JP5097517B2 - プロキシミティ露光用フォトマスクの検査装置、プロキシミティ露光用フォトマスクの検査方法、プロキシミティ露光用フォトマスクの製造方法及びパターン転写方法 - Google Patents
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Description
i線乃至g線にかけての波長域を含む露光光源を用いるプロキシミティ露光用フォトマスクの検査装置であって、被検体であるプロキシミティ露光用フォトマスクを保持する保持手段と、i線乃至g線の光束を含む照明光を発する光源と、光源からの照明光を導き、マスク保持手段により保持されたフォトマスクに対し照明光を略平行光として照射する開口数が可変となされた照明光学系と、フォトマスクに照明光として照射されフォトマスクを透過した光束が入射されこの光束を結像させる対物レンズ系と、対物レンズ系を経た光束を受光する撮像手段と、撮像手段により取得された情報を解析する演算手段と、照明光学系、対物レンズ系及び撮像手段をそれぞれの光軸を一致させた状態でフォトマスクの主面部に平行な面内で移動可能とする第1の移動手段と、対物レンズ系及び撮像手段を光軸方向に移動可能とする第2の移動手段と、第1及び第2の移動手段を制御する制御手段とを備え、照明光学系の開口数は、フォトマスクを用いてプロキシミティ露光を行う露光機における光源からの照明光の平行度調整に必要とされる範囲において設定可能であり、対物レンズ系の開口数は0.25以上であり、かつ、その前側焦点面が、フォトマスクのパターン面から、露光機におけるプロキシミティギャップに対応する距離だけ移動可能であることを特徴とするものである。
構成1を有するプロキシミティ露光用フォトマスクの検査装置において、対物レンズ系の倍率及び撮像手段の画素サイズによって決まる取得画像の解像度は、フォトマスクを用いたプロキシミティ露光における分解能よりも高く、かつ、対物レンズ系の開口数及び照明光の波長によって導かれる対物レンズ系の分解能は、プロキシミティ露光において得られる像における最小パターン間隔未満であることを特徴とするものである。
構成1、または、構成2を有するプロキシミティ露光用フォトマスクの検査装置において、照明光学系の開口数は、フォトマスクを用いてプロキシミティ露光を行う露光機における照明光学系のコリメーションアングルに基づいて設定されていることを特徴とするものである。
構成1、または、構成2を有するプロキシミティ露光用フォトマスクの検査装置において、照明光学系の開口数は、0.005乃至0.04であることを特徴とするものである。
i線乃至g線にかけての波長域を含む露光光源を用いるプロキシミティ露光用フォトマスクの検査方法であって、被検体であるプロキシミティ露光用フォトマスクに対して、i線乃至g線の波長域を含んだ光束、又はi線、h線、g線のそれぞれの光束を含む照明光を、開口数が可変となされた照明光学系を介して略平行光として照射し、フォトマスクに照明光として照射されフォトマスクを透過した光束を対物レンズ系に入射させて結像させ、対物レンズ系を経た光束を撮像手段により受光するプロキシミティ露光用フォトマスクの検査方法において、照明光学系の開口数は、フォトマスクを用いてプロキシミティ露光を行う露光機における光源からの照明光の平行度に基づいて設定し、対物レンズ系の開口数は0.25以上であり、かつ、対物レンズ系の前側焦点面の位置は、フォトマスクのパターン面に合焦させた後に、露光機におけるプロキシミティギャップに対応する距離だけ対物レンズ系を後退させることによって、パターン面からプロキシミティギャップに対応する距離だけ遠ざかった位置とし、該位置において照明光の、フォトマスク透過光を撮像手段により受光し、撮像することを特徴とするものである。
構成5を有するプロキシミティ露光用フォトマスクの検査方法において、対物レンズ系の倍率及び撮像手段の画素サイズによって決まる取得画像の解像度を、フォトマスクを用いたプロキシミティ露光における分解能よりも高く設定し、かつ、対物レンズ系の開口数及び照明光の波長によって導かれる対物レンズ系の分解能を、プロキシミティ露光において得られる像における最小パターン間隔未満に設定することを特徴とするものである。
構成5、または、構成6を有するプロキシミティ露光用フォトマスクの検査方法において、照明光学系の開口数を、フォトマスクを用いてプロキシミティ露光を行う露光機における照明光学系のコリメーションアングルに基づいて設定することを特徴とするものである。
構成5乃至構成6のいずれか一を有するプロキシミティ露光用フォトマスクの検査方法において、照明光学系の開口数を、0.005乃至0.04とすることを特徴とするものである。
構成1乃至構成8のいずれか一を有するプロキシミティ露光用フォトマスクの検査方法を検査工程として含むことを特徴とするものである。
所定のパターンが形成され、構成5乃至構成8のいずれか一を有するプロキシミティ露光用フォトマスクの検査方法によって検査されたプロキシミティ露光用フォトマスク、または、構成9を有するプロキシミティ露光用フォトマスクの製造方法によって製造されたプロキシミティ露光用フォトマスクを用い、露光機によるプロキシミティ露光を行うことを特徴とするものである。
図1は、本発明に係るプロキシミティ露光用フォトマスクの検査装置の構成を示す側面図である。
この検査装置においては、照明光学系2と、対物レンズ系4系及び撮像手段5とは、主平面を略鉛直として保持されたフォトマスク3を挟んで対峙する位置にそれぞれ配設され、両者の光軸を一致させた状態で、照明光の照射及び受光を行うことにより、本発明に係るプロキシミティ露光用フォトマスクの検査方法を実施することができる。
プロキシミティ露光用の露光機において、光源の発光波長は、g線乃至i線の波長域を含んでおり、全波長同時の露光のほか、フィルタリングによって、g線、h線、i線のそれぞれを単独照射すること、及び得られた各波長の撮像データを合成することによって、実際の露光機におけるg線乃至i線のミックス光での露光をエミュレートすることも可能である。
本発明に係るプロキシミティ露光用フォトマスクの製造方法は、透明基板上に所定のパターンが形成されたフォトマスクを用いて被転写体(ガラス基板等に所望の膜が形成され、レジスト膜によって被覆されたもの)に対してプロキシミティ露光を行うにあたり、前述したプロキシミティ露光用フォトマスクの検査装置を用いて、プロキシミティ露光によって被転写体に転写されるパターンを撮像手段5によって捉え、光強度分布を求める工程を有する。ここで得られた光強度分布から、得られるレジストパターンを評価し、この評価に基づいてフォトマスクを製造する方法である。
プロキシミティ露光用フォトマスクを製造するにあたっては、一般的な公知の製造工程において、前述した本発明に係るフォトマスクの検査方法による評価工程を含む工程とすることにより、設計が最適化され、また、欠陥が必要十分に修正された良好な液晶装置製造用フォトマスクを迅速に製造することができる。
2 照明光学系
3 フォトマスク
4 対物レンズ系
5 撮像手段
6 波長選択フィルタ
Claims (10)
- i線乃至g線にかけての波長域を含む露光光源を用いるプロキシミティ露光用フォトマスクの検査装置であって、
被検体であるプロキシミティ露光用フォトマスクを保持する保持手段と、
i線乃至g線の光束を含む照明光を発する光源と、
前記光源からの照明光を導き、前記マスク保持手段により保持された前記フォトマスクに対し、前記照明光を略平行光として照射する、開口数が可変となされた照明光学系と、
前記フォトマスクに前記照明光として照射され、前記フォトマスクを透過した光束が入射され、この光束を結像させる対物レンズ系と、
前記対物レンズ系を経た光束を受光する撮像手段と、
前記撮像手段により取得された情報を解析する演算手段と、
前記照明光学系、前記対物レンズ系及び前記撮像手段を、それぞれの光軸を一致させた状態で、前記フォトマスクの主面部に平行な面内で移動可能とする第1の移動手段と、
前記対物レンズ系及び前記撮像手段を、光軸方向に移動可能とする第2の移動手段と、
前記第1及び第2の移動手段を制御する制御手段と
を備え、
前記照明光学系の開口数は、前記フォトマスクを用いてプロキシミティ露光を行う露光機における光源からの照明光の平行度調整に必要とされる範囲において設定可能であり、
前記対物レンズ系の開口数は0.25以上であり、かつ、その前側焦点面が、前記フォトマスクのパターン面から、前記露光機におけるプロキシミティギャップに対応する距離だけ移動可能であることを特徴とするプロキシミティ露光用フォトマスクの検査装置。 - 前記対物レンズ系の倍率及び前記撮像手段の画素サイズによって決まる取得画像の解像度は、前記フォトマスクを用いたプロキシミティ露光における分解能よりも高く、かつ、前記対物レンズ系の開口数及び照明光の波長によって導かれる前記対物レンズ系の分解能は、前記プロキシミティ露光において得られる像における最小パターン間隔未満であることを特徴とする請求項1記載のプロキシミティ露光用フォトマスクの検査装置。
- 前記照明光学系の開口数は、前記フォトマスクを用いてプロキシミティ露光を行う露光機における照明光学系のコリメーションアングルに基づいて設定されていることを特徴とする請求項1、または、請求項2記載のプロキシミティ露光用フォトマスクの検査装置。
- 前記照明光学系の開口数は、0.005乃至0.04であることを特徴とする請求項1、または、請求項2記載のプロキシミティ露光用フォトマスクの検査装置。
- i線乃至g線にかけての波長域を含む露光光源を用いるプロキシミティ露光用フォトマスクの検査方法であって、
被検体であるプロキシミティ露光用フォトマスクに対して、i線乃至g線の波長域を含んだ光束、又はi線、h線、g線のそれぞれの光束を含む照明光を、開口数が可変となされた照明光学系を介して略平行光として照射し、前記フォトマスクに前記照明光として照射され前記フォトマスクを透過した光束を対物レンズ系に入射させて結像させ、前記対物レンズ系を経た光束を撮像手段により受光するプロキシミティ露光用フォトマスクの検査方法において、
前記照明光学系の開口数は、前記フォトマスクを用いてプロキシミティ露光を行う露光機における光源からの照明光の平行度に基づいて設定し、
前記対物レンズ系の開口数は0.25以上であり、かつ、前記対物レンズ系の前側焦点面の位置は、前記フォトマスクのパターン面に合焦させた後に、前記露光機におけるプロキシミティギャップに対応する距離だけ前記対物レンズ系を後退させることによって、前記パターン面から前記プロキシミティギャップに対応する距離だけ遠ざかった位置とし、該位置において前記照明光の、前記フォトマスク透過光を撮像手段により受光し、撮像することを特徴とするプロキシミティ露光用フォトマスクの検査方法。 - 前記対物レンズ系の倍率及び前記撮像手段の画素サイズによって決まる取得画像の解像度を、前記フォトマスクを用いたプロキシミティ露光における分解能よりも高く設定し、かつ、前記対物レンズ系の開口数及び照明光の波長によって導かれる前記対物レンズ系の分解能を、前記プロキシミティ露光において得られる像における最小パターン間隔未満に設定することを特徴とする請求項5記載のプロキシミティ露光用フォトマスクの検査方法。
- 前記照明光学系の開口数を、前記フォトマスクを用いてプロキシミティ露光を行う露光機における照明光学系のコリメーションアングルに基づいて設定することを特徴とする請求項5、または、請求項6記載のプロキシミティ露光用フォトマスクの検査方法。
- 前記照明光学系の開口数を、0.005乃至0.04とすることを特徴とする請求項5乃至請求項7のいずれか一に記載のプロキシミティ露光用フォトマスクの検査方法。
- 請求項1乃至請求項8のいずれか一に記載のプロキシミティ露光用フォトマスクの検査方法を検査工程として含むことを特徴とするプロキシミティ露光用フォトマスクの製造方法。
- 所定のパターンが形成され、請求項5乃至請求項8のいずれか一に記載のプロキシミティ露光用フォトマスクの検査方法によって検査されたプロキシミティ露光用フォトマスク、または、請求項9記載のプロキシミティ露光用フォトマスクの製造方法によって製造されたプロキシミティ露光用フォトマスクを用い、前記露光機によるプロキシミティ露光を行うことを特徴とするパターン転写方法。
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