JP2009038060A - 多結晶膜の製造方法及びレーザ加工装置 - Google Patents
多結晶膜の製造方法及びレーザ加工装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2009038060A JP2009038060A JP2007198424A JP2007198424A JP2009038060A JP 2009038060 A JP2009038060 A JP 2009038060A JP 2007198424 A JP2007198424 A JP 2007198424A JP 2007198424 A JP2007198424 A JP 2007198424A JP 2009038060 A JP2009038060 A JP 2009038060A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- laser beam
- laser
- workpiece
- axis
- power density
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Images
Landscapes
- Recrystallisation Techniques (AREA)
Abstract
【解決手段】 表面にシリコン膜が形成された加工対象物(30)の該表面をxy面とするxyz直交座標系を定義したとき、該加工対象物の表面上のy方向に長い被照射領域に、該加工対象物の表面におけるパワー密度が相対的に大きく、かつy方向に関する光強度分布が均一化された第1のレーザビーム(L1)を、x軸の正の向きに傾けた方向に沿って入射させると同時に、該加工対象物の表面におけるパワー密度が相対的に小さく、かつy方向に関する光強度分布が均一化された第2のレーザビーム(L2)を、x軸の負の向きに傾けた方向に沿って入射させながら、前記加工対象物をx軸の正の向きに移動させることにより、前記シリコン膜を多結晶化させる。
【選択図】 図1
Description
表面にシリコン膜が形成された加工対象物の該表面をxy面とするxyz直交座標系を定義したとき、該加工対象物の表面上のy方向に長い被照射領域に、該加工対象物の表面におけるパワー密度が相対的に大きく、かつy方向に関する光強度分布が均一化された第1のレーザビームを、x軸の正の向きに傾けた方向に沿って入射させると同時に、該加工対象物の表面におけるパワー密度が相対的に小さく、かつy方向に関する光強度分布が均一化された第2のレーザビームを、x軸の負の向きに傾けた方向に沿って入射させながら、前記加工対象物をx軸の正の向きに移動させることにより、前記シリコン膜を多結晶化させる多結晶膜の製造方法が提供される。
加工対象物を保持し、該加工対象物の表面をxy面とするxyz直交座標系を定義したとき、該加工対象物をx軸の正の向き及び負の向きのいずれの方向にも移動させることができるステージと、
前記ステージに保持された加工対象物の表面上のy軸方向に長い被照射領域に、y方向に関する光強度分布が均一化された第1のレーザビームを、x軸の正の向きに傾けた方向に沿って入射させると同時に、y方向に関する光強度分布が均一化され、該第1のレーザビームとは該加工対象物の表面におけるパワー密度が異なる第2のレーザビームを、x軸の負の向きに傾けた方向に沿って入射させ、該加工対象物の表面における該第1のレーザビームのパワー密度と該第2のレーザビームのパワー密度との大小関係を逆転させることができるレーザ光源と、
前記第1のレーザビームのパワー密度が前記第2のレーザビームのパワー密度よりも大きい状態のときに前記加工対象物がx軸の正の向きに移動し、前記第1のレーザビームのパワー密度が前記第2のレーザビームのパワー密度よりも小さい状態のときに前記加工対象物がx軸の負の向きに移動するように、前記レーザ光源及びステージを制御する制御装置と
を有するレーザ加工装置が提供される。
10A、10B レーザ発振器
11 半波長板
12A、12B ビームエキスパンダ
13 折り返しミラー
14 偏光ビームスプリッタ
15A、15B 折り返しミラー
16 ナイフエッジプリズム
17 アナモルフィックプリズム
18 回折光学素子
19 第1の結像面
20 シリンドリカルレンズ群
21 第2の結像面
22a、22b レンズ
23 折り返しミラー
24 ステージ
25 制御装置
30 加工対象物
35 被照射領域
40 タイル
41 結晶粒
43 タイル
44 タイル以外の領域
48a〜48d レーザ発振器
50a〜50d、51a〜51d 偏光ビームスプリッタ
52a〜52d、53〜56 半波長板
Claims (7)
- 表面にシリコン膜が形成された加工対象物の該表面をxy面とするxyz直交座標系を定義したとき、該加工対象物の表面上のy方向に長い被照射領域に、該加工対象物の表面におけるパワー密度が相対的に大きく、かつy方向に関する光強度分布が均一化された第1のレーザビームを、x軸の正の向きに傾けた方向に沿って入射させると同時に、該加工対象物の表面におけるパワー密度が相対的に小さく、かつy方向に関する光強度分布が均一化された第2のレーザビームを、x軸の負の向きに傾けた方向に沿って入射させながら、前記加工対象物をx軸の正の向きに移動させることにより、前記シリコン膜を多結晶化させる多結晶膜の製造方法。
- 前記加工対象物の表面における前記第1のレーザビームのパワー密度が、前記第2のレーザビームのパワー密度の1.2〜4倍の範囲内である請求項1に記載の多結晶膜の製造方法。
- 前記第1のレーザビーム及び第2のレーザビームの各々の、前記加工対象物表面におけるx方向の光強度分布がガウシアン分布である請求項1または2に記載の多結晶膜の製造方法。
