JP2009053415A - インクジェット印刷法によるカラーフィルターの製造方法及びカラーフィルター - Google Patents

Abstract

【課題】十分な撥インキ作用を頂面に有する隔壁を形成し、この性能を損なうことなく、露出した支持基板の表面及び隔壁の側面を親インキ性とするカラーフィルターの製造方法を提供する。
【解決手段】支持基板上に複数の画素と画素間に位置する隔壁とを有するカラーフィルターの製造方法であり、（１）支持基板上に含フッ素樹脂を含有するブラックレジストから隔壁を形成する工程、（２）アルカリ水溶液による洗浄処理、ＵＶ洗浄処理、エキシマ洗浄処理、コロナ放電処理及び酸素プラズマ処理から選ばれた１種以上で隔壁を有した支持基板を洗浄する工程、及び（３）隔壁で囲まれた領域にインクジェット方式でインキを付与して画素を形成する工程を有し、ブラックレジスト中の含フッ素樹脂の含有量がブラックレジスト固形分中の０．３〜１０wt％であり、（２）洗浄工程前後の隔壁頂面での純水接触角の低下率が１０％以下であるカラーフィルターの製造方法である。
【選択図】なし

Description

本発明は、インクジェット印刷法（インクジェット方式）でのカラーフィルターの製造において、支持基板上に含フッ素系遮光隔壁を形成するカラーフィルターの製造方法に関するものであり、また、この方法を用いて形成されたカラーフィルターに関するものである。

カラーフィルターは、通常、ガラスやプラスチックシート等の透明基板からなる支持基板の表面に黒色のマトリックス（ブラックマトリックス）を形成し、続いて、赤、緑、青等の３種以上の異なる色相を順次、ストライプ状あるいはモザイク状等の色パターンを設けて形成される。パターンサイズはカラーフィルターの用途やそれぞれの色により異なるが５〜７００μｍ程度である。また、重ね合わせの位置精度は数μｍ〜数十μｍであり、寸法精度の高い微細加工技術により製造されている。

従来におけるカラーフィルターの代表的な製造方法としては、染色法、印刷法、顔料分散法、電着法等がある。これらのうち、特に、色材料を含有する光重合性組成物を支持基板上に塗布し、画像露光、現像、必要により硬化を繰り返すことでカラーフィルター画像を形成する顔料分散法は、カラーフィルター画素の位置、膜厚等の精度が高く、耐光性・耐熱性等の耐久性に優れ、ピンホール等の欠陥が少ないため、広く採用されている。

また、ブラックマトリックスは赤、緑、青の色パターンの間に格子状、ストライプ状又はモザイク状に配置するのが一般的であり、各色間の混色抑制によるコントラスト向上あるいは光漏れによるＴＦＴの誤動作を防ぐ役割を果たしている。このため、ブラックマトリックスには高い遮光性が要求される。ブラックマトリクスはクロム等の金属膜をエッチングで形成するか、あるいは遮光性の顔料を含有した感光性樹脂をもちいてフォトリソ法で形成するのが一般的である。

ところが、顔料分散法を用いて色パターンを形成すると、各色ごとに露光と現像の工程を行わなければならないため、３回のフォト工程を必要として、コストがかかる。ゆえに、近時では、低コストでカラーフィルターを提供できるインクジェット印刷法（あるいは「インクジェット方式」ともいう）が提案されている。これは、画素が構成される領域に、赤、青、緑のインキをそれぞれ必要な画素のみに同時に噴射塗布し硬化させて画素形成する方法であり、あらかじめフォト工程で隔壁を形成しておき、その隔壁で囲まれた領域（画素内）にインキを吐出する方法である。

しかしながら、この方法では、各色領域の滲みや隣り合う領域間の混色が起こる可能性がある。そこで、隔壁を形成する材料には、着色目的領域外へのインキの拡がりが抑制されるような特性が求められる。例えば、特許文献３にはインキと隔壁表面との静的接触角が４０〜５５°で混色を避けられるとの例示がある。また、隔壁を形成する材料には、同時に自己修復作用が求められる。すなわち、インクジェットヘッドより吐出されたインキが画素内と共に隔壁の頂面（隔壁の上部表面）に重なった場合、隔壁の表面撥インキ性によってそのインキが画素内に戻る特性が求められる。特に、画素が微細化される高精細化要求においては、インクジェットから吐出された液滴がブラックマトリクス（隔壁）に重なる頻度が高くなり、また、隔壁によって形成された画素内のコーナー部においてはインキの展開性を補うためにコーナー部にインキを重ね打ちすることも検討されていることから（特許文献７参照）、上記のようなインキが自己修復するような作用が必要になってくる。

このような特性を備える隔壁を与える手段として、例えば、（イ）フッ素含有プラズマガスによる隔壁の表面層の処理や、（ロ）撥インキ性を付与する成分としてフッ素系又はシリコン系の化合物をフォトレジスト組成物に混合する方法等が提案されている。

このうち、（イ）の隔壁の表面層をフッ素化する手法として、フッ素化合物の反応ガスをプラズマ化して処理する方法（特許文献１参照）や、この技術をより詳細に適用した例として、隔壁をインクに対して親和性を有する下層と非親和性を有する上層との多層構造にして、上層をインキに対して非親和性にするために、フッ素化合物を含むガスによりプラズマ処理する方法が提案されている（特許文献８参照）。ところが、隔壁を多層化する場合にはフォトリソグラフ工程を複数回実施する必要があることから、コストアップや歩留まり低下を引き起こす。また、支持基板上に残存したレジスト起因の残存成分がフッ素化合物プラズマ処理により撥インキ化され、インキの展開性能を著しく妨げることにもなる。

一方、（ロ）のフォトレジスト組成物に撥インキ性を付与する成分を混合する手段に関し、例えば特許文献２には、フルオロアルキル基含有（メタ）アクリレート単量体とシリコーン鎖含有エチレン性不飽和単量体とを含有するフォトレジスト組成物が開示されている。しかしながら、前記共重合体の添加量はフォトレジスト組成物固形分に対して0.001〜0.05重量％であり、このような低含有量では撥インキ性が不足する。また、特許文献３には、ヘキサフルオロプロピレンと不飽和カルボン酸及び／又は不飽和カルボン酸無水物との共重合体とフッ素有機化合物との組成物が例示されている。しかしながら、ヘキサフルオロプロピレンの重合体を得るためには高圧での重合が不可欠であり、その分子量も2000以下と小さく、また、これを補助するフッ素有機化合物も界面活性剤系であって、その撥インキ性持続に問題がある。

