JP2009036432A - 蒸気調理器 - Google Patents

Abstract

【課題】低酸素状態で良好な調理ができるとともに利便性を向上できる蒸気調理器を提供する。
【解決手段】加熱室２０内に蒸気を供給して被加熱物Ｆを調理する蒸気調理器１において、加熱室２０の底面２０ａに溜まる水を排水孔１１１ａを介して排水する排水手段１１０を備え、排水手段１１０は環状に配される可撓性のチューブ１１２と、チューブ１１２の長手方向に沿って回転しながらチューブ１１２を順次押圧するローラー１２５とを有したチューブポンプ１２０から成り、流体を一方向に搬送するとともに逆方向の流体の流通を阻止する。チューブポンプ１２０は調理開始から所定期間が経過して調理終了前に駆動される。
【選択図】図５

Description

本発明は、加熱室内に蒸気を噴出して被加熱物の調理を行う蒸気調理器に関する。

従来の蒸気調理器は特許文献１に開示されている。この蒸気調理器は過熱蒸気を加熱媒体とし、加熱室内に配された受皿上に被加熱物が載置される。加熱室の側方には水タンクが配され、水タンクから給水路を介して蒸気発生装置に給水される。蒸気発生装置は供給された水によって蒸気を生成して蒸気昇温装置に送出する。蒸気昇温装置は蒸気を更に加熱して過熱蒸気を生成し、過熱蒸気を加熱室に噴出して低酸素状態で被加熱物の調理が行われる。これにより、被加熱物の酸化を防止し、脂質の酸化による臭いの発生や味の劣化を防止して良好な調理を行うことができる。

特開２００５−６１８１６号公報

しかしながら、上記従来の蒸気調理器によると、低酸素状態を維持するために大量の過熱蒸気を加熱室に噴出すると蒸気の結露による結露水が加熱室の底面に溜まる。このため、調理終了時に加熱室の底面に溜まった結露水を拭き取る作業が必要となり、蒸気調理器の利便性が悪い問題があった。

本発明は、低酸素状態で良好な調理ができるとともに利便性を向上できる蒸気調理器を提供することを目的とする。

上記目的を達成するために本発明は、加熱室内に蒸気を供給して被加熱物を調理する蒸気調理器において、前記加熱室の底面に溜まる水を排水孔を介して排水する排水手段を備え、前記排水手段は流体を一方向に搬送するとともに逆方向の流体の流通を阻止し、調理開始から所定期間が経過して調理終了前に駆動されることを特徴としている。

この構成によると、加熱室には蒸気が供給され、低酸素状態で調理が行われる。調理開始から所定期間が経過すると加熱室の底面には蒸気の結露による結露水が溜まり、排水手段により排水される。排水手段は加熱室への外気の侵入を阻止し、加熱室内の低酸素状態が維持される。

また本発明は上記構成の蒸気調理器において、前記排水手段は、環状に配される可撓性のチューブと、前記チューブの長手方向に沿って回転しながら前記チューブを順次押圧するローラーとを有したチューブポンプを備えることを特徴としている。この構成によると、環状に配されたチューブに沿ってローラーが回転し、チューブ内の水が一方向に押し出される。

また本発明は上記構成の蒸気調理器において、複数の前記ローラーを周方向に並設したことを特徴としている。この構成によると、一のローラーがチューブから離れた際に他のローラーによってチューブが押圧される。

また本発明は上記構成の蒸気調理器において、蒸気発生用の水の消費量を検知し、所定量消費した際に前記排水手段を駆動したことを特徴としている。この構成によると、蒸気発生用の水を溜める水タンクや加熱容器の水位を検知し、所定量の水が消費されると排水手段により排水が開始される。

また本発明は上記構成の蒸気調理器において、前記排水孔が前記加熱室の底面から離れて下向きに開口するとともに前記加熱室の底面の液滴の状態を検知する液滴センサを設け、液滴が面状に繋がった際に前記排水手段を駆動したことを特徴としている。この構成によると、加熱室の底面に結露水が面状に繋がったことを液滴センサにより検知すると、排水手段により排水が開始される。

また本発明は上記構成の蒸気調理器において、前記加熱室の底面の離れた地点間の抵抗値により液滴の状態を検知することを特徴としている。

また本発明は上記構成の蒸気調理器において、前記排水孔が前記加熱室の底面から離れて下向きに開口することを特徴としている。この構成によると、排水孔は加熱室の底面から所定の隙間を介して離れた配管の開口部から成り、加熱室の底面に溜まる水が排水孔から吸引して排水される。

また本発明は上記構成の蒸気調理器において、前記排水手段は、前記加熱室の底面上の結露水が表面張力によって面状に繋がった状態が維持される速度で前記排水孔から吸引することを特徴としている。この構成によると、表面張力により面状に繋がる結露水は排水孔から徐々に吸い出され、排水孔から離れた位置の結露水が排水孔に引き寄せられる。

