CN106773345B - 显示面板、显示面板的制程及光罩 - Google Patents

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Abstract

本发明公开了一种显示面板、显示面板的制程及光罩,其中,所述显示面板的制程包括以下步骤:在制作间隔物的胶体内掺杂光起始剂;将胶体涂布在基板上形成间隔物,并在同一层设置遮光物;通过至少两种不同的波长光线分别照射对应的所述间隔物,以控制所述光起始剂使得不同所述间隔物具有不同的收缩量。本发明将间隔物和遮光物设置在同一层,并在同一制程中同时加工出间隔物和遮光物,节省了显示面板的制程工艺。在间隔物上设置光起始剂可通过预设波长光线来控制间隔物的收缩量,进而控制间隔物高度。

Description

显示面板、显示面板的制程及光罩
技术领域
本发明涉及显示技术领域,更具体的说,涉及一种显示面板、显示面板的制程及光罩。
背景技术
液晶显示器具有机身薄、省电、无辐射等众多优点,得到了广泛的应用。现有市场上的液晶显示器大部分为背光型液晶显示器,其包括液晶面板及背光模组(BacklightModule)。液晶面板的工作原理是在两片平行的玻璃基板当中放置液晶分子,并在两片玻璃基板上施加驱动电压来控制液晶分子的旋转方向,以将背光模组的光线折射出来产生画面。
其中,薄膜晶体管液晶显示器(Thin Film Transistor-Liquid CrystalDisplay,TFT-LCD)由于具有低的功耗、优异的画面品质以及较高的生产良率等性能,目前已经逐渐占据了显示领域的主导地位。同样,薄膜晶体管液晶显示器包含液晶面板和背光模组,液晶面板包括彩膜基板(Color Filter Substrate,CF Substrate,也称彩色滤光片基板)和薄膜晶体管阵列基板(Thin Film Transistor Substrate,TFTSubstrate),上述基板的相对内侧存在透明电极。两片基板之间夹一层液晶分子(LiquidCrystal,LC)。液晶面板是通过电场对液晶分子取向的控制,改变光的偏振状态,并藉由偏光板实现光路的穿透与阻挡,实现显示的目的。
现有液晶面板的制程过程中,如在彩膜基板的制程中,需要通过多次光阻涂布、曝光、显影完成彩色光阻层(例如:R/G/B光阻)、遮光层[例如:BM(black matrix)层,也称黑矩阵]及间隔层[例如:PS(photo spacer)光阻)]等形成彩膜基板成品。由于彩色光阻层、遮光层及支撑层等需要不同的工艺分别完成,其制程过程复杂。
发明内容
本发明所要解决的技术问题是提供一种能够节省制程工艺的显示面板的制程。
此外,本发明还提供一种通过以上制程所形成的显示面板。
另外,本发明还提供一种用于以上制程的光罩。
本发明的目的是通过以下技术方案来实现的:
根据本发明的一个方面,本发明公开了一种显示面板的制程,所述显示面板包括基板,所述制程包括以下步骤:
在所述制作间隔物的胶体内掺杂光起始剂;
将胶体涂布在所述基板上形成间隔物,并在同一层设置遮光物;
通过至少两种不同的波长光线分别照射对应的间隔物,以控制所述光起始剂使得不同所述间隔物具有不同的收缩量。
其中,在所述在制作间隔物的胶体内掺杂光起始剂的步骤中:还在制作遮光物的胶体内掺杂所述光起始剂。本发明的遮光物相当于现有技术显示面板中的遮光层(BM层,Black Matrix),在制作遮光物的胶体内掺杂所述光起始剂,这样在受到不同波长光线照射时,遮光物同样和光起始剂产生交联反应,形成收缩量,以此来控制遮光物高度。
其中,在所述通过至少两种不同的波长光线分别照射对应的间隔物,以控制所述光起始剂使得不同所述间隔物具有不同的收缩量的步骤中:采用同一光源照射一光罩,通过所述光罩过滤出不同波长的光线。这样在显示面板的制程中,就可以直接采用同一光源,使用光源简单,无需进行多次不同光源照射。同一光源在光罩滤光的作用下,过滤出不同波长光线,进而通过不同波长光线与光起始剂的配合作用来控制不同间隔物之间的收缩量,实现对第一间隔物和第二间隔物之间断差的控制。
其中,所述间隔物包括至少两个具有断差的第一间隔物和第二间隔物,每个所述间隔物内的光起始剂相同。在不同间隔物内设置相同的光起始剂,在不同波长光线照射下使得不同间隔物产生不同程度的交联反应,进而使得不同间隔物形成不同程度的收缩量,这样就实现了不同间隔物具有断差。本发明采用不同波长光线照射相同的光起始剂和间隔物上,通过不同波长光线的作用来控制不同间隔物产生不同程度的交联反应,进而控制不同间隔物的收缩量,其控制效果好,使得不同间隔物之间的断差达到预设的需求。另外,这样设置在生产工艺上,无需对不同的间隔物进行不同的设置,其设置简单。
