JP2009047876A - 反射防止フィルム及びそれを用いた偏光板 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】透明基材フィルムと、透明基材フィルムの一方の面上に形成されたハードコート層と、ハードコート層上に形成された反射防止層と、を備える反射防止フィルムであって、反射防止層は高屈折材料層と低屈折率層とを交互に積層させた4層以上の積層体であり、反射防止層の最外層の薄膜が低屈折率層で、低屈折率層の総膜厚が90nm以上130nm以下であり、反射防止層の最外層の算術平均粗さRaが1.5nm以上3.0nm以下であることを特徴とする反射防止フィルム。
【選択図】図1
Description
P0:絶対零度の透湿率
E:透湿率の活性化エネルギー
R:気体定数
T:絶対温度
反射防止層4を成膜するときの成膜圧力を、0.8Pa、反射防止層4の層構成をハードコート層2側からNb2O5/SiO2/Nb2O5/SiO2、各層の膜厚は、それぞれ15nm/25nm/105nm/85nmとなるように成膜を実施した。
反射防止層4を成膜するときの成膜圧力を、1.2Pa、反射防止層4の層構成をハードコート層2側からNb2O5/SiO2/Nb2O5/SiO2、各層の膜厚は、それぞれ15nm/25nm/105nm/85nmとなるように成膜を実施した。
反射防止層4を成膜するときの成膜圧力を、0.8Pa、反射防止層4の層構成をハードコート層2側からSiO2/Nb2O5/SiO2/Nb2O5/SiO2、各層の膜厚は、それぞれ20nm/25nm/25nm/60nm/96nmとなるように成膜を実施した。
反射防止層4を成膜するときの成膜圧力を、0.8Pa、反射防止層4の層構成をハードコート層2側からNb2O5/SiO2/Nb2O5/SiO2、各層の膜厚は、それぞれ31nm/8nm/63nm/68nmとなるように成膜を実施した。
反射防止層4を成膜するときの成膜圧力を、0.3Pa、射防止層4の層構成をハードコート層2側からNb2O5/SiO2/Nb2O5/SiO2、各層の膜厚は、それぞれ15nm/25nm/105nm/85nmとなるように成膜を実施した。
反射防止層4を成膜するときの成膜圧力を、2.5Pa、射防止層4の層構成をハードコート層2側からNb2O5/SiO2/Nb2O5/SiO2、各層の膜厚は、それぞれ15nm/25nm/105nm/85nmとなるように成膜を実施した。
実施例及び比較例で得られたサンプルを以下の方法で評価した。結果は表1に示す。
日立製作所製U4000型の分光光度計を用いて、測定を実施した。サンプルの裏面側は艶消し黒塗りスプレーにより裏面からの反射をカットする処理を施し、測定の際には、正反射5°ユニットを使用した。
スチールウール#0000を擦傷試験機に固定し、500gfの荷重をかけて、10往復の擦傷試験を各サンプルの反射防止層4に対して行い、サンプルの磨耗状態(傷本数)を目視で観測した。判定基準を以下に示す。
◎:傷無し
○:傷10本未満
×:傷10本以上
実施例及び比較例で作製した偏光板101を、粘着フィルムを介して、ガラスに貼り付け、温度95℃、相対湿度5%のドライ環境の条件下に設定した恒温恒湿槽内に500時間、保持し、耐久性の評価を行った。トリアセチルセルロースフィルムの加水分解などの劣化の有無を、目視にて酢酸臭の確認及び赤外分光測定におけるカルボニル基の吸収スペクトルの変化により判断した。
◎:劣化なし
○:一部劣化あり
×:劣化大
実施例及び比較例で作製した偏光板101を、粘着フィルムを介して、ガラスに貼り付け、温度60℃、相対湿度95%の環境の条件下に設定した恒温恒湿槽内に500時間、保持し、耐久性の評価を行った。トリアセチルセルロースフィルムの加水分解などの劣化の有無を、目視にて酢酸臭の確認及び赤外分光測定におけるカルボニル基の吸収スペクトルの変化により判断した。
◎:劣化なし
○:一部劣化あり
×:劣化大
それぞれ、偏光膜(ポリビニルアルコールフィルム)10を貼り付ける前の、反射防止フィルム100において、温度40℃、相対湿度90%Rhの環境下における、水蒸気透過度を測定した。水蒸気透過度の測定は、JIS Z0208に準ずる方法を用いて測定した。
反射防止フィルム100表面の算術平均粗さ測定(JIS B 0601)を、原子間力顕微鏡(AFM) NanoscopeIIIa(Digital Insturments社)を用いて行った。測定エリアは、1μm×1μmとした。
2 ハードコート層
3 プライマー層
4 反射防止層
5 防汚層
10 偏光膜(ポリビニルアルコールフィルム)
100 反射防止フィルム
101 反射防止層を有する偏光板
Claims (9)
- 透明基材フィルムと、
前記透明基材フィルムの一方の面上に形成されたハードコート層と、
前記ハードコート層上に形成された反射防止層と、を備える反射防止フィルムであって、
前記反射防止層は高屈折材料層と低屈折率層とを交互に積層させた4層以上の積層体であり、前記反射防止層の最外層の薄膜が低屈折率層で、前記低屈折率層の総膜厚が90nm以上130nm以下であり、前記反射防止層の最外層の算術平均粗さRaが1.5nm以上3.0nm以下であることを特徴とする反射防止フィルム。 - 前記高屈折材料層は酸化ニオブであり、前記低屈折率層は酸化シリコンであることを特徴とする請求項1記載の反射防止フィルム。
- 前記反射防止層は、スパッタリング法を用いて形成され、成膜圧力を0.5Pa以上2.0Pa以下としたことを特徴とする請求項1又は2に記載の反射防止フィルム。
- 前記ハードコート層と前記反射防止層との間に、金属、又は、2種類以上の金属を有する合金、又は、金属化合物、又は、それらの混合物よりなり、1層以上を積層したプライマー層を形成したことを特徴とする請求項1記載の反射防止フィルム。
- 前記反射防止層上に防汚層を形成したことを特徴とする請求項1乃至4のいずれかに記載の反射防止フィルム。
- 前記防汚層の表面の算術平均粗さRaが、1.0nm以上5.0nm以下であることを特徴とする請求項5記載の反射防止フィルム
- 前記透明基材フィルムが、トリアセチルセルロースフィルムであることを特徴とする請求項1乃至6のいずれかに記載の反射防止フィルム。
- 温度40℃、相対湿度90%RHにおける水蒸気透過度が、20g/m2/day以上であることを特徴とする請求項1乃至7のいずれかに記載の反射防止フィルム。
- 請求項1乃至8のいずれかに記載の反射防止フィルムを有することを特徴とする偏光板。
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