide, monoethanolamine, diethanolamine, triethanolamine, and other organic alkali aqueous solutions can be used. This aqueous solution may further contain an organic solvent, a buffer, a complexing agent, a dye or a pigment.

この他、活性エネルギー線による硬化反応前の機械的強度が求められるドライフィルム用途として特に好適に用いられる。即ち、本発明で用いられるエポキシ樹脂(a)の水酸基、エポキシ基のバランスが特定の範囲にあるがゆえに、本発明の反応性ポリカルボン酸化合物(A)が比較的高い分子量であるにも関わらず、良好な現像性を発揮させることが出来る。 In addition, it is particularly suitable for use in dry film applications that require mechanical strength before curing reaction with active energy rays. That is, because the balance of hydroxyl groups and epoxy groups in the epoxy resin (a) used in the present invention is within a specific range, even though the reactive polycarboxylic acid compound (A) of the present invention has a relatively high molecular weight. First, good developability can be exhibited.

皮膜形成させる方法としては特に制限はないが、グラビア等の凹版印刷方式、フレキソ等の凸版印刷方式、シルクスクリーン等の孔版印刷方式、オフセット等の平版印刷方式、ロールコーター、ナイフコーター、ダイコーター、カーテンコーター、スピンコーター等の各種塗工方式が任意に採用できる。 There are no particular restrictions on the method for forming the film, but intaglio printing methods such as gravure, letterpress printing methods such as flexo, stencil printing methods such as silk screen, lithographic printing methods such as offset, roll coater, knife coater, die coater, Various coating methods such as curtain coater and spin coater can be arbitrarily adopted.

本発明の活性エネルギー線硬化型樹脂組成物の硬化物とは、本発明の活性エネルギー線硬化型樹脂組成物に活性エネルギー線を照射し硬化させたものを指す。 The cured product of the active energy ray-curable resin composition of the present invention refers to a product obtained by irradiating the active energy ray-curable resin composition of the present invention with active energy rays and curing it.

本発明の活性エネルギー線硬化型樹脂組成物でオーバーコートされた物品とは、本発明において示される活性エネルギー線硬化型樹脂組成物を基材上に皮膜形成・硬化させ得られる、少なくとも二層以上の層をもってなる材料を示す。 An article overcoated with the active energy ray-curable resin composition of the present invention refers to at least two or more layers obtained by forming and curing the active energy ray-curable resin composition of the present invention on a base material. Indicates a material consisting of layers.

以下、本発明を実施例により更に詳細に説明するが、本発明はこれら実施例によって限定されるものではない。また、実施例中、特に断りがない限り、%は質量%を示す。 EXAMPLES Hereinafter, the present invention will be explained in more detail with reference to Examples, but the present invention is not limited by these Examples. Further, in the examples, unless otherwise specified, % indicates mass %.

軟化点、エポキシ当量、酸価は以下の条件で測定した。
1)エポキシ当量:JISK7236:2001に準じた方法で測定した。
2)軟化点:JISK7234:1986に準じた方法で測定した。
3)酸価:JISK0070:1992に準じた方法で測定した。
4)GPCの測定条件は以下の通りである。
機種:TOSOH HLC-8220GPC
カラム:Super HZM-N
溶離液:THF(テトラヒドロフラン);0.35ml/分、40℃
検出器:RI(示差屈折計)
分子量標準:ポリスチレン
Softening point, epoxy equivalent, and acid value were measured under the following conditions.
1) Epoxy equivalent: Measured according to JIS K7236:2001.
2) Softening point: Measured according to JISK7234:1986.
3) Acid value: Measured according to JIS K0070:1992.
4) The GPC measurement conditions are as follows.
Model: TOSOH HLC-8220GPC
Column: Super HZM-N
Eluent: THF (tetrahydrofuran); 0.35 ml/min, 40°C
Detector: RI (differential refractometer)
Molecular weight standard: polystyrene