其中,所述遮光物内设置有所述光起始剂,所述遮光物和第二间隔物等高设置,所述第一间隔物高于所述第二间隔物,所述第二间隔物位于所述第一间隔物和遮光物之间。本发明的遮光物相当于现有技术显示面板中的遮光层(BM层,Black Matrix),在遮光物内设置与间隔物内设置相同的光起始剂,这样在受到不同波长光线照射时,遮光物同样和光起始剂产生交联反应,形成收缩量,以此来控制遮光物高度。并且将第一间隔物设置高于第二间隔物及遮光物,将第二间隔物设置和遮光物等高,以及将第二间隔物设置在第一间隔物和遮光物之间,这样对断差的控制效果更好,使得显示面板的显示效果更好。
其中,所述第一间隔物和第二间隔物之间的断差值大于或等于0.5um。当第一间隔物和第二间隔物之间的断差值小于0.5um时,对显示面板的显示影响大,并影响其他制程,增加了整个显示面板的难度。本发明通过不同波长光线与光起始剂的配合作用来控制不同间隔物之间的收缩量,实现对第一间隔物和第二间隔物之间断差的控制大于或等于0.5um,就方便整个显示面板制成顺利,防止因断差值有限而影响显示面板的显示效果。
其中,至少有两个所述间隔物内的光起始剂不同。不同的光起始剂分别对应不同波长光线,通过不同波长光线分别与不同光起始剂配合,从而通过不同波长光线的照射,使得不同光起始剂分别与不同间隔物产生不同程度的交联反应,进而产生不同程度的收缩量,以实现不同间隔物形成断差。
根据本发明的另一个方面,本发明还公开了一种光罩,所述光罩应用于以上所述显示面板的制程,所述光罩包括:
滤光层,所述滤光层包括至少三个滤光部,所述滤光部包括与所述第一间隔物对应的第一滤光部、与所述第二间隔物对应的第二滤光部及与遮光物对应的第三滤光部,所述第一滤光部仅供第一波长光线通过,所述第二滤光部和第三滤光部仅供第二波长光线通过;
遮光层,所述遮光层包括有第一遮光块、第二遮光块、第三遮光块及第四遮光块,所述第一滤光部设置在所述第一遮光块和第二遮光块之间,所述第二滤光部设置在所述第二遮光块和第三遮光块之间,所述第三滤光部设置在所述第三遮光块和第四遮光块之间;
载体,所述载体可透光设置,所述滤光层和遮光层设置在所述载体上。
根据本发明的又一个方面,本发明还公开了一种显示面板,所述显示面板包括:
基板;
间隔物,所述间隔物设置在所述基板上,所述间隔物内设置有用于与预设波长光线配合的、控制所述间隔物收缩量的光起始剂;
遮光物,所述间隔物设置在所述基板之间,且所述遮光物和间隔物设置在同一层。
其中,所述间隔物包括至少两个具有断差的第一间隔物和第二间隔物,每个所述间隔物内的光起始剂相同。在不同间隔物内设置相同的光起始剂,在不同波长光线照射下使得不同间隔物产生不同程度的交联反应,进而使得不同间隔物形成不同程度的收缩量,这样就实现了不同间隔物具有断差。本发明采用不同波长光线照射相同的光起始剂和间隔物上,通过不同波长光线的作用来控制不同间隔物产生不同程度的交联反应,进而控制不同间隔物的收缩量,其控制效果好,使得不同间隔物之间的断差达到预设的需求。另外,这样设置在生产工艺上,无需对不同的间隔物进行不同的设置,其设置简单。
其中,所述遮光物内设置有所述光起始剂,所述遮光物和第二间隔物等高设置,所述第一间隔物高于所述第二间隔物,所述第二间隔物位于所述第一间隔物和遮光物之间。本发明的遮光物相当于现有技术显示面板中的遮光层(BM层,Black Matrix),在遮光物内设置与间隔物内设置相同的光起始剂,这样在受到不同波长光线照射时,遮光物同样和光起始剂产生交联反应,形成收缩量,以此来控制遮光物高度。并且将第一间隔物设置高于第二间隔物及遮光物,将第二间隔物设置和遮光物等高,以及将第二间隔物设置在第一间隔物和遮光物之间,这样对断差的控制效果更好,使得显示面板的显示效果更好。
其中,所述第一间隔物和第二间隔物之间的断差值大于或等于0.5um。当第一间隔物和第二间隔物之间的断差值小于0.5um时,对显示面板的显示影响大,并影响其他制程,增加了整个显示面板的难度。本发明通过不同波长光线与光起始剂的配合作用来控制不同间隔物之间的收缩量,实现对第一间隔物和第二间隔物之间断差的控制大于或等于0.5um,就方便整个显示面板制成顺利,防止因断差值有限而影响显示面板的显示效果。
其中,至少有两个所述间隔物内的光起始剂不同。不同的光起始剂分别对应不同波长光线,通过不同波长光线分别与不同光起始剂配合,从而通过不同波长光线的照射,使得不同光起始剂分别与不同间隔物产生不同程度的交联反应,进而产生不同程度的收缩量,以实现不同间隔物形成断差。
现有技术中显示面板的制程工艺复杂。与现有技术相比,本发明的技术效果是:
在本发明显示面板的制程中,将间隔物和遮光物设置在基板的同一层上,并在同一个制程中同时加工出间隔物及遮光物,这样就节省了显示面板的制程工艺。
另外,本发明还在间隔物的胶体内设置光起始剂,光起始剂用于与预设波长光线配合,通过预设波长光线的照射使得光起始剂和不同间隔物之间产生不同的交联反应。具体是通过不同波长光线的照射使得光起始剂和不同间隔物之间产生不同的交联反应,进而使得不同的间隔物之间的收缩量不同,从而控制各个间隔物之间的断差在合适范围内,使得各个间隔物之间的断差适合各种设计要求。
附图说明
所包括的附图用来提供对本申请实施例的进一步的理解,其构成了说明书的一部分,用于例示本申请的实施方式,并与文字描述一起来阐释本申请的原理。显而易见地,下面描述中的附图仅仅是本申请的一些实施例,对于本领域普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动性的前提下,还可以根据这些附图获得其他的附图。在附图中:
图1是本发明一种显示面板的部分结构示意图;
图2是本发明一个实施例显示面板的部分结构示意图;
图3是本发明一个实施例显示面板的部分结构示意图;
图4是本发明一个实施例显示面板的制程的部分过程示意图;
图5是本发明一个实施例显示面板的制程的流程图;
图6是本发明一个实施例显示面板的制程的流程图;
图7是本发明一个实施例显示面板的制程的流程图;
图8是本发明一个实施例显示面板的制程的流程图;
图9是本发明一个实施例光罩的结构示意图。
其中,图1:10、显示面板;11、基板;12、第一间隔物;13、第二间隔物;14、遮光物;
其中,图2至图9:100、显示面板;110、基板;120、间隔物;121、第一间隔物;122、第二间隔物;130、遮光物;140、光起始剂;200、光罩;210、载体;220、滤光层;221、第一滤光部;222、第二滤光部;230、遮光层;231、第一遮光块;232、第二遮光块;233、第三遮光块;234、第四遮光块;300、光源。
具体实施方式
这里所公开的具体结构和功能细节仅仅是代表性的,并且是用于描述本发明的示例性实施例的目的。但是本发明可以通过许多替换形式来具体实现,并且不应当被解释成仅仅受限于这里所阐述的实施例。
在本发明的描述中,需要理解的是,术语“中心”、“横向”、“上”、“下”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”、“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系,仅是为了便于描述本发明和简化描述,而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作,因此不能理解为对本发明的限制。此外,术语“第一”、“第二”仅用于描述目的,而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此,限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括一个或者更多个该特征。在本发明的描述中,除非另有说明,“多个”的含义是两个或两个以上。另外,术语“包括”及其任何变形,意图在于覆盖不排他的包含。
在本发明的描述中,需要说明的是,除非另有明确的规定和限定,术语“安装”、“相连”、“连接”应做广义理解,例如,可以是固定连接,也可以是可拆卸连接,或一体地连接;可以是机械连接,也可以是电连接;可以是直接相连,也可以通过中间媒介间接相连,可以是两个元件内部的连通。对于本领域的普通技术人员而言,可以具体情况理解上述术语在本发明中的具体含义。
这里所使用的术语仅仅是为了描述具体实施例而不意图限制示例性实施例。除非上下文明确地另有所指,否则这里所使用的单数形式“一个”、“一项”还意图包括复数。还应当理解的是,这里所使用的术语“包括”和/或“包含”规定所陈述的特征、整数、步骤、操作、单元和/或组件的存在,而不排除存在或添加一个或更多其他特征、整数、步骤、操作、单元、组件和/或其组合。
下面参考图1至图9描述本发明的显示面板、显示面板的制程、显示装置及光罩。
申请人已设计了一种显示面板,如图1所示,图1为本发明一种显示面板的部分结构示意图,具体的,显示面板10的基板11的同一层上设置有多个间隔物和遮光物14,其中间隔物有第一间隔物12、第二间隔物13。从而,显示面板10的制程中就可以同时设置间隔物和遮光物。这样相比现有显示面板的制程工艺就节省了制程过程,使得显示面板的制程简单。
但是,在显示面板的实际制程过程中,申请人发现不同间隔物之间的断差有限,一般不同间隔物之间的断差值小于0.5um。具体的是,第一间隔物12的高度H11和第二间隔物13的高度H12的高度差小于0.5um。从而导致在显示面板的制程中,对第一间隔物12的高度H11、第二间隔物13的高度H12及遮光物14的高度H13的控制有限。
为此,申请人又设计了另外的技术方案,以解决以上技术问题,具体如下:
下面结合附图2至9和较佳的实施例对本发明作进一步详细说明。
根据本发明一实施例,如图2和图3所示,本发明一实施例公开了一种显示面板,所述显示面板包括基板110、间隔物120和遮光物130,所述间隔物120设置在所述基板110上,所述间隔物120内设置有用于与预设波长光线配合的、控制所述间隔物120收缩量的光起始剂140;所述间隔物120设置在所述基板110之间,且所述遮光物130和间隔物120设置在同一层。
结合图4,图4为本发明一实施例显示面板制程的部分过程图。
本发明一实施例的显示面板将间隔物120和遮光物130设置在基板110的同一层上,从而在显示面板100的制程过程中,就可以在一个制程中同时加工出间隔物120及遮光物130,这样就节省了显示面板100的制程工艺。
另外,本发明一实施例还在间隔物120内设置光起始剂140,光起始剂140用于与预设波长光线配合,通过预设波长光线的照射使得光起始剂和不同间隔物120之间产生不同的交联反应。具体是通过不同波长光线的照射使得光起始剂140和不同间隔物120之间产生不同的交联反应,进而使得不同的间隔物120之间的收缩量不同,从而控制各个间隔物120之间的断差在合适范围内,使得各个间隔物120之间的断差适合各种设计要求。
这样本发明一实施例不仅减少了显示面板的制程,而且还方便控制不同间隔物的收缩量,进而更加便于控制不同间隔物之间的断差,也就是控制各个间隔物之间的高度。
在本发明一实施例中,具体的,所述间隔物120包括至少两个具有断差的第一间隔物121和第二间隔物122,每个所述间隔物120内的光起始剂相同。在不同间隔物内设置相同的光起始剂,在不同波长光线照射下使得不同间隔物产生不同程度的交联反应,进而使得不同间隔物形成不同程度的收缩量,这样就实现了不同间隔物具有断差。本发明一实施例采用不同波长光线照射相同的光起始剂和间隔物上,通过不同波长光线的作用来控制不同间隔物产生不同程度的交联反应,进而控制不同间隔物的收缩量,其控制效果好,使得不同间隔物之间的断差达到预设的需求。另外,这样设置在生产工艺上,无需对不同的间隔物进行不同的设置,其设置简单。
进一步的,所述遮光物130内设置有所述光起始剂140,本发明一实施例的遮光物130相当于现有技术显示面板中的遮光层(BM层,Black Matrix),在遮光物130内设置与间隔物120内设置相同的光起始剂140,这样在受到不同波长光线照射时,遮光物130同样和光起始剂140产生交联反应,形成收缩量,以此来控制遮光物130高度。
更进一步的,所述遮光物130和第二间隔物122等高设置,所述第一间隔物高于所述第二间隔物,所述第二间隔物位于所述第一间隔物和遮光物之间。本发明一实施例将第一间隔物121设置高于第二间隔物122及遮光物130,将第二间隔物122设置和遮光物130等高,第一间隔物121、第二间隔物122及遮光物130的高度控制更好,也就是对断差的控制效果更好,使得显示面板的显示效果更好。
在本发明一实施例中,所述第一间隔物121和第二间隔物122之间的断差值大于或等于0.5um,具体的是,第一间隔物121的高度H1和第二间隔物122的高度H2之间的高度差大于或等于0.5um。当第一间隔物121和第二间隔物122之间的断差值小于0.5um时,对显示面板的显示影响大,并影响其他制程,增加了整个显示面板的难度。本发明通过不同波长光线与光起始剂140的配合作用来控制不同间隔物之间的收缩量,实现对第一间隔物121和第二间隔物122之间断差的控制大于或等于0.5um,就方便整个显示面板制成顺利,防止因断差值有限而影响显示面板的显示效果。本发明一实施例的优选选择是第一间隔物121和第二间隔物122之间的断差值为0.5um至0.6um,也就是H1和H2之间的差值为0.5um至0.6um。
本发明一实施例的更优选方式是在间隔物及遮光物中加入同样的光起始剂,通过不同波长光线的照射即可使得不同间隔物及遮光物产生不同程度的收缩量。然而,需要说明的是,本发明一实施例还可以采用其他方式:
比如1:每个所述间隔物内的光起始剂不同。不同的光起始剂分别对应不同波长光线,通过不同波长光线分别与不同光起始剂配合,从而通过不同波长光线的照射,使得不同光起始剂分别与不同间隔物产生不同程度的交联反应,进而产生不同程度的收缩量,以实现不同间隔物形成断差。
比如2:每个所述间隔物及遮光物内的光起始剂都不同。不同的光起始剂分别对应不同波长光线,通过不同波长光线分别与不同光起始剂配合,从而通过不同波长光线的照射,使得不同光起始剂分别与不同间隔物及遮光物产生不同程度的交联反应,进而产生不同程度的收缩量,以控制不同间隔物、遮光物的高度。
其中,在本发明一实施例中,间隔物120和遮光物130都采用相同的材料,这样在显示面板的制程中,使得制程更加简便。进一步的,本发明一实施例优选将间隔物和遮光物选择BCS(Black Color filter Spacer,黑色彩色滤光片间隔物)材料,该材料不仅能够起到支撑的作用,而且其遮光性能好。当然,需要说明的是,本发明一实施例中的间隔物和遮光物还可以采用其他材料。
如图4至图8所示,本发明一实施例公开了一种显示面板的制程,结合图2和图3,其中,所述显示面板100包括基板110,所述制程包括以下步骤:
在制作间隔物120的胶体内掺杂光起始剂140;
将胶体涂布在基板110上形成间隔物120,并在同一层设置遮光物130;
通过至少两种不同的波长光线分别照射对应的间隔物120,以控制所述光起始剂140使得不同所述间隔物120具有不同的收缩量。
图4为本发明一实施例显示面板制程的部分过程图,图5为本发明一实施例一种显示面板制程的流程图。
如图5所示,结合图4,本发明一实施例显示面板的制程包括步骤S101、步骤S102和步骤S103。
具体的,步骤S101:在制作间隔物120的胶体内掺杂光起始剂140。
步骤S102:将胶体涂布在基板110上形成间隔物,并在同一层设置遮光物130。
步骤S103:通过至少两种不同的波长光线分别照射对应的间隔物,以控制所述光起始剂使得不同所述间隔物具有不同的收缩量。
如图6所示,图6为本发明一实施例另一种显示面板制程的流程图,结合图4,本发明一实施例显示面板的制程包括步骤S201、步骤S202和步骤S203。
具体的,步骤S201:在制作间隔物120的胶体内掺杂光起始剂140,以及在制作遮光物的胶体内掺杂所述光起始剂。
步骤S202:将用于制作间隔物的胶体涂布在基板110上形成间隔物120,以及将用于制作遮光物的胶体涂布在基板110上形成遮光物130。
步骤S203:通过至少两种不同的波长光线分别照射对应的间隔物和遮光物,以控制所述光起始剂使得不同所述间隔物和遮光物具有不同的收缩量。
如图7所示,图7为本发明一实施例又一种显示面板制程的流程图,结合图4,本发明一实施例显示面板的制程包括步骤S301、步骤S302和步骤S303。
具体的,步骤S301:在制作间隔物120的胶体内掺杂光起始剂140。
步骤S302:将用于制作间隔物的胶体涂布在基板110上形成间隔物120。
步骤S303:通过至少两种不同的波长光线分别照射对应的间隔物,具体的是,采用同一光源300照射一光罩,通过所述光罩过滤出不同波长的光线,以控制所述光起始剂使得不同所述间隔物具有不同的收缩量。
其中,本发明一实施例显示面板制程中的光罩可参见图9。
这样在显示面板的制程中,就可以直接采用同一光源300,使用光源简单,无需进行多次不同光源照射。同一光源在光罩200滤光的作用下,过滤出不同波长光线,进而通过不同波长光线与光起始剂的配合作用来控制不同间隔物之间的收缩量,实现对第一间隔物和第二间隔物之间断差的控制。
更具体的是,光源300发出第一组光线L1,第一组光线L1具有多个不同波长的光线,其照射到光罩200上,光罩200对第一组光线L1进行过滤,穿过光罩200的第二组光线L2具有两个不同波长,通过两个不同波长的光线,两个不同波长的光线分别照射到第一间隔物121和第二间隔物122上,从而使得第一间隔物121及第二间隔物122内的光起始剂140产生不同程度的交联反应,进而产生不同程度的收缩量。
如图8所示,图8为本发明一实施例又一种显示面板制程的流程图,结合图4,本发明一实施例显示面板的制程包括步骤S401、步骤S402和步骤S403。
具体的,步骤S401:在制作间隔物120的胶体内掺杂光起始剂140,以及在制作遮光物的胶体内掺杂所述光起始剂。
步骤S402:将用于制作间隔物的胶体涂布在基板110上形成间隔物120,以及将用于制作遮光物的胶体涂布在基板110上形成遮光物130。
步骤S403:通过至少两种不同的波长光线分别照射对应的间隔物遮光物,具体的是,采用同一光源300照射一光罩200,通过所述光罩200过滤出不同波长的光线,以控制所述光起始剂使得不同所述间隔物具有不同的收缩量。
其中,本发明一实施例显示面板制程中的光罩可参见图9。
这样在显示面板的制程中,就可以直接采用同一光源300,使用光源简单,无需进行多次不同光源照射。同一光源在光罩200滤光的作用下,过滤出不同波长光线,进而通过不同波长光线与光起始剂的配合作用来控制不同间隔物及遮光物之间的收缩量,实现对第一间隔物和第二间隔物之间断差的控制,以及对遮光物高度的控制。