更に、特許文献４には、CH₂=CH(R¹)COOXR^f（R^fは炭素数4〜6のパーフルオロアルキル基を示す）を単量体としてフッ素原子含有率が7〜35重量％である含フッ素樹脂を特徴とするレジスト組成物が例示されているが、この場合のＲ¹基はＨ、ＣＨ₃又はＣＦ₃に限定されている。更にまた、特許文献５には、ブラックマトリクスに含まれる樹脂と親和性の少ないケイ素及び／又はフッ素の原子を含む撥インキ剤を用いて、現像後にブラックマトリクスを１５０〜２３０℃で焼成することで、撥インキ剤を表面に移行させて着色インキとの接触角を３０〜６０°に制御する表面撥インキ性ブラックマトリクスの製造方法が記載されている。この撥インキ剤の具体例としては、主鎖または側鎖に有機シリコーンを有するもの、及びフッ化ビニリデン等とのフッ素含有モノマーとの共重合によるフッ素樹脂を例示しているが、界面活性剤等の含シリコーンオリゴマー及びフッ素系オリゴマーは、焼成後に表面に移行してきても、その撥インキ性はその後の洗浄や時間の経過とともに低下することが問題である。

ところで、遮光性樹脂マトリクスを形成するに適したフォトレジストとして、特定の芳香族エポキシ化合物と（メタ）アクリル酸との反応物を更に多塩基酸カルボン酸又はその無水物と反応させて得られた不飽和基含有化合物を樹脂主成分として含むブラックレジストが、高遮光率を有し、フォトリソグラフィー法によるファインパターンの形成が容易であって、しかも、絶縁性、耐熱性、密着性、室温保存安定性にも優れた遮光性薄膜形成用組成物となることが報告されている（特許文献６参照）。しかしながら、この特許文献６にはその撥インキ特性については触れていないし、相溶性についての言及もない。

一方で、いわゆる「白抜け」は、主に付与されたインキが隔壁に囲まれた領域内に十分かつ均一に拡散することができないことに起因して発生する障害であり、色むらやコントラストの低下といった表示不良の原因となる。隔壁を形成する際には、一般的にブラックレジストを用いたフォトリソグラフィー工程が使用されており、レジストに含まれる種々の成分により支持基板表面上に汚染物が付着して、インクの展開、特に隔壁により形成されるコーナー部への展開を妨げる場合がある。また、上述したような撥インキ剤含有の隔壁材料を用いて隔壁を形成した場合、同様に發インキ剤が支持基板表面に汚染物質として付着し、インキのコーナー部への展開を妨げる要員となる。更に、隔壁側面の撥インキ性が支持基板表面と比べて極端に高い場合、隔壁側面でインキがはじかれてしまい、隔壁とインキが接する部分で色が薄くなるという問題が発生する。

上記のような状況を踏まえて、隔壁の頂面のみを選択的に撥インキ化し、隔壁の側面を撥インキ化しないようにするために、例えば、ｉ）隔壁自体がこのような性質を生じるように２種類の材料を積層する方法、ii）隔壁以外の部分をレジストで覆って、隔壁の頂面のみを撥インキ化処理する方法、iii）支持基板上にレジスト層を形成し、全面を撥インキ化処理した後、フォトリソグラフィー工程によりレジスト層をパターニングしてパターンニング隔壁を形成する方法等が提案されている。また、iv）特許文献９においては、隔壁により形成された領域内に露出した支持基板の表面を親インキ化処理する方法として、エネルギー線を照射する方法が開示されている。この場合、隔壁の頂面のみを撥インキ化する処方として、支持基板上に隔壁形成用の感光性材料を塗布し、全面を撥インキ化処理剤にて処理した後、フォトリソグラフィー工程により感光性樹脂をパターニングする手法が例示されている。その後、エネルギー線の照射により隔壁及び支持基板の表面を同時に、もしくはどちらかを選択的に親インク化処理するものである。

しかしながら、これらの方法は隔壁の多層化が必要であったり、隔壁の頂面を撥インキ化処理した後に露出した支持基板の表面を親インキ化処理することなどが必要であり、また、隔壁の頂面と側面との十分な撥インキ作用差を維持することが困難である。なお、v）特許文献１０には、隔壁を逆テーパ形状にすることで、フッ素化合物プラズマに対して隔壁の側面と頂面とで撥インキ性を制御する旨の記載がある。しかしながら、この方法では２度のプラズマ処理を基本とする。
特開平６−６５４０８号公報 特開平９−５４４３２号公報 特開平１１−２８１８１５号公報 特開２００５−３１５９８４号公報 特開２００６−２５１４３３号公報 特開平８−２７８６２９号公報 特開２００６−３４３５１８号公報 特開平１１−２７１７５３号公報 特開平９−２３０１２９号号公報 特開２００２−６２４２２号公報

従って、本発明の目的は、十分な撥インキ作用を頂面に有する隔壁を形成し、さらにこの性能を損なうことなく、露出した支持基板の表面及び隔壁の側面を親インキ性として、白抜け課題のないカラーフィルターを与えるものである。

すなわち、本発明は、支持基板上に、複数の画素と、隣接する画素間に位置する隔壁とを少なくとも有するカラーフィルターの製造方法であって、（１）支持基板上に含フッ素樹脂を含有するブラックレジストからなる含フッ素系遮光隔壁を形成する工程と、（２）続いて、アルカリ水溶液による洗浄処理、ＵＶ洗浄処理、エキシマ洗浄処理、コロナ放電処理、及び酸素プラズマ処理から選ばれた１種以上の処理を用いて上記含フッ素系遮光隔壁が形成された支持基板を洗浄する工程と、（３）上記含フッ素系遮光隔壁で囲まれた領域にインクジェット方式によりインキを付与して画素を形成する工程とを有し、上記含フッ素系遮光隔壁を形成するブラックレジスト中の含フッ素樹脂の含有量が、ブラックレジスト固形分中の０．３〜１０wt％であり、上記（２）の洗浄工程前後における含フッ素系遮光隔壁の頂面での純水接触角の低下率が１０％以下であることを特徴とするカラーフィルターの製造方法である。

また、本発明は、上記の含フッ素樹脂が含フッ素（メタ）アクリルエステルの共重合体であることを特徴とするカラーフィルターの製造方法である。
更に、本発明は、これらの製造方法を用いて得たことを特徴とするカラーフィルターである。

本発明において、含フッ素系遮光隔壁を形成するためのブラックレジストについては、好ましくは下記(A)〜(E)成分、
（A）含フッ素樹脂、
（B）１分子中に酸性基と2つ以上のエチレン性二重結合を有するアルカリ現像性オリゴマー、
（C）少なくとも１分子中に３個以上のエチレン性二重結合を有する光重合性モノマー、
（D）光重合開始剤、及び
（E）黒色有機顔料、混色有機顔料及び遮光材から選ばれる少なくとも１種を分散してなる遮光性分散顔料、
を必須成分として含む感光性樹脂組成物を例示できる。

含フッ素系遮光隔壁を形成する含フッ素樹脂（A）としては、フッ素を含有するポリマー又はオリゴマーのいずれでもよく、特に含フッ素（メタ）アクリルモノマーを共重合成分として含有する共重合体が好ましい。例えば、含フッ素（メタ）アクリルモノマーの共重合体としては、下記一般式（Ｉ）で表される単量体から形成される単量体単位を有する含フッ素樹脂を例示できる。
CH₂＝C(R₃)−COO−Y−Rf （Ｉ）
（式中、R₃は炭素数１以上の有機基を示し、Yは炭素数1〜6のフッ素原子を含まない２価の有機基を示し、Rfは、炭素数4〜6のパーフルオロアルキル基を示す。）

上記一般式（Ｉ）で表される単量体は、スペーサー的な役割をする有機基Yに
よりRfがα位置換基（R₃）を有する重合体主鎖に繋がれたものである。パーフルオロアルキル基（Rf）の炭素数が６を超えると、表面撥インキ性に優れるが、ネガ型レジスト組成物との相溶性が低下して、スリット塗工時の表面外観不良や硬化後に表面が粗くなる。また、炭素数が６を超えるパーフルオロアルキル基（Rf）は環境上も好まれていない。一方、Rfの炭素数が４より小さいと撥インキ性が低下するので好ましくない。

このような含フッ素樹脂を与えうる含フッ素単量体単位としての具体例としては、R₃基が、-CH₃、-CH₂CH₃, -CH(CH₃)₂，-CH₂C₆H₅, -COO−R₄、-CH₂COO−R₄（R₄はアルキル基、フェニル基、アルコキシ基等の有機基を表わし、酸素、ケイ素、さらにはフッ素元素を含んでもかまわない）、Rfが-C₄F₉, -C₅F₁₁, -C₆F₁₃、Y基が-CH₂CH₂-、-CH₂CH₂O-, -CH₂CH(OH)CH₂O-等をあげることができる。

さらにこのような含フッ素単量体と非フッ素含有単量体とを共重合させることで含フッ素樹脂(A)成分を調製してもよい。このような非フッ素含有単量体としては、通常のアクリル酸エステル、メタクリル酸エステル、スチレン誘導体、無水マレイン酸エステル等を例示できる。アルカリ現像性樹脂との相溶性ならびに撥インキ性維持の観点から、メタクリル酸エステルとの共重合が好ましい。含フッ素樹脂(A)に用いる含フッ素単量体単位の割合は30モル％以上、好ましくは50モル％以上であるのがよい。30モル％未満であると十分な撥インキ性が発揮されず、また、遮光隔壁形成時及びインクジェットインキ塗布直前までにその撥インキ性が消失してしまう場合がある。

また、ブラックレジスト中の含フッ素樹脂（A）の含有量については、ブラックレジスト中の全固形分に対して含フッ素樹脂（A）の割合が0.3〜10wt％とする。0.3wt％を下回ると、その後に施すガラス表面の親水処理に対して、隔壁上層の撥インキ性能が低下してしまう。一方、10wt％を超えると表面粗度が粗くなったり、現像時間の遅延やパターン直線性の低下などが生じる。

(B)成分である一分子中に酸性基と２つ以上のエチレン性二重結合を有するアルカリ現像性オリゴマーの例としては、ビスフェノール類から誘導される２個のグリシジルエーテル基を有するエポキシ化合物と（メタ）アクリル酸との反応物を更に多塩基酸カルボン酸又はその無水物と反応させて得られたアルカリ現像性不飽和基含有オリゴマーである。

ここで、ビスフェノール類から誘導される２個のグリシジルエーテル基を有するエポキシ化合物としては、下記一般式（II）で表されるエポキシ化合物が好ましく挙げられる。

（但し、式中、Ｒ₁ 及びＲ₂ は水素原子、炭素数１〜５のアルキル基又はハロゲン原子のいずれかであり、Ｘは-CO-、-SO₂-、-C(CF₃) ₂-、-Si(CH₃)₂-、-CH₂-、-C(CH₃)₂-、-O-、下記式で表される9,9-フルオレニル基

又は不存在を示し、ｎは０〜１０の整数である）

（B）成分であるエチレン性二重結合を有するアルカリ現像性オリゴマーは、エチレン性二重結合とカルボキシル基とを併せ持つため、ブラックレジストとしての遮光隔壁形成用感光性樹脂組成物に優れた光硬化性、良現像性、パターニング特性を与え遮光隔壁の物性向上をもたらす。

（B）成分であるエチレン性二重結合を有するアルカリ現像性オリゴマーは、好ましくは、式(II)で表されるエポキシ化合物から誘導される。このエポキシ化合物はビスフェノール類から誘導される。したがって、ビスフェノール類を説明することによって、エチレン性二重結合を有するアルカリ現像性オリゴマーが理解されるので、好ましい具体例をビスフェノール類により説明する。

好ましいエチレン性二重結合を有するアルカリ現像性オリゴマーを与えるビスフェノール類としては、次のようなものが挙げられる。ビス（４−ヒドロキシフェニル）ケトン、ビス（４−ヒドロキシ−３，５−ジメチルフェニル）ケトン、ビス（４−ヒドロキシ−３，５−ジクロロフェニル）ケトン、ビス（４−ヒドロキシフェニル）スルホン、ビス（４−ヒドロキシ−３，５−ジメチルフェニル）スルホン、ビス（４−ヒドロキシ−３，５−ジクロロフェニル）スルホン、ビス（４−ヒドロキシフェニル）ヘキサフルオロプロパン、ビス（４−ヒドロキシ−３，５−ジメチルフェニル）ヘキサフルオロプロパン、ビス（４−ヒドロキシ−３，５−ジクロロフェニル）ヘキサフルオロプロパン、ビス（４−ヒドロキシフェニル）ジメチルシラン、ビス（４−ヒドロキシ−３，５−ジメチルフェニル）ジメチルシラン、ビス（４−ヒドロキシ−３，５−ジクロロフェニル）ジメチルシラン、ビス（４−ヒドロキシフェニル）メタン、ビス（４−ヒドロキシ−３，５−ジクロロフェニル）メタン、ビス（４−ヒドロキシ−３，５−ジブロモフェニル）メタン、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパン、２，２−ビス（４−ヒドロキシ−３，５−ジメチルフェニル）プロパン、２，２−ビス（４−ヒドロキシ−３，５−ジクロロフェニル）プロパン、２，２−ビス（４−ヒドロキシ−３−メチルフェニル）プロパン、２，２−ビス（４−ヒドロキシ−３−クロロフェニル）プロパン、ビス（４−ヒドロキシフェニル）エーテル、ビス（４−ヒドロキシ−３，５−ジメチルフェニル）エーテル、ビス（４−ヒドロキシ−３，５−ジクロロフェニル）エーテル等を含む化合物や、式（II）中のＸが前記の９,９−フルオレニル基である９,９−ビス（４−ヒドロキシフェニル）フルオレン、９，９−ビス（４−ヒドロキシ−３−メチルフェニル）フルオレン、９，９−ビス（４−ヒドロキシ−３−クロロフェニル）フルオレン、９，９−ビス（４−ヒドロキシ−３−ブロモフェニル）フルオレン、９，９−ビス（４−ヒドロキシ−３−フルオロフェニル）フルオレン、９，９−ビス（４−ヒドロキシ−３−メトキシフェニル）フルオレン、９，９−ビス（４−ヒドロキシ−３，５−ジメチルフェニル）フルオレン、９，９−ビス（４−ヒドロキシ−３，５−ジクロロフェニル）フルオレン、９，９−ビス（４−ヒドロキシ−３，５−ジブロモフェニル）フルオレン等や、更には４，４'−ビフェノール、３，３'−ビフェノール等の化合物が挙げられる。

