JP2009016465A - 窒化物半導体発光素子および窒化物半導体発光素子の製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】窒化物半導体基板であるn型GaN基板101と、n型GaN基板101上に形成されたp型窒化物半導体層を含む窒化物半導体層とを備え、p型AlGaInNコンタクト層108と、p型AlGaInNコンタクト層108の下のp型AlGaInNクラッド層107と、p型AlGaInN層106からなるp型窒化物半導体層に形成された電流注入領域の上方に、窒化シリコン膜から構成される保護膜113が形成されている。
【選択図】図1
Description
本発明の第1の実施形態について、図1および図2を参照しながら説明する。図1は、本発明の第1の実施形態にかかる窒化物半導体レーザチップの斜視図である。図2は、図1に示した窒化物半導体レーザチップを用いてパッケージ実装した窒化物半導体レーザ素子の概略図である。
AlkInlGamN ・・・(1)
式(1)中、kは0≦k≦1の正数であり、lは0≦l≦1の正数であり、mは0≦m≦1の正数であり、k、l、mは、k+l+m=1を満たす。
第1の実施形態にかかる窒化物半導体レーザ素子の比較として、保護膜113が形成されていない窒化物半導体レーザ素子を作製し、第1の実施形態と同様にチップ化し、比較例1の窒化物半導体レーザチップを形成した。そして、上記と同様に、保持基体(ステム)上にマウントして、比較例1の窒化物半導体レーザ素子を形成した。
第1の実施形態にかかる窒化物半導体レーザ素子、および、比較例1の窒化物半導体レーザ素子を用いて、エージング試験を行った。エージング試験は、温度70℃、湿度20%〜40%の大気雰囲気下で、印加電圧10mW、連続(CW)駆動の条件で行った。なお、第1の実施形態では、図2に示した状態、すなわち、キャップが取り付けられていない状態の窒化物半導体レーザ素子を用いて、エージング試験を行った。
保護膜113中の窒化シリコン膜の厚みが1μm〜500μmとなるように窒化物半導体レーザチップを作製し、得られた窒化物半導体レーザチップを用いて、窒化物半導体レーザ素子を作製した。
上記の窒化物半導体レーザ素子を用いて、温度70℃、湿度20%〜40%の大気雰囲気下で、印加電圧10mW、連続(CW)駆動の条件で、エージング試験を行った。なお、エージング試験は、上述と同様に、図2に示した状態、すなわち、キャップが取り付けられていない状態で行った。
上述のように、エージング試験を行い、1000時間以上の駆動で、電圧上昇を起こさなかった窒化物半導体レーザ素子の歩留まりを調査した。
次に、本発明の第2の実施形態について説明する。本発明の第2の実施形態では、保護膜113を、厚さ500nmの酸窒化シリコン膜(SiO1-xNx)の単層からなる保護膜113bとして、第2の実施形態にかかる窒化物半導体レーザ素子を作製した。この保護膜113bのオージェ解析を行った結果、保護膜113b(酸窒化シリコン膜(SiO1-xNx))の窒素の組成比xは、0.6であった。このような保護膜113bを有する第2の実施形態にかかる窒化物半導体レーザ素子を、上述の第1の実施形態と同様にしてエージング試験を行った。その結果、第2の実施形態にかかる窒化物半導体レーザ素子においても、第1の実施形態と同様に、エージングによる電圧上昇は見られず、長時間安定して動作できることが確認できた。なお、第2の実施形態において、保護膜113を保護膜113bとした以外は、第1の実施形態と同様の構成である。
