JP2009050988A - 円筒状基体の製造方法 - Google Patents
円筒状基体の製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2009050988A JP2009050988A JP2007222387A JP2007222387A JP2009050988A JP 2009050988 A JP2009050988 A JP 2009050988A JP 2007222387 A JP2007222387 A JP 2007222387A JP 2007222387 A JP2007222387 A JP 2007222387A JP 2009050988 A JP2009050988 A JP 2009050988A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- cylindrical
- cylindrical metal
- cutting
- face
- tube
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims abstract description 32
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 claims abstract description 129
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims abstract description 106
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims abstract description 106
- 238000000034 method Methods 0.000 claims abstract description 49
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 69
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 11
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 claims description 5
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical group [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 229910000838 Al alloy Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 238000003754 machining Methods 0.000 abstract description 9
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 45
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 41
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 17
- 229910021417 amorphous silicon Inorganic materials 0.000 description 12
- 108091008695 photoreceptors Proteins 0.000 description 10
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 9
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 9
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 8
- 238000005268 plasma chemical vapour deposition Methods 0.000 description 6
- 238000000137 annealing Methods 0.000 description 5
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 4
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 4
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 4
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 3
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 3
- 238000001125 extrusion Methods 0.000 description 3
- 239000000523 sample Substances 0.000 description 3
- 229910018134 Al-Mg Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910018467 Al—Mg Inorganic materials 0.000 description 2
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000005229 chemical vapour deposition Methods 0.000 description 2
- 230000008602 contraction Effects 0.000 description 2
- 238000012937 correction Methods 0.000 description 2
- 238000006073 displacement reaction Methods 0.000 description 2
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 2
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Chemical compound [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910018131 Al-Mn Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910018461 Al—Mn Inorganic materials 0.000 description 1
