TWI463185B - 視窗及應用該視窗的電子裝置 - Google Patents
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Description
本發明係關於一種視窗及應用該視窗的電子裝置,尤其關於一種具有鏡面效果及光線漸變效果的視窗及應用該視窗的電子裝置。
習知電子產品(如手機、PDA等)的殼體常被鍍覆一金屬層或具有金屬效果的膜層而使產品外觀具有金屬光澤或金屬鏡面效果,從而吸引消費者眼球。然而隨著消費者對美的追求越來越高,單一的僅殼體具有金屬光澤的效果已不能滿足消費者的需求。由於人們在使用電子產品時常接觸的介面係視窗,若使電子產品的視窗亦具有金屬光澤或金屬鏡面效果,則會大大提升產品的外觀競爭力及附加價值。作為應用於電子產品的視窗,首先要滿足不能遮罩電磁波的條件,以保持產品的正常功能;且由於視窗為人機交流的介面,又要求其在使用狀態時具有高透光性。若該視窗在使用狀態時從視窗中所透出的背景光線呈現出強度漸變的效果,則更能吸引消費者的眼球。
鑒於以上情況,有必要提供一種不遮罩電磁波、且具有金屬鏡面效果、高透光性及光線漸變效果的視窗。
另外,還有必要提供一種應用上述視窗的電子裝置。
一種視窗,其包括一透明基體,該視窗還包括設置於該透明基體
表面的光透增強層及不導電金屬層,所述透明基體的其中任一表面還形成有複數漸變排列的散射點,所述光透增強層為低折射率材料與高折射率材料交替鍍覆製成的複合層。
一種電子裝置,其包括一本體及一視窗,所述本體包括一顯示器及一側光源,該視窗蓋設於該本體的顯示器上;所述視窗包括一透明基體,該視窗還包括設置於該透明基體表面的光透增強層及不導電金屬層,所述透明基體的其中任一表面還形成有複數漸變排列的散射點,所述光透增強層為低折射率材料與高折射率材料交替鍍覆製成的複合層,所述本體的側光源設置於該透明基體的一側,該顯示器及側光源發出的光線經過該透明基體、該光透增強層及該不導電金屬層透射出來。
相較於習知技術,本發明視窗在透明基體上設置一不導電金屬層,當所述電子裝置在未使用狀態時,該視窗的不導電金屬層對光線具有高反射性,從而呈現出金屬鏡面效果,增強了視窗的外觀性;當電子裝置在使用狀態時,所述視窗的不導電金屬層又具有光穿透性,並藉由一光透增強層來增強不導電金屬層對光線的穿透,使人眼更易於閱讀和觀覽資訊,且藉由在透明基體的表面上設置漸變排列的散射點,使所述本體的側光源穿透至視窗表面的背景光線呈現出亮度漸變的裝飾效果。且由於視窗的不導電金屬層不導電,其不會遮罩電磁波,不影響電子裝置的正常使用功能。
10‧‧‧視窗
11‧‧‧基體
12‧‧‧增亮層
13‧‧‧底漆層
15‧‧‧光透增強層
17‧‧‧不導電金屬層
19‧‧‧面漆層
111‧‧‧散射點
20‧‧‧電子裝置
21‧‧‧本體
圖1為本發明一較佳實施方式視窗的剖視示意圖。
圖2為本發明一較佳實施方式電子裝置的示意圖。
為了使本發明的目的、技術方案及優點更加清楚明白,以下結合附圖與實施例對本發明進行進一步詳細說明。
請參閱圖1所示,本發明較佳實施方式的視窗10包括一透明基體11及依次形成於透明基體11第一表面的增亮層12、底漆層13、光透增強層15、不導電金屬層17及面漆層19。
透明基體11可為以注塑成型的方式製成的塑膠層。注塑該透明基體11的塑膠可選自為聚甲基丙烯酸甲酯、聚碳酸酯、聚苯乙烯、及苯乙烯丙烯腈共聚物中的任一種。該基體11的厚度在2-5mm之間。
所述透明基體11上與增亮層12相背的第二表面上形成有複數呈漸變排列的散射點111。該散射點111可為半球形或其他不規則形狀的凹點。所述複數散射點111沿基體11的一側至另一側的方向由大直徑、高密度的分佈逐漸過渡至小直徑、低密度的分佈。當所述基體11靠近其分佈有大直徑、高密度散射點111的一側放置有光源時,該光源發出的光線沿平行於基體11的第二表面傳播,傳播過程中遇到複數散射點111,此時,散射點111的曲面將會改變到達該曲面的光線的傳播方向,使該光線穿透至基體11的第一表面。所述大直徑、高密度分佈的散射點111的曲面對光線的散射作用強,使該光線穿透至基體11第一表面的強度要強,而小直徑、低密度分佈的散射點111的曲面對光線的散射作用弱,使該光線穿透至基體11第一表面的強度要弱,從而在基體11的第一表面產生光線強度漸變的效果。
所述複數散射點111亦可設置於透明基體11的第一表面上。
所述複數散射點111可採用網版印刷的方法形成,或採用化學蝕刻、精密機械蝕刻、光微影法等方法形成。
可以理解的,所述複數散射點111亦可為半球形或其他不規則形狀的凸點,其可以利用透明油墨採用絲網印刷的方式形成。
增亮層12由眾多不規則形狀的光學粒子採用真空蒸鍍的方法製成。該增亮層的厚度在0.1-0.5μm之間。該光學粒子可為二氧化矽、二氧化鈦或三氧化二鋁。蒸鍍時,以所述光學粒子作為靶材。所述增亮層12的表面粗糙度較大,在0.05-0.1μm之間。該增亮層12中的眾多光學粒子可起到類似凸透鏡聚光效果的作用,其可使穿透基體11的光線的亮度增強,以增強人眼對所述光線強度漸變的視覺效果。
底漆層13可為透明的紫外光固化漆膜,也可以為丙烯酸樹脂漆膜。該底漆層13可增強光透增強層15與增亮層12的結合力及不導電金屬層17的光亮度,其厚度可在1-30μm之間。
光透增強層15可為二氧化矽或二氧化鈦膜,其可以由真空蒸鍍的方法製成。蒸鍍時,使用二氧化矽或二氧化鈦作為靶材。該光透增強層15的厚度可為80-200nm。該光透增強層15的表面粗糙度較小(≦0.012μm)。所述光透增強層15亦可為低折射率材料與高折射率材料交替鍍覆製成的複合層。所述低折射率材料可為二氧化矽或三氧化氯,高折射率材料可為五氧化三鈦、氧化鋯或五氧化二鉭。當本發明視窗10應用於所述電子裝置並在使用狀態時,所述光透增強層15可增強電子裝置的顯示器所發出的光線對不導電金屬層17的透過率(其光透過率≧30%),從而使人眼能夠清晰的閱讀和觀覽咨訊。
不導電金屬層17為以真空蒸鍍的方式形成的膜層。形成不導電金屬層17的材料可選自銦、錫、鋁、鈦、碳化鈦、鋁矽及不銹鋼等材料中的任意一種。該不導電金屬層17具有金屬質感外觀,其厚度在0.01-10μm之間。由於不導電金屬層17的不導電性,其對無線射頻的傳輸或接收不會產生干擾。當本發明視窗10在未使用狀態時,該不導電金屬層17對外部光線具有較高的反射性(其反射率在20-75%之間),從而使視窗10呈現出金屬鏡面的效果;而當視窗10在使用狀態時,該不導電金屬層17具有光線可穿透性。
所述光透增強層15、不導電金屬層17的設置及其厚度的選擇可藉由光學膜系的數值計算軟體計算出光譜曲線後而確定。
面漆層19為一透明的保護漆膜,其厚度可為10-50μm。該面漆層19可以為透明的紫外光固化漆,其具有較高的硬度以起到較好的表面保護作用。所述面漆層19中亦可添加彩色顏料,以使視窗10的外觀更美觀。
可以理解的,所述面漆層19可以省略。
可以理解的,所述光透增強層15與不導電金屬層17的位置可互換,即不導電金屬層17形成於底漆層13的表面,光透增強層15形成於不導電金屬層17的表面。
可以理解的,所述底漆層13可以省略,即光透增強層15直接形成於增亮層12的表面。
可以理解的,所述增亮層12可以省略,即底漆層13直接形成於基體11的表面。
可以理解的,所述基體11表面的散射點111的排列亦可為沿該表
面中心點的發散方向由大直徑、高密度的分佈逐漸過渡至小直徑、低密度的分佈。
可以理解的,所述散射點111亦可為其他方式的漸變性排列。
請參閱圖2所示,本發明較佳實施方式的電子裝置20包括一本體21及蓋設於本體21上的視窗10。