- 前記第1のレーザビーム及び第2のレーザビームの中心光線の、z軸方向からの傾け角が10〜30°の範囲内である請求項1乃至3のいずれか1項に記載の多結晶膜の製造方法。
- 前記第1及び第2のレーザビームは、緑色の波長域のレーザビームである請求項1乃至4のいずれか1項に記載の多結晶膜の製造方法。
- 加工対象物を保持し、該加工対象物の表面をxy面とするxyz直交座標系を定義したとき、該加工対象物をx軸の正の向き及び負の向きのいずれの方向にも移動させることができるステージと、
前記ステージに保持された加工対象物の表面上のy軸方向に長い被照射領域に、y方向に関する光強度分布が均一化された第1のレーザビームを、x軸の正の向きに傾けた方向に沿って入射させると同時に、y方向に関する光強度分布が均一化され、該第1のレーザビームとは該加工対象物の表面におけるパワー密度が異なる第2のレーザビームを、x軸の負の向きに傾けた方向に沿って入射させ、該加工対象物の表面における該第1のレーザビームのパワー密度と該第2のレーザビームのパワー密度との大小関係を逆転させることができるレーザ光源と、
前記第1のレーザビームのパワー密度が前記第2のレーザビームのパワー密度よりも大きい状態のときに前記加工対象物がx軸の正の向きに移動し、前記第1のレーザビームのパワー密度が前記第2のレーザビームのパワー密度よりも小さい状態のときに前記加工対象物がx軸の負の向きに移動するように、前記レーザ光源及びステージを制御する制御装置と
を有するレーザ加工装置。 - 前記レーザ光源は、Nd:YAG、Nd:YLF、またはNd:YVO4レーザの2倍高調波を出射する少なくとも2台のレーザ発振器を含む請求項6に記載のレーザ加工装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2007198424A JP5046778B2 (ja) | 2007-07-31 | 2007-07-31 | 多結晶膜の製造方法及びレーザ加工装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2007198424A JP5046778B2 (ja) | 2007-07-31 | 2007-07-31 | 多結晶膜の製造方法及びレーザ加工装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2009038060A true JP2009038060A (ja) | 2009-02-19 |
JP5046778B2 JP5046778B2 (ja) | 2012-10-10 |
Family
ID=40439727
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2007198424A Expired - Fee Related JP5046778B2 (ja) | 2007-07-31 | 2007-07-31 | 多結晶膜の製造方法及びレーザ加工装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5046778B2 (ja) |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2011025279A (ja) * | 2009-07-24 | 2011-02-10 | Disco Abrasive Syst Ltd | 光学系及びレーザ加工装置 |
JP2011096808A (ja) * | 2009-10-29 | 2011-05-12 | Sumitomo Heavy Ind Ltd | レーザ加工装置、及びレーザ加工方法 |
CN104798180A (zh) * | 2012-11-20 | 2015-07-22 | 株式会社日本制钢所 | 激光退火方法以及激光退火装置 |
KR20170085184A (ko) * | 2016-01-13 | 2017-07-24 | 삼성디스플레이 주식회사 | 레이저 결정화 장치 |
Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH04182378A (ja) * | 1990-11-14 | 1992-06-29 | Mitsubishi Electric Corp | 半導体単結晶膜の形成方法 |
JPH09180997A (ja) * | 1995-12-22 | 1997-07-11 | Seiko Instr Inc | レーザを用いた表面処理方法 |
JP2000133593A (ja) * | 1998-10-28 | 2000-05-12 | Nec Corp | レーザ照射装置およびレーザ照射方法 |
JP2003068644A (ja) * | 2001-08-28 | 2003-03-07 | Sumitomo Heavy Ind Ltd | シリコン結晶化方法とレーザアニール装置 |
JP2006060085A (ja) * | 2004-08-20 | 2006-03-02 | Sumitomo Heavy Ind Ltd | レーザ照射装置 |
-
2007
- 2007-07-31 JP JP2007198424A patent/JP5046778B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH04182378A (ja) * | 1990-11-14 | 1992-06-29 | Mitsubishi Electric Corp | 半導体単結晶膜の形成方法 |
JPH09180997A (ja) * | 1995-12-22 | 1997-07-11 | Seiko Instr Inc | レーザを用いた表面処理方法 |
JP2000133593A (ja) * | 1998-10-28 | 2000-05-12 | Nec Corp | レーザ照射装置およびレーザ照射方法 |
JP2003068644A (ja) * | 2001-08-28 | 2003-03-07 | Sumitomo Heavy Ind Ltd | シリコン結晶化方法とレーザアニール装置 |
JP2006060085A (ja) * | 2004-08-20 | 2006-03-02 | Sumitomo Heavy Ind Ltd | レーザ照射装置 |
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2011025279A (ja) * | 2009-07-24 | 2011-02-10 | Disco Abrasive Syst Ltd | 光学系及びレーザ加工装置 |
JP2011096808A (ja) * | 2009-10-29 | 2011-05-12 | Sumitomo Heavy Ind Ltd | レーザ加工装置、及びレーザ加工方法 |
CN104798180A (zh) * | 2012-11-20 | 2015-07-22 | 株式会社日本制钢所 | 激光退火方法以及激光退火装置 |
KR20170085184A (ko) * | 2016-01-13 | 2017-07-24 | 삼성디스플레이 주식회사 | 레이저 결정화 장치 |
KR102507094B1 (ko) * | 2016-01-13 | 2023-03-08 | 삼성디스플레이 주식회사 | 레이저 결정화 장치 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP5046778B2 (ja) | 2012-10-10 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US7459655B2 (en) | Laser beam processing machine | |
US7482553B2 (en) | Laser beam processing machine | |
EP2465634B1 (en) | Laser machining device and laser machining method | |
JP5410250B2 (ja) | レーザ加工方法及びレーザ加工装置 | |
US20070119835A1 (en) | Laser beam processing machine | |
TWI648116B (zh) | Laser processing device and laser processing method | |
JP5133158B2 (ja) | 多重ビームレーザー装置 | |
JP6715632B2 (ja) | レーザ加工方法及びレーザ加工装置 | |
JP2004528991A5 (ja) | ||
JP5536319B2 (ja) | レーザスクライブ方法および装置 | |
JP5861494B2 (ja) | レーザ加工装置およびレーザ加工方法 | |
JP2005136218A (ja) | 不純物活性化方法及びレーザ照射装置 | |
KR20130085796A (ko) | 레이저 가공 장치 및 방법 | |
JP5046778B2 (ja) | 多結晶膜の製造方法及びレーザ加工装置 | |
JP4610201B2 (ja) | レーザ照射装置 | |
JP2008036641A (ja) | レーザ加工装置およびレーザ加工方法 | |
JP2009178720A (ja) | レーザ加工装置 | |
JP5967913B2 (ja) | レーザ加工装置、レーザ加工方法及びインクジェットヘッド基板 | |
JP5106130B2 (ja) | レーザビーム照射方法およびレーザビーム照射装置 | |
KR100787236B1 (ko) | 극초단 펄스 레이저 가공 장치 및 방법 | |
JP3955587B2 (ja) | レーザ照射装置 | |
JP2001257174A (ja) | レーザアニール装置及びレーザアニール方法 | |
JP2005246450A (ja) | レーザ加工方法及びレーザ加工装置並びに強度調節器 | |
JP2005136365A (ja) | レーザ照射装置及びレーザ照射方法 | |
JP2006187798A (ja) | レーザ加工装置及びレーザ加工方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20111116 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20111122 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20120112 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20120410 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20120416 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20120717 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20120717 |
|
FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20150727 Year of fee payment: 3 |
|
R150 | Certificate of patent (=grant) or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |