JP2009009024A

JP2009009024A - 帯電部材の製造方法

Info

Publication number: JP2009009024A
Application number: JP2007172089A
Authority: JP
Inventors: Masataka Kodama; 真隆児玉; Nozomi Takahata; 望高畑; Satoshi Yamada; 聡山田
Original assignee: Canon Inc
Current assignee: Canon Inc
Priority date: 2007-06-29
Filing date: 2007-06-29
Publication date: 2009-01-15

Abstract

【課題】優れた特性を有する高画質化、カラー化、及び長寿命化に適した帯電部材を提供する。
【解決手段】導電性芯軸の上に弾性層を有する帯電部材の弾性層を、ポリエーテル共重合体とアクリロニトリルブタジエンゴムと過塩素酸４級アンモニウム塩とを含むゴム組成物を架橋して形成する。このポリエーテル共重合体は、８０モル％以上８９モル％以下のエチレンオキサイド由来のユニットと、１モル％以上９モル％以下のアルキレンオキサイド（エチレンオキサイドを除く）由来のユニットと、１０モル％以上１９モル％以下のアリルグリシジルエーテル由来のユニットとを有する。
【選択図】図１

Description

本発明は帯電部材の製造方法、それにより製造された帯電部材に関し、詳しくは、電圧を印加して被帯電体である電子写真感光体表面を所定の電位に帯電処理するための帯電部材の製造方法、及びそれにより製造された帯電部材に関する。

電子写真方式を利用した画像形成装置において、感光体を帯電する手段として、様々な帯電手段が用いられている。従来の帯電手段としてはコロナ放電を利用したものがあり、ここ近年では感光体に帯電部材を接触させて帯電する接触帯電方式が多く利用されている。接触帯電方式としては、帯電部材に直流電圧に交流電圧を重畳したものや、直流電圧のみを印加した方式（ＤＣ帯電方式）がある。

これらの接触帯電方式に用いられる帯電部材としては、感光体を均一に帯電させることが必要不可欠である。特に直流電圧のみを印加した方式の場合には、より均一性が望まれる。また、帯電ローラを感光体に高温多湿環境において長期間当接したことによる圧縮永久歪み起因による当接跡部分の画像不良が発生し易く、帯電ローラの圧縮永久歪みを小さくする必要がある。

特許文献１では、エピクロルヒドリンゴムとアクリロニトリルブタジエンゴムを所定の割合でブレンドすることにより、抵抗の不均一性（抵抗ムラ）を改善する技術が開示されている。特許文献２では、体積抵抗を低くする手法として、導電性粒子等の分散による抵抗調整を用いないイオン導電系の例が開示されている。この文献では、体積抵抗の低いエチレンオキサイドを主体とするポリエーテル系共重合体とアクリロニトリルブタジエンゴムをブレンドしたイオン導電系のゴム組成物を用いている。また、特許文献３では、体積固有抵抗が低く、圧縮永久歪みの小さい導電性ゴムローラが提案されている。この文献では、ポリエーテル系共重合体とアクリロニトリルブタジエンゴムをブレンドしたゴム組成物に、スルホン酸やグルコン酸の非ハロゲン系第４級アンモニウム塩をイオン導電材として添加したゴム組成物を用いている。
特開平１１−６５２６９号公報特開２００１−１１５００５号公報特開２００２−２１２４１３号公報

特許文献１では、導電性粒子（カーボンブラック）を分散させた電子導電系が主となる構成としているため、イオン導電系と比べて抵抗ムラの改善が充分とはいえない。

特許文献２では、ポリエーテル共重合体の体積抵抗は１０⁷Ω・ｃｍ以下ではあるが、アクリロニトリルブタジエンゴム単体の体積抵抗は１０¹⁰〜１０¹¹Ω・ｃｍであり、イオン導電系とはいえ、抵抗ムラの比較的大きいゴム組成物となってしまう。また、ゴム組成物の体積抵抗を１０⁷Ω・ｃｍ未満の抵抗に調整することは困難である。ここで、更に体積抵抗を低くする方法としては、前記ゴム組成物にアルカリ金属塩またはアルカリ土類金属塩を添加することにより、ポリエーテル系共重合体の体積抵抗を低くできるとの記載がある。しかし、アルカリ金属塩またはアルカリ土類金属塩では、アクリロニトリルブタジエンゴムの体積抵抗を低減する効果は十分とはいえない。

特許文献３では、イオン導電材はイオン化（電離）の効率が十分ではないため、ゴム組成物の体積抵抗を１０⁷Ω・ｃｍ未満の抵抗にするには困難である。ポリエーテル系共重合体の架橋部位であるアリルグリシジルエーテルが１０モル％未満と少ないため、高温多湿環境において、低圧縮永久歪み性と吸湿性をさらに低減することが必要となる。

ここで、帯電ローラは、１０⁴〜１０⁷Ωの範囲の抵抗に均一に調整することが望まれる。帯電ローラの抵抗を上記の範囲に調整する方法としては、例えば、導電性ゴムローラの場合、次の２通りの方法が提案されてきた。すなわち、ゴムにカーボンブラックや導電性金属酸化物といった導電性粒子を添加、分散した電子導電系の機構を利用した調整方法と、イオン導電性ゴムや４級アンモニウム塩等のイオン導電材を添加したイオン導電系の機構を利用した調整方法である。

電子導電系の場合、導電性粒子の添加量にて抵抗領域を容易に調整可能である。また、導電性粒子の分散状態が抵抗領域及び抵抗の均一性と相関している。ただし、分散の安定化は、導電性粒子の粒径、ストラクチャー、表面官能基等の物性によるゴムとの相溶性や、ゴム組成物の混練条件の最適化が必要である。そのため、狙いとする抵抗領域のゴム組成物を安定に製造すること、またゴム組成物の抵抗均一性を向上することは容易ではない。

一方、イオン導電系の場合、導電性粒子の分散状態によらず、ゴム自身の抵抗が反映されるため、電子導電系と比較して抵抗の均一性は高い。ただし、ゴム自身の体積抵抗として、１０⁷Ω・ｃｍ未満の抵抗に調整することは困難である。

特に、ＤＣ帯電方式においては、高画質化、カラー化、及び長寿命化を達成する上で、それらは解決しなければならない課題の一つである。

本発明の目的は、上記課題を解決し、優れた特性を有する高画質化、カラー化、及び長寿命化に適した帯電部材を提供することにある。

本発明は、導電性芯軸の上に弾性層を有する帯電部材の製造方法であって、該弾性層を、ポリエーテル共重合体とアクリロニトリルブタジエンゴムと過塩素酸４級アンモニウム塩とを含むゴム組成物を架橋して形成する工程を有し、該ポリエーテル共重合体が、８０モル％以上８９モル％以下のエチレンオキサイド由来のユニットと、１モル％以上９モル％以下のアルキレンオキサイド（エチレンオキサイドを除く）由来のユニットと、１０モル％以上１９モル％以下のアリルグリシジルエーテル由来のユニットとを有することを特徴とする帯電部材の製造方法に関する。

本発明によれば、電気抵抗が低く、かつ均一であり、高温多湿環境下においても圧縮永久歪みを小さく抑えることができる。したがって、ＤＣ帯電方式を採用した場合においても、良好な帯電特性を長期間安定して維持することができる帯電部材の製造方法、及び帯電部材を提供することができる。

以下、本発明の好適な実施の形態について説明する。

本発明者らは、上述の課題を解決するため種々検討の結果、導電性芯軸の上に弾性層を有する帯電部材を、以下の条件で製造する場合に、高温多湿環境において感光体に長期圧接しても画像不良が発生せず、かつ電気抵抗が均一な帯電部材となることを見出した。
（１）弾性層が、ポリエーテル共重合体とアクリロニトリルブタジエンゴムと過塩素酸４級アンモニウム塩とを含むゴム組成物を架橋してなる。
（２）上記ポリエーテル共重合体が、エチレンオキサイド由来のユニットとアルキレンオキサイド（エチレンオキサイドを除く）由来のユニットとアリルグリシジルエーテル由来のユニットとを有する。
（３）上記ポリエーテル共重合体におけるエチレンオキサイド由来のユニットの含有率が８０モル％以上８９モル％以下である。
（４）上記ポリエーテル共重合体におけるアルキレンオキサイド（エチレンオキサイドを除く）由来のユニットの含有率が１モル％以上９モル％以下である。
（５）上記ポリエーテル共重合体におけるアリルグリシジルエーテル由来のユニットの含有率が１０モル％以上１９モル％以下である。

すなわち、特定量のエチレンオキサイド由来のユニット及びアリルグリシジルエーテル由来のユニットを有するポリエーテル共重合体を用いることで、良好なイオン導電性を有し、かつ高温多湿環境においても、圧縮永久歪みの小さい弾性層とすることができる。また、ポリエーテル共重合体と非相溶であるアクリロニトリルブタジエンゴムを併用することにより、研磨加工時の引き裂き性を向上し、良好な表面平滑性を得ることが可能となる。また、ポリエーテル系共重合体、アクリロニトリルブタジエンゴムの両方の抵抗を低減するイオン導電材を添加することにより、低抵抗かつ抵抗ムラの小さい帯電均一性に優れた帯電部材を得ることが可能となる。

本発明の帯電部材の弾性層を構成するゴム組成物は、ポリエーテル共重合体を含む。ポリエーテル共重合体としては、エチレンオキサイド、アルキレンオキサイド（エチレンオキサイドを除く）及びアリルグリシジルエーテルの共重合体を用いることができる。

ポリエーテル共重合体におけるエチレンオキサイド由来のユニットの含有率は、８０モル％以上８９モル％以下の範囲である。８０モル％未満の場合、電気抵抗と関係するイオン物質の伝導経路が少ないため、良好な導電性が得られない。また、８９モル％を超える場合、エチレンオキサイド由来のユニットによる結晶性のために、却って導電性が低下する。

ポリエーテル共重合体におけるアルキレンオキサイド（エチレンオキサイドを除く）由来のユニットの含有率は、１モル％以上９モル％以下の範囲である。なお、アルキレンオキサイド（エチレンオキサイドを除く）由来のユニットとしては、特に制限はない。導電性を効果的に発現させるためにポリエーテル共重合体は適度な分子運動性を有することが望ましいことから、プロピレンオキサイドのように開環重合した後に側鎖にアルキル基を有するアルキレンオキサイドであることが好ましい。

ポリエーテル共重合体におけるアリルグリシジルエーテル由来のユニットの含有率は、１０モル％以上１９モル％以下の範囲である。１０モル％未満の場合、低圧縮永久歪み性、低吸湿性が不十分である。また、１９モル％を超える場合、エチレンオキサイド由来のユニット量が少なくなるため、導電性が低減する。

本発明の帯電部材の弾性層を構成するゴム組成物は、アクリロニトリルブタジエンゴムを含む。アクリロニトリルブタジエンゴムとしては、アクリロニトリル及びブタジエンの共重合体を用いることができる。

アクリロニトリルブタジエンゴムにおけるアクリロニトリル由来のユニットの含有率は、２５モル％以上４０モル％以下の範囲であることが好ましい。２５モル％未満の場合、イオン導電性を発現するために必要なイオン物質を伝達する極性基のユニットが少なく、アクリロニトリルブタジエンゴムの抵抗が高くなり、弾性層の抵抗が高くなる場合がある。また、ポリエーテル共重合体、アクリロニトリルブタジエンゴムの抵抗差が大きくなり、抵抗ムラが大きくなる場合がある。また、４０モル％を超える場合、アクリロニトリルブタジエンゴムの結晶性が高くなり、イオン物質を伝達するに必要な分子運動性の低下により弾性層の抵抗が高くなる場合がある。また、ポリエーテル共重合体との抵抗差が大きくなり、抵抗ムラが大きくなる場合がある。アクリロニトリルブタジエンゴムにおけるブタジエン由来のユニットの含有率は、６０モル％以上７５モル％以下の範囲であることが好ましい。

アクリロニトリルブタジエンゴムは、常温（２３℃）で液状、固形状のもののいずれも用いることができる。ただし、常温で液状のアクリロニトリルブタジエンゴムを多量にブレンドした場合、混練性が低下する場合があるため、常温で固形状のアクリロニトリルブタジエンゴムを用いることが好ましい。

ポリエーテル共重合体とアクリロニトリルブタジエンゴムとの混合比としては、ポリエーテル共重合体の質量を（Ａ）、アクリロニトリルブタジエンゴムの質量を（Ｂ）として、（Ａ）／（Ｂ）が２０／８０以上８０／２０以下であることが好ましい。

本発明の帯電部材の弾性層を構成するゴム組成物は、イオン導電材として、過塩素酸４級アンモニウム塩を含む。すなわち、カチオンが４級アンモニウム構造、アニオンが過塩素酸構造であることが重要である。本発明において、ポリエーテル共重合体、アクリロニトリルブタジエンゴムの両方の抵抗をより均一に低下させることは重要である。我々が種々検討した結果、アクリロニトリルブタジエンゴムの抵抗を効果的に低下させるためには、イオン導電材のカチオンの構造が４級アンモニウム構造であることが重要な因子であることが明らかとなった。また、ポリエーテル共重合体の抵抗を効果的に低下させるためには、アニオンの構造が、過塩素酸構造であることが重要な因子であることが明らかとなった。よって、ポリエーテル共重合体、アクリロニトリルブタジエンゴムの両方の抵抗をより均一に低下させるイオン導電材として、過塩素酸４級アンモニウム塩が好適なイオン導電材であることを見出した。

過塩素酸４級アンモニウム塩の添加量としては、ゴム成分（ポリエーテル共重合体、アクリロニトリルブタジエンゴム及び後述するエピクロルヒドリンゴムの合計）１００質量部に対して、０．２質量部以上４質量部以下の範囲であることが好ましい。０．２質量部未満の場合、過塩素酸４級アンモニウム塩による抵抗を低下させる作用が十分でない場合がある。また、４質量部を超えても、さらに大きな抵抗低下作用は得られないためである。過塩素酸４級アンモニウム塩の添加量は、０．５質量部以上３質量部以下の範囲であることがより好ましい。

過塩素酸４級アンモニウム塩における４級アンモニウム構造の官能基としては、アルキル基及び／又はヒドロキシ基を有する官能基を含有することで、良好な導電性が得られる。すなわち、過塩素酸４級アンモニウム塩としては、下記式（化１）に示す構造を有するものが好ましい。

（Ｒ₁乃至Ｒ₄は、それぞれ独立に炭素数１乃至１６のアルキル基または下記式（化２）に示す末端にヒドロキシ基を有する官能基から選択される。）

（Ｒ₅は、単結合、炭素数１乃至６のアルキレン基、または、

（ｎは１又は２）
に示す構造から選択される。）
特に、過塩素酸４級アンモニウム塩が、Ｒ₁乃至Ｒ₄の少なくとも１つとして下記（化３）に示すヒドロキシエチル基を含有することで、ポリエーテル共重合体、アクリロニトリルブタジエンゴムの両方に対して相溶性が向上する。

本発明の帯電部材の弾性層を構成するゴム組成物は、エピクロルヒドリンゴムを含んでいてもよい。ポリエーテル共重合体、アクリルニトリルブタジエンゴム、過塩素酸４級アンモニウム塩及びエピクロルヒドリンゴムを含むゴム組成物を架橋した弾性層とすることにより、高温多湿環境下、低温低湿環境下における電気抵抗の変動を小さくすることが可能となる。

エピクロルヒドリンゴムとしては、エピクロルヒドリン由来のユニットを有する単独重合体または共重合体を用いることができる。例えば、エピクロルヒドリン由来のユニット、エチレンオキサイド由来のユニットからなる２元共重合体；エピクロルヒドリン由来のユニット、エチレンオキサイド由来のユニット、アリルグリシジルエーテル由来のユニットからなる３元共重合体が挙げられる。エピクロルヒドリン由来のユニット、エチレンオキサイド由来のユニット、アリルグリシジルエーテル由来のユニットからなる３元共重合体を用いる場合、各ユニットのモル比率により、電気抵抗及び温湿度環境による抵抗変動を調整可能である。例えば、エピクロルヒドリン由来のユニットを２０モル％以上２５モル％以下、エチレンオキサイド由来のユニットを７０モル％以上７９モル％以下、アリルグリシジルエーテル由来のユニットを１モル％以上１０モル％以下とする。このようなモル比率とすることで、低抵抗かつ温湿度環境による抵抗変動を抑制することができる。

本発明の帯電部材の弾性層を構成するゴム組成物は、補強材、増量材、可塑材、加硫剤等を含んでいてもよい。

補強材としては、カーボンブラック等を添加することができる。カーボンブラックとしては、ＭＴ、ＦＴ、ＧＰＦ、ＳＲＦ等の導電性が低いカーボンブラックが好ましい。ただし、高比表面積、高ストラクチャーといった特性を有する導電性のカーボンブラックであっても、抵抗の均一性を損なわない程度の量を添加することができる。補強材は、ゴム成分（ポリエーテル共重合体、アクリロニトリルブタジエンゴム及びエピクロルヒドリンゴムの合計）１００質量部に対して、例えば０．５〜１５質量部添加することができる。

増量材としては、各種炭酸カルシウム、タルク、クレー、シリカ等の無機充填材を添加することができる。研磨性を向上させる目的で、補強性の低い炭酸カルシウムを添加することが好ましい。炭酸カルシウムの平均粒子径は、０．８〜２．０μｍ程度が好ましい範囲である。増量材は、ゴム成分（ポリエーテル共重合体、アクリロニトリルブタジエンゴム及びエピクロルヒドリンゴムの合計）１００質量部に対して、例えば３０〜１００質量部添加することができる。

また、ゴム組成物がエピクロルヒドリンゴムを含む場合は、ハイドロタルサイト、酸化マグネシウム、酸化亜鉛等の受酸材を添加してもよい。受酸材は、ゴム成分（ポリエーテル共重合体、アクリロニトリルブタジエンゴム及びエピクロルヒドリンゴムの合計）１００質量部に対して、例えば１〜１０質量部添加することができる。

可塑材としては、公知のオイル等を適宜添加することができる。本発明で用いるゴム組成物は極性ゴムを主成分としているため、各種エステル系可塑材を用いることが好ましい。具体的には、アジピン酸エステル、セバシン酸エステル、フタル酸エステル等が挙げられる。ただし、感光体と接触して使用する帯電部材の場合には、感光体への可塑材が移行することにより感光体を汚染してしまう恐れがある。そのため、添加する可塑材としては、前記のエステル化合物をプロピレングリコール等の重合により高分子量化したエステル化合物が好ましい。

加硫剤としては、イオウ、イオウ含有有機化合物、パーオキサイドをはじめとする各種加硫剤が使用できる。パーオキサイドを使用した場合には、圧縮永久歪み性は良好なものが得られるが、金型加硫が必要等の加硫方法が限定されるうえ、得られる電気抵抗値が高くなる傾向にあって使用方法に制限が多い。また、２，４，６−トリメルカプト−Ｓ−トリアジンを加硫剤として使用した場合には、圧縮永久歪み性が優れたものが得られるが、スコーチ性が低化するため、取扱いに注意が必要となる。イオウやイオウ含有有機化合物は、スコーチ性、圧縮永久ひずみの調整が容易であるため、好ましく用いられる。