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001200 Ferrotitanium Inorganic materials 0.000 description 1
- FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N Magnesium Chemical compound [Mg] FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N Molybdenum Chemical compound [Mo] ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 238000004364 calculation method Methods 0.000 description 1
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011651 chromium Substances 0.000 description 1
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 1
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 1
- 229910017052 cobalt Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010941 cobalt Substances 0.000 description 1
- GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N cobalt atom Chemical compound [Co] GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 1
- 238000011161 development Methods 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 1
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 1
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011133 lead Substances 0.000 description 1
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011777 magnesium Substances 0.000 description 1
- 238000012423 maintenance Methods 0.000 description 1
- 229910052750 molybdenum Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011733 molybdenum Substances 0.000 description 1
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000007517 polishing process Methods 0.000 description 1
- 239000011148 porous material Substances 0.000 description 1
- 238000003825 pressing Methods 0.000 description 1
- 238000004080 punching Methods 0.000 description 1
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 1
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 1
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 1
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000003746 surface roughness Effects 0.000 description 1
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 1
Images
Landscapes
- Photoreceptors In Electrophotography (AREA)
- Electrophotography Configuration And Component (AREA)
- Turning (AREA)
- Rolls And Other Rotary Bodies (AREA)
Abstract
【解決手段】円筒状金属素管の端面及び外面に切削加工を施して円筒状基体を得る。具体的には、円筒状金属素管に保持手段を圧接させて該素管を保持する工程と、保持手段によって保持された円筒状金属素管の端面を切削する複数回の端面切削加工工程と、保持手段によって保持された円筒状金属素管の外面を切削する外面切削加工工程とを有する。そして、複数回の端面切削加工工程及び外面切削加工工程が、保持手段を取り外すことなく施され、かつ、複数回の端面切削加工工程の第一回目が、円筒状金属素管に対して最初に施される切削加工である。
【選択図】図1
Description
コレットチャック201を挿入した円筒状金属素管101を株式会社エグロ製の旋盤(商品名:SD550)にセットし、円筒状金属素管101を内側から保持した。この状態で、円筒状金属素管101を2000rpmで回転させ、表2に示す条件で、旋盤から取り外すことなく連続して加工を行って、円筒状基体105を100本製造した。第1の端面切削加工工程では、図3(a)に示す矢印方向に端面切削加工用バイト301を送り、端面全体を0.8mm切削した。次に、第2の端面切削加工工程では、図4(a)に示す矢印方向に端面切削用バイト301を送り、端面全体を0.2mm切削した。
マイクロメーター(株式会社ミツトヨ製)を用い、円筒状基体105の中央及び両端から20mm位置の3点の寸法を測定し、製造した100本間の平均値とバラツキから工程能力を算出した。工程能力指数Cpkは次式によって表される。
Cpk={(U−L)−|U+L−2X|}/6σ
但し、Uは規格上限値、Lは規格下限値、Xは平均値、σは標準偏差
得られた結果の評価は、後述する比較例で得られた結果を100としたときの相対評価で実施した。つまり、評価結果は数字が大きいほど良い。
(外径真円度、外径円筒度の評価)
