JP2009001550A - 有機硫黄化合物及びその有害節足動物防除用途 - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、有機硫黄化合物及びその有害節足動物防除用途に関する。
従来より、有害節足動物の防除のために多くの有害節足動物防除剤が開発され、実用に供されている。
また、特許文献1には含フッ素有機硫黄化合物が記載されている。
また、特許文献1には含フッ素有機硫黄化合物が記載されている。
本発明は、有害節足動物に対して優れた防除効力を有する新規な化合物とその用途を提供することを課題とする。
本発明者等は、有害節足動物に対して優れた防除効力を有する化合物を見出すべく鋭意検討した結果、下記式(I)で示される有機硫黄化合物が有害昆虫類並びに有害ダニ類等の有害節足動物に対して優れた効力を有することを見出し、本発明に到った。
即ち、本発明は下記式(I)
〔式中、
R1は少なくとも1個のフッ素原子と少なくとも1個の群Aから選ばれる原子とを有するC3−C6ハロアルキル基を表し、
R2はシアノ基、C(=Q)OR5又はC(=Q)N(R6)2を表し、
R3は水素原子、ハロゲン原子又はC1−C4アルキル基を表し、
R4はC1−C5フルオロアルキル基を表し、
Qは酸素原子又は硫黄原子を表し、
R5はC1−C4アルキル基を表し、
R6は各々独立して水素原子又はC1−C4アルキル基を表すか、2つのR6とNが末端で結合してC2−C7アルキレン基を表し、
nは0、1又は2を表す。
群A:塩素原子、臭素原子、および、沃素原子。〕
で示される有機硫黄化合物(以下、本発明化合物と記す場合がある。)、本発明化合物を有効成分として含有することを特徴とする本発明の有害節足動物防除剤及び本発明化合物の有効量を有害節足動物又は有害節足動物の生息場所に施用することを特徴とする有害節足動物の防除方法を提供する。
即ち、本発明は下記式(I)
〔式中、
R1は少なくとも1個のフッ素原子と少なくとも1個の群Aから選ばれる原子とを有するC3−C6ハロアルキル基を表し、
R2はシアノ基、C(=Q)OR5又はC(=Q)N(R6)2を表し、
R3は水素原子、ハロゲン原子又はC1−C4アルキル基を表し、
R4はC1−C5フルオロアルキル基を表し、
Qは酸素原子又は硫黄原子を表し、
R5はC1−C4アルキル基を表し、
R6は各々独立して水素原子又はC1−C4アルキル基を表すか、2つのR6とNが末端で結合してC2−C7アルキレン基を表し、
nは0、1又は2を表す。
群A:塩素原子、臭素原子、および、沃素原子。〕
で示される有機硫黄化合物(以下、本発明化合物と記す場合がある。)、本発明化合物を有効成分として含有することを特徴とする本発明の有害節足動物防除剤及び本発明化合物の有効量を有害節足動物又は有害節足動物の生息場所に施用することを特徴とする有害節足動物の防除方法を提供する。
本発明化合物は、有害節足動物に対して優れた防除効力を有することから、有害節足動物防除剤の有効成分として有用である。
本発明において、C1−C4等の記載は、各置換基を構成する全炭素原子数を意味する。
式(I)において、R1で示される「少なくとも1個のフッ素原子と少なくとも1個の群Aから選ばれる原子とを有するC3−C6ハロアルキル基」としては、例えば(1)少なくとも1個のフッ素原子と少なくとも1個の塩素原子とを有するC3−C6ハロアルキル基、(2)少なくとも1個のフッ素原子と少なくとも1個の臭素原子とを有するC3−C6ハロアルキル基、(3)少なくとも1個のフッ素原子と少なくとも1個の塩素原子と少なくとも1個の臭素原子とを有するC3−C6ハロアルキル基が挙げられる。
(1)少なくとも1個のフッ素原子と少なくとも1個の塩素原子とを有するC3−C6ハロアルキル基としては、例えば
3−クロロ−3,3−ジフルオロプロピル基、1−クロロ−1,3,3,3−テトラフルオロプロピル基、2,3−ジクロロ−2,3,3−トリフルオロプロピル基、2,2−ジクロロ−3,3,3−トリフルオロプロピル基等のC3ハロアルキル基;
2−クロロ−2,4,4,4−テトラフルオロブチル基、3,4−ジクロロ−3,4,4−トリフルオロブチル基、3,3−ジクロロ−4,4,4−トリフルオロブチル基、4−クロロ−1,1,2,3,3,4,4−ヘプタフルオロブチル基、3,3−ジクロロ−4,4,4−トリフルオロブチル基、3,4−ジクロロ−3,4,4−トリフルオロブチル基等のC4ハロアルキル基;
5−クロロ−2,2,3,4,4,5,5−ヘプタフルオロペンチル基、4,4−ジクロロ−5,5,5−トリフルオロペンチル基、4,5−ジクロロ−4,5,5−トリフルオロペンチル基等のC5ハロアルキル基が挙げられる。
(1)少なくとも1個のフッ素原子と少なくとも1個の塩素原子とを有するC3−C6ハロアルキル基としては、例えば
3−クロロ−3,3−ジフルオロプロピル基、1−クロロ−1,3,3,3−テトラフルオロプロピル基、2,3−ジクロロ−2,3,3−トリフルオロプロピル基、2,2−ジクロロ−3,3,3−トリフルオロプロピル基等のC3ハロアルキル基;
2−クロロ−2,4,4,4−テトラフルオロブチル基、3,4−ジクロロ−3,4,4−トリフルオロブチル基、3,3−ジクロロ−4,4,4−トリフルオロブチル基、4−クロロ−1,1,2,3,3,4,4−ヘプタフルオロブチル基、3,3−ジクロロ−4,4,4−トリフルオロブチル基、3,4−ジクロロ−3,4,4−トリフルオロブチル基等のC4ハロアルキル基;
5−クロロ−2,2,3,4,4,5,5−ヘプタフルオロペンチル基、4,4−ジクロロ−5,5,5−トリフルオロペンチル基、4,5−ジクロロ−4,5,5−トリフルオロペンチル基等のC5ハロアルキル基が挙げられる。
(2)少なくとも1個のフッ素原子と少なくとも1個の臭素原子とを有するC3−C6ハロアルキル基としては、例えば
2,2−ジブロモ−3,3,3−トリフルオロプロピル基、2−ブロモ−3,3,3−トリフルオロプロピル基、2,3−ジブロモ−3,3−ジフルオロプロピル基、3−ブロモ−3,3−ジフルオロプロピル基、1−ブロモ−1,3,3,3−テトラフルオロプロピル基、1−ブロモ−2,2,3,3,3−ペンタフルオロプロピル基、1,3−ジブロモ−2,2,3,3−テトラフルオロプロピル基、3−ブロモ−2,3,3−トリフルオロプロピル基、3−ブロモ−2,2,3,3−テトラフルオロプロピル基、2,3−ジブロモ−2,3,3−トリフルオロプロピル基、3−ブロモ−3,3−ジフルオロプロピル基等のC3ハロアルキル基;
2−ブロモ−2,4,4,4−テトラフルオロブチル基、2−ブロモ−3,3,4,4,4−ペンタフルオロブチル基、2,4−ジブロモ−3,3,4,4−テトラフルオロブチル基、4−ブロモ−3,4,4−トリフルオロブチル基、4−ブロモ−3,3,4,4−テトラフルオロブチル基、3,4−ジブロモ−3,4,4−トリフルオロブチル基、4−ブロモ−4,4−ジフルオロブチル基、4−ブロモ−3,3,4,4−テトラフルオロブチル基等のC4ハロアルキル基;
5−ブロモ−4,4,5,5−テトラフルオロペンチル基、1−ブロモ−2,2,3,3,4,4,5,5,5−ノナフルオロペンチル基、1,1−ジブロモ−2,2,3,3,4,4,5,5,5−ノナフルオロペンチル基等のC5ハロアルキル基;
2−ブロモ−3,3,4,4,5,5,6,6,6−ノナフルオロヘキシル基、2,2−ジブロモ−3,3,4,4,5,5,6,6,6−ノナフルオロヘキシル基等のC6ハロアルキル基が挙げられる。
2,2−ジブロモ−3,3,3−トリフルオロプロピル基、2−ブロモ−3,3,3−トリフルオロプロピル基、2,3−ジブロモ−3,3−ジフルオロプロピル基、3−ブロモ−3,3−ジフルオロプロピル基、1−ブロモ−1,3,3,3−テトラフルオロプロピル基、1−ブロモ−2,2,3,3,3−ペンタフルオロプロピル基、1,3−ジブロモ−2,2,3,3−テトラフルオロプロピル基、3−ブロモ−2,3,3−トリフルオロプロピル基、3−ブロモ−2,2,3,3−テトラフルオロプロピル基、2,3−ジブロモ−2,3,3−トリフルオロプロピル基、3−ブロモ−3,3−ジフルオロプロピル基等のC3ハロアルキル基;
2−ブロモ−2,4,4,4−テトラフルオロブチル基、2−ブロモ−3,3,4,4,4−ペンタフルオロブチル基、2,4−ジブロモ−3,3,4,4−テトラフルオロブチル基、4−ブロモ−3,4,4−トリフルオロブチル基、4−ブロモ−3,3,4,4−テトラフルオロブチル基、3,4−ジブロモ−3,4,4−トリフルオロブチル基、4−ブロモ−4,4−ジフルオロブチル基、4−ブロモ−3,3,4,4−テトラフルオロブチル基等のC4ハロアルキル基;
5−ブロモ−4,4,5,5−テトラフルオロペンチル基、1−ブロモ−2,2,3,3,4,4,5,5,5−ノナフルオロペンチル基、1,1−ジブロモ−2,2,3,3,4,4,5,5,5−ノナフルオロペンチル基等のC5ハロアルキル基;
2−ブロモ−3,3,4,4,5,5,6,6,6−ノナフルオロヘキシル基、2,2−ジブロモ−3,3,4,4,5,5,6,6,6−ノナフルオロヘキシル基等のC6ハロアルキル基が挙げられる。
(3)少なくとも1個のフッ素原子と少なくとも1個の塩素原子と少なくとも1個の臭素原子とを有するC3−C6ハロアルキル基としては、例えば
3−ブロモ−2−クロロ−3,3−ジフルオロプロピル基、3−ブロモ−2−クロロ−2,3,3−トリフルオロプロピル基等のC3ハロアルキル基;
4−ブロモ−3−クロロ−4,4−ジフルオロブチル基、4−ブロモ−3−クロロ−3,4,4−トリフルオロブチル基、3−クロロ−1,4−ジブロモ−3,4,4−トリフルオロブチル基、4−ブロモ−3−クロロ−3,4,4−トリフルオロブチル基等のC4ハロアルキル基;
4−クロロ−2,5−ジブロモ−4,5,5−トリフルオロペンチル基、5−ブロモ−4−クロロ−4,5,5−トリフルオロペンチル基、5−ブロモ−4−クロロ−4,5,5−トリフルオロペンチル基、6−ブロモ−5−クロロ−5,6,6−トリフルオロヘキシル基等のC5−6ハロアルキル基が挙げられる。
本発明において「少なくとも1個のフッ素原子と少なくとも1個の群Aから選ばれる原子とを有するC3−C6ハロアルキル基」としては、下記式で示される基が好ましく例示される。
(CH2)s−CuFvClw、
(CH2)s−CuFvBry、又は、
(CH2)s−CuFvClwBry
〔式中、sは0〜3の整数を表し、uは1〜3の整数を表し、v、w及びyは独立して1〜6の整数を表す。但し、s+uは6以下であり、v+w+y=2u+1である。〕
3−ブロモ−2−クロロ−3,3−ジフルオロプロピル基、3−ブロモ−2−クロロ−2,3,3−トリフルオロプロピル基等のC3ハロアルキル基;
4−ブロモ−3−クロロ−4,4−ジフルオロブチル基、4−ブロモ−3−クロロ−3,4,4−トリフルオロブチル基、3−クロロ−1,4−ジブロモ−3,4,4−トリフルオロブチル基、4−ブロモ−3−クロロ−3,4,4−トリフルオロブチル基等のC4ハロアルキル基;
4−クロロ−2,5−ジブロモ−4,5,5−トリフルオロペンチル基、5−ブロモ−4−クロロ−4,5,5−トリフルオロペンチル基、5−ブロモ−4−クロロ−4,5,5−トリフルオロペンチル基、6−ブロモ−5−クロロ−5,6,6−トリフルオロヘキシル基等のC5−6ハロアルキル基が挙げられる。
本発明において「少なくとも1個のフッ素原子と少なくとも1個の群Aから選ばれる原子とを有するC3−C6ハロアルキル基」としては、下記式で示される基が好ましく例示される。
(CH2)s−CuFvClw、
(CH2)s−CuFvBry、又は、
(CH2)s−CuFvClwBry
〔式中、sは0〜3の整数を表し、uは1〜3の整数を表し、v、w及びyは独立して1〜6の整数を表す。但し、s+uは6以下であり、v+w+y=2u+1である。〕
式(I)において、R4で示される「C1−C5フルオロアルキル基」としては、例えば
フルオロメチル基、ジフルオロメチル基、トリフルオロメチル基、1−フルオロエチル基、2−フルオロエチル基、1,1−ジフルオロエチル基、2,2−ジフルオロエチル基、2,2,2−トリフルオロエチル基、1,1,2,2,2−ペンタフルオロエチル基等のC1−C2フルオロアルキル基;
1−フルオロプロピル基、1,1−ジフルオロプロピル基、2−フルオロプロピル基、2,2−ジフルオロプロピル基、3−フルオロプロピル基、3,3−ジフルオロプロピル基、3,3,3−トリフルオロプロピル基、1,1,2,2,3,3,3−ヘプタフルオロプロピル基、2,2,3,3,3−ペンタフルオロプロピル基、2,2,2−トリフルオロ−(1−トリフルオロメチル)エチル基、1,2,2,2−テトラフルオロ−(1−トリフルオロメチル)エチル基、2,2,3,3−テトラフルオロプロピル基等のC3フルオロアルキル基;
