JP2009039853A - 研磨装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】本発明に係る研磨装置は、基板Wを保持する基板保持部20と、研磨テープ41をその長手方向に送るテープ送り機構43と、研磨テープを基板のノッチ部に押圧する研磨ヘッド42とを備える。研磨ヘッド42は、研磨テープの進行方向をガイドする2つのガイド部材57a,57bと、研磨テープの裏側に配置された、ループ形状を有するバックパッド50とを有する。バックパッド50は、ループ形状を維持しつつ、その長手方向に進行可能なように、複数の滑車59a,59b,59c,59d,59eで保持されている。
【選択図】図4
Description
本発明の好ましい態様は、前記複数の滑車のうちの少なくとも1つは移動可能に構成された可動滑車であり、該可動滑車を移動させることにより前記バックパッドのテンションが調整されることを特徴とする。
本発明の好ましい態様は、前記研磨ヘッドを、前記研磨テープの前記進行方向に沿って往復運動させる往復運動機構をさらに備えたことを特徴とする。
本発明の好ましい態様は、前記複数の横断面形状のうちの少なくとも1つは、ノッチ部の形状に沿った形状を有することを特徴とする。
本発明の好ましい態様は、前記複数の横断面形状のうちの少なくとも1つは、円弧状の形状を有することを特徴とする。
本発明の好ましい態様は、前記研磨ヘッドを、前記研磨テープの前記進行方向に沿って往復運動させる往復運動機構をさらに備えたことを特徴とする。
本発明の好ましい態様は、前記バックパッドが固定される支持部材と、前記支持部材を、その一端または該一端近傍の点を中心として回転可能とする支点構造と、前記支持部材の他端を前記研磨テープに向かって押圧する押圧部材とをさらに備えたことを特徴とする。
本発明の好ましい態様は、前記支持部材の可動方向を、前記研磨テープに向かう方向に規制するガイド機構をさらに備えたことを特徴とする。
本発明の好ましい態様は、前記支持部材および前記押圧部材を覆うカバーを備えたことを特徴とする。
本発明の好ましい態様は、前記第2の研磨ユニットは、前記研磨テープを基板のベベル部に押し当てて該ベベル部を研磨する研磨ヘッドを有することを特徴とする。
図1は、本発明の第1の実施形態に係る研磨装置を示す平面図である。図2は図1に示す研磨装置の断面図である。
12 開口部
13 シャッター
14 仕切板
15 上室
16 下室
17 貫通孔
20 ウエハステージユニット
23 ウエハステージ
26 溝
27A,27B 中空シャフト
28 軸受
29 軸台
30 ステージ移動機構
31 パイプ
32 ロータリージョイント
33A,33B 可動板
34 支持板
35A,35B リニアガイド
36 旋回アーム
40 ノッチ研磨ユニット
41,111 研磨テープ
42,65,90 研磨ヘッド
43 テープ送り機構
45a 供給リール
45b 回収リール
46 リール室
50,60,70,91 バックパッド
57a,57b ガイドローラ
58 研磨液供給ノズル
59a〜59e 滑車
61 基台
63 芯棒(支持部材)
63a 凸部
67,92 上部ホルダー
68 下部ホルダー
71 可動アーム
72 カムシャフト
73 支持アーム
74 リニアガイド
75A,75B,75C 軸受
76 カム
77 溝
78 支持軸
80 ウエハチャック機構
81 第一のチャックハンド
82 第二のチャックハンド
83 コマ
94 ばねホルダー
94a 凹部
95 ばね
97 ハウジング(固定部材)
100 ハンド
101,107 研磨ヘッド
102 バックパッド
103 直動ガイド機構
104 カバー
104a 孔
105 位置決めピン
110 ベベル研磨ユニット
112 研磨ヘッド
120 ロード/アンロードユニット
125 ウエハカセット
130 ハウジング
140A 第1の搬送ロボット
140B 第2の搬送ロボット
145 仮置き台
150A 1次研磨モジュール
150B 2次研磨モジュール
160A 1次洗浄モジュール
160B 2次洗浄モジュール
W ウエハ
b1,b3,b10,b11 ベルト
b2 ボールねじ
m1,m2,m3,m4,M1,M2 モータ