その他にも、老化防止剤、加硫遅延剤、加工助剤等適宜添加してもよい。

本発明の帯電部材の一実施形態である帯電ローラの構成を図１に示す。この帯電ローラは、導電性芯軸１ａの上に弾性層１ｂが形成されている。弾性層１ｂは、上記の成分を混合して未加硫ゴム組成物を調製した後、その未加硫ゴム組成物を導電性芯軸１ａとともに押出し成形し、その後に加熱して未加硫ゴム組成物を加硫（架橋）することで形成することができる。導電性芯軸１ａとしては、例えば、鉄、ステンレス等の金属や、導電性を有するプラスチック等、導電性と強度、耐熱性があるものならいずれでも用いることができる。

混合方法としては、バンバリーミキサーや加圧式ニーダーといった密閉型混合機を使用した混合方法、オープンロールのような開放型混合機を使用した混合方法等を例示することができる。本発明では、ポリエーテル共重合体、アクリロニトリルブタジエンゴムの両方に４級アンモニウム過塩素酸塩を均一に分散させることが重要な因子である。したがって、ポリエーテル共重合体及びアクリロニトリルブタジエンゴムを予め混合した後、４級アンモニウム過塩素酸塩を添加する方法が好ましい。

押出し成形温度は、７０〜１００℃の範囲が好ましい。７０℃未満の温度にて押出した場合は、エピクロルヒドリン系ゴム、ポリエーテル共重合体等の極性ゴムを押出す場合、ゴムの吸水による加硫時のボイドの形成が問題となる場合がある。また、１００℃を超えた温度にて押出した場合は、長時間連続で押出した場合のゴムのスコーチが問題となることがある。

押出し成形に関して説明する。まず、必要な成分を配合し混練して調製された未加硫ゴム組成物を、導電性芯軸となる芯金とともに押出すことで、芯金上に未加硫ゴム組成物を被覆させる。図３は本工程を模式的に示した説明図である。押出し機１８は、クロスヘッド１９を備えている。クロスヘッド１９の後ろからは、矢印方向に回転している芯金送りローラ２０によって送られた芯金１ａが挿入され、芯金１ａと円筒状の未加硫のゴム組成物を一体的に押出すことにより、周囲が未加硫ゴム組成物で被覆された芯金が得られる。さらに、芯金周囲の未加硫ゴム組成物層の端部を突っ切り冶具２２により定尺で切り取ったものを、未加硫ローラ２１として得ることができる（図３参照）。

加熱は、熱風炉、加硫缶、熱盤、遠・近赤外線、誘導加熱などいずれの手法でもよい。加熱は、通常１３０〜２５０℃で５分〜１２０分間、好ましくは１４０〜２００℃で１０〜４０分間行われる。この後、必要に応じて２次加硫することもできる。

また、加硫後のローラを、研磨用砥石によって所望の形状もしくは表面粗さに整えてもよい。

弾性層の表面には、必要に応じて表面層を設けることができる。表面層を設けることにより、感光体上にピンホール等の欠陥が生じた場合に、ピンホールへの帯電電流の集中を緩和し、画像欠陥を軽微に抑える効果がある。表面層の電気抵抗値は、１×１０⁸〜１×１０¹²Ω・ｃｍ程度が好ましい。

表面層を形成するためのバインダーとしては、熱硬化性樹脂、熱可塑性樹脂等の樹脂が用いられる。具体的には、ウレタン樹脂、フッ素系樹脂、シリコーン樹脂、アクリル樹脂、ポリアミド樹脂等が挙げられる。なかでも、ラクトン変性アクリルポリオールをイソシアネートで架橋したウレタン樹脂が特に好適に用いられる。

表面層に導電性を付与するため、カーボンブラック、グラファイト、導電性金属酸化物等の導電性粒子、または前記導電性粒子を他の粒子と複合化した導電性複合粒子等を適宜量分散させることができる。導電性金属酸化物としては、導電性酸化チタン、導電性酸化錫等が挙げられる。これにより、所望の電気抵抗値とすることができる。

また、帯電ローラの表面に微小な凹凸を形成することで、帯電均一性の向上を図ることができる。特に、ＤＣ帯電方式において帯電均一性を向上することができる。そのため、表面層には凹凸が形成されることが好ましい。表面層への凹凸の形成は、例えば表面粗し材としての微粒子を用いることができる。粗し材としては、ウレタン系微粒子、シリコーン系微粒子、アクリル系微粒子などの高分子化合物からなる微粒子を用いることが好ましい。

また、導電性粒子や粗し材の他に、絶縁性の無機粒子を添加してもよい。無機粒子としては、シリカ、酸化チタン、酸化亜鉛、酸化マグネシウムなどの無機微粉体を用いることが好ましい。

表面層の形成方法としては、バインダーを溶剤に溶解または分散し、これに導電性粒子、粗し材、無機粒子等を必要に応じて分散させたものを、ディッピング、ビーム塗工、ロールコーター等の塗工法によって弾性体層表面にコーティングする方法が挙げられる。また、バインダー中に導電性粒子、粗し材、無機粒子等を必要に応じて練り込み、それを押出機などによって円筒形状に成形した後、弾性層に被覆する方法が挙げられる。

なお、帯電ローラには、必要に応じて、弾性層や表面層以外に、接着層、拡散防止層、下地層、プライマー層等の機能層を設けることもできる。

本発明の帯電ローラを備えた画像形成装置の実施の形態を詳細に述べる。

図４は本発明の帯電ローラを備えた画像形成装置の概略構成図である。この装置は、像担持体としての回転ドラム型の電子写真感光体４、帯電手段としての帯電ローラ２、露光装置１０、現像手段としての現像器１１、転写手段としての転写ローラ１２、クリーナー装置１３、光照射装置７、及び定着手段（不図示）を備えている。

電子写真感光体４は、矢示の方向に所定の周速度（プロセススピード）で回転駆動される。

帯電ローラ２は、電子写真感光体４に所定の押圧力で接触させてあり、本例では帯電ローラ２を駆動し、電子写真感光体４と等速回転させる。この帯電ローラ２に対して帯電バイアス印加電源Ｓ１から所定の直流電圧（例えば−１０００Ｖ）のみが印加される。こうすることで、電子写真感光体４の面が所定の極性電位（例えば暗部電位−４００Ｖ）で一様に帯電処理（接触帯電方式・ＤＣ帯電方式）される。

露光装置１０としては、例えばレーザービームスキャナーを用いる。電子写真感光体４の一様帯電処理面に、露光装置１０により目的の画像情報に対応した露光がなされる。こうすることにより、電子写真感光体４帯電面の露光明部の電位（例えば明部電位−１２０Ｖ）が、選択的に低下（減衰）して静電潜像が形成される。

現像器１１は、電子写真感光体４の表面に形成された静電潜像の露光明部に、電子写真感光体４の帯電極性と同極性に帯電（例えば現像バイアス−３５０Ｖ）しているトナー（ネガトナー）を選択的に付着させて、静電潜像をトナー画像として可視化する。

転写ローラ１２は、電子写真感光体４に所定の押圧力で接触させて転写ニップ部を形成させてあり、電子写真感光体４の回転と順方向に電子写真感光体４の回転周速度とほぼ同じ周速度で回転する。また、転写バイアス印加電源Ｓ２からトナーの帯電極性とは逆極性の転写電圧が印加される。転写ニップ部に対して不図示の給紙機構部から転写材１４が所定の制御タイミングで給紙される。このように、給紙された転写材１４の裏面が転写電圧を印加した転写ローラ１２によりトナーの帯電極性とは逆極性に帯電されることにより、転写ニップ部において電子写真感光体４の表面に形成されたトナー画像が転写材１４の表面側に静電転写される。

転写ニップ部でトナー画像の転写を受けた転写材は、電子写真感光体４から分離され、不図示のトナー画像定着手段へ導入されて、トナー画像の定着処理を受けて画像形成物として出力される。トナー画像定着手段としては、例えば熱定着方式を用いることができ、不図示の定着ローラと加圧ローラ間の定着ニップにてトナー像を転写材１４に加熱、加圧して熱定着した後に、外部に排出する。両面画像形成モードや多重画像形成モードの場合は、この画像形成物が不図示の再循環搬送機構に導入されて、転写ニップ部へ再導入される。

転写されずに電子写真感光体４上に残存したトナーは、クリーナー装置１３により回収される。

転写バイアスにより生じた電子写真感光体４上の電荷を除電するための前露光手段としての光照射装置７が、クリーニング工程後かつ帯電工程前の領域で除電光を照射できるように配置される。光照射装置７からの除電光が、現像工程後かつ転写工程前の領域で照射されるように配置されてもよい。また、光照射装置７からの除電光が、クリーニング工程後かつ帯電工程前の領域で照射されるように配置されてもよい。光照射装置７からの除電光は、カートリッジに設けることも可能であり、更に、電子写真装置本体に設けることも可能である。

下記の要領で帯電ローラを作製し、その帯電ローラの評価を行った。実施例及び比較例により詳細に説明する。

（実施例１）
＜弾性層の形成＞
・ポリエーテル共重合体Ａ４０質量部
（エチレンオキサイド：プロピレンオキサイド：アリルグリシジルエーテル＝８７モル％：１モル％：１２モル％）
・アクリロニトリルブタジエンゴムＡ６０質量部
（アクリロニトリル：ブタジエン＝３５モル％：６５モル％）
・イオン導電材Ａ２質量部
（メチル−ジヒドロキシエチル−ドデシルアンモニウムパークロレート）
・充填剤６０質量部
（重質炭酸カルシウム、商品名：ナノックス＃３０、丸尾カルシウム（株）製）
・補強剤５質量部
（カーボンブラック（ＭＴサーマル））
・酸化亜鉛５質量部
・ステアリン酸亜鉛１質量部
・老化防止剤０．５質量部
（２−メルカプトベンツイミダゾール）
・可塑材５質量部
（セバシン酸ポリエステル、商品名：ポリサイザーＰ２０２、大日本インキ工業（株）製）
以上の成分を１００℃に温度調節した加圧式ニーダーにて１０分間混練して原料コンパウンドを調製した。この原料コンパウンドに、加硫促進剤としてのテトラメチルチウラムモノスルフィド１質量部、加硫剤としての硫黄２質量部を加えて、更に１０分間、２５℃に温度調節したオープンロールで混練した。

得られたコンパウンド（ゴム組成物）をゴム押出機（内径：５０ｍｍ、Ｌ／Ｄ：２０）により、スクリュー回転数１５ｒｐｍ、シリンダ温度、ヘッド温度を７０℃に温度調節して、導電性芯軸の周囲に図３に示すような装置にてローラ状になるように成形した。導電性芯軸としては、熱硬化性接着剤（商品名：メタロックＮ３３、（株）東洋化学研究所製）を塗布した直径６ｍｍ、長さ２５０ｍｍの円柱形の導電性支持体（鋼製、表面はニッケルメッキ）を用いた。次いで、電気オーブンの中で１６０℃で２時間、加硫および接着剤の硬化を行った後、ゴム部分の両端部を除去した。そして、ゴム部分をプランジ研磨機（砥石：ＧＣ１２０、砥石径：φ３００ｍｍ、砥石回転数：２５００ｒｐｍ、ワーク回転数：３３３ｒｐｍ）により研磨して、端部直径８．３ｍｍ、中央部直径８．５ｍｍのクラウン形状の弾性層を形成した。

＜弾性層の表面粗さ測定＞
形成された弾性層の表面粗さＲｚを、接触式表面粗さ計（商品名：ＳＥ−３３００Ｈ、小坂研究所製）により、ＪＩＳＢ０６０１：１９８２に基づいて測定した。具体的には、カットオフ０．８ｍｍ、測定距離８ｍｍ、送り速度０．１ｍｍ／ｓの測定条件にて、弾性層の任意の長手方向３個所、周方向３個所（任意の場所を起点に１２０°刻み）のＲｚを測定し、平均値を求めた。結果を表１に示す。

＜弾性層の体積抵抗率測定及び抵抗ムラ評価＞
弾性層の体積抵抗率は、以下に述べる方法で測定した。まず、弾性層を形成するために調製したゴム組成物を、別途熱プレスにて１０ＭＰａの圧力下、１６０℃で３０分間加硫を行い、１００ｍｍ×１５０ｍｍ、厚さ約２ｍｍの体積抵抗率測定用の弾性層を作製した。この体積抵抗率測定用の弾性層の両面に金属を蒸着して電極とガード電極とを形成し、２３℃、５０％の環境下に２４時間放置した。その後、前記環境下において、微小電流計（商品名：ＡＤＶＡＮＴＥＳＴＲ８３４０ＡＵＬＴＲＡＨＩＧＨＲＥＳＩＳＴＡＮＣＥＭＥＴＥＲ、（株）アドバンテスト製）を用いて、２００Ｖの直流電圧を印加して３０秒後の電流を測定した。得られた電流値と弾性層の厚さと電極面積とから、弾性層の体積抵抗率を算出した。結果を表１に示す。

弾性層の抵抗ムラ評価は、以下に述べる方法で行った。まず、ゴム組成物のゴム成分を、ポリエーテル共重合体またはアクリロニトリルブタジエンゴム１００質量部のみに変更したゴム組成物をそれぞれ調製した。そして、これらのゴム組成物を用いて前記熱プレスの方法により体積抵抗率測定用の弾性層を作製し、前記測定方法に従い体積抵抗率を測定した。そして、ポリエーテル共重合体のみを用いた弾性層の体積抵抗率とアクリロニトリルブタジエンゴムのみを用いた弾性層の体積抵抗率との対数値の差を算出した。この差の小さいものほど、抵抗ムラが少ない弾性層であると評価できる。結果を表１に示す。

＜帯電ローラの作製＞
（導電性複合粒子の作製）
シリカ粒子（平均粒子径：１７ｎｍ、体積抵抗率：１．８×１０¹²Ω・ｃｍ）７．０ｋｇに、メチルハイドロジェンポリシロキサン１４０ｇをエッジランナーを稼動させながら添加し、５８８Ｎ／ｃｍ（６０Ｋｇ／ｃｍ）の線荷重で３０分間混合攪拌を行った。この時の攪拌速度は２２ｒｐｍであった。次に、カーボンブラック粒子（平均粒子径：１５ｎｍ、体積抵抗率：２．０×１０²Ω・ｃｍ）７．０ｋｇを、エッジランナーを稼動させながら１０分間かけて添加し、さらに５８８Ｎ／ｃｍ（６０Ｋｇ／ｃｍ）の線荷重で６０分間混合攪拌を行った。この時の攪拌速度は２２ｒｐｍであった。こうして、メチルハイドロジェンポリシロキサン被覆シリカにカーボンブラックを付着させた後、乾燥機を用いて８０℃で６０分間乾燥を行い、導電性複合粒子を得た。得られた導電性複合粒子の平均粒子径は１５ｎｍ、体積抵抗率は１．８×１０²Ω・ｃｍであった。

なお、平均粒子径の測定は、透過型電子顕微鏡（ＴＥＭ）を用い倍率１００万倍に拡大した複合粒子像を１０個無作為にサンプリングし、その画像情報をもとに投影面積を求め、得られた面積の円相当径を計算して体積平均粒子径を求めた。また、体積抵抗率の測定は、Ｌｏｒｅｓｔａ−ＧＰＭＣＰ−Ｔ６００（商品名、三菱化学株式会社製）を用いて測定した抵抗より算出した。印加電圧は１００Ｖ、印加圧力は１０ＭＰａとした。

（金属酸化物粒子の作製）
ルチル型酸化チタン粒子（平均粒子径：１５ｎｍ、体積抵抗率：５．２×１０¹⁰Ω・ｃｍ）１０００ｇと、表面処理剤としてのイソブチルトリメトキシシラン１１０ｇと、溶媒としてのトルエン３０００ｇとをそれぞれ配合して、スラリーを調製した。このスラリーを攪拌機で３０分間混合した後、有効内容積の８０％が平均粒子径０．８ｍｍのガラスビーズで充填されたビスコミルに供給し、温度３５±５℃で湿式解砕処理を行った。湿式解砕処理して得たスラリーから、ニーダーを用いて減圧蒸留（バス温度：１１０℃、製品温度：３０〜６０℃、減圧度：約１００Ｔｏｒｒ）によりトルエンを除去し、１２０℃で２時間表面処理剤の焼付け処理を行った。焼付け処理後の粒子は、室温まで冷却した後、ピンミルを用いて粉砕した。

（表面層用塗布液の調製及び帯電ローラの作製）
カプロラクトン変性アクリルポリオール溶液（商品名：プラクセルＤＣ２０１６、ダイセル化学工業（株）製）にメチルイソブチルケトンを加え、固形分が２０質量％となるように調整した。

この溶液５００質量部に対して更に、
・前記導電性複合粒子３０質量部
・前記金属酸化物粒子２５質量部
・架橋ポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ）粒子３０質量部
（商品名：ＭＢＸ−８、積水化学工業（株）製）
・変性ジメチルシリコーンオイル０．０８質量部
（商品名：ＳＨ２８ＰＡ、東レ・ダウコーニングシリコーン（株）製）
・ヘキサメチレンジイソシアネート（ＨＤＩ）とイソホロンジイソシアネート（ＩＰＤＩ）の各ブタノンオキシムブロック体の１：１の混合物９８．８４質量部
を入れ、混合溶液を調製した。このとき、ＨＤＩとＩＰＤＩの混合物は、「ＮＣＯ／ＯＨ＝１．０」となるように添加した。ＨＤＩとＩＰＤＩについては、ＨＤＩ（商品名：デュラネートＴＰＡ−Ｂ８０Ｅ、旭化成工業製）、ＩＰＤＩ（商品名：ベスタナートＢ１３７０、デグサ・ヒュルス製）を使用した。

４５０ｍＬのガラス瓶に上記混合溶液２８０ｇと、メディアとしての平均粒子径０．８ｍｍのガラスビーズ２００ｇを混合し、ペイントシェーカー分散機を用いて１２時間分散し、表面層用塗布液を得た。

この表面層用塗布液を弾性層上に１回ディッピング塗布し、常温で３０分間以上風乾した後８０℃に設定した熱風循環乾燥機にて１時間乾燥し、更に１６０℃に設定した熱風循環乾燥機にて１時間乾燥して、弾性層上に表面層を形成した。なお、ディッピング塗布浸漬時間は９秒、ディッピング塗布引き上げ速度は、初期速度が２０ｍｍ／ｓ、最終速度が２ｍｍ／ｓになるように調節し、引き上げ速度２０ｍｍ／ｓから２ｍｍ／ｓの間は、時間に対して直線的に速度を変化させた。