次に、本発明の第3の実施形態について説明する。本発明の第3の実施形態では、保護膜113を、p型電極パッド110の上面に形成された厚さ300nmの酸窒化シリコン膜と、酸窒化シリコン膜の上面に形成された厚さ120nmの酸化シリコン膜の2層からなる保護膜113cとして、第3の実施形態にかかる窒化物半導体レーザ素子を作製した。この保護膜113cのオージェ解析の結果、保護膜113cに含まれる酸窒化シリコン膜(SiO1-xNx)の窒素の組成比xは0.8であった。このような保護膜113cを有する第3の実施形態にかかる窒化物半導体レーザ素子について、第1の実施形態と同様にして、エージング試験を行った。その結果、第3の実施形態にかかる窒化物半導体レーザ素子についても、エージングによる電圧上昇は見られず、長時間安定して動作できることが確認できた。なお、第3の実施形態において、保護膜113を保護膜113cとした以外は、第1の実施形態と同様の構成である。
次に、本発明の第4の実施形態について説明する。本発明の第4の実施形態では、保護膜113を、p型電極パッド110の上面に形成された厚さ50nmの酸化シリコン膜と、酸化シリコン膜の上面に形成された厚さ300nmの窒化シリコン膜の2層からなる保護膜113dとして、第4の実施形態にかかる窒化物半導体レーザ素子を作製した。このような保護膜113dを有する第4の実施形態にかかる窒化物半導体レーザ素子について、第1の実施形態と同様にして、エージング試験を行った。その結果、第4の実施形態にかかる窒化物半導体レーザ素子についても、エージングによる電圧上昇は見られず、長時間安定して動作できることが確認できた。なお、第4の実施形態において、保護膜113を保護膜113dとした以外は、第1の実施形態と同様の構成である。
次に、本発明の第5の実施形態について説明する。本発明の第5の実施形態では、保護膜113を、p型電極パッド110の上面に形成された厚さ50nmの酸化シリコン膜と、この酸化シリコン膜の上面に形成された厚さ300nmの窒化シリコン膜と、窒化シリコン膜の上面に形成された厚さ120nmの酸化シリコン膜の3層からなる保護膜113eとして、第5の実施形態にかかる窒化物半導体レーザ素子を作製した。このような保護膜113eを有する第5の実施形態にかかる窒化物半導体レーザ素子について、第1の実施形態と同様にして、エージング試験を行った。その結果、第5の実施形態にかかる窒化物半導体レーザ素子についても、エージングによる電圧上昇は見られず、長時間安定して動作できることが確認できた。なお、第5の実施形態において、保護膜113を保護膜113eとした以外は、第1の実施形態と同様の構成である。
次に、本発明の第6の実施形態について説明する。本発明の第6の実施形態では、保護膜113を、厚さ150nmの窒化シリコン膜の単層からなる保護膜113fとして、第6の実施形態にかかる窒化物半導体レーザ素子を作製した。このような保護膜113fを有する第6の実施形態にかかる窒化物半導体レーザ素子について、第1の実施形態と同様にして、エージング試験を行った。その結果、第6の実施形態にかかる窒化物半導体レーザ素子についても、エージングによる電圧上昇は見られず、長時間安定して動作できることが確認できた。なお、第6の実施形態において、保護膜113を保護膜113fとした以外は、第1の実施形態と同様の構成である。
次に、本発明の第7の実施形態について、図7を参照しながら説明する。図7は、本発明の第7の実施形態にかかる窒化物半導体レーザチップの斜視図である。本発明の第7の実施形態では、図7に示すように、リッジストライプ部111の全部と、リッジストライプ部111近傍であって、p型電極パッド110の上面の一部に保護膜116が形成されている。
次に、本発明の第8の実施形態について、図8を参照しながら説明する。図8は、本発明の第8の実施形態にかかる窒化物半導体レーザチップの斜視図である。本発明の第8の実施形態では、図8に示すように、電流注入領域であるリッジストライプ部111の一部と、p型電極パッド110の上面の一部を覆うように保護膜117が形成されている。すなわち、図8に示すように、保護膜117は、共振器方向(Y方向)の長さ(L2)が、共振器長(L1)(リッジストライプ部111の共振器方向の長さ)よりも短くなるように形成されている。
102 n型AlGaInNバッファ層
103 n型Al0.05Ga0.95InNクラッド層