更具体的是,光源300发出第一组光线L1,第一组光线L1具有多个不同波长的光线,其照射到光罩200上,光罩200对第一组光线L1进行过滤,穿过光罩200的第二组光线L2具有两个不同波长,通过两个不同波长的光线,两个不同波长的光线分别照射到第一间隔物121和第二间隔物122上,从而使得第一间隔物121及第二间隔物122内的光起始剂140产生不同程度的交联反应,进而产生不同程度的收缩量。其中,一个波长的光线照射到第一间隔物121上;另一个波长的光线照射到第二间隔物和遮光物上,从而在间隔物和遮光物采用相同材料的情况下,第二间隔物和遮光物可以等高。
其中,间隔物120和遮光物130都采用相同的材料,也就是间隔物和遮光物可以采用相同的胶体,这样在显示面板的制程中,使得制程更加简便。进一步的,本发明一实施例优选将间隔物和遮光物选择BCS(Black Color filter Spacer,黑色彩色滤光片间隔物)材料,该材料不仅能够起到支撑的作用,而且其遮光性能好。当然,需要说明的是,本发明一实施例中的间隔物和遮光物还可以采用其他材料,。
在本发明一实施例的显示面板制程中,将间隔物120和遮光物130设置在基板110的同一层上,从而在显示面板100的制程过程中,如图4所示,就可以在一个制程中同时加工出间隔物120及遮光物130,这样就节省了显示面板100的制程工艺。
另外,本发明一实施例在间隔物120内设置光起始剂140,光起始剂140用于与预设波长光线配合,通过预设波长光线的照射使得光起始剂和不同间隔物120之间产生不同的交联反应。具体是通过不同波长光线的照射使得光起始剂140和不同间隔物120之间产生不同的交联反应,进而使得不同的间隔物120之间的收缩量不同,从而控制各个间隔物120之间的断差在合适范围内,使得各个间隔物120之间的断差适合各种设计要求。
这样本发明一实施例不仅减少了显示面板的制程,而且还方便控制不同间隔物的收缩量,进而更加便于控制不同间隔物之间的断差,也就是控制各个间隔物之间的高度。使得显示面板的制程简单,显示面板的显示效果更好。
在本发明显示面板的制程中,通过不同波长光线的照射,使得所述第一间隔物121和第二间隔物122之间的断差值大于或等于0.5um,具体的是,第一间隔物121的高度H1和第二间隔物122的高度H2之间的高度差大于或等于0.5um。当第一间隔物121和第二间隔物122之间的断差值小于0.5um时,对显示面板的显示影响大,并影响其他制程,增加了整个显示面板的难度。本发明通过不同波长光线与光起始剂140的配合作用来控制不同间隔物之间的收缩量,实现对第一间隔物121和第二间隔物122之间断差的控制大于或等于0.5um,就方便整个显示面板制成顺利,防止因断差值有限而影响显示面板的显示效果。本发明一实施例的优选选择是第一间隔物121和第二间隔物122之间的断差值为0.5um至0.6um,也就是H1和H2之间的差值为0.5um至0.6um。
进一步的,本发明一实施例将第一间隔物121设置高于第二间隔物122及遮光物130,将第二间隔物122设置和遮光物130等高,第一间隔物121、第二间隔物122及遮光物130的高度控制更好,也就是对断差的控制效果更好,使得显示面板的显示效果更好。
如图9所示,本发明一实施例公开了一种光罩200,所述光罩200应用于以上所述显示面板的制程,结合图2至图8,所述光罩200包括:
滤光层220,所述滤光层220包括至少三个滤光部,所述滤光部包括与所述第一间隔物应的第一滤光部221、与所述第二间隔物122对应的第二滤光部222及与遮光物130对应的第三滤光部,所述第一滤光部221仅供第一波长光线通过,所述第二滤光部222和第三滤光部仅供第二波长光线通过;
遮光层230,所述遮光层230包括有第一遮光块231、第二遮光块232、第三遮光块233及第四遮光块234,所述第一滤光部221设置在所述第一遮光块231和第二遮光块232之间,所述第二滤光部222设置在所述第二遮光块232和第三遮光块233之间,所述第三滤光部设置在所述第三遮光块233和第四遮光块234之间;
载体210,所述载体210可透光设置,所述滤光层220和遮光层230设置在所述载体210上。
其中,所述载体包括透明的玻璃基板,也就是说载体直接使用玻璃基板来进行支撑,玻璃基板起到支撑作用,承载遮光层及滤光层,透明的玻璃基板透光效果好。而且本发明光罩中的玻璃基板可以采用石英玻璃,这样取材简便。然而,所述载体也可以采用其他进行承载,比如:所述载体包括金属膜,也就是载体用金属膜进行承载,所述金属膜上设置有用于透光的通孔。金属膜起到支撑作用,承载第一遮光层及过滤层,金属膜强度大,承载效果好。另外,金属膜上设置通孔以便透光。