1−フルオロブチル基、1,1−ジフルオロブチル基、2−フルオロブチル基、2,2−ジフルオロブチル基、3−フルオロブチル基、3,3−ジフルオロブチル基、4−フルオロブチル基、4,4−ジフルオロブチル基、4,4,4−トリフルオロブチル基、3,3,4,4,4−ペンタフルオロブチル基、2,2,3,4,4−ペンタフルオロブチル基、2,2,3,3,4,4,4−ヘプタフルオロブチル基等のC4フルオロアルキル基;
1−フルオロペンチル基、1,1−ジフルオロペンチル基、2−フルオロペンチル基、2,2−ジフルオロペンチル基、3−フルオロペンチル基、3,3−ジフルオロペンチル基、4−フルオロペンチル基、4,4−ジフルオロペンチル基、5−フルオロペンチル基、5,5−ジフルオロペンチル基、5,5,5−トリフルオロペンチル基、4,4,5,5,5−ペンタフルオロペンチル基、3,3,4,4,5,5,5−ヘプタフルオロペンチル基、2,2,3,3,4,4,5,5−オクタフルオロペンチル基及び2,2,3,3,4,4,5,5,5−ノナフルオロペンチル基等のC5フルオロアルキル基が挙げられる。
本発明において「C1−C5フルオロアルキル基」としては、下記式で示される基が好ましく例示される。
(CH2)r−CtF(2t+1)
〔式中、rは0〜4の整数を表し、tは1〜3の整数を表す。但し、r+tは5以下である。〕
フルオロメチル基、ジフルオロメチル基、トリフルオロメチル基、1−フルオロエチル基、2−フルオロエチル基、1,1−ジフルオロエチル基、2,2−ジフルオロエチル基、2,2,2−トリフルオロエチル基、1,1,2,2,2−ペンタフルオロエチル基等のC1−C2フルオロアルキル基;
1−フルオロプロピル基、1,1−ジフルオロプロピル基、2−フルオロプロピル基、2,2−ジフルオロプロピル基、3−フルオロプロピル基、3,3−ジフルオロプロピル基、3,3,3−トリフルオロプロピル基、1,1,2,2,3,3,3−ヘプタフルオロプロピル基、2,2,3,3,3−ペンタフルオロプロピル基、2,2,2−トリフルオロ−(1−トリフルオロメチル)エチル基、1,2,2,2−テトラフルオロ−(1−トリフルオロメチル)エチル基、2,2,3,3−テトラフルオロプロピル基等のC3フルオロアルキル基;
1−フルオロブチル基、1,1−ジフルオロブチル基、2−フルオロブチル基、2,2−ジフルオロブチル基、3−フルオロブチル基、3,3−ジフルオロブチル基、4−フルオロブチル基、4,4−ジフルオロブチル基、4,4,4−トリフルオロブチル基、3,3,4,4,4−ペンタフルオロブチル基、2,2,3,4,4−ペンタフルオロブチル基、2,2,3,3,4,4,4−ヘプタフルオロブチル基等のC4フルオロアルキル基;
1−フルオロペンチル基、1,1−ジフルオロペンチル基、2−フルオロペンチル基、2,2−ジフルオロペンチル基、3−フルオロペンチル基、3,3−ジフルオロペンチル基、4−フルオロペンチル基、4,4−ジフルオロペンチル基、5−フルオロペンチル基、5,5−ジフルオロペンチル基、5,5,5−トリフルオロペンチル基、4,4,5,5,5−ペンタフルオロペンチル基、3,3,4,4,5,5,5−ヘプタフルオロペンチル基、2,2,3,3,4,4,5,5−オクタフルオロペンチル基及び2,2,3,3,4,4,5,5,5−ノナフルオロペンチル基等のC5フルオロアルキル基が挙げられる。
本発明において「C1−C5フルオロアルキル基」としては、下記式で示される基が好ましく例示される。
(CH2)r−CtF(2t+1)
〔式中、rは0〜4の整数を表し、tは1〜3の整数を表す。但し、r+tは5以下である。〕
式(I)において、R3で示されるC1−C4アルキル基としては、例えばメチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、tert−ブチル基が挙げられる。
式(I)において、R5で示される「C1−C4アルキル基」としては、例えばメチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、tert−ブチル基が挙げられる。
式(I)において、R6で示される「C1−C4アルキル基」としては、例えばメチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、tert−ブチル基が挙げられる。2つのR6が末端で結合してなる「C2−C7アルキレン基」としては、例えばエチレン基、トリメチレン基、テトラメチレン基、ヘキサメチレン基が挙げられる。
N(R6)2で示される基としては、例えばアミノ基、メチルアミノ基、エチルアミノ基、プロピルアミノ基、2−プロピルアミノ基、ブチルアミノ基、イソブチルアミノ基、tert−ブチルアミノ基、ジメチルアミノ基のアミノ基;1−アジリジノ基、1−アゼチジニル基、1−ピロリジニル基、ピペリジノ基の環状アミノ基が挙げられる。
N(R6)2で示される基としては、例えばアミノ基、メチルアミノ基、エチルアミノ基、プロピルアミノ基、2−プロピルアミノ基、ブチルアミノ基、イソブチルアミノ基、tert−ブチルアミノ基、ジメチルアミノ基のアミノ基;1−アジリジノ基、1−アゼチジニル基、1−ピロリジニル基、ピペリジノ基の環状アミノ基が挙げられる。
本発明化合物の態様としては、例えば以下のものが挙げられる。
式(I)において、nが2である有機硫黄化合物;
式(I)において、Qが酸素原子である有機硫黄化合物;
式(I)において、R2がシアノ基である有機硫黄化合物;
式(I)において、R2がC(=Q)OR5又はC(=Q)N(R6)2である有機硫黄化合物;
式(I)において、R2がC(=Q)N(R6)2であり、R6が各々独立して水素原子又はC1−C4アルキル基である有機硫黄化合物;
式(I)において、R2がC(=Q)N(R6)2であり、R6が水素原子である有機硫黄化合物;
式(I)において、Qが酸素原子である有機硫黄化合物;
式(I)において、R2がシアノ基である有機硫黄化合物;
式(I)において、R2がC(=Q)OR5又はC(=Q)N(R6)2である有機硫黄化合物;
式(I)において、R2がC(=Q)N(R6)2であり、R6が各々独立して水素原子又はC1−C4アルキル基である有機硫黄化合物;
式(I)において、R2がC(=Q)N(R6)2であり、R6が水素原子である有機硫黄化合物;
式(I)において、R1が下記式
(CH2)s−CuFvClw、
(CH2)s−CuFvBry、又は、
(CH2)s−CuFvClwBry
〔式中、sは0〜3の整数を表し、uは1〜3の整数を表し、v、w及びyは独立して1〜6の整数を表す。但し、s+uは6以下であり、v+w+y=2u+1である。〕
で示される基である有機硫黄化合物;
(CH2)s−CuFvClw、
(CH2)s−CuFvBry、又は、
(CH2)s−CuFvClwBry
〔式中、sは0〜3の整数を表し、uは1〜3の整数を表し、v、w及びyは独立して1〜6の整数を表す。但し、s+uは6以下であり、v+w+y=2u+1である。〕
で示される基である有機硫黄化合物;
式(I)において、R3が水素原子、フッ素原子、塩素原子又はアルキル基である有機硫黄化合物;
式(I)において、R3が水素原子である有機硫黄化合物;
式(I)において、R3がハロゲン原子である有機硫黄化合物;
式(I)において、R3がフッ素原子又は塩素原子である有機硫黄化合物;
式(I)において、R3がメチル基である有機硫黄化合物;
式(I)において、R3が水素原子である有機硫黄化合物;
式(I)において、R3がハロゲン原子である有機硫黄化合物;
式(I)において、R3がフッ素原子又は塩素原子である有機硫黄化合物;
式(I)において、R3がメチル基である有機硫黄化合物;
式(I)において、R4が下記式
(CH2)r−CtF(2t+1)
〔式中、rは0〜4の整数を表し、tは1〜3の整数を表す。但し、r+tは5以下である。〕
で示される基である有機硫黄化合物;
式(I)において、R4がC1−C3フルオロアルキル基である有機硫黄化合物;
式(I)において、R4がトリフルオロメチル基、1,1,2,2,2−ペンタフルオロエチル基、2,2,2−トリフルオロエチル基又は1,1,2,2,3,3,3−へプタフルオロプロピル基である有機硫黄化合物;
式(I)において、R4がトリフルオロメチル基である有機硫黄化合物;
式(I)において、R4が1,1,2,2,2−ペンタフルオロエチル基である有機硫黄化合物;
式(I)において、R4が2,2,2−トリフルオロエチル基である有機硫黄化合物;
式(I)において、R4が1,1,2,2,3,3,3−へプタフルオロプロピル基である有機硫黄化合物;
(CH2)r−CtF(2t+1)
〔式中、rは0〜4の整数を表し、tは1〜3の整数を表す。但し、r+tは5以下である。〕
で示される基である有機硫黄化合物;
式(I)において、R4がC1−C3フルオロアルキル基である有機硫黄化合物;
式(I)において、R4がトリフルオロメチル基、1,1,2,2,2−ペンタフルオロエチル基、2,2,2−トリフルオロエチル基又は1,1,2,2,3,3,3−へプタフルオロプロピル基である有機硫黄化合物;
式(I)において、R4がトリフルオロメチル基である有機硫黄化合物;
式(I)において、R4が1,1,2,2,2−ペンタフルオロエチル基である有機硫黄化合物;
式(I)において、R4が2,2,2−トリフルオロエチル基である有機硫黄化合物;
式(I)において、R4が1,1,2,2,3,3,3−へプタフルオロプロピル基である有機硫黄化合物;
式(I)において、Qが酸素原子であり、R3が水素原子である有機硫黄化合物;
式(I)において、Qが酸素原子であり、R3がハロゲン原子である有機硫黄化合物;
式(I)において、Qが酸素原子であり、R3がフッ素原子又は塩素原子である有機硫黄化合物;
式(I)において、Qが酸素原子であり、R3がメチル基である有機硫黄化合物;
式(I)において、Qが酸素原子であり、R3がハロゲン原子である有機硫黄化合物;
式(I)において、Qが酸素原子であり、R3がフッ素原子又は塩素原子である有機硫黄化合物;
式(I)において、Qが酸素原子であり、R3がメチル基である有機硫黄化合物;
式(I)において、R2がシアノ基であり、R3が水素原子である有機硫黄化合物;
式(I)において、R2がシアノ基であり、R3がハロゲン原子である有機硫黄化合物;
式(I)において、R2がシアノ基であり、R3がフッ素原子又は塩素原子である有機硫黄化合物;
式(I)において、R2がシアノ基であり、R3がメチル基である有機硫黄化合物;
式(I)において、R2がシアノ基であり、R3がハロゲン原子である有機硫黄化合物;
式(I)において、R2がシアノ基であり、R3がフッ素原子又は塩素原子である有機硫黄化合物;
式(I)において、R2がシアノ基であり、R3がメチル基である有機硫黄化合物;
式(I)において、R2がC(=Q)OR5又はC(=Q)N(R6)2であり、R3が水素原子である有機硫黄化合物;
式(I)において、R2がC(=Q)OR5又はC(=Q)N(R6)2であり、R3がハロゲン原子である有機硫黄化合物;
式(I)において、R2がC(=Q)OR5又はC(=Q)N(R6)2であり、R3がフッ素原子又は塩素原子である有機硫黄化合物;
式(I)において、R2がC(=Q)OR5又はC(=Q)N(R6)2であり、R3がメチル基である有機硫黄化合物;
式(I)において、R2がC(=Q)OR5又はC(=Q)N(R6)2であり、R3がハロゲン原子である有機硫黄化合物;
式(I)において、R2がC(=Q)OR5又はC(=Q)N(R6)2であり、R3がフッ素原子又は塩素原子である有機硫黄化合物;
式(I)において、R2がC(=Q)OR5又はC(=Q)N(R6)2であり、R3がメチル基である有機硫黄化合物;
式(I)において、R2がC(=Q)N(R6)2であり、R3が水素原子である有機硫黄化合物;
式(I)において、R2がC(=Q)N(R6)2であり、R3がハロゲン原子である有機硫黄化合物;
式(I)において、R2がC(=Q)N(R6)2であり、R3がフッ素原子又は塩素原子である有機硫黄化合物;
式(I)において、R2がC(=Q)N(R6)2であり、R3がメチル基である有機硫黄化合物;
式(I)において、R2がC(=Q)N(R6)2であり、R3がハロゲン原子である有機硫黄化合物;
式(I)において、R2がC(=Q)N(R6)2であり、R3がフッ素原子又は塩素原子である有機硫黄化合物;
式(I)において、R2がC(=Q)N(R6)2であり、R3がメチル基である有機硫黄化合物;
式(I)において、R2がC(=Q)N(R6)2であり、R6が水素原子であり、R3が水素原子である有機硫黄化合物;
式(I)において、R2がC(=Q)N(R6)2であり、R6が水素原子であり、R3がハロゲン原子である有機硫黄化合物;
式(I)において、R2がC(=Q)N(R6)2であり、R6が水素原子であり、R3がフッ素原子又は塩素原子である有機硫黄化合物;
式(I)において、R2がC(=Q)N(R6)2であり、R6が水素原子であり、R3がメチル基である有機硫黄化合物;