所述本體21包括一顯示器(圖未示)及一側光源(圖未示)。所述視窗10包括一基體11及依次形成於基體11第一表面的增亮層12、底漆層13、光透增強層15、不導電金屬層17及面漆層19。在所述基體11的第一表面或背向增亮層12的第二表面形成有複數呈漸變排列的散射點111。該複數散射點111可為半球形或其他不規則形狀的凹點或凸點。所述複數光散射點111在基體11表面由大直徑、高密度的分佈逐漸過渡至小直徑、低密度的漸變性分佈。所述本體21的側光源可為LED側光源,其優選設置於視窗10的基體11形成有大直徑、高密度分佈的散射點111的一側。所述本體21的顯示器發出的光線經過視窗10的基體11、增亮層12、底漆層13、光透增強層15、不導電金屬層17及面漆層19透射出來,且所述側光源發出的光線經由基體11的複數散射點111的散射作用使從視窗10透出的背景光線的強度呈現出漸變的裝飾效果。
所述本體21可為手機、PDA、MP3或MP4的本體。
綜上所述,本發明符合發明專利要件,爰依法提出專利申請。惟,以上所述者僅為本發明之較佳實施方式,舉凡熟悉本案技藝之人士,於爰依本發明精神所作之等效修飾或變化,皆應涵蓋於以下之申請專利範圍內。
10‧‧‧視窗
11‧‧‧基體
12‧‧‧增亮層
13‧‧‧底漆層
15‧‧‧光透增強層
17‧‧‧不導電金屬層
19‧‧‧面漆層
111‧‧‧散射點
Claims (13)
- 一種視窗,其包括一透明基體,其中該視窗還包括設置於該透明基體表面的光透增強層及不導電金屬層,所述透明基體的其中任一表面還形成有複數漸變排列的散射點,所述光透增強層為低折射率材料與高折射率材料交替鍍覆製成的複合層。
- 如申請專利範圍第1項所述的視窗,其中所述複數散射點為半球形或不規則形狀的凹點或凸點,該複數散射點沿該透明基體表面的一側至另一側的方向由大直徑、高密度的分佈逐漸過渡至小直徑、低密度的分佈。
- 如申請專利範圍第1項所述的視窗,其中所述複數散射點沿該透明基體表面中心點的發散方向由大直徑、高密度的分佈逐漸過渡至小直徑、低密度的分佈。
- 如申請專利範圍第2項或第3項所述的視窗,其中所述複數散射點採用網版印刷、化學蝕刻、精密機械蝕刻或光微影法形成。
- 如申請專利範圍第1項所述的視窗,其中所述光透增強層為二氧化矽或二氧化鈦膜,其厚度為80-200nm,粗糙度小於等於0.012μm。
- 如申請專利範圍第1項所述的視窗,其中所述不導電金屬層以真空蒸鍍的方式形成,該不導電金屬層的材料選自於銦、錫、鋁、鈦、碳化鈦、鋁矽及不銹鋼中的任一種。
- 如申請專利範圍第6項所述的視窗,其中所述不導電金屬層的厚度為0.01-10μm。
- 如申請專利範圍第1項所述的視窗,其中所述透明基體與光透增強層之間設置有一增亮層,該增亮層的厚度在0.1-0.5μm之間。
- 如申請專利範圍第1項所述的視窗,其中所述透明基體與不導電金屬層之 間設置有一增亮層,該增亮層的厚度在0.1-0.5μm之間。
- 如申請專利範圍第8項或第9項所述的視窗,其中所述增亮層為二氧化矽、二氧化鈦或三氧化二鋁光學粒子以蒸鍍的方式製成,該增亮層的粗糙度在0.05-0.1μm之間。
- 如申請專利範圍第8項所述的視窗,其中所述光透增強層與增亮層之間結合有一底漆層,該光透增強層上形成有一面漆層。
- 如申請專利範圍第9項所述的視窗,其中所述不導電金屬層與增亮層之間形成有一底漆層,該不導電金屬層上形成有一面漆層。
- 一種電子裝置,其包括一本體及一視窗,所述本體包括一顯示器及一側光源,該視窗蓋設於該本體的顯示器上;所述視窗包括一透明基體,其中該視窗還包括設置於該透明基體表面的光透增強層及不導電金屬層,所述透明基體的其中任一表面還形成有複數漸變排列的散射點,所述光透增強層為低折射率材料與高折射率材料交替鍍覆製成的複合層,所述側光源設置於該透明基體的一側,該顯示器及側光源發出的光線經過該透明基體、該光透增強層及該不導電金屬層透射出來。
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