JP2009098128A - 液処理装置および処理液供給方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】液処理装置は、処理液によって被処理体を処理する処理部80と、処理部80に連結され、当該処理部80に処理液を案内する供給路1と、供給路1に溶媒を供給する溶媒供給部7と、供給路1に薬液供給路6を介して薬液を供給し、溶媒によって希釈された薬液を生成する薬液供給部5と、を備えている。供給路1のうち薬液供給路6が連結された連結箇所25a,35a,45aの下流側に、溶媒によって希釈された薬液の導電率を測定する測定部10が設けられている。供給路1のうち測定部10が設けられた測定箇所10aの下流側に、追加薬液供給路3を介して前記薬液とは異なる追加薬液を供給する追加薬液供給部11が連結されている。
【選択図】図1
Description
溶媒と薬液とを混合することによって生成される処理液を用いて被処理体を処理する液処理装置であり、
処理液によって被処理体を処理する処理部と、
処理部に連結され、当該処理部に処理液を案内する供給路と、
供給路に溶媒を供給する溶媒供給部と、
供給路に薬液供給路を介して薬液を供給し、溶媒によって希釈された薬液を生成する薬液供給部と、
供給路のうち薬液供給路が連結された連結箇所の下流側に設けられ、溶媒によって希釈された薬液の導電率を測定する測定部と、
供給路のうち測定部が設けられた測定箇所の下流側に連結され、追加薬液供給路を介して前記薬液とは異なる追加薬液を供給する追加薬液供給部と、
を備えている。
溶媒と薬液とを混合することによって生成される処理液を被処理体へ供給する処理液供給方法であり、
供給路に溶媒を供給する溶媒供給工程と、
供給路に薬液を供給し、溶媒によって希釈された薬液を生成する薬液供給工程と、
溶媒によって希釈された薬液の導電率を測定することによって、前記薬液供給工程で供給された薬液の濃度を測定する測定工程と、
溶媒によって希釈された薬液に、前記薬液とは異なる追加薬液を供給して処理液を生成する追加薬液供給工程と、
前記処理液を被処理体へ供給する基板処理工程と、
を備えている。
以下、本発明に係る液処理装置および処理液供給方法の実施の形態について、図面を参照して説明する。ここで、図1は本発明の実施の形態による液処理装置を示す概略構成図である。
次に、洗浄液として比較的濃い濃度のNH4OHを含む(例えば、アンモニア水:過酸化水素水:水=1:1:5(容量比)となるようにして生成した)アンモニア過水(SC1)を用いて、ウエハWを洗浄する場合について説明する。
処理液として塩酸過水(SC2)を用いてウエハWを洗浄する場合は、上述したアンモニア過水(SC1)による処理とほぼ同一である。すなわち、NH4OH供給バルブ44を開閉する代わりに、塩酸供給バルブ34を開閉すればよく、その他の点は、アンモニア過水(SC1)による処理とほぼ同一である。このため、詳細な説明は省略する。
処理液として希フッ酸を用いてウエハWを洗浄する場合もやはり、過酸化水素水を用いない点を除けば、上述したアンモニア過水(SC1)による処理とほぼ同一である。すなわち、NH4OH供給バルブ44と過水供給バルブ14を開閉する代わりに、フッ酸供給バルブ24を開閉すればよく、その他の点は、アンモニア過水(SC1)による処理とほぼ同一であるので、詳細な説明は省略する。
5 薬液供給部
6 薬液供給路
7 溶媒供給部
10 測定部
10a 測定箇所
11 追加薬液供給部
21 フッ酸供給部
25 フッ酸供給路
25a 連結箇所
31 塩酸供給部
35 塩酸供給路
35a 連結箇所
41 NH4OH供給部
45 NH4OH供給路
45a 連結箇所
50 制御部
51 計算部
52 調整部
61 DIW供給部
66 加熱DIW供給部
80 処理部
90 濃度均一管(濃度均一部)
W ウエハ(被処理体)
Claims (6)
- 溶媒と薬液とを混合することによって生成される処理液を用いて被処理体を処理する液処理装置において、
処理液によって被処理体を処理する処理部と、
処理部に連結され、当該処理部に処理液を案内する供給路と、
供給路に溶媒を供給する溶媒供給部と、
供給路に薬液供給路を介して薬液を供給し、溶媒によって希釈された薬液を生成する薬液供給部と、
供給路のうち薬液供給路が連結された連結箇所の下流側に設けられ、溶媒によって希釈された薬液の導電率を測定する測定部と、
供給路のうち測定部が設けられた測定箇所の下流側に連結され、追加薬液供給路を介して前記薬液とは異なる追加薬液を供給する追加薬液供給部と、
を備えたことを特徴とする液処理装置。 - 追加薬液供給部は、追加薬液として過酸化水素を供給することを特徴とする請求項1に記載の液処理装置。
- 測定部によって測定された導電率に基づいて、薬液供給部から供給された薬液の濃度を算出する計算部と、
計算部によって算出された薬液の濃度に基づいて、薬液供給部から供給される薬液の量を調整する調整部と、をさらに備えたこと特徴とする請求項1または2のいずれか1項に記載の液処理装置。 - 供給路のうち薬液供給路が連結された連結箇所と測定部が設けられた測定箇所との間に設けられ、溶媒と薬液とを混ぜ合わせて均一にする濃度均一部をさらに備えたこと特徴とする請求項1乃至3のいずれか1項に記載の液処理装置。
- 測定部は、溶媒によって希釈された薬液が当該測定部を通過してから0.5秒以内に導電率の測定結果を提供すること特徴とする請求項1乃至4のいずれか1項に記載の液処理装置。
- 溶媒と薬液とを混合することによって生成される処理液を被処理体へ供給する処理液供給方法において、
供給路に溶媒を供給する溶媒供給工程と、
供給路に薬液を供給し、溶媒によって希釈された薬液を生成する薬液供給工程と、
溶媒によって希釈された薬液の導電率を測定することによって、前記薬液供給工程で供給された薬液の濃度を測定する測定工程と、
溶媒によって希釈された薬液に、前記薬液とは異なる追加薬液を供給して処理液を生成する追加薬液供給工程と、
前記処理液を被処理体へ供給する基板処理工程と、
を備えたことを特徴とする処理液供給方法。
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