JP2009048121A - フォトマスク及びフォトマスクの製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】透明基板1上に遮光膜6及び半透光膜5が形成され遮光膜6及び半透光膜5にそれぞれパターニングが施されることによって遮光部2、透光部3及び露光光を一部透過する半透光部4が形成され、半透光膜5は、膜面における位置によって露光光の透過率が異なり、露光条件下で、複数の半透光部4の実効透過率が略均一となるように、パターニングが施されている。
【選択図】図1
Description
エッチング加工がなされる被加工層上に形成されたレジスト膜に対してフォトマスクを用いて所定の露光条件下で露光を行いこのレジスト膜をエッチング加工におけるマスクとなるレジストパターンとなす工程において用いる当該フォトマスクであって、透明基板上に遮光膜及び半透光膜が形成され該遮光膜及び半透光膜にそれぞれパターニングが施されることによって遮光部、透光部及び露光光を一部透過する半透光部が形成されたフォトマスクにおいて、半透光膜は、膜面における位置によって露光光の透過率が異なり、露光条件下で、複数の半透光部の実効透過率が略均一となるように、パターニングが施されていることを特徴とするものである。
エッチング加工がなされる被加工層上に形成されたレジスト膜に対してフォトマスクを用いて所定の露光条件下で露光を行いこのレジスト膜をエッチング加工におけるマスクとなる複数の同一形状の単位パターンを含むレジストパターンとなす工程において用いる当該フォトマスクであって、透明基板上に遮光膜及び半透光膜が形成され該遮光膜及び半透光膜にそれぞれパターニングが施されることによって遮光部、透光部及び露光光を一部透過する半透光部が形成されたフォトマスクにおいて、半透光膜は、膜面における位置によって露光光の透過率が異なり、露光条件下で、複数の単位パターンにおける半透光部の実効透過率がそれぞれ略均一となるように、パターニングが施されていることを特徴とするものである。
構成2を有するフォトマスクにおいて、パターニングは、複数の単位パターンにおける半透光部のパターン形状が、同一でないものを含むことを特徴とするものである。
構成2、または、構成3を有するフォトマスクにおいて、単位パターンにおける半透光部は、2つの遮光部の平行なエッジに挟まれた部分を有し、該2つのエッジの距離が、基板上の位置によって同一でないものとされていることにより、複数の単位パターンにおける半透光部のパターン形状が同一でないものを含んでいることを特徴とするものである。
構成1乃至構成4のいずれか一を有するフォトマスクにおいて、フォトマスクは、薄膜トランジスタ製造用のフォトマスクであり、半透光部は、薄膜トランジスタのチャネル部を形成するものであることを特徴とするものである。
エッチング加工がなされる被加工層上に形成されたレジスト膜に対してフォトマスクを用いて所定の露光条件下で露光を行いこのレジスト膜をエッチング加工におけるマスクとなる複数の同一形状の単位パターンを含むレジストパターンとなす工程において用いる当該フォトマスクを製造するフォトマスクの製造方法であって、透明基板上に遮光膜及び半透光膜を形成し該遮光膜及び半透光膜にそれぞれパターニングを施すことによって遮光部、透光部及び露光光を一部透過する半透光部を形成する工程を有するフォトマスクの製造方法において、半透光膜は、膜面における位置によって露光光の透過率が異なり、パターニングに先立ち、露光条件下で、複数の単位パターンの対応する半透光部の実効透過率が略同一となるように、パターニングの形状を決定することを特徴とするものである。
構成6を有するフォトマスクの製造方法において、透明基板上に半透光膜を形成した後に、この半透光膜の透過率を測定し、測定された半透光膜の透過率に基づいて複数の単位パターンの形状を決定し、決定されたパターンをパターニングすることによって、複数の単位パターンの対応する半透光部の実効透過率を略均一とすることを特徴とするものである。
構成6を有するフォトマスクの製造方法において、パターニングに先立ち、テスト基板上に半透光膜を形成し、この半透光膜の透過率を測定し、測定された半透光膜の透過率に基づいて複数の単位パターンを決定し、決定されたパターンをパターニングすることによって、複数の単位パターンの対応する半透光部の実効透過率を略均一とすることを特徴とするものである。
