JP2009099972A - 気相成長装置及び半導体素子の製造方法 - Google Patents
気相成長装置及び半導体素子の製造方法 Download PDFInfo
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Abstract
【解決手段】シャワーヘッド20は、外周において環状に設けられて原料ガスが導入されるIII 族系ガス外環流路23a・V族系ガス外環流路24aと、この内側で原料ガスを通す開口を有する開口付き仕切りと、さらに内側に位置する原料ガスのIII 族系ガスバッファエリア23b・V族系ガスバッファエリア24bと、複数のIII 族系ガス吐出孔H3・V族系ガス吐出孔H5を有するシャワープレート21とを備えている。III 族系ガスバッファエリア23b・V族系ガスバッファエリア24bは、中心部の方が周辺部よりも高さが高い。
【選択図】図1
Description
本発明の一実施形態について図1ないし図7に基づいて説明すれば、以下の通りである。なお、本発明の図面において、同一の参照符号は、同一部分又は相当部分を表わすものとする。
本発明の他の実施の形態について図8ないし図9に基づいて説明すれば、以下の通りである。なお、本実施の形態において説明すること以外の構成は、前記実施の形態1と同じである。また、説明の便宜上、前記の実施の形態1の図面に示した部材と同一の機能を有する部材については、同一の符号を付し、その説明を省略する。
1a ガス排出口
2 反応炉
3 被成膜基板(被処理基板)
4 サセプタ
5 ヒータ
7 回転軸
10 MOCVD装置(気相成長装置)
11 ガス排出部
12 パージライン
20 シャワーヘッド(ガス供給手段)
21 シャワープレート
21a 中央部(内周部)
21b 周辺部(外周部)
22 冷水供給部
22b 冷水系バッファエリア
23 III 族系ガス供給部
23a III 族系ガス外環流路(外環流路)
23b III 族系ガスバッファエリア(中間室、個別中間室)
23c III 族系ガス供給管(個別ガス供給管)
24 V族系ガス供給部
24a V族系ガス外環流路(外環流路)
24b V族系ガスバッファエリア(中間室、個別中間室)
24c V族系ガス供給管(個別ガス供給管)
24d 開口付き仕切り(開口付き内側壁)
50 半導体レーザ素子
H 開口
H3 III 族系ガス吐出孔(ガス吐出孔)
H5 V族系ガス吐出孔(ガス吐出孔)
UW 上壁
Claims (10)
- 成長室の上側に設けられたガス供給手段から成長室内に原料ガスを供給して該成長室内の被処理基板に気相成長を行う気相成長装置において、
上記ガス供給手段は、
外周において環状に設けられて上記原料ガスが導入される外環流路と、
上記外環流路の内側に設けられ、かつ上記原料ガスを通す開口を有する開口付き内側壁と、
上記開口付き内側壁の内側に位置する原料ガスの中間室と、
上記中間室の下流側に位置して複数のガス吐出孔を有するシャワープレートとを備えていると共に、
上記中間室は、中心部の方が周辺部よりも高さが高いことを特徴とする気相成長装置。 - 前記シャワープレートにおけるガス吐出孔は、該シャワープレートの中心から外周に向かって放射方向外側の開口率が放射方向内側の開口率よりも小さくなっていることを特徴とする請求項1に記載の気相成長装置。
- 前記シャワープレートにおけるガス吐出孔は、外周部の孔径が内周部の孔径よりも小さいことを特徴とする請求項2に記載の気相成長装置。
- 前記シャワープレートにおけるガス吐出孔は、外周部の配設密度が内周部の配設密度よりも小さいことを特徴とする請求項2に記載の気相成長装置。
- 前記中間室は、分離板により区切られて異なる種類の原料ガスをそれぞれ収容する複数の個別中間室からなっていることを特徴とする請求項1〜4のいずれか1項に記載の気相成長装置。
- 前記複数の個別中間室は、積層配置されていることを特徴とする請求項5に記載の気相成長装置。
- 前記積層配置された個別中間室における下層の個別中間室には、前記シャワープレートにおける、異なる種類の原料ガスを供給する複数のガス吐出孔に接続された、該下層の個別中間室よりも上層の個別中間室に連通する個別ガス供給管が貫通して設けられていることを特徴とする請求項6に記載の気相成長装置。
- 前記積層配置された個別中間室における下層の個別中間室からさらに下側に向けて、前記シャワープレートにおける、原料ガスを供給する複数のガス吐出孔に接続された個別ガス供給管が設けられている共に、
上記個別ガス供給管内には、上記下層の個別中間室よりも上層の個別中間室に連通する個別ガス供給管が挿入して設けられていることを特徴とする請求項6に記載の気相成長装置。 - 前記シャワープレートと中間室との間に冷却手段が設けられていることを特徴とする請求項1〜8のいずれか1項に記載の気相成長装置。
- 請求項1〜9のいずれか1項に記載の気相成長装置を用いて、半導体素子を製造することを特徴とする半導体素子の製造方法。
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