KR20180138137A - Reactive polycarboxylic acid compound, active energy ray curable resin composition using same and cured product thereof, and use thereof - Google Patents

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Abstract

The purpose of the present invention is to provide an active energy ray curable resin composition which gives a cured film having excellent heat resistance and developability. A reactive polycarboxylic acid compound (A) is formed by making a polybasic acid anhydride (e) represented by formula (2) or (3) react with a reactive epoxy carboxylate compound (d) which is obtained by making epoxy resin (a) represented by formula (1) react with a carbonic acid compound (b) having both a carboxyl group and an ethylenic unsaturated group capable of polymerizing in one molecule, and if necessary, with a compound (c) having a carboxyl group and a hydroxyl group in one molecule. In formula (1), R may be the same or different and represents a hydrogen atom, a halogen atom or a hydrocarbon group having 1 to 4 carbon atoms, a independently represents 1 to 3, and n represents an integer of 1 to 20 as an average value. In formula (2), R_1 independently represents a hydrogen atom and an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, and m represents an integer of 1 to 3.

Description

반응성 폴리카본산 화합물, 그것을 이용한 활성 에너지선 경화형 수지 조성물, 그의 경화물 및 그의 용도{REACTIVE POLYCARBOXYLIC ACID COMPOUND, ACTIVE ENERGY RAY CURABLE RESIN COMPOSITION USING SAME AND CURED PRODUCT THEREOF, AND USE THEREOF}REACTIVE POLYCARBOXYLIC ACID COMPOUND, ACTIVE ENERGY RAY CURABLE RESIN COMPOSITION USING SAME AND CURED PRODUCT THEREOF, AND USE THEREOF BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention [0001]

본 발명은, 신규의 반응성 폴리카본산 화합물 (A), 그것을 함유하는 활성 에너지선 경화형 수지 조성물, 그의 경화물에 관한 것이다. 특히, 컬러 레지스트, 컬러 필터용의 레지스트 재료, 블랙 매트릭스 재료로서도 적용 가능한 레지스트 재료로서 적합한 신규의 반응성 폴리카본산 화합물, 그것을 함유하는 활성 에너지선 경화형 수지 조성물, 그의 경화물에 관한 것이다.The present invention relates to a novel reactive polycarboxylic acid compound (A), an active energy ray-curable resin composition containing the same, and a cured product thereof. In particular, the present invention relates to a novel reactive polycarboxylic acid compound suitable as a color resist, a resist material for a color filter, a resist material applicable as a black matrix material, an active energy ray-curable resin composition containing the same, and a cured product thereof.

프린트 배선판은 휴대 기기의 소형 경량화나 통신 속도의 향상을 목표로 하여, 고정밀도, 고밀도화가 요구되고 있어, 그에 수반하여 그의 회로 자체를 피복하는 솔더 레지스트로의 요구도 점점 높아지고, 종래의 요구보다도, 더욱 내열성, 열 안정성을 유지하면서 기판 밀착성, 고절연성, 무전해 금 도금성에 견딜 수 있는 성능이 요구되고 있어, 보다 강인한 경화 물성을 갖는 피막 형성용 재료가 요구되고 있다.The printed wiring board is required to have high accuracy and high density in order to reduce the size and weight of the portable device and to improve the communication speed. Accordingly, the demand for a solder resist for covering the circuit itself increases, There is a demand for performance that can withstand substrate adhesion, high insulation and electroless gold plating while maintaining heat resistance and thermal stability, and a film forming material having stronger curing properties is required.

이들 재료로서, 일반적인 에폭시 수지에, 카본산과 수산기를 갖는 화합물과 아크릴산을 함께 반응시켜 얻어지는 카복실레이트 화합물이, 저산가이면서 우수한 현상성을 갖는 재료로서 공지이고, 또한 이 화합물이 레지스트 잉크 적성을 갖는 것은 공지이다(특허문헌 1). As these materials, a carboxylate compound obtained by reacting a general epoxy resin with a compound having a carboxylic acid and a hydroxyl group together with acrylic acid is known as a material having a low acid value and excellent developability, and it is known that the compound has resist ink suitability (Patent Document 1).

한편, 페놀아르알킬형 에폭시 수지(예를 들면 닛폰카야쿠 제조 NC-3000 등)를 기본 골격으로 한 산 변성 에폭시아크릴레이트는, 경화 후에 높은 강인성을 나타내는 재료로서 일반적으로 공지이고, 또한 이것을 이용한 솔더 레지스트로서의 용도에 대해서도 검토가 행해지고 있다(특허문헌 2).On the other hand, an acid-modified epoxy acrylate having a basic skeleton of phenol aralkyl type epoxy resin (for example, NC-3000 manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.) is generally known as a material exhibiting high toughness after curing, The use as a resist has also been examined (Patent Document 2).

이 외에, 페놀아르알킬형 에폭시 수지를 기본 골격으로 한 산 변성 에폭시아크릴레이트에 카본 블랙 등을 분산시켜 액정 표시 패널 등에 이용되는 블랙 매트릭스 레지스트에 응용하는 시도도 알려져 있다(특허문헌 3). 또한, 그 외 페놀-디사이클로펜타디엔 골격에 있어서도 블랙 레지스트에 적용할 수 있도록 연구는 이루어져 있어, 양호한 착색 안료와의 친화성을 갖고 있는 것을 발견하여, 얻어지는 조성물은 높은 안료 농도에서도 양호한 현상성을 갖는 레지스트 재료 등이 될 수 있는 것을 발견하고 있다(특허문헌 4).In addition, attempts have been made to apply carbon black or the like to an acid-modified epoxy acrylate having a phenol aralkyl type epoxy resin as a basic skeleton to apply it to a black matrix resist used for a liquid crystal display panel or the like (Patent Document 3). In addition, studies have been made so as to be applicable to black resists in other phenol-dicyclopentadiene skeletons, and it has been found that they have affinity with a good coloring pigment, and the resulting composition shows good developability even at a high pigment concentration And the like (Patent Document 4).

일본공개특허공보 평06-324490호JP-A-06-324490 일본공개특허공보 평09-211860호Japanese Patent Application Laid-Open No. 09-211860 일본공개특허공보 2004-295094호Japanese Patent Application Laid-Open No. 2004-295094 일본공개특허공보 2009-102501호Japanese Laid-Open Patent Publication No. 2009-102501

그러나, 페놀-디사이클로펜타디엔 골격을 갖는 에폭시 수지를 기본 골격으로 한 산 변성 에폭시아크릴레이트는 카본 블랙 등의 착색 안료가 양호하게 수지와 친화되어 안료가 분산되기는 하지만, 현상성이 나쁘기 때문에, 보다 고안료 농도에서의 현상성을 가질 필요가 있다.However, since acid-modified epoxy acrylates having an epoxy resin having a phenol-dicyclopentadiene skeleton as a basic skeleton have excellent compatibility with a resin such as carbon black, the pigment is dispersed, but since the developability is poor, It is necessary to have developability at a high pigment concentration.

그래서, 본 발명은, 상기의 종래 기술의 문제점을 개선하여, 착색 안료 등의 분산성이 우수하고, 또한 높은 안료 농도에서도 양호한 현상 특성을 갖는 산 변성 에폭시아크릴레이트 화합물 및 그것을 함유하는 활성 에너지선 경화형 수지 조성물을 제공하는 것을 목적으로 한다.SUMMARY OF THE INVENTION It is therefore an object of the present invention to provide an acid-modified epoxy acrylate compound having excellent dispersibility such as a coloring pigment and having good developing properties even at a high pigment concentration, and an active energy ray- It is an object of the present invention to provide a resin composition.

본 발명자들은 상기 과제를 해결하기 위해, 예의 검토를 행한 결과, 페놀-디사이클로펜타디엔 구조를 갖는 에폭시 수지와 불포화기 함유 카본산, 필요에 따라서 1분자 중에 수산기와 카복시기를 겸비하는 화합물의 반응물을, 특정의 다염기산 무수물과의 반응물을 이용한 수지 조성물이 상기 과제를 해결하는 것을 발견하여, 본 발명에 도달했다.In order to solve the above problems, the inventors of the present invention conducted intensive studies and found that a reaction product of an epoxy resin having a phenol-dicyclopentadiene structure and an unsaturated group-containing carbonic acid, and a compound having a hydroxyl group and a carboxy group in one molecule, , A resin composition using a reaction product with a specific polybasic acid anhydride solves the above problems, and has reached the present invention.

즉, 본 발명은,That is,

[1] 하기식 (1)로 나타나는 에폭시 수지 (a)에, 1분자 중에 중합 가능한 에틸렌성 불포화기와 카복시기를 겸비하는 카본산 화합물 (b), 필요에 따라서 1분자 중에 수산기와 카복시기를 겸비하는 화합물 (c)를 반응시켜 얻어지는 반응성 에폭시카복실레이트 화합물 (d)를, 하기식 (2) 또는 식 (3)으로 나타나는 다염기산 무수물 (e)와 반응시킨 반응성 폴리카본산 화합물 (A),[1] A process for producing a resin composition, which comprises adding to an epoxy resin (a) represented by the following formula (1) a carbonic acid compound (b) having an ethylenically unsaturated group capable of polymerizing in one molecule and a carboxy group (b), a compound having a hydroxyl group and a carboxy group (A) reacted with a polybasic acid anhydride (e) represented by the following formula (2) or (3) and a reactive polycarboxylic acid compound (d)

Figure pat00001
Figure pat00001

(식 중, R은 동일해도 상이해도 좋고, 수소 원자, 할로겐 원자 또는 탄소수 1∼4의 탄화수소기를 나타내고, a는 각각 1∼3을 나타낸다. n은 평균값으로 1∼20의 정수를 나타낸다.)(Wherein R is the same or different and represents a hydrogen atom, a halogen atom or a hydrocarbon group of 1 to 4 carbon atoms, and a represents 1 to 3. n is an average value and represents an integer of 1 to 20)

Figure pat00002
Figure pat00002

(식 (2) 중 R1은, 각각 독립적으로 수소 원자, 탄소수 1∼10의 알킬기를 나타낸다. m은 1∼3의 정수를 나타낸다.)(In the formula (2), R 1 independently represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, and m represents an integer of 1 to 3)

[2] 전항 [1]에 기재된 반응성 폴리카본산 화합물 (A)를 포함하는 활성 에너지선 경화형 수지 조성물,[2] An active energy ray-curable resin composition comprising the reactive polycarboxylic acid compound (A) described in [1]

[3] 상기 반응성 폴리카본산 화합물 (A) 이외의 반응성 화합물 (B)를 포함하는 전항 [2]에 기재된 활성 에너지선 경화형 수지 조성물,[3] The active energy ray-curable resin composition according to [2], further comprising a reactive compound (B) other than the reactive polycarboxylic acid compound (A)

[4] 광 중합 개시제를 포함하는 전항 [2] 또는 [3]에 기재된 활성 에너지선 경화형 수지 조성물,[4] The active energy ray-curable resin composition according to [2] or [3], wherein the active energy ray-

[5] 성형용 재료인 전항 [2]∼[4] 중 어느 한 항에 기재된 활성 에너지선 경화형 수지 조성물,[5] The active energy ray-curable resin composition according to any one of items [2] to [4], which is a molding material,

[6] 피막 형성용 재료인 전항 [2]∼[4] 중 어느 한 항에 기재된 활성 에너지선 경화형 수지 조성물,[6] The active energy ray-curable resin composition according to any one of items [2] to [4], which is a film-forming material,

[7] 레지스트 재료 조성물인 전항 [2]∼[4] 중 어느 한 항에 기재된 활성 에너지선 경화형 수지 조성물,[7] The active energy ray-curable resin composition according to any one of items [2] to [4], which is a resist material composition,

[8] 전항 [2]∼[7] 중 어느 한 항에 기재된 활성 에너지선 경화형 수지 조성물의 경화물,[8] A cured product of the active energy ray-curable resin composition according to any one of items [2] to [7]

[9] 전항 [8]에 기재된 경화물로 오버코팅된 물품,[9] An article overcoated with a cured product as described in [8]

에 관한 것이다..

본 발명의 반응성 폴리카본산 화합물 (A)를 포함하는 활성 에너지선 경화형 수지 조성물은 강인한 경화물을 얻을 뿐만이 아니라, 용제를 건조시켰을 뿐인 상태에 있어서도 우수한 수지 물성을 갖고 있다. 또한, 본 발명의 활성 에너지선 경화형 수지 조성물을 자외선 등의 활성 에너지선 등에 의해 경화하여 얻어지는 경화물은, 내열성이 우수하고, 미세하게 알칼리 현상 가능한 점에서 성형용 재료, 피막 형성용 재료, 레지스트 재료에 적합하다.The active energy ray-curable resin composition containing the reactive polycarboxylic acid compound (A) of the present invention has not only a strong cured product but also excellent resin properties even when the solvent is dried. The cured product obtained by curing the active energy ray-curable resin composition of the present invention with an active energy ray such as ultraviolet rays or the like is excellent in heat resistance and can be finely alkali developed, Lt; / RTI >

또한, 착색 안료와의 높은 친화성으로부터, 본 발명의 반응성 폴리카본산 변성 화합물 및 그것을 포함하는 활성 에너지선 경화형 수지 조성물은 높은 안료 농도에 있어서도 양호한 현상성을 발휘하는 점에서, 컬러 레지스트, 컬러 필터용의 레지스트 재료, 특히 블랙 매트릭스 재료 등에 적합하다.From the high affinity with the colored pigment, the reactive polycarboxylic acid-modified compound of the present invention and the active energy ray-curable resin composition containing the reactive polycarboxylic acid modified compound of the present invention exhibit good developability even at a high pigment concentration. And particularly, a black matrix material.