このようにして、導電性芯軸上に弾性層及び表面層（最外層）をこの順に有する帯電ローラを作製した。

＜ローラ抵抗測定＞
帯電ローラの電気抵抗は、図２に示すような方法で測定した。図２中、１は帯電ローラ、１５はステンレス製の円筒電極、１６は抵抗、１７はレコーダーを示す。帯電ローラ１と円筒電極２との間の押圧力は片側４．９Ｎ、総荷重を９．８Ｎとし、円筒電極を３０ｒｐｍにて回転させながら、外部直流電源Ｓ３から−２００Ｖを１０秒間印加した際の電気抵抗値を測定した。なお、電気抵抗値は１０秒間印加した際の平均値とした。結果を表１に示す。

＜帯電均一性評価＞
作製した帯電ローラを図４に示す構成の電子写真装置（帯電ローラには直流電圧のみの電圧を印加）に装着し、１５℃／１０％ＲＨ環境下においてハーフトーン画像を出力し、その出力画像を評価した。なお、帯電ローラによる帯電後の電子写真感光体の表面電位（暗部電位）ＶＤが−４００Ｖとなるように調節した。また、プロセススピードは９４ｍｍ／ｓとした。

出力画像を以下の基準で評価した。結果を表１に示す。
ランク１：ハーフトーン画像上に画像欠陥が確認されない。
ランク２：ハーフトーン画像上にわずかに細かいスジ状の画像欠陥が確認されるが、実用上問題にならない。
ランク３：ハーフトーン画像上に部分的にスジ状の画像欠陥が目立つ。
ランク４：ハーフトーン画像上に全体的にスジ状の画像欠陥が目立つ。
ランク５：ハーフトーン画像上にスジ状の画像欠陥が目立つのに加え、ベタ白部に帯電カブリが目立つ。

＜Ｃセット画像評価及びＣセット変形量測定＞
作製した帯電ローラを電子写真感光体に当接させ、４０℃／９５％ＲＨ環境に１ヶ月間放置した。なお、ここで用いた電子写真感光体は直径２４ｍｍのドラムであり、帯電部材を、一端で０．５ｋｇ重、両端で合計１ｋｇ重のバネによる押し圧力で当接させた。その後、前記環境から電子写真感光体と当接した状態で帯電ローラを取り出し、２３℃／５０％ＲＨ環境に６時間放置した。

上記処理を行った帯電ローラを、図４に示す構成の電子写真装置（帯電部材には直流電圧のみの電圧を印加）に装着し、２３℃／５０％ＲＨ環境下において、ハーフトーン画像を出力し、その出力画像を評価した。なお、帯電ローラによる帯電後の電子写真感光体の表面電位（暗部電位）ＶＤは−４００Ｖとなるように調節した。また、プロセススピードは９４ｍｍ／ｓとした。電子写真装置に用いた電子写真感光体はアルミニウムシリンダーに膜厚１８μｍのＯＰＣ層をコートした反転現像方式の感光ドラムであり、最外層は変性ポリカーボネートをバインダー樹脂とする電荷輸送層である。トナーは、ワックスを中心に荷電制御剤と色素等を含むスチレンとブチルアクリレートのランダムコポリマーを重合させ、更にポリエステル薄層を重合させシリカ微粒子等を外添した、ガラス転移点６３℃、質量平均粒子径６μｍの重合トナーである。

４０℃／９５％ＲＨ環境は、通常の電子写真装置の使用環境より温度・湿度ともに高く、帯電ローラの変形量が大きくなる。したがって、本条件でＣセット画像が発生しなければ、長期に亘ってＣセットに関する問題が発生しない、ということができる。

出力画像を以下の基準で評価した。結果を表１に示す。
ランク１：ハーフトーン画像上に画像欠陥が確認されない。
ランク２：ハーフトーン画像上に部分的に薄いスジ状の画像欠陥が確認されるが、実用上問題にならない。
ランク３：ハーフトーン画像上にスジ状の画像欠陥がある。
ランク４：ハーフトーン画像上にスジ状の画像欠陥が目立つ。

前記画像出力を行うとともに、帯電ローラのＣセット変形量を測定した。具体的には、帯電ローラの導電性芯軸を軸として帯電ローラの半径を測定し、当接部で最も変形している部分と当接していない部分の半径の差をもって、Ｃセット変形量とした。測定は、東京光電子工業（株）の全自動ローラ測定装置を用い、帯電ローラを１°ずつ回転させ３６０°測定を行う測定を、ローラ長手中央部と中央部から９０ｍｍの位置の３点で測定し、最も大きな変形量を帯電ローラのＣセット変形量とした。

（実施例２〜５）
ポリエーテル共重合体Ａ及びアクリロニトリルブタジエンゴムＡの添加量を表１に示すように変更し、エピクロルヒドリンゴムを表１に示す添加量で用いた以外は、実施例１と同様に帯電ローラを作製した。なお、エピクロルヒドリンゴムとしては、エピクロルヒドリン：エチレンオキサイド：アリルグリシジルエーテル＝２３モル％：７３モル％：４モル％のものを用いた。作製した帯電ローラに対し、弾性層の表面粗さ測定、弾性層体積抵抗率測定及び抵抗ムラ評価、ローラ抵抗測定、帯電均一性評価、Ｃセット画像評価、並びにＣセット変形量測定を実施例１と同様の方法で行った。結果を表１に示す。

（実施例６）
アクリロニトリルブタジエンゴムＡを、アクリロニトリルブタジエンゴムＢ（アクリロニトリル：ブタジエン＝３７モル％：６３モル％）に変更した以外は、実施例５と同様に帯電ローラを作製した。作製した帯電ローラに対し、弾性層の表面粗さ測定、弾性層体積抵抗率測定及び抵抗ムラ評価、ローラ抵抗測定、帯電均一性評価、Ｃセット画像評価、並びにＣセット変形量測定を実施例１と同様の方法で行った。結果を表１に示す。

（実施例７）
アクリロニトリルブタジエンゴムＡを、アクリロニトリルブタジエンゴムＣ（アクリロニトリル：ブタジエン＝２５モル％：７５モル％）に変更した以外は、実施例５と同様に帯電ローラを作製した。作製した帯電ローラに対し、弾性層の表面粗さ測定、弾性層体積抵抗率測定及び抵抗ムラ評価、ローラ抵抗測定、帯電均一性評価、Ｃセット画像評価、並びにＣセット変形量測定を実施例１と同様の方法で行った。結果を表１に示す。

（実施例８）
イオン導電材Ａをイオン導電材Ｂ（テトラブチルアンモニウムパークロレート）に変更した以外は、実施例２と同様に帯電ローラを作製した。作製した帯電ローラに対し、弾性層の表面粗さ測定、弾性層体積抵抗率測定及び抵抗ムラ評価、ローラ抵抗測定、帯電均一性評価、Ｃセット画像評価、並びにＣセット変形量測定を実施例１と同様の方法で行った。結果を表１に示す。

