JP5097520B2 - グレートーンマスクの検査方法、液晶装置製造用グレートーンマスクの製造方法及びパターン転写方法 - Google Patents
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Description
ため、フォトマスクを用いた露光プロセスではレジスト厚の分だけ焦点がずれて縮小照射
される場合があり、これらフォトマスクの微細なパターンピッチを考慮すると、焦点ずれによる影響は看過できず、更には、焦点深度を深くとれる位相シフトマスクを用いる場合には、焦点ずれの影響の評価は重要であると考えられる。
表示装置の製造に用いられるグレートーンマスクであって、透明基板上に遮光部、透光部及び露光光の一部を透過する半透光部を含むパターンが形成されてなり、露光装置によるi線、h線、g線を含む混合露光光によってパターンを被転写体上に転写することにより、被転写体上の、半透光部に対応する部分に、遮光部に対応する部分より膜厚が薄いレジストパターンを形成するグレートーンマスクの検査方法において、i線、h線、g線を含み、かつ、混合露光光の特性に基づいて決定された各波長の強度割合をもつ光源を備えた検査装置を用い、光源から発せられた光束を照明光学系を介してグレートーンマスクに照射し、該グレートーンマスクを透過した光束を対物レンズ系を介し、撮像手段によって撮像して、撮像画像データを求める工程と、撮像画像データから、グレートーンマスクの半透光部及び遮光部を含む領域の透過光の強度分布データを取得し、取得した強度分布データにより、混合露光光によって被転写体上に形成されるレジストパターンの形状及び膜厚を求める工程と、を有することを特徴とするものである。
構成1を有するグレートーンマスクの検査方法において、照明光学系の開口数及び対物レンズ系の開口数を、露光装置における照明光学系の開口数及び対物レンズ系の開口数にそれぞれ略々等しいものとすることを特徴とするものである。
構成1又は構成2を有するグレートーンマスクの検査方法において、撮像画像データから、グレートーンマスクの半透光部、透光部及び遮光部を含む領域の透過光の強度分布データを取得する工程を有することを特徴とするものである。
構成1乃至構成3のいずれか一を有するグレートーンマスクの検査方法において、透過光の強度分布データから、所定の閾値以上、及び/又は、所定の閾値以下となっている領域の大きさを把握することを特徴とするものである。
構成1乃至構成4のいずれか一を有するグレートーンマスクの検査方法において、グレートーンマスクにおける半透光部は、露光装置の露光条件下における解像限界以下の微細パターンを有してなるもので、対物レンズ系及び撮像手段の少なくとも一方の光軸方向の位置を調節することにより、該微細パターンがデフォーカスされて非解像となった状態の撮像画像データを得ることを特徴とする
ものである。
構成1乃至構成4のいずれか一を有するグレートーンマスクの検査方法において、グレートーンマスクにおける半透光部は、透明基板上に半透光膜が形成され、半透光膜は、光透過率に波長依存性をもつものであることを特徴とするものである。
構成1乃至構成6のいずれか一を有するグレートーンマスクの検査方法において、グレートーンマスクは、白欠陥、または、黒欠陥の修正がなされたものであることを特徴とするものである。
構成6を有するグレートーンマスクの検査方法において、グレートーンマスクは、白欠陥、または、黒欠陥の修正がなされ、白欠陥、または、黒欠陥の修正は、半透光膜と異なる組成の修正膜を形成することによって行われていることを特徴とするものである。
〔構成9〕
構成1乃至構成8のいずれか一を有するグレートーンマスクの検査方法において、取得した強度分布データに対して演算を行い、他の露光光を用いた条件下での、透過光の強度分布データを求めることを特徴とするものである。
〔構成10〕
表示装置の製造に用いられるグレートーンマスクであって、透明基板上に遮光部、透光部及び露光光の一部を透過する半透光部を含むパターンが形成されてなり、露光装置によるi線、h線、g線を含む混合露光光によってパターンを被転写体上に転写することにより、被転写体上の、半透光部に対応する部分に、遮光部に対応する部分より膜厚が薄いレジストパターンを形成するグレートーンマスクの検査方法において、複数の単一波長をもつ光源を備えた検査装置を用い、光源から発せられた光束を照明光学系を介してグレートーンマスクに照射し、該グレートーンマスクを透過した光束を対物レンズ系を介し、撮像手段によって撮像して、複数の単一波長による撮像画像データを求める工程と、複数の単一波長による撮像画像データから、演算により、複数の波長の混合光を適用した場合の、グレートーンマスクの半透光部及び遮光部を含む領域の透過光の強度分布データを取得し、取得した強度分布データにより、混合露光光によって被転写体上に形成されるレジストパターンの形状及び膜厚を求める工程と、を有することを特徴とするものである。
構成1乃至構成10のいずれか一を有するグレートーンマスクの検査方法を含むことを特徴とするものである。
構成11を有する液晶装置製造用グレートーンマスクの製造方法により製造された液晶装置製造用グレートーンマスクを用いて、露光装置により露光光を露光し、被転写体にパターンを転写することを特徴とするものである。
構成9を有する本発明に係るグレートーンマスクの検査方法においては、取得した強度分布データに対して演算を行い、他の露光光を用いた条件下での、透過光の強度分布データを求めることができる。
構成10を有する本発明に係るグレートーンマスクの検査方法においては、光源から発せられた光束を照明光学系を介してグレートーンマスクに照射し、該グレートーンマスクを透過した光束を対物レンズ系を介し、撮像手段によって撮像して、複数の単一波長による撮像画像データを求める工程と、複数の単一波長による撮像画像データから、演算により、複数の波長の混合光を適用した場合の、グレートーンマスクの半透光部及び遮光部を含む領域の透過光の強度分布データを取得し、取得した強度分布データにより、混合露光光によって被転写体上に形成されるレジストパターンの形状及び膜厚を求める工程と、を有するので、グレートーンマスクの性能評価及び欠陥検査を良好に行うことができる。
本発明に係るグレートーンマスクの検査方法における被検体となるグレートーンマスクは、透明基板の主表面に遮光部、透光部及び半透光部が形成されたものであって、製品として完成したグレートーンマスクのみならず、グレートーンマスクを製造する途中での中間体をも含む。
本発明に係るグレートーンマスクの検査方法を実施するには、検査装置を用いる。この検査装置においては、図1に示すように、被検体であるグレートーンマスク3は、マスク保持手段3aによって保持される。このマスク保持手段3aは、グレートーンマスク3の主平面を略鉛直とした状態で、このグレートーンマスクの下端部及び側縁部近傍を支持し、このグレートーンマスク3を傾斜させて固定して保持するようになっている。このマスク保持手段3aは、グレートーンマスク3として、大型(例えば、主平面がの1辺が1000mmを越える寸法のもの、例えば、主平面が1220mm×1400mm、厚さ13mmというサイズのもの)、かつ、種々の大きさのグレートーンマスク3を保持できるようになっている。すなわち、このマスク保持手段3aにおいては、主平面を略鉛直とした状態のグレートーンマスク3の下端部を主に支持するので、グレートーンマスク3の大きさが異なっても、同一の支持部材によってグレートーンマスク3の下端部を支持することができる。
であることにより、グレートーンマスク3を用いて露光を行う露光装置を近似した状態での撮像を行うことができる。露光中に自重によりたわみを生じるフォトマスクを近似する目的においては、該検査装置の、対物レンズ系を光軸方向に移動可能とすることが特に好ましい。
図7は、前述のフォトマスクの検査装置を用いて実施されるフォトマスクの検査方法の手順を示すフローチャートである。
ここで、本発明に係るグレートーンマスクの検査方法において被検査体となるグレートーンマスクについて説明する。
本発明に係るグレートーンマスクの検査方法においては、前述のようなグレートーンマスクにおける欠陥や性能上の検査を行うため、実際の露光条件を反映したシミュレーションを行い、欠陥の有無、性能の優劣を評価する。
微細パターンからなる半透光部を有する「微細パターンタイプ」のグレートーンマスクの場合には、グレートーンマスクを用いて実際に露光する時には、微細パターンが解像されずに、実質的に均一(所定閾値範囲内)な透過率とみなされる程度に非解像の状態で使用される。この状態をグレートーンマスクの製造過程において、または、出荷前の段階において、さらには、欠陥修正を行った段階において検査する必要がある。このような課題に対して、本件発明者らは、本発明に係る検査方法に顕著な効果があることを見出した。
露光機の光学条件に略等しい条件)に対して適切に設計され、適切に形成されたフォトマスクパターンであれば、図11(右端図)に示すように半透光部に形成された微細パターンが実質的に略々単一の濃度となるような非解像の状態となる。この部分の濃度が、このグレートーンマスクを使用した場合のこの部分の透過率を示し、これによって半透光部により形成されるレジスト膜の残膜量が決定される。一方、もし設計が光学条件に対して不適切だった場合や、製造工程で所定の形状、寸法にパターンが形成されていない場合は、半透光部の濃度や、半透光部の形状などが上記の正常な状態とは異なる状態を示すことになるため、正常な状態との比較により、検査部分の良否を判定することができる。
演算を経て、半透光部と遮光部との境界部分のシャープネスを評価し、該部分のフォトレジストパターンの立体形状を予測することができる。例えば、該グレートーンマスクが薄膜トランジスタ製造用のものである場合には、、薄膜トランジスタの性能上、特に重要なチャネル部と、ソース、ドレイン部との境界に対応する、フォトレジストパターンの立体形状を予測することも可能である。
限界以下となるような微細な遮光パターンからなるグレートーン部を有するグレートーン
マスクの検査に有利に適用することができる。
そして、本発明に係るグレートーンマスクの検査方法においては、前述のような解像限界以下の微細パターンからなる半透光部ばかりでなく、半透光性の膜(露光光の透過率が、透光部に対して、例えば、10%乃至60%、より好ましくは、40%乃至60%の膜)によって形成された半透光部を有する「半透光膜タイプ」のグレートーンマスクについての検査も行うことができる。
Ig/(Iw−Ib)=Tg
Ig´/(Iw−Ib)=Tg´(チャネル部の透過率の最低値)
(Tg−Tg´)/2=Tgc(チャンネル内透過率の中央値)
|Tg−Tg´|=Tgd(チャネル内透過率の変化量、レンジ)
さらに、本発明に係るグレートーンマスクの検査方法においては、前述したような、製造したグレートーンマスクの検査、評価のみではなく、欠陥が修正を要するものかの判断や、欠陥修正を経たグレートーンマスクの修正効果が十分であるか否かの検査にも適用することもでき、極めて有用である。
さらに、この検査方法においては、半透光膜、または、微細パターンからなる半透光部において、半透光膜、または、微細パターンとは異なる形状の微細パターンを付加的に部分的に成膜することによって白欠陥を修正した場合や、または、欠陥を含むパターンの一部を剥離させた後に、半透光膜、または、元の微細パターンとは異なる形状の微細パターンを部分的に成膜することによって黒欠陥または白欠陥を修正した場合について、修正結果が十分であるか否かの検査を好適に行うことができる。
液晶装置製造用グレートーンマスクを製造するにあたっては、公知の製造工程において、前述した本発明に係るグレートーンマスクの検査方法による検査工程を含む工程とすることにより、欠陥が必要十分に修正された良好な液晶装置製造用グレートーンマスクを迅速に製造することができる。製造工程としては、透明基板上に、半透光膜と遮光膜を順次(又はこの逆の順に)形成し、レジストを用いたエッチング工程により、半透光部は半透光膜を露出させ、透光部は透明基板を露出させる方法、又は透明基板上に形成した遮光膜に対し、半透光部においては微細パターンを形成し、透光部は透明基板を露出させる方法などがある。
前述した液晶装置製造用グレートーンマスクの製造方法により製造された液晶装置製造用グレートーンマスクを用いて、露光装置により所定波長の光を露光することによって、被転写体に対し、所定のパターンを良好に転写することができる。
2 照明光学系
3 グレートーンマスク
4 対物レンズ系
5 撮像手段
Claims (12)
- 表示装置の製造に用いられるグレートーンマスクであって、
透明基板上に遮光部、透光部及び露光光の一部を透過する半透光部を含むパターンが形成されてなり、
露光装置によるi線、h線、g線を含む混合露光光によって前記パターンを被転写体上に転写することにより、前記被転写体上の、前記半透光部に対応する部分に、前記遮光部に対応する部分より膜厚が薄いレジストパターンを形成するグレートーンマスクの検査方法において、
i線、h線、g線を含み、かつ、前記混合露光光の特性に基づいて決定された各波長の強度割合をもつ光源を備えた検査装置を用い、
前記光源から発せられた光束を照明光学系を介して前記グレートーンマスクに照射し、該グレートーンマスクを透過した光束を対物レンズ系を介し、撮像手段によって撮像して、撮像画像データを求める工程と、
前記撮像画像データから、前記グレートーンマスクの半透光部及び遮光部を含む領域の透過光の強度分布データを取得し、取得した強度分布データにより、前記混合露光光によって前記被転写体上に形成される前記レジストパターンの形状及び膜厚を求める工程と、
を有することを特徴とするグレートーンマスクの検査方法。 - 前記照明光学系の開口数及び前記対物レンズ系の開口数を、前記露光装置における照明光学系の開口数及び対物レンズ系の開口数にそれぞれ略々等しいものとすることを特徴とする請求項1記載のグレートーンマスクの検査方法。
- 前記撮像画像データから、前記グレートーンマスクの半透光部、透光部及び遮光部を含む領域の透過光の強度分布データを取得する工程を有することを特徴とする請求項1又は請求項2に記載のグレートーンマスクの検査方法。
- 前記透過光の強度分布データから、所定の閾値以上、及び/又は、所定の閾値以下となっている領域の大きさを把握することを特徴とする請求項1乃至請求項3のいずれか一に記載のグレートーンマスクの検査方法。
- 前記グレートーンマスクにおける半透光部は、前記露光装置の露光条件下における解像限界以下の微細パターンを有してなるもので、前記対物レンズ系及び前記撮像手段の少なくとも一方の光軸方向の位置を調節することにより、該微細パターンがデフォーカスされて非解像となった状態の撮像画像データを得ることを特徴とする請求項1乃至請求項4のいずれか一に記載のグレートーンマスクの検査方法。
- 前記グレートーンマスクにおける半透光部は、前記透明基板上に半透光膜が形成され、前記半透光膜は、光透過率に波長依存性をもつものであることを特徴とする請求項1乃至請求項4のいずれか一に記載のグレートーンマスクの検査方法。
- 前記グレートーンマスクは、白欠陥、または、黒欠陥の修正がなされたものであることを特徴とする請求項1乃至請求項6のいずれか一に記載のグレートーンマスクの検査方法。
- 前記グレートーンマスクは、白欠陥、または、黒欠陥の修正がなされ、前記白欠陥、または、黒欠陥の修正は、前記半透光膜と異なる組成の修正膜を形成することによって行われていることを特徴とする請求項6記載のグレートーンマスクの検査方法。
- 前記取得した強度分布データに対して演算を行い、他の露光光を用いた条件下での、透過光の強度分布データを求めることを特徴とする請求項1乃至請求項8のいずれか一に記載のグレートーンマスクの検査方法。
- 表示装置の製造に用いられるグレートーンマスクであって、
透明基板上に遮光部、透光部及び露光光の一部を透過する半透光部を含むパターンが形成されてなり、
露光装置によるi線、h線、g線を含む混合露光光によって前記パターンを被転写体上に転写することにより、前記被転写体上の、前記半透光部に対応する部分に、前記遮光部に対応する部分より膜厚が薄いレジストパターンを形成するグレートーンマスクの検査方法において、
複数の単一波長をもつ光源を備えた検査装置を用い、
前記光源から発せられた光束を照明光学系を介して前記グレートーンマスクに照射し、該グレートーンマスクを透過した光束を対物レンズ系を介し、撮像手段によって撮像して、複数の単一波長による撮像画像データを求める工程と、
前記複数の単一波長による撮像画像データから、演算により、複数の波長の混合光を適用した場合の、前記グレートーンマスクの半透光部及び遮光部を含む領域の透過光の強度分布データを取得し、取得した強度分布データにより、前記混合露光光によって前記被転写体上に形成される前記レジストパターンの形状及び膜厚を求める工程と、
を有することを特徴とするグレートーンマスクの検査方法。 - 請求項1乃至請求項10のいずれか一に記載のグレートーンマスクの検査方法を含むことを特徴とする液晶装置製造用グレートーンマスクの製造方法。
- 請求項11記載の液晶装置製造用グレートーンマスクの製造方法により製造された液晶装置製造用グレートーンマスクを用いて、露光装置により前記露光光を露光し、被転写体にパターンを転写することを特徴とするパターン転写方法。
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