また本発明は上記構成の蒸気調理器において、調理終了後に前記排水手段を所定期間駆動したことを特徴としている。

また本発明は上記構成の蒸気調理器において、前記加熱室の底面に配される加熱ヒータを備え、前記排水手段の停止後に前記加熱ヒータを駆動したことを特徴としている。この構成によると、加熱室の底面に残留する結露水が加熱ヒータによって蒸発する。

また本発明は上記構成の蒸気調理器において、前記加熱室は気密性を有し、蒸気の供給によって酸素濃度が大気よりも低いことを特徴としている。

本発明によると、流体を一方向に搬送して逆方向の流体の流通を阻止する排水手段により加熱室の底面に溜まる水を排水するので、調理後に加熱室の底面を拭き取る作業を必要とせず蒸気調理器の利便性を向上することができる。また、加熱室への外気の流入が阻止され、加熱室を低酸素状態に維持して良好な調理を行うことができる。更に、調理開始から所定期間が経過して調理終了前に排水手段が駆動されるので、結露水が溜まるまで排水手段を停止して電力消費を抑制するとともに調理の終了後迅速に排水を終えることができる。

また本発明によると、排水手段がチューブポンプを備えるので、加熱室から結露水を排水して加熱室への外気の流入を阻止する排水手段を容易に実現することができる。

また本発明によると、チューブポンプは複数のローラーが周方向に並設されるので、チューブが常にローラーにより押圧される。従って、外気の流入を確実に阻止することができる。

また本発明によると、蒸気発生用の水の消費量を検知し、所定量消費した際に排水手段を駆動したので、結露水が溜まるまでの期間を正確に検知して電力消費を抑制することができる。

また本発明によると、液滴センサの検知により加熱室の底面の液滴が面状に繋がった際に排水手段を駆動したので、結露水が溜まるまでの期間を正確に検知して電力消費を抑制することができる。

また本発明によると、液滴センサは加熱室の底面の離れた地点間の抵抗値により液滴の状態を検知するので、液滴が面状に繋がった状態を容易に検知することができる。

また本発明によると、加熱室の底面から離れて下向きに開口するので、加熱室の底面に溜まる水に含まれた異物が排水手段に侵入することが防止される。従って、排水手段の異物による詰まりを防止することができる。

また本発明によると、排水手段が加熱室の底面上の結露水が表面張力によって面状に繋がった状態が維持される速度で排水孔から吸引するので、加熱室の底面に残留する結露水を低減することができる。

また本発明によると、調理終了後に排水手段を所定期間駆動したので、加熱室の底面に残留する結露水を低減することができる。

また本発明によると、排水手段の停止後に加熱室の底面に配される加熱ヒータを駆動したので、加熱室の底面に残留する結露水を低減することができる。

以下に本発明の実施形態を図面を参照して説明する。図１、図２は一実施形態の蒸気調理器を示す正面図及び側面図である。蒸気調理器１は過熱蒸気によって被加熱物を調理する。蒸気調理器１は直方体形状のキャビネット１０を備えている。キャビネット１０の正面には扉１１が設けられる。

扉１１は下端を中心に垂直面内で回動可能に枢支され、上部には扉１１を開閉するためのハンドル１２が設けられている。扉１１の中央部１１Ｃには耐熱ガラスをはめ込んで内部を視認できる透過部１１ａ（図３参照）が設けられる。中央部１１Ｃの左右には金属製装飾板を表面に設けた左側部１１Ｌ及び右側部１１Ｒが対称的に配置されている。扉１１の右側部１１Ｒには操作パネル１３が設けられている。

図３は扉１１を開いた状態の蒸気調理器１の正面図を示している。扉１１はハンドル１２を把持して手前に引くと回動し、垂直な閉鎖状態から水平な開放状態へと９０゜姿勢を変えることができる。扉１１を開くとキャビネット１０の正面が露出する。

扉１１の中央部１１Ｃに対応する箇所には加熱室２０が設けられる。扉１１の左側部１１Ｌに対応する箇所には水タンク室７０が設けられ、蒸気発生用の水を貯溜する水タンク７１が収納される。扉１１の右側部１１Ｒに対応する箇所には特に開口部は設けられていないが、内部に制御基板（不図示）が配置されている。

加熱室２０は略直方体に形成され、扉１１に面した正面側の全面が被加熱物Ｆ（図５参照）を出し入れするための開口部２０ｄになっている。扉１１の回動により開口部２０ｄが開閉される。加熱室２０の壁面はステンレス鋼板で形成され、加熱室２０の外周面には断熱対策が施されている。

図４は加熱室２０内の詳細を示す正面図である。加熱室２０の側壁には複数の受皿支持部２０ｂ、２０ｃが異なる高さに設けられる。上段の受皿支持部２０ｂは反射部６８よりも下方に設けられる。受皿支持部２０ｂ、２０ｃの一方または両方にはステンレス鋼板製の受皿２１が係止される。受皿２１上には被加熱物Ｆを載置するステンレス鋼線製のラック２２が設置される。

過熱蒸気により調理を行う場合は、上段の受皿支持部２０ｂに受皿２１が設置される。これにより、後述するように反射部６８の反射によって被加熱物Ｆの下面に過熱蒸気を導くことができる。上段及び下段の受皿支持部２０ｂ、２０ｃに受皿２１を設置してもよい。これにより、一度に多くの被加熱物Ｆを調理することができる。

この時、受皿支持部２０ｂに配される受皿２１は通気性を有するように形成され、下段の受皿２１上の被加熱部の上面に過熱蒸気が供給される。また、下段の受皿２１上の被加熱部の下面は加熱室２０の底面に配された加熱ヒータ１０１（図５参照）により加熱される。

加熱室２０の奥側の背壁には左右方向の略中央部に吸気口２８が設けられ、左方下部に排気口３２ａが設けられる。反射部６８は加熱室２０の両側壁に凹設され、表面が曲面により形成されている。後述する噴出カバー６１から反射部６８に向けて側方に噴き出された過熱蒸気は反射部６８で反射して被加熱物Ｆ（図５参照）の下方に導かれるようになっている。

加熱室２０の天面には、過熱蒸気を噴き出すステンレス鋼板から成る噴出カバー６１が取り付けられる。噴出カバー６１の右側部の手前側には加熱室２０内を照明する照明装置６９が設けられる。

噴出カバー６１は平面視が矩形に対して前部の両コーナーが面取りされた略六角形に形成されている。噴出カバー６１は上下両面とも塗装等の表面処理によって暗色に仕上げられている。これにより、蒸気加熱ヒータ４１（図５参照）の輻射熱を吸収して噴出カバー６１の下面から加熱室２０に輻射される。

噴出カバー６１の底面及び周面には複数の噴気口６５、６６（図５参照）が設けられる。各噴気口６５、６６の周縁は筒状に形成され、噴気口６５、６６の軸方向に気流を案内することができる。

図５は蒸気調理器１の内部の概略構造を示している。同図において、加熱室２０は側面から見た図になっている。水タンク７１は前述の図３に示すように加熱室２０の左方に配され、ジョイント部５８を介してタンク水位検出容器９１と連通する。これにより、キャビネット１０（図２参照）に対して水タンク７１が着脱自在になっている。

タンク水位検出容器９１には水位センサ５６が設けられる。水位センサ５６は複数の電極を有し、電極間の導通により水位を検知する。本実施形態ではＧＮＤ電極と３本の検知電極によって水位を３段階に検知している。水位センサ５６の検知によって水タンク７１の水位が所定水位よりも低下すると、給水を促すように報知される。

タンク水位検出容器９１には給水路５５が底部まで延びて浸漬される。給水路５５は経路途中に給水ポンプ５７が設けられ、蒸気発生装置５０に接続される。蒸気発生装置５０は軸方向が垂直な筒型のポット５１を有し、給水ポンプ５７の駆動によって水タンク７１からポット５１に給水される。

ポット５１は金属、合成樹脂、セラミック或いはこれらの異種材料の組み合わせ等により筒型に形成され、耐熱性を有している。ポット５１内には螺旋状のシーズヒータから成る蒸気発生ヒータ５２が浸漬される。蒸気発生ヒータ５２の通電によってポット５１内の水が昇温され、蒸気が発生する。

ポット５１内には上面から螺旋状の蒸気発生ヒータ５２内に延びた筒状の隔離壁５１ａが設けられる。隔離壁５１ａにより蒸気発生ヒータ５２と隔離される水位検知室５１ｂが形成される。隔離壁５１ａはポット５１の底面に対して隙間を有するように形成され、水位検知室５１ｂの内部と外部とが連通して同じ水位に維持される。

水位検知室５１ｂ内にはポット５１内の水位を検知するポット水位検知部８１が設けられる。ポット水位検知部８１は複数の電極を有し、電極間の導通によりポット５１内の水位を検知する。蒸気発生ヒータ５２と水位検知室５１ｂとが隔離壁５１ａで隔離されるため、蒸気発生ヒータ５２に接した水の沸騰による発泡がポット水位検知部８１に伝えられにい。これにより、発泡による電極の導通を回避し、ポット水位検知部８１の検知精度を向上することができる。

尚、ポット５１の外周面にヒータ等を密着してポット５１内の水を昇温してもよい。この時、ポット５１の周壁はポット５１内の水を加熱する加熱手段を構成し、水位検知室５１ｂはポット５１の周壁に対して隔離して設けられる。また、蒸気発生ヒータ５２をＩＨヒータにより形成してもよい。

ポット５１の上面には後述する循環ダクト３５に接続される蒸気供給ダクト３４が導出される。ポット５１の周面の上部にはタンク水位検出容器９１に連結される溢水パイプ９８が設けられる。これにより、ポット５１の溢水が水タンク７１に導かれる。溢水パイプ９８の溢水レベルはポット５１内の通常の水位レベルよりも高く、蒸気供給ダクト３４よりも低い高さに設定されている。

ポット５１の下端には排水パイプ５３が導出される。排水パイプ５３の経路途中には排水バルブ５４が設けられている。排水パイプ５３は水タンク７１内に設けた排水貯溜部７１ａに向かって所定角度の勾配を有している。これにより、排水バルブ５４を開いてポット５１内の水を排水貯溜部７１ａに排水して貯溜し、水タンク７１を取り外して廃棄することができる。

加熱室２０の外壁には背面から上面に亙って循環ダクト３５が設けられる。循環ダクト３５は加熱室２０の背壁に形成された吸気口２８を開口し、加熱室２０の上方に配された蒸気昇温装置４０に接続される。蒸気昇温装置４０の下面は噴出カバー６１で覆われ、上面は上カバー４７で覆われる。

循環ダクト３５内には遠心ファンから成る送風ファン２６が設置され、蒸気供給ダクト３４は送風ファン２６の上流側に接続される。送風ファン２６の駆動によって蒸気発生装置５０により発生した蒸気は蒸気供給ダクト３４を介して循環ダクト３５に流入する。また、加熱室２０内の蒸気は吸気口２８から吸引され、循環ダクト３５を通って噴出カバー６１の噴気口６５、６６から噴き出されて循環する。蒸気の噴出しと吸引とを共通の送風ファン２６により行うので、蒸気調理器１のコスト増加を抑制することができる。

尚、通常の場合加熱室２０内の気体は空気であるが、蒸気調理を始めると空気が蒸気で置き換えられる。以下の説明において、加熱室２０内の気体が蒸気に置き換わっているものとする。

循環ダクト３５の上部には電動式のダンパ４８を介して分岐する排気ダクト３３が設けられる。排気ダクト３３は外部に臨む開放端を有し、ダンパ４８を開いて送風ファン２６を駆動することにより加熱室２０内の蒸気を強制排気する。また、加熱室２０の下部には排気口３２ａを介して連通する排気ダクト３２が導出される。排気ダクト３２はステンレス鋼等の金属から成り、外部に臨む開放端を有して加熱室２０内の蒸気を自然排気する。

蒸気昇温装置４０はシーズヒータから成る蒸気加熱ヒータ４１を備え、蒸気発生装置５０で発生した蒸気を更に加熱して過熱蒸気を生成する。蒸気昇温装置４０は平面的に見て加熱室２０の天井部の中央部に配置される。また、加熱室２０の天面に対して面積が狭く、小さい容積に形成して高い加熱効率が得られるようになっている。

加熱室２０の側方の下部には加熱室２０の底面２０ａに溜まる結露水を排水する排水部１１０（排水手段）が設けられる。排水部１１０は排水トレイ１１４、配管１１１、１１３及びチューブポンプ１２０を備えている。排水トレイ１１４は扉１１の下方に着脱自在に配され、排水部１１０で搬送された結露水を貯溜する。また、扉１１の内面に付着した結露水が扉１１を開いた際に流下して排水トレイ１１４に貯留されるようになっている。

配管１１１は加熱室２０の側壁に突設して屈曲した樹脂製のパイプから成る（解りやすくするため図５では背壁に描いている）。配管１１１の先端は加熱室２０の底面２０ａと隙間を介して離れ、下向きに開口した排水孔１１１ａを形成する。排水孔１１１ａには網状のフィルター（不図示）が設けられている。

配管１１３は樹脂製のパイプから成り、排水トレイ１１４に対向して開口する。チューブポンプ１２０はシリコンゴム等から成る可撓性のチューブ１１２を保持し、配管１１１、１１３の間がチューブ１１２により連結される。

図６は排水部１１０の平面図を示している。チューブポンプ１２０はモータ１２１及び流体搬送部１２２から成っている。図７は流体搬送部１２２の平面図を示している。流体搬送部１２２は樹脂成形品から成るハウジング１２３を有している。ハウジング１２３は有底筒状に形成され、円筒状の周壁の一部を開口してチューブ１１２を挿通する挿通部１２３ａが設けられる。

ハウジング１２３内には樹脂成形品から成る円形の回転板１２４が配される。回転板１２４は軸部１２４ａをモータ１２１に接続して回転する。回転板１２４には軸方向に延びた複数のローラー１２５が周方向に一定間隔で突設される。ローラー１２５は軸部１２５ａを中心に回転自在になっている。

チューブ１１２は挿通部１２３ａを介してハウジング１２３の内周壁に沿って環状に配される。ハウジング１２３とローラー１２５との間はチューブ１１２の外径よりも狭く形成され、チューブ１１２がローラー１２５により押圧される。尚、ハウジング１２３の軸方向の一端の開口部は蓋部（不図示）により覆われる。

モータ１２１の駆動によって回転板１２４が矢印Ａの方向に回転すると、チューブ１１２の長手方向に沿ってローラー１２５が回転しながらチューブ１１２を順次押圧する。これにより、チューブ１１２内の流体が一方向に順次押し出されて搬送され、逆方向の流体の流通が阻止される。

複数のローラー１２５を周方向に並設したので、一のローラー１２５がチューブ１１２から離れた際に他のローラー１２５によってチューブ１１２が押圧される。従って、チューブ１１２が常にローラー１２５により押圧され、外気の流入を確実に阻止することができる。

これにより、加熱室２０の底面２０ａに溜まる結露水は排水孔１１１ａから吸引され、排水トレイ１１４に搬送される。排水トレイ１１４に溜まった水は排水トレイ１１４を脱着して廃棄される。尚、チューブポンプ１２０により結露水を水タンク７１の排水貯溜部７１ａに搬送してもよい。これにより、排水貯溜部７１ａ内の水を水タンク７１の給水時に廃棄することができ、蒸気調理器１の利便性を向上することができる。

加熱室２０は気密性の高い構造に形成され、外気の流入を防止して酸素濃度が大気よりも低い低酸素調理が可能になっている。上記したように加熱室２０には必要最小限の排水孔１１１ａ、吸気口２８、噴気口６５、６６及び排気口３２ａが開口している。排水孔１１１ａを介した加熱室２０への外気の流入は上記のチューブポンプ１２０により阻止される。

吸気口２８及び噴気口６５、６６は循環ダクト３５に接続される排気ダクト３３を介して外部と連通する。加熱室２０に蒸気が供給される間はダンパ４８が閉じられるため、吸気口２８及び噴気口６５、６６を介した外気の流入が阻止される。また、循環ダクト３５内の送風ファン２６の排気側に排気ダクト３３が接続される。送風ファン２６の吸気側に排気ダクト３３が接続されないため、吸気口２８及び噴気口６５、６６を介した外気の流入がより確実に阻止される。

排気口３２ａは排気ダクト３２を介して外部に連通する。加熱室２０の内部は調理中に蒸気が充満して内圧が大気圧よりも高くなっている。これにより、排気口３２ａを介した外気の流入が阻止される。また、蒸気は空気よりも軽いため加熱室２０の上部から充満する。排気口３２ａは加熱室２０の下部に配されるため、空気が容易に排出されて加熱室２０に残存する空気が低減される。従って、加熱室２０内を効率よく蒸気で充満し、酸素濃度をより低下させることができる。

図８は蒸気調理器１の制御構成を示すブロック図である。蒸気調理器１はマイクロプロセッサ及びメモリを有した制御装置８０を備えている。制御装置８０には送風ファン２６、蒸気加熱ヒータ４１、ダンパ４８、蒸気発生ヒータ５２、排水バルブ５４、給水ポンプ５７、操作パネル１３、ポット水位検知部８１、タンク水位検知部５６、温度センサ８２、湿度センサ８３、チューブポンプ１２０が接続される。制御装置８０によって所定のプログラムに従って各部を制御して、蒸気調理器１が駆動される。

操作パネル１３は表示部（不図示）を有し、制御状況を表示部に表示する。また、操作パネル１３に配置した各種操作キーを通じて動作指令の入力を行う。操作パネル１３には各種の音を出す音発生装置（不図示）も設けられている。温度センサ８２は加熱室２０内の温度を検知する。湿度センサ８３は加熱室２０内の湿度を検知する。

上記構成の蒸気調理器１において、扉１１を開けて水タンク７１を水タンク室７０から引き出して、水タンク７１内に水が入れられる。満水状態にした水タンク７１は水タンク室７０に押し込まれ、ジョイント部５８によりタンク水位検出容器９１に連結される。被加熱物Ｆをラック２２上に載置して扉１１を閉じ、操作パネル１３が操作される。操作パネル１３に表示されるメニューを選択してスタートキー（不図示）を押下することにより調理シーケンスが開始する。これにより、給水ポンプ５７が運転を開始し、蒸気発生装置５０に給水される。この時、排水バルブ５４は閉じられている。

給水ポンプ５７の駆動により給水路５５を介してポット５１内に給水され、ポット５１が所定の水位になるとポット水位検知部８１の検知によって給水が停止される。この時、タンク水位検知部５６により水タンク７１の水位が監視され、水タンク７１に調理に必要十分な水がない場合は警告が報知される。所定量の水がポット５１に入れられると蒸気発生ヒータ５２に通電され、蒸気発生ヒータ５２はポット５１内の水を直接加熱する。

蒸気発生ヒータ５２の通電と同じ時期、またはポット５１内の水が所定温度に到達する時期に、送風ファン２６及び蒸気加熱ヒータ４１が通電される。送風ファン２６の駆動により吸気口２８から加熱室２０内の蒸気が循環ダクト３５に吸い込まれる。また、ポット５１内の水が沸騰すると１００℃且つ１気圧の飽和蒸気が発生し、飽和蒸気が蒸気供給ダクト３４を介して循環ダクト３５に流入する。この時、ダンパ４８は閉じられている。送風ファン２６から圧送された蒸気は循環ダクト３５を流通して蒸気昇温装置４０に流入する。

