JP2009033208A - 積層型光起電力素子の製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】光の入射側から順に第1の光起電力素子305と第2の光起電力素子303とを積層した組を少なくとも一組積層して成る積層型光起電力素子300であって、少なくとも一組の第1の光起電力素子305と第2の光起電力素子303との間に、これらを電気的に導通接続する選択反射層304を備え、選択反射層304のシート抵抗が100kΩ/□以上100MΩ/□以下である。
【選択図】図1
Description
少なくとも一組の第1の光起電力素子と第2の光起電力素子との間に、これらを電気的に導通接続する選択反射層を備え、該選択反射層のシート抵抗が100kΩ/□以上100MΩ/□以下であることを特徴とする。
さらに、前記選択反射層が酸化金属の堆積膜であることが好ましい。
そして、前記第1の光起電力素子が少なくともpin型接合を有し、そのi型層が非晶質Si:Hであることが好ましい。
加えて、前記第2の光起電力素子が少なくともpin型接合を有し、そのi型層が結晶質を含むSiであることが好ましい。
もしくは、前記第2の光起電力素子が少なくともpn型接合を有し、p型半導体およびn型半導体が、単結晶Si、多結晶Siまたは結晶質を含むSiであることが好ましい。
本発明の積層型光起電力素子300に用いる基板301は、導電性の基板としてはステンレス鋼板等の金属基板、また金属等を堆積させて導電性をもたせた絶縁性基板が適している。金属基板としてはフェライト系のステンレス鋼、絶縁基板としてはガラス、セラミックス、ポリイミドが好適に用いられる。また、基板側から光入射する場合には透光性絶縁性基板が用いられ、特にガラスが好適に用いられる。
本発明の積層型光起電力素子300に用いる反射層302には、Al、Ag、Au、Cu等の金属やこれらの合金の堆積膜が用いられる。また、乱反射をさせるために表面が凹凸であることが好ましい。反射層302の膜厚としては、10nm〜数μmが最適な範囲として挙げられる。また反射層302には、反射する光量を多くするために反射増加層を備えるのが望ましい。
本発明の積層型光起電力素子300に用いられる第2の光起電力素子303の接合には、pn接合、pin接合、MIS接合等が挙げられる。また、光活性層に用いられる半導体としては、IV族、III−V族、II−VI族、I−III−VI2族の単結晶、多結晶、微結晶、非晶質が用いられる。IV族としてはSi、Ge、及びこれらの合金、III−V族としてはGaAs、GaSb、InP、InAs、II−VI族としてはCdTe、Cu2S、I−III−VI2族としてはCuInSe2などが挙げられる。特にpn型単結晶Si、pin型非晶質SiGe:Hが好適に用いられる。さらに好適にはpin型微結晶Siが用いられる。さらに、非単結晶型の場合にはp層、n層は微結晶であることが望ましい。
本発明の積層型光起電力素子300に用いられる選択反射層304は、酸化インジウム、酸化錫、酸化インジウム錫、酸化亜鉛(ZnO)等の酸化金属膜が好適に用いられる。特に好適なものとしては酸化亜鉛(ZnO)が挙げられる。
本発明の積層型光起電力素子300に用いられる第1の光起電力素子305の接合には、pn接合、pin接合、MIS接合等が挙げられる。また光活性層に用いられる半導体としてはIV族、III−V族、II−VI族の単結晶、多結晶、微結晶、非晶質が用いられる。IV族としてはSi、Ge、C、及びこれらの合金、III−V族としてはAlAs、AlSb、GaN、GaP、GaAs、InP、II−VI族としてはZnSe、ZnS、ZnTe、CdS、CdSeなどが挙げられる。好適にはpin型非晶質Si:Hが用いられる。さらにp層、n層は微結晶であることが望ましい。
本発明の積層型光起電力素子300に用いられる透明電極306は、酸化インジウム、酸化錫、酸化インジウム錫が挙げられ、スパッタリング法、真空蒸着法、化学的気相成長法、イオンプレーティング法、イオンビーム法、およびイオンビームスパッタ法などで作製することができる。また、硝酸基や酢酸基やアンモニア基などと金属イオンからなる水溶液中からの電気析出法や浸漬法でも作製することができる。