（B）成分であるアルカリ現像性不飽和基含有オリゴマーは、上記のようなビスフェノール類から誘導されるエポキシ化合物から得ることができるが、かかるエポキシ化合物の他にフェノールノボラック型エポキシ化合物や、クレゾールノボラック型エポキシ化合物等も２個のグリシジルエーテル基を有する化合物を有意に含むものであれば使用することができる。また、ビスフェノール類をグリシジルエーテル化する際に、オリゴマー単位が混入することになるが、一般式(II)におけるｎの平均値が0〜10、好ましくは0〜2の範囲であれば、ブラックレジストを形成する感光性樹脂組成物の性能には問題はない。

また、このようなエポキシ化合物と（メタ）アクリル酸とを反応させて得られたエポキシ（メタ）アクリレート分子中のヒドロキシ基と反応し得る多塩基酸カルボン酸又はその酸無水物としては、例えば、マレイン酸、コハク酸、イタコン酸、フタル酸、テトラヒドロフタル酸、ヘキサヒドロフタル酸、メチルエンドメチレンテトラヒドロフタル酸、クロレンド酸、メチルテトラヒドロフタル酸、トリメリット酸、ピロメリット酸等やその酸無水物、更には、ベンゾフェノンテトラカルボン酸、ビフェニルテトラカルボン酸、ビフェニルエーテルテトラカルボン酸等の芳香族多価カルボン酸やその酸二無水物等が挙げられる。そして、酸無水物と酸二無水物の使用割合については、露光、アルカリ現像操作によって微細なパターンを形成するのに適した割合を選択することができる。

（B）成分のエチレン性二重結合を有するアルカリ現像性オリゴマーについては、その１種のみを使用しても、２種以上の混合物を使用することもできる。また、エポキシ化合物と（メタ）アクリル酸との反応、この反応で得られたエポキシ（メタ）アクリレートと多塩基酸又はその酸無水物との反応は、公知の方法を採用することができるが、特に限定されるものではない。

また、（B）成分を得るための別法としては、１)カルボキシル基を有するエチレン性不飽和単量体、２)重合後に不飽和基を導入可能なヒドロキシ基、酸無水物基、グリシジル基などを側鎖に有するエチレン性不飽和単量体、及び３）他のエチレン性不飽和単量体、を含有するモノマー混合物を過酸化物ならびに連鎖移動剤が共存する溶剤中にてラジカル共重合することより得られる共重合体を、さらに２)の側鎖に付加可能な官能基を有する一不飽和化合物を付加させたバインダー樹脂とすることでアルカリ現像性オリゴマーとすることもできる。

前記モノマー混合物の他の成分である１)カルボキシル基を１個以上有するエチレン性不飽和単量体としては、例えば、アクリル酸、メタクリル酸、クロトン酸、α−クロルアクリル酸、エタクリル酸、けい皮酸などの不飽和モノカルボン酸類：マレイン酸、無水マレイン酸、フマル酸、イタコン酸、無水イタコン酸、シトラコン酸、無水シトラコン酸、メサコン酸などの不飽和ジカルボン酸(無水物)類：3価以上の不飽和多価カルボン酸(無水物)類などを挙げることができる。なかでも、アクリル酸、メタクリル酸が好ましい。これらカルボキシル基含有のエチレン性不飽和単量体は、単独で又は２種以上を併用してもよい。

また、この(B)成分の酸価は、樹脂１ｇ中のカルボキシル基を中和するに必要なＫＯＨのｍｇ数として表され、画像パターン形成時の現像処理時間やパターン形状、硬化膜の密着性の観点から７０〜１５０（KOHmg/ｇ）である。７０を下回るとアルカリ現像液によるパターン形成ができなくなり、また、架橋剤を用いる場合は、架橋剤とするエポキシ樹脂との架橋が不十分になり、耐熱性の低下、有機溶剤中での密着性不良などが生じる。そして、酸価が１５０を超えると、アルカリ現像時の表面荒れ、細線パターンの現像密着不良並びに硬化膜の耐湿性が問題となる。

(C)成分の少なくとも１分子中に３個以上のエチレン性二重結合を有する光重合性モノマーとしては、例えば、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリメチロールエタントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート等の（メタ）アクリル酸エステル類を挙げることができ、これらの化合物は、その１種のみを単独で使用できるほか、２種以上を併用して使用することもできる。

本発明で用いるブラックレジストには、（B）成分、（C）成分等の光重合性の化合物を含むものであるが、これを光硬化させるために(D)成分として光重合開始剤を含む。(D)成分は紫外線光照射、特に300〜450nmの紫外線照射により、ラジカル種を発生し、光重合性の化合物に付加してラジカル重合を開始させ、樹脂組成物を硬化させる。

（D）成分の光重合開始剤としては、ベンゾフェノン、ミヒラーケトン、N,N’テトラメチル-4,4’-ジアミノベンゾフェノン、4-メトキシ-4'-ジメチルアミノベンゾフェノン、4,4'-ジエチルアミノベンゾフェノン、2-エチルアントラキノン、フェナントレン等の芳香族ケトン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインフェニルエーテル等のベンゾインエーテル類、メチルベンゾイン、エチルベンゾイン等のベンゾイン、2-(o-クロロフェニル)-4,5-フェニルイミダゾール２量体、2-(o-クロロフェニル)-4,5-ジ(m-メトキシフェニル)イミダゾール２量体、2-(o-フルオロフェニル)-4,5-ジフェニルイミダゾール２量体、2-(o-メトキシフェニル)-4,5-ジフェニルイミダゾール２量体、2、4,5-トリアリールイミダゾール２量体、2-ベンジル-2-ジメチルアミノ-1-(4-モルフォリノフェニル)−ブタノン、2-トリクロロメチル−5−スチリル−1,3,4−オキサジアゾール、2−トリクロロメチル-5-(p-シアノスチリル)-1,3,4-オキサジアゾール、2-トリクロロメチル-5-(p-メトキシスチリル)-1,3,4-オキサジアゾール等のハロメチルチアゾール化合物、2,4,6-トリス（トリクロロメチル）-1,3,5-トリアジン、2-メチル−4,6-ビス（トリクロロメチル）-1,3,5-トリアジン、2-フェニル-4、6-ビス（トリクロロメチル）-1,3,5-トリアジン、2-(4-クロロフェニル)-4,6-ビス（トリクロロメチル）-1,3,5-トリアジン、2-(4-メトキシフェニル)-4,6-ビス（トリクロロメチル）-1,3,5-トリアジン、2-(4-メトキシナフチル)-4,6-ビス（トリクロロRメチル）-1,3,5-トリアジン、2-(4-メトキシスチリル)-4,6-ビス（トリクロロメチル）-1,3,5-トリアジン、2-(3,4,5-トリメトキシスチリル)-4,6-ビス（トリクロロメチル）-1,3,5-トリアジン、2-(4-メチルチオスチリル)-4,6-ビス（トリクロロメチル）-1,3,5-トリアジン等のハロメチル−Ｓ−トリアジン系化合物、2,2-ジメトキシ-1,2-ジフェニルエタン-1-オン、2-メチル-1-[4-(メチルチオ)フェニル]-2-モルフォリノプロパノン、2-ベンジル-2-ジメチルアミノ-1-[4-モルフォリノフェニル]-ブタノン-1,1-ヒドロキシ-シクロヘキシル-フェニルケトン等の光重合開始剤が挙げられる。

これらの光重合開始剤は、単独又は２種以上を混合して使用することができる。また、それ自体では光重合開始剤や増感剤として作用しないが、上記の化合物と組み合わせて用いることにより、光重合開始剤や増感剤の能力を増大させ得るような化合物を添加することもできる。そのような化合物としては、例えば、ベンゾフェノンと組み合わせて使用すると効果のあるトリエタノールアミン等の第３級アミンを挙げることができる。

(D)成分の光重合開始剤の使用量は、(A)、(B)及び(C)の各成分の合計１００重量部を基準として５〜４０重量部が適している。(D)成分の配合割合が５重量部未満の場合には、光重合の速度が遅くなって、感度が低下し、一方、４０重量部を超える場合には、感度が強すぎて、パターン線幅がパターンマスクに対して太った状態になり、パターンマスクに対して忠実な線幅が再現できない、又は、パターンエッジがぎざつきシャープにならないといった問題が生じるおそれがある。

（E）成分の黒色有機顔料、混色有機顔料及び遮光材から選ばれる少なくとも１種を分散してなる遮光性分散顔料としては、耐熱性、耐光性及び耐溶剤性に優れたものであることが好ましい。ここで、黒色有機顔料としては、例えばペリレンブラック、シアニンブラック等が挙げられる。混色有機顔料としては、赤、青、緑、紫、黄色、シアニン、マゼンタ等から選ばれる少なくとも２種以上の顔料を混合して擬似黒色化されたものが挙げられる。遮光材としては、カーボンブラック、酸化クロム、酸化鉄、チタンブラック、アニリンブラック、シアニンブラックを挙げることができ、２種以上を適宜選択して用いることもできるが、特にカーボンブラックが、遮光性、表面平滑性、分散安定性、樹脂との相溶性が良好な点で好ましい。

（E）成分の配合割合については、レジスト全固形分に対して２５〜６０重量部配合されていることが好ましい。２５重量部より少ないと、遮光性が十分でなくなる。６０重量部を超えると、本来のバインダーとなる感光性樹脂の含有量が減少するため、現像特性を損なうと共に膜形成能が損なわれるという好ましくない問題が生じる。

本発明で用いるブラックレジストにおいては、上記（A）〜（E）成分の他に溶剤を使用するのがよい。溶剤としては、例えば、メタノール、エタノール、ｎ−プロパノール、イソプロパノール、エチレングリコール、プロピレングリコール等のアルコール類、α−もしくはβ−テルピネオール等のテルペン類等、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、Ｎ−メチル−２−ピロリドン等のケトン類、トルエン、キシレン、テトラメチルベンゼン等の芳香族炭化水素類、セロソルブ、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、カルビトール、メチルカルビトール、エチルカルビトール、ブチルカルビトール、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、ジプロピレングリコールモノエチルエーテル、トリエチレングリコールモノメチルエーテル、トリエチレングリコールモノエチルエーテル等のグリコールエーテル類、酢酸エチル、酢酸ブチル、セロソルブアセテート、エチルセロソルブアセテート、ブチルセロソルブアセテート、カルビトールアセテート、エチルカルビトールアセテート、ブチルカルビトールアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート等の酢酸エステル類等が挙げられ、これらを用いて溶解、混合させることにより、均一な溶液状の組成物とすることができる。

また、本発明で用いるブラックレジストには、必要に応じて硬化促進剤、熱重合禁止剤、可塑剤、充填材、ベリング剤、消泡剤等の添加剤を配合することができる。特に表面特性改善に用いるレベリング剤、消泡剤などの界面活性作用を有する材料を添加する際は、硬化後の表面撥インキ性を損なわない程度に加える必要があり、好ましくはレジスト全固形分に対する濃度で含フッ素樹脂より少ない含有量で添加するのがよい。

本発明で用いるブラックレジストには、上記（A）〜（E）成分又はこれらと溶剤を主成分として含有する。溶剤を除いた固形分（固形分には硬化後に固形分となるモノマーを含む）中に、（A）〜（E）成分が合計で７０wt％以上、好ましくは８０wt％、より好ましくは９０wt％以上含むことが望ましい。溶剤の量は、塗布方式に依存する目標とする粘度によって変化するが、全レジストに対して３０〜９０wt％の範囲が望ましい。

本発明の含フッ素系遮光隔壁は、上述したブラックレジストを用いてフォトリソグラフィー法により形成される。その製造工程としては、先ず、ブラックレジストを溶液にして支持基板の表面に塗布し、次いで溶媒を乾燥させた（プリベーク）後、このようにして得られた被膜の上にフォトマスクをあて、紫外線を照射して露光部を硬化させ、更にアルカリ水溶液を用いて未露光部を溶出させる現像を行ってパターンを形成し、更に後乾燥としてポストベークを行う方法が挙げられる。

ブラックレジストの溶液を塗布する支持基板としては、ガラス、透明フィルム（例えば、ポリカーボネート、ポリエチレンテレフタレート、ポリエーテルスルフォン等）上にＩＴＯ、金等の透明電極が蒸着あるいはパターニングされたもの等が用いられる。

このブラックレジストの溶液を支持基板に塗布する方法としては、公知の溶液浸漬法、スプレー法の他、ローラーコーター機、ランドコーター機やスピナー機を用いる方法等の何れの方法をも採用することができる。これらの方法によって、所望の厚さに塗布した後、溶剤を除去する（プリベーク）ことにより、被膜が形成される。プリベークはオーブン、ホットプレート等により加熱することによって行われる。プリベークにおける加熱温度及び加熱時間は使用する溶剤に応じて適宜選択され、例えば８０〜１２０℃の温度で１〜１０分間行われる。

プリベーク後に行われる露光は、露光機によって行なわれ、フォトマスクを介して露光することによりパターンに対応した部分のレジストのみを感光させる。露光機及びその露光照射条件は適宜選択され、超高圧水銀灯、高圧水銀ランプ、メタルハライドランプ、遠紫外線灯等の光源を用いて露光を行い、ブラックレジストを光硬化させる。

露光後のアルカリ現像は、露光されない部分のレジストを除去する目的で行われ、この現像によって所望のパターンが形成される。このアルカリ現像に適した現像液としては、例えば、アルカリ金属やアルカリ土類金属の炭酸塩の水溶液、アルカリ金属の水酸化物の水溶液等を挙げることができるが、特に炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸リチウム等の炭酸塩を０．０５〜３重量％含有する弱アルカリ性水溶液を用いて２０〜３０℃の温度で現像するのがよく、市販の現像機や超音波洗浄機等を用いて微細な画像を精密に形成することができる。

このようにして現像した後、１６０〜２３０℃の温度、及び１０〜６０分の条件で熱処理（ポストベーク）が行われる。このポストベークは、パターニングされた隔壁と支持基板との密着性を高めるため等の目的で行われる。これはプリベークと同様に、オーブン、ホットプレート等により加熱することによって行われる。本発明のパターニングされた隔壁は、以上のフォトリソグラフィー法による各工程を経て形成される。
以上のような隔壁形成工程においてプレベークならびに露光工程において、隔壁の頂面に含フッ素樹脂がそれ自身の界面活性作用により濃縮されてくる。

以上のように形成された隔壁付きの支持基板においては、例えば図１に示すように、隔壁２が形成された部分以外の支持基板１の表面1aでの純水の接触角は30度を超えることがほとんどであり、また時間と共に大気中の汚染物質により水接触角が増加していき、インクジェット装置にて滴下されたインキの展開性に劣る結果となる。そこで本発明では、インクジェット装置にてインキ滴下する直前に、特定の洗浄処理を行う洗浄工程を経ることにより、隔壁が形成された支持基板を洗浄する。この洗浄工程によって、表面1a及び隔壁の側面2bに残る含フッ素樹脂は隔壁頂面2aに比較して濃度が少ないことから、支持基板１の表面のうち隔壁が形成された部分以外の表面1aが親水化あるいは親インキ化処理されると共に、隔壁の側面2bが親水化あるいは親インキ化処理される。一方、隔壁の頂面2aについては、前述のように含フッ素ポリマーを含有するがゆえに、純水接触角の低下を抑えることが可能となる。

上記の洗浄工程（２）では、洗浄工程前の隔壁の頂面2aでの純水の接触角α₁と、洗浄工程後の隔壁の頂面2aでの純水の接触角α₂との関係について、洗浄工程前後における該接触角の低下率〔（α₁−α₂）／α₁×１００〕が１０％以下となるようにする。これにより、インクジェット方式による画素形成工程（３）において、隔壁の頂面にインキが付与されたとしても、確実に画素内にインキを戻すことができ、良好な画素を形成することが可能になる。

洗浄方法の具体例としては、アルカリ水溶液による洗浄処理、ＵＶ洗浄処理、エキシマ洗浄処理、コロナ放電処理、及び酸素プラズマ処理から選ばれた１種以上の処理からなる洗浄を挙げることができる。このうち、酸素プラズマ処理について、通常、プラズマは低真空下の放電でつくられるが、放電部に強い磁界をかけることで大気圧中でも発生が可能になる。この際の導入ガスとしては酸素に加えて必要に応じてアルゴン、ヘリウム、窒素等のガスを併用すると、隔壁の頂面2aの撥インキ性の低下を制御でき、好ましい結果を与える。また、プラズマ発生の方法としては、低周波放電、高周波放電、マイクロ派放電等の方式を用いることができ、また、プラズマ処理の際の圧力、ガス流量、放電周波数、処理時間等の条件は任意に設定することができる。例えば、圧力１torr程度の減圧下の場合、酸素ガス流量を５００ＳＣＣＭ、パワー１．０Ｗ／ｃｍ²の酸素ガスプラズマ処理により良好な結果を得ることができる。また、大気圧下の場合、酸素ガス流量８０ｃｃｍ、ヘリウムガス流量１０１／ｍｉｎ、パワー３００Ｗ、電極−基板間距離１ｍｍ、支持基板の搬送速度１０ｍｍ／ｓの条件による酸素ガスプラズマ連続処理により、また、ＣＦ₄ガス流量１００ｃｃｍ、ヘリウムガス流量１０１／ｍｉｎ、支持基板の搬送速度５ｍｍ／ｓの条件によるＣＦ₄プラズマ連続処理によっても同様の結果を得ることができる。大気圧プラズマでは処理室内を真空にひく手間がなく簡便に同様の表面改質ができる点で大変有効である。

一方、アルカリ水溶液による洗浄処理については、例えば濃度0.04％〜0.1％の水酸化カリウム水溶液もしくは水酸化ナトリウム水溶液等を用いて、隔壁が形成された支持基板を浸漬させたり、噴霧させたりする処理を例示することができる。処理時間については、処理条件によっても異なるが、例えば0.04％KOHの場合、23℃〜28℃にて30〜80秒間程行うようにすればよい。

また、ＵＶ洗浄処理については、例えば通常使われる基板前処理洗浄に用いられるような紫外線を使って、隔壁が形成された支持基板に照射する処理を例示することができる。500〜2000mJ程度のＵＶ洗浄処理を行うようにすれば、隔壁の頂面2aのみに撥インキ性を残存させたたま、隔壁が形成された部分以外の支持基板の表面1a、及び隔壁の側面2bを親水化あるいは親インキ化処理することができる。更に、エキシマ洗浄処理やコロナ放電処理の場合には、より短い時間にて処理を行えるが、UV洗浄に比較して隔壁頂表部の撥インキ性の低下を抑えるに難しい。

上記のような洗浄処理は、含フッ素樹脂を含むブラックレジストにより形成された隔壁２を備えた支持基板１から、隔壁が形成された部分以外の支持基板の表面1a、及び隔壁の側面2b部分の撥インキ性を取り除くための処理であり、これにより、側壁の頂面2aのみに撥インキ性が残存して、インクジェット方式による画素の形成工程（３）において隔壁２で囲まれた領域内にインキを付与した際に、隔壁の頂面2aに付与されたインキが領域内（画素内）に戻る自己修復作用が十分に機能するようになり、また、領域内ではインキが十分かつ均一に分散できて「白抜け」のような現象を防止することができる。

上記の洗浄工程（２）後には、含フッ素系遮光隔壁で囲まれた領域にインクジェット法印刷法（インクジェット方式）によりインキを付与して画素を形成するようにする。この際採用するインクジェット方式については特に制限はなく、カラーフィルターの製造において一般的に採用される方法を用いることができる。インクジェットヘッドはピエゾ方式（XAAR社もしくはSPECTRA社）のものが有機溶剤に対する耐久性と吐出量精度の面から好ましく、隔壁に囲まれた画素内に充填するインキ量は、乾燥後の膜厚が隔壁厚みとほぼ同程度になるようにすることが好ましい。即ち、例えば隔壁厚みが２μｍであるとすると、そのインキ固形分が一般的に10〜33％であることから、20μｍ〜6μｍ厚みのインキ量が充填される。

本発明によれば、インクジェット印刷法によるカラーフィルターの製造の際、通常行なわれるような、隔壁の頂面に対してフッ素ガス系大気圧プラズマ処理等を施すことを必要としなくても、隔壁の頂面が優れた撥インキ性を備えることができて環境面においても低負荷であり、また、画素を形成した際にインキの混色や白抜けが防止できて、従来法に比べてカラーフィルター製造の歩留まりを向上させることができる。

以下、実施例及び比較例に基づいて、本発明の実施形態を具体的に説明する。

＜合成例１＞ （A）含フッ素樹脂 A-1
攪拌機を備えた内容積5リットルの反応機に2MCA-bCF4（352ｇ）、IBMA（43.4ｇ）、GMA（14.2ｇ）、MMA（8.6g）重合開始剤V-70（8.8ｇ）、連鎖移動剤２−ME（4.4ｇ）を仕込み、さらに固形分濃度が40重量％となるようにPGMEAを加え、窒素雰囲気下に攪拌しながら、４０℃にて１８時間重合させた。降温後、固形分濃度が２０重量％になるようにPGMEAにて希釈して、含フッ素樹脂A-1溶液を得た。含フッ素樹脂A-1の重量平均分子量は、７３００であった。ただし、重量平均分子量は、THFを展開溶媒としたGPCにより求めた（PS換算）。

なお、上記合成例のほか、下記の調製例、及び実施例にて述べる略号は以下のとおりである。

IBMA：イソボルニルメタクリレート
GMA：グリシジルメタクリレート
MMA: メチルメタクリレート
V-70：2，2−アゾビス（４−メトキシ−２，４−ジメチルバレロニトリル）
２−ME：２−メルカプトエタノール
PGMEA：プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート
THF：テトラヒドロフラン
(B)１分子中に酸性基と2つ以上のエチレン性二重結合を有するアルカリ現像性オリゴマー
B-１：フルオレン骨格を有するエポキシアクリレートの酸無水物重縮合物のプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート溶液（樹脂固形分濃度=56.1重量％、新日鐵化学（株）製商品名V259ME）
(C) 少なくとも１分子中に3個以上のエチレン性二重結合を有する光重合性モノマー
C-1：ジペンタエリスリトールヘキサアクリレートとジペンタエリスリトールペンタアクリレートとの混合物（日本化薬（株）製商品名 DPHA）
(D) 光重合開始剤
D-1：IRGACURE OXE-01 （チバスペシャリティケミカルズ製）
D-2：IRGACURE OXE-02 （チバスペシャリティケミカルズ製）
(E)遮光性分散顔料
E-1：カーボンブラック濃度20重量％、高分子分散剤濃度5重量％のプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート分散液（固形分25％）
(F)：シランカップリング剤 S-510
(G)-1：フッ素系界面活性剤 メガファックF-470（大日本インキ製）
(G)-2：シリコン系界面活性剤 SH3557 （花王製）

＜調製例１＞ ブラックレジストBK-1
B-1（固形分濃度56.5％）を11.8重量部、B-2（固形分濃度36.7％）を4.2重量部、C-1を2.1重量部、D-1を1.26重量部、E-1（カーボン濃度20％）を３３重量部混合し、続いてシランカップリング剤 S-510（信越化学製）0.23部とともにプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートを加えて固形分濃度20重量％となるようにした。引き続き、上記で得られた含フッ素樹脂A-1溶液（固形分濃度20重量％）１重量部、シリコン系界面活性剤 SH3557（花王製）0.005重量部を加えた。この混合溶液を２μｍのポリプロピレン製メンブレンフィルターを用いて０．２kg／ｃｍ^２加圧にてろ過し、ブラックレジストBK-1を調製した。

＜調製例２＞ ブラックレジストBK-2
含フッ素樹脂A-1溶液を２重量部加えた以外は調製例１と同様にして、ブラックレジストBK-2を得た。

＜調製例３＞ ブラックレジストBK-３
含フッ素樹脂A-1溶液を４重量部加えた以外は調製例１と同様にして、ブラックレジストBK-3を得た。

＜調製例４＞ ブラックレジストBK-４
含フッ素樹脂A-1溶液を0.3重量部加えた以外は調製例１と同様にして、ブラックレジストBK-4を得た。

＜調製例５＞ ブラックレジストBK-５
含フッ素樹脂A-1溶液を0.１重量部加えた以外は調製例１と同様にして、ブラックレジストBK-5を得た。

＜調製例６＞ ブラックレジストBK-６
含フッ素樹脂溶液を加えずに、また、SH3557（花王製）0.005重量部に代えてメガファックF-470（大日本インキ製）０．2重量部を加えた以外は調製例１と同様にして、ブラックレジストBK-6を得た。

[実施例１]
上記の調製例１で得たブラックレジストBK-1を、スピンコーターを用いて125ｍｍ×125ｍｍのガラス基板（支持基板）上にポストベーク後の膜厚が2.1μｍとなるように塗布し、80℃で１分間プリベークし、その後、露光ギャップを１５０μmに調整して乾燥塗膜の上にBMライン幅20μm、開口部が70×210μｍとなるネガ型フォトマスクを被せ、I線照度30mW/cm²の超高圧水銀ランプで100mj/cm²の紫外線を照射し、感光部分の光硬化反応を行った。

次に、この露光済み塗布板を0.05％水酸化カリウム水溶液中、23℃にて60秒又は80秒の1kgf/cm²圧シャワー現像及び5kgf/cm²圧のスプレー水洗を行い、塗膜の未露光部を除去してガラス基板上に画素パターンを形成し、その後、熱風乾燥機を用いて230℃にて30分間、熱ポストベークすることで、膜厚2.1μｍの隔壁を形成した。このときの、遮光隔壁の頂面2bにおける純水接触角、及び隔壁が形成されていないガラス基板の表面1aにおける純水接触角を測定した。なお、膜厚の測定は、触針式膜厚計（東京精密（株）製 商品名サーフコム）を用いて測定した。また、接触角の測定は、20μｍ幅の隔壁形成基板と同一基板上に形成した１ｍｍ幅（膜厚2.1μｍ）ブラックフレーム上及び隔壁パターン周辺のガラス面において、純水の静的接触角を測定した。

引き続き、この隔壁が形成された支持基板について、平行平板型のプラズマ処理装置を用いて、酸素圧8Pa、700Vで3秒間の各条件で酸素プラズマ表面洗浄処理を行った（洗浄工程）。表１に記すように、この洗浄工程前後での遮光隔壁の頂面2aにおける純水接触角はさほど低下しなかった（低下率1.06％）。一方、洗浄工程後のガラス基板の表面1aにおける純粋接触角は２０度未満であった。

また、上記洗浄工程後の支持基板における隔壁で囲まれた領域（画素内）にむかって、東芝テック製インクジェットヘッドを用いて、粘度９ｍPa.sec、固形分濃度20％のレッド、ブルー、グリーンのインキを打ち込み、230℃にてポストベークを行い、カラーフィルターを形成した。このとき、混色ならびに隔壁とインキの界面には色抜けが起きているかどうかについて、光学式顕微鏡を用い、透過光にて50倍倍率にて観察を行ったところ（○：良好、×：不良）、表１に示すように、混色及び白抜けはいずれも観察されなかった。さらに断面を拡大して観察したところ、インキは平坦な形状で隔壁の側面2bと密着していることが確認できた。

［実施例２〜４］
上記調製例２〜４にて調製したブラックレジストBK-2〜4を用いた以外は上記実施例１と同様にして、支持基板上に隔壁を形成し（実施例２：BK-2、実施例３：BK-3、実施例４：BK-4）、その後、酸素プラズマ表面処理を施して、所定の部位における純水接触角を評価した。また、洗浄工程後の各支持基板を用いて、実施例１と同様にカラーフィルターを形成し、混色及び白抜けを評価した。結果を表１に示す。

［比較例１〜２］
上記調整例５〜６で調製したブラックレジストBK-5〜6を用いた以外は上記実施例１と同様にして、支持基板上に隔壁を形成し（比較例１：BK-5、比較例２：BK-6）、その後、酸素プラズマ表面処理を施して、所定の部位における純水接触角を評価した。また、洗浄工程後の各支持基板を用いて、実施例１と同様にカラーフィルターを形成し、混色及び白抜けを評価した。結果を表１に示す。いずれも酸素プラズマ処理により、実施例での結果に比べて遮光隔壁の頂面2aにおける純水接触角が著しく低下することがわかった。

［比較例３〜５］
実施例１、２及び比較例２において、隔壁を形成した支持基板に対して酸素プラズマ処理を行わずに、インクジェット装置でインクを打ち込んだ。この時、いずれも隔壁で囲まれた領域（画素内）におけるインキの展開性が悪く、特に画素内のコーナーにおいて白抜けが観察された。また、断面を拡大して観察したところ、インキは隔壁の側面近傍では厚みが薄くなり、隔壁と十分に密着していなかった。

［実施例５〜８及び比較例６〜７］
（ＵＶ洗浄）
実施例1〜４及び比較例1〜２において行った酸素プラズマ洗浄に代えて、超高圧水銀ランプによるＵＶ（紫外線）洗浄を30秒間行い、所定の部位における純水接触角を評価した。また、洗浄工程後の各支持基板を用いて、実施例１と同様にカラーフィルターを形成し、混色及び白抜けを評価した。結果を表２に示す。

[実施例９]
（コロナ洗浄）
隔壁を形成した支持基板の洗浄処理について、酸素プラズマ処理に代えてコロナ放電処理を行った以外は実施例１と同様にして、所定の部位における純水接触角を評価した。また、洗浄工程後の支持基板を用いて、実施例１と同様にカラーフィルターを形成し、混色及び白抜けを評価した。結果を表３に示す。

[実施例１０]
（アルカリ洗浄）
隔壁を形成した支持基板の洗浄処理について、酸素プラズマ処理に代えてｐＨ１３の水酸化ナトリウム溶液を用いたアルカリ洗浄（25℃、１分間のシャワー洗浄）を行った以外は実施例１と同様にして、所定の部位における純水接触角を評価した。また、洗浄工程後の支持基板を用いて、実施例１と同様にカラーフィルターを形成し、混色及び白抜けを評価した。結果を表３に示す。

図１は、支持基板上に隔壁を形成した様子を示す断面説明図である。

符号の説明

１：支持基板、1a：表面（隔壁を形成した部分以外の表面）、２：隔壁、2a：隔壁の頂面、2b：隔壁の側面。

Claims (3)

1. 支持基板上に、複数の画素と、隣接する画素間に位置する隔壁とを少なくとも有するカラーフィルターの製造方法であって、
   （１）支持基板上に含フッ素樹脂を含有するブラックレジストからなる含フッ素系遮光隔壁を形成する工程と、
   （２）続いて、アルカリ水溶液による洗浄処理、ＵＶ洗浄処理、エキシマ洗浄処理、コロナ放電処理、及び酸素プラズマ処理から選ばれた１種以上の処理を用いて上記含フッ素系遮光隔壁が形成された支持基板を洗浄する工程と、
   （３）上記含フッ素系遮光隔壁で囲まれた領域にインクジェット方式によりインキを付与して画素を形成する工程とを有し、
   上記含フッ素系遮光隔壁を形成するブラックレジスト中の含フッ素樹脂の含有量が、ブラックレジスト固形分中の０．３〜１０wt％であり、上記（２）の洗浄工程前後における含フッ素系遮光隔壁の頂面での純水接触角の低下率が１０％以下であることを特徴とするカラーフィルターの製造方法。
2. 含フッ素樹脂が含フッ素（メタ）アクリルエステルの共重合体である請求項１記載のカラーフィルターの製造方法。
3. 請求項１又は２記載の製造方法を用いて製造されたカラーフィルター。

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