(合成例1~3):反応性エポキシカルボキシレート化合物(d)の合成
XD-1000(日本化薬(株)製、軟化点74.8℃、エポキシ当量255g/eq.)を255g、カルボン酸化合物(b)としてアクリル酸(AA)もしくはメタクリル酸(MAA)を表1中記載量、化合物(c)としてジメチロールプロピオン酸(以下、「DMPA」と略す)を表1中記載量加えた。触媒としてトリフェニルホスフィン3g、溶剤としてプロピレングリコールモノメチルエーテルモノアセテートを固形分含有率80%となるように加え、100℃で24時間反応させ、反応性エポキシカルボキシレート化合物(d)溶液を得た。
(Synthesis Examples 1 to 3): Synthesis of reactive epoxy carboxylate compound (d) Acrylic acid (AA) or methacrylic acid (MAA) was added in the amount shown in Table 1 as compound (b), and dimethylolpropionic acid (hereinafter abbreviated as "DMPA") was added in the amount shown in Table 1 as compound (c). 3 g of triphenylphosphine as a catalyst and propylene glycol monomethyl ether monoacetate as a solvent were added to give a solid content of 80%, and the mixture was reacted at 100° C. for 24 hours to obtain a reactive epoxy carboxylate compound (d) solution.

Figure 0007378550000006
Figure 0007378550000006

(実施例1、比較例1):反応性ポリカルボン酸化合物(A)の調製
得られた反応性エポキシカルボキシレート化合物(d)溶液200gに、多塩基酸無水物(e)として表2に記載の化合物、量(g)、及び溶剤として固形分含有率が65%なるように、プロピレングリコールモノメチルエーテルモノアセテートを添加し、100℃に加熱した後、酸付加反応させ、反応性ポリカルボン酸化合物(A)溶液を得た。得られた反応性ポリカルボン酸化合物(A)の固形分酸価(AV:mgKOH/g)を表2中に記載した。固形分酸価(mg・KOH/g)測定は溶液として測定を行い固形分での値に換算した。
(Example 1, Comparative Example 1): Preparation of reactive polycarboxylic acid compound (A) Add 200 g of the obtained reactive epoxycarboxylate compound (d) solution to the polybasic acid anhydride (e) listed in Table 2. Propylene glycol monomethyl ether monoacetate was added as a compound, amount (g), and solvent so that the solid content was 65%, heated to 100°C, and then subjected to an acid addition reaction to form a reactive polycarboxylic acid compound. (A) A solution was obtained. The solid content acid value (AV: mgKOH/g) of the obtained reactive polycarboxylic acid compound (A) is listed in Table 2. The solid content acid value (mg·KOH/g) was measured as a solution and converted into a value based on solid content.

Figure 0007378550000007
Figure 0007378550000007

HTMA:1,2,4-シクロヘキサントリカルボン酸-1,2-無水物、三菱ガス化学(株)製
NTA:ノルボルナントリカルボン酸無水物、特許5532123参照合成品
THPA:1,2,3,6-テトラヒドロ無水フタル酸、新日本理化(株)製
SA: リカシッドSA 無水コハク酸、新日本理化(株)製
HTMA: 1,2,4-cyclohexanetricarboxylic acid-1,2-anhydride, Mitsubishi Gas Chemical Co., Ltd. NTA: Norbornanetricarboxylic anhydride, synthetic product referenced in patent 5532123 THPA: 1,2,3,6-tetrahydro Phthalic anhydride, manufactured by Shin Nippon Chemical Co., Ltd. SA: Rikacid SA Succinic anhydride, manufactured by Shin Nippon Chemical Co., Ltd.

(実施例2、比較例2):レジスト材料組成物の調製
実施例1及び比較例1で得られた反応性ポリカルボン酸化合物(A)を54.44g、その他の反応性化合物(B)としてHX-220(商品名:日本化薬(株)製ジアクリレート単量体)3.54g、光重合開始剤としてイルガキュアー907(チバスペシャリチィーケミカルズ製)を4.72g及びカヤキュアーDETX-S(日本化薬(株)製)を0.47g、硬化剤成分としてNC-3000(日本化薬製)を14.83g、硬化促進剤としてメラミンを1.05g及び濃度調整溶媒としてメチルエチルケトンを20.95g加え、ビーズミルにて混練し、均一に分散させレジスト材料樹脂組成物を得た。
得られた当該組成物をロールコート法により、支持フィルムとなる銅箔のフィルムに均一に塗布し、温度70℃の熱風乾燥炉を通過させ、厚さ30μmの樹脂層を形成した。その後、1%炭酸ナトリウム水溶液でスプレー現像を行い、完全に現像されきるまでの時間、いわゆるブレイクタイムをもって現像性の評価とした(単位:秒)。表3に結果を示す。
(Example 2, Comparative Example 2): Preparation of resist material composition 54.44 g of the reactive polycarboxylic acid compound (A) obtained in Example 1 and Comparative Example 1, and other reactive compounds (B) 3.54 g of HX-220 (trade name: diacrylate monomer manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.), 4.72 g of Irgacure 907 (manufactured by Ciba Specialty Chemicals) as a photopolymerization initiator, and Kayacure DETX-S (manufactured by Ciba Specialty Chemicals) as a photopolymerization initiator. Added 0.47 g of NC-3000 (manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.) as a curing agent component, 1.05 g of melamine as a curing accelerator, and 20.95 g of methyl ethyl ketone as a concentration adjustment solvent. The mixture was kneaded in a bead mill and uniformly dispersed to obtain a resist material resin composition.
The resulting composition was uniformly applied to a copper foil film serving as a support film by a roll coating method, and passed through a hot air drying oven at a temperature of 70°C to form a resin layer with a thickness of 30 μm. Thereafter, spray development was performed with a 1% aqueous sodium carbonate solution, and the developability was evaluated based on the time required for complete development, the so-called break time (unit: seconds). Table 3 shows the results.

Figure 0007378550000008
Figure 0007378550000008

上記の結果から、本発明の反応性ポリカルボン酸化合物(A)を用いたレジスト材料組成物は良好な現像性を有している。 From the above results, the resist material composition using the reactive polycarboxylic acid compound (A) of the present invention has good developability.

(実施例3及び比較例3):耐熱分解性の評価
実施例1及び比較例1で得られた反応性ポリカルボン酸化合物(A)を8g、光重合開始剤としてイルガキュアー907(チバスペシャリチィーケミカルズ製)を0.24g及びカヤキュアーDETX-S(日本化薬(株)製)を0.01g、硬化剤成分としてNC-3000(日本化薬製)を0.403g、硬化促進剤としてトリフェニルホスフィンを0.017g及びプロピレングリコールモノメチルエーテルモノアセテートを0.446g加え、ポリイミドフィルムに均一に塗布し、温度80℃の熱風乾燥炉を通過させ、厚さ20μmの樹脂層を形成した後、紫外線露光装置((株)オーク製作所、型式HMW-680GW)で露光し、硬化物を得た。作製した硬化物を幅5mmで切り出す。その後、TA instruments製粘弾性測定装置RSA-G2にセットし、空気雰囲気中、周波数10Hz、昇温速度2℃/min.でtanδを測定し、tanδの最大値における温度をTgとした。表4に結果を示す。
(Example 3 and Comparative Example 3): Evaluation of heat decomposition resistance 8 g of the reactive polycarboxylic acid compound (A) obtained in Example 1 and Comparative Example 1, and Irgacure 907 (Ciba Specialty) as a photopolymerization initiator. 0.24 g of Kayacure DETX-S (manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.), 0.01 g of Kayacure DETX-S (manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.), 0.403 g of NC-3000 (manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.) as a curing agent component, and triphenyl as a curing accelerator. Add 0.017 g of phosphine and 0.446 g of propylene glycol monomethyl ether monoacetate, apply it uniformly to a polyimide film, pass through a hot air drying oven at a temperature of 80°C to form a resin layer with a thickness of 20 μm, and then expose to ultraviolet rays. Exposure was performed using a device (manufactured by Oak Seisakusho Co., Ltd., model HMW-680GW) to obtain a cured product. The produced cured product is cut out to a width of 5 mm. Thereafter, it was set in a viscoelasticity measuring device RSA-G2 manufactured by TA instruments, and heated at a frequency of 10 Hz and a heating rate of 2° C./min in an air atmosphere. tan δ was measured, and the temperature at the maximum value of tan δ was defined as Tg. Table 4 shows the results.

