JP2009051686A - Iii族窒化物結晶の成長方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】本III族窒化物結晶の成長方法は、液相法により、III族金属元素とアルカリ金属元素とを含む融液を用いて、下地基板10の主面10m上に第1のIII族窒化物結晶20を成長させる方法であって、下地基板10は少なくとも主面10m側にIII族窒化物結晶層10aを含み、下地基板10の主面10mの法線10mvは、III族窒化物結晶層10aの<0001>方向10cvに対して1°以上10°以下の傾き角を有し、第1のIII族窒化物結晶20の成長の際に、第1のIII族窒化物結晶20に残留する転位の少なくとも一部を{0001}面20cに対して実質的に平行な方向に伝搬させて第1のIII族窒化物結晶20の外周部に排出させることを特徴とする。
【選択図】図1
Description
本発明にかかるIII族窒化物結晶の成長方法の一実施形態は、図1を参照して、液相法により、III族金属元素とアルカリ金属元素とを含む融液を用いて、下地基板10の主面10m上に第1のIII族窒化物結晶20を成長させる方法である。ここで、下地基板10は少なくとも主面10m側にIII族窒化物結晶層10aを含み、下地基板10の主面10mの法線10mvは、III族窒化物結晶層10aの<0001>方向10cvに対して1°以上10°以下の傾き角θ1を有する。これにより、第1のIII族窒化物結晶20の成長の際に、第1のIII族窒化物結晶20に残留する転位の少なくとも一部を{0001}面20cに対して実質的に平行な方向に伝搬させて第1のIII族窒化物結晶20の外周部に排出させる。
本発明にかかるIII族窒化物結晶の成長方法の他の実施形態は、図4を参照して、実施形態1の成長方法により得られた第1のIII族窒化物結晶20に主面20mを形成する工程(図4(a))と、液相法により、III族金属元素とアルカリ金属元素とを含む融液を用いて、第1のIII族窒化物結晶20の主面20m上に第2のIII族窒化物結晶30を成長させる工程(図4(b))とを含む。ここで、第1のIII族窒化物結晶20の主面20mの法線は、<0001>方向に対して1°以上10°以下の傾き角を有する。これにより、第2のIII族窒化物結晶30の成長の際に、第2のIII族窒化物結晶30に残留する転位の少なくとも一部を{0001}面30cに対して実質的に平行な方向に伝搬させて第2のIII族窒化物結晶30の外周部に排出させる。
本発明にかかるIII族窒化物結晶の成長方法のさらに他の実施形態は、図6を参照して、実施形態1の成長方法により得られた第1のIII族窒化物結晶20に主面20mを形成する工程(図6(a))と、第1のIII族窒化物結晶20の主面20m上に第3のIII族窒化物結晶40を成長させる工程(図6(b)とを含む。転位密度が低減した第1のIII族窒化物結晶20の主面20m上に、第3のIII族窒化物結晶40を成長させることにより、結晶成長後の成長面40sの転位密度が低減した第3のIII族窒化物結晶40が得られる。
本発明にかかるIII族窒化物結晶の成長方法のさらに他の実施形態は、図7を参照して、実施形態2の成長方法により得られた第2のIII族窒化物結晶30に主面30mを形成する工程(図7(a))と、第2のIII族窒化物結晶30の主面30m上に第4のIII族窒化物結晶50を成長させる工程(図7(b))とを含む。転位密度が著しく低減した第2のIII族窒化物結晶30の主面30m上に、第4のIII族窒化物結晶50を成長させることにより、結晶成長後の成長面50sの転位密度が低減した第4のIII族窒化物結晶50が得られる。
図1(a)を参照して、まず、下地基板10として直径2インチ(5.08cm)×厚さ350μmのウルツ鉱型GaN結晶基板を準備した。この下地基板(GaN結晶基板)10は、主面10mが(0001)表面であり、その主面10mの法線が[0001]方向から[1−100]方向に2°の傾き角θ1を有しており、その主面10mは研磨加工により鏡面にされている。この下地基板の主面における転位密度をカソードルミネセンス法により暗点として検出し測定したところ、面内平均転位密度は5.0×106cm-2であった。
その主面10mの法線の[0001]方向から[1−100]方向への傾き角が4°であること以外は、実施例1と同様にして第1のGaN結晶を成長させ、その表面を鏡面化した。このGaN結晶について、表面における平均転位密度は、6.5×104cm-2であり、下地基板に近い成長初期において転位は(0001)面に対して実質的に平行な方向に伝播し結晶外周側面に到達していることが確認され、結晶内部に液胞は認められなかった。
その主面10mの法線の[0001]方向から[1−100]方向への傾き角が8°であること以外は、実施例1と同様にして第1のGaN結晶を成長させ、その表面を鏡面化した。このGaN結晶について、表面における平均転位密度は、5.2×104cm-2であり、下地基板に近い成長初期において転位は(0001)面に対して実質的に平行な方向に伝播し結晶外周側面に到達していることが確認された。なお、結晶内部には、実用上支障の無い範囲であると推測されるが、若干の液胞が認められた。
下地基板の主面の法線が[0001]方向(傾き角θ1が0°)であること以外は実施例1と同様にして第1のGaN結晶を成長させ、その表面を鏡面化した。このGaN結晶について、表面における平均転位密度は、5.3×106cm-2であり、転位は(0001)面に対してほぼ垂直な方向に伝播していることを確認され、結晶内部に液胞は認められなかった。
その主面10mの法線の[0001]方向から[1−100]方向への傾き角が11°であること以外は、実施例1と同様にして第1のGaN結晶を成長させ、その表面を鏡面化した。このGaN結晶について、表面における平均転位密度は、5.1×104cm-2であり、下地基板に近い成長初期において転位は(0001)面に対して実質的に平行な方向に伝播し結晶外周側面に到達していることが確認されたが、結晶内部に多数の液胞が認められた。
実施例1で得られたGaN結晶(第1のIII族窒化物結晶20)の表面を研削および研磨することにより、主面20mの法線が[0001]方向から[1−100]方向に2°の傾き角を有する主面20mを形成した。この主面20m上に実施例1と同様のNaフラックス法により第2のGaN結晶(第2のIII族窒化物結晶)を厚さ10000μmに成長させ、その表面を鏡面化した。この第2のGaN結晶について、表面における平均転位密度は、6.0×104cm-2と第1のGaN結晶の転位密度よりさらに僅かに低減し、下地基板に近い成長初期において転位は(0001)面に対して実質的に平行な方向に伝播し結晶外周側面に到達していることが確認され、結晶内部に液胞は認められなかった。
図4および図5を参照して、実施例1で得られた第1のGaN結晶(第1のIII族窒化物結晶20)の表面を研削および研磨することにより、主面20mの法線が[0001]方向から[01−10]方向に2°の傾き角θ2を有する主面20mを形成した。本実施例においては、下地基板の主面の法線を{0001}面に投影した基板の傾き方向は[1−100]方向であり、第1のIII族窒化物結晶の法線を上記{0001}面に投影した結晶傾き方向は[01−10]方向であり、これらの2方向のなす角度χは120°であった。この主面20m上に実施例1と同様のNaフラックス法により第2のGaN結晶(第2のIII族窒化物結晶)を厚さ10000μmに成長させ、その表面を鏡面化した。この第2のGaN結晶について、表面における平均転位密度は、5.0×103cm-2と第1のGaN結晶の転位密度よりさらに著しく低減し、下地基板に近い成長初期において転位は(0001)面に対して実質的に平行な方向に伝播し結晶外周側面に到達していることが確認され、結晶内部に液胞は認められなかった。
図4および図5を参照して、実施例1で得られた第1のGaN結晶(第1のIII族窒化物結晶20)の表面を研削および研磨することにより、主面20mの法線が[0001]方向から[11−20]方向に2°の傾き角θ2を有する主面20mを形成した。本実施例においては、下地基板の主面の法線を{0001}面に投影した基板の傾き方向は[1−100]方向であり、第1のIII族窒化物結晶の法線を上記{0001}面に投影した結晶傾き方向は[11−20]方向であり、これらの2方向のなす角度χは90°であった。この主面20m上に実施例1と同様のNaフラックス法により第2のGaN結晶(第2のIII族窒化物結晶)を厚さ10000μmに成長させ、その表面を鏡面化した。この第2のGaN結晶について、表面における平均転位密度は、3.0×103cm-2と第1のGaN結晶の転位密度よりさらに著しく低減し、下地基板に近い成長初期において転位は(0001)面に対して実質的に平行な方向に伝播し結晶外周側面に到達していることが確認され、結晶内部に液胞は認められなかった。
Claims (8)
- 液相法により、III族金属元素とアルカリ金属元素とを含む融液を用いて、下地基板の主面上に第1のIII族窒化物結晶を成長させる方法であって、
前記下地基板は少なくとも前記主面側にIII族窒化物結晶層を含み、
前記下地基板の主面の法線は、前記III族窒化物結晶層の<0001>方向に対して1°以上10°以下の傾き角を有し、
前記第1のIII族窒化物結晶の成長の際に、前記第1のIII族窒化物結晶に残留する転位の少なくとも一部を{0001}面に対して実質的に平行な方向に伝搬させて前記第1のIII族窒化物結晶の外周部に排出させることを特徴とするIII族窒化物結晶の成長方法。 - 前記下地基板の主面における転位密度が1×107cm-2未満であって、
前記第1のIII族窒化物結晶の結晶成長後の成長面における転位密度が前記下地基板の主面における転位密度の1/10以下である請求項1に記載のIII族窒化物結晶の成長方法。 - 請求項1の成長方法により得られた第1のIII族窒化物結晶に主面を形成する工程と、液相法により、III族金属元素とアルカリ金属元素とを含む融液を用いて、前記第1のIII族窒化物結晶の主面上に第2のIII族窒化物結晶を成長させる工程とを含み、
前記第1のIII族窒化物結晶の主面の法線は、<0001>方向に対して1°以上10°以下の傾き角を有し、
前記第2のIII族窒化物結晶の成長の際に、前記第2のIII族窒化物結晶に残留する転位の少なくとも一部を{0001}面に対して実質的に平行な方向に伝搬させて前記第2のIII族窒化物結晶の外周部に排出させることを特徴とするIII族窒化物結晶の成長方法。 - 前記下地基板の主面の法線を{0001}面に投影した基板傾き方向と前記第1のIII族窒化物結晶の法線を前記{0001}面に投影した結晶傾き方向とのなす角度が、50°以上130°以下である請求項3に記載のIII族窒化物結晶の成長方法。
- 前記下地基板の主面における転位密度が1×107cm-2未満であって、
前記第2のIII族窒化物結晶の結晶成長後の成長面における転位密度が前記下地基板の主面における転位密度の1/100以下である請求項3または請求項4に記載のIII族窒化物結晶の成長方法。 - 前記アルカリ金属元素は、NaおよびLiの少なくともいずれかである請求項1から請求項5までのいずれかに記載のIII族窒化物結晶の成長方法。
- 請求項1または請求項2の成長方法により得られた前記第1のIII族窒化物結晶に主面を形成する工程と、前記第1のIII族窒化物結晶の主面上に第3のIII族窒化物結晶を成長させる工程とを含むIII族窒化物結晶の成長方法。
- 請求項3から請求項5までのいずれかの成長方法により得られた前記第2のIII族窒化物結晶に主面を形成する工程と、前記第2のIII族窒化物結晶の主面上に第4のIII族窒化物結晶を成長させる工程とを含むIII族窒化物結晶の成長方法。
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