p1,p2,p3,p4,p11〜p14 プーリ
Claims (17)
- 研磨テープの研磨面と基板とを相対移動させることにより基板のノッチ部を研磨する研磨装置において、
基板を保持する基板保持部と、
前記研磨テープをその長手方向に送るテープ送り機構と、
前記研磨テープを基板のノッチ部に押圧する研磨ヘッドとを備え、
前記研磨ヘッドは、
前記研磨テープの進行方向をガイドする2つのガイド部材と、
前記研磨テープの裏側に配置された、ループ形状を有するバックパッドとを有し、
前記バックパッドは、前記ループ形状を維持しつつ、その長手方向に進行可能なように、複数の滑車で保持されていることを特徴とする研磨装置。 - 前記バックパッドは、同心状に配置された複数の円筒部材から構成されることを特徴とする請求項1に記載の研磨装置。
- 前記複数の滑車のうちの少なくとも1つは移動可能に構成された可動滑車であり、該可動滑車を移動させることにより前記バックパッドのテンションが調整されることを特徴とする請求項1に記載の研磨装置。
- 前記研磨ヘッドを、前記研磨テープの前記進行方向に沿って往復運動させる往復運動機構をさらに備えたことを特徴とする請求項1に記載の研磨装置。
- 研磨テープの研磨面と基板とを相対移動させることにより基板のノッチ部を研磨する研磨装置において、
基板を保持する基板保持部と、
前記研磨テープをその長手方向に送るテープ送り機構と、
前記研磨テープを基板のノッチ部に押圧する研磨ヘッドとを備え、
前記研磨ヘッドは、
前記研磨テープの進行方向をガイドする2つのガイド部材と、
前記研磨テープの裏面側に配置された、直線状に延びるバックパッドとを有し、
前記バックパッドは、前記2つのガイド部材によってガイドされた前記研磨テープの進行方向と略平行に配置されることを特徴とする研磨装置。 - 前記バックパッドは、異なる複数の横断面形状を有することを特徴とする請求項5に記載の研磨装置。
- 前記複数の横断面形状のうちの少なくとも1つは、ノッチ部の形状に沿った形状を有することを特徴とする請求項6に記載の研磨装置。
- 前記複数の横断面形状のうちの少なくとも1つは、円弧状の形状を有することを特徴とする請求項6に記載の研磨装置。
- 前記研磨ヘッドを、前記研磨テープの前記進行方向に沿って往復運動させる往復運動機構をさらに備えたことを特徴とする請求項5に記載の研磨装置。
- 前記バックパッドが固定される支持部材と、
前記支持部材を、その一端または該一端近傍の点を中心として回転可能とする支点構造と、
前記支持部材の他端を前記研磨テープに向かって押圧する押圧部材とをさらに備えたことを特徴とする請求項5に記載の研磨装置。 - 前記バックパッドが固定される支持部材と、
前記支持部材を前記研磨テープに向かって押圧する複数の押圧部材とをさらに備えたことを特徴とする請求項5に記載の研磨装置。 - 前記支持部材の可動方向を、前記研磨テープに向かう方向に規制するガイド機構をさらに備えたことを特徴とする請求項11に記載の研磨装置。
- 前記支持部材および前記押圧部材を覆うカバーを備えたことを特徴とする請求項12に記載の研磨装置。
- 基板を保持する基板保持部と、
基板に研磨テープを押し当てて基板の周縁部を研磨する第1の研磨ユニットと、
基板に研磨テープを押し当てて基板の周縁部を研磨する第2の研磨ユニットと、
前記第1の研磨ユニットおよび前記第2の研磨ユニットを収容するハウジングとを備え、
前記第1の研磨ユニットは請求項1または請求項5に記載の研磨ヘッドを有し、
前記第1の研磨ユニットおよび前記第2の研磨ユニットは、前記基板保持部に保持された基板の表面と平行に移動可能に構成されていることを特徴とする研磨装置。 - 前記第2の研磨ユニットは、請求項1または請求項5に記載の研磨ヘッドを有することを特徴とする請求項14に記載の研磨装置。
- 前記第2の研磨ユニットは、前記研磨テープを基板のベベル部に押し当てて該ベベル部を研磨する研磨ヘッドを有することを特徴とする請求項14に記載の研磨装置。
- 請求項1乃至16のいずれか一項に記載の研磨装置と、
前記研磨装置により研磨された基板を洗浄する洗浄モジュールとを備えたことを特徴とする基板処理装置。
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