Figure 0007378550000009
Figure 0007378550000009

上記の結果から、本発明の反応性ポリカルボン酸化合物(A)を用いた活性エネルギー線硬化型樹脂組成物は、比較用の樹脂組成物に比べて、耐熱性に優れていることがわかる。 From the above results, it can be seen that the active energy ray-curable resin composition using the reactive polycarboxylic acid compound (A) of the present invention has excellent heat resistance compared to the comparative resin composition.

(実施例4及び比較例4):顔料分散性に関する評価
実施例1及び比較例1で得られた反応性ポリカルボン酸化合物(A)を20g、その他反応性化合物(B)としてDPHA(商品名:日本化薬( 株) 製 アクリレート単量体)5.0g、有機溶剤としてプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート10g、着色顔料として三菱カーボンブラックMA-100を15g又は10g加え、攪拌した。さらに35gのガラスビーズを入れ、ペイントシェーカで1時間分散を行った。分散終了後の分散液を、ワイヤーバーコータ#2でポリエチレンテレフタレートフィルム上に塗工し、80℃の温風乾燥機で10分間乾燥を行った。乾燥終了後の塗膜表面の光沢を60°反射グロス計(堀場製作所IG-331光沢計)を用いて測定し、カーボンブラックの分散性を評価した。表5に結果を示す。光沢の値が高いほど、顔料分散性は良好である。
(Example 4 and Comparative Example 4): Evaluation regarding pigment dispersibility 20g of the reactive polycarboxylic acid compound (A) obtained in Example 1 and Comparative Example 1, and DPHA (trade name) as other reactive compound (B) 5.0 g of acrylate monomer (manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.), 10 g of propylene glycol monomethyl ether acetate as an organic solvent, and 15 g or 10 g of Mitsubishi Carbon Black MA-100 as a coloring pigment were added and stirred. Further, 35 g of glass beads were added and dispersed for 1 hour using a paint shaker. After the dispersion was completed, the dispersion liquid was coated on a polyethylene terephthalate film using a wire bar coater #2, and dried for 10 minutes using a hot air dryer at 80°C. After drying, the gloss of the coating surface was measured using a 60° reflection gloss meter (Horiba IG-331 gloss meter), and the dispersibility of carbon black was evaluated. Table 5 shows the results. The higher the gloss value, the better the pigment dispersibility.

Figure 0007378550000010
Figure 0007378550000010

上記の結果から明らかなように、実施例1で得られた反応性ポリカルボン酸化合物(A)を含む樹脂組成物から得られる塗膜は、比較例に比べて、光沢値が高く、顔料分散性に優れることが確認できる。さらに、本発明の反応性ポリカルボン酸化合物(A)を含む樹脂組成物は、着色顔料の含有量が多い場合でも、光沢の値に変化がなかった。これに対して、比較例の反応性ポリカルボン酸化合物は着色顔料の含有量が増えると光沢が低下し、含量分散性が低いことがわかる。従って、本発明の反応性ポリカルボン酸化合物(A)の顔料分散性は着色顔料の含有量に依存することなく、優れていることが確認できる。 As is clear from the above results, the coating film obtained from the resin composition containing the reactive polycarboxylic acid compound (A) obtained in Example 1 has a higher gloss value and pigment dispersion than that of the comparative example. It can be confirmed that this product has excellent properties. Furthermore, in the resin composition containing the reactive polycarboxylic acid compound (A) of the present invention, there was no change in the gloss value even when the content of the colored pigment was large. On the other hand, it can be seen that in the reactive polycarboxylic acid compound of the comparative example, as the content of the colored pigment increases, the gloss decreases and the content dispersibility is low. Therefore, it can be confirmed that the pigment dispersibility of the reactive polycarboxylic acid compound (A) of the present invention is excellent regardless of the content of the colored pigment.

以上より、本発明の反応性ポリカルボン酸化合物(A)を用いた活性エネルギー線硬化型樹脂組成物の硬化物は、耐熱性に優れ、微細にアルカリ現像可能であることから成形用材料、皮膜形成用材料、レジスト材料に好適である。特に、高い顔料濃度においても良好な現像性を発揮することから、カラーレジスト、カラーフィルタ用のレジスト材料、特にブラックマトリックス材料等に適している。



From the above, the cured product of the active energy ray-curable resin composition using the reactive polycarboxylic acid compound (A) of the present invention has excellent heat resistance and can be finely developed with alkali, so it can be used as a molding material or as a coating. Suitable for forming materials and resist materials. In particular, since it exhibits good developability even at high pigment concentrations, it is suitable for color resists, resist materials for color filters, and especially black matrix materials.



