JP2009046162A - ボトルの製造方法およびボトル - Google Patents
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Abstract
【解決手段】合成樹脂製のボトル10の内面10aに、少なくとも窒素、珪素、炭素および水素を含む有機系珪素化合物膜11を形成する第1成膜工程と、この有機系珪素化合物膜11の表面に、酸化珪素化合物を主成分とする酸化珪素化合物膜12を形成する第2成膜工程と、を有するボトルの製造方法であって、第1成膜工程は、窒素とアルゴンと有機系珪素化合物とを含む第1混合ガスをボトルの内部に供給して化学気相成長法(CVD法)により有機系珪素化合物膜11を形成し、第2成膜工程は、酸素と有機系珪素化合物とを含む第2混合ガスをボトルの内部に供給して化学気相成長法(CVD法)により酸化珪素化合物膜12を形成する。
【選択図】図1
Description
このように、ボトルの内面側に酸化珪素化合物膜を形成することにより、このボトルにガスバリア性能を付与することが可能になり、例えば外気中の酸素等がボトルの内部に透過して侵入することや、炭酸飲料中の炭酸ガスがボトルの外部に透過して抜けること等が抑えられ、内容物の品質を長期にわたって維持できることが知られている。さらに、酸化珪素化合物膜とボトルの内面との間に有機系珪素化合物膜を形成することによって、ガスバリア性能の低下を抑制できることが知られている。なお、ガスバリア性能が低下する一因として、酸化珪素化合物膜に衝撃力等が作用したときに生じると推測されるクラックが考えられる。
したがって、ボトルに内容物を充填する前にボトルの内部を洗浄した水を、このボトル内から良好に排出することが可能になり、その残存量を低減することができるとともに、この排水に要する時間を短縮することができる。
また、ボトルの内面側に酸化珪素化合物膜が形成されているので、このボトルにガスバリア性能を付与することが可能になり、例えばボトルの内部に酸素等が透過して侵入することや、炭酸飲料中の炭酸ガスがボトルの外部に透過して抜けること等が抑えられ、内容物の品質を長期にわたって維持することができ、さらに、酸化珪素化合物膜とボトルの内面との間に有機系珪素化合物膜が形成されているので、ガスバリア性能の低下を抑制することも可能になる。
以上より、ガスバリア性能のみならずボトル内を洗浄した後の水の排水性をも向上させることができる。
このボトル10は、例えば二軸延伸ブロー成形によりポリエチレンテレフタレート等の合成樹脂で形成されており、その内面10aに、少なくとも窒素、珪素、炭素および水素を含む有機系珪素化合物膜11が形成されるとともに、この有機系珪素化合物膜11の表面に、酸化珪素化合物(SiOx)を主成分とする酸化珪素化合物膜12が形成されている。なお、酸化珪素化合物膜12は、酸化珪素化合物の他に、例えば少なくとも珪素、炭素、水素および酸素を含む化合物等を含有している。
このボトル10の製造方法は、ボトル10の内面10aに有機系珪素化合物膜11を形成する第1成膜工程と、有機系珪素化合物膜11の表面に酸化珪素化合物膜12を形成する第2成膜工程と、を有している。
まず、第1成膜工程では、チャンバー内にボトル10を配置した後に、このボトル10の内部に、窒素と、アルゴンと、有機系珪素化合物(例えば、ヘキサメチルジシロキサン(HMDSO:(CH3)3Si−O−Si(CH3)3)、またはヘキサメチルジシラザン(HMDSN:(CH3 )3 −SiNH−Si(CH3)3)等)と、を含む第1混合ガスを供給するとともに、チャンバー内を減圧する。そして、チャンバー内に高周波を導入してボトル10の内部にプラズマを発生させ、化学気相成長法(CVD法)により有機系珪素化合物膜11を形成する。
次に、第2成膜工程では、チャンバー内およびボトル10内の残留ガスを排気した後、酸素と、有機系珪素化合物(例えば、ヘキサメチルジシロキサン(HMDSO:(CH3)3Si−O−Si(CH3)3)、またはヘキサメチルジシラザン(HMDSN:(CH3 )3 −SiNH−Si(CH3)3)等)と、を含む第2混合ガスをボトル10の内部に供給するとともに、前述と同様にして化学気相成長法(CVD法)により有機系珪素化合物膜11の表面に酸化珪素化合物膜12を形成する。
したがって、ボトル10に内容物を充填する前にボトル10の内部を洗浄した水を、このボトル10内から良好に排出することが可能になり、その残存量を低減することができるとともに、この排水に要する時間を短縮することができる。
以上より、ガスバリア性能のみならずボトル10内を洗浄した後の水の排水性をも向上させることができる。
例えば、前記実施形態では、第1成膜工程時および第2成膜工程時それぞれにおいて、チャンバー内に高周波を導入したが、これに代えてマイクロ波を導入してもよい。
前記第1成膜工程で用いる第1混合ガスが含有するガスの種類および各ガスの流量のみを異ならせて他の条件は全て同一にして実施例および比較例の6種類のボトル(内容量350ml)をポリエチレンテレフタレートで形成した。これら6種類のボトルを形成する際に用いた第1混合ガスがそれぞれ含有するガスの種類および各ガスの流量を表1に示す。また、この表1に示す膜厚は、有機系珪素化合物膜および酸化珪素化合物膜を含めた全体の厚さとなっている。
さらに、6種類全てのボトルを形成する際の前記第2成膜工程時では、第2混合ガスとして、酸素(20sccm)と、ヘキサメチルジシロキサン(5sccm)と、を含むガスを採用した。なお、「sccm」とは、0℃、1気圧の状態で1分間に流れるガスの量(cc)を意味する。
そして、これら全てのボトルについて、ガスバリア性能および排水性を評価した。
この結果、実施例のボトル10では、ガスバリア性能については比較例のボトルと同等のレベルであり、有機系珪素化合物膜および酸化珪素化合物膜の双方を有しないボトルと比べて高いガスバリア性能を有することが確認された。また、実施例のボトル10では、接触角が比較例のボトルよりも大きく、残留水量が比較例のボトルより小さくなっており、排水性については比較例のボトルよりも優れていることが確認された。
10a 内面
11 有機系珪素化合物膜
12 酸化珪素化合物膜
Claims (2)
- 合成樹脂製のボトルの内面に、少なくとも窒素、珪素、炭素および水素を含む有機系珪素化合物膜を形成する第1成膜工程と、
この有機系珪素化合物膜の表面に、酸化珪素化合物を主成分とする酸化珪素化合物膜を形成する第2成膜工程と、を有するボトルの製造方法であって、
前記第1成膜工程は、窒素とアルゴンと有機系珪素化合物とを含む第1混合ガスを前記ボトルの内部に供給して化学気相成長法(CVD法)により前記有機系珪素化合物膜を形成し、
前記第2成膜工程は、酸素と有機系珪素化合物とを含む第2混合ガスを前記ボトルの内部に供給して化学気相成長法(CVD法)により前記酸化珪素化合物膜を形成することを特徴とするボトルの製造方法。 - 内面に、少なくとも窒素、珪素、炭素および水素を含む有機系珪素化合物膜が形成されるとともに、この有機系珪素化合物膜の表面に、酸化珪素化合物を主成分とする酸化珪素化合物膜が形成された合成樹脂製のボトルであって、
請求項1記載のボトルの製造方法により形成されたことを特徴とするボトル。
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