JP2009007515A - 微細パターン転写材料用組成物および微細パターンの形成方法 - Google Patents
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| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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| JP (1) | JP2009007515A (enExample) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2009166414A (ja) * | 2008-01-18 | 2009-07-30 | Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd | インプリント用膜形成組成物、並びに構造体の製造方法及び構造体 |
| JP2013051410A (ja) * | 2011-07-29 | 2013-03-14 | Dic Corp | ドライエッチングレジスト材料、レジスト膜及びパターン形成物 |
| WO2013164881A1 (ja) * | 2012-05-01 | 2013-11-07 | 信越エンジニアリング株式会社 | 表示装置の製造方法及びその製造装置 |
| JP2015030139A (ja) * | 2013-07-31 | 2015-02-16 | 東京応化工業株式会社 | 構造体の製造方法 |
| JP2017095643A (ja) * | 2015-11-27 | 2017-06-01 | 信越化学工業株式会社 | ケイ素含有縮合物、ケイ素含有レジスト下層膜形成用組成物、及びパターン形成方法 |
Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2005179541A (ja) * | 2003-12-19 | 2005-07-07 | Dow Corning Toray Silicone Co Ltd | 付加反応硬化型オルガノポリシロキサン樹脂組成物 |
| JP2006143835A (ja) * | 2004-11-18 | 2006-06-08 | Hitachi Chem Co Ltd | 放射線硬化性樹脂組成物、これを用いた光導波路、及び光導路の製造方法 |
| JP2008246876A (ja) * | 2007-03-30 | 2008-10-16 | Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd | ナノインプリント用の膜形成組成物、並びに構造体の製造方法及び構造体 |
-
2007
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Patent Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2005179541A (ja) * | 2003-12-19 | 2005-07-07 | Dow Corning Toray Silicone Co Ltd | 付加反応硬化型オルガノポリシロキサン樹脂組成物 |
| JP2006143835A (ja) * | 2004-11-18 | 2006-06-08 | Hitachi Chem Co Ltd | 放射線硬化性樹脂組成物、これを用いた光導波路、及び光導路の製造方法 |
| JP2008246876A (ja) * | 2007-03-30 | 2008-10-16 | Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd | ナノインプリント用の膜形成組成物、並びに構造体の製造方法及び構造体 |
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2009166414A (ja) * | 2008-01-18 | 2009-07-30 | Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd | インプリント用膜形成組成物、並びに構造体の製造方法及び構造体 |
| US9050624B2 (en) | 2008-01-18 | 2015-06-09 | Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd. | Film-forming composition for imprinting, method of manufacturing a structure, and structure |
| JP2013051410A (ja) * | 2011-07-29 | 2013-03-14 | Dic Corp | ドライエッチングレジスト材料、レジスト膜及びパターン形成物 |
| WO2013164881A1 (ja) * | 2012-05-01 | 2013-11-07 | 信越エンジニアリング株式会社 | 表示装置の製造方法及びその製造装置 |
| JP2015030139A (ja) * | 2013-07-31 | 2015-02-16 | 東京応化工業株式会社 | 構造体の製造方法 |
| JP2017095643A (ja) * | 2015-11-27 | 2017-06-01 | 信越化学工業株式会社 | ケイ素含有縮合物、ケイ素含有レジスト下層膜形成用組成物、及びパターン形成方法 |
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