Claims (9)

下記式(1)で表されるエポキシ樹脂(a)に、一分子中に(メタ)アクリル基とカルボキシ基を併せ持つカルボン酸化合物(b)のみ、又は一分子中に(メタ)アクリル基とカルボキシ基を併せ持つカルボン酸化合物(b)と必要に応じて一分子中に水酸基とカルボキシ基を併せ持つ化合物(c)のみを反応させて得られる活性エネルギー線反応性エポキシカルボキシレート化合物(d)を、下記式(2)で表される多塩基酸無水物(e)と反応させた活性エネルギー線反応性ポリカルボン酸化合物(A)。
Figure 0007378550000011
(式中、Rは同一でも異なっていてもよく、水素原子、ハロゲン原子又は炭素数1~4の炭化水素基を示し、aはそれぞれ1~3を表す。nは平均値で1~20の整数を示す。)
Figure 0007378550000012
(式(2)中Rは、各々独立して水素原子、炭素数1~10のアルキル基を表わす。mは1~3の整数を表わす。)
In the epoxy resin (a) represented by the following formula (1), only a carboxylic acid compound (b) having both a (meth)acrylic group and a carboxyl group in one molecule, or a (meth)acrylic group and a carboxylic acid compound in one molecule. An active energy ray- reactive epoxy carboxylate compound (d) obtained by reacting only a carboxylic acid compound (b) having both groups with a compound (c) having both a hydroxyl group and a carboxy group in one molecule as necessary, An active energy ray- reactive polycarboxylic acid compound (A) reacted with a polybasic acid anhydride (e) represented by formula (2).
Figure 0007378550000011
(In the formula, R may be the same or different and represent a hydrogen atom, a halogen atom, or a hydrocarbon group having 1 to 4 carbon atoms, and each a represents 1 to 3. n is an average value of 1 to 20. (Indicates an integer.)
Figure 0007378550000012
(In formula (2), R 1 each independently represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms. m represents an integer of 1 to 3.)
請求項1に記載の活性エネルギー線反応性ポリカルボン酸化合物(A)を含む活性エネルギー線硬化型樹脂組成物。 An active energy ray -curable resin composition comprising the active energy ray-reactive polycarboxylic acid compound (A) according to claim 1. 前記活性エネルギー線反応性ポリカルボン酸化合物(A)以外の活性エネルギー線反応性化合物(B)を含む請求項2に記載の活性エネルギー線硬化型樹脂組成物。 The active energy ray- curable resin composition according to claim 2, comprising an active energy ray- reactive compound (B) other than the active energy ray-reactive polycarboxylic acid compound (A). 光重合開始剤を含む請求項2又は請求項3に記載の活性エネルギー線硬化型樹脂組成物。 The active energy ray-curable resin composition according to claim 2 or 3, containing a photopolymerization initiator. 成形用材料である請求項2~請求項4のいずれか一項に記載の活性エネルギー線硬化型樹脂組成物。 The active energy ray-curable resin composition according to any one of claims 2 to 4, which is a molding material. 皮膜形成用材料である請求項2~請求項4のいずれか一項に記載の活性エネルギー線硬化型樹脂組成物。 The active energy ray-curable resin composition according to any one of claims 2 to 4, which is a film-forming material. レジスト材料組成物である請求項2~請求項4のいずれか一項に記載の活性エネルギー線硬化型樹脂組成物。 The active energy ray-curable resin composition according to any one of claims 2 to 4, which is a resist material composition. 請求項2~請求項7のいずれか一項に記載の活性エネルギー線硬化型樹脂組成物の硬化物。 A cured product of the active energy ray-curable resin composition according to any one of claims 2 to 7. 請求項8に記載の硬化物でオーバーコートされた物品。 An article overcoated with the cured product according to claim 8.
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