其中,遮光层设置在滤光层上,这样设置效果好。当然,需要说明的是,本发明的遮光层也可以直接设置在载体上,也就是遮光层和滤光层都直接设置到载体上。
所述滤光部包括有供预设波长通过的金属光栅或/和透明介质,当滤光部包括金属光栅和透明介质时,两者叠放设置,且金属光栅叠放到透明介质上。其中,金属光栅的材质可以有镍或其他材料;其中,透明介质的材料可以有PMMA(PolymethylMethacrylate,聚甲基丙烯酸甲酯)或其他材料。当然,需要说明的是,若将透明介质叠放到金属光栅上也可以。
本发明还公开了一种显示装置,其中所述显示装置包括通过以上显示面板制程生产的显示面板以及背光模组,该显示装置可以为液晶显示器,也可以为OLED显示器。其中,当本本发明实施例的显示装置为液晶显示器时,背光模组可作为光源,用于供应充足的亮度与分布均匀的光源,本实施例的背光模组可以为前光式,也可以为背光式,需要说明的是,本实施例的背光模组并不限于此。
以上内容是结合具体的优选实施方式对本发明所作的进一步详细说明,不能认定本发明的具体实施只局限于这些说明。对于本发明所属技术领域的普通技术人员来说,在不脱离本发明构思的前提下,还可以做出若干简单推演或替换,都应当视为属于本发明的保护范围。

Claims (7)

1.一种显示面板的制程,其特征在于,所述显示面板包括基板,所述制程包括以下步骤:
在制作间隔物的胶体内掺杂光起始剂;
将胶体涂布在基板上形成间隔物,并在同一层设置遮光物;
通过至少两种不同的波长光线分别照射对应的所述间隔物,以控制所述光起始剂使得不同所述间隔物具有不同的收缩量。
2.如权利要求1所述的显示面板的制程,其特征在于,在所述在制作间隔物的胶体内掺杂光起始剂的步骤包括:还在制作遮光物的胶体内掺杂所述光起始剂。
3.如权利要求1或2所述的显示面板的制程,其特征在于,在所述通过至少两种不同的波长光线分别照射对应的间隔物,以控制所述光起始剂使得不同所述间隔物具有不同的收缩量的步骤包括:采用同一光源照射一光罩,通过所述光罩过滤出不同波长的光线。
4.如权利要求1所述的显示面板的制程,其特征在于,所述间隔物包括至少两个具有断差的第一间隔物和第二间隔物,每个所述间隔物内的光起始剂相同。
5.如权利要求4所述的显示面板的制程,其特征在于,所述遮光物内设置有所述光起始剂,所述遮光物和第二间隔物等高设置,所述第一间隔物高于所述第二间隔物,所述第二间隔物位于所述第一间隔物和遮光物之间。
6.如权利要求4所述的显示面板的制程,其特征在于,所述第一间隔物和第二间隔物之间的断差值大于或等于0.5um。
7.如权利要求1所述的显示面板的制程,其特征在于,至少有两个所述间隔物内的光起始剂不同。
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Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN107329331A (zh) * 2017-08-17 2017-11-07 惠科股份有限公司 一种显示面板及制造方法
CN109581756A (zh) * 2018-12-24 2019-04-05 惠科股份有限公司 曝光装置及间隔物的制作方法

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002258462A (ja) * 2001-02-27 2002-09-11 Mitsubishi Materials Corp 露光用マスク、露光方法及び露光装置
CN105182679A (zh) * 2015-10-19 2015-12-23 京东方科技集团股份有限公司 掩膜板及其制作方法、利用掩膜板构图的方法、滤光片
CN106094358A (zh) * 2016-08-09 2016-11-09 深圳市华星光电技术有限公司 液晶盒及其黑矩阵的制程

Family Cites Families (22)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2821394B2 (ja) * 1995-07-28 1998-11-05 九州日本電気株式会社 半導体装置の製造方法
JPH11212075A (ja) * 1998-01-23 1999-08-06 Toshiba Electronic Engineering Corp 液晶表示装置の製造方法
JP4234844B2 (ja) * 1999-04-28 2009-03-04 富士フイルム株式会社 カラーフィルター及びその製造方法
US20020142234A1 (en) * 2001-03-29 2002-10-03 Hansel Gregory A. Photomask
JP2004240136A (ja) * 2003-02-05 2004-08-26 Dainippon Printing Co Ltd 高低パターン層形成体の製造方法
KR20040104799A (ko) * 2003-06-04 2004-12-13 엘지.필립스 엘시디 주식회사 컬러필터 기판의 제조공정이 개선된 액정표시장치 및 그제조방법
JP2005091853A (ja) * 2003-09-18 2005-04-07 Toppan Printing Co Ltd 感光性組成物およびそれを用いて形成したフォトスペーサを有するカラーフィルタ
JP2006039243A (ja) * 2004-07-28 2006-02-09 Seiko Epson Corp 電気光学装置用基板の製造方法、電気光学装置の製造方法、電気光学装置用基板、および電気光学装置
JP2006098559A (ja) * 2004-09-28 2006-04-13 Toppan Printing Co Ltd カラーフィルタのブラックマトリックスの形成方法およびカラーフィルタの形成方法
JP4617821B2 (ja) * 2004-10-21 2011-01-26 凸版印刷株式会社 液晶表示装置用基板、液晶表示装置用基板の製造方法及びそれに用いるフォトマスク
JP5298424B2 (ja) * 2005-12-16 2013-09-25 大日本印刷株式会社 カラーフィルタの製造方法
JP5382194B2 (ja) * 2006-07-21 2014-01-08 大日本印刷株式会社 カラーフィルタの製造方法
JP2008181038A (ja) * 2007-01-26 2008-08-07 Sony Corp 露光マスク、パターン形成方法、半導体装置の製造方法、および表示装置の製造方法
JP5254581B2 (ja) 2007-08-22 2013-08-07 Hoya株式会社 フォトマスク及びフォトマスクの製造方法
JP2009086384A (ja) * 2007-09-29 2009-04-23 Hoya Corp フォトマスク及びフォトマスクの製造方法、並びにパターン転写方法
JP2009151071A (ja) * 2007-12-20 2009-07-09 Toppan Printing Co Ltd フォトマスク、カラーフィルタの製造方法、及びカラーフィルタ
JP5195092B2 (ja) * 2008-07-02 2013-05-08 大日本印刷株式会社 カラーフィルタ及びカラーフィルタの製造方法
JP5182029B2 (ja) * 2008-11-18 2013-04-10 大日本印刷株式会社 階調マスク
CN202025167U (zh) * 2011-03-22 2011-11-02 京东方科技集团股份有限公司 彩膜基板
CN106054531B (zh) * 2016-07-18 2019-12-03 深圳市华星光电技术有限公司 正性黑色光阻材料的制备方法及显示基板的制作方法
CN106125391A (zh) 2016-08-27 2016-11-16 深圳市华星光电技术有限公司 显示面板及显示装置
CN106526948A (zh) * 2016-11-09 2017-03-22 惠科股份有限公司 一种应用于显示面板制程的光罩

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002258462A (ja) * 2001-02-27 2002-09-11 Mitsubishi Materials Corp 露光用マスク、露光方法及び露光装置
CN105182679A (zh) * 2015-10-19 2015-12-23 京东方科技集团股份有限公司 掩膜板及其制作方法、利用掩膜板构图的方法、滤光片
CN106094358A (zh) * 2016-08-09 2016-11-09 深圳市华星光电技术有限公司 液晶盒及其黑矩阵的制程

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Publication number Publication date
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