蒸気昇温装置４０に流入した蒸気は蒸気加熱ヒータ４１により熱せられて１００℃以上の過熱蒸気となる。通常、１５０℃から３００℃にまで昇温した過熱蒸気が使用される。過熱蒸気の一部は噴気孔６５から真下方向（矢印Ｂ）に噴き出される。これにより、被加熱物Ｆの上面が過熱蒸気と接触する。また、過熱蒸気の一部は噴気口６６から側方の斜め下方向に向けて噴き出される。側方に噴き出された過熱蒸気は反射部６８で反射し、被加熱物Ｆの下方に導かれる。これにより、被加熱物Ｆの下面が過熱蒸気と接触する。

被加熱物Ｆの表面が１００℃以下の場合は、過熱蒸気が被加熱物Ｆの表面で凝縮する。この凝縮熱は、５３９ｃａｌ／ｇと大きいため、対流伝熱に加えて被加熱物Ｆに大量の熱を与えることができる。

また、噴出カバー６１の前部に形成される噴気口６６から扉１１に向けて斜め下方向に過熱蒸気の一部が噴き出される。加熱室２０内の蒸気は送風ファン２６によって吸気口２８から吸引される。この吸引力によって前方に向けて噴き出された過熱蒸気の気流が曲げられて後方に導かれる。これにより、過熱蒸気は一部が被加熱物Ｆの上面の前部に衝突するとともに、一部が前方から被加熱物Ｆの下方に導かれる。その結果、過熱蒸気が加熱室２０の前部に行き渡って被加熱物Ｆの前部の加熱不足を防止し、被加熱物Ｆを均一に調理することができる。

また、加熱室２０内の過熱蒸気が吸気口２８から吸引されるため、扉１１に直接当たる高温の過熱蒸気を減らすことができる。従って、扉１１の加熱を抑制して耐熱性の高い扉１１を使用する必要がなく、蒸気調理器１のコスト増加を防止することができる。

送風ファン２６の吸引力を小さくすると、前方に噴き出された過熱蒸気の気流が加熱室２０の下部で曲げられる。これにより、被加熱物Ｆの下面により多くの過熱蒸気を導くことができる。送風ファン２６の吸引力を大きくすると、前方に噴き出された過熱蒸気の気流が加熱室２０の上部で曲げられる。これにより、被加熱物Ｆの上面により多くの過熱蒸気を導くことができる。

時間の経過に伴って加熱室２０内の蒸気量が増加すると、余剰となった蒸気は排気ダクト３２を通じて外部に放出される。

噴気口６５、６６から噴き出された過熱蒸気は被加熱物Ｆに熱を与えた後、吸気口２８から循環ダクト３５内に吸引され、蒸気昇温装置４０に流入する。これにより、加熱室２０内の蒸気は循環を繰り返して調理が行われる。

図９は排水部１１０による排水処理の動作を示すフローチャートである。ステップ＃１１では調理を開始してから所定時間が経過するまで待機する。所定時間が経過すると加熱室２０の底面２０ａに結露水が溜まったと判断し、ステップ＃１２でチューブポンプ１２０が駆動される。これにより、加熱室２０の底面２０ａに溜まる結露水が排水トレイ１１４に排水される。

この時、チューブポンプ１２０は、底面２０ａに溜まる結露水が表面張力により面状に繋がった状態を維持して排水孔１１１ａの方向に吸引されるように低回転数で駆動される。これにより、加熱室２０の底面２０ａに残留する結露水を低減することができる。水タンク７１またはポット５１内の水の減少速度を監視し、チューブポンプ１２０を減少速度に応じた回転数に可変して駆動してもよい。

ステップ＃１３では調理終了まで待機する。調理が終了するとステップ＃１４に移行し、所定時間が経過するまで待機してチューブポンプ１２０が継続して駆動される。所定時間が経過するとステップ＃１５でチューブポンプ１２０が停止される。ステップ＃１６では加熱ヒータ１０１が駆動され、ステップ＃１７で所定時間が経過するまで待機する。これにより、加熱室２０の底面２０ａに残留する結露水を蒸発させる。所定時間が経過するとステップ＃１８に移行して加熱ヒータ１０１が停止される。

そして、制御装置８０によって操作パネル１３の表示部に調理の終了を表示するとともに合図音が報知される。調理終了を知らされた使用者によって扉１１が開かれると、ダンパ４８が開いて加熱室２０内の蒸気が排気ダクト３３から急速に強制排気される。これにより、使用者は高温の蒸気に触れずに、安全に加熱室２０内から被加熱物Ｆを取り出すことができる。

本実施形態によると、流体を一方向に搬送して逆方向の流体の流通を阻止するチューブポンプ１２０を有した排水部１１０（排水手段）により加熱室２０の底面２０ａに溜まる水を排水するので、調理後に加熱室２０の底面２０ａを拭き取る作業を必要とせず蒸気調理器１の利便性を向上することができる。また、加熱室２０への外気の流入が阻止され、加熱室２０を低酸素状態に維持して良好な調理を行うことができる。更に、調理開始から所定時間が経過して調理終了前に排水部１１０が駆動されるので、結露水が溜まるまで排水部１１０を停止して電力消費を抑制するとともに調理の終了後迅速に排水を終えることができる。

また、排水孔１１１ａを加熱室２０の底面２０ａに開口して設けてもよいが、本実施形態のように加熱室２０の底面２０ａから離れて下向きに開口して設けるとより望ましい。これにより、加熱室２０の底面２０ａに溜まる水に含まれた異物が排水部１１０に侵入することが防止される。従って、排水部１１０の異物による詰まりを防止することができる。また、排水孔１１１ａにフィルターを設けたので、フィルターにより異物を捕集して排水部１１０の異物による詰まりをより確実に防止することができる。

次に、第２実施形態について説明する。本実施形態は前述の図１〜図９に示す第１実施形態と同様に構成され、排水部１１０の動作が異なっている。図１０は本実施形態の排水部１１０の排水処理の動作を示すフローチャートである。同図において、前述の図９に示す第１実施形態の排水部１１０の動作に対してステップ＃１１の動作が異なっている。その他の部分は第１実施形態と同様であるので説明を省略する。

ステップ＃１１ではタンク水位検知部５６の監視により、調理を開始してから水タンク７１の水位が所定位置まで低下するまで待機する。水タンク７１の水位が低下すると蒸気発生用の水を所定量消費して加熱室２０の底面２０ａに結露水が溜まったと判断し、ステップ＃１２でチューブポンプ１２０が駆動される。これにより、加熱室２０の底面２０ａに溜まる結露水が排水トレイ１１４に排水される。ポット５１の水位を監視して蒸気発生用の水を所定量消費したか否かを判断してもよい。

本実施形態によると、第１実施形態と同様の効果を得ることができる。更に、蒸気発生用の水の消費量を検知し、所定量消費した際に排水部１１０を駆動したので、結露水が溜まるまでの期間を正確に検知して電力消費を抑制することができる。

次に、図１１は第３実施形態の蒸気調理器の加熱室の底面を示す平面図である。説明の便宜上、前述の図１〜図９に示す第１実施形態と同様の部分には同一の符号を付している。加熱室２０の底面２０ａには配管１１１の排水孔１１１ａ（図５参照）近傍に電極１０４が設けられる。また、電極１０４から離れた地点の底面２０ａの中央部に電極１０５が設けられる。

加熱室２０の底面２０ａに結露水Ｗが溜まってくると液滴が面状に繋がる。これにより、電極１０４、１０５が導通し、排水孔１１１ａ近傍と排水孔１１１ａから離れた地点とが結露水で覆われていることを検知することができる。即ち、電極１０４、１０５は加熱室２０の底面２０ａの液滴の状態を検知する液滴センサを構成する。排水部１１１は液滴センサの検知結果に基づいて駆動される。

図１２は排水部１１０の排水処理の動作を示すフローチャートである。同図において、前述の図９に示す第１実施形態の排水部１１０の動作に対してステップ＃１１の動作が異なっている。その他の部分は第１実施形態と同様であるので説明を省略する。

ステップ＃１１では電極１０４、１０５間の抵抗値を監視し、電極１０４、１０５が導通して結露水の液滴が繋がって面状になるまで待機する。電極１０４、１０５が導通して結露水の液滴が繋がって面状になったと判断すると、ステップ＃１２でチューブポンプ１２０が駆動される。これにより、加熱室２０の底面２０ａに溜まる結露水が排水トレイ１１４に排水される。

本実施形態によると、第１実施形態と同様の効果を得ることができる。また、電極１０４、１０５から成る液滴センサの検知により加熱室２０の底面２０ａの液滴が面状に繋がった際に排水部１１０を駆動したので、結露水が溜まるまでの期間を正確に検知して電力消費を抑制することができる。尚、加熱室２０の底面２０ａのイメージを監視することにより、液滴が繋がって面状になったことを検知する液滴センサを構成してもよい。

第１〜第３実施形態において、加熱室２０の底面２０ａを排水孔１１１ａに向かって下がるように傾斜してもよい。これにより、底面２０ａの結露水を排水孔１１１ａに導き、加熱室２０の底面２０ａに残留する結露水を低減することができる。

また、加熱室２０の底面２０ａの傾斜状態を検出する水準器を設けるとより望ましい。これにより、加熱室２０の底面２０ａが水平または排水孔１１１ａに向かって下がるように水準器により監視して蒸気調理器１が設置される。従って、排水孔１１１ａから離れる方向に結露水が流れることを防止し、確実に結露水を排水することができる。

また、第１〜第３実施形態はチューブポンプ１２０によって流体を一方向に搬送して逆方向の流体の流通を阻止しているが、他の構成にしてもよい。例えば、水を搬送するポンプと、該ポンプに接続される逆止弁とを設けてもよい。これにより、加熱室２０の底面２０ａに溜まる水がポンプにより排水され、加熱室２０への外気の侵入が逆止弁により阻止される。

本発明は、加熱室内に蒸気を噴出して被加熱物の調理を行う家庭用や業務用の蒸気調理器に利用することができる。

本発明の第１実施形態の蒸気調理器を示す正面図 本発明の第１実施形態の蒸気調理器を示す側面図 本発明の第１実施形態の蒸気調理器の扉を開いた状態を示す正面図 本発明の第１実施形態の蒸気調理器の加熱室を示す正面図 本発明の第１実施形態の蒸気調理器の内部構造を示す図 本発明の第１実施形態の蒸気調理器の排水部を示す平面図 本発明の第１実施形態の蒸気調理器の排水部の流体搬送部を示す平面図 本発明の第１実施形態の蒸気調理器の構成を示すブロック図 本発明の第１実施形態の蒸気調理器の排水部の動作を示すフローチャート 本発明の第２実施形態の蒸気調理器の排水部の動作を示すフローチャート 本発明の第３実施形態の蒸気調理器の加熱室の底面を示す平面図 本発明の第３実施形態の蒸気調理器の排水部の動作を示すフローチャート

符号の説明

１ 蒸気調理器
１１ 扉
２０ 加熱室
２１ 受皿
２６ 送風ファン
２８ 吸気口
３１ 排気ファン
３２、３３ 排気ダクト
３４ 蒸気供給ダクト
３５ 循環ダクト
４０ 蒸気昇温装置
４１ 蒸気加熱ヒータ
４８ ダンパ
５０ 蒸気発生装置
５１ ポット
５２ 蒸気発生ヒータ
５４ 排水バルブ
５５ 給水路
５６ タンク水位検知部
５７ 給水ポンプ
６１ 噴出カバー
６５、６６ 噴気口
６８ 反射部
７１ 水タンク
７１ａ 排水貯溜部
８１ ポット水位検知部
９１ タンク水位検出容器
１０１ 加熱ヒータ
１０４、１０５ 電極
１１０ 排水部
１１１、１１３ 配管
１１１ａ 排水孔
１１２ チューブ
１１４ 排水トレイ
１２０ チューブポンプ
１２１ モータ
１２２ 流体搬送部
１２３ ハウジング
１２４ 回転板
１２５ ローラー
Ｆ 被加熱物

Claims (11)

1. 加熱室内に蒸気を供給して被加熱物を調理する蒸気調理器において、前記加熱室の底面に溜まる水を排水孔を介して排水する排水手段を備え、前記排水手段は流体を一方向に搬送するとともに逆方向の流体の流通を阻止し、調理開始から所定期間が経過して調理終了前に駆動されることを特徴とする蒸気調理器。
2. 前記排水手段は、環状に配される可撓性のチューブと、前記チューブの長手方向に沿って回転しながら前記チューブを順次押圧するローラーとを有したチューブポンプを備えることを特徴とする請求項１に記載の蒸気調理器。
3. 複数の前記ローラーを周方向に並設したことを特徴とする請求項２に記載の蒸気調理器。
4. 蒸気発生用の水の消費量を検知し、所定量消費した際に前記排水手段を駆動したことを特徴とする請求項１〜請求項３のいずれかに記載の蒸気調理器。
5. 前記加熱室の底面の液滴の状態を検知する液滴センサを設け、液滴が面状に繋がった際に前記排水手段を駆動したことを特徴とする請求項１〜請求項３のいずれかに記載の蒸気調理器。
6. 前記液滴センサは、前記加熱室の底面の離れた地点間の抵抗値により液滴の状態を検知することを特徴とする請求項５に記載の蒸気調理器。
7. 前記排水孔が前記加熱室の底面から離れて下向きに開口することを特徴とする請求項１〜請求項６のいずれかに記載の蒸気調理器。
8. 前記排水手段は、前記加熱室の底面上の結露水が表面張力によって面状に繋がった状態が維持される速度で前記排水孔から吸引することを特徴とする請求項７に記載の蒸気調理器。
9. 調理終了後に前記排水手段を所定期間駆動したことを特徴とする請求項１〜請求項８のいずれかに記載の蒸気調理器。
10. 前記加熱室の底面に配される加熱ヒータを備え、前記排水手段の停止後に前記加熱ヒータを駆動したことを特徴とする請求項１〜請求項９のいずれかに記載の蒸気調理器。
11. 前記加熱室は気密性を有し、蒸気の供給によって酸素濃度が大気よりも低いことを特徴とする請求項１〜請求項１０のいずれかに記載の蒸気調理器。

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