JP2009075318A - 半透過型液晶表示装置用カラーフィルタおよびその製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】本発明は、凹凸が形成された透明基板と、上記透明基板上に上記透明基板を覆うように形成された着色層とを有し、上記透明基板および上記透明基板の凹部に形成された着色層を透過光用領域として用い、上記透明基板および上記透明基板の凸部に形成された着色層を反射光用領域として用いる半透過型液晶表示装置用カラーフィルタであって、上記透明基板の凸部が光路差調整機能を有することを特徴とする半透過型液晶表示装置用カラーフィルタを提供することにより、上記目的を達成する。
【選択図】図1
Description
また、透明基板の再生が容易である。
また、上記透明基板の凸部の上部表面上に機能部を有することで、反射光用領域に様々な機能を容易に付与できる半透過型液晶表示装置用カラーフィルタを提供できるという効果も奏する。
まず、本発明の半透過型液晶表示装置用カラーフィルタについて説明する。
本発明の半透過型液晶表示装置用カラーフィルタは、凹凸が形成された透明基板と、上記透明基板上に上記透明基板を覆うように形成された着色層とを有し、上記透明基板の凹部および上記透明基板の凹部上に形成された着色層を透過光用領域として用い、上記透明基板の凸部および上記透明基板の凸部上に形成された着色層を反射光用領域として用いる半透過型液晶表示装置用カラーフィルタであって、上記透明基板の凸部が光路差調整機能を有することを特徴とするものである。
また、上記透明基板の凸部が光路差調整機能を有しているので、透明樹脂から光路差調整層を形成したときに起こる透明基板からの光路差調整層の剥離といった問題も解決される。
また、透明基板の再生が容易であるという利点も有する。
以下に、本発明の半透過型液晶表示用カラーフィルタのそれぞれの構成について説明する。
本発明に用いられる透明基板は、凹凸が形成され、上記透明基板の凸部が反射光用領域の光路差調整機能を有するものである。
本発明における着色層は、反射光用領域および透過光用領域の各領域に形成されるものである。
上記着色層における着色パターン形状は、ストライプ型、モザイク型、トライアングル型、4画素配置型等の公知の配列とすることができ、着色面積は任意に設定することができる。
緑色パターンに用いられる着色剤としては、例えば、ハロゲン多置換フタロシアニン系顔料もしくはハロゲン多置換銅フタロシアニン系顔料等のフタロシアニン系顔料、トリフェニルメタン系塩基性染料、イソインドリン系顔料、イソインドリノン系顔料等が挙げられる。これらの顔料もしくは染料は単独で用いてもよく2種以上を混合して用いてもよい。
青色パターンに用いられる着色剤としては、例えば、銅フタロシアニン系顔料、アントラキノン系顔料、インダンスレン系顔料、インドフェノール系顔料、シアニン系顔料、ジオキサジン系顔料等が挙げられる。これらの顔料は単独で用いてもよく2種以上を混合して用いてもよい。
本発明においては、上記透明基板の凸部の上部表面上に機能部を有してもよい。これにより、反射光用領域に様々な機能を付与できるからである。
以下、それぞれについて説明する。
本発明における撥液部は、上記透明基板の凸部の上部表面上に形成されるものである。
また、エッチング工程において、エッチング剤等の薬品耐性を有するものが好ましい。エッチング剤等の薬品耐性を有することで、残存するフォトレジストを撥液部として用いることで、上記透明基板の凹凸を形成するとともに上記撥液部の形成を一度に行うことができるからである。
本発明における光散乱部は、上記透明基板の凸部の上部表面上に形成されるものである。
特に60以上であることが好ましい。ヘイズ値が上記範囲に満たない場合は十分な光散乱効果が得られない場合があるからである。
本発明の半透過型液晶表示装置用カラーフィルタの機能部としては、撥液部および光散乱部以外に、例えば図4から図6に示すような様々の機能部が挙げられる。
なお、図5中の符号のうち、図4と共通なものについては同様であるので説明を省略する。
なお、図6中の符号のうち、図4と共通なものについては同様であるので説明を省略する。
本発明の半透過型液晶表示装置用カラーフィルタは、上記透明基板、着色層および機能部以外にも、例えば、遮光部、オーバーコート層や透明電極層、更には配向膜や柱状スペーサ等が形成されたものであってもよい。
次に、本発明の半透過型液晶表示装置用カラーフィルタの製造方法について説明する。
本発明の半透過型液晶表示装置用カラーフィルタの製造方法としては、透明基板の凸部の上部表面上に撥液部を有するものの製造方法(以下、第一の態様とする。)と、透明基板の凸部の上部表面上に光散乱部を有するものの製造方法(以下、第二の態様とする。)とがある。以下にそれぞれの態様について説明する。
本態様の半透過型液晶表示装置用カラーフィルタの製造方法は、凹凸が形成された透明基板と、上記透明基板上に上記透明基板を覆うように形成された着色層とを有し、上記透明基板の凹部および上記透明基板の凹部上に形成された着色層を透過光用領域として用い、上記透明基板の凸部および上記透明基板の凸部に形成された着色層を反射光用領域として用いる半透過型液晶表示装置用カラーフィルタの、上記透明基板の凸部が光路差調整機能を有し、上記透明基板の凸部の上部表面上に撥液部を有することを特徴とする半透過型液晶表示装置用カラーフィルタの製造方法であって、上記透明基板上に透明性および撥液性を有するフォトレジストからなるフォトレジスト層を形成するフォトレジスト層形成工程と、上記フォトレジスト層を露光する露光工程と、上記フォトレジスト層を現像してパターン状にする現像工程と、上記透明基板をエッチングして上記透明基板の凹凸を形成する凹凸形成工程とを少なくとも有し、上記凹凸形成工程で残存した上記フォトレジスト層を用いて上記透明層の凸部の上部表面上に撥液機能を付与することを特徴とする。
本工程は上記透明基板上に透明性および撥液性を有するフォトレジストからなるフォトレジスト層を形成する工程である。
まず、上記撥液部形成方法の第1実施態様について説明する。本実施態様における撥液部の形成方法としては、透明基板上にパターン形成されたフォトレジスト層にフッ素化合物を用いてプラズマを照射することにより、撥液化処理を行って撥液部を形成する方法である。
ドライフィルムレジストによるフォトレジスト層の形成方法は、減圧乾燥工程等がないので、工程を簡略化することができ、製造コストを削減することが可能である。
次に、撥液性着色層形成工程の第2実施態様について説明する。本実施態様における撥液部の形成方法としては、撥液性を有するフォトレジストを用いて撥液部を形成する方法である。
本工程は、上記フォトレジスト層を露光する工程である。
次に、本発明における現像工程について説明する。本発明における現像工程は、上記フォトレジスト層を現像する工程である。
本工程は、上記透明基板をエッチングして凹凸を形成する工程である。
本態様の半透過型液晶表示装置用カラーフィルタの製造方法は、凹凸が形成された透明基板と、上記透明基板上に上記透明基板を覆うように形成された着色層とを有し、上記透明基板の凹部および上記透明基板の凹部上に形成された着色層を透過光用領域として用い、上記透明基板の凸部および上記透明基板の凸部に形成された着色層を反射光用領域として用いる半透過型液晶表示装置用カラーフィルタの、上記透明基板の凸部が光路差調整機能を有し、上記透明基板の凸部の上部表面上に光散乱部を有することを特徴とする半透過型液晶表示装置用カラーフィルタの製造方法であって、上記透明基板上にフォトレジスト層を形成するフォトレジスト層形成工程と、上記フォトレジスト層を露光する露光工程と、上記フォトレジスト層を現像してパターン状にする現像工程と、上記透明基板をエッチングして上記透明基板の凹凸を形成する凹凸形成工程と、上記フォトレジスト層を剥離する剥離工程と、上記透明基板の凸部の上部表面に研磨によって光散乱機能を付与する研磨工程とを有することを特徴とする。
以下に、それぞれの工程について説明する。
本工程は、透明基板上にフォトレジスト層を形成する工程である。
本態様の露光工程は、上記フォトレジスト層を露光する工程であり、現像工程は、上記フォトレジスト層を現像する工程であり、凹凸形成工程は、上記透明基板をエッチングして上記透明基板に凹凸を形成する工程である。
本工程は、上記透明基板上の上記フォトレジスト層を剥離する工程である。
本工程は、上記透明基板の凸部の上部表面に研磨によって光散乱機能を付与する工程である。本工程を行うことで、研磨の度合いによって光散乱効果を調整することが可能である。
本発明は、上述した工程以外に必要な工程を適宜有していてもよい。例えば上記凹凸が形成された透明基板上に着色層を形成する着色層形成工程、着色層上に配向膜を形成する配向膜形成工程、透明電極層を形成する透明電極層形成工程等が挙げられる。このような各工程については、一般的なカラーフィルタの製造方法の際に行なわれる方法と同様とすることができる。
実施例1として、撥液性を有するフォトレジスト層をフォトリソグラフィーにて形成後、エッチングにて光路差調整層を形成する例を示す。
液晶表示装置用カラーフィルタ向けとして一般的な無アルカリガラス(コーニング社製 EAGLE2000)を用い、以下組成のネガ型感光性樹脂溶液をスピンコーティング法にて塗布した。
・メタクリル酸−スチレン−メタクリル酸共重合体 ・・・42.0重量部
・ペンタエリスリトールペンタアクリレート ・・・32.0重量部
・エポキシ樹脂(ジャパン エポキシ レジン(株)製) ・・・18.0重量部
・イルガキュア907(チバ・スペシャリティ・ケミカルズ社製) ・・・7.0重量部
・フッ素系界面活性剤(大日本インキ(株)製 F475) ・・・1.0重量部
・プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート ・・・300重量部
80℃のホットプレート上にて180秒間加熱を行った後、プロキシミティ露光機(株式会社トプコン社製 TME−400R)にて所定のフォトマスクを用いて露光を行った。フォトマスクは石英ガラス製であり、表面の酸化クロム膜上に所定のパターンが描画してあるものを使用した。高圧水銀ランプを光源とし、条件は、露光量100mJ/cm2(波長365nm)および露光ギャップ(透明基板とフォトマスク間距離)150μmとした。KOH系のアルカリ現像液を用いて現像を行い、200℃のオーブンにて30分焼成を行った。透明基板上に線幅30μm、膜厚0.5μmでストライプ状のフォトレジスト層を形成できた。
上記撥液部が形成された上記透明基板を、エッチング溶液としてフッ酸を20wt%含む水溶液を用い120秒処理し透明層を形成した。フォトレジスト層と透明層を合わせた光路差調整層の膜厚は2.7μmであった。また、最表面のフォトレジスト層の水との接触角を接触角測定器(協和界面科学(株)製CA−Z型)を用いて測定(マイクロシリンジから液滴を滴下して30秒後)したところ23.5°であった。
着色層に用いるネガ型着色レジストとして以下組成の感光性樹脂溶液をスピンコーティング法にて塗布した。
・赤色顔料(チバ・スペシャリティ・ケミカルズ社製 クロモフタルレッドA2B)
・・・4.8重量部
・黄色顔料(BASF社製 パリオトールイエローD1819) ・・・1.2重量部
・分散剤(ビックケミー社製 ディスパービック161) ・・・3.0重量部
・モノマー(サートマー社製SR399) ・・・4.0重量部
・ポリマーI ・・・5.0重量部
・イルガキュア907(チバ・スペシャリティ・ケミカルズ社製)・・・1.4重量部
・(2,2‘ビス(o-クロロフェニル)-4,5,4',5'-テトラフェニル-1,2’-ビイミダゾール) ・・・0.6重量部
・プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート ・・・80.0重量部
※ポリマーIはベンジルメタクリレート:スチレン:アクリル酸:2-ヒドロキシエチルメタクリレート=15.6:37.0:30.5:16.9(モル比)の共重合体100モル%に対して、2-メタクリロイルオキシエチルイソシアネートを16.9%付加したものであり、重量平均分子量は42500である。