式(I)において、R2がC(=Q)N(R6)2であり、R6が水素原子であり、R3がハロゲン原子である有機硫黄化合物;
式(I)において、R2がC(=Q)N(R6)2であり、R6が水素原子であり、R3がフッ素原子又は塩素原子である有機硫黄化合物;
式(I)において、R2がC(=Q)N(R6)2であり、R6が水素原子であり、R3がメチル基である有機硫黄化合物;
式(I)において、nが2であり、R2がシアノ基であり、R3が水素原子である有機硫黄化合物;
式(I)において、nが2であり、R2がシアノ基であり、R3がハロゲン原子である有機硫黄化合物;
式(I)において、nが2であり、R2がシアノ基であり、R3がフッ素原子又は塩素原子である有機硫黄化合物;
式(I)において、nが2であり、R2がシアノ基であり、R3がメチル基である有機硫黄化合物;
式(I)において、nが2であり、R2がシアノ基であり、R3がハロゲン原子である有機硫黄化合物;
式(I)において、nが2であり、R2がシアノ基であり、R3がフッ素原子又は塩素原子である有機硫黄化合物;
式(I)において、nが2であり、R2がシアノ基であり、R3がメチル基である有機硫黄化合物;
式(I)において、nが2であり、R2がC(=Q)N(R6)2であり、R3が水素原子である有機硫黄化合物;
式(I)において、nが2であり、R2がC(=Q)N(R6)2であり、R3がハロゲン原子である有機硫黄化合物;
式(I)において、nが2であり、R2がC(=Q)N(R6)2であり、R3がフッ素原子又は塩素原子である有機硫黄化合物;
式(I)において、nが2であり、R2がC(=Q)N(R6)2であり、R3がメチル基である有機硫黄化合物;
式(I)において、nが2であり、R2がC(=Q)N(R6)2であり、R3がハロゲン原子である有機硫黄化合物;
式(I)において、nが2であり、R2がC(=Q)N(R6)2であり、R3がフッ素原子又は塩素原子である有機硫黄化合物;
式(I)において、nが2であり、R2がC(=Q)N(R6)2であり、R3がメチル基である有機硫黄化合物;
式(I)において、nが2であり、R2がC(=Q)N(R6)2であり、R6が水素原子であり、R3が水素原子である有機硫黄化合物;
式(I)において、nが2であり、R2がC(=Q)N(R6)2であり、R6が水素原子であり、R3がハロゲン原子である有機硫黄化合物;
式(I)において、nが2であり、R2がC(=Q)N(R6)2であり、R6が水素原子であり、R3がフッ素原子又は塩素原子である有機硫黄化合物;
式(I)において、nが2であり、R2がC(=Q)N(R6)2であり、R6が水素原子であり、R3がメチル基である有機硫黄化合物;
式(I)において、nが2であり、R2がC(=Q)N(R6)2であり、R6が水素原子であり、R3がハロゲン原子である有機硫黄化合物;
式(I)において、nが2であり、R2がC(=Q)N(R6)2であり、R6が水素原子であり、R3がフッ素原子又は塩素原子である有機硫黄化合物;
式(I)において、nが2であり、R2がC(=Q)N(R6)2であり、R6が水素原子であり、R3がメチル基である有機硫黄化合物;
式(I)において、R1が下記式
(CH2)s−CuFvClw、
(CH2)s−CuFvBry、又は、
(CH2)s−CuFvClwBry
〔式中、sは0〜3の整数を表し、uは1〜3の整数を表し、v、w及びyは独立して1〜6の整数を表す。但し、s+uは6以下であり、v+w+y=2u+1である。〕
で示される基であり、R2がシアノ基、C(=O)OR5又はC(=O)N(R6)2であり、R3が水素原子、メチル基、エチル基、フッ素原子又は塩素原子であり、R4がトリフルオロメチル基、1,1,2,2,2−ペンタフルオロエチル基、2,2,2−トリフルオロエチル基又は1,1,2,2,3,3,3−へプタフルオロプロピル基であり、R5がメチル基であり、R6が各々独立して水素原子又はメチル基である有機硫黄化合物;
式(I)において、R1が下記式
(CH2)s−CuFvClw、又は、
(CH2)s−CuFvBry
〔式中、sは0〜3の整数を表し、uは1〜3の整数を表し、v、w及びyは独立して1〜6の整数を表す。但し、s+uは6以下であり、v+w+y=2u+1である。〕
で示される基であり、R2がシアノ基、C(=O)OR5又はC(=O)N(R6)2であり、R3が水素原子又は塩素原子であり、R4がトリフルオロメチル基であり、R5がメチル基であり、R6が水素原子である有機硫黄化合物。
(CH2)s−CuFvClw、
(CH2)s−CuFvBry、又は、
(CH2)s−CuFvClwBry
〔式中、sは0〜3の整数を表し、uは1〜3の整数を表し、v、w及びyは独立して1〜6の整数を表す。但し、s+uは6以下であり、v+w+y=2u+1である。〕
で示される基であり、R2がシアノ基、C(=O)OR5又はC(=O)N(R6)2であり、R3が水素原子、メチル基、エチル基、フッ素原子又は塩素原子であり、R4がトリフルオロメチル基、1,1,2,2,2−ペンタフルオロエチル基、2,2,2−トリフルオロエチル基又は1,1,2,2,3,3,3−へプタフルオロプロピル基であり、R5がメチル基であり、R6が各々独立して水素原子又はメチル基である有機硫黄化合物;
式(I)において、R1が下記式
(CH2)s−CuFvClw、又は、
(CH2)s−CuFvBry
〔式中、sは0〜3の整数を表し、uは1〜3の整数を表し、v、w及びyは独立して1〜6の整数を表す。但し、s+uは6以下であり、v+w+y=2u+1である。〕
で示される基であり、R2がシアノ基、C(=O)OR5又はC(=O)N(R6)2であり、R3が水素原子又は塩素原子であり、R4がトリフルオロメチル基であり、R5がメチル基であり、R6が水素原子である有機硫黄化合物。
次に、本発明化合物の製造法について説明する。
本発明化合物は、例えば以下の(製造法1)〜(製造法12)により製造することができる。
本発明化合物は、例えば以下の(製造法1)〜(製造法12)により製造することができる。
(製造法1)
本発明化合物のうち、R3がC1−C4アルキル基である化合物(I−2)は、例えば下記の化合物(a)と化合物(I−1)とを反応させることにより製造することができる。
[式中、R1、R2、R4及びnは前記と同じ意味を表し、R3-1はC1−C4アルキル基を表し、Xは塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、メタンスルホニルオキシ基、p−トルエンスルホニルオキシ基及びトリフルオロメタンスルホニルオキシ基等の脱離基を表す。]
該反応は通常溶媒中、塩基の存在下で行われる。
反応に用いられる溶媒としては、例えばN,N−ジメチルホルムアミド等の酸アミド、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン等のエーテル、ジメチルスルホキシド、スルホラン等の有機硫黄、クロロホルム、1,2−ジクロロエタン、クロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素、水及びそれらの混合物が挙げられる。
該反応に用いられる塩基としては、例えば水素化ナトリウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸カリウム等の無機塩基、ナトリウムメトキシド、カリウム tert−ブトキシド等のアルカリ金属アルコキシド、リチウムジイソプロピルアミド等のアルカリ金属アミド及びトリエチルアミン、1,4−ジアザビシクロ[2.2.2]オクタン、1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]−7−ウンデセン等の有機塩基が挙げられる。反応に用いられる塩基の量は、化合物(I−1)1モルに対して通常1〜10モルの割合である。
反応に用いられる化合物(a)の量は、化合物(I−1)1モルに対し、通常1〜10モルの割合である。
該反応の反応温度は通常−100〜100℃の範囲であり、反応時間は通常1〜24時間の範囲である。
反応終了後は、反応混合物を水に注加し、有機溶媒抽出してから、濃縮する等の後処理操作を行うことにより化合物(I−2)を単離することができる。単離された化合物(I−2)は必要に応じてクロマトグラフィー、再結晶等によりさらに精製することもできる。
本発明化合物のうち、R3がC1−C4アルキル基である化合物(I−2)は、例えば下記の化合物(a)と化合物(I−1)とを反応させることにより製造することができる。
[式中、R1、R2、R4及びnは前記と同じ意味を表し、R3-1はC1−C4アルキル基を表し、Xは塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、メタンスルホニルオキシ基、p−トルエンスルホニルオキシ基及びトリフルオロメタンスルホニルオキシ基等の脱離基を表す。]
該反応は通常溶媒中、塩基の存在下で行われる。
反応に用いられる溶媒としては、例えばN,N−ジメチルホルムアミド等の酸アミド、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン等のエーテル、ジメチルスルホキシド、スルホラン等の有機硫黄、クロロホルム、1,2−ジクロロエタン、クロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素、水及びそれらの混合物が挙げられる。
該反応に用いられる塩基としては、例えば水素化ナトリウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸カリウム等の無機塩基、ナトリウムメトキシド、カリウム tert−ブトキシド等のアルカリ金属アルコキシド、リチウムジイソプロピルアミド等のアルカリ金属アミド及びトリエチルアミン、1,4−ジアザビシクロ[2.2.2]オクタン、1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]−7−ウンデセン等の有機塩基が挙げられる。反応に用いられる塩基の量は、化合物(I−1)1モルに対して通常1〜10モルの割合である。
反応に用いられる化合物(a)の量は、化合物(I−1)1モルに対し、通常1〜10モルの割合である。
該反応の反応温度は通常−100〜100℃の範囲であり、反応時間は通常1〜24時間の範囲である。
反応終了後は、反応混合物を水に注加し、有機溶媒抽出してから、濃縮する等の後処理操作を行うことにより化合物(I−2)を単離することができる。単離された化合物(I−2)は必要に応じてクロマトグラフィー、再結晶等によりさらに精製することもできる。
(製造法2)
本発明化合物のうち、R3が水素原子又はC1−C4アルキル基である化合物(I−3)は、例えば下記の化合物(c)と化合物(d)とを反応させることにより製造することができる。
[式中、R1、R2、R4、n及びXは前記と同じ意味を表し、R3-2は水素原子又はC1−C4アルキル基を表す。]
該反応は通常溶媒中、塩基の存在下で行われる。
反応に用いられる溶媒としては、例えばN,N−ジメチルホルムアミド等の酸アミド、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン等のエーテル、ジメチルスルホキシド、スルホラン等の有機硫黄、クロロホルム、1,2−ジクロロエタン、クロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素、水及びそれらの混合物が挙げられる。
該反応に用いられる塩基としては、例えば水素化ナトリウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸カリウム等の無機塩基、ナトリウムメトキシド、カリウム tert−ブトキシド等のアルカリ金属アルコキシド、リチウムジイソプロピルアミド等のアルカリ金属アミド及びトリエチルアミン、1,4−ジアザビシクロ[2.2.2]オクタン、1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]−7−ウンデセン等の有機塩基が挙げられる。反応に用いられる塩基の量は、化合物(d)1モルに対して通常1〜10モルの割合である。
反応に用いられる化合物(c)の量は、化合物(d)1モルに対し、通常1〜10モルの割合である。
該反応の反応温度は通常−100〜100℃の範囲であり、反応時間は通常1〜24時間の範囲である。
反応終了後は、反応混合物を水に注加し、有機溶媒抽出してから、濃縮する等の後処理操作を行うことにより化合物(I−3)を単離することができる。単離された化合物(I−3)は必要に応じてクロマトグラフィー、再結晶等によりさらに精製することもできる。
本発明化合物のうち、R3が水素原子又はC1−C4アルキル基である化合物(I−3)は、例えば下記の化合物(c)と化合物(d)とを反応させることにより製造することができる。
[式中、R1、R2、R4、n及びXは前記と同じ意味を表し、R3-2は水素原子又はC1−C4アルキル基を表す。]
該反応は通常溶媒中、塩基の存在下で行われる。
反応に用いられる溶媒としては、例えばN,N−ジメチルホルムアミド等の酸アミド、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン等のエーテル、ジメチルスルホキシド、スルホラン等の有機硫黄、クロロホルム、1,2−ジクロロエタン、クロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素、水及びそれらの混合物が挙げられる。
該反応に用いられる塩基としては、例えば水素化ナトリウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸カリウム等の無機塩基、ナトリウムメトキシド、カリウム tert−ブトキシド等のアルカリ金属アルコキシド、リチウムジイソプロピルアミド等のアルカリ金属アミド及びトリエチルアミン、1,4−ジアザビシクロ[2.2.2]オクタン、1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]−7−ウンデセン等の有機塩基が挙げられる。反応に用いられる塩基の量は、化合物(d)1モルに対して通常1〜10モルの割合である。
反応に用いられる化合物(c)の量は、化合物(d)1モルに対し、通常1〜10モルの割合である。
該反応の反応温度は通常−100〜100℃の範囲であり、反応時間は通常1〜24時間の範囲である。
反応終了後は、反応混合物を水に注加し、有機溶媒抽出してから、濃縮する等の後処理操作を行うことにより化合物(I−3)を単離することができる。単離された化合物(I−3)は必要に応じてクロマトグラフィー、再結晶等によりさらに精製することもできる。
本発明化合物(I)のうち、R3がハロゲン原子である化合物(I−4)は、例えば下記の(製造法3)又は(製造法4)で示される方法にて製造することができる。
(製造法3)
化合物(I−1)とハロゲン化剤(e)とを塩基の存在下で反応させることにより製造する方法。
[式中、R1、R2、R4及びnは前記と同じ意味を表し、R3-3はハロゲン原子を表す。]
該反応は通常溶媒中、塩基の存在下で行われる。
反応に用いられる溶媒としては、例えばN,N−ジメチルホルムアミド等の酸アミド、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン等のエーテル、ジメチルスルホキシド、スルホラン等の有機硫黄、クロロホルム、1,2−ジクロロエタン、クロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素、水及びそれらの混合物が挙げられる。
該反応に用いられる塩基としては、例えば水素化ナトリウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸カリウム等の無機塩基、ナトリウムメトキシド、カリウムtert−ブトキシド等のアルカリ金属アルコキシド、リチウムジイソプロピルアミド等のアルカリ金属アミド及びトリエチルアミン、1,4−ジアザビシクロ[2.2.2]オクタン、1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]−7−ウンデセン等の有機塩基が挙げられる。反応に用いられる塩基の量は、化合物(I−1)1モルに対して通常1〜10モルの割合である。
該反応に用いられるハロゲン化剤(e)としては、例えば四塩化炭素、ヘキサクロロエタン等のハロゲン化炭化水素、フッ素、塩素、臭素、ヨウ素のハロゲン、N−クロロコハク酸イミド、N−ブロモコハク酸イミド、N−ヨードコハク酸イミド等のハロゲン化スクシンイミド、1−フルオロ−2,4,6−トリメチルピリジニウム トリフルオロメタンスルホナート、1,1’−ジフルオロ−2,2’−ビピリジニウム ビステトラフルオロボレート等のN−フルオロピリジニウム塩、塩化銅(II)、臭化銅(II)等の無機塩が挙げられる。
反応に用いられるハロゲン化剤(e)の量は、化合物(I−1)1モルに対し、通常1〜10モルの割合である。
該反応の反応温度は通常−100〜100℃の範囲であり、反応時間は通常1〜24時間の範囲である。
反応終了後は、反応混合物を水に注加し、有機溶媒抽出してから、濃縮する等の後処理操作を行うことにより化合物(I−4)を単離することができる。単離された化合物(I−4)は必要に応じてクロマトグラフィー、再結晶等によりさらに精製することもできる。
(製造法3)
化合物(I−1)とハロゲン化剤(e)とを塩基の存在下で反応させることにより製造する方法。
[式中、R1、R2、R4及びnは前記と同じ意味を表し、R3-3はハロゲン原子を表す。]
該反応は通常溶媒中、塩基の存在下で行われる。
反応に用いられる溶媒としては、例えばN,N−ジメチルホルムアミド等の酸アミド、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン等のエーテル、ジメチルスルホキシド、スルホラン等の有機硫黄、クロロホルム、1,2−ジクロロエタン、クロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素、水及びそれらの混合物が挙げられる。
該反応に用いられる塩基としては、例えば水素化ナトリウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸カリウム等の無機塩基、ナトリウムメトキシド、カリウムtert−ブトキシド等のアルカリ金属アルコキシド、リチウムジイソプロピルアミド等のアルカリ金属アミド及びトリエチルアミン、1,4−ジアザビシクロ[2.2.2]オクタン、1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]−7−ウンデセン等の有機塩基が挙げられる。反応に用いられる塩基の量は、化合物(I−1)1モルに対して通常1〜10モルの割合である。
該反応に用いられるハロゲン化剤(e)としては、例えば四塩化炭素、ヘキサクロロエタン等のハロゲン化炭化水素、フッ素、塩素、臭素、ヨウ素のハロゲン、N−クロロコハク酸イミド、N−ブロモコハク酸イミド、N−ヨードコハク酸イミド等のハロゲン化スクシンイミド、1−フルオロ−2,4,6−トリメチルピリジニウム トリフルオロメタンスルホナート、1,1’−ジフルオロ−2,2’−ビピリジニウム ビステトラフルオロボレート等のN−フルオロピリジニウム塩、塩化銅(II)、臭化銅(II)等の無機塩が挙げられる。
反応に用いられるハロゲン化剤(e)の量は、化合物(I−1)1モルに対し、通常1〜10モルの割合である。
該反応の反応温度は通常−100〜100℃の範囲であり、反応時間は通常1〜24時間の範囲である。
反応終了後は、反応混合物を水に注加し、有機溶媒抽出してから、濃縮する等の後処理操作を行うことにより化合物(I−4)を単離することができる。単離された化合物(I−4)は必要に応じてクロマトグラフィー、再結晶等によりさらに精製することもできる。
(製造法4)
化合物(I−1)とハロゲン化剤(f)とを反応させることにより製造する方法。
[式中、R1、R2、R4、R3-3及びnは前記と同じ意味を表す。]
該反応は無溶媒若しくは溶媒中で行われる。
反応に用いられる溶媒としては、例えばクロロホルム、四塩化炭素、1,2−ジクロロエタン、クロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素、アセトニトリル、プロピオニトリル等の脂肪族ニトリル、酢酸等の脂肪族カルボン酸、二硫化炭素、水及びそれらの混合物が挙げられる。
該反応に用いられるハロゲン化剤(f)としては、例えばフッ素、塩素、臭素、ヨウ素のハロゲン、フッ化水素、塩化水素、臭化水素、ヨウ化水素のハロゲン化水素、塩化チオニル、臭化チオニル、塩化スルフリル等のハロゲン化硫黄化合物、三塩化リン、三臭化リン、五塩化リン、オキシ塩化リン等のハロゲン化リン化合物があげられる。
反応に用いられるハロゲン化剤(f)の量は、化合物(I−1)1モルに対し、通常1〜10モルの割合である。
該反応の反応温度は通常−100〜200℃の範囲であり、反応時間は通常1〜24時間の範囲である。
反応終了後は、反応混合物を水に注加し、有機溶媒抽出してから、濃縮する等の後処理操作を行うことにより化合物(I−4)を単離することができる。単離された化合物(I−4)は必要に応じてクロマトグラフィー、再結晶等によりさらに精製することもできる。
化合物(I−1)とハロゲン化剤(f)とを反応させることにより製造する方法。
[式中、R1、R2、R4、R3-3及びnは前記と同じ意味を表す。]
該反応は無溶媒若しくは溶媒中で行われる。
反応に用いられる溶媒としては、例えばクロロホルム、四塩化炭素、1,2−ジクロロエタン、クロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素、アセトニトリル、プロピオニトリル等の脂肪族ニトリル、酢酸等の脂肪族カルボン酸、二硫化炭素、水及びそれらの混合物が挙げられる。
該反応に用いられるハロゲン化剤(f)としては、例えばフッ素、塩素、臭素、ヨウ素のハロゲン、フッ化水素、塩化水素、臭化水素、ヨウ化水素のハロゲン化水素、塩化チオニル、臭化チオニル、塩化スルフリル等のハロゲン化硫黄化合物、三塩化リン、三臭化リン、五塩化リン、オキシ塩化リン等のハロゲン化リン化合物があげられる。
反応に用いられるハロゲン化剤(f)の量は、化合物(I−1)1モルに対し、通常1〜10モルの割合である。
該反応の反応温度は通常−100〜200℃の範囲であり、反応時間は通常1〜24時間の範囲である。
反応終了後は、反応混合物を水に注加し、有機溶媒抽出してから、濃縮する等の後処理操作を行うことにより化合物(I−4)を単離することができる。単離された化合物(I−4)は必要に応じてクロマトグラフィー、再結晶等によりさらに精製することもできる。
本発明化合物(I)のうち、R2がC(=O)OR5又はC(=O)N(R6)2である化合物(I−5)は、例えば下記の(製造法5)又は(製造法6)で示される方法にて製造することができる。
(製造法5)
化合物(i)と化合物(j)とを反応させることにより製造する方法。
[式中、R1、R3、R4及びnは前記と同じ意味を表し、Zはハロゲン原子を表し、R56はOR5又はN(R6)2を表す(R5及びR6は前記と同じ意味を表す)。]
(工程5−1)
化合物(i)は、化合物(g)とハロゲン化剤(h)とを反応させることにより製造することができる。
該反応は無溶媒若しくは溶媒中で行うことができる。
反応に用いられる溶媒としては、例えばクロロホルム、ジクロロメタン、1,2−ジクロロエタン、クロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素が挙げられる。
反応に用いられるハロゲン化剤(h)としては、例えば塩化オキサリル、塩化チオニル、臭化チオニル、三塩化リン、三臭化リン及び五塩化リンが挙げられる。反応に用いられるハロゲン化剤(h)の量は、化合物(g)1モルに対し、通常1モル〜溶媒量の割合である。
該反応の反応温度は通常−20〜100℃の範囲であり、反応時間は通常1〜24時間の範囲である。
反応終了後は、反応混合物を濃縮する等の操作を行うことにより化合物(i)を単離することができる。単離された化合物(i)は蒸留等によりさらに精製することもできる。
(工程5−2)
該反応は通常溶媒中、塩基の存在下で行われる。
反応に用いられる溶媒としては、例えばN,N−ジメチルホルムアミド等の酸アミド、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン等のエーテル、ジメチルスルホキシド、スルホラン等の有機硫黄、クロロホルム、1,2−ジクロロエタン、クロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素、水及びそれらの混合物が挙げられる。
該反応に用いられる塩基としては、例えば水素化ナトリウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸カリウム等の無機塩基及びトリエチルアミン、1,4−ジアザビシクロ[2.2.2]オクタン、1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]−7−ウンデセン等の有機塩基が挙げられる。反応に用いられる塩基の量は、化合物(i)1モルに対して通常1〜10モルの割合である。
反応に用いられる化合物(j)の量は、化合物(i)1モルに対し、通常1〜10モルの割合である。
該反応の反応温度は通常−20〜100℃の範囲であり、反応時間は通常1〜24時間の範囲である。
反応終了後は、反応混合物を水に注加し、有機溶媒抽出してから、濃縮する等の後処理操作を行うことにより化合物(I−5)を単離することができる。単離された化合物(I−5)は必要に応じてクロマトグラフィー、再結晶等によりさらに精製することもできる。
(製造法5)
化合物(i)と化合物(j)とを反応させることにより製造する方法。
[式中、R1、R3、R4及びnは前記と同じ意味を表し、Zはハロゲン原子を表し、R56はOR5又はN(R6)2を表す(R5及びR6は前記と同じ意味を表す)。]
(工程5−1)
化合物(i)は、化合物(g)とハロゲン化剤(h)とを反応させることにより製造することができる。
該反応は無溶媒若しくは溶媒中で行うことができる。
反応に用いられる溶媒としては、例えばクロロホルム、ジクロロメタン、1,2−ジクロロエタン、クロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素が挙げられる。
反応に用いられるハロゲン化剤(h)としては、例えば塩化オキサリル、塩化チオニル、臭化チオニル、三塩化リン、三臭化リン及び五塩化リンが挙げられる。反応に用いられるハロゲン化剤(h)の量は、化合物(g)1モルに対し、通常1モル〜溶媒量の割合である。
該反応の反応温度は通常−20〜100℃の範囲であり、反応時間は通常1〜24時間の範囲である。
反応終了後は、反応混合物を濃縮する等の操作を行うことにより化合物(i)を単離することができる。単離された化合物(i)は蒸留等によりさらに精製することもできる。
(工程5−2)
該反応は通常溶媒中、塩基の存在下で行われる。
反応に用いられる溶媒としては、例えばN,N−ジメチルホルムアミド等の酸アミド、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン等のエーテル、ジメチルスルホキシド、スルホラン等の有機硫黄、クロロホルム、1,2−ジクロロエタン、クロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素、水及びそれらの混合物が挙げられる。
該反応に用いられる塩基としては、例えば水素化ナトリウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸カリウム等の無機塩基及びトリエチルアミン、1,4−ジアザビシクロ[2.2.2]オクタン、1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]−7−ウンデセン等の有機塩基が挙げられる。反応に用いられる塩基の量は、化合物(i)1モルに対して通常1〜10モルの割合である。
反応に用いられる化合物(j)の量は、化合物(i)1モルに対し、通常1〜10モルの割合である。
該反応の反応温度は通常−20〜100℃の範囲であり、反応時間は通常1〜24時間の範囲である。
反応終了後は、反応混合物を水に注加し、有機溶媒抽出してから、濃縮する等の後処理操作を行うことにより化合物(I−5)を単離することができる。単離された化合物(I−5)は必要に応じてクロマトグラフィー、再結晶等によりさらに精製することもできる。
(製造法6)
化合物(g)と化合物(j)とを反応させることにより製造する方法。
[式中、R1、R3、R4、R56及びnは前記と同じ意味を表す。]
該反応は通常溶媒中、縮合剤の存在下で行われる。
反応に用いられる溶媒としては、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン等のエーテル、ジメチルスルホキシド、スルホラン等の有機硫黄、クロロホルム、1,2−ジクロロエタン、クロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素が挙げられる。
反応に用いられる縮合剤としては、例えばジシクロヘキシルカルボジイミド、N−(3−ジメチルアミノプロピル)−N′−エチルカルボジイミド、カルボニルジイミダゾール等が挙げられる。
反応に用いられる縮合剤の量は、化合物(g)1モルに対し、通常1〜10モルの割合である。
反応に用いられる化合物(j)の量は、化合物(g)1モルに対し、通常1〜10モルの割合である。
該反応の反応温度は通常−20〜100℃の範囲であり、反応時間は通常1〜24時間の範囲である。
反応終了後は、反応混合物を濃縮する等の操作を行うことにより化合物(I−5)を単離することができる。単離された化合物(I−5)は必要に応じてクロマトグラフィー、再結晶等によりさらに精製することもできる。
化合物(g)と化合物(j)とを反応させることにより製造する方法。
[式中、R1、R3、R4、R56及びnは前記と同じ意味を表す。]
該反応は通常溶媒中、縮合剤の存在下で行われる。
反応に用いられる溶媒としては、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン等のエーテル、ジメチルスルホキシド、スルホラン等の有機硫黄、クロロホルム、1,2−ジクロロエタン、クロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素が挙げられる。
反応に用いられる縮合剤としては、例えばジシクロヘキシルカルボジイミド、N−(3−ジメチルアミノプロピル)−N′−エチルカルボジイミド、カルボニルジイミダゾール等が挙げられる。
反応に用いられる縮合剤の量は、化合物(g)1モルに対し、通常1〜10モルの割合である。
反応に用いられる化合物(j)の量は、化合物(g)1モルに対し、通常1〜10モルの割合である。
該反応の反応温度は通常−20〜100℃の範囲であり、反応時間は通常1〜24時間の範囲である。
反応終了後は、反応混合物を濃縮する等の操作を行うことにより化合物(I−5)を単離することができる。単離された化合物(I−5)は必要に応じてクロマトグラフィー、再結晶等によりさらに精製することもできる。
(製造法7)
本発明化合物のうち、R3が水素原子である化合物(I−1)は、例えば下記の化合物(c)と化合物(k)とを反応させることにより製造することができる。
[式中、R1、R2、R4、X及びnは前記と同じ意味を表す。]
該反応は通常溶媒中、塩基の存在下で行われる。
反応に用いられる溶媒としては、例えばN,N−ジメチルホルムアミド等の酸アミド、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン等のエーテル、ジメチルスルホキシド、スルホラン等の有機硫黄、クロロホルム、1,2−ジクロロエタン、クロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素、水及びそれらの混合物が挙げられる。
該反応に用いられる塩基としては、例えば水素化ナトリウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸カリウム等の無機塩基、ナトリウムメトキシド、カリウム tert−ブトキシド等のアルカリ金属アルコキシド、リチウムジイソプロピルアミド等のアルカリ金属アミド及びトリエチルアミン、1,4−ジアザビシクロ[2.2.2]オクタン、1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]−7−ウンデセン等の有機塩基が挙げられる。反応に用いられる塩基の量は、化合物(k)1モルに対して通常1〜10モルの割合である。
反応に用いられる化合物(c)の量は、化合物(k)1モルに対し、通常1〜10モルの割合である。
該反応の反応温度は通常−100〜100℃の範囲であり、反応時間は通常1〜24時間の範囲である。
反応終了後は、反応混合物を水に注加し、有機溶媒抽出してから、濃縮する等の後処理操作を行うことにより化合物(I−1)を単離することができる。単離された化合物(I−1)は必要に応じてクロマトグラフィー、再結晶等によりさらに精製することもできる。
本発明化合物のうち、R3が水素原子である化合物(I−1)は、例えば下記の化合物(c)と化合物(k)とを反応させることにより製造することができる。
[式中、R1、R2、R4、X及びnは前記と同じ意味を表す。]
該反応は通常溶媒中、塩基の存在下で行われる。
反応に用いられる溶媒としては、例えばN,N−ジメチルホルムアミド等の酸アミド、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン等のエーテル、ジメチルスルホキシド、スルホラン等の有機硫黄、クロロホルム、1,2−ジクロロエタン、クロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素、水及びそれらの混合物が挙げられる。
該反応に用いられる塩基としては、例えば水素化ナトリウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸カリウム等の無機塩基、ナトリウムメトキシド、カリウム tert−ブトキシド等のアルカリ金属アルコキシド、リチウムジイソプロピルアミド等のアルカリ金属アミド及びトリエチルアミン、1,4−ジアザビシクロ[2.2.2]オクタン、1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]−7−ウンデセン等の有機塩基が挙げられる。反応に用いられる塩基の量は、化合物(k)1モルに対して通常1〜10モルの割合である。
反応に用いられる化合物(c)の量は、化合物(k)1モルに対し、通常1〜10モルの割合である。
該反応の反応温度は通常−100〜100℃の範囲であり、反応時間は通常1〜24時間の範囲である。
反応終了後は、反応混合物を水に注加し、有機溶媒抽出してから、濃縮する等の後処理操作を行うことにより化合物(I−1)を単離することができる。単離された化合物(I−1)は必要に応じてクロマトグラフィー、再結晶等によりさらに精製することもできる。
(製造法8)
本発明化合物のうち、R2がC(=O)N(R6)2であり、nが2である化合物(I−8)は、本発明化合物のうちR2がC(=O)OR5であり、nが2である化合物(I−7)を化合物(p)と反応させることにより製造することもできる。
〔式中、R1、R3、R4、R5及びR6は前記と同じ意味を表す。〕
該反応は通常溶媒中で行われる。
反応に用いられる溶媒としては、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン等のエーテル、ジメチルスルホキシド、スルホラン等の有機硫黄、クロロホルム、1,2−ジクロロエタン、クロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素が挙げられる。
反応に用いられる化合物(p)の量は、化合物(I−7)1モルに対し、通常1〜10モルの割合である。
該反応の反応温度は通常−20〜100℃の範囲であり、反応時間は通常1〜24時間の範囲である。
反応終了後は、反応混合物を濃縮する等の操作を行うことにより化合物(I−8)を単離することができる。単離された化合物(I−8)は必要に応じてクロマトグラフィー、再結晶等によりさらに精製することもできる。
本発明化合物のうち、R2がC(=O)N(R6)2であり、nが2である化合物(I−8)は、本発明化合物のうちR2がC(=O)OR5であり、nが2である化合物(I−7)を化合物(p)と反応させることにより製造することもできる。
〔式中、R1、R3、R4、R5及びR6は前記と同じ意味を表す。〕
該反応は通常溶媒中で行われる。
反応に用いられる溶媒としては、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン等のエーテル、ジメチルスルホキシド、スルホラン等の有機硫黄、クロロホルム、1,2−ジクロロエタン、クロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素が挙げられる。
反応に用いられる化合物(p)の量は、化合物(I−7)1モルに対し、通常1〜10モルの割合である。
該反応の反応温度は通常−20〜100℃の範囲であり、反応時間は通常1〜24時間の範囲である。
反応終了後は、反応混合物を濃縮する等の操作を行うことにより化合物(I−8)を単離することができる。単離された化合物(I−8)は必要に応じてクロマトグラフィー、再結晶等によりさらに精製することもできる。
(製造法9)
本発明化合物のうち、R2がC(=S)OR5又はC(=S)N(R6)2である化合物(I−9)は、本発明化合物のうちR2がC(=O)OR5又はC(=O)N(R6)2である化合物(I−5)を硫黄化剤(q)と反応させることにより製造することもできる。
〔式中、R1、R3、R4、R56及びnは前記と同じ意味を表す。〕
該反応は通常溶媒中で行われる。
反応に用いられる溶媒としては、クロロホルム、1,2−ジクロロエタン、クロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素が挙げられる。
該反応に用いられる硫黄化剤(q)としては、例えば硫化水素、五硫化二りん等の無機硫黄化合物、2,4−ビス(4−メトキシフェニル)−1,3−ジチア−2,4−ジホスフェタン 2,4−ジスルフィド等の有機硫黄化合物が挙げられる。
該反応に用いられる硫黄化剤(q)の量は、化合物(I−5)1モルに対し、通常0.5〜10モルの割合である。
該反応の反応温度は通常0〜250℃の範囲であり、反応時間は通常1〜72時間の範囲である。
反応終了後は、反応混合物を濃縮する等の操作を行うことにより化合物(I−9)を単離することができる。単離された化合物(I−9)は必要に応じてクロマトグラフィー、再結晶等によりさらに精製することもできる。
本発明化合物のうち、R2がC(=S)OR5又はC(=S)N(R6)2である化合物(I−9)は、本発明化合物のうちR2がC(=O)OR5又はC(=O)N(R6)2である化合物(I−5)を硫黄化剤(q)と反応させることにより製造することもできる。
〔式中、R1、R3、R4、R56及びnは前記と同じ意味を表す。〕
該反応は通常溶媒中で行われる。
反応に用いられる溶媒としては、クロロホルム、1,2−ジクロロエタン、クロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素が挙げられる。
該反応に用いられる硫黄化剤(q)としては、例えば硫化水素、五硫化二りん等の無機硫黄化合物、2,4−ビス(4−メトキシフェニル)−1,3−ジチア−2,4−ジホスフェタン 2,4−ジスルフィド等の有機硫黄化合物が挙げられる。
該反応に用いられる硫黄化剤(q)の量は、化合物(I−5)1モルに対し、通常0.5〜10モルの割合である。
該反応の反応温度は通常0〜250℃の範囲であり、反応時間は通常1〜72時間の範囲である。
反応終了後は、反応混合物を濃縮する等の操作を行うことにより化合物(I−9)を単離することができる。単離された化合物(I−9)は必要に応じてクロマトグラフィー、再結晶等によりさらに精製することもできる。
本発明化合物のうち、nが0である化合物(I−10)は、例えば(製造法10)又は(製造法11)に示される方法により製造することができる。
(製造法10)
化合物(r)と化合物(m)とを反応させることにより製造する方法。
[式中、R1、R2、R3-2、R4及びXは前記と同じ意味を表す。]
該反応は通常溶媒中、塩基の存在下で行われる。
反応に用いられる溶媒としては、例えばN,N−ジメチルホルムアミド等の酸アミド、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン等のエーテル、ジメチルスルホキシド、スルホラン等の有機硫黄、クロロホルム、1,2−ジクロロエタン、クロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素、水及びそれらの混合物が挙げられる。
該反応に用いられる塩基としては、例えば水素化ナトリウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸カリウム等の無機塩基、ナトリウムメトキシド、カリウム tert−ブトキシド等のアルカリ金属アルコキシド、リチウムジイソプロピルアミド等のアルカリ金属アミド及びトリエチルアミン、1,4−ジアザビシクロ[2.2.2]オクタン、1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]−7−ウンデセン等の有機塩基が挙げられる。
反応に用いられる塩基の量は、化合物(r)1モルに対して通常1〜10モルの割合である。
反応に用いられる化合物(m)の量は、化合物(r)1モルに対し、通常1〜10モルの割合である。
該反応の反応温度は通常−20〜100℃の範囲であり、反応時間は通常1〜24時間の範囲である。
反応終了後は、反応混合物を水に注加し、有機溶媒抽出してから、濃縮する等の後処理操作を行うことにより化合物(I−10)を単離することができる。単離された化合物(I−10)は必要に応じてクロマトグラフィー、再結晶等によりさらに精製することもできる。
化合物(r)と化合物(m)とを反応させることにより製造する方法。
[式中、R1、R2、R3-2、R4及びXは前記と同じ意味を表す。]
該反応は通常溶媒中、塩基の存在下で行われる。
反応に用いられる溶媒としては、例えばN,N−ジメチルホルムアミド等の酸アミド、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン等のエーテル、ジメチルスルホキシド、スルホラン等の有機硫黄、クロロホルム、1,2−ジクロロエタン、クロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素、水及びそれらの混合物が挙げられる。
該反応に用いられる塩基としては、例えば水素化ナトリウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸カリウム等の無機塩基、ナトリウムメトキシド、カリウム tert−ブトキシド等のアルカリ金属アルコキシド、リチウムジイソプロピルアミド等のアルカリ金属アミド及びトリエチルアミン、1,4−ジアザビシクロ[2.2.2]オクタン、1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]−7−ウンデセン等の有機塩基が挙げられる。
反応に用いられる塩基の量は、化合物(r)1モルに対して通常1〜10モルの割合である。
反応に用いられる化合物(m)の量は、化合物(r)1モルに対し、通常1〜10モルの割合である。
該反応の反応温度は通常−20〜100℃の範囲であり、反応時間は通常1〜24時間の範囲である。
反応終了後は、反応混合物を水に注加し、有機溶媒抽出してから、濃縮する等の後処理操作を行うことにより化合物(I−10)を単離することができる。単離された化合物(I−10)は必要に応じてクロマトグラフィー、再結晶等によりさらに精製することもできる。
(製造法11)
化合物(s)と化合物(o)とを反応させることにより製造する方法。
[式中、R1、R2、R3-2、R4及びXは前記と同じ意味を表す。]
該反応は通常溶媒中、塩基の存在下で行われる。
反応に用いられる溶媒としては、例えばN,N−ジメチルホルムアミド等の酸アミド、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン等のエーテル、ジメチルスルホキシド、スルホラン等の有機硫黄、クロロホルム、1,2−ジクロロエタン、クロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素、水及びそれらの混合物が挙げられる。
該反応に用いられる塩基としては、例えば水素化ナトリウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸カリウム等の無機塩基、ナトリウムメトキシド、カリウム tert−ブトキシド等のアルカリ金属アルコキシド、リチウムジイソプロピルアミド等のアルカリ金属アミド類及びトリエチルアミン、1,4−ジアザビシクロ[2.2.2]オクタン、1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]−7−ウンデセン等の有機塩基が挙げられる。反応に用いられる塩基の量は、化合物(o)1モルに対して通常1〜10モルの割合である。
反応に用いられる化合物(s)の量は、化合物(o)1モルに対し、通常1〜10モルの割合である。
該反応の反応温度は通常−20〜100℃の範囲であり、反応時間は通常1〜24時間の範囲である。
反応終了後は、反応混合物を水に注加し、有機溶媒抽出してから、濃縮する等の後処理操作を行うことにより化合物(I−10)を単離することができる。単離された化合物(I−10)は必要に応じてクロマトグラフィー、再結晶等によりさらに精製することもできる。
化合物(s)と化合物(o)とを反応させることにより製造する方法。
[式中、R1、R2、R3-2、R4及びXは前記と同じ意味を表す。]
該反応は通常溶媒中、塩基の存在下で行われる。
反応に用いられる溶媒としては、例えばN,N−ジメチルホルムアミド等の酸アミド、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン等のエーテル、ジメチルスルホキシド、スルホラン等の有機硫黄、クロロホルム、1,2−ジクロロエタン、クロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素、水及びそれらの混合物が挙げられる。
該反応に用いられる塩基としては、例えば水素化ナトリウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸カリウム等の無機塩基、ナトリウムメトキシド、カリウム tert−ブトキシド等のアルカリ金属アルコキシド、リチウムジイソプロピルアミド等のアルカリ金属アミド類及びトリエチルアミン、1,4−ジアザビシクロ[2.2.2]オクタン、1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]−7−ウンデセン等の有機塩基が挙げられる。反応に用いられる塩基の量は、化合物(o)1モルに対して通常1〜10モルの割合である。
反応に用いられる化合物(s)の量は、化合物(o)1モルに対し、通常1〜10モルの割合である。
該反応の反応温度は通常−20〜100℃の範囲であり、反応時間は通常1〜24時間の範囲である。
反応終了後は、反応混合物を水に注加し、有機溶媒抽出してから、濃縮する等の後処理操作を行うことにより化合物(I−10)を単離することができる。単離された化合物(I−10)は必要に応じてクロマトグラフィー、再結晶等によりさらに精製することもできる。
(製造法12)
本発明化合物のうち、nが1又は2である化合物(I−11)は、例えば化合物(I−10)を酸化することにより製造することができる。
[式中、R1、R2、R3-2、R4は前記と同じ意味を表し、n’は1又は2を表す。]
該反応は、酸化剤の存在下、通常溶媒の存在下で行われる。
反応に用いられる溶媒としては、例えばメタノール、エタノール等のアルコール、ジクロロメタン、クロロホルム等のハロゲン化炭化水素、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素、酢酸、トリフルオロ酢酸等の脂肪族カルボン酸、水及びそれらの混合物が挙げられる。
該反応に用いられる酸化剤としては、例えば過酢酸、トリフルオロ過酢酸、m−クロロ過安息香酸等の有機過酸化物、塩素、臭素のハロゲン分子、N−クロロコハク酸イミド等の含ハロゲンイミド、過塩素酸(若しくはその塩)、過ヨウ素酸(若しくはその塩)等のハロゲン化物、過マンガン酸カリウム等の過マンガン酸塩、クロム酸カリウム等のクロム酸塩及び過酸化水素が挙げられる。反応に用いられる酸化剤の量は、化合物(I−10)1モルに対して通常1〜10モルの割合である。
該反応の反応温度は通常−50〜200℃の範囲であり、反応時間は通常1〜72時間の範囲である。
反応終了後は、反応混合物を水に注加し、有機溶媒抽出してから、濃縮する等の操作を行うことにより、化合物(I−11)を単離することができる。単離した化合物(I−11)は、必要に応じてクロマトグラフィー、再結晶等でさらに精製することもできる。
本発明化合物のうち、nが1又は2である化合物(I−11)は、例えば化合物(I−10)を酸化することにより製造することができる。
[式中、R1、R2、R3-2、R4は前記と同じ意味を表し、n’は1又は2を表す。]
該反応は、酸化剤の存在下、通常溶媒の存在下で行われる。
反応に用いられる溶媒としては、例えばメタノール、エタノール等のアルコール、ジクロロメタン、クロロホルム等のハロゲン化炭化水素、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素、酢酸、トリフルオロ酢酸等の脂肪族カルボン酸、水及びそれらの混合物が挙げられる。
該反応に用いられる酸化剤としては、例えば過酢酸、トリフルオロ過酢酸、m−クロロ過安息香酸等の有機過酸化物、塩素、臭素のハロゲン分子、N−クロロコハク酸イミド等の含ハロゲンイミド、過塩素酸(若しくはその塩)、過ヨウ素酸(若しくはその塩)等のハロゲン化物、過マンガン酸カリウム等の過マンガン酸塩、クロム酸カリウム等のクロム酸塩及び過酸化水素が挙げられる。反応に用いられる酸化剤の量は、化合物(I−10)1モルに対して通常1〜10モルの割合である。
該反応の反応温度は通常−50〜200℃の範囲であり、反応時間は通常1〜72時間の範囲である。
反応終了後は、反応混合物を水に注加し、有機溶媒抽出してから、濃縮する等の操作を行うことにより、化合物(I−11)を単離することができる。単離した化合物(I−11)は、必要に応じてクロマトグラフィー、再結晶等でさらに精製することもできる。
次に、本発明化合物の製造に用いられる中間体の製造法について、参考製造法で説明する。
(参考製造法1)
化合物(g)は化合物(I−6)を加水分解することにより製造することができる。
[式中、R1、R3、R4及びnは前記と同じ意味を表し、R5-3はメチル基又はエチル基を表す。]
該反応は酸又は塩基、並びに水の存在下、通常有機溶媒中で行われる。
反応に用いられる有機溶媒としては、メタノール、エタノール等のアルコール、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン等のエーテル、ジメチルスルホキシド、スルホラン等の有機硫黄、クロロホルム、1,2−ジクロロエタン、クロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素、蟻酸、酢酸等の脂肪族カルボン酸及びそれらの混合物が挙げられる。
反応に用いられる塩基としては、例えば水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等の無機塩基が挙げられる。
反応に用いられる酸としては、例えば塩酸、硫酸等の無機酸が挙げられる。
反応に用いられる酸又は塩基の量は、化合物(I−6)1モルに対し、通常1〜10モルの割合である。
該反応の反応温度は通常−20〜100℃の範囲であり、反応時間は通常1〜24時間の範囲である。
反応終了後は、反応混合物に必要に応じて水及び/又は酸を加え、有機溶媒抽出してから、濃縮する等の操作を行うことにより化合物(g)を単離することができる。単離された化合物(g)は必要に応じてクロマトグラフィー、再結晶等によりさらに精製することもできる。
化合物(g)は化合物(I−6)を加水分解することにより製造することができる。
[式中、R1、R3、R4及びnは前記と同じ意味を表し、R5-3はメチル基又はエチル基を表す。]
該反応は酸又は塩基、並びに水の存在下、通常有機溶媒中で行われる。
反応に用いられる有機溶媒としては、メタノール、エタノール等のアルコール、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン等のエーテル、ジメチルスルホキシド、スルホラン等の有機硫黄、クロロホルム、1,2−ジクロロエタン、クロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素、蟻酸、酢酸等の脂肪族カルボン酸及びそれらの混合物が挙げられる。
反応に用いられる塩基としては、例えば水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等の無機塩基が挙げられる。
反応に用いられる酸としては、例えば塩酸、硫酸等の無機酸が挙げられる。
反応に用いられる酸又は塩基の量は、化合物(I−6)1モルに対し、通常1〜10モルの割合である。
該反応の反応温度は通常−20〜100℃の範囲であり、反応時間は通常1〜24時間の範囲である。
反応終了後は、反応混合物に必要に応じて水及び/又は酸を加え、有機溶媒抽出してから、濃縮する等の操作を行うことにより化合物(g)を単離することができる。単離された化合物(g)は必要に応じてクロマトグラフィー、再結晶等によりさらに精製することもできる。
(参考製造法2)
化合物(d)のうち、R3-2がC1−C4アルキル基である化合物(d−1)は、例えば下記の化合物(a)と化合物(k)を反応させることにより製造することができる。
[式中、R2、R4、R3-1、n及びXは前記と同じ意味を表す。]
該反応は通常溶媒中、塩基の存在下で行われる。
反応に用いられる溶媒としては、例えばN,N−ジメチルホルムアミド等の酸アミド、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン等のエーテル、ジメチルスルホキシド、スルホラン等の有機硫黄、クロロホルム、1,2−ジクロロエタン、クロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素、水及びそれらの混合物が挙げられる。
該反応に用いられる塩基としては、例えば水素化ナトリウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸カリウム等の無機塩基、ナトリウムメトキシド、カリウム tert−ブトキシド等のアルカリ金属アルコキシド、リチウムジイソプロピルアミド等のアルカリ金属アミド及びトリエチルアミン、1,4−ジアザビシクロ[2.2.2]オクタン、1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]−7−ウンデセン等の有機塩基が挙げられる。
反応に用いられる塩基の量は、化合物(k)1モルに対して通常1〜10モルの割合である。
反応に用いられる化合物(a)の量は、化合物(k)1モルに対し、通常1〜10モルの割合である。
該反応の反応温度は通常−20〜100℃の範囲であり、反応時間は通常1〜24時間の範囲である。
反応終了後は、反応混合物を水に注加し、有機溶媒抽出してから、濃縮する等の後処理操作を行うことにより化合物(d−1)を単離することができる。単離された化合物(d−1)は必要に応じてクロマトグラフィー、再結晶等によりさらに精製することもできる。
化合物(d)のうち、R3-2がC1−C4アルキル基である化合物(d−1)は、例えば下記の化合物(a)と化合物(k)を反応させることにより製造することができる。
[式中、R2、R4、R3-1、n及びXは前記と同じ意味を表す。]
該反応は通常溶媒中、塩基の存在下で行われる。
反応に用いられる溶媒としては、例えばN,N−ジメチルホルムアミド等の酸アミド、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン等のエーテル、ジメチルスルホキシド、スルホラン等の有機硫黄、クロロホルム、1,2−ジクロロエタン、クロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素、水及びそれらの混合物が挙げられる。
該反応に用いられる塩基としては、例えば水素化ナトリウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸カリウム等の無機塩基、ナトリウムメトキシド、カリウム tert−ブトキシド等のアルカリ金属アルコキシド、リチウムジイソプロピルアミド等のアルカリ金属アミド及びトリエチルアミン、1,4−ジアザビシクロ[2.2.2]オクタン、1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]−7−ウンデセン等の有機塩基が挙げられる。
反応に用いられる塩基の量は、化合物(k)1モルに対して通常1〜10モルの割合である。
反応に用いられる化合物(a)の量は、化合物(k)1モルに対し、通常1〜10モルの割合である。
該反応の反応温度は通常−20〜100℃の範囲であり、反応時間は通常1〜24時間の範囲である。
反応終了後は、反応混合物を水に注加し、有機溶媒抽出してから、濃縮する等の後処理操作を行うことにより化合物(d−1)を単離することができる。単離された化合物(d−1)は必要に応じてクロマトグラフィー、再結晶等によりさらに精製することもできる。
(参考製造法3)
化合物(k)のうち、nが0である化合物(k−1)及びnが1又は2である化合物(k−2)は、例えば以下に示す方法により製造することができる。
[式中、R2、R4、X及びn’は前記と同じ意味を表す。]
(工程III−1−a)
化合物(k−1)は、例えば化合物(l)と化合物(m)とを反応させることにより製造することができる。
該反応は通常溶媒中、塩基の存在下で行われる。
反応に用いられる溶媒としては、例えばN,N−ジメチルホルムアミド等の酸アミド、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン等のエーテル、ジメチルスルホキシド、スルホラン等の有機硫黄、クロロホルム、1,2−ジクロロエタン、クロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素、水及びそれらの混合物が挙げられる。
該反応に用いられる塩基としては、例えば水素化ナトリウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸カリウム等の無機塩基、ナトリウムメトキシド、カリウム tert−ブトキシド等のアルカリ金属アルコキシド、リチウムジイソプロピルアミド等のアルカリ金属アミド及びトリエチルアミン、1,4−ジアザビシクロ[2.2.2]オクタン、1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]−7−ウンデセン等の有機塩基が挙げられる。
反応に用いられる塩基の量は、化合物(l)1モルに対して通常1〜10モルの割合である。
反応に用いられる化合物(m)の量は、化合物(l)1モルに対し、通常1〜10モルの割合である。
該反応の反応温度は通常−20〜100℃の範囲であり、反応時間は通常1〜24時間の範囲である。
反応終了後は、反応混合物を水に注加し、有機溶媒抽出してから、濃縮する等の後処理操作を行うことにより化合物(k−1)を単離することができる。単離された化合物(k−1)は必要に応じてクロマトグラフィー、再結晶等によりさらに精製することもできる。
(工程III−1−b)
化合物(k−1)は、例えば化合物(n)と化合物(o)とを反応させることにより製造することもできる。
該反応は通常溶媒中、塩基の存在下で行われる。反応に用いられる溶媒としては、例えばN,N−ジメチルホルムアミド等の酸アミド、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン等のエーテル、ジメチルスルホキシド、スルホラン等の有機硫黄、クロロホルム、1,2−ジクロロエタン、クロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素、水及びそれらの混合物が挙げられる。
該反応に用いられる塩基としては、例えば水素化ナトリウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸カリウム等の無機塩基、ナトリウムメトキシド、カリウム tert−ブトキシド等のアルカリ金属アルコキシド、リチウムジイソプロピルアミド等のアルカリ金属アミド類及びトリエチルアミン、1,4−ジアザビシクロ[2.2.2]オクタン、1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]−7−ウンデセン等の有機塩基が挙げられる。反応に用いられる塩基の量は、化合物(o)1モルに対して通常1〜10モルの割合である。
反応に用いられる化合物(n)の量は、化合物(o)1モルに対し、通常1〜10モルの割合である。
該反応の反応温度は通常−20〜100℃の範囲であり、反応時間は通常1〜24時間の範囲である。
反応終了後は、反応混合物を水に注加し、有機溶媒抽出してから、濃縮する等の後処理操作を行うことにより化合物(k−1)を単離することができる。単離された化合物(k−1)は必要に応じてクロマトグラフィー、再結晶等によりさらに精製することもできる。
化合物(k)のうち、nが0である化合物(k−1)及びnが1又は2である化合物(k−2)は、例えば以下に示す方法により製造することができる。
[式中、R2、R4、X及びn’は前記と同じ意味を表す。]
(工程III−1−a)
化合物(k−1)は、例えば化合物(l)と化合物(m)とを反応させることにより製造することができる。
該反応は通常溶媒中、塩基の存在下で行われる。
反応に用いられる溶媒としては、例えばN,N−ジメチルホルムアミド等の酸アミド、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン等のエーテル、ジメチルスルホキシド、スルホラン等の有機硫黄、クロロホルム、1,2−ジクロロエタン、クロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素、水及びそれらの混合物が挙げられる。