実施例１〜８で作製した帯電ローラは、いずれも弾性層の抵抗が低く、かつ高温多湿環境下における感光体への当接放置によるＣセット量が低減したことにより、過酷な当接放置を行った場合においても、良好な画像が得られる。また、弾性層の抵抗が低く、かつ抵抗ムラを低減されたことにより、高精細な画像が得られる。

（比較例１）
ポリエーテル共重合体Ａを、ポリエーテル共重合体Ｂ（エチレンオキサイド：プロピレンオキサイド：アリルグリシジルエーテル＝９０モル％：４モル％：６モル％）に変更した以外は、実施例１と同様に帯電ローラを作製した。作製した帯電ローラに対し、弾性層の表面粗さ測定、弾性層体積抵抗率測定及び抵抗ムラ評価、ローラ抵抗測定、帯電均一性評価、Ｃセット画像評価、並びにＣセット変形量測定を実施例１と同様の方法で行った。結果を表１に示す。

比較例１で作製した帯電ローラでは、ポリエーテル共重合体におけるアリルグリシジルエーテル由来のユニットの含有率が少ないために、過酷な当接放置によるＣセット量が大きく、Ｃセット画像のランクが低かった。

（比較例２）
イオン導電材Ａを添加しないこと以外は、実施例１と同様に帯電ローラを作製した。作製した帯電ローラに対し、弾性層の表面粗さ測定、弾性層体積抵抗率測定及び抵抗ムラ評価、ローラ抵抗測定、帯電均一性評価、Ｃセット画像評価、並びにＣセット変形量測定を実施例１と同様の方法で行った。結果を表１に示す。

比較例２で作製した帯電ローラでは、イオン導電材を添加していないため、弾性層の抵抗が格段に高くなり、帯電ローラの帯電不足によるカブリが発生した。Ｃセット画像のランクも低くなり、これは弾性層の抵抗が高いことによるものと考えられる。

（比較例３）
イオン導電材Ａをイオン導電材Ｃ（テトラブチルアンモニウムクロライド）に変更した以外は、実施例１と同様に帯電ローラを作製した。作製した帯電ローラに対し、弾性層の表面粗さ測定、弾性層体積抵抗率測定及び抵抗ムラ評価、ローラ抵抗測定、帯電均一性評価、Ｃセット画像評価、並びにＣセット変形量測定を実施例１と同様の方法で行った。結果を表１に示す。

（比較例４）
イオン導電材Ａをイオン導電材Ｄ（テトラブチルアンモニウムｐ−トルイルスルフォネート）に変更した以外は、実施例１と同様に帯電ローラを作製した。作製した帯電ローラに対し、弾性層の表面粗さ測定、弾性層体積抵抗率測定及び抵抗ムラ評価、ローラ抵抗測定、帯電均一性評価、Ｃセット画像評価、並びにＣセット変形量測定を実施例１と同様の方法で行った。結果を表１に示す。

比較例３及び比較例４で作製した帯電ローラでは、弾性層の抵抗が高くなり、帯電均一性、Ｃセット画像ともにランクが低い結果となった。

（比較例５）
イオン導電材Ａをイオン導電材Ｅ（リチウムトリフルオロメチルスルフォネート）に変更した以外は、実施例１と同様に帯電ローラを作製した。作製した帯電ローラに対し、弾性層の表面粗さ測定、弾性層体積抵抗率測定及び抵抗ムラ評価、ローラ抵抗測定、帯電均一性評価、Ｃセット画像評価、並びにＣセット変形量測定を実施例１と同様の方法で行った。結果を表１に示す。

比較例５で作製した帯電ローラでは、弾性層の抵抗ムラが大きくなり、帯電均一性のランクが低い結果となった。

帯電ローラの概略構成図である。帯電ローラの電気抵抗測定装置の概略構成図である。押出し成形の工程を示す模式図である。画像形成装置の概略構成図である。

符号の説明

１帯電ローラ
１ａ芯金
１ｂ弾性層
２帯電ローラ
４電子写真感光体
７光照射装置
１０露光装置
１１現像器
１２転写ローラ
１３クリーナー装置
１４転写材
１５ステンレス製の円筒電極
１６抵抗
１７レコーダー
１８押出し機
１９クロスヘッド
２０芯金送りローラ
２１未加硫ローラ
２２突っ切り冶具
Ｓ１帯電バイアス印加電源
Ｓ２転写バイアス印加電源
Ｓ３外部直流電源

Claims

導電性芯軸の上に弾性層を有する帯電部材の製造方法であって、該弾性層を、ポリエーテル共重合体とアクリロニトリルブタジエンゴムと過塩素酸４級アンモニウム塩とを含むゴム組成物を架橋して形成する工程を有し、
該ポリエーテル共重合体が、８０モル％以上８９モル％以下のエチレンオキサイド由来のユニットと、１モル％以上９モル％以下のアルキレンオキサイド（エチレンオキサイドを除く）由来のユニットと、１０モル％以上１９モル％以下のアリルグリシジルエーテル由来のユニットとを有することを特徴とする帯電部材の製造方法。
前記過塩素酸４級アンモニウム塩が、下記式（化１）に示す構造を有することを特徴とする請求項１に記載の帯電部材の製造方法。

（Ｒ₁乃至Ｒ₄は、それぞれ独立に炭素数１乃至１６のアルキル基または下記式（化２）に示す末端にヒドロキシ基を有する官能基から選択される。）

（Ｒ₅は、単結合、炭素数１乃至６のアルキレン基、または、

（ｎは１又は２）
に示す構造から選択される。）
前記アクリロニトリルブタジエンゴムが、２５モル％以上４０モル％以下のアクリロニトリル由来のユニットと、６０モル％以上７５モル％以下のブタジエン由来のユニットとを有することを特徴とする請求項１又は２に記載の帯電部材の製造方法。
前記ゴム組成物が、さらにエピクロルヒドリンゴムを含むことを特徴とする請求項１乃至３のいずれかに記載の帯電部材の製造方法。
前記エピクロルヒドリンゴムが、２０モル％以上２５モル％以下のエピクロルヒドリン由来のユニットと、７０モル％以上７９モル％以下のエチレンオキサイド由来のユニットと、１モル％以上１０モル％以下のアリルグリシジルエーテル由来のユニットとを有することを特徴とする請求項４に記載の帯電部材の製造方法。