80℃のホットプレート上にて180秒間加熱を行った後、プロキシミティ露光機(株式会社トプコン社製 TME−400R)にて所定のフォトマスクを用いて露光を行った。フォトマスクは石英ガラス製であり、表面の酸化クロム膜上に所定のパターンが描画してあるものを使用した。高圧水銀ランプを光源とし、条件は、露光量100mJ/cm2(波長365nm)および露光ギャップ(透明基板とフォトマスク間距離)150μmとした。
KOH系のアルカリ現像液を用いて現像を行い、200℃のオーブンにて30分焼成を行った。透過光用領域すなわちガラスエッチング部分の着色層膜厚は2.0μm、反射光用領域すなわち光路差調整層上の着色層膜厚は0.8μmであった。
実施例1にて用いたフォトレジスト層用のネガ型レジストの代わりに、撥液性を有しないフォトレジスト層用材料として下記の組成のネガ型感光性樹脂溶液を用いた。
・メタクリル酸−スチレン−メタクリル酸共重合体 ・・・42.0重量部
・ペンタエリスリトールペンタアクリレート ・・・32.0重量部
・エポキシ樹脂(ジャパン エポキシ レジン(株)製) ・・・18.0重量部
・イルガキュア907(チバ・スペシャリティ・ケミカルズ社製) ・・・7.0重量部
・プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート ・・・300重量部
透明基板上に形成した凸部を光路差調整層に用いることで、実施例1および実施例2で形成されたカラーフィルタの反射光用領域の着色層は輝度の高いものとすることができた。また、撥液性を有するフォトレジストにより、光路差調整層に撥液性を付与した実施例1では、光路差調整層に撥液性を有しない実施例2に比べて、反射光用領域の着色層をより薄膜化することができた。
実施例3として、レジストをフォトリソグラフィーにて形成後、エッチングにて光路差調整層を形成したのち、凸部の液晶表示反射部領域に対し研磨を行い、散乱機能を付与する例を示す。
液晶表示装置用カラーフィルタ向けとして一般的な無アルカリガラス(コーニング社製 EAGLE2000)を用い、下記組成のポジ型感光性樹脂溶液を塗布し乾燥した。
・アルカリ可溶性ノボラック樹脂(ジャパン エポキシ レジン(株)製 MP402FPY) ・・・90重量部
・キノンジアジド基含有ベンゾフェノン化合物(東洋合成工業(株)製 NTester
) ・・・9重量部
・添加剤(信越化学工業(株)製KBM-403)・・・1重量部
・溶剤(プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート) ・・・250重量部
・溶剤(シクロヘキサノン) ・・・50重量部
80℃のホットプレート上にて180秒間加熱を行った後、プロキシミティ露光機(株式会社トプコン社製 TME−400R)にて所定のフォトマスクを用いて露光を行った。フォトマスクは石英ガラス製であり、表面の酸化クロム膜上に所定のパターンが描画してあるものを使用した。高圧水銀ランプを光源とし、条件は、露光量100mJ/cm2(波長365nm)および露光ギャップ(透明基板とフォトマスク間距離)150μmとした。KOH系のアルカリ現像液を用いて現像を行い不要なレジスト部を除去した。
次に、上記透明基板を、エッチング溶液としてフッ酸を20wt%含む水溶液を用い160秒処理し透明層を形成したのち、残存したレジスト部をKOH系の剥離液を用いて除去した。以上の工程により透明基板上に線幅30μm、および膜厚2.7μmの光路差調整層が形成できた。
光路差調整層が形成された上記透明基板の凸部上に下記の方法により散乱機能を付与した。研磨剤として、2.5μmの粒径を有する酸化アルミニウムを10wt%およびフッ酸を10wt%含む水溶液を用い、回転式の研磨装置を用い20rpmの回転数にて45秒間研磨を行ったところ、光路差調整層の表面に散乱部が形成された。表面粗度を測定したところ、700nmであった。
実施例1と同様の感光性樹脂溶液をスピンコーティング法にて塗布し、80℃のホットプレート上にて180秒間加熱を行った後、プロキシミティ露光機(株式会社トプコン社製 TME−400R)にて所定のフォトマスクを用いて露光を行った。フォトマスクは石英ガラス製であり、表面の酸化クロム膜上に所定のパターンが描画してあるものを使用した。高圧水銀ランプを光源とし、条件は、露光量100mJ/cm2(波長365nm)および露光ギャップ(透明基板とフォトマスク間距離)150μmとした。KOH系のアルカリ現像液を用いて現像を行い、200℃のオーブンにて30分焼成を行った。透過光用領域すなわちガラスエッチング部分の着色層膜厚は2.0μm、反射光用領域すなわち光路差調整層上の着色層膜厚は1.0μmであった。
実施例3のカラーフィルタを用いて液晶表示装置を作製したところ、反射表示での虹色の干渉光が低減できることが確認できた。
2 … 着色層
3 … 撥液部
3’ … フォトレジスト層
4 … 光散乱部
5 … フォトマスク
6 … 露光光
Claims (7)
- 凹凸が形成された透明基板と、前記透明基板上に前記透明基板を覆うように形成された着色層とを有し、前記透明基板の凹部および前記透明基板の凹部上に形成された着色層を透過光用領域として用い、前記透明基板の凸部および前記透明基板の凸部上に形成された着色層を反射光用領域として用いる半透過型液晶表示装置用カラーフィルタであって、
前記透明基板の凸部が光路差調整機能を有することを特徴とする半透過型液晶表示装置用カラーフィルタ。 - 前記透明基板の凸部の高さが、0.5μm〜5.0μmの範囲内であることを特徴とする請求項1に記載の半透過型液晶表示装置用カラーフィルタ。
- 前記透明基板の凸部の上部表面上に機能部を有することを特徴とする請求項1または請求項2に記載の半透過型液晶表示装置用カラーフィルタ。
- 前記機能部が撥液部であることを特徴とする請求項3に記載の半透過型液晶表示装置用カラーフィルタ。
- 前記機能部が光散乱部であることを特徴とする請求項3に記載の半透過型液晶表示用カラーフィルタ。
- 請求項4に記載の半透過型液晶表示装置用カラーフィルタを製造する半透過型液晶表示装置用カラーフィルタの製造方法であって、
前記透明基板上に透明性および撥液性を有するフォトレジストからなるフォトレジスト層を形成するフォトレジスト層形成工程と、前記フォトレジスト層を露光する露光工程と、前記フォトレジスト層を現像してパターン状にする現像工程と、前記透明基板をエッチングして前記透明基板の凹凸を形成する凹凸形成工程とを少なくとも有し、
前記凹凸形成工程で残存した前記フォトレジスト層を用いて前記透明層の凸部の上部表面上に撥液機能を付与することを特徴とする半透過型液晶表示装置用カラーフィルタの製造方法。 - 請求項5に記載の半透過型液晶表示装置用カラーフィルタを製造する半透過型液晶表示装置用カラーフィルタの製造方法であって、
前記透明基板上にフォトレジスト層を形成するフォトレジスト層形成工程と、前記フォトレジスト層を露光する露光工程と、前記フォトレジスト層を現像してパターン状にする現像工程と、前記透明基板をエッチングして前記透明基板の凹凸を形成する凹凸形成工程と、前記フォトレジスト層を剥離する剥離工程と、前記透明基板の凸部の上部表面に研磨によって光散乱機能を付与する研磨工程とを有することを特徴とする半透過型液晶表示装置用カラーフィルタの製造方法。
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Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2011092952A1 (ja) * | 2010-01-29 | 2011-08-04 | シャープ株式会社 | カラーフィルタ基板、液晶表示パネル及びカラーフィルタ基板の製造方法 |
Citations (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2001166289A (ja) * | 1999-12-13 | 2001-06-22 | Sony Corp | 表示装置及びその製造方法とカラーフィルタ |
JP2001221995A (ja) * | 1999-12-03 | 2001-08-17 | Seiko Epson Corp | 液晶装置および電子機器 |
JP2003107436A (ja) * | 2001-07-26 | 2003-04-09 | Seiko Epson Corp | 液晶装置用基板、液晶装置、及び、電子機器 |
JP2004037499A (ja) * | 2002-06-28 | 2004-02-05 | Seiko Epson Corp | 電気光学装置用基板、電気光学装置用基板の製造方法、電気光学装置、および電子機器 |
JP2004102243A (ja) * | 2002-08-14 | 2004-04-02 | Lg Phillips Lcd Co Ltd | 反射透過型液晶表示装置及びその製造方法 |
JP2004245873A (ja) * | 2003-02-10 | 2004-09-02 | Seiko Epson Corp | 電気光学装置、及び電気光学装置の製造方法、並びに投射型表示装置 |
JP2004361788A (ja) * | 2003-06-06 | 2004-12-24 | Toray Ind Inc | 液晶表示装置用基板の製造方法、および液晶表示装置用基板 |
JP2005241728A (ja) * | 2004-02-24 | 2005-09-08 | Dainippon Printing Co Ltd | 半透過型カラー液晶表示装置用カラーフィルタおよびそれを用いた半透過型カラー液晶表示装置 |
-
2007
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Patent Citations (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2001221995A (ja) * | 1999-12-03 | 2001-08-17 | Seiko Epson Corp | 液晶装置および電子機器 |
JP2001166289A (ja) * | 1999-12-13 | 2001-06-22 | Sony Corp | 表示装置及びその製造方法とカラーフィルタ |
JP2003107436A (ja) * | 2001-07-26 | 2003-04-09 | Seiko Epson Corp | 液晶装置用基板、液晶装置、及び、電子機器 |
JP2004037499A (ja) * | 2002-06-28 | 2004-02-05 | Seiko Epson Corp | 電気光学装置用基板、電気光学装置用基板の製造方法、電気光学装置、および電子機器 |
JP2004102243A (ja) * | 2002-08-14 | 2004-04-02 | Lg Phillips Lcd Co Ltd | 反射透過型液晶表示装置及びその製造方法 |
JP2004245873A (ja) * | 2003-02-10 | 2004-09-02 | Seiko Epson Corp | 電気光学装置、及び電気光学装置の製造方法、並びに投射型表示装置 |
JP2004361788A (ja) * | 2003-06-06 | 2004-12-24 | Toray Ind Inc | 液晶表示装置用基板の製造方法、および液晶表示装置用基板 |
JP2005241728A (ja) * | 2004-02-24 | 2005-09-08 | Dainippon Printing Co Ltd | 半透過型カラー液晶表示装置用カラーフィルタおよびそれを用いた半透過型カラー液晶表示装置 |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2011092952A1 (ja) * | 2010-01-29 | 2011-08-04 | シャープ株式会社 | カラーフィルタ基板、液晶表示パネル及びカラーフィルタ基板の製造方法 |
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Publication number | Publication date |
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