JP2009060285A - 画像処理装置、画像形成装置、および画像処理プログラム - Google Patents
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Abstract
【解決手段】画像処理装置10は、M(M≧3)階調の画素で表される入力画像データから、2値化処理の対象として順に選択される注目画素の階調値を取得する階調値取得部12aと、注目画素の階調値に周辺画素から拡散される誤差値を加算して得られる補正階調値に応じて、注目画素に対応する出力画像データの画素群の塗り潰しパターンを決定するパターン決定部12bとを備える。塗り潰しパターンには、網点の核を構成する第1パターンと、実質的に全ての画素が塗り潰されない第3パターンとが含まれ、パターン決定部12bは、補正階調値と空間的に周期的に変化する所定の閾値との大小関係に応じて第1パターンまたは第3パターンのいずれかに決定する。
【選択図】図1
Description
図1は、本実施の形態に係る画像処理装置10の構成を示すブロック図である。この画像処理装置10は、M(M≧3)階調の画素で表される入力画像データを、2階調の画素で表される出力画像データに変換するものである。
(1)参照画素の中に黒核パターンに決定された画素が存在し、かつ補正階調値が第1の閾値Th1未満である場合、黒成長パターンに決定される。
(2)参照画素の中に黒核パターンに決定された画素が存在せず、かつ補正階調値が第1の閾値Th1未満である場合、補正階調値が第2の閾値Th2(<Th1)未満であるとき、全白パターンに決定され、補正階調値が第2の閾値Th2以上であるとき、黒核パターンに決定される。
(3)参照画素の中に白核パターンに決定された画素が存在し、かつ補正階調値が第1の閾値Th1以上である場合、白成長パターンに決定される。
(4)参照画素の中に白核パターンに決定された画素が存在せず、かつ補正階調値が第1の閾値Th1以上である場合、補正階調値が第3の閾値Th3(>Th1)以上であるとき、全黒パターンに決定され、補正階調値が第3の閾値Th3未満であるとき、白核パターンに決定される。
以下、第2の実施の形態に係る画像処理装置について説明する。なお、本実施の形態に係る画像処理装置は、上記第1の実施の形態に係る画像処理装置と殆ど同じであるので、上記第1の実施の形態と共通する部分については、同一の符号を用い、説明を省略する。
以下、第3の実施の形態に係る画像処理装置について説明する。なお、本実施の形態に係る画像処理装置は、上記第2の実施の形態に係る画像処理装置と殆ど同じであるので、上記第2の実施の形態と共通する部分については、同一の符号を用い、説明を省略する。
Claims (9)
- M(M≧3)階調の画素で表される入力画像データから、2値化処理の対象として順に選択される画素(以下、「注目画素」と称す)の階調値を取得する階調値取得手段と、
前記注目画素の階調値に前記注目画素の周辺の画素から拡散される誤差値を加算して得られる補正階調値に応じて、前記注目画素に対応する出力画像データの画素群の塗り潰しパターンを決定するパターン決定手段と、
を備え、
前記塗り潰しパターンには、少なくとも、所定の複数個の画素が塗り潰され網点の核を構成する第1パターンと、実質的に全ての画素が塗り潰されない第3パターンと、が含まれ、
前記パターン決定手段は、前記補正階調値と空間的に周期的に変化する所定の閾値との大小関係に応じて前記第1パターンまたは前記第3パターンのいずれかに決定する、
ことを特徴とする画像処理装置。 - 請求項1に記載の画像処理装置であって、
前記塗り潰しパターンには、前記補正階調値に応じた個数の画素が塗り潰され前記第1パターンとともに網点を構成する第2パターンが含まれ、
前記パターン決定手段は、前記注目画素に隣接する所定の画素の中に前記第1パターンに決定された画素が存在する場合に、前記第2パターンに決定し、前記所定の画素の中に前記第1パターンに決定された画素が存在しない場合に、前記補正階調値と前記所定の閾値との大小関係に応じて前記第1パターンまたは前記第3パターンのいずれかに決定する、
ことを特徴とする画像処理装置。 - 請求項2に記載の画像処理装置であって、
前記第1パターンにおける所定の複数個の個数および前記第2パターンにおける補正階調値に応じた個数のうち少なくとも一方は、低濃度になるほど少なくなるように、前記注目画素の階調値に応じて変化する、
ことを特徴とする画像処理装置。 - 請求項3に記載の画像処理装置であって、
少なくとも前記第1パターンにおける所定の複数個の個数が前記注目画素の階調値に応じて変化する場合、前記所定の複数個の個数は、前記注目画素の階調値が所定値未満である低濃度域では固定値である、
ことを特徴とする画像処理装置。 - M(M≧3)階調の画素で表される入力画像データを取得する画像データ取得手段と、
前記入力画像データを2階調の画素で表される出力画像データに変換する画像処理手段と、
前記出力画像データに基づく画像を記録媒体上に形成する画像形成手段と、
を有し、
前記画像処理手段は、
前記入力画像データから、2値化処理の対象として順に選択される画素(以下、「注目画素」と称す)の階調値を取得する階調値取得手段と、
前記注目画素の階調値に前記注目画素の周辺の画素から拡散される誤差値を加算して得られる補正階調値に応じて、前記注目画素に対応する出力画像データの画素群の塗り潰しパターンを決定するパターン決定手段と、
を備え、
前記塗り潰しパターンには、少なくとも、所定の複数個の画素が塗り潰され網点の核を構成する第1パターンと、実質的に全ての画素が塗り潰されない第3パターンと、が含まれ、
前記パターン決定手段は、前記補正階調値と空間的に周期的に変化する所定の閾値との大小関係に応じて前記第1パターンまたは前記第3パターンのいずれかに決定する、
ことを特徴とする画像形成装置。 - コンピュータに、
M(M≧3)階調の画素で表される入力画像データから、2値化処理の対象として順に選択される画素(以下、「注目画素」と称す)の階調値を取得する手順と、
前記注目画素の階調値に前記注目画素の周辺の画素から拡散される誤差値を加算して得られる補正階調値に応じて、前記注目画素に対応する出力画像データの画素群の塗り潰しパターンを決定する手順と、
を実行させ、
前記塗り潰しパターンには、少なくとも、所定の複数個の画素が塗り潰され網点の核を構成する第1パターンと、実質的に全ての画素が塗り潰されない第3パターンと、が含まれ、
前記パターンを決定する手順では、前記補正階調値と空間的に周期的に変化する所定の閾値との大小関係に応じて前記第1パターンまたは前記第3パターンのいずれかに決定する、
ことを特徴とする画像処理プログラム。 - 請求項6に記載の画像処理プログラムであって、
前記塗り潰しパターンには、前記補正階調値に応じた個数の画素が塗り潰され前記第1パターンとともに網点を構成する第2パターンが含まれ、
前記パターンを決定する手順では、前記注目画素に隣接する所定の画素の中に前記第1パターンに決定された画素が存在する場合に、前記第2パターンに決定し、前記所定の画素の中に前記第1パターンに決定された画素が存在しない場合に、前記補正階調値と前記所定の閾値との大小関係に応じて前記第1パターンまたは前記第3パターンのいずれかに決定する、
ことを特徴とする画像処理プログラム。 - 請求項7に記載の画像処理プログラムであって、
前記第1パターンにおける所定の複数個の個数および前記第2パターンにおける補正階調値に応じた個数のうち少なくとも一方は、低濃度になるほど少なくなるように、前記注目画素の階調値に応じて変化する、
ことを特徴とする画像処理プログラム。 - 請求項8に記載の画像処理プログラムであって、
少なくとも前記第1パターンにおける所定の複数個の個数が前記注目画素の階調値に応じて変化する場合、前記所定の複数個の個数は、前記注目画素の階調値が所定値未満である低濃度域では固定値である、
ことを特徴とする画像処理プログラム。
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