JP2009043788A - レーザーアニール装置及びレーザーアニール方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】レーザー発振器31と、レーザービームの光路内に配置され、ビームを分割してその高調波成分を除去する複屈折結晶34と、ビームを所定の形状に成形するビーム成形手段4と、成形されたビームの被照射位置にてアニールの対象物を支持するX−Yステージ52を備えた処理室とを有するレーザーアニール装置であって、成形されたビームの強度及び形状を検出する2以上の検出手段1を備え、検出器がビームのエネルギーを減衰させる減衰手段14を備えているレーザービーム測定装置が、ステージ52の周縁部に設けられている。
【選択図】図3
Description
(比較例1)
3 ビーム発振手段 4 ビーム成形手段
5 アニール処理手段 11 載置台
12 ラインセンサ 13 保持板
14 減衰手段 21 信号増幅器
22 変換器 23 情報処理装置
31 レーザー発振器 32 光軸補正ミラー
33 減衰器 34 複屈折結晶
35 拡大レンズ 36 コリメートレンズ
37 光軸補正ミラー 41 拡大レンズ
42 コリメートレンズ 43 コリメートレンズ
44 集光レンズ 45 導波路
46a y転写レンズ 46b y転写レンズ
47 位相差板 48 x転写レンズ
49 集光レンズ 51 入射窓
52 載置台(X−Yステージ) 53 検出手段
54 ラインセンサ(検出器) 121 センサガラス面
231 ディスプレイ L レーザービーム
S 試料基板
Claims (6)
- 固体レーザーと、生成されたレーザービームの光路内に配置され、レーザービームを分割してその高調波成分を除去する複屈折結晶と、レーザービームを所定の形状に成形するビーム成形手段と、成形されたレーザービームの被照射位置にてレーザーアニールの対象物を支持するX−Yステージを備えた処理室とを有するレーザーアニール装置であって、成形されたレーザービームの強度及び形状を検出する2以上の検出器を備え、かつ該検出器がレーザービームのエネルギーを減衰させる減衰手段を備えている検出手段からなるレーザービーム測定装置が、該X−Yステージの周縁部に設けられていることを特徴とするレーザーアニール装置。
- 前記減衰手段が、金属酸化物膜からなる多層膜であって、成形されたレーザービームがこの多層膜を透過する間に多重反射されて、そのレーザービームのエネルギーを減衰させ、レーザーアニールの対象物に入射する強度を許容限度以下に制限することができる多層膜であることを特徴とする請求項1記載のレーザーアニール装置。
- 前記多層膜が、酸化ハフニウムと酸化シリコンとからなる多層膜であることを特徴とする請求項2記載のレーザーアニール装置。
- 固体レーザーで生成したレーザービームをビーム成形手段によって所定の形状に成形する際に、レーザービームの光路内に配置された複屈折結晶でレーザービームを分割してその高調波成分を除去し、その後、この高調波成分が除去され、成形されたレーザービームをX−Yステージ上に載置されたレーザーアニールの対象物に照射して対象物をアニールするレーザーアニール方法であって、レーザービームを該対象物に照射する前に、成形されたレーザービームの強度及び形状を検出する2以上の検出器を備え、かつ該検出器がレーザービームのエネルギーを減衰させる減衰手段を備えている検出手段からなるレーザービーム測定装置を用い、該X−Yステージの周縁部に設けられている該測定装置の検出器に、該成形されたレーザービームを照射してレーザービームの強度及び形状を同時に測定し、所定の強度及び形状を有するレーザービームに調整した後、得られたレーザービームを該対象物に照射してアニールすることを特徴とするレーザーアニール方法。
- 前記減衰手段として、金属酸化物膜からなる多層膜であって、成形されたレーザービームがこの多層膜を透過する間に多重反射されて、そのレーザービームのエネルギーを減衰させ、レーザーアニールの対象物に入射する強度を許容限度以下に制限することができる多層膜を用いることを特徴とする請求項4記載のレーザーアニール方法。
- 前記多層膜が、酸化ハフニウムと酸化シリコンとからなる多層膜であることを特徴とする請求項5記載のレーザーアニール方法。
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