JP2009037023A5 - - Google Patents

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Families Citing this family (18)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US9348067B2 (en) * 2009-06-16 2016-05-24 Koninklijke Philips N.V. Tilted gratings and method for production of tilted gratings
US8999435B2 (en) * 2009-08-31 2015-04-07 Canon Kabushiki Kaisha Process of producing grating for X-ray image pickup apparatus
JP2015178683A (ja) * 2010-01-08 2015-10-08 キヤノン株式会社 金属吸収格子及びタルボ干渉計
JP5773624B2 (ja) 2010-01-08 2015-09-02 キヤノン株式会社 微細構造体の製造方法
JP5660910B2 (ja) * 2010-03-30 2015-01-28 富士フイルム株式会社 放射線画像撮影用グリッドの製造方法
DE102010017426A1 (de) 2010-06-17 2011-12-22 Karlsruher Institut für Technologie Gitter aus mindestens zwei Materialien für die Röntgenbildgebung
JP5585662B2 (ja) 2010-12-21 2014-09-10 コニカミノルタ株式会社 金属格子の製造方法ならびに該製造方法によって製造された金属格子およびこの金属格子を用いたx線撮像装置
JP5893252B2 (ja) * 2011-02-15 2016-03-23 キヤノン株式会社 微細構造体の製造方法
JP5804726B2 (ja) * 2011-02-24 2015-11-04 キヤノン株式会社 微細構造体の製造方法
JP5656726B2 (ja) * 2011-04-15 2015-01-21 株式会社日立ハイテクサイエンス X線タルボ干渉計用位相型回折格子の製造方法
JP5860613B2 (ja) * 2011-05-26 2016-02-16 株式会社オプトニクス精密 X線干渉計用の回折格子及びその製造方法
US20140241493A1 (en) 2011-07-27 2014-08-28 Mitsuru Yokoyama Metal Lattice Production Method, Metal Lattice, X-Ray Imaging Device, and Intermediate Product for Metal Lattice
JP6245794B2 (ja) 2011-07-29 2017-12-13 キヤノン株式会社 遮蔽格子の製造方法
JP5871549B2 (ja) * 2011-07-29 2016-03-01 キヤノン株式会社 X線遮蔽格子の製造方法
KR101306185B1 (ko) 2011-12-28 2013-09-17 단국대학교 산학협력단 엑스선 간섭계의 나노 격자 제조 방법
JP6667215B2 (ja) 2014-07-24 2020-03-18 キヤノン株式会社 X線遮蔽格子、構造体、トールボット干渉計、x線遮蔽格子の製造方法
JP7059545B2 (ja) * 2017-09-20 2022-04-26 大日本印刷株式会社 構造体の製造方法、および構造体
JP7319106B2 (ja) * 2019-06-28 2023-08-01 株式会社ミツトヨ 格子部品およびその製造方法

Family Cites Families (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS61174502A (ja) * 1985-01-29 1986-08-06 Shimadzu Corp 軟x線用光学素子
JP3253716B2 (ja) * 1992-12-24 2002-02-04 キヤノン株式会社 貴金属単結晶群の適用品及びその製造方法

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