JP2009051002A5 - - Google Patents
Download PDFInfo
- Publication number
- JP2009051002A5 JP2009051002A5 JP2008209142A JP2008209142A JP2009051002A5 JP 2009051002 A5 JP2009051002 A5 JP 2009051002A5 JP 2008209142 A JP2008209142 A JP 2008209142A JP 2008209142 A JP2008209142 A JP 2008209142A JP 2009051002 A5 JP2009051002 A5 JP 2009051002A5
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- polishing
- elements
- polishing pad
- points
- abrasive
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Description
水平部材が欠如している構造が想到される場合があるが、一方でこれらは多くの場合、高い剛性を与える内部支えが欠如している。したがって、厳密には水平な部材がないが、クロスブレース(cross-bracing)構造の剛性に達するのに十分な内部支えを実現する構造を有することが望ましい。図2及び3は、本発明の、それぞれ水平面に楕円形及び円形の断面を備える相互接続された格子構造を図示する。具体的には、これらのSEM顕微鏡写真は、一連の段又はランディング、たとえば円形のランディングから製作された研磨要素を図示している。図2及び3は、水平のランディングを図示するが、格子構造はランディング又はランディングが水平であることを要しない。研磨要素の各端は、他の2つの研磨要素と頂点又は連結点で接続されている。これにより、各連結点を支持する3つの研磨要素を備える、相互接続された四面体格子が形成される。構造に水平要素が欠如していることで、構造が摩耗したときの接触面積のばらつきが低減し、複数のウェーハに対して一定した研磨が促進される。
Claims (10)
- 研磨媒体の存在下で、磁性、光学及び半導体基板の内の少なくとも一つを研磨するために有用である研磨パッドであって、
a)垂直方向に整列させられた、第一及び第二の端を有する複数の研磨要素と、
b)複数の連結点の各々において少なくとも三つの研磨要素を備え、研磨要素の第一及び第二の端を接続し、階層を形成する複数の連結点であって、各階層が研磨要素の第一及び第二の端の間の垂直方向の厚さを示す、複数の連結点と、
c)研磨要素を接続する複数の連結点の連続した階層を接続することから形成される、相互接続された格子構造と
を含む研磨パッド。 - 連結点が、3〜6個の研磨要素を接続する、請求項1記載の研磨パッド。
- 研磨要素が、各連結点の上下の研磨要素と整列する、請求項1記載の研磨パッド。
- 各研磨要素が、一連のランディングを含む、請求項1記載の研磨パッド。
- 相互接続された格子には、水平の研磨要素が欠如している、請求項1記載の研磨パッド。
- 研磨媒体の存在下で、磁性、光学及び半導体基板の内の少なくとも一つを研磨するために有用である研磨パッドであって、
a)垂直方向に整列させられた、第一及び第二の端を有する複数の研磨要素と、
b)複数の連結点の各々において少なくとも三つの研磨要素を備え、研磨要素の第一及び第二の端を接続し、階層を形成する複数の連結点であって、各階層が研磨要素の第一及び第二の端の間の垂直方向の厚さを示す、複数の連結点と、
c)研磨要素を接続する複数の連結点の連続した階層を接続することから形成され、複数の連結点を通して一定方向に整列する研磨要素を備える、相互接続された格子構造と
を含む研磨パッド。 - 連結点が、3〜6個の研磨要素を接続する、請求項6記載の研磨パッド。
- 連結点が、3個の研磨要素を接続する、請求項6記載の研磨パッド。
- 各研磨要素が、一連のランディングを含む、請求項6記載の研磨パッド。
- 相互接続された格子には、水平の研磨要素が欠如している、請求項6記載の研磨パッド。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US11/893,785 | 2007-08-16 | ||
US11/893,785 US7828634B2 (en) | 2007-08-16 | 2007-08-16 | Interconnected-multi-element-lattice polishing pad |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2009051002A JP2009051002A (ja) | 2009-03-12 |
JP2009051002A5 true JP2009051002A5 (ja) | 2013-07-11 |
JP5389395B2 JP5389395B2 (ja) | 2014-01-15 |
Family
ID=40363344
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2008209142A Active JP5389395B2 (ja) | 2007-08-16 | 2008-08-15 | 相互接続された多要素格子研磨パッド |
Country Status (7)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US7828634B2 (ja) |
EP (1) | EP2025457A3 (ja) |
JP (1) | JP5389395B2 (ja) |
KR (1) | KR101483306B1 (ja) |
CN (1) | CN101367190B (ja) |
SG (1) | SG150467A1 (ja) |
TW (1) | TWI429502B (ja) |
Families Citing this family (30)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US7635290B2 (en) | 2007-08-15 | 2009-12-22 | Rohm And Haas Electronic Materials Cmp Holdings, Inc. | Interpenetrating network for chemical mechanical polishing |
US7530887B2 (en) * | 2007-08-16 | 2009-05-12 | Rohm And Haas Electronic Materials Cmp Holdings, Inc. | Chemical mechanical polishing pad with controlled wetting |
US9180570B2 (en) | 2008-03-14 | 2015-11-10 | Nexplanar Corporation | Grooved CMP pad |
US9108291B2 (en) | 2011-09-22 | 2015-08-18 | Dow Global Technologies Llc | Method of forming structured-open-network polishing pads |
US8801949B2 (en) | 2011-09-22 | 2014-08-12 | Dow Global Technologies Llc | Method of forming open-network polishing pads |
US8894799B2 (en) | 2011-09-22 | 2014-11-25 | Dow Global Technologies Llc | Method of forming layered-open-network polishing pads |
US9873180B2 (en) | 2014-10-17 | 2018-01-23 | Applied Materials, Inc. | CMP pad construction with composite material properties using additive manufacturing processes |
US10875153B2 (en) | 2014-10-17 | 2020-12-29 | Applied Materials, Inc. | Advanced polishing pad materials and formulations |
US10875145B2 (en) | 2014-10-17 | 2020-12-29 | Applied Materials, Inc. | Polishing pads produced by an additive manufacturing process |
SG11201703114QA (en) | 2014-10-17 | 2017-06-29 | Applied Materials Inc | Cmp pad construction with composite material properties using additive manufacturing processes |
US11745302B2 (en) | 2014-10-17 | 2023-09-05 | Applied Materials, Inc. | Methods and precursor formulations for forming advanced polishing pads by use of an additive manufacturing process |
US10399201B2 (en) | 2014-10-17 | 2019-09-03 | Applied Materials, Inc. | Advanced polishing pads having compositional gradients by use of an additive manufacturing process |
US10821573B2 (en) | 2014-10-17 | 2020-11-03 | Applied Materials, Inc. | Polishing pads produced by an additive manufacturing process |
KR102609439B1 (ko) | 2015-10-30 | 2023-12-05 | 어플라이드 머티어리얼스, 인코포레이티드 | 원하는 제타 전위를 가진 연마 제품을 형성하는 장치 및 방법 |
US9484212B1 (en) * | 2015-10-30 | 2016-11-01 | Rohm And Haas Electronic Materials Cmp Holdings, Inc. | Chemical mechanical polishing method |
US10593574B2 (en) | 2015-11-06 | 2020-03-17 | Applied Materials, Inc. | Techniques for combining CMP process tracking data with 3D printed CMP consumables |
US10391605B2 (en) | 2016-01-19 | 2019-08-27 | Applied Materials, Inc. | Method and apparatus for forming porous advanced polishing pads using an additive manufacturing process |
WO2017127221A1 (en) | 2016-01-19 | 2017-07-27 | Applied Materials, Inc. | Porous chemical mechanical polishing pads |
US11471999B2 (en) | 2017-07-26 | 2022-10-18 | Applied Materials, Inc. | Integrated abrasive polishing pads and manufacturing methods |
CN111032284B (zh) * | 2017-08-04 | 2022-11-04 | 3M创新有限公司 | 具有增强的共平面性的微复制型抛光表面 |
WO2019032286A1 (en) | 2017-08-07 | 2019-02-14 | Applied Materials, Inc. | ABRASIVE DISTRIBUTION POLISHING PADS AND METHODS OF MAKING SAME |
CA3084438A1 (en) * | 2017-12-04 | 2019-06-13 | California Institute Of Technology | Metasurface-assisted 3d beam shaping |
TWI674172B (zh) * | 2018-03-30 | 2019-10-11 | 中國砂輪企業股份有限公司 | 立體研磨工具及其製造方法 |
JP7299970B2 (ja) | 2018-09-04 | 2023-06-28 | アプライド マテリアルズ インコーポレイテッド | 改良型研磨パッドのための配合物 |
US11331767B2 (en) | 2019-02-01 | 2022-05-17 | Micron Technology, Inc. | Pads for chemical mechanical planarization tools, chemical mechanical planarization tools, and related methods |
US11541736B2 (en) * | 2019-06-04 | 2023-01-03 | Fca Us Llc | Multiple position vehicle cover |
US11813712B2 (en) | 2019-12-20 | 2023-11-14 | Applied Materials, Inc. | Polishing pads having selectively arranged porosity |
US11833638B2 (en) * | 2020-03-25 | 2023-12-05 | Rohm and Haas Electronic Materials Holding, Inc. | CMP polishing pad with polishing elements on supports |
US11806829B2 (en) | 2020-06-19 | 2023-11-07 | Applied Materials, Inc. | Advanced polishing pads and related polishing pad manufacturing methods |
US11878389B2 (en) | 2021-02-10 | 2024-01-23 | Applied Materials, Inc. | Structures formed using an additive manufacturing process for regenerating surface texture in situ |
Family Cites Families (25)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US2740239A (en) * | 1953-07-02 | 1956-04-03 | Bay State Abrasive Products Co | Flexible abrasive products |
US2984052A (en) * | 1959-08-12 | 1961-05-16 | Norton Co | Coated abrasives |
US3861892A (en) * | 1973-02-08 | 1975-01-21 | Norton Co | Coated abrasive material and manner of manufacture |
US4282011A (en) * | 1980-05-30 | 1981-08-04 | Dan River Incorporated | Woven fabrics containing glass fibers and abrasive belts made from same |
JPH0398759A (ja) * | 1989-09-07 | 1991-04-24 | Nec Corp | ポリシングパッド及びその製造方法 |
US5131924A (en) * | 1990-02-02 | 1992-07-21 | Wiand Ronald C | Abrasive sheet and method |
MY114512A (en) | 1992-08-19 | 2002-11-30 | Rodel Inc | Polymeric substrate with polymeric microelements |
US5871392A (en) * | 1996-06-13 | 1999-02-16 | Micron Technology, Inc. | Under-pad for chemical-mechanical planarization of semiconductor wafers |
CA2192880C (en) * | 1996-12-13 | 2005-02-22 | Brian H. Parrott | Sanding devices and the like for removing materials |
JPH1199468A (ja) * | 1997-09-29 | 1999-04-13 | Toshiba Corp | 研磨パッド及びそれを用いた研磨装置 |
JP2918883B1 (ja) | 1998-07-15 | 1999-07-12 | 日本ピラー工業株式会社 | 研磨パッド |
US6439986B1 (en) * | 1999-10-12 | 2002-08-27 | Hunatech Co., Ltd. | Conditioner for polishing pad and method for manufacturing the same |
US6962524B2 (en) * | 2000-02-17 | 2005-11-08 | Applied Materials, Inc. | Conductive polishing article for electrochemical mechanical polishing |
US20040020789A1 (en) * | 2000-02-17 | 2004-02-05 | Applied Materials, Inc. | Conductive polishing article for electrochemical mechanical polishing |
US6979248B2 (en) * | 2002-05-07 | 2005-12-27 | Applied Materials, Inc. | Conductive polishing article for electrochemical mechanical polishing |
US6964604B2 (en) * | 2000-06-23 | 2005-11-15 | International Business Machines Corporation | Fiber embedded polishing pad |
US20030013397A1 (en) * | 2001-06-27 | 2003-01-16 | Rhoades Robert L. | Polishing pad of polymer coating |
ES2203295B1 (es) * | 2001-10-03 | 2005-06-01 | Airtel Movil, S.A. | Sistema y procedimiento de acceso a la informacion de abonado de una red de telefonia movil desde la red tcp/ip. |
US20040226620A1 (en) * | 2002-09-26 | 2004-11-18 | Daniel Therriault | Microcapillary networks |
US7311862B2 (en) * | 2002-10-28 | 2007-12-25 | Cabot Microelectronics Corporation | Method for manufacturing microporous CMP materials having controlled pore size |
US20040259479A1 (en) | 2003-06-23 | 2004-12-23 | Cabot Microelectronics Corporation | Polishing pad for electrochemical-mechanical polishing |
US7261625B2 (en) * | 2005-02-07 | 2007-08-28 | Inoac Corporation | Polishing pad |
US7604529B2 (en) * | 2006-02-16 | 2009-10-20 | Rohm And Haas Electronic Materials Cmp Holdings, Inc. | Three-dimensional network for chemical mechanical polishing |
US7503833B2 (en) * | 2006-02-16 | 2009-03-17 | Rohm And Haas Electronic Materials Cmp Holdings, Inc. | Three-dimensional network for chemical mechanical polishing |
US7517277B2 (en) * | 2007-08-16 | 2009-04-14 | Rohm And Haas Electronic Materials Cmp Holdings, Inc. | Layered-filament lattice for chemical mechanical polishing |
-
2007
- 2007-08-16 US US11/893,785 patent/US7828634B2/en active Active
-
2008
- 2008-08-11 TW TW097130484A patent/TWI429502B/zh active
- 2008-08-13 SG SG200806007-1A patent/SG150467A1/en unknown
- 2008-08-14 KR KR20080079896A patent/KR101483306B1/ko active IP Right Grant
- 2008-08-14 EP EP08162350.6A patent/EP2025457A3/en not_active Withdrawn
- 2008-08-15 CN CN2008102126600A patent/CN101367190B/zh active Active
- 2008-08-15 JP JP2008209142A patent/JP5389395B2/ja active Active
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP2009051002A5 (ja) | ||
JP2014123736A5 (ja) | ||
EP2441530A3 (en) | Electromechanical transducer and method of manufacturing the same | |
JP2012054578A5 (ja) | ||
EP2025457A3 (en) | Interconnected-multi-element-lattice polishing pad | |
JP2012064703A5 (ja) | ||
JP2016165022A5 (ja) | マルチチップパッケージ | |
JP2013056368A5 (ja) | ||
WO2008087578A3 (en) | A system-in-package with through substrate via holes | |
EP2733734A3 (en) | Multiple bonding layers for thin-wafer handling | |
JP2009056586A5 (ja) | ||
WO2010116694A3 (en) | Method of manufacturing semiconductor device | |
JP5657499B2 (ja) | 半導体装置及びその製造方法、並びに半導体装置の管理システム | |
EP2287924A3 (en) | Substrate Structures and Methods of Manufacturing the same | |
JP2012142629A5 (ja) | ||
JP2011071180A5 (ja) | ||
JP2016012707A5 (ja) | ||
JP2010532089A5 (ja) | ||
JP2009111363A5 (ja) | ||
JP2012085239A5 (ja) | ||
WO2017074994A1 (en) | Packaging arrangements including high density interconnect bridge | |
JP2017529692A5 (ja) | ||
JP2011009723A5 (ja) | ||
JP2009158764A5 (ja) | ||
JP2013520024A5 (ja) | 基板支持構造及び基板支持構造と基板支持構造の表面上にクランプされている基板との組み合わせ |