104 n型AlGaInNガイド層104
105 AlGaInN多重量子井戸活性層
106 p型Al0.3Ga0.7InN層
107 p型Al0.05Ga0.95InNクラッド層
108 p型AlGaInNコンタクト層108
109 絶縁膜
110 p型パッド電極
111 リッジストライプ部
112 n型電極
113、116、117 保護膜
114 ワイヤーボンディング窓
115 p型電極
201、401 保持基体(ステム)
202、402 サブマウント
203、403 窒化物半導体レーザチップ
204、404 ワイヤー
205、405 ピン
206、407 ハンダ
407a ガラスレンズ
Claims (12)
- 窒化物半導体基板と、
前記窒化物半導体基板上に形成されたp型窒化物半導体層を含む窒化物半導体層とを備え、
前記窒化物半導体層は、電流が注入される電流注入領域を有しており、
前記電流注入領域の上方に、窒化シリコン膜および/または酸窒化シリコン膜から構成される保護膜が形成されていることを特徴とする窒化物半導体発光素子。 - 前記電流注入領域の上方に、電極および/または電極パッドが形成されており、前記保護膜は、前記電極および/または前記電極パッドの上方に形成されていることを特徴とする請求項1に記載の窒化物半導体発光素子。
- 前記電流注入領域が、リッジストライプ構造であることを特徴とする請求項1または2に記載の窒化物半導体発光素子。
- 窒化物半導体基板と、
前記窒化物半導体基板上に形成されたp型窒化物半導体層を含む窒化物半導体層とを備え、
前記p型窒化物半導体層の上方に、窒化シリコン膜および/または酸窒化シリコン膜から構成される保護膜が形成されていることを特徴とする窒化物半導体発光素子。 - 前記窒化シリコン膜または前記酸窒化シリコン膜の厚みが6nm以上であることを特徴とする請求項1〜4のいずれかに記載の窒化物半導体発光素子。
- 前記酸窒化シリコン膜が、一般式SiO1-xNxで表されるとき、前記酸窒化シリコン膜の窒素の組成比xが0.1以上であることを特徴とする請求項1〜5のいずれかに記載の窒化物半導体発光素子。
- 窒化物半導体基板上に、p型窒化物半導体層を含む窒化物半導体層を形成する工程と、
前記窒化物半導体層に、電流が注入される電流注入領域を形成する工程と、
前記電流注入領域の上方に、窒化シリコン膜および/または酸窒化シリコン膜から構成される保護膜を形成する工程とが含まれていることを特徴とする窒化物半導体発光素子の製造方法。 - 前記電流注入領域の上方に、電極および/または電極パッドを形成する工程と、
前記電極および/または前記電極パッドの上方に、前記保護膜を形成する工程とが含まれていることを特徴とする請求項7に記載の窒化物半導体発光素子の製造方法。 - 前記電流注入領域がリッジストライプ構造となるように、前記窒化物半導体層にリッジストライプ構造を形成する工程が含まれていることを特徴とする請求項7または8に記載の窒化物半導体発光素子の製造方法。
- 窒化物半導体基板上に、p型窒化物半導体層を含む窒化物半導体層を形成する工程と、
前記p型窒化物半導体層の上方に、窒化シリコン膜および/または酸窒化シリコン膜から構成される保護膜を形成する工程とが含まれていることを特徴とする窒化物半導体発光素子の製造方法。 - 前記窒化シリコン膜または前記酸窒化シリコン膜の厚みが6nm以上となるように、前記窒化シリコン膜または前記酸窒化シリコン膜を形成する工程が含まれていることを特徴とする請求項7〜10のいずれかに記載の窒化物半導体発光素子の製造方法。
- 前記酸窒化シリコン膜が、一般式SiO1-xNxで表されるとき、前記酸窒化シリコン膜の窒素の組成比xが0.1以上となるように、前記酸窒化シリコン膜を形成する工程が含まれていることを特徴とする請求項7〜11のいずれかに記載の窒化物半導体発光素子の製造方法。
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