株式会社ミツトヨ製の真円度円筒形状測定機(商品名:ROUNDTEST RA−436)を用い、円筒状基体105の中央、両端から20mm、両端から100mmの計5点について真円度を測定し、その5点から円筒度を算出した。算出結果の評価は、製造した100本間の平均値とバラツキから工程能力を算出し、後述する比較例で得られた結果を100としたときの相対評価で実施した。つまり、評価結果は数字が大きいほど良い。
(外径対インロー内径同軸度、両端インロー内径同軸度の評価)
図8に測定の概略図を示す。円筒状基体105の両端部を2台のVブロック801で支持し、ダイヤルゲージ802及び803をインロー加工が施された端部内面(インロー内径部)に当てる。そして、円筒状基体105を1回転させたときの、ダイヤルゲージ802及び803の指示値の最大値と最小値を測定し、その差をそれぞれの外径対インロー内径同軸度とした。また、円筒状基体105を1回転させたときの、ダイヤルゲージ802と803の指示値の差の最大値と最小値を測定し、その差を両端インロー内径同軸度とした。測定結果の評価は、製造した100本間の平均値とバラツキから工程能力を算出し、後述する比較例で得られた結果を100としたときの相対評価で実施した。つまり、評価結果は数字が大きいほど良い。
株式会社ミツトヨ製の真円度円筒形状測定機(商品名:ROUNDTEST RA−436)を用い、端面を基準として円筒状基体105の両端から20mm位置の2点の傾きを端面直角度として測定した。測定結果の評価は、製造した100本間の平均値とバラツキから工程能力を算出し、後述する比較例で得られた結果を100とした時の相対評価で実施した。つまり、評価結果は数字が大きいほど良い。
円筒状基体105を連続して100本加工するために要する時間を計測し、後述する比較例で得られた結果を100としたときの相対評価で実施した。つまり、評価結果は数字が小さいほど良い。
また、プロセススピード265mm/sec、前露光(波長660nmのLED)光量を2.3μJ/cm2とした。そして、電子写真感光体ユニット901
の母線方向中位置の表面電位が、電位プローブで測定して450V(暗電位)になるように主帯電器1002の電流値を調整した。その後、電位プローブを電子写真感光体ユニット901の端部より母線方向に移動させて、母線方向に40mm間隔の9点でそれぞれの最大値、最小値の測定を行った。全ての測定値の最大値と最小値の差をVd面ムラとし、100本の平均値とバラツキから工程能力を算出した。「振れ」および「Vd面ムラ」の評価は、後述の比較例で得られた結果を100としたときの相対評価で実施した。つまり、評価結果は数字が大きいほど良い。
「加工時間」を除く前記各評価項目に関して、以下に示す基準でランク付けを行った。
B・・・150より大きく175以下
C・・・125より大きく150以下
D・・・100より大きく125以下
E・・・100(変化なし)
F・・・100未満
A・・・40未満
B・・・40以上60未満
C・・・60以上80未満
D・・・80以上100未満
E・・・100(変化なし)
F・・・100より大きい
上記9項目(「外径寸法」「外径真円度」「外径円筒度」「外径対インロー内径同軸度」「両端インロー内径同軸度」「端面直角度」「加工時間」「振れ」「Vd面ムラ」)の評価結果について、以下に示す基準でランク付けを行った。ランク付けの結果は表7に示す。
A・・・各項目でBレベル以上、かつAレベル4個以上
B・・・各項目でBレベル以上
C・・・各項目でCレベル以上
D・・・各項目でDレベル以上
E・・・各項目でEレベル以上
F・・・各項目で一つでもFレベルがある
実施例1に対して、表2中の加工順2の第1の端面切削加工工程を、図3(b)に示す方法に変更した。第1の端面切削加工工程の一回目で、部分303を幅2mmで切削し、二回目で部分304を切削した。それ以外は実施例1と同様にして円筒状基体を100本製造した。得られた円筒状基体を用いて実施例1と同様に電子写真感光体ユニットを作製し、実施例1と同様の評価を行い、評価結果に基づいてランク付けを行った。ランク付けの結果を表7に示す。
実施例1に対して、加工順を変更した。具体的には、表2中の加工順を、1、2、5、3、4の順、つまり、外面切削加工工程後にインロー加工工程を実施した。それ以外は実施例1と同様にして円筒状基体を100本製造した。得られた円筒状基体を用いて実施例1と同様に電子写真感光体ユニットを作製し、実施例1と同様の評価を行い、評価結果に基づいてランク付けを行った。ランク付けの結果を表7に示す。
実施例1に対して、インロー加工工程を省略し、表2中の加工順を、1、2、5の順で実施した。それ以外は実施例1と同様にして円筒状基体を作製し、実施例1と同様の評価を行い、評価結果に基づいてランク付けを行った。ランク付けの結果を表7に示す。尚、本実施例ではインロー加工を実施していないので、「両端インロー内径同軸度」「外径対インロー内径同軸度」「振れ」「Vd面ムラ」の各評価は省略した。
端面加工済みの円筒状金属素管をその内側から保持した状態で株式会社エグロ製の旋盤(商品名:SD550)にセットし、2000rpmで回転させ、表5に示す条件でインロー加工を両端同時に行った。その後、インロー加工済み円筒状金属素管を一旦旋盤から取り外し、インロー内径基準で外面切削加工を行った。外面切削加工は、株式会社エグロ製の旋盤(商品名:RL550)を用い、コレットチャックでインロー内径部を保持した状態で、2000rpmで回転させ、表6に示す条件で加工を行った。以上のようにして、円筒状基体を100本製造した。得られた円筒状基体を用いて実施例1と同様にして電子写真感光体ユニットを作製し、実施例1と同様の評価を行い、評価結果に基づいてランク付けを行った。ランク付けの結果を表7に示す。
I:外径寸法、II:外径真円度、III:外径円筒度
IV:外径対インロー内径同軸度、V:両端インロー内径同軸度
VI:端面直角度、VII:加工時間、VIII:振れ、IX:Vd面ムラ
尚、表中の「−」は「評価せず」を示す。
ことがわかる。特に、回転時の振れに関わる精度(項目IV〜VI)に関して良化
している。これは、本発明によって、円筒状金属素管が安定して保持・固定された状態で切削加工が実施された効果である。円筒状基体の高精度化は、円筒状基体を使った製品の特性である項目VIII、IXによく現れている。また、項目VII
から、円筒状金属素管を保持した状態で一連の加工を行うことで、加工時間が半減されていることもわかる。
105 円筒状基体
205 保持部
106 余長部
106a 余長部の一部
106b 余長部の残部
Claims (6)
- 円筒状金属素管の端面及び外面に切削加工を施して円筒状基体を得る円筒状基体の製造方法において、
前記円筒状金属素管に保持手段を圧接させて前記円筒状金属素管を保持する工程と、
前記保持手段によって保持された前記円筒状金属素管の端面を切削する複数回の端面切削加工工程と、