該反応に用いられる塩基としては、例えば水素化ナトリウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸カリウム等の無機塩基、ナトリウムメトキシド、カリウム tert−ブトキシド等のアルカリ金属アルコキシド、リチウムジイソプロピルアミド等のアルカリ金属アミド及びトリエチルアミン、1,4−ジアザビシクロ[2.2.2]オクタン、1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]−7−ウンデセン等の有機塩基が挙げられる。
反応に用いられる塩基の量は、化合物(l)1モルに対して通常1〜10モルの割合である。
反応に用いられる化合物(m)の量は、化合物(l)1モルに対し、通常1〜10モルの割合である。
該反応の反応温度は通常−20〜100℃の範囲であり、反応時間は通常1〜24時間の範囲である。
反応終了後は、反応混合物を水に注加し、有機溶媒抽出してから、濃縮する等の後処理操作を行うことにより化合物(k−1)を単離することができる。単離された化合物(k−1)は必要に応じてクロマトグラフィー、再結晶等によりさらに精製することもできる。
(工程III−1−b)
化合物(k−1)は、例えば化合物(n)と化合物(o)とを反応させることにより製造することもできる。
該反応は通常溶媒中、塩基の存在下で行われる。反応に用いられる溶媒としては、例えばN,N−ジメチルホルムアミド等の酸アミド、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン等のエーテル、ジメチルスルホキシド、スルホラン等の有機硫黄、クロロホルム、1,2−ジクロロエタン、クロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素、水及びそれらの混合物が挙げられる。
該反応に用いられる塩基としては、例えば水素化ナトリウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸カリウム等の無機塩基、ナトリウムメトキシド、カリウム tert−ブトキシド等のアルカリ金属アルコキシド、リチウムジイソプロピルアミド等のアルカリ金属アミド類及びトリエチルアミン、1,4−ジアザビシクロ[2.2.2]オクタン、1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]−7−ウンデセン等の有機塩基が挙げられる。反応に用いられる塩基の量は、化合物(o)1モルに対して通常1〜10モルの割合である。
反応に用いられる化合物(n)の量は、化合物(o)1モルに対し、通常1〜10モルの割合である。
該反応の反応温度は通常−20〜100℃の範囲であり、反応時間は通常1〜24時間の範囲である。
反応終了後は、反応混合物を水に注加し、有機溶媒抽出してから、濃縮する等の後処理操作を行うことにより化合物(k−1)を単離することができる。単離された化合物(k−1)は必要に応じてクロマトグラフィー、再結晶等によりさらに精製することもできる。
(工程III−2)
化合物(k−2)は、例えば化合物(k−1)を酸化することにより製造することができる。
該反応は、酸化剤の存在下、通常溶媒の存在下で行われる。
反応に用いられる溶媒としては、例えばメタノール、エタノール等のアルコール、ジクロロメタン、クロロホルム等のハロゲン化炭化水素、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素、酢酸、トリフルオロ酢酸等の脂肪族カルボン酸、水及びそれらの混合物が挙げられる。
該反応に用いられる酸化剤としては、例えば過酢酸、トリフルオロ過酢酸、m−クロロ過安息香酸等の有機過酸化物、塩素、臭素のハロゲン分子、N−クロロコハク酸イミド等の含ハロゲンイミド、過塩素酸(若しくはその塩)、過ヨウ素酸(若しくはその塩)等のハロゲン化物、過マンガン酸カリウム等の過マンガン酸塩、クロム酸カリウム等のクロム酸塩及び過酸化水素が挙げられる。反応に用いられる酸化剤の量は、化合物(k−1)1モルに対して通常1〜10モルの割合である。
該反応の反応温度は通常−50〜200℃の範囲であり、反応時間は通常1〜72時間の範囲である。
反応終了後は、反応混合物を水に注加し、有機溶媒抽出してから、濃縮する等の操作を行うことにより、化合物(k−2)を単離することができる。単離した化合物(k−2)は、必要に応じてクロマトグラフィー、再結晶等でさらに精製することもできる。
化合物(k−2)は、例えば化合物(k−1)を酸化することにより製造することができる。
該反応は、酸化剤の存在下、通常溶媒の存在下で行われる。
反応に用いられる溶媒としては、例えばメタノール、エタノール等のアルコール、ジクロロメタン、クロロホルム等のハロゲン化炭化水素、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素、酢酸、トリフルオロ酢酸等の脂肪族カルボン酸、水及びそれらの混合物が挙げられる。
該反応に用いられる酸化剤としては、例えば過酢酸、トリフルオロ過酢酸、m−クロロ過安息香酸等の有機過酸化物、塩素、臭素のハロゲン分子、N−クロロコハク酸イミド等の含ハロゲンイミド、過塩素酸(若しくはその塩)、過ヨウ素酸(若しくはその塩)等のハロゲン化物、過マンガン酸カリウム等の過マンガン酸塩、クロム酸カリウム等のクロム酸塩及び過酸化水素が挙げられる。反応に用いられる酸化剤の量は、化合物(k−1)1モルに対して通常1〜10モルの割合である。
該反応の反応温度は通常−50〜200℃の範囲であり、反応時間は通常1〜72時間の範囲である。
反応終了後は、反応混合物を水に注加し、有機溶媒抽出してから、濃縮する等の操作を行うことにより、化合物(k−2)を単離することができる。単離した化合物(k−2)は、必要に応じてクロマトグラフィー、再結晶等でさらに精製することもできる。
前記化合物(o)及び(r)は、例えばThe Journal of Organic Chemistry,27(1),p.93−95(1962)及びHETEROCYCLES,24(5),p.1331−1346(1986)に記載の方法に準じて各々製造することができる。
前記化合物(s)は、例えばThe Journal of Organic Chemistry, 18, p.1112−1116 (1953)に記載の方法に準じて製造することができる。
前記化合物(a)、(c)、(j)、(m)、(n)及び(p)は、公知物であるか、公知な製造法に準じて製造することができる。
前記化合物(a)、(c)、(j)、(m)、(n)及び(p)は、公知物であるか、公知な製造法に準じて製造することができる。
本発明化合物が効力を示す有害節足動物としては、有害昆虫類並びに有害ダニ類等が挙げられる。より具体的には、下記のものが挙げられる。
半翅目害虫:ヒメトビウンカ(Laodelphax striatellus),トビイロウンカ(Nilaparvata lugens),セジロウンカ(Sogatella furcifera)等のウンカ類,ツマグロヨコバイ(Nephotettix cincticeps),タイワンツマグロヨコバイ(Nephotettix virescens),チャノミドリヒメヨコバイ(Empoasca onukii)等のヨコバイ類,ワタアブラムシ(Aphis gossypii),モモアカアブラムシ(Myzus persicae),ダイコンアブラムシ(Brevicoryne brassicae),ユキヤナギアブラムシ(Aphis spiraecola),チューリップヒゲナガアブラムシ(Macrosiphum euphorbiae),ジャガイモヒゲナガアブラムシ(Aulacorthum solani),ムギクビレアブラムシ(Rhopalosiphum padi),ミカンクロアブラムシ(Toxoptera citricidus),モモコフキアブラムシ(Hyalopterus pruni)等のアブラムシ類,アオクサカメムシ(Nezara antennata),ホソヘリカメムシ(Riptortus clavetus),クモヘリカメムシ(Leptocorisa chinensis),トゲシラホシカメムシ(Eysarcoris parvus),クサギカメムシ(Halyomorpha mista)等のカメムシ類,オンシツコナジラミ(Trialeurodes vaporariorum),タバココナジラミ(Bemisia tabaci),ミカンコナジラミ(Dialeurodes citri),ミカントゲコナジラミ(Aleurocanthus spiniferus)等のコナジラミ類,アカマルカイガラムシ(Aonidiella aurantii),サンホーゼカイガラムシ(Comstockaspis perniciosa),シトラススノースケール(Unaspis citri),ルビーロウムシ(Ceroplastes rubens),イセリヤカイガラムシ(Icerya purchasi),フジコナカイガラムシ(Planococcus kraunhiae),クワコナカイガラムシ(Pseudococcus longispinis),クワシロカイガラムシ(Pseudaulacaspis pentagona)等のカイガラムシ類,グンバイムシ類,トコジラミ(Cimex lectularius)等のトコジラミ類,キジラミ類等。
鱗翅目害虫:ニカメイガ(Chilo suppressalis),サンカメイガ(Tryporyza incertulas),コブノメイガ(Cnaphalocrocis medinalis),ワタノメイガ(Notarcha derogata),ノシメマダラメイガ(Plodia interpunctella),アワノメイガ(Ostrinia furnacalis),ハイマダラノメイガ(Hellula undalis),シバツトガ(Pediasia teterrellus)等のメイガ類,ハスモンヨトウ(Spodoptera litura),シロイチモジヨトウ(Spodoptera exigua),アワヨトウ(Pseudaletia separata),ヨトウガ(Mamestra brassicae),タマナヤガ(Agrotis ipsilon),タマナギンウワバ(Plusia nigrisigna),トリコプルシア属,ヘリオティス属,ヘリコベルパ属等のヤガ類,モンシロチョウ(Pieris rapae)等のシロチョウ類,アドキソフィエス属,ナシヒメシンクイ(Grapholita molesta),マメシンクイガ(Leguminivora glycinivorella),アズキサヤムシガ(Matsumuraeses azukivora),リンゴコカクモンハマキ(Adoxophyes orana fasciata),チャノコカクモンハマキ(Adoxophyes honmai. ),チャハマキ(Homona magnanima),ミダレカクモンハマキ(Archips fuscocupreanus),コドリンガ(Cydia pomonella)等のハマキガ類,チャノホソガ(Caloptilia theivora),キンモンホソガ(Phyllonorycter ringoneella)のホソガ類,モモシンクイガ(Carposina niponensis)等のシンクイガ類,リオネティア属等のハモグリガ類,リマントリア属,ユープロクティス属等のドクガ類,コナガ(Plutella xylostella)等のスガ類,ワタアカミムシ(Pectinophora gossypiella)ジャガイモガ(Phthorimaea operculella)等のキバガ類,アメリカシロヒトリ(Hyphantria cunea)等のヒトリガ類,イガ(Tinea translucens),コイガ(Tineola bisselliella)等のヒロズコガ類等。
アザミウマ目害虫:ミカンキイロアザミウマ(Frankliniella occidentalis),ミナミキイロアザミウマ(Thrips parmi),チャノキイロアザミウマ(Scirtothrips dorsalis),ネギアザミウマ(Thrips tabaci),ヒラズハナアザミウマ(Frankliniella intonsa)などのアザミウマ類等。
双翅目害虫:アカイエカ(Culex pipiens pallens),コガタアカイエカ(Culex tritaeniorhynchus),ネッタイイエカ(Culex quinquefasciatus)等のイエカ類,ネッタイシマカ(Aedes aegypti),ヒトスジシマカ(Aedes albopictus)等のエーデス属,シナハマダラカ(Anopheles sinensis)等のアノフェレス属,ユスリカ類,イエバエ(Musca domestica),オオイエバエ(Muscina stabulans)等のイエバエ類,クロバエ類,ニクバエ類,ヒメイエバエ類,タネバエ(Delia platura),タマネギバエ(Delia antiqua)等のハナバエ類,イネハモグリバエ(Agromyza oryzae),イネヒメハモグリバエ(Hydrellia griseola),トