JP2009075090A - 波面収差計測装置および方法、並びに波面収差調整方法 - Google Patents

Abstract

【課題】 干渉法を用いることなく、比較的簡素な構成にしたがって被検光学系の波面収差を計測することのできる波面収差計測装置。
【解決手段】 被検光学系（２０）の波面収差を計測する波面収差計測装置は、計測光を供給する点光源（３ａ：１〜３）と、点光源と光学的に共役な位置に配置された検出面を有する光検出器（７）と、点光源と光検出器との間の光路中に配置されて被検光学系を経た光に波面の変化を付与する波面変化付与部（５）と、光検出器の出力と波面変化付与部において付与される波面の変化とに基づいて、被検光学系の波面収差を計測する計測部（６）とを備える。
【選択図】 図１

Description

本発明は、波面収差計測装置および方法並びに波面収差調整方法に関し、特に被検光学系において発生する波面変化に関する情報を計測する波面センサを用いた技術に関する。

光学系（レンズ、ミラーなどの単体の光学部材を含む広い概念）からは波面収差が発生することが知られている。レンズ設計における波面収差の設計値から実際に作製されたレンズの波面収差がずれることがある。干渉法以外の手法を用いて被検光学系の波面収差を計測する波面収差計測装置として、レンズアレイを利用するシャック・ハルトマン法による波面センサが知られている（例えば特許文献１を参照）。

特許第３４１７３９９号明細書

干渉法を用いる波面収差計測装置では、光源がコヒーレントである必要があるため、光源にかかるコストが高くなり、ひいては装置の製造コストも高くなり易い。また、高価な原器（干渉法で基準となる参照波面を発生させるための工具）を必要とするため、装置の製造コストがさらに高くなり易い。

本発明は、前述の課題に鑑みてなされたものであり、干渉法を用いることなく、比較的簡素な構成にしたがって被検光学系の波面収差を計測することのできる波面収差計測装置および方法を提供することを目的とする。また、本発明の別の目的は、光学系の波面収差を低減又は打ち消すことができる新規な波面収差調整方法を提供することである。

前記課題を解決するために、本発明の第１態様に従えば、被検光学系の波面収差を計測する波面収差計測装置であって、
計測光を供給する点光源と、
前記点光源と光学的に共役な位置に配置された検出面を有する光検出器と、
前記点光源と前記光検出器との間の光路中に配置されて前記被検光学系を経た光に波面の変化を付与する波面変化付与部と、
前記光検出器の出力と前記波面変化付与部において付与される波面の変化とに基づいて、前記被検光学系の波面収差を計測する計測部とを備えている波面収差計測装置が提供される。

本発明の第２態様に従えば、被検光学系の波面収差を計測する波面収差計測方法であって、
点光源から放射されて前記被検光学系を経た光に波面の変化を付与し、
前記波面の変化が付与された光が前記点光源と光学的に共役な所定面に形成するスポット光を検出し、
前記スポット光の光強度が最大になるように付与される波面の変化に基づいて、前記被検光学系の波面収差を計測する波面収差計測方法が提供される。

本発明の第３態様に従えば、第２態様の波面収差計測方法により計測された波面収差に基づいて、前記被検光学系の波面収差を調整する方法が提供される。この調整方法において、所望の波面収差を発生する状態に可変ミラーを固定し、次いで前記スポット光の光強度が最大になるように前記被検光学系の波面収差を調整し得る。

本発明の波面収差計測装置および方法では、点光源から放射されて被検光学系を経た光に波面の変化を付与しつつ、点光源と光学的に共役な所定面に形成されるスポット光を検出する。そして、例えばスポット光の光強度が最大になるように付与される波面の変化に基づいて、被検光学系の波面収差を計測する。

このように、本発明の波面収差計測装置および方法では、干渉法を用いることなく、比較的簡素な構成にしたがって被検光学系の波面収差を計測することができる。その結果、光源がコヒーレントである必要がないため、光源にかかるコストが低くなるだけでなく、高価な原器を必要としないため、装置の製造コストを低く抑えることができる。

本発明の波面収差調整方法を用いることにより、光学系の波面収差を効率よく低減または打ち消すように調整することができる。

本発明の実施形態を、添付図面に基づいて説明する。図１は、本発明の第１実施形態にかかる波面収差計測装置の構成を概略的に示す図である。第１実施形態では、１つまたは複数のレンズからなる被検光学系２０の波面収差の計測に対して本発明の波面収差計測装置を適用している。第１実施形態の波面収差計測装置は、例えば被検光学系２０の使用光と同じ波長の計測光を供給する光源１を備えている。光源１として、白熱電球、ハロゲンランプ、水銀ランプなどを用いることができる。

光源１から放射された光は、集光レンズ２を介して、ピンホール部材３に形成されたピンホール３ａを照明する。ピンホール３ａを通過した光は、理想的な球面波の光となって、ビームスプリッター４に入射する。すなわち、光源１と集光レンズ２とピンホール部材３とは、理想的な球面波の光を放射する点光源を形成する手段を構成している。ビームスプリッター４に入射して反射された光は、被検光学系２０に入射する。

ピンホール部材３のピンホール３ａは、被検光学系２０の後側焦点位置に配置されている。したがって、被検光学系２０を透過した光は、被検光学系２０の波面収差の影響を無視すれば平行光とみなせる状態で、可変形ミラー（デフォーマブルミラー）５に入射する。可変形ミラー５は、図２に示すように、例えば初期的に平面形状の反射面を有する反射部材（反射鏡）５ａと、反射部材５ａの反射面（ミラー）に対応するように二次元的に並列配置された複数の駆動素子５ｂと、ミラー基材５ｃと、複数の駆動素子５ｂを個別に駆動するための駆動部５ｄとを有する。反射部材５ａは、例えば、金やアルミの蒸着膜や誘電体多層膜から形成されている。

駆動部５ｄは、制御処理系６からの制御信号に基づいて、複数の駆動素子５ｂを個別に駆動する。複数の駆動素子５ｂは、ミラー基材５ｃに取り付けられ、互いに独立した押し／引き動作により反射部材５ａの反射面を所望の面形状に変更する。すなわち、反射部材５ａの反射面は、複数の駆動素子５ｂが接続された位置を中心とした複数の部位により区画されているとみなすことができる。駆動素子５ｂとして、例えば、圧電素子やボール螺子などのアクチュエータを使用することができる。例えば、反射部材として、アルミコートを施した窒化シリコンの薄膜を用い、薄膜と背面の電極との間にかける電圧を調整することで静電気力によりミラー形状を変形する反射鏡が知られている。可変形ミラー５での反射により波面の変化が付与された光は、被検光学系２０およびビームスプリッター４を介して、ピンホール３ａと光学的に共役な位置に配置された光検出器７の検出面に、ピンホール３ａの像すなわちスポット光を形成する。

光検出器７として、ＰＳＤ（位置検出素子：フォトダイオードの表面抵抗を利用したスポット光の位置センサ）、ＣＣＤ（エリアセンサ）などを用いることができる。光検出器７で検出されたスポット光の光強度に関する情報は、制御処理系６に供給される。制御処理系６は、光検出器７の出力をモニターしながら、光検出器７で検出されるスポット光の光強度が最大になるように、可変形ミラー５の反射面の形状を適宜変化させる。例えば、以下のようにして可変形ミラー５の駆動素子を制御することができる。可変形ミラー５の初期設定位置において、複数の駆動素子を、順次、伸縮させながら光検出器の信号を計測する。各駆動素子の駆動位置に対する光検出器が最大となる駆動位置を駆動素子ごとに最適位置として制御処理系６内のメモリ（不図示）に記憶する。全ての駆動素子についての最適位置を求めた後、求められた駆動位置（最適位置）に全ての駆動素子、すなわち、可変形ミラー５の反射面を設定する。

可変形ミラー５の反射面の形状が被検光学系２０を透過して可変形ミラー５へ入射する光の波面と同じ形状になれば、可変形ミラー５の反射面で反射された光は被検光学系２０を透過してきた往路をそのまま逆進することになり、光検出器７の検出面にはピンホール３ａの鮮明な像（スポット光）が最も拡がりの抑えられた状態で形成され、スポット光の光強度（ひいては光検出器７の出力）が最大になる。