エッチング加工がなされる被加工層上に形成されたレジスト膜に対してフォトマスクを用いて所定の露光条件下で露光を行いこのレジスト膜をエッチング加工におけるマスクとなる複数の同一形状の単位パターンを含むレジストパターンとなす工程において用いる当該フォトマスクを製造するフォトマスクの製造方法であって、透明基板上に遮光膜及び半透光膜を形成し該遮光膜及び半透光膜にそれぞれパターニングを施すことによって、遮光部、透光部及び露光光を一部透過する半透光部を形成する工程を有するフォトマスクの製造方法において、透明基板上に半透光膜を形成したのち、この半透光膜の透過率を測定し、測定された半透光膜の透過率に基づいて、パターニングの形状を決定することを特徴とするものである。
構成6乃至構成9のいずれか一を有するフォトマスクの製造方法において、透過率の測定に基づいて、遮光膜に形成するパターンを決定することを特徴とするものである。
構成6乃至構成10のいずれか一を有するフォトマスクの製造方法において、半透光部は、2つの遮光部の平行なエッジに挟まれた部分を有することを特徴とするものである。
構成6乃至構成11のいずれか一を有するフォトマスクの製造方法において、製造されるフォトマスクは、薄膜トランジスタ製造用のフォトマスクであって、半透光部は、薄膜トランジスタのチャネル部を形成するものであることを特徴とするものである。
構成6乃至構成12のいずれか一を有するフォトマスクの製造方法において、パターニングを施した後に、半透光部の実効透過率を検査する検査工程を有し、検査工程においては、露光条件に近似した露光条件下において、遮光部、透光部及び半透光部の透過光データを得て、半透光部の実効透過率を測定することを特徴とするものである。
本発明に係るフォトマスクは、図1に示すように、透明基板1上に、遮光部2、透光部3及び半透光部(グレートーン部)4を有するグレートーンマスクである。このフォトマスクは、エッチング加工がなされる被加工層上に形成されたレジスト膜に対して露光装置により露光を行ってレジスト膜をエッチング加工におけるマスクとなるレジストパターンとなす工程において用いられるものである。
Transmittance(実効透過率)={Ig /(Iw−Ib)}×100(%)
Transmittance(実効透過率)={Ig /(Iw−Ib)}×100(%)
本発明に係るフォトマスクの製造方法は、本発明に係るフォトマスクを製造する方法であって、前述したように、透明基板1上に遮光膜6及び半透光膜5を形成し、これらにパターニングを施すことによって、遮光部2、透光部3及び半透光部4を形成する工程を有する。そして、半透光部4に隣接する遮光部2のパターンを、半透光部4をなす半透光膜5の透過率に応じて調整することにより、露光装置における露光条件下における各半透光部4の実効透過率を略均一とするものである。
このフォトマスクの製造方法において、遮光部2のパターンの調整は、具体的には、以下のようにして行う。すなわち、図5に示すように、透明基板1上、または、テスト基板上に半透光膜5を成膜し、この半透光膜5の透過率分布を測定する。この透過率分布の測定は、露光装置における露光条件に近似した露光条件を作り出し、この露光条件下において測定する。
本発明に係るフォトマスの製造方法において、前述のようなパターンの調整をするにあたっては、図7に示すように、検査装置を使用することができる。この検査装置においては、透明基板1、または、テスト基板は、保持手段13によって保持される。この検査装置は、所定波長の光束を発する光源11を有している。この光源11としては、例えば、ハロゲンランプ、メタルハライドランプ、UHPランプ(超高圧水銀ランプ)等を使用することができる。
2 遮光部
3 透光部
4 半透光部
5 半透光膜
6 遮光膜
Claims (13)
- エッチング加工がなされる被加工層上に形成されたレジスト膜に対してフォトマスクを用いて所定の露光条件下で露光を行い、このレジスト膜を前記エッチング加工におけるマスクとなるレジストパターンとなす工程において用いる当該フォトマスクであって、
透明基板上に遮光膜及び半透光膜が形成され、該遮光膜及び半透光膜にそれぞれパターニングが施されることによって、遮光部、透光部、及び露光光を一部透過する半透光部が形成されたフォトマスクにおいて、
前記半透光膜は、膜面における位置によって露光光の透過率が異なり、
前記露光条件下で、複数の半透光部の実効透過率が略均一となるように、前記パターニングが施されている
ことを特徴とするフォトマスク。 - エッチング加工がなされる被加工層上に形成されたレジスト膜に対してフォトマスクを用いて所定の露光条件下で露光を行い、このレジスト膜を前記エッチング加工におけるマスクとなる複数の同一形状の単位パターンを含むレジストパターンとなす工程において用いる当該フォトマスクであって、
透明基板上に遮光膜及び半透光膜が形成され、該遮光膜及び半透光膜にそれぞれパターニングが施されることによって、遮光部、透光部、及び露光光を一部透過する半透光部が形成されたフォトマスクにおいて、
前記半透光膜は、膜面における位置によって露光光の透過率が異なり、
前記露光条件下で、複数の単位パターンにおける半透光部の実効透過率がそれぞれ略均一となるように、前記パターニングが施されている
ことを特徴とするフォトマスク。 - 前記パターニングは、前記複数の単位パターンにおける半透光部のパターン形状が、同一でないものを含む
ことを特徴とする請求項2記載のフォトマスク。 - 前記単位パターンにおける前記半透光部は、2つの遮光部の平行なエッジに挟まれた部分を有し、該2つのエッジの距離が、基板上の位置によって同一でないものとされていることにより、前記複数の単位パターンにおける半透光部のパターン形状が同一でないものを含んでいる
ことを特徴とする請求項2、または、請求項3記載のフォトマスク。 - 前記フォトマスクは、薄膜トランジスタ製造用のフォトマスクであり、前記半透光部は、前記薄膜トランジスタのチャネル部を形成するものである
ことを特徴とする請求項1乃至請求項4のいずれか一に記載のフォトマスク。 - エッチング加工がなされる被加工層上に形成されたレジスト膜に対してフォトマスクを用いて所定の露光条件下で露光を行い、このレジスト膜を前記エッチング加工におけるマスクとなる複数の同一形状の単位パターンを含むレジストパターンとなす工程において用いる当該フォトマスクを製造するフォトマスクの製造方法であって、
透明基板上に遮光膜及び半透光膜を形成し、該遮光膜及び半透光膜にそれぞれパターニングを施すことによって、遮光部、透光部、及び露光光を一部透過する半透光部を形成する工程を有するフォトマスクの製造方法において、
前記半透光膜は、膜面における位置によって、露光光の透過率が異なり、
前記パターニングに先立ち、前記露光条件下で、複数の単位パターンの対応する半透光部の実効透過率が略同一となるように、前記パターニングの形状を決定する
ことを特徴とするフォトマスクの製造方法。 - 前記透明基板上に前記半透光膜を形成した後に、この半透光膜の透過率を測定し、
測定された前記半透光膜の透過率に基づいて、前記複数の単位パターンの形状を決定し、
決定された前記パターンをパターニングすることによって、前記複数の単位パターンの対応する半透光部の実効透過率を略均一とする
ことを特徴とする請求項6記載のフォトマスクの製造方法。 - 前記パターニングに先立ち、テスト基板上に半透光膜を形成し、この半透光膜の透過率を測定し、
測定された前記半透光膜の透過率に基づいて、前記複数の単位パターンを決定し、
決定された前記パターンをパターニングすることによって、前記複数の単位パターンの対応する半透光部の実効透過率を略均一とする
ことを特徴とする請求項6記載のフォトマスクの製造方法。 - エッチング加工がなされる被加工層上に形成されたレジスト膜に対してフォトマスクを用いて所定の露光条件下で露光を行い、このレジスト膜を前記エッチング加工におけるマスクとなる複数の同一形状の単位パターンを含むレジストパターンとなす工程において用いる当該フォトマスクを製造するフォトマスクの製造方法であって、
透明基板上に遮光膜及び半透光膜を形成し、該遮光膜及び半透光膜にそれぞれパターニングを施すことによって、遮光部、透光部、及び露光光を一部透過する半透光部を形成する工程を有するフォトマスクの製造方法において、
前記透明基板上に半透光膜を形成したのち、この半透光膜の透過率を測定し、
測定された前記半透光膜の透過率に基づいて、前記パターニングの形状を決定する
ことを特徴とするフォトマスクの製造方法。 - 前記透過率の測定に基づいて、前記遮光膜に形成するパターンを決定する
ことを特徴とする請求項6乃至請求項9のいずれか一に記載のフォトマスクの製造方法。 - 前記半透光部は、2つの遮光部の平行なエッジに挟まれた部分を有する
ことを特徴とする請求項6乃至請求項10のいずれか一に記載のフォトマスクの製造方法。 - 製造されるフォトマスクは、薄膜トランジスタ製造用のフォトマスクであって、前記半透光部は、前記薄膜トランジスタのチャネル部を形成するものである
ことを特徴とする請求項6乃至請求項11のいずれか一に記載のフォトマスクの製造方法。 - 前記パターニングを施した後に、前記半透光部の実効透過率を検査する検査工程を有し、
前記検査工程においては、前記露光条件に近似した露光条件下において、前記遮光部、前記透光部及び前記半透光部の透過光データを得て、前記半透光部の実効透過率を測定する
ことを特徴とする請求項6乃至請求項12のいずれか一に記載のフォトマスクの製造方法。
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