JP2009078217A - ディップ装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】ディップ装置1は、液体を収容するディップ槽3と、液体を収容する供給タンク4と、供給タンク4の液体をディップ槽3へ供給するポンプ5と、ディップ槽3からオーバーフローする液体を受け、受けた液体を流下させて供給タンク4へ戻すオーバーフロー受器6と、ディップ槽3とオーバーフロー受器6との間にて、ディップ槽3からオーバーフローした液体を受け、受けた液体の一部を流下させて供給タンク4へ戻し、残りの液体をオーバーフローさせてオーバーフロー受器6へ流下させる検出槽7と、検出槽7の液面レベルを検出する液面センサ21と、検出液面レベルに基づきポンプ5による液体供給量を制御するコントローラ22とを備える。
【選択図】 図1
Description
Q1=Q2+Q3 ・・・(1)
従って、ディップ装置1の正常時には、検出槽7の液面レベルは、オーバーフローにより常に満杯状態となる。一方、ポンプ5又はストレーナ11の目詰まりなどにより、ディップ槽3への液体供給量Q1が少なくなるような異常時には、以下の不等式(2)が成り立ち、検出槽7における液面レベルが低下し始めることとなる。
Q1<Q2+Q3 ・・・(2)
2 基板(ワーク)
3 ディップ槽
4 供給タンク
5 ポンプ
6 オーバーフロー受器
7 検出槽
21 液面センサ
22 コントローラ(制御手段)
Q1 液体供給量
Q2 液体戻り量
Q3 液体戻り量
LV 液面レベル
Claims (2)
- ワークを浸漬するための液体を収容するディップ槽と、
前記ディップ槽に供給される液体を収容する供給タンクと、
前記供給タンクの中の液体を前記ディップ槽へ供給するためのポンプと、
前記ディップ槽からオーバーフローする液体を受けると共に、その受けた液体を流下させて前記供給タンクへ戻すオーバーフロー受器と
を備えたディップ装置において、
前記ディップ槽と前記オーバーフロー受器との間に設けられ、前記ディップ槽からオーバーフローした液体を受け、その受けた液体の一部を流下させて前記供給タンクへ戻すと共に、残りの液体をオーバーフローさせて前記オーバーフロー受器へ流下させる検出槽と、
前記検出槽における液面レベルを検出するための液面センサと、
前記液面センサにより検出された液面レベルに基づき前記ポンプによる前記ディップ槽への液体供給量を制御するための制御手段と
を備えたことを特徴とするディップ装置。 - 前記制御手段は、前記検出される液面レベルが所定の正常レベルとなるときは、前記ポンプを通常の液体供給量に維持し、前記検出される液面レベルが所定の異常レベルとなるときは、所定の異常処理を実行し、前記検出される液面レベルが前記正常レベルと前記異常レベルとの間のレベルとなるときは、前記ポンプの液体供給量を増大させることを特徴とする請求項1に記載のディップ装置。
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JPH1172932A (ja) * | 1997-08-28 | 1999-03-16 | Mitsubishi Chem Corp | 電子写真感光体製造用の浸漬塗布装置 |
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