本実施例は、第1の光起電力素子としてi層が真性非晶質Si:Hのpin型光起電力素子、第2の光起電力素子としてi層が真性微結晶Siのpin型光起電力素子、選択反射層として酸化亜鉛(ZnO)を形成して、図1に示したような積層型光起電力素子を作製した。
基板301には、縦横45mm×45mm、厚さ0.15mmの形状で、一般的に2D仕上げと呼ばれるステンレス鋼(SUS430)を使用し、市販の直流マグネトロンスパッタ装置(不図示)に設置し圧力が10-3Pa以下になるまで排気した。その後、アルゴンガスを30sccm(ここで1sccmとは流量の単位で1sccm=1cm3/min(標準状態)のことである。)供給し、圧力を2×10-1Paに保持した。基板は加熱せず、6inchφのアルミニウムターゲットに120Wの直流電力を印加し、90秒間で70nmの厚みのアルミニウム薄膜を形成した。
図4は、本発明に係る積層型光起電力素子の半導体層を作製するために好適な装置の一例を示す模式図である。図4において、堆積膜形成装置600は、ロードチャンバー601、n型層RFチャンバー602、微結晶シリコンi型層チャンバー603、アモルファスシリコンi型層RFチャンバー604、p型層RFチャンバー605、およびアンロードチャンバー606から主に構成されている。各チヤンバー間は、ゲートバルブ607、608、609、610、611で各原料ガスが混合しないように分離されている。
次に、基板ホルダー621から第2の光起電力素子まで作製した基板301を取り外し、選択反射層を形成するために図3に示すDCマグネトロンスパッタ装置700の基板ホルダー701上に設置し、圧力が10-3Pa以下になるまで排気した。基板ホルダー701は電気的に絶縁されており、サンプルである光起電力素子をフローティング状態にすることができる。その後、アルゴンガスを30sccm及び酸素ガスを表2に従い702のガス導入手段から0.2〜30sccm供給しながら圧力を2×10-1Paに保持した。引き続き、ヒーター703により基板温度を150℃となるように基板301を加熱し、6inchφの酸化亜鉛(ZnO)のターゲット704にDCスッパタ電源705から650Wの直流電力をそれぞれ同じ膜厚になるように時間を調節してスパッタリングを行い、膜厚約800nmの酸化亜鉛(ZnO)の選択反射層を堆積した。このとき、同時に45mm×45mmの石英基板とステンレス鋼(SUS430)基板を基板ホルダー701上に設置し、同じ酸化亜鉛(ZnO)の膜を堆積させ、電気特性測定用のサンプルを作成した。
次に、再び図4の堆積膜形成装置600を用いて、上記選択反射層が形成された基板301上に、第1の光起電力素子としてpin型非晶質Si:H光起電力素子を表1の条件に従って以下に述べるようにして作製した。
次に、基板301をDCマグネトロンスパッタ装置(不図示)のアノードの表面に取り付け、ステンレス鋼のマスクで試料の周囲を遮蔽して、中央部40mm×40mmの領域に10重量%の酸化錫と90重量%の酸化インジウムからなるターゲットを用いて透明電極として酸化インジウム錫膜をスパッタリングした。
その後、シャントパッシベーションを行うため、基板301を不図示のAlCl3水溶液電解質槽に入れ、基板301側を負極、対向電極を正極として正電圧3.5Vを印加時間1秒として断続的に6回印加し電解処理を行った。AlCl3水溶液の電気伝導度は68mS/cm(25℃)とし、また対向電極面積はサンプル面積と同程度とした。その後、サンプルを電解質槽内から取り出し、純水でサンプル表面の電解質溶液を十分に洗い流した後、温風オーブンで150℃の温度で30分乾燥した。
本比較例は、第一の光起電力素子と第二の光起電力素子との間に選択反射層がないこと以外は、実施例と全く同じ手順、及び同じ構成の積層型光起電力素子を作製した。
上記実施例において、反射層302のアルミニウム薄膜の成膜に用いた市販のDCマグネトロンスパッタ装置(不図示)を用い、ターゲットを酸化亜鉛(ZnO)に交換してアルゴンガスを30sccm、酸素ガスを13sccm、圧力を2×10-1Pa、基板温度を150℃、直流電力を500W、8分間印加して、膜厚約800nmの酸化亜鉛(ZnO)を第1の光起電力素子と第2の光起電力素子との間の選択反射層として作製した以外は、実施例と全く同じ手順、及び同じ構成の積層型光起電力素子を比較実施例として作製した。
最初に、選択反射層を形成している酸化亜鉛(ZnO)膜の各電気特性を測定した。本発明に用いられている酸化亜鉛(ZnO)膜はシート抵抗の値が比較的高く、値が低いサンプルでもkΩオーダーの抵抗値の測定になる。そのため、シート抵抗測定に通常用いられている4端子プローブ型のシート抵抗測定器は用いず、サンプルにギャップ電極を付けて電圧電流特性から抵抗値を求めた。最初に、石英基板上のサンプルにギャップ間隔250μm、チャンネル幅5cmのギャップ電極を真空蒸着によりCrを膜厚2μmで堆積させて形成した。電圧電流特性はHP社製の4140B Source Measurement Unitを用いてギャップ電極間に電圧を印加して電流を観測し測定を行った。これらの測定結果から得られたシート抵抗R(Ω/□)と、そこから計算した膜の面内方向の伝導率σ//(Ω-1cm-1)の酸素流量との関係のグラフを図5に示す。
301 基板
302 反射層
303 第2の光起電力素子
304 選択反射層
305 第1の光起電力素子
306 透明電極
401 光電流
402 短絡電流
403 接合面
404、405 電気的欠陥部
600 堆積膜形成装置
601 ロードチャンバー
602 n層チャンバー
603 微結晶i層チャンバー
604 非晶質i層チャンバー
605 p層チャンバー
606 アンロード室
607、608、609、610、611 ゲートバルブ
612 微結晶i層基板加熱用ヒーター
613 微結晶i層プラズマCVD室
614 n層基板加熱用ヒーター
615 n層プラズマCVD室
616 非晶質i層基板加熱用ヒーター
617 i層プラズマCVD室
618 p層基板加熱用ヒーター
619 p層プラズマCVD室
620 ホルダー搬送レール
621 基板ホルダー
700 DCマグネトロンスパッタ装置
701 基板ホルダー
702 ガス導入手段
703 ヒーター
704 ターゲット
705 DCスッパタ電源
Claims (8)
- 光の入射側から順に第1の光起電力素子と第2の光起電力素子とを積層した組を少なくとも一組積層して成る積層型光起電力素子であって、
少なくとも一組の第1の光起電力素子と第2の光起電力素子との間に、これらを電気的に導通接続する選択反射層を備え、該選択反射層のシート抵抗が100kΩ/□以上100MΩ/□以下であることを特徴とする積層型光起電力素子。 - 前記選択反射層のシート抵抗が、100kΩ/□以上50MΩ/□以下であることを特徴とする請求項1に記載の積層型光起電力素子。
- 前記選択反射層のシート抵抗が、5MΩ/□以上50MΩ/□以下であることを特徴とする請求項1に記載の積層型光起電力素子。
- 前記選択反射層の膜厚方向の伝導率が、膜の面内方向の伝導率より大きい値であることを特徴とする請求項1から3のいずれかに記載の積層型光起電力素子。
- 前記選択反射層が酸化金属の堆積膜であることを特徴とする請求項1から4のいずれかに記載の積層型光起電力素子。
- 前記第1の光起電力素子が少なくともpin型接合を有し、そのi型層が非晶質Si:Hであることを特徴とする請求項1から5のいずれかに記載の積層型光起電力素子。
- 前記第2の光起電力素子が少なくともpin型接合を有し、そのi型層が結晶質を含むSiであることを特徴とする請求項1から6のいずれかに記載の積層型光起電力素子。
- 前記第2の光起電力素子が少なくともpn型接合を有し、p型半導体およびn型半導体が単結晶Si、多結晶Siまたは結晶質を含むSiであることを特徴とする請求項1から6のいずれかに記載の積層型光起電力素子。
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