こうして、制御処理系６は、光検出器７の検出面に形成されるスポット光の光強度が最大になるように可変形ミラー５の反射面の形状を適宜変化させ、スポット光の光強度が最大になるときの可変形ミラー５の反射面の形状に関する情報、すなわち可変形ミラー５により付与される波面の変化に関する情報に基づいて、被検光学系２０の波面収差を計測する。計測された波面収差から、被検光学系２０の波面収差の設計値（理想的な波面収差）からのずれも求められる。第１実施形態の波面収差計測装置では、干渉法を用いることなく、比較的簡素な構成にしたがって被検光学系２０の波面収差を計測することができる。

ちなみに、被検光学系２０の偏心成分がない場合、スポット光は光検出器７の検出面において光軸の位置に形成される。したがって、例えば光検出器７の検出面の中心が光軸の位置と一致するように設定すれば、光検出器７の検出面の中心からのスポット光の形成位置の位置ずれ情報（一般的にはスポット光の位置情報）に基づいて、被検光学系２０の偏心成分を計測することができる。

あるいは、スポット光が光検出器７の検出面の中心位置（一般的には検出面上の所定位置）へ移動するように、可変形ミラー５の反射面の形状を適宜変化させ、スポット光が光検出器７の検出面の中心位置に形成されるときの可変形ミラー５の反射面の形状の傾斜成分（ひいては可変形ミラー５により付与される波面の変化の傾斜成分）に基づいて、被検光学系２０の偏心成分を計測し、さらに必要に応じて被検光学系２０の偏心成分を補正（調整）することができる。偏心成分が存在すると、検出しようとする被検光学系２０から生じる波面に影響を及ぼす。このために、波面収差を一層正確に検出するには偏心成分を補正（調整）した状態で波面収差を計測するのが望ましい。

図３は、本発明の第２実施形態にかかる波面収差計測装置の構成を概略的に示す図である。第２実施形態では、１つの凹面反射鏡からなる被検光学系すなわち被検凹面ミラー２１の波面収差の計測に対して本発明の波面収差計測装置を適用している。以下、第１実施形態との相違点に着目して、第２実施形態にかかる波面収差計測装置の構成および作用効果を説明する。

第２実施形態の波面収差計測装置では、光源１から放射された光が、集光レンズ２を介して、ピンホール部材３のピンホール３ａを照明する。ピンホール３ａからの光は、理想的な球面波の状態で、ビームスプリッター４に入射する。ビームスプリッター４で反射された光は、コリメータレンズとして機能するレンズ８により平行光に変換された後、被検凹面ミラー２１に入射する。

被検凹面ミラー２１で反射された光は、レンズ８の被検凹面ミラー２１側の光学面上にピンホール３ａの像を形成した後、レンズ８を介して、ビームスプリッター４に入射する。換言すれば、第２実施形態では、レンズ８の被検凹面ミラー２１側の光学面上にピンホール３ａの像が形成されるように、レンズ８と被検凹面ミラー２１との光軸に沿った間隔が調整されている。

ビームスプリッター４を透過した光は、コリメータレンズ９により平行光に変換された後、ビームスプリッター１０に入射する。ビームスプリッター１０を透過した光は、被検凹面ミラー２１の波面収差の影響を無視すれば平行光とみなせる状態で、可変形ミラー５に入射する。可変形ミラー５での反射により波面の変化が付与された光は、ビームスプリッター１０に入射する。

ビームスプリッター１０で反射された光は、集光レンズ１１を介して、ピンホール３ａと光学的に共役な位置に配置された光検出器７の検出面に、ピンホール３ａの像すなわちスポット光を形成する。光検出器７で検出されたスポット光の光強度に関する情報は、被検凹面ミラー２１の波面収差を計測する計測部としての制御処理系６に供給される。

第２実施形態においても第１実施形態と同様に、制御処理系６は、光検出器７の出力をモニターしながら、光検出器７で検出されるスポット光の光強度が最大になるように、可変形ミラー５の反射面の形状を適宜変化させる。そして、制御処理系６は、光検出器７の検出面に形成されるスポット光の光強度が最大になるときの可変形ミラー５の反射面の形状に関する情報（すなわち可変形ミラー５により付与される波面の変化に関する情報）に基づいて、被検凹面ミラー２１の波面収差を計測する。

ただし、第２実施形態では、被検凹面ミラー２１の反射面が、当該反射面からレンズ８の被検凹面ミラー２１側の光学面までの光軸に沿った距離の２倍の長さの曲率半径を有する放物面であるときに、光検出器７の検出面に形成されるスポット光の光強度が最大になる（スポット光の大きさが最小になる）。したがって、制御処理系６では、このことを考慮して、可変形ミラー５により付与される波面の変化に関する情報を被検凹面ミラー２１の波面収差に換算する。こうして、第２実施形態においても、干渉法を用いることなく、比較的簡素な構成にしたがって被検凹面ミラー２１の波面収差を計測することができる。

また、制御処理系６は、光検出器７の検出面に形成されるスポット光の位置情報（例えば検出面の中心からのスポット光の形成位置の位置ずれ情報）に基づいて、被検凹面ミラー２１の偏心成分を計測する。あるいは、制御処理系６は、スポット光が光検出器７の検出面の所定位置（例えば検出面の中心位置）へ移動するように、可変形ミラー５の反射面の形状を適宜変化させ、そのときの可変形ミラー５の反射面の形状の傾斜成分（ひいては可変形ミラー５により付与される波面の変化の傾斜成分）に基づいて、被検凹面ミラー２１の偏心成分を計測する。

図４は、本発明の第３実施形態にかかる波面収差計測装置の構成を概略的に示す図である。第３実施形態では、１つの凸面反射鏡からなる被検光学系すなわち被検凸面ミラー２２の波面収差の計測に対して本発明の波面収差計測装置を適用している。以下、第１実施形態および第２実施形態との相違点に着目して、第３実施形態にかかる波面収差計測装置の構成および作用効果を説明する。

第３実施形態の波面収差計測装置では、光源１から放射された光が、集光レンズ２を介して、ピンホール部材３のピンホール３ａを照明する。ピンホール３ａからの光は、理想的な球面波の状態で、ビームスプリッター４に入射する。ビームスプリッター４で反射された光は、集光レンズとして機能するレンズ８を介して、被検凸面ミラー２２の反射面の曲率中心位置Ｏ’に集光するように、被検凸面ミラー２２に垂直入射する。

換言すれば、第３実施形態では、被検凸面ミラー２２が介在しない状態において被検凸面ミラー２２の反射面の曲率中心位置Ｏ’にピンホール３ａの像が形成されるように、ピンホール３ａとレンズ８との光軸に沿った間隔が調整されている。被検凸面ミラー２２で反射された光は、レンズ８を介して、ビームスプリッター４に入射する。

ビームスプリッター４を透過した光は、ピンホール３ａの像を形成した後、コリメータレンズ９により平行光に変換され、ビームスプリッター１０に入射する。ビームスプリッター１０を透過した光は、被検凸面ミラー２２の波面収差の影響を無視すれば平行光とみなせる状態で、可変形ミラー５に入射する。可変形ミラー５での反射により波面の変化が付与された光は、ビームスプリッター１０に入射する。

ビームスプリッター１０で反射された光は、集光レンズ１１を介して、ピンホール３ａと光学的に共役な位置に配置された光検出器７の検出面に、ピンホール３ａの像すなわちスポット光を形成する。光検出器７で検出されたスポット光の光強度に関する情報は、被検凸面ミラー２２の波面収差を計測する計測部としての制御処理系６に供給される。

第３実施形態においても第１実施形態と同様に、制御処理系６は、光検出器７の出力をモニターしながら、光検出器７で検出されるスポット光の光強度が最大になるように、可変形ミラー５の反射面の形状を適宜変化させる。そして、制御処理系６は、光検出器７の検出面に形成されるスポット光の光強度が最大になるときの可変形ミラー５の反射面の形状に関する情報（すなわち可変形ミラー５により付与される波面の変化に関する情報）に基づいて、被検凸面ミラー２２の波面収差を計測する。こうして、第３実施形態においても、干渉法を用いることなく、比較的簡素な構成にしたがって被検凸面ミラー２２の波面収差を計測することができる。

また、制御処理系６は、光検出器７の検出面に形成されるスポット光の位置情報（例えば検出面の中心からのスポット光の形成位置の位置ずれ情報）に基づいて、被検凸面ミラー２２の偏心成分を計測する。あるいは、制御処理系６は、スポット光が光検出器７の検出面の所定位置（例えば検出面の中心位置）へ移動するように、可変形ミラー５の反射面の形状を適宜変化させ、そのときの可変形ミラー５の反射面の形状の傾斜成分（ひいては可変形ミラー５により付与される波面の変化の傾斜成分）に基づいて、被検凸面ミラー２２の偏心成分を計測する。

第２実施形態と第３実施形態とを比較すると、波面収差計測装置は互いに同じ機能を有する要素により構成されている。したがって、光源ユニット（光源１、集光レンズ２、ピンホール部材３）とレンズ８との間隔を調整する機構、およびビームスプリッター４と検出・制御ユニット（コリメータレンズ９、ビームスプリッター１０、可変形ミラー５、集光レンズ１１、光検出器７、制御処理系６）との間隔を調整する機構を付設することにより、凹面反射鏡からなる被検光学系にも凸面反射鏡からなる被検光学系にも適用可能な波面収差計測装置を実現することができる。

上記実施形態では、本発明に従う波面収差計測装置及び波面収差計測方法を説明してきたが、本発明を被検光学系のための波面収差調整方法に適用することができる。第１実施形態で被検光学系の波面収差が計測されたので、この計測された波面収差を用いて被検光学系の波面収差を所望の波面収差の値になるように被検光学系を調整（または修正）することができる。その具体的な方法を以下に説明する。設計値（例えば、ゼロ）の波面収差を持つ被検光学系２０を、理想的な被検光学系２０とする。最初に、可変形ミラー５の面形状を、そのような理想的な被検光学系２０を経て得られるであろう理想的な波面収差が生じるような面形状に設定し、固定する。例えば、理想的な被検光学系２０の波面収差がゼロであるならば、そのような被検光学系２０は可変形ミラー５の面形状を変形して波面収差を調節する必要がないので、可変形ミラー５の面形状を完全に平坦な面に設定し、固定する。このように固定した可変形ミラー５を図１のような配置で設置する。もし、被検光学系２０の波面収差がゼロ（所望の波面収差）になるような状態であれば（既に、被検光学系が調整されていれば）、可変ミラー５で反射した反射光は被検光学系を通過した光路をそのまま逆進するので、光検出器７に照射されるスポット光の強度は最大となるはずである。被検光学系２０の波面収差がゼロに達していなければ、すなわち、所望の波面収差を発生する状態まで被検光学系２０が調整されていなければ、スポット光は広がるため検出される光強度は最大には至らない。従って、光検出器７に照射されるスポット光の強度が最大に近付くように、被検光学系２０の調整（または修正）を繰り返す。被検光学系２０の調整または修正は、例えば、被検光学系２０を構成するレンズの表面を研磨することで行うことができる。被検光学系２０が複数のレンズからなる場合にはレンズ間隔を調節することによっても調整できる。このような調整でどの程度まで波面収差を改善できたかは、入射光のピーク強度に対する出力光のピーク強度の比（ストレール比）等で評価することができる。なお、第１実施形態では、被検光学系２０の波面収差が既に計測できているので、その計測量に基づいて被検光学系２０を予め研磨などにより調整することができ（予備調整）、こうして予備調整された被検光学系２０を図1の配置で設置して、光検出器７のスポット光の強度が最大になっているかを確認する。もし最大になっていなければ、被検光学系２０を再度調整した後、図１の配置で設置してスポット光の強度を検査する。この作業を繰り返すことで、効率よく且つ確実に被検光学系を調整（または修正）することができる。

なお、上述の各実施形態では、点光源（３ａ：１〜３）と光検出器７との間の光路中に配置されて被検光学系（２０；２１；２２）を経た光に波面の変化を付与する波面変化付与部として、変形可能な１つの連続した反射面を有する可変形ミラー（デフォーマブルミラー）５を用いている。しかしながら、これに限定されることなく、図５に示すように、波面変化付与部として、二次元的に並列配置されて独立に姿勢を変化させる複数のミラー要素５０を有する二次元反射鏡アレイ５１、例えば、二次元ＭＥＭＳアレイなどを用いることもできる。この場合、ミラー要素５０は図２に示したように、駆動素子５ｂによりそれぞれ独立に駆動することができる。これらに限らず、被検光学系を経た光に波面の変化を付与する波面変化付与部の構成について様々な形態が可能である。例えば、２次元的に区画された複数の部屋に所定屈折率の流体を充填しておき、各部屋の光路長や流体の屈折率を独立して変化させることにより、それらの部屋を透過する光に波面変化を付与することができる。この場合、波面変化付与部を透過した光を平面ミラーを用いて反射させて被検光学系に戻すことができる。

上記実施形態の波面収差計測装置及び波面収差調整機構は、光源を必ずしも備えている必要はなく、計測や調整が行われている場所に設置してある光源を利用可能である。また、上記実施形態では、光の集光、反射及び分割のような作用に特定の光学素子を用いていたが、本発明はそれらの特定の光学素子の使用に限定するものではなく、そのような作用をもたらす任意の光学素子を用い得る。

本発明の第１実施形態にかかる波面収差計測装置の構成を概略的に示す図である。 図１の可変形ミラーの内部構成を概略的に示す図である。 本発明の第２実施形態にかかる波面収差計測装置の構成を概略的に示す図である。 本発明の第３実施形態にかかる波面収差計測装置の構成を概略的に示す図である。 本発明の変形例で用いることが出来る複数のミラー要素を有する二次元反射鏡アレイの概略図である。

符号の説明

１ 光源
２ 集光レンズ
３ ピンホール部材
３ａ ピンホール
４，１０ ビームスプリッター
５ 可変形ミラー（デフォーマブルミラー）
６ 制御処理系
７ 光検出器
８ レンズ
９ コリメータレンズ
１１ 集光レンズ
２０，２１，２２ 被検光学系

Claims (14)

1. 被検光学系の波面収差を計測する波面収差計測装置であって、
   計測光を供給する点光源と、
   前記点光源と光学的に共役な位置に配置された検出面を有する光検出器と、
   前記点光源と前記光検出器との間の光路中に配置されて前記被検光学系を経た光に波面の変化を付与する波面変化付与部と、
   前記光検出器の出力と前記波面変化付与部において付与される波面の変化とに基づいて、前記被検光学系の波面収差を計測する計測部とを備えている波面収差計測装置。
2. 前記計測部は、前記検出面に形成されるスポット光の光強度が最大になるように付与される波面の変化に基づいて、前記被検光学系の波面収差を計測する請求項１に記載の波面収差計測装置。
3. 前記計測部は、前記検出面に形成されるスポット光の位置が所定位置へ移動するように付与される波面の変化の傾斜成分に基づいて、前記被検光学系の偏心成分を計測する請求項１または２に記載の波面収差計測装置。
4. 前記計測部は、前記検出面に形成されるスポット光の位置情報に基づいて、前記被検光学系の偏心成分を計測する請求項１または２に記載の波面収差計測装置。
5. 前記波面変化付与部は、変形可能な反射面とそれを駆動する駆動素子を有する請求項１乃至４のいずれか１項に記載の波面収差計測装置。
6. 前記波面変化付与部は、二次元的に並列配置されて独立に姿勢を変化させる複数のミラー要素とそれらを駆動する駆動素子を有する請求項１乃至４のいずれか１項に記載の波面収差計測装置。
7. 上記光源は、非コヒーレント光源である請求項１乃至６のいずれか１項に記載の波面収差計測装置。
8. さらに、前記駆動素子を制御する制御部を備え、制御部は、前記検出面に形成されるスポット光の光強度が最大になるように前記駆動素子を制御する請求項１に記載の波面収差計測装置。
9. 被検光学系の波面収差を計測する波面収差計測方法であって、
   点光源から放射されて前記被検光学系を経た光に波面の変化を付与し、
   前記波面の変化が付与された光が前記点光源と光学的に共役な所定面に形成するスポット光を検出し、
   前記スポット光の光強度が最大になるように付与される波面の変化に基づいて、前記被検光学系の波面収差を計測する波面収差計測方法。
10. 前記スポット光の位置が所定位置へ移動するように付与される波面の変化に基づいて、前記被検光学系の偏心成分を計測することを特徴とする請求項９に記載の波面収差計測方法。
11. 前記スポット光の位置情報に基づいて、前記被検光学系の偏心成分を計測する請求項９に記載の波面収差計測方法。
12. 可変ミラーを用いて前記被検光学系を経た光に波面の変化を付与する請求項９に記載の波面収差計測方法。
13. 請求項１２に記載の波面収差計測方法において得られた波面収差を用いて前記被検光学系の波面収差を調整する方法。
14. 設計値の波面収差を有する被検光学系に対して所望の波面収差を発生する状態に前記可変ミラーを固定し、次いで前記スポット光の光強度が最大になるように前記被検光学系の波面収差を調整する請求項１３に記載の被検光学系の波面収差を調整する方法。

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