前記保持手段によって保持された前記円筒状金属素管の外面を切削する外面切削加工工程と、を有し、
前記複数回の端面切削加工工程及び前記外面切削加工工程が、前記保持手段を取り外すことなく施され、かつ、前記複数回の端面切削加工工程の第一回目が、前記円筒状金属素管に対して最初に施される切削加工であることを特徴とする円筒状基体の製造方法。 - 前記保持手段を前記円筒状金属素管の内面であって、かつ、前記円筒状金属素管の母線方向中央に圧接させることを特徴とする請求項1記載の円筒状基体の製造方法。
- 前記複数回の端面切削加工工程には、前記円筒状基体に対する前記円筒状金属素管の余長部の一部を切削する第1の端面切削加工工程と、前記余長部の残部を切削する第2の端面切削加工工程とが含まれ、
前記端面切削加工工程の第一回目が前記第1の端面切削加工工程であることを特徴とする請求項1又は請求項2記載の円筒状基体の製造方法。 - 前記端面切削加工工程は、前記円筒状金属素管の両端面に対して同時に行うことを特徴とする請求項1乃至請求項3のいずれかに記載の円筒状基体の製造方法。
- 前記円筒状金属素管の材料は、アルミニウム又はアルミニウム合金であることを特徴とする請求項1乃至請求項4のいずれかに記載の円筒状基体の製造方法。
- 前記切削加工工程中の雰囲気温度の変動を2℃以内とすることを特徴とする請求項1乃至請求項5のいずれかに記載の円筒状基体の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2007222387A JP5100260B2 (ja) | 2007-08-29 | 2007-08-29 | 円筒状基体の製造方法および電子写真感光体の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2007222387A JP5100260B2 (ja) | 2007-08-29 | 2007-08-29 | 円筒状基体の製造方法および電子写真感光体の製造方法 |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2009050988A true JP2009050988A (ja) | 2009-03-12 |
JP2009050988A5 JP2009050988A5 (ja) | 2010-10-07 |
JP5100260B2 JP5100260B2 (ja) | 2012-12-19 |
Family
ID=40502529
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2007222387A Expired - Fee Related JP5100260B2 (ja) | 2007-08-29 | 2007-08-29 | 円筒状基体の製造方法および電子写真感光体の製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5100260B2 (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2011242588A (ja) * | 2010-05-18 | 2011-12-01 | Canon Inc | 電子写真感光体の製造方法及び電子写真感光体用基体の製造方法 |
JP2018077378A (ja) * | 2016-11-10 | 2018-05-17 | コニカミノルタ株式会社 | 電子写真感光体の製造方法 |
WO2019077705A1 (ja) * | 2017-10-18 | 2019-04-25 | 富士電機株式会社 | 導電性支持体、その製造方法、電子写真感光体および電子写真装置 |
Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH09174301A (ja) * | 1995-12-25 | 1997-07-08 | Okuma Mach Works Ltd | 中空ワーク両端面の加工方法及び装置 |
JP2001162404A (ja) * | 1999-12-13 | 2001-06-19 | Fuji Xerox Co Ltd | 旋盤用治具、円筒状基体の製造方法、および、円筒状基体 |
JP2003162078A (ja) * | 2001-11-29 | 2003-06-06 | Fuji Denki Gazo Device Kk | 電子写真感光体用円筒状基体の製造方法およびこの基体を用いた電子写真感光体 |
JP2003167361A (ja) * | 2001-11-30 | 2003-06-13 | Konica Corp | 電子写真感光体用円筒状基体の製造方法、電子写真感光体用円筒状基体、電子写真感光体、画像形成装置及びプロセスカートリッジ |
JP2007072175A (ja) * | 2005-09-07 | 2007-03-22 | Canon Inc | 電子写真感光体の製造方法 |
-
2007
- 2007-08-29 JP JP2007222387A patent/JP5100260B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH09174301A (ja) * | 1995-12-25 | 1997-07-08 | Okuma Mach Works Ltd | 中空ワーク両端面の加工方法及び装置 |
JP2001162404A (ja) * | 1999-12-13 | 2001-06-19 | Fuji Xerox Co Ltd | 旋盤用治具、円筒状基体の製造方法、および、円筒状基体 |
JP2003162078A (ja) * | 2001-11-29 | 2003-06-06 | Fuji Denki Gazo Device Kk | 電子写真感光体用円筒状基体の製造方法およびこの基体を用いた電子写真感光体 |
JP2003167361A (ja) * | 2001-11-30 | 2003-06-13 | Konica Corp | 電子写真感光体用円筒状基体の製造方法、電子写真感光体用円筒状基体、電子写真感光体、画像形成装置及びプロセスカートリッジ |
JP2007072175A (ja) * | 2005-09-07 | 2007-03-22 | Canon Inc | 電子写真感光体の製造方法 |
Cited By (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2011242588A (ja) * | 2010-05-18 | 2011-12-01 | Canon Inc | 電子写真感光体の製造方法及び電子写真感光体用基体の製造方法 |
JP2018077378A (ja) * | 2016-11-10 | 2018-05-17 | コニカミノルタ株式会社 | 電子写真感光体の製造方法 |