또한, 본 발명의 반응성 폴리카본산 화합물 (A)를 포함하는 활성 에너지선 경화형 수지 조성물은 열적 및 기계적인 강인성, 양호한 보존 안정성, 나아가서는 고온 고습이나 냉열 충격에 견디는 높은 신뢰성을 갖는 점에서, 특히 높은 신뢰성이 요구되는 프린트 배선판용 솔더 레지스트, 다층 프린트 배선판용 층간 절연 재료, 플렉시블 프린트 배선판용 솔더 레지스트, 도금 레지스트, 감광성 광 도파로 등의 용도에도 이용된다.In addition, the active energy ray-curable resin composition containing the reactive polycarboxylic acid compound (A) of the present invention has excellent thermal and mechanical strength, good storage stability, high reliability against high temperature and high humidity, A solder resist for a printed wiring board requiring high reliability, an interlayer insulating material for a multilayer printed wiring board, a solder resist for a flexible printed wiring board, a plating resist, and a photosensitive optical waveguide.

(발명을 실시하기 위한 형태)(Mode for carrying out the invention)

이하, 본 발명에 대해서 상세하게 설명한다. Hereinafter, the present invention will be described in detail.

본 발명의 반응성 폴리카본산 화합물 (A)는, 하기식 (1)로 나타나는 구조를 갖는 에폭시 수지 (a)와, 1분자 중에 중합 가능한 에틸렌성 불포화기와 카복시기를 겸비하는 카본산 화합물 (b), 필요에 따라서 1분자 중에 수산기와 카복시기를 겸비하는 화합물 (c)를 반응시켜, 반응성 에폭시카복실레이트 화합물 (d)를 얻는다. 이어서, 하기식 (2) 또는 식 (3)으로 나타나는 다염기산 무수물 (e)를 반응시킴으로써 얻을 수 있다.The reactive polycarboxylic acid compound (A) of the present invention comprises an epoxy resin (a) having a structure represented by the following formula (1), a carboxylic acid compound (b) having an ethylenically unsaturated group capable of polymerizing in one molecule and a carboxy group, If necessary, the compound (c) having a hydroxyl group and a carboxy group in one molecule is reacted to obtain a reactive epoxy carboxylate compound (d). Next, it can be obtained by reacting a polybasic acid anhydride (e) represented by the following formula (2) or (3).

Figure pat00003
Figure pat00003

(식 중, R은 동일해도 상이해도 좋고, 수소 원자, 할로겐 원자 또는 탄소수 1∼4의 탄화수소기를 나타내고, a는 각각 1∼3을 나타낸다. n은 평균값으로 1∼20의 정수를 나타낸다.)(Wherein R is the same or different and represents a hydrogen atom, a halogen atom or a hydrocarbon group of 1 to 4 carbon atoms, and a represents 1 to 3. n is an average value and represents an integer of 1 to 20)

Figure pat00004
Figure pat00004

(식 (2) 중 R1은, 각각 독립적으로 수소 원자, 탄소수 1∼10의 알킬기를 나타낸다. m은 1∼3의 정수를 나타낸다.)(In the formula (2), R 1 independently represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, and m represents an integer of 1 to 3)

상기식 (1) 중의 탄소수 1∼4의 탄화수소기란, 메틸기, 에틸기, 에틸렌기, 프로필기, 프로필렌기, 부틸기, 부틸렌기 등의 포화 및 불포화 탄화수소기를 나타낸다.The hydrocarbon group having 1 to 4 carbon atoms in the formula (1) represents a saturated or unsaturated hydrocarbon group such as a methyl group, an ethyl group, an ethylene group, a propyl group, a propylene group, a butyl group or a butylene group.

우선, 카복실레이트 화합물에 반응성을 부여시켜, 반응성 에폭시카복실레이트 화합물 (d)를 얻기 위한, 카복실레이트화 공정에 대해서 설명한다.First, the carboxylation process for imparting reactivity to a carboxylate compound to obtain a reactive epoxy carboxylate compound (d) will be described.

본 발명에 있어서 이용하는 상기식 (1)로 나타나는 에폭시 수지 (a)(이하, 간단히 「에폭시 수지 (a)」라고도 나타냄)는, 여러 가지의 상품명으로, 예를 들면, XD-1000(닛폰카야쿠(주) 제조) 등으로서, 일반적으로 입수 가능하다.The epoxy resin (a) (hereinafter also referred to simply as " epoxy resin (a) ") represented by the above formula (1) used in the present invention is a product of various trade names such as XD-1000 (Manufactured by Sumitomo Chemical Co., Ltd.) and the like.

본 발명에 있어서, 1분자 중에 중합 가능한 에틸렌성 불포화기와 카복시기를 겸비하는 카본산 화합물 (b)(이하, 간단히 「카본산 화합물 (b)」라고도 나타냄)는, 활성 에너지선으로의 반응성을 부여시키기 위해 반응시키는 것이다. 에틸렌성 불포화기와 카복시기는 각각 분자 내에 1개 이상 있는 것이면 제한은 없다.In the present invention, the carbonic acid compound (b) (hereinafter, simply referred to as " carbonic acid compound (b) ") having both an ethylenic unsaturated group capable of polymerizing in one molecule and a carboxy group, . The ethylenic unsaturated group and the carboxy group are not limited as long as they have at least one ethylenic unsaturated group and a carboxy group, respectively.

1분자 중에 중합 가능한 에틸렌성 불포화기와 카복시기를 겸비하는 카본산 화합물 (b)로서는, 예를 들면, (메타)아크릴산류나 크로톤산, α-시아노신남산, 신남산, 혹은 포화 또는 불포화 2염기산과 불포화기 함유 모노글리시딜 화합물의 반응물 등을 들 수 있다. 상기에 있어서 (메타)아크릴산류로서는, 예를 들면 (메타)아크릴산, β-스티릴아크릴산, β-푸르푸릴아크릴산, (메타)아크릴산 2량체, 포화 또는 불포화 2염기산 무수물과 1분자 중에 1개의 수산기를 갖는 (메타)아크릴레이트 유도체와의 당몰 반응물인 반(半)에스테르류, 포화 또는 불포화 2염기산과 모노글리시딜(메타)아크릴레이트 유도체류의 당몰 반응물인 반에스테르류 등의 1분자 중에 카복시기를 1개 포함하는 모노카본산 화합물, 추가로 1분자 중에 복수의 수산기를 갖는 (메타)아크릴레이트 유도체와의 당몰 반응물인 반에스테르류, 포화 또는 불포화 2염기산과 복수의 에폭시기를 갖는 글리시딜(메타)아크릴레이트 유도체류의 당몰 반응물인 반에스테르류 등의 1분자 중에 카복시기를 복수 갖는 폴리카본산 화합물 등을 들 수 있다.Examples of the carbonic acid compound (b) having a polymerizable ethylenically unsaturated group and a carboxy group in one molecule include (meth) acrylic acid, crotonic acid,? -Cyanosinic acid, cinnamic acid or a saturated or unsaturated dibasic acid and unsaturated And a reaction product of a group-containing monoglycidyl compound. Examples of the (meth) acrylic acids in the above include (meth) acrylic acid,? -Styryl acrylic acid,? -Furfuryl acrylic acid, (meth) acrylic acid dimer, saturated or unsaturated dibasic acid anhydride, (Meth) acrylate derivatives having a hydroxyl group, and half-esters, which are reaction products of mono-glycidyl (meth) acrylate derivatives and saturated or unsaturated dibasic acids and monoglycidyl A monocarboxylic acid compound having one carboxyl group, and a half ester, which is a monohydric reactant with a (meth) acrylate derivative having a plurality of hydroxyl groups in a molecule, a glycidyl group having a saturated or unsaturated dibasic acid and a plurality of epoxy groups And polycarboxylic acid compounds having a plurality of carboxy groups in one molecule such as half esters, which are reaction products of monomers of (meth) acrylate derivatives.

이들 중, 에폭시 수지 (a)와 카본산 화합물 (b)의 반응의 안정성을 고려하면, 카본산 화합물 (b)로서는 모노카본산인 것이 바람직하고, 모노카본산과 폴리카본산을 병용하는 경우에서도, 모노카본산의 몰량/폴리카본산의 몰량으로 나타나는 값이 15 이상인 것이 바람직하다.Among them, in consideration of the stability of the reaction between the epoxy resin (a) and the carboxylic acid compound (b), the carboxylic acid compound (b) is preferably a monocarbonic acid, and even when monocarboxylic acid and polycarboxylic acid are used in combination, It is preferable that the value represented by molar amount of carboxylic acid / molar amount of polycarboxylic acid is 15 or more.

가장 바람직하게는, 활성 에너지선 경화형 수지 조성물로 했을 때의 감도의 점에서 (메타)아크릴산, (메타)아크릴산과 ε-카프로락톤의 반응 생성물 또는 신남산을 들 수 있다.Most preferred is a reaction product of (meth) acrylic acid, (meth) acrylic acid and? -Caprolactone or cinnamic acid from the viewpoint of sensitivity when the active energy ray-curable resin composition is used.

1분자 중에 1개 이상의 중합 가능한 에틸렌성 불포화기와 1개 이상의 카복시기를 겸비하는 화합물로서는, 화합물 중에 수산기를 갖지 않는 것이 바람직하다.As the compound having at least one polymerizable ethylenic unsaturated group and at least one carboxy group in one molecule, it is preferable that the compound does not have a hydroxyl group in the compound.

본 발명에 있어서 이용되는 1분자 중에 수산기와 카복시기를 겸비하는 화합물 (c)(이하, 간단히 「화합물 (c)」라고도 나타냄)는, 카복실레이트 화합물 중에 수산기를 도입하는 것을 목적으로 하여 반응시키는 것이다. 이들에는, 1분자 중에 1개의 수산기와 1개의 카복시기를 겸비하는 화합물, 1분자 중에 2개 이상의 수산기와 1개의 카복시기를 겸비하는 화합물, 1분자 중에 1개 이상의 수산기와 2개 이상의 카복시기를 겸비하는 화합물이 있다.The compound (c) (hereinafter also referred to simply as " compound (c) ") having both a hydroxyl group and a carboxy group in one molecule used in the present invention is reacted for the purpose of introducing a hydroxyl group into the carboxylate compound. These include a compound having one hydroxyl group and one carboxy group in one molecule, a compound having two or more hydroxyl groups and one carboxy group in one molecule, a compound having at least one hydroxyl group and at least two carboxy groups in one molecule .

1분자 중에 1개의 수산기와 1개의 카복시기를 겸비하는 화합물로서는, 예를 들면 하이드록시프로피온산, 하이드록시부탄산, 하이드록시스테아르산 등을 들 수 있다. 또한 1분자 중에 2개 이상의 수산기와 1개의 카복시기를 겸비하는 화합물로서는, 디메틸올아세트산, 디메틸올프로피온산, 디메틸올부탄산 등을 들 수 있다. 1분자 중에 1개 이상의 수산기와 2개 이상의 카복시기를 겸비하는 화합물로서는 하이드록시프탈산 등을 들 수 있다.Examples of the compound having one hydroxyl group and one carboxy group in one molecule include hydroxypropionic acid, hydroxybutanoic acid, and hydroxystearic acid. Examples of the compound having two or more hydroxyl groups and one carboxy group in a molecule include dimethylolacetic acid, dimethylolpropionic acid, and dimethylolbutanoic acid. Examples of the compound having at least one hydroxyl group and at least two carboxyl groups in a molecule include hydroxyphthalic acid and the like.

이들 중, 수산기는 1분자 중에 2개 이상 포함되는 것이, 본 발명의 효과를 고려하면 바람직하다. 또한, 카복시기는 1분자 중 1개인 것이 카복실레이트화 반응의 안정성을 고려하면 바람직하다. 가장 바람직하게는, 1분자 중에 2개의 수산기와 1개의 카복실기를 갖는 것이 바람직하다. 원재료의 입수를 고려하면, 디메틸올프로피온산과 디메틸올부탄산이 특히 적합하다.Among them, it is preferable that two or more hydroxyl groups are contained in one molecule in consideration of the effect of the present invention. The carboxy group is preferably one in one molecule in view of the stability of the carboxylation reaction. Most preferably, it has two hydroxyl groups and one carboxyl group in one molecule. Considering the availability of the raw materials, dimethylol propionic acid and dimethylol butanoic acid are particularly suitable.

1분자 중에 1개 이상의 수산기와 1개 이상의 카복시기를 겸비하는 화합물로서는, 화합물 중에 중합 가능한 에틸렌성 불포화기를 갖지 않는 것이 바람직하다.As the compound having at least one hydroxyl group and at least one carboxyl group in one molecule, it is preferable that the compound does not have a polymerizable ethylenic unsaturated group.

이 카복실레이트화 반응에 있어서의 에폭시 수지 (a)와 카본산 화합물 (b) 및 화합물 (c)의 투입 비율로서는, 용도에 따라서 적절히 변경되어야 하는 것이다. 즉, 모든 에폭시기를 카복실레이트화한 경우는, 미반응의 에폭시기가 잔존하지 않기 때문에, 반응성 에폭시카복실레이트 화합물 (d)로서의 보존 안정성은 높다. 이 경우는, 도입한 이중 결합에 의한 반응성만을 이용하게 된다.The charging ratio of the epoxy resin (a), the carboxylic acid compound (b) and the compound (c) in the carboxylation reaction should be appropriately changed depending on the application. That is, when all the epoxy groups are carboxylated, unreacted epoxy groups do not remain, so that the storage stability of the reactive epoxy carboxylate compound (d) is high. In this case, only the reactivity due to the introduced double bond is used.

한편, 카본산 화합물 (b) 및 화합물 (c)의 투입량을 감량하여 미반응의 잔존 에폭시기를 남김으로써, 도입한 불포화 결합에 의한 반응성과, 잔존하는 에폭시기에 의한 반응, 예를 들면 광 양이온 촉매에 의한 중합 반응이나 열 중합 반응을 복합적으로 이용하는 것도 가능하다. 그러나, 이 경우는 반응성 에폭시카복실레이트 화합물 (d)의 보존 및, 제조 조건의 검토에는 주의를 기울여야 한다.On the other hand, by reducing the amount of the carboxylic acid compound (b) and the amount of the compound (c) to leave an unreacted residual epoxy group, the reactivity by the introduced unsaturated bond and the reaction by the remaining epoxy group, It is also possible to use a combination of a polymerization reaction and a thermal polymerization reaction. In this case, however, attention should be paid to the preservation of the reactive epoxy carboxylate compound (d) and the examination of the production conditions.

에폭시기를 잔존시키지 않는 반응성 에폭시카복실레이트 화합물 (d)를 제조하는 경우, 카본산 화합물 (b) 및 화합물 (c)의 총계가, 에폭시 수지 (a) 1당량에 대하여 90∼120당량%인 것이 바람직하다. 이 범위이면 비교적 안정적인 조건에서의 제조가 가능하다. 이보다도 카본산 화합물의 투입량이 많은 경우에는, 과잉의 카본산 화합물 (b) 및 화합물 (c)가 잔존해 버리기 때문에 바람직하지 않다.It is preferable that the total amount of the carboxylic acid compound (b) and the compound (c) is 90 to 120 equivalent% based on 1 equivalent of the epoxy resin (a) when the reactive epoxy carboxylate compound (d) Do. Within this range, production under relatively stable conditions is possible. If the amount of the carbonic acid compound to be added is larger than this, the excess amount of the carboxylic acid compound (b) and the compound (c) remains undesirably.

또한, 에폭시기를 잔류시키는 경우에는, 카본산 화합물 (b) 및 화합물 (c)의 총계가, 에폭시 수지 (a) 1당량에 대하여 20∼90당량%인 것이 바람직하다. 이것의 범위를 일탈하는 경우에는, 복합 경화의 효과가 약해진다. 물론 이 경우는, 반응 중의 겔화나, 반응성 에폭시카복실레이트 화합물 (d)의 시간 경과에 따른 안정성에 대하여 충분한 주의가 필요하다.When the epoxy group is left to remain, the total amount of the carboxylic acid compound (b) and the compound (c) is preferably 20 to 90 equivalent% based on 1 equivalent of the epoxy resin (a). In the case of deviating from this range, the effect of complex curing is weakened. Of course, in this case, it is necessary to pay attention to the gelation during the reaction and the stability over time of the reactive epoxy carboxylate compound (d).

카복실레이트화 반응은, 무용제로 반응시키거나, 또는 용제로 희석하여 반응시킬 수도 있다. 여기에서 이용할 수 있는 용제로서는, 카복실레이트화 반응에 대하여 이너트 용제이면 특별히 한정은 없다.The carboxylation reaction may be carried out by reacting with a solvent or by diluting with a solvent. The solvent usable here is not particularly limited as long as it is an inert solvent for the carboxylation reaction.

바람직한 용제의 사용량은, 얻어지는 수지의 점도나 용도에 의해 적절히 조정되어야 하는 것이지만, 바람직하게는 고형분 함유율 90∼30질량%, 보다 바람직하게는 80∼50질량%가 되도록 사용된다.The preferred amount of the solvent to be used is to be appropriately adjusted depending on the viscosity and application of the resin to be obtained, but it is preferably used so that the solid content is 90 to 30 mass%, more preferably 80 to 50 mass%.

구체적으로 예시하면, 예를 들면 톨루엔, 자일렌, 에틸벤젠, 테트라메틸벤젠 등의 방향족계 탄화수소 용제, 헥산, 옥탄, 데칸 등의 지방족계 탄화수소 용제 및, 이들의 혼합물인 석유 에테르, 화이트 가솔린, 솔벤트 나프타 등, 에스테르계 용제, 에테르계 용제, 케톤계 용제 등을 들 수 있다.Specifically, for example, aromatic hydrocarbon solvents such as toluene, xylene, ethylbenzene and tetramethylbenzene, aliphatic hydrocarbon solvents such as hexane, octane and decane, and mixtures thereof, petroleum ether, white gasoline, Naphtha etc., ester solvents, ether solvents, ketone solvents and the like.

에스테르계 용제로서는, 아세트산 에틸, 아세트산 프로필, 아세트산 부틸 등의 알킬아세테이트류, γ-부티로락톤 등의 환상 에스테르류, 에틸렌글리콜모노메틸에테르아세테이트, 디에틸렌글리콜모노메틸에테르모노아세테이트, 디에틸렌글리콜모노에틸에테르모노아세테이트, 트리에틸렌글리콜모노에틸에테르모노아세테이트, 디에틸렌글리콜모노부틸에테르모노아세테이트, 프로필렌글리콜모노메틸에테르모노아세테이트, 부틸렌글리콜모노메틸에테르아세테이트 등의 모노, 또는 폴리알킬렌글리콜모노알킬에테르모노아세테이트류, 글루타르산 디알킬, 숙신산 디알킬, 아디프산 디알킬 등의 폴리카본산 알킬에스테르류 등을 들 수 있다.Examples of the ester solvent include alkyl acetates such as ethyl acetate, propyl acetate and butyl acetate, cyclic esters such as? -Butyrolactone, ethylene glycol monomethyl ether acetate, diethylene glycol monomethyl ether monoacetate, diethylene glycol mono Mono or polyalkylene glycol monoalkyl ethers such as ethyl ether monoacetate, triethylene glycol monoethyl ether monoacetate, diethylene glycol monobutyl ether monoacetate, propylene glycol monomethyl ether monoacetate and butylene glycol monomethyl ether acetate, Polycarboxylic acid alkyl esters such as monoacetates, dialkyl glutarates, dialkyl succinates, and dialkyl adipates; and the like.

에테르계 용제로서는, 디에틸에테르, 에틸부틸에테르 등의 알킬에테르류, 에틸렌글리콜디메틸에테르, 에틸렌글리콜디에틸에테르, 디프로필렌글리콜디메틸에테르, 디프로필렌글리콜디에틸에테르, 트리에틸렌글리콜디메틸에테르, 트리에틸렌글리콜디에틸에테르 등의 글리콜에테르류, 테트라하이드로푸란 등의 환상 에테르류 등을 들 수 있다.Examples of the ether solvent include alkyl ethers such as diethyl ether and ethyl butyl ether, ether solvents such as ethylene glycol dimethyl ether, ethylene glycol diethyl ether, dipropylene glycol dimethyl ether, dipropylene glycol diethyl ether, triethylene glycol dimethyl ether, Glycol ethers such as glycol diethyl ether, and cyclic ethers such as tetrahydrofuran.

케톤계 용제로서는, 아세톤, 메틸에틸케톤, 사이클로헥산온, 이소포론 등을 들 수 있다.Examples of the ketone solvent include acetone, methyl ethyl ketone, cyclohexanone, and isophorone.

이 외에도, 후술하는 반응성 폴리카본산 화합물 (A) 이외의 반응성 화합물 (B)(이하, 간단히 「반응성 화합물 (B)」라고도 나타냄) 등의 단독 또는 혼합 유기용제 중에서 행할 수 있다. 이 경우, 경화형 수지 조성물로서 사용한 경우에는, 직접 조성물로서 이용할 수 있기 때문에 바람직하다.In addition, it can be carried out alone or in a mixed organic solvent such as a reactive compound (B) other than the reactive polycarboxylic acid compound (A) to be described later (hereinafter also simply referred to as "reactive compound (B)"). In this case, when used as a curable resin composition, it is preferable because it can be directly used as a composition.

반응시에는, 반응을 촉진시키기 위해 촉매를 사용하는 것이 바람직하고, 당해 촉매의 사용량은, 반응물, 즉 에폭시 수지 (a), 카본산 화합물 (b) 및 화합물 (c) 및, 경우에 따라 용제 그 외를 더한 반응물의 총량 100질량부에 대하여 0.1∼10질량부이다. 그 때의 반응 온도는 60∼150℃이고, 또한 반응 시간은, 바람직하게는 5∼60시간이다. 사용할 수 있는 촉매의 구체예로서는, 예를 들면 트리에틸아민, 벤질디메틸아민, 트리에틸암모늄클로라이드, 벤질트리메틸암모늄브로마이드, 벤질트리메틸암모늄아이오다이드, 트리페닐포스핀, 트리페닐스티빈, 메틸트리페닐스티빈, 옥탄산 크롬, 옥탄산 지르코늄 등 기지 일반의 염기성 촉매 등을 들 수 있다.In the reaction, it is preferable to use a catalyst in order to accelerate the reaction, and the amount of the catalyst to be used can be appropriately selected depending on the reactants, namely, the epoxy resin (a), the carbonic acid compound (b) and the compound (c) Is added in an amount of 0.1 to 10 parts by mass based on 100 parts by mass of the total amount of reactants. The reaction temperature at that time is 60 to 150 占 폚, and the reaction time is preferably 5 to 60 hours. Specific examples of the catalyst that can be used include, for example, triethylamine, benzyldimethylamine, triethylammonium chloride, benzyltrimethylammonium bromide, benzyltrimethylammonium iodide, triphenylphosphine, triphenylstibine, Boron, chromium octanoate, and zirconium octanoate, and the like.

또한, 열 중합 금지제를 이용할 수도 있다. 열 중합 금지제로서, 하이드로퀴논모노메틸에테르, 2-메틸하이드로퀴논, 하이드로퀴논, 디페닐피크릴하이드라진, 디페닐아민, 3,5-디-tert-부틸-4하이드록시톨루엔 등을 사용하는 것이 바람직하다.A thermal polymerization inhibitor may also be used. As the thermal polymerization inhibitor, it is preferred to use hydroquinone monomethyl ether, 2-methylhydroquinone, hydroquinone, diphenyl picrylhydrazine, diphenylamine, 3,5-di-tert-butyl-4-hydroxytoluene desirable.

카복실레이트화 반응은, 적절히 샘플링하면서, 샘플의 산가가 5㎎KOH/g 이하, 바람직하게는 3㎎KOH/g 이하가 된 시점을 종점으로 한다.In the carboxylation reaction, the point of time at which the acid value of the sample becomes 5 mgKOH / g or less, preferably 3 mgKOH / g or less, is appropriately sampled.

이렇게 하여 얻어진 반응성 에폭시카복실레이트 화합물 (d)의 바람직한 분자량 범위로서는, GPC에 있어서의 폴리스티렌 환산 중량 평균 분자량이 1,000 내지 50,000의 범위이고, 보다 바람직하게는 2,000 내지 30,000이다.The preferable range of the molecular weight of the reactive epoxy carboxylate compound (d) thus obtained is in the range of 1,000 to 50,000, more preferably 2,000 to 30,000, in terms of polystyrene reduced weight average molecular weight in GPC.

상기 분자량보다도 작은 경우에는 경화물의 강인성이 충분히 발휘되지 않고, 또한 상기 분자량보다도 지나치게 큰 경우에는, 점도가 높아져 도공 등이 곤란해진다.When the molecular weight is smaller than the above-mentioned range, the hardness of the cured product is not sufficiently exhibited. When the molecular weight is too large, the viscosity becomes high and the coating becomes difficult.

다음으로, 산 부가 공정(이하, 간단히 「본 산 부가 반응」이라고도 함)에 대해서 상술한다. 산 부가 공정은, 전(前) 공정에 있어서 얻어진 반응성 에폭시카복실레이트 화합물 (d)에 필요에 따라서 카복시기를 도입하여, 반응성 폴리카본산 화합물 (A)를 얻는 것을 목적으로 하여 행해진다. 즉, 카복실레이트화 반응에 의해 발생한 수산기에, 상기식 (2) 또는 식 (3)으로 나타나는 다염기산 무수물 (e)(이하, 간단히 「다염기산 무수물 (e)」라고도 나타냄)를 부가 반응시킴으로써, 에스테르 결합을 통하여 카복시기를 도입한다.Next, the acid addition step (hereinafter, simply referred to as " present acid addition reaction ") will be described in detail. The acid addition step is carried out for the purpose of obtaining a reactive polycarboxylic acid compound (A) by introducing a carboxy group into the reactive epoxy carboxylate compound (d) obtained in the previous step, if necessary. That is, the addition reaction of the polybasic acid anhydride (e) (hereinafter also simply referred to as "polybasic acid anhydride (e)") represented by the formula (2) or the formula (3) to the hydroxyl group generated by the carboxylation reaction, To introduce a carboxy group.

상기식 (2) 중의 탄소수 1∼10의 알킬기로서는, 메틸기, 에틸기, 프로필기, 부틸기, 펜틸기, 헥실기, 헵틸기, 옥틸기, 노닐, 데실기를 들 수 있다. 상기식 (2) 중 R1은, 수소 원자, 메틸기가 바람직하다. The alkyl group having 1 to 10 carbon atoms in the formula (2) includes a methyl group, an ethyl group, a propyl group, a butyl group, a pentyl group, a hexyl group, a heptyl group, an octyl group, a nonyl group and a decyl group. In the formula (2), R 1 is preferably a hydrogen atom or a methyl group.

상기 다염기산 무수물 (e)로서, 하기식 (4)로 나타나는 화합물이 바람직하다.As the polybasic acid anhydride (e), a compound represented by the following formula (4) is preferable.

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상기 다염기산 무수물 (e)를 부가시키는 반응은, 상기 카복실레이트화 반응액에 다염기산 무수물 (e)를 더함으로써 행할 수 있다. 첨가량은 용도에 따라서 적절히 변경되어야 하는 것이다.The reaction of adding the polybasic acid anhydride (e) can be carried out by adding a polybasic acid anhydride (e) to the carboxylation reaction solution. The addition amount should be appropriately changed depending on the application.

상기 다염기산 무수물 (e)의 첨가량은 예를 들면, 본 발명의 반응성 폴리카본산 화합물 (A)를 알칼리 수용액 현상형의 레지스트 재료로서 이용하고자 하는 경우는, 다염기산 무수물 (e)를 최종적으로 얻어지는 반응성 폴리카본산 화합물 (A)의 고형분 산가(JISK5601-2-1:1999에 준거)가 바람직하게는 20∼120㎎·KOH/g이고, 보다 바람직하게는 30∼110㎎·KOH/g이 되는 계산값을 투입하는 것이 바람직하다. 이 때의 고형분 산가가 이 범위인 경우, 본 발명의 활성 에너지선 경화형 수지 조성물의 알칼리 수용액 현상성이 양호한 현상성을 나타낸다. 즉, 양호한 패터닝성과 과현상에 대한 관리폭도 넓고, 또한 과잉의 산 무수물이 잔류하는 일도 없다.When the reactive polycarboxylic acid compound (A) of the present invention is to be used as an alkali aqueous solution-developing type resist material, the amount of the polybasic acid anhydride (e) to be added may be selected, for example, by adding the polybasic acid anhydride (e) The calculated acid value (based on JIS K5601-2-1: 1999) of the carboxylic acid compound (A) is preferably 20 to 120 mgKOH / g, more preferably 30 to 110 mgKOH / g . When the acid value of the solid at this time is in this range, the developability of the aqueous alkali solution of the active energy ray-curable resin composition of the present invention is satisfactory. In other words, the patterning performance is good and the management of the phenomenon is wide, and the excess acid anhydride does not remain.

반응시에는, 반응을 촉진시키기 위해 촉매를 사용하는 것이 바람직하고, 당해 촉매의 사용량은, 반응물, 즉 에폭시 화합물 (a), 카본산 화합물 (b) 및 화합물 (c)로부터 얻어진 반응성 에폭시카복실레이트 화합물 (d) 및, 다염기산 무수물 (e), 경우에 따라 용제 그 외를 더한 반응물의 총량에 대하여 0.1∼10질량부이다. 그 때의 반응 온도는 60∼150℃이고, 또한 반응 시간은, 바람직하게는 5∼60시간이다. 사용할 수 있는 촉매의 구체예로서는, 예를 들면 트리에틸아민, 벤질디메틸아민, 트리에틸암모늄클로라이드, 벤질트리메틸암모늄브로마이드, 벤질트리메틸암모늄아이오다이드, 트리페닐포스핀, 트리페닐스티빈, 메틸트리페닐스티빈, 옥탄산 크롬, 옥탄산 지르코늄 등을 들 수 있다.In the reaction, it is preferable to use a catalyst in order to accelerate the reaction. The amount of the catalyst to be used is preferably in the range of 1 to 100 parts by weight per 100 parts by weight of the reactive epoxy carboxylate compound (a) obtained from the reaction product, that is, the epoxy compound (d) and the polybasic acid anhydride (e), and if necessary, the solvent and others. The reaction temperature at that time is 60 to 150 占 폚, and the reaction time is preferably 5 to 60 hours. Specific examples of the catalyst that can be used include, for example, triethylamine, benzyldimethylamine, triethylammonium chloride, benzyltrimethylammonium bromide, benzyltrimethylammonium iodide, triphenylphosphine, triphenylstibine, Boron, chromium octanoate, zirconium octanoate, and the like.

본 산 부가 반응은, 무용제로 반응하거나, 혹은 용제로 희석하여 반응시킬 수도 있다. 여기에서 이용할 수 있는 용제로서는, 산 부가 반응에 대하여 이너트 용제이면 특별히 한정은 없다. 또한, 전 공정인 카복실레이트화 반응으로 용제를 이용하여 제조한 경우에는, 그 양(兩) 반응에 이너트인 것을 조건으로, 용제를 제거하는 일 없이 직접 다음 공정인 산 부가 반응에 제공할 수도 있다. 이용할 수 있는 용제는 카복실레이트화 반응에서 이용할 수 있는 것과 동일한 것이면 좋다.The acid addition reaction may be carried out by reacting with a solvent or by diluting with a solvent. The solvent usable here is not particularly limited as far as the acid addition reaction is an inert solvent. In the case where a solvent is used for the carboxylation reaction in the previous step, the solvent may be directly added to the acid addition reaction in the subsequent step without removing the solvent, provided that the reaction is inert to both of the two reactions . The solvent which can be used is the same as that which can be used in the carboxylation reaction.

바람직한 용제의 사용량은, 얻어지는 수지의 점도나 용도에 따라 적절히 조정되어야 하는 것이지만, 바람직하게는 고형분 함유율 90∼30질량%, 보다 바람직하게는 80∼50질량%가 되도록 이용된다.The preferred amount of the solvent to be used is to be appropriately adjusted according to the viscosity and application of the resin to be obtained, but is preferably such that the solid content is 90 to 30 mass%, more preferably 80 to 50 mass%.

이 외에도, 상기 반응성 화합물 (B) 등의 단독 또는 혼합 유기 용제 중에서 행할 수 있다. 이 경우, 경화형 수지 조성물로서 사용한 경우에는, 직접 조성물로서 이용할 수 있기 때문에 바람직하다.In addition, it can be carried out alone or in a mixed organic solvent such as the above-mentioned reactive compound (B). In this case, when used as a curable resin composition, it is preferable because it can be directly used as a composition.

또한, 열 중합 금지제 등은, 상기 카복실레이트화 반응에 있어서의 예시와 동일한 것을 사용하는 것이 바람직하다.The thermal polymerization inhibitor and the like are preferably the same as those exemplified in the above carboxylation reaction.

본 산 부가 반응은, 적절히 샘플링하면서, 반응물의 산가가, 설정한 산가의 플러스마이너스 10%의 범위가 된 점을 종점으로 한다.In the present acid addition reaction, the point where the acid value of the reactant is in the range of plus or minus 10% of the set acid value while appropriately sampling is regarded as the end point.

이렇게 하여 얻어진 반응성 폴리카본산 화합물 (A)의 바람직한 분자량 범위로서는, GPC에 있어서의 폴리스티렌 환산 중량 평균 분자량이 500 내지 50,000의 범위이고, 보다 바람직하게는 1,000 내지 30,000이고, 특히 바람직하게는 1000∼10000이다.The preferred molecular weight range of the reactive polycarboxylic acid compound (A) thus obtained is in the range of 500 to 50,000, more preferably 1,000 to 30,000, and particularly preferably 1000 to 10000 in terms of polystyrene reduced weight average molecular weight in GPC to be.

상기 분자량보다도 작은 경우에는 경화물의 강인성이 충분히 발휘되지 않고, 또한 상기 분자량보다도 지나치게 큰 경우에는, 점도가 높아져 도공 등이 곤란해진다.When the molecular weight is smaller than the above-mentioned range, the hardness of the cured product is not sufficiently exhibited. When the molecular weight is too large, the viscosity becomes high and the coating becomes difficult.

본 발명에 있어서 사용할 수 있는 반응성 화합물 (B)의 구체예로서는, 라디칼 반응형의 아크릴레이트류, 양이온 반응형의 그 외 에폭시 화합물류, 그의 쌍방에 감응하는 비닐 화합물류 등의 소위 반응성 올리고머류를 들 수 있다.Specific examples of the reactive compound (B) that can be used in the invention include so-called reactive oligomers such as radical reaction type acrylates, cationic reaction type other epoxy compounds, and vinyl compounds which are responsive to both .

사용할 수 있는 아크릴레이트류로서는, 단관능 (메타)아크릴레이트류, 다관능 (메타)아크릴레이트류, 그 외 에폭시아크릴레이트, 폴리에스테르아크릴레이트, 우레탄아크릴레이트 등을 들 수 있다.Examples of the acrylates that can be used include monofunctional (meth) acrylates, polyfunctional (meth) acrylates, other epoxy acrylates, polyester acrylates, and urethane acrylates.

단관능 (메타)아크릴레이트류로서는, 메틸(메타)아크릴레이트, 에틸(메타)아크릴레이트, 부틸(메타)아크릴레이트, 라우릴(메타)아크릴레이트, 폴리에틸렌글리콜(메타)아크릴레이트, 폴리에틸렌글리콜(메타)아크릴레이트모노메틸에테르, 페닐에틸(메타)아크릴레이트, 이소보닐(메타)아크릴레이트, 사이클로헥실(메타)아크릴레이트, 벤질(메타)아크릴레이트, 테트라하이드로푸르푸릴(메타)아크릴레이트 등을 들 수 있다.Examples of monofunctional (meth) acrylates include methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, butyl (meth) acrylate, lauryl (meth) acrylate, polyethylene glycol (meth) acrylate, polyethylene glycol (Meth) acrylate, benzyl (meth) acrylate, tetrahydrofurfuryl (meth) acrylate, and the like can be used. .

다관능 (메타)아크릴레이트류로서는, 부탄디올디(메타)아크릴레이트, 헥산디올디(메타)아크릴레이트, 네오펜틸글리콜디(메타)아크릴레이트, 노난디올디(메타)아크릴레이트, 에틸렌글리콜디(메타)아크릴레이트, 디에틸렌디(메타)아크릴레이트, 폴리에틸렌글리콜디(메타)아크릴레이트, 트리스(메타)아크릴로일옥시에틸이소시아누레이트, 폴리프로필렌글리콜디(메타)아크릴레이트, 아디프산 에폭시디(메타)아크릴레이트, 비스페놀에틸렌옥사이드디(메타)아크릴레이트, 수소화 비스페놀에틸렌옥사이드디(메타)아크릴레이트, 비스페놀디(메타)아크릴레이트, 하이드록시비발산 네오펜 글리콜의 ε-카프로락톤 부가물의 디(메타)아크릴레이트, 디펜타에리트리톨과 ε-카프로락톤의 반응물인 폴리(메타)아크릴레이트, 디펜타에리트리톨폴리(메타)아크릴레이트, 트리메틸올프로판트리(메타)아크릴레이트, 트리에틸올프로판트리(메타)아크릴레이트 및, 그의 에틸렌옥사이드 부가물, 펜타에리트리톨트리(메타)아크릴레이트 및, 그의 에틸렌옥사이드 부가물, 펜타에리트리톨테트라(메타)아크릴레이트 및, 그의 에틸렌옥사이드 부가물, 디펜타에리트리톨헥사(메타)아크릴레이트 및, 그의 에틸렌옥사이드 부가물 등을 들 수 있다.Examples of polyfunctional (meth) acrylates include butanediol di (meth) acrylate, hexanediol di (meth) acrylate, neopentyl glycol di (meth) acrylate, nonanediol di (meth) acrylate, ethylene glycol di (Meth) acrylate, diethylenedi (meth) acrylate, polyethylene glycol di (meth) acrylate, tris (meth) acryloyloxyethyl isocyanurate, polypropylene glycol di (Meth) acrylate of bisphenol ethylene oxide di (meth) acrylate, hydrogenated bisphenol ethylene oxide di (meth) acrylate, bisphenol di (meth) acrylate, hydroxy bivalent neoprene glycol (Meth) acrylate, dipentaerythritol poly (meth) acrylate, dipentaerythritol poly (meth) acrylate, dipentaerythritol poly Trimethylolpropane tri (meth) acrylate, triethylolpropane tri (meth) acrylate and its ethylene oxide adduct, pentaerythritol tri (meth) acrylate and its ethylene oxide adduct, pentaerythritol Tetra (meth) acrylate and ethylene oxide adduct thereof, dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, and ethylene oxide adduct thereof.

사용할 수 있는 비닐 화합물류로서는 비닐에테르류, 스티렌류, 그 외 비닐 화합물을 들 수 있다. 비닐에테르류로서는, 에틸비닐에테르, 프로필비닐에테르, 하이드록시에틸비닐에테르, 에틸렌글리콜디비닐에테르 등을 들 수 있다. 스티렌류로서는, 스티렌, 메틸스티렌, 에틸스티렌 등을 들 수 있다. 그 외 비닐 화합물로서는 트리알릴이소시아누레이트, 트리메타알릴이소시아누레이트 등을 들 수 있다.Examples of vinyl compounds that can be used include vinyl ethers, styrenes, and other vinyl compounds. Examples of the vinyl ethers include ethyl vinyl ether, propyl vinyl ether, hydroxyethyl vinyl ether, and ethylene glycol divinyl ether. Examples of the styrene include styrene, methylstyrene, and ethylstyrene. Other examples of the vinyl compound include triallyl isocyanurate and trimethallyl isocyanurate.

또한, 소위 반응성 올리고머류로서는, 활성 에너지선에 감응 가능한 관능기와 우레탄 결합을 동일 분자 내에 겸비하는 우레탄 아크릴레이트, 마찬가지로 활성 에너지선에 감응 가능한 관능기와 에스테르 결합을 동일 분자 내에 겸비하는 폴리에스테르아크릴레이트, 그 외 에폭시 수지로부터 유도되고, 활성 에너지선에 감응 가능한 관능기를 동일 분자 내에 겸비하는 에폭시아크릴레이트, 이들의 결합이 복합적으로 이용되고 있는 반응성 올리고머 등을 들 수 있다.Examples of the so-called reactive oligomers include urethane acrylate having a functional group sensitive to an active energy ray and a urethane bond in the same molecule, a polyester acrylate having a functional group sensitive to an active energy ray and an ester bond in the same molecule, Epoxy acrylate derived from an epoxy resin and having a functional group capable of reacting with an active energy ray in the same molecule, and reactive oligomers in which a combination of these is used.

또한, 양이온 반응형 단량체로서는, 일반적으로 에폭시기를 갖는 화합물이면 특별히 한정은 없다. 예를 들면, 글리시딜(메타)아크릴레이트, 메틸글리시딜에테르, 에틸글리시딜에테르, 부틸글리시딜에테르, 비스페놀 A 디글리시딜에테르, 3,4-에폭시사이클로헥실메틸-3,4-에폭시사이클로헥산카복실레이트(유니온·카바이드사제조 「사일러큐어 UVR-6110」 등), 3,4-에폭시사이클로헥실에틸-3,4-에폭시사이클로헥산카복실레이트, 비닐사이클로헥센디옥사이드(유니온·카바이드사 제조 「ELR-4206」 등), 리모넨디옥사이드(다이셀카가쿠코교사 제조 「셀록사이드 3000」 등), 알릴사이클로헥센디옥사이드, 3,4-에폭시-4-메틸사이클로헥실-2-프로필렌옥사이드, 2-(3,4-에폭시사이클로헥실-5,5-스피로-3,4-에폭시)사이클로헥산-m-디옥산, 비스(3,4-에폭시사이클로헥실)아디페이트(유니온·카바이드사 제조 「사일러큐어 UVR-6128」 등), 비스(3,4-에폭시사이클로헥실메틸)아디페이트, 비스(3,4-에폭시사이클로헥실)에테르, 비스(3,4-에폭시사이클로헥실메틸)에테르, 비스(3,4-에폭시사이클로헥실)디에틸실록산 등을 들 수 있다.The cationic reaction type monomer is not particularly limited as long as it is a compound having an epoxy group in general. For example, glycidyl (meth) acrylate, methyl glycidyl ether, ethyl glycidyl ether, butyl glycidyl ether, bisphenol A diglycidyl ether, 3,4-epoxycyclohexylmethyl- 4-epoxycyclohexane carboxylate (manufactured by Union Carbide Co., Ltd., "Sylucker UVR-6110" and the like), 3,4-epoxycyclohexylethyl-3,4-epoxycyclohexanecarboxylate, vinylcyclohexene dioxide 4-methylcyclohexyl-2-propylene oxide, 2-ethylhexyl-2-propylene oxide, etc.), limonene dioxide ("Cellxide 3000" manufactured by Daicel Chemical Industries, Ltd.) - (3,4-epoxycyclohexyl-5,5-spiro-3,4-epoxy) cyclohexane-m-dioxane, bis (3,4-epoxycyclohexyl) adipate Cure UVR-6128 "), bis (3,4-epoxycyclohexylmethyl) adi Bis (3,4-epoxycyclohexyl) ether, bis (3,4-epoxycyclohexyl) diethylsiloxane, and the like.

이들 중, 반응성 화합물 (B)로서는, 라디칼 경화형인 아크릴레이트류가 가장 바람직하다. 양이온형의 경우, 카본산과 에폭시기가 반응해버리기 때문에 2액 혼합형으로 할 필요가 생긴다.Of these, the reactive compound (B) is most preferably a radical-curing acrylate. In the case of the cationic type, since the carbonic acid reacts with the epoxy group, it is necessary to prepare a two-liquid mixture type.

본 발명의 반응성 폴리카본산 화합물 (A)와, 그 외의 반응성 화합물 (B)를 혼합시켜 본 발명의 활성 에너지선 경화형 수지 조성물을 얻을 수 있다. 이 때, 용도에 따라서 적절히 그 외의 성분을 더해도 좋다.The active energy ray-curable resin composition of the present invention can be obtained by mixing the reactive polycarboxylic acid compound (A) of the present invention with the other reactive compound (B). At this time, other components may be appropriately added depending on the application.

본 발명의 활성 에너지선 경화형 수지 조성물은, 조성물 중에 반응성 폴리카본산 화합물 (A)를 97∼5질량부, 바람직하게는 87∼10질량부, 그 외 반응성 화합물 (B) 3∼95질량부, 더욱 바람직하게는 3∼90질량부를 포함한다. 필요에 따라서 그 외의 성분을 0∼80질량부 포함하고 있어도 좋다.The active energy ray-curable resin composition of the present invention contains 97 to 5 mass parts, preferably 87 to 10 mass parts, of the reactive polycarboxylic acid compound (A) in the composition, 3 to 95 mass parts of the reactive compound (B) More preferably 3 to 90 parts by mass. If necessary, other components may be contained in an amount of 0 to 80 parts by mass.

이 외, 본 발명의 활성 에너지선 경화형 수지 조성물을 각종 용도에 적합시키는 목적으로, 조성물 중에 70중량부를 상한으로 그 외의 성분을 더할 수도 있다. 그 외의 성분으로서는 광 중합 개시제, 그 외의 첨가제, 착색 재료, 경화 촉진제, 또한 도공 적성 부여 등을 목적으로 점도 조정을 위해 첨가되는 휘발성 용제 등을 들 수 있다. 하기에 사용할 수 있는 그 외의 성분을 예시한다.In addition, for the purpose of making the active energy ray-curable resin composition of the present invention suitable for various uses, other components may be added to the composition at an upper limit of 70 parts by weight. Examples of the other components include a photopolymerization initiator, other additives, a coloring material, a curing accelerator, and a volatile solvent added for adjusting viscosity for the purpose of imparting coating properties. Other components that can be used are illustrated below.

본 발명의 활성 에너지선 경화형 수지 조성물은, 추가로 광 중합 개시제를 포함할 수 있다. 광 중합 개시제로서는 라디칼형 광 중합 개시제, 양이온계 광 중합 개시제가 바람직하다.The active energy ray-curable resin composition of the present invention may further contain a photopolymerization initiator. As the photopolymerization initiator, a radical photopolymerization initiator and a cationic photopolymerization initiator are preferable.

라디칼형 광 중합 개시제로서는, 예를 들면 벤조인, 벤조인메틸에테르, 벤조인에틸에테르, 벤조인프로필에테르, 벤조인이소부틸에테르 등의 벤조인류; 아세토페논, 2,2-디에톡시-2-페닐아세토페논, 1,1-디클로로아세토페논, 2-하이드록시-2-메틸-페닐프로판-1-온, 디에톡시아세토페논, 1-하이드록시사이클로헥실페닐케톤, 2-메틸-1-[4-(메틸티오)페닐]-2-모르폴리노-프로판-1-온 등의 아세토페논류; 2-에틸안트라퀴논, 2-t-부틸안트라퀴논, 2-클로로안트라퀴논, 2-아밀안트라퀴논 등의 안트라퀴논류; 2,4-디에틸티옥산톤, 2-이소프로필티옥산톤, 2-클로로티옥산톤 등의 티옥산톤류; 아세토페논디메틸케탈, 벤질디메틸케탈 등의 케탈류; 벤조페논, 4-벤조일-4'-메틸디페닐술파이드, 4,4'-비스메틸아미노벤조페논 등의 벤조페논류; 2,4,6-트리메틸벤조일디페닐포스핀옥사이드, 비스(2,4,6-트리메틸벤조일)-페닐포스핀옥사이드 등의 포스핀옥사이드류 등의 공지 일반의 라디칼형 광 중합 개시제를 들 수 있다.Examples of the radical type photopolymerization initiator include benzoins such as benzoin, benzoin methyl ether, benzoin ethyl ether, benzoin propyl ether and benzoin isobutyl ether; Acetophenone, 2,2-diethoxy-2-phenylacetophenone, 1,1-dichloroacetophenone, 2-hydroxy-2-methyl-phenylpropan-1-one, diethoxyacetophenone, 1- Acetophenones such as hexyl phenyl ketone and 2-methyl-1- [4- (methylthio) phenyl] -2-morpholino-propan-1-one; Anthraquinones such as 2-ethyl anthraquinone, 2-t-butyl anthraquinone, 2-chloro anthraquinone, and 2-amylanthraquinone; Thioxanthones such as 2,4-diethylthioxanthone, 2-isopropylthioxanthone and 2-chlorothioxanthone; Ketal such as acetophenone dimethyl ketal and benzyl dimethyl ketal; Benzophenones such as benzophenone, 4-benzoyl-4'-methyldiphenyl sulfide and 4,4'-bismethylaminobenzophenone; And 2,4,6-trimethylbenzoyldiphenylphosphine oxide, and phosphine oxides such as bis (2,4,6-trimethylbenzoyl) -phenylphosphine oxide; and the like. .

또한, 양이온계 광 중합 개시제로서는, 루이스산의 디아조늄염, 루이스산의 요오도늄염, 루이스산의 술포늄염, 루이스산의 포스포늄염, 그 외의 할로겐화물, 트리아진계 개시제, 보레이트계 개시제 및 그 외의 광 산 발생제 등을 들 수 있다.Examples of the cationic photopolymerization initiator include diazonium salts of Lewis acids, iodonium salts of Lewis acids, sulfonium salts of Lewis acids, phosphonium salts of Lewis acids, other halides, triazine initiators, And photoacid generators other than these.

루이스산의 디아조늄염으로서는, p-메톡시페닐디아조늄플루오로포스포네이트, N,N-디에틸아미노페닐디아조늄헥사플루오로포스포네이트(산신카가쿠코교사 제조 산에이드 SI-60L/SI-80L/SI-100L 등) 등을 들 수 있고, 루이스산의 요오도늄염으로서는, 디페닐요오도늄헥사플루오로포스포네이트, 디페닐요오도늄헥사플루오로안티모네이트 등을 들 수 있고, 루이스산의 술포늄염으로서는, 트리페닐술포늄헥사플루오로포스포네이트(Union Carbide사 제조 Cyracure UVI-6990 등), 트리페닐술포늄헥사플루오로안티모네이트(Union Carbide사 제조 Cyracure UVI-6974 등) 등을 들 수 있고, 루이스산의 포스포늄염으로서는, 트리페닐포스포늄헥사플루오로안티모네이트 등을 들 수 있다.Examples of the diazonium salt of Lewis acid include p-methoxyphenyldiazonium fluorophosphonate, N, N-diethylaminophenyldiazonium hexafluorophosphate (manufactured by Sanskagakuko Co., Ltd., Adid SI-60L / SI-80L / SI-100L, etc.). Examples of the iodonium salt of Lewis acid include diphenyliodonium hexafluorophosphate, diphenyliodonium hexafluoroantimonate, and the like. (Cyracure UVI-6990 manufactured by Union Carbide Co., Ltd.), triphenylsulfonium hexafluoroantimonate (Cyracure UVI-6974 manufactured by Union Carbide Co., Ltd.) as the sulfonium salt of Lewis acid, triphenylsulfonium hexafluorophosphate And the like), and examples of the phosphonium salt of Lewis acid include triphenylphosphonium hexafluoroantimonate and the like.

그 외의 할로겐화물로서는, 2,2,2-트리클로로-[1-4'-(디메틸에틸)페닐]에탄온(AKZO사 제조 Trigonal PI 등), 2,2-디클로로-1-4-(페녹시페닐)에탄온(Sandoz사 제조 Sandray 1000 등), α,α,α-트리브로모메틸페닐술폰(세이테츠카가쿠사 제조 BMPS 등) 등을 들 수 있다. 트리아진계 개시제로서는, 2,4,6-트리스(트리클로로메틸)-트리아진, 2,4-트리클로로메틸-(4'-메톡시페닐)-6-트리아진(Panchim사 제조 Triazine A 등), 2,4-트리클로로메틸-(4'-메톡시스티릴)-6-트리아진(Panchim사 제조 Triazine PMS 등), 2,4-트리클로로메틸-(피프로닐)-6-트리아진(Panchim사 제조 Triazine PP 등), 2,4-트리클로로메틸-(4'-메톡시나프틸)-6-트리아진(Panchim사 제조 Triazine B 등), 2[2'(5-메틸푸릴)에틸리덴]-4,6-비스(트리클로로메틸)-s-트리아진(산와케미컬사 제조 등), 2(2'-푸릴에틸리덴)-4,6-비스(트리클로로메틸)-s-트리아진(산와케미컬사 제조) 등을 들 수 있다.Other halides include 2,2,2-trichloro- [1-4 '- (dimethylethyl) phenyl] ethanone (such as Trigonal PI manufactured by AKZO), 2,2-dichloro- (Sandray 1000 manufactured by Sandoz Co., Ltd.) and α, α, α-tribromomethylphenyl sulfone (BMPS manufactured by Seitetsukagaku Co., Ltd.). Examples of the triazine initiator include 2,4,6-tris (trichloromethyl) -triazine, 2,4-trichloromethyl- (4'-methoxyphenyl) -6-triazine (Triazine A, (2,4-trichloromethyl- (4'-methoxystyryl) -6-triazine (Triazine PMS manufactured by Panchim Co., (Triazine B manufactured by Panchim Corp.), 2 [2 '(5-methylfuryl) -6-triazine (Trichloromethyl) -s-triazine (manufactured by Sanwa Chemical Co., Ltd.), 2 (2'-furylethylidene) -4,6-bis (trichloromethyl) -s -Triazine (manufactured by Sanwa Chemical Co., Ltd.) and the like.

보레이트계 광 중합 개시제로서는, 일본 감광 색소 제조 NK-3876 및 NK-3881 등을 들 수 있고, 그 외의 광 산 발생제 등으로서는, 9-페닐아크리딘, 2,2'-비스(o-클로로페닐)-4,4',5,5'-테트라페닐-1,2-비이미다졸(쿠로가네카세이사 제조 비이미다졸 등), 2,2-아조비스(2-아미노-프로판)디하이드로클로라이드(와코준야쿠사 제조 V50 등), 2,2-아조비스[2-(이미다졸린-2일)프로판]디하이드로클로라이드(와코준야쿠사 제조 VA044 등), [에타-5-2-4-(사이클로펜타데실)(1,2,3,4,5,6,에타)-(메틸에틸)-벤젠] 철(Ⅱ) 헥사플루오로포스포네이트(CibaGeigy사 제조 Irgacure 261 등), 비스(y5-사이클로펜타디에닐)비스[2,6-디플루오로-3-(1H-피리-1-일)페닐]티타늄(CibaGeigy사 제조 CGI-784 등) 등을 들 수 있다.Examples of the photo acid generator include 9-phenylacridine, 2,2'-bis (o-chloro (meth) acryloyloxy) Phenyl) -4,4 ', 5,5'-tetraphenyl-1,2-biimidazole (such as imidazole from Kurogane Kasei), 2,2-azobis (2-amino-propane) dihydrochloride (V50 manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd. and the like), 2,2-azobis [2- (imidazoline-2-yl) propane] dihydrochloride (VA044 manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Hexyl fluorophosphonate (such as Irgacure 261 manufactured by Ciba Geigy), bis (y5-xylylene), bis (cyclopentadecyl) (1,2,3,4,5,6, (Cyclopentadienyl) bis [2,6-difluoro-3- (1H-pyryl-1-yl) phenyl] titanium (CGI-784 manufactured by Ciba Geigy).

이 외, 아조비스이소부티로니트릴 등의 아조계 개시제, 과산화 벤조일 등의 열에 감응하는 과산화물계 라디칼형 개시제 등을 함께 이용해도 좋다. 또한, 라디칼계와 양이온계의 쌍방의 광 중합 개시제를 함께 이용해도 좋다. 광 중합 개시제는, 1종류를 단독으로 이용할 수도 있고, 2종류 이상을 함께 이용할 수도 있다.In addition, an azo-based initiator such as azobisisobutyronitrile and a peroxide-based radical-type initiator that responds to heat such as benzoyl peroxide may be used together. Further, both of a radical-type and a cation-type photo-polymerization initiator may be used together. One type of photopolymerization initiator may be used alone, or two or more types may be used together.

이들 중, 본 발명의 반응성 폴리카본산 화합물 (A)의 특성을 고려하면, 라디칼형 광 중합 개시제가 특히 바람직하다.Among them, a radical type photopolymerization initiator is particularly preferable in view of the characteristics of the reactive polycarboxylic acid compound (A) of the present invention.

또한, 본 발명의 활성 에너지선 경화형 수지 조성물은, 착색 안료를 포함할 수 있다. 착색 안료로서는 예를 들면, 착색을 목적으로 하지 않는 것, 소위 체질 안료를 이용할 수도 있다. 예를 들면, 탤크, 황산 바륨, 탄산 칼슘, 탄산 마그네슘, 티탄산 바륨, 수산화 알루미늄, 실리카, 클레이 등을 들 수 있다.In addition, the active energy ray-curable resin composition of the present invention may contain a coloring pigment. As the coloring pigment, for example, those not intended for coloring, so-called extender pigments may be used. Examples thereof include talc, barium sulfate, calcium carbonate, magnesium carbonate, barium titanate, aluminum hydroxide, silica, and clay.

또한, 본 발명의 활성 에너지선 경화형 수지 조성물은, 필요에 따라서, 그 외의 첨가제를 포함할 수 있다. 그 외의 첨가제로서는, 예를 들면 멜라민 등의 열경화 촉매, 에어로실 등의 틱소트로피 부여제, 실리콘계, 불소계의 레벨링제나 소포제, 하이드로퀴논, 하이드로퀴논모노메틸에테르 등의 중합 금지제, 안정제, 산화 방지제 등을 사용할 수 있다.In addition, the active energy ray-curable resin composition of the present invention may contain other additives as required. Examples of other additives include thermosetting catalysts such as melamine, thixotropic agents such as aerosil, polymerization inhibitors such as silicones, fluorine leveling agents and defoaming agents, hydroquinone and hydroquinone monomethyl ether, stabilizers, antioxidants Etc. may be used.

이 외에 활성 에너지선에 반응성을 나타내지 않는 수지류(소위 이너트 폴리머)로서, 예를 들면 그 외의 에폭시 수지, 페놀 수지, 우레탄 수지, 폴리에스테르 수지, 케톤포름알데히드 수지, 크레졸 수지, 자일렌 수지, 디알릴프탈레이트 수지, 스티렌 수지, 구아나민 수지, 천연 및 합성 고무, 아크릴 수지, 폴리올레핀 수지 및, 이들의 변성물을 이용할 수도 있다. 이들은 수지 조성물 중에 40질량부까지의 범위에 있어서 이용하는 것이 바람직하다.In addition, as a resin stream (so-called inner polymer) which does not show reactivity with an active energy ray, for example, other epoxy resin, phenol resin, urethane resin, polyester resin, ketone formaldehyde resin, cresol resin, Diallyl phthalate resins, styrene resins, guanamine resins, natural and synthetic rubbers, acrylic resins, polyolefin resins, and modified products thereof. These are preferably used in a range of up to 40 parts by mass in the resin composition.

특히, 솔더 레지스트 용도에 반응성 폴리카본산 화합물 (A)를 이용하고자 하는 경우에는, 활성 에너지선에 반응성을 나타내지 않는 수지류로서 공지 일반의 에폭시 수지를 이용하는 것이 바람직하다. 이것은 활성 에너지선에 의해 반응, 경화시킨 후도 반응성 폴리카본산 화합물 (A)에 유래하는 카복시기가 잔류해 버려, 결과적으로 그의 경화물은 내수성이나 가수 분해성이 뒤떨어져 버린다. 따라서, 에폭시 수지를 이용함으로써 잔류하는 카복실기를 추가로 카복실레이트화하여, 더욱 강고한 가교 구조를 형성시킨다. 당해 공지 일반의 에폭시 수지는, 상기 양이온 반응형 단량체를 이용할 수 있다.Particularly, when a reactive polycarboxylic acid compound (A) is to be used for the solder resist, it is preferable to use a known general epoxy resin as a resin which does not show reactivity with an active energy ray. This is because the carboxyl groups derived from the reactive polycarboxylic acid compound (A) remain after reaction and curing by the active energy ray, and as a result, the cured product of the reactive polycarboxylic acid compound (A) is inferior in water resistance and hydrolysis. Therefore, by using an epoxy resin, the remaining carboxyl groups are further carboxylated to form a stronger crosslinked structure. The cationic reaction type monomer may be used in the epoxy resin of the general public.

또한 사용 목적에 따라서, 점도를 조정하는 목적으로, 수지 조성물 중에 50질량부, 더욱 바람직하게는 35질량부까지의 범위에 있어서 휘발성 용제를 첨가할 수도 있다.For the purpose of adjusting the viscosity, a volatile solvent may be added to the resin composition in a range of up to 50 parts by mass, more preferably up to 35 parts by mass, depending on the purpose of use.

본 발명의 활성 에너지선 경화형 수지 조성물은 활성 에너지선에 의해 용이하게 경화한다. 여기에서 활성 에너지선의 구체예로서는, 자외선, 가시광선, 적외선, X선, 감마선, 레이저 광선 등의 전자파, 알파선, 베타선, 전자선 등의 입자선 등을 들 수 있다. 본 발명의 적합한 용도를 고려하면, 이들 중, 자외선, 레이저 광선, 가시광선, 또는 전자선이 바람직하다.The active energy ray-curable resin composition of the present invention is easily cured by an active energy ray. Specific examples of the active energy ray include electromagnetic waves such as ultraviolet rays, visible rays, infrared rays, X-rays, gamma rays and laser beams, particle beams such as alpha rays, beta rays and electron rays. Of these, ultraviolet rays, laser beams, visible rays, or electron beams are preferable in view of the suitable use of the present invention.

본 발명에 있어서 성형용 재료란, 미경화의 조성물을 틀에 넣어, 또는 틀을 밀어붙여, 물체를 성형한 후, 활성 에너지선에 의해 경화 반응을 일으키게 하여 성형시키는 것, 또는 미경화의 조성물에 레이저 등의 초점광 등을 조사하여, 경화 반응을 일으키게 하여 성형시키는 용도에 이용되는 재료를 가리킨다.The molding material used in the present invention refers to a molding material obtained by molding an uncured composition in a mold or pushing the mold to form an object and then causing the material to undergo a curing reaction with an active energy ray, Refers to a material that is used in applications in which focal light such as a laser is irradiated to cause a curing reaction to be molded.

구체적인 용도로서는, 평면 형상으로 성형한 시트, 소자를 보호하기 위한 봉지재, 미경화의 조성물에 미세 가공된 「틀」을 눌러대어 미세한 성형을 행하는, 소위 나노임프린트 재료, 나아가서는 특히 열적인 요구가 엄격한 발광 다이오드, 광전 변환 소자 등의 주변 봉지 재료 등을 적합한 용도로서 들 수 있다.Specific examples of applications include a sheet formed into a planar shape, a sealing material for protecting the element, a so-called nanoimprint material in which fine molding is performed by pressing a "frame" micro-machined to an uncured composition, Rigid light emitting diodes, peripheral encapsulation materials such as photoelectric conversion elements, and the like are suitable applications.

본 발명에 있어서 피막 형성용 재료란, 기재 표면을 피복하는 것을 목적으로 하여 이용되는 것이다. 구체적인 용도로서는, 그라비아 잉크, 플렉소 잉크, 실크 스크린 잉크, 오프셋 잉크 등의 잉크 재료, 하드 코팅, 탑 코팅, 오버 프린트 니스, 클리어 코팅 등의 도공 재료, 래미네이트용, 광 디스크용 외 각종 접착제, 점착제 등의 접착 재료, 솔더 레지스트, 에칭 레지스트, 마이크로 머신용 레지스트 등의 레지스트 재료 등이 이에 해당한다. 나아가서는, 피막 형성용 재료를 일시적으로 박리성 기재에 도공하여 필름화한 후, 본래 목적으로 하는 기재에 접착하여 피막을 성형시키는, 소위 드라이 필름도 피막 형성용 재료에 해당한다.In the present invention, the film-forming material is used for the purpose of covering the substrate surface. Specific examples of the application include ink materials such as gravure ink, flexo ink, silkscreen ink and offset ink, coating materials such as hard coating, top coating, overprint varnish and clear coating, various adhesives for laminates, An adhesive material such as an adhesive, a resist material such as a solder resist, an etching resist, and a resist for a micromachine. Further, the so-called dry film coating film-forming material is formed by temporarily coating a film-forming material on a peelable base material to form a film, and then adhering the film-forming material to a base material for the original purpose to form a film.

본 발명에는 상기의 경화형 수지 조성물에 활성 에너지선을 조사하여 얻어지는 경화물도 포함되고, 또한, 당해 경화물의 층을 갖는 다층 재료도 포함된다.The present invention also includes a cured product obtained by irradiating the above-mentioned curable resin composition with active energy rays, and also includes a multi-layered material having a layer of the cured product.

이들 중, 반응성 폴리카본산 화합물 (A)의 카복시기의 도입에 의해, 기재로의 밀착성이 높아지기 때문에, 플라스틱 기재, 또는 금속 기재를 피복하기 위한 용도로서 이용하는 것이 바람직하다.Among them, the introduction of the carboxy group of the reactive polycarboxylic acid compound (A) enhances the adhesion to the substrate, and therefore, it is preferable to use it as a coating for covering a plastic substrate or a metal substrate.

나아가서는, 미반응의 반응성 폴리카본산 화합물 (A)가, 알칼리 수용액에 가용성이 되는 특징을 살려, 알칼리수 현상형 레지스트 재료 조성물로서 이용하는 것도 바람직하다.Furthermore, it is also preferable to use the unreacted reactive polycarboxylic acid compound (A) as an alkaline water-developing resist composition, taking advantage of its solubility in an aqueous alkali solution.

본 발명에 있어서 레지스트 재료 조성물이란, 기재 상에 당해 조성물의 피막층을 형성시키고, 그 후, 자외선 등의 활성 에너지선을 부분적으로 조사하여, 조사부, 미조사부의 물성적인 차이를 이용하여 묘화하고자 하는 활성 에너지선 감응형의 조성물을 가리킨다. 구체적으로는, 조사부, 또는 미조사부를 어떠한 방법, 예를 들면 용제 등이나 알칼리 용액 등으로 용해시키는 등 하여 제거하고, 묘화를 행하는 것을 목적으로 하여 이용되는 조성물이다.The resist composition used in the present invention means a composition in which a coating layer of the composition is formed on a substrate and then an active energy ray such as ultraviolet rays is partially irradiated to obtain an active region Energy ray-sensitive composition. Specifically, it is a composition used for the purpose of removing an irradiating unit or a non-irradiating unit by any method, for example, dissolving with a solvent or an alkali solution or the like, and drawing.

본 발명의 레지스트 재료 조성물인 활성 에너지선 경화형 수지 조성물은, 패터닝이 가능한 여러 가지의 재료에 적응할 수 있고, 예를 들면 특히, 솔더 레지스트 재료, 빌드업 공법용의 층간 절연재에 유용하고, 나아가서는 광 도파로로서 프린트 배선판, 광 전자 기판이나 광 기판과 같은 전기·전자·광 기재 등에도 이용된다.The active energy ray-curable resin composition as the resist material composition of the present invention can be applied to various materials capable of being patterned and is useful, for example, in an interlayer insulating material for a solder resist material or a build-up method in particular, It is also used as a waveguide in electric / electronic / optical substrates such as printed wiring boards, optical electronic boards and optical substrates.

특히 적합한 용도로서는, 내열성이나 현상성이 양호한 특성을 살려, 감광성 필름, 지지체 부착 감광성 필름, 프리프레그 등의 절연 수지 시트, 회로 기판(적층판 용도, 다층 프린트 배선판 용도 등), 솔더 레지스트, 언더필재, 다이본딩재, 반도체 봉지재, 구멍 매입 수지, 부품 매입 수지 등, 수지 조성물이 필요시되는 용도의 광범위에 사용할 수 있다. 그 중에서도, 높은 안료 농도에 있어서도 양호한 현상성을 발휘할 수 있는 점에서, 컬러 레지스트, 컬러 필터용의 레지스트 재료, 특히 블랙 매트릭스 재료 등에도 적합하게 이용할 수 있다.Particularly suitable applications include the use of insulating films such as photosensitive films, photosensitive films with a support, prepregs and the like, circuit boards (for laminate applications, multilayer printed circuit boards and the like), solder resists, underfill materials, Such as a die bonding material, a semiconductor encapsulant, a hole-filling resin, and a part-filling resin. In particular, it can be suitably used for a color resist, a resist material for a color filter, particularly, a black matrix material, because it can exhibit good developability even at a high pigment concentration.

또한, 다층 프린트 배선판의 절연층용 수지 조성물(감광성 수지 조성물의 경화물을 절연층으로 한 다층 프린트 배선판), 층간 절연층용 수지 조성물(감광성 수지 조성물의 경화물을 층간 절연층으로 한 다층 프린트 배선판), 도금 형성용 수지 조성물(감광성 수지 조성물의 경화물 상에 도금이 형성된 다층 프린트 배선판) 등에도 적합하게 이용할 수 있다.The resin composition for an insulating layer of a multilayer printed wiring board (a multilayer printed wiring board in which a cured product of a photosensitive resin composition is an insulating layer), a resin composition for an interlayer insulating layer (a multilayer printed wiring board in which a cured product of a photosensitive resin composition is an interlayer insulating layer) And a resin composition for plating formation (a multilayer printed wiring board on which plating is formed on a cured product of a photosensitive resin composition).

본 발명의 활성 에너지선 경화형 수지 조성물을 사용한 패터닝은, 예를 들면 다음과 같이 하여 행할 수 있다. 기판 상에 스크린 인쇄법, 스프레이법, 롤 코팅법, 정전 도장법, 커튼 코팅법, 스핀 코팅법 등의 방법으로 0.1∼200㎛의 막두께로 본 발명의 활성 에너지선 경화형 수지 조성물을 도포하고, 도막을 통상 50∼110℃, 바람직하게는 60∼100℃의 온도에서 건조시킴으로써, 도막을 형성할 수 있다. 그 후, 노광 패턴을 형성한 포토마스크를 통하여 도막에 직접 또는 간접으로 자외선 등의 고에너지선을 통상 10∼2000mJ/㎠ 정도의 강도로 조사하고, 후술하는 현상액을 이용하여, 예를 들면 스프레이, 진동 침지, 퍼들, 브러싱 등에 의해 소망하는 패턴을 얻을 수 있다. The patterning using the active energy ray-curable resin composition of the present invention can be performed, for example, as follows. The active energy ray-curable resin composition of the present invention is coated on the substrate by a method such as screen printing, spraying, roll coating, electrostatic coating, curtain coating, or spin coating to a film thickness of 0.1 to 200 m, At a temperature of usually 50 to 110 DEG C, preferably 60 to 100 DEG C, to form a coating film. Thereafter, a high energy beam such as ultraviolet rays is irradiated to the coating film directly or indirectly through a photomask having an exposure pattern formed thereon at an intensity of about 10 to 2000 mJ / cm 2, and the coating solution is sprayed, for example, Vibration dipping, puddling, brushing or the like, a desired pattern can be obtained.

상기 현상에 사용되는 알칼리 수용액으로서는 수산화 칼륨, 수산화 나트륨, 탄산 나트륨, 탄산 칼륨, 탄산수소 나트륨, 탄산수소 칼륨, 인산 나트륨, 인산 칼륨 등의 무기 알칼리 수용액이나 테트라메틸암모늄하이드로옥사이드, 테트라에틸암모늄하이드로옥사이드, 테트라부틸암모늄하이드로옥사이드, 모노에탄올아민, 디에탄올아민, 트리에탄올아민 등의 유기 알칼리 수용액을 사용할 수 있다. 이 수용액에는, 추가로 유기 용제, 완충제, 착화제, 염료 또는 안료를 포함시킬 수 있다.Examples of the aqueous alkali solution used in the above development include inorganic alkali aqueous solutions such as potassium hydroxide, sodium hydroxide, sodium carbonate, potassium carbonate, sodium hydrogencarbonate, potassium hydrogencarbonate, sodium phosphate, and potassium phosphate, and aqueous solutions such as tetramethylammonium hydroxide and tetraethylammonium hydroxide , Tetrabutylammonium hydroxide, monoethanolamine, diethanolamine, triethanolamine and the like can be used. The aqueous solution may further contain an organic solvent, a buffer, a complexing agent, a dye or a pigment.

이 외에, 활성 에너지선에 의한 경화 반응 전의 기계적 강도가 요구되는 드라이 필름 용도로서 특히 적합하게 이용된다. 즉, 본 발명에서 이용되는 에폭시 수지 (a)의 수산기, 에폭시기의 균형이 특정의 범위에 있기 때문에, 본 발명의 반응성 폴리카본산 화합물 (A)가 비교적 높은 분자량임에도 불구하고, 양호한 현상성을 발휘시킬 수 있다.In addition, it is particularly suitably used as a dry film application requiring mechanical strength before curing reaction by an active energy ray. That is, since the balance of the hydroxyl groups and the epoxy groups of the epoxy resin (a) used in the present invention falls within a specific range, the reactive polycarboxylic acid compound (A) of the present invention exhibits good developing properties .

피막 형성시키는 방법으로서는 특별히 제한은 없지만, 그라비아 등의 오목판 인쇄 방식, 플렉소 등의 볼록판 인쇄 방식, 실크 스크린 등의 공판(孔版) 인쇄 방식, 오프셋 등의 평판 인쇄 방식, 롤 코터, 나이프 코터, 다이 코터, 커튼 코터, 스핀 코터 등의 각종 도공 방식을 임의로 채용할 수 있다.There are no particular restrictions on the method of forming the film, but it is possible to use various methods such as a concave printing method such as a gravure printing method, a convex printing method such as flexo printing, a plate printing method such as a silk screen, a flat printing method such as an offset printing method, a roll coater, Various coating methods such as a coater, a curtain coater, and a spin coater can be arbitrarily adopted.

본 발명의 활성 에너지선 경화형 수지 조성물의 경화물이란, 본 발명의 활성 에너지선 경화형 수지 조성물에 활성 에너지선을 조사하여 경화시킨 것을 가리킨다.The cured product of the active energy ray-curable resin composition of the present invention means that the active energy ray-curable resin composition of the present invention is irradiated with active energy rays and cured.

본 발명의 활성 에너지선 경화형 수지 조성물로 오버코팅된 물품이란, 본 발명에 있어서 나타나는 활성 에너지선 경화형 수지 조성물을 기재 상에 피막 형성·경화시켜 얻어지는, 적어도 2층 이상의 층으로 이루어지는 재료를 나타낸다.An article overcoated with the active energy ray-curable resin composition of the present invention refers to a material comprising at least two layers obtained by forming a film on a substrate and curing the active energy ray-curable resin composition of the present invention.

(실시예)(Example)

이하, 본 발명을 실시예에 의해 더욱 상세하게 설명하지만, 본 발명은 이들 실시예에 의해 한정되는 것이 아니다. 또한, 실시예 중, 특별히 언급이 없는 한, %는 질량%를 나타낸다.Hereinafter, the present invention will be described in more detail by way of examples, but the present invention is not limited to these examples. In the examples, unless otherwise noted,% means% by mass.

연화점, 에폭시 당량, 산가는 이하의 조건으로 측정했다.The softening point, the epoxy equivalent, and the acid value were measured under the following conditions.

1) 에폭시 당량: JISK7236:2001에 준한 방법으로 측정했다.1) Epoxy equivalent: Measured by the method according to JIS K7236: 2001.

2) 연화점: JISK7234:1986에 준한 방법으로 측정했다.2) Softening point: Measured by the method according to JIS K7234: 1986.

3) 산가: JISK0070:1992에 준한 방법으로 측정했다.3) Acid value: Measured by the method according to JISK0070: 1992.

4) GPC의 측정 조건은 이하와 같다. 4) The measurement conditions of GPC are as follows.

기종: TOSOH HLC-8220 GPCModel: TOSOH HLC-8220 GPC

컬럼: Super HZM-NColumn: Super HZM-N

용리액: THF(테트라하이드로푸란); 0.35ml/분, 40℃Eluent: THF (tetrahydrofuran); 0.35 ml / min, 40 < 0 > C

검출기: RI(시차 굴절계)Detector: RI (differential refractometer)

분자량 표준: 폴리스티렌Molecular weight standard: Polystyrene

(합성예 1∼3): 반응성 에폭시카복실레이트 화합물 (d)의 합성(Synthesis Examples 1 to 3): Synthesis of reactive epoxy carboxylate compound (d)

XD-1000(닛폰카야쿠(주) 제조, 연화점 74.8℃, 에폭시 당량 255g/eq.)을 255g, 카본산 화합물 (b)로서 아크릴산(AA) 또는 메타크릴산(MAA)을 표 1 중 기재량, 화합물 (c)로서 디메틸올프로피온산(이하, 「DMPA」라고 약칭함)을 표 1 중 기재량 더했다. 촉매로서 트리페닐포스핀 3g, 용제로서 프로필렌글리콜모노메틸에테르모노아세테이트를 고형분 함유율 80질량%가 되도록 더하고, 100℃에서 24시간 반응시켜, 반응성 에폭시카복실레이트 화합물 (d) 용액을 얻었다.(AA) or methacrylic acid (MAA) as the carbonic acid compound (b) in the amount shown in Table 1 as XD-1000 (softening point 74.8 ° C, epoxy equivalent 255 g / eq., Manufactured by Nippon Kayaku Co., , And dimethylolpropionic acid (hereinafter abbreviated as " DMPA ") as the compound (c). 3 g of triphenylphosphine as a catalyst and propylene glycol monomethyl ether monoacetate as a solvent were added so as to have a solid content of 80 mass% and reacted at 100 占 폚 for 24 hours to obtain a solution of a reactive epoxy carboxylate compound (d).

Figure pat00006
Figure pat00006

(실시예 1, 비교예 1): 반응성 폴리카본산 화합물 (A)의 조제(Example 1, Comparative Example 1): Preparation of reactive polycarboxylic acid compound (A)

얻어진 반응성 에폭시카복실레이트 화합물 (d) 용액 200g에, 다염기산 무수물 (e)로서 표 2에 기재된 화합물 양(g) 및, 용제로서 고형분 함유율 65%가 되도록, 프로필렌글리콜모노메틸에테르모노아세테이트를 첨가하고, 100℃로 가열한 후, 산 부가 반응시켜, 반응성 폴리카본산 화합물 (A) 용액을 얻었다. 얻어진 반응성 폴리카본산 화합물 (A)의 고형분 산가(AV: ㎎KOH/g)를 표 2 중에 기재했다. 고형분 산가(㎎·KOH/g) 측정은 용액으로서 측정을 행하여 고형분에서의 값으로 환산했다.Propylene glycol monomethyl ether monoacetate was added to 200 g of the obtained reactive epoxy carboxylate compound (d) so that the amount of the compound (g) shown in Table 2 as the polybasic acid anhydride (e) and the solids content of the solvent as the content of 65% After heating to 100 占 폚, acid addition reaction was carried out to obtain a solution of the reactive polycarboxylic acid compound (A). The solid acid value (AV: mgKOH / g) of the obtained reactive polycarboxylic acid compound (A) is shown in Table 2. The solid acid value (mg · KOH / g) was measured as a solution and converted to a value in a solid content.

Figure pat00007
Figure pat00007

HTMA: 1,2,4-사이클로헥산트리카본산-1,2-무수물, 미츠비시가스카가쿠(주) 제조HTMA: 1,2,4-cyclohexanetricarboxylic acid-1,2-anhydride, manufactured by Mitsubishi Gas Chemical Co., Ltd.

NTA: 노르보르난트리카본산 무수물, 일본특허 5532123 참조 합성품NTA: Norbornan tricarboxylic acid anhydride, see Japanese Patent 5532123 Synthesis

THPA: 1,2,3,6-테트라하이드로 무수 프탈산, 신니혼리카(주) 제조THPA: 1,2,3,6-tetrahydrophthalic anhydride, manufactured by Shin-Nihon Rika Co., Ltd.

SA: 리카시드 SA 무수 숙신산, 신니혼리카(주) 제조SA: Ricaside SA Anhydrous succinic acid, manufactured by Shin-Nihon Rika Co., Ltd.

(실시예 2 및 비교예 2): 레지스트 재료 조성물의 조제(Example 2 and Comparative Example 2): Preparation of resist material composition

실시예 1 및 비교예 1에서 얻어진 반응성 폴리카본산 화합물 (A)를 54.44g, 그 외의 반응성 화합물 (B)로서 HX-220(상품명: 닛폰카야쿠(주) 제조 디아크릴레이트 단량체) 3.54g, 광 중합 개시제로서 이르가큐어 907(치바스페셜리티케미컬즈 제조)을 4.72g 및 카야큐어 DETX-S(닛폰카야쿠(주) 제조)를 0.47g, 경화제 성분으로서 NC-3000(닛폰카야쿠 제조)을 14.83g, 경화 촉진제로서 멜라민을 1.05g 및 농도 조정 용매로서 메틸에틸케톤을 20.95g 더하고, 비즈밀로 혼련하고, 균일하게 분산시켜 레지스트 재료 수지 조성물을 얻었다.54.44 g of the reactive polycarboxylic acid compound (A) obtained in Example 1 and Comparative Example 1, 3.54 g of HX-220 (trade name: diacrylate monomer manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.) as the other reactive compound (B) 4.72 g of Irgacure 907 (manufactured by Ciba Specialty Chemicals), 0.47 g of Kayacure DETX-S (manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.) as a photo polymerization initiator, and NC-3000 (manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.) , 1.05 g of melamine as a curing accelerator, and 20.95 g of methyl ethyl ketone as a concentration adjusting solvent were added and kneaded with a beads mill and uniformly dispersed to obtain a resist material resin composition.

얻어진 당해 조성물을 롤 코팅법에 의해, 지지 필름이 되는 동박의 필름에 균일하게 도포하고, 온도 70℃의 열풍 건조로를 통과시켜, 두께 30㎛의 수지층을 형성했다. 그 후, 1% 탄산 나트륨 수용액으로 스프레이 현상을 행하고, 완전하게 현상될 때까지의 시간, 소위 브레이크 타임을 갖고 현상성의 평가로 했다(단위: 초). 표 3에 결과를 나타낸다.The obtained composition was uniformly applied to a film of a copper foil to be a support film by a roll coating method and passed through a hot air drying furnace at a temperature of 70 占 폚 to form a resin layer having a thickness of 30 占 퐉. Thereafter, spray development was carried out with a 1% aqueous solution of sodium carbonate to evaluate developability with a time until complete development (so-called break time) (unit: second). Table 3 shows the results.

Figure pat00008
Figure pat00008

상기의 결과로부터, 본 발명의 반응성 폴리카본산 화합물 (A)를 이용한 레지스트 재료 조성물은 양호한 현상성을 갖고 있다.From the above results, the resist material composition using the reactive polycarboxylic acid compound (A) of the present invention has good developability.

(실시예 3 및 비교예 3): 내열 분해성의 평가(Example 3 and Comparative Example 3): Evaluation of thermal decomposition resistance

실시예 1 및 비교예 1에서 얻어진 반응성 폴리카본산 화합물 (A)를 8g, 광 중합 개시제로서 이르가큐어 907(치바스페셜리티케미컬즈 제조)을 0.24g 및 카야큐어 DETX-S(닛폰카야쿠(주) 제조)를 0.01g, 경화제 성분으로서 NC-3000(닛폰카야쿠 제조)을 0.403g, 경화 촉진제로서 트리페닐포스핀을 0.017g 및 프로필렌글리콜모노메틸에테르모노아세테이트를 0.446g 더하여, 폴리이미드 필름에 균일하게 도포하고, 온도 80℃의 열풍 건조롤을 통과시켜, 두께 20㎛의 수지층을 형성한 후, 자외선 노광 장치((주)오크세이사쿠쇼, 형식 HMW-680GW)로 노광하여, 경화물을 얻었다. 제작한 경화물을 폭 5㎜로 잘라낸다. 그 후, TA instruments 제조 점탄성 측정 장치 RSA-G2에 세트하여, 공기 분위기 중, 주파수 10㎐, 승온 속도 2℃/min.으로 tanδ를 측정하고, tanδ의 최댓값에 있어서의 온도를 Tg로 했다. 표 4에 결과를 나타낸다.8 g of the reactive polycarboxylic acid compound (A) obtained in Example 1 and Comparative Example 1, 0.24 g of Irgacure 907 (manufactured by Ciba Specialty Chemicals) as a photopolymerization initiator, and 0.24 g of Kayacure DETX-S (manufactured by Nippon Kayaku ), 0.403 g of NC-3000 (manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.) as a curing agent component, 0.017 g of triphenylphosphine as a curing accelerator and 0.446 g of propylene glycol monomethyl ether monoacetate were added to the polyimide film And then passed through a hot air drying roll at a temperature of 80 DEG C to form a resin layer having a thickness of 20 mu m and then exposed with an ultraviolet ray exposure apparatus (manufactured by OXSYSAKUSHO Co., Ltd., model HMW-680GW) ≪ / RTI > The produced cured product is cut into a width of 5 mm. Thereafter, it was set in a TA instruments manufactured viscoelasticity measuring apparatus RSA-G2, and tan δ was measured in an air atmosphere at a frequency of 10 Hz and a heating rate of 2 ° C./min., And the temperature at the maximum value of tan δ was defined as Tg. Table 4 shows the results.

Figure pat00009
Figure pat00009

상기의 결과로부터, 본 발명의 반응성 폴리카본산 화합물 (A)를 이용한 활성 에너지선 경화형 수지 조성물은, 비교용의 수지 조성물에 비해, 내열성이 우수한 것을 알 수 있다.From the above results, it can be seen that the active energy ray-curable resin composition using the reactive polycarboxylic acid compound (A) of the present invention is superior in heat resistance to the comparative resin composition.

(실시예 4 및 비교예 4): 안료 분산성에 관한 평가(Example 4 and Comparative Example 4): Evaluation on pigment dispersibility

실시예 1 및 비교예 1에서 얻어진 반응성 폴리카본산 화합물 (A)를 20g, 그 외 반응성 화합물 (B)로서 DPHA(상품명: 닛폰카야쿠(주) 제조 아크릴레이트 단량체) 5.0g, 유기 용제로서 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트 10g, 착색 안료로서 미츠비시 카본 블랙 MA-100을 15g 또는 10g 더하고, 교반했다. 추가로 35g의 글래스 비즈를 넣고, 페인트 셰이커로 1시간 분산을 행했다. 분산 종료 후의 분산액을, 와이어 바 코터 #2로 폴리에틸렌테레프탈레이트 필름 상에 도공하고, 80℃의 온풍 건조기로 10분간 건조를 행했다. 건조 종료 후의 도막 표면의 광택을 60° 반사 글로스계(호리바세이사쿠쇼 IG-331 광택계)를 이용하여 측정하고, 카본 블랙의 분산성을 평가했다. 표 5에 결과를 나타낸다. 광택의 값이 높을수록, 안료 분산성은 양호하다., 20 g of the reactive polycarboxylic acid compound (A) obtained in Example 1 and Comparative Example 1, 5.0 g of DPHA (trade name: acrylate monomer manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.) as the other reactive compound (B) 10 g of glycol monomethyl ether acetate and 15 g or 10 g of Mitsubishi carbon black MA-100 as a color pigment were added and stirred. In addition, 35 g of glass beads were added and dispersed for 1 hour with a paint shaker. The dispersion after completion of the dispersion was coated on a polyethylene terephthalate film with a wire bar coater # 2 and dried with a hot air dryer at 80 ° C for 10 minutes. The gloss of the surface of the coated film after completion of the drying was measured using a 60 ° reflection gloss system (Horiba Seisakusho IG-331 gloss system) to evaluate the dispersibility of the carbon black. Table 5 shows the results. The higher the gloss value, the better the pigment dispersion.

Figure pat00010
Figure pat00010

상기의 결과로부터 분명한 바와 같이, 실시예 1에서 얻어진 반응성 폴리카본산 화합물 (A)를 포함하는 수지 조성물로부터 얻어지는 도막은, 비교예에 비해, 광택값이 높고, 안료 분산성이 우수한 것을 확인할 수 있다. 또한, 본 발명의 반응성 폴리카본산 화합물 (A)를 포함하는 수지 조성물은, 착색 안료의 함유량이 많은 경우에서도, 광택의 값에 변화가 없었다. 이에 대하여, 비교예의 반응성 폴리카본산 화합물은 착색 안료의 함유량이 증가하면 광택이 저하하고, 함량 분산성이 낮은 것을 알 수 있다. 따라서, 본 발명의 반응성 폴리카본산 화합물 (A)의 안료 분산성은 착색 안료의 함유량에 의존하는 일 없이, 우수한 것을 확인할 수 있다.As is apparent from the above results, it was confirmed that the coating film obtained from the resin composition containing the reactive polycarboxylic acid compound (A) obtained in Example 1 had a high gloss value and excellent pigment dispersibility as compared with Comparative Examples . In addition, the resin composition containing the reactive polycarboxylic acid compound (A) of the present invention showed no change in the gloss value even when the content of the colored pigment was large. On the other hand, in the reactive polycarboxylic acid compound of the comparative example, the gloss decreases when the content of the colored pigment is increased, and the content dispersibility is low. Therefore, it can be confirmed that the pigment dispersibility of the reactive polycarboxylic acid compound (A) of the present invention does not depend on the content of the colored pigment and is excellent.

이상으로부터, 본 발명의 반응성 폴리카본산 화합물 (A)를 이용한 활성 에너지선 경화형 수지 조성물의 경화물은, 내열성이 우수하고, 미세하게 알칼리 현상 가능한 점에서 성형용 재료, 피막 형성용 재료, 레지스트 재료에 적합하다. 특히, 높은 안료 농도에 있어서도 양호한 현상성을 발휘하는 점에서, 컬러 레지스트, 컬러 필터용의 레지스트 재료, 특히 블랙 매트릭스 재료 등에 적합하다.From the above, it can be seen that the cured product of the active energy ray-curable resin composition using the reactive polycarboxylic acid compound (A) of the present invention is excellent in heat resistance and can be finely alkali developed, Lt; / RTI > In particular, it is suitable for a color resist, a resist material for a color filter, particularly, a black matrix material, because it exhibits good developability even at a high pigment concentration.

Claims (9)

하기식 (1)로 나타나는 에폭시 수지 (a)에, 1분자 중에 중합 가능한 에틸렌성 불포화기와 카복시기를 겸비하는 카본산 화합물 (b), 필요에 따라서 1분자 중에 수산기와 카복시기를 겸비하는 화합물 (c)를 반응시켜 얻어지는 반응성 에폭시카복실레이트 화합물 (d)를, 하기식 (2) 또는 식 (3)으로 나타나는 다염기산 무수물 (e)와 반응시킨 반응성 폴리카본산 화합물 (A):
Figure pat00011

(식 중, R은 동일해도 상이해도 좋고, 수소 원자, 할로겐 원자 또는 탄소수 1∼4의 탄화수소기를 나타내고, a는 각각 1∼3을 나타내고; n은 평균값으로 1∼20의 정수를 나타냄);
Figure pat00012

(식 (2) 중 R1은, 각각 독립적으로 수소 원자, 탄소수 1∼10의 알킬기를 나타내고;
m은 1∼3의 정수를 나타냄).
(B) a carbonic acid compound (b) having an ethylenically unsaturated group capable of polymerizing in one molecule and a carboxy group, and (c) a compound (c) having both a hydroxyl group and a carboxy group in one molecule, (D) reacted with a polybasic acid anhydride (e) represented by the following formula (2) or (3) to obtain a reactive polycarboxylic acid compound (A)
Figure pat00011

(Wherein R may be the same or different and represents a hydrogen atom, a halogen atom or a hydrocarbon group of 1 to 4 carbon atoms, a represents 1 to 3, and n represents an average value of 1 to 20);
Figure pat00012

(In the formula (2), R 1 independently represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms;
m represents an integer of 1 to 3).
제1항에 기재된 반응성 폴리카본산 화합물 (A)를 포함하는 활성 에너지선 경화형 수지 조성물.An active energy ray-curable resin composition comprising the reactive polycarboxylic acid compound (A) according to claim 1. 제2항에 있어서,
상기 반응성 폴리카본산 화합물 (A) 이외의 반응성 화합물 (B)를 포함하는 활성 에너지선 경화형 수지 조성물.
3. The method of claim 2,
And a reactive compound (B) other than the reactive polycarboxylic acid compound (A).
제2항에 있어서,
광 중합 개시제를 포함하는 활성 에너지선 경화형 수지 조성물.
3. The method of claim 2,
An active energy ray curable resin composition comprising a photo polymerization initiator.
제2항 내지 제4항 중 어느 한 항에 있어서,
성형용 재료인 활성 에너지선 경화형 수지 조성물.
5. The method according to any one of claims 2 to 4,
Wherein the active energy ray-curable resin composition is a molding material.
제2항 내지 제4항 중 어느 한 항에 있어서,
피막 형성용 재료인 활성 에너지선 경화형 수지 조성물.
5. The method according to any one of claims 2 to 4,
An active energy ray-curable resin composition which is a film-forming material.
제2항 내지 제4항 중 어느 한 항에 있어서,
레지스트 재료 조성물인 활성 에너지선 경화형 수지 조성물.
5. The method according to any one of claims 2 to 4,
An active energy ray curable resin composition which is a resist material composition.
제2항 내지 제4항 중 어느 한 항에 기재된 활성 에너지선 경화형 수지 조성물의 경화물.A cured product of the active energy ray-curable resin composition according to any one of claims 2 to 4. 제8항에 기재된 경화물로 오버코팅된 물품.An article overcoated with the cured article of claim 8.
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