WO2019077705A1 (ja) * | 2017-10-18 | 2019-04-25 | 富士電機株式会社 | 導電性支持体、その製造方法、電子写真感光体および電子写真装置 |
CN110352386A (zh) * | 2017-10-18 | 2019-10-18 | 富士电机株式会社 | 导电性支承体、其制造方法、电子摄影感光体以及电子摄影装置 |
JPWO2019077705A1 (ja) * | 2017-10-18 | 2019-12-26 | 富士電機株式会社 | 導電性支持体、その製造方法、電子写真感光体および電子写真装置 |
US10642174B2 (en) | 2017-10-18 | 2020-05-05 | Fuji Electric Co., Ltd. | Electroconductive support body and method for manufacturing same, electrophotographic photoreceptor, and electrophotographic device |
CN110352386B (zh) * | 2017-10-18 | 2023-08-29 | 富士电机株式会社 | 导电性支承体、其制造方法、电子摄影感光体以及电子摄影装置 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP5100260B2 (ja) | 2012-12-19 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5100260B2 (ja) | 円筒状基体の製造方法および電子写真感光体の製造方法 | |
JP2011133865A (ja) | 電子写真感光体および電子写真装置 | |
JP2017037327A (ja) | 電子写真感光体用基材の製造方法、電子写真感光体の製造方法、インパクトプレス加工による電子写真感光体用基材の製造に用いる金属塊、及び筒状体の製造方法 | |
EP1541705A2 (en) | Method for processing cylinder periphery, processes for producing development roller and photoconductor drum, and development roller and photoconductor drum | |
JP2000029342A (ja) | 薄肉ローラ及び該薄肉ローラの製造方法 | |
JP5134863B2 (ja) | 導電性ローラの製造方法 | |
US10649354B2 (en) | Electrophotographic photoreceptor and image forming apparatus | |
JP2009169158A (ja) | 電子写真感光体の製造方法及び電子写真感光体 | |
JP5539016B2 (ja) | 電子写真感光体の製造方法及び電子写真感光体用基体の製造方法 | |
US10222714B2 (en) | Electrophotographic photoreceptor and image forming apparatus | |
JP2011197466A (ja) | 電子写真感光体用の円筒状基体の製造方法および電子写真感光体の製造方法 | |
JP3281604B2 (ja) | 電子写真感光体用基板および電子写真感光体ならびに該電子写真感光体を用いた画像形成装置 | |
JP4131307B2 (ja) | 電子写真感光ドラム基体用管体の製造方法 | |
JP2010230989A (ja) | 電子写真感光体の製造方法 | |
JP2007310021A (ja) | 感光ドラム用素管 | |
JP2004154789A (ja) | 薄肉化円筒体の製造方法 | |
JP2011257658A (ja) | 電子写真感光体の製造方法 | |
JP6962835B2 (ja) | 電子写真感光体およびこれを備える画像形成装置 | |
JP4333989B2 (ja) | 電子写真感光体の製造方法 | |
JP2005099637A (ja) | 感光体用基体及び感光体、並びに画像形成装置 | |
JP2006259540A (ja) | 加熱ローラ、その加熱ローラを有する定着装置、及びその定着装置を有する画像形成装置、並びに、芯金の製造方法 | |
JP2008229667A (ja) | パイプ部材成形装置、パイプ部材成形方法、感光体ドラム及び現像スリーブ | |
JP2001005205A (ja) | 電子写真感光体用基板および電子写真感光体ならびにこれを用いた画像形成装置 | |
JP2018163338A (ja) | 電子写真感光体および画像形成装置 | |
JP4555910B2 (ja) | 感光体用基板、電子写真用感光体および画像形成装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20100823 |
|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20100823 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20120329 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20120612 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20120807 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20120828 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20120925 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20151005 Year of fee payment: 3 |
|
R151 | Written notification of patent or utility model registration |
Ref document number: 5100260 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R151 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20151005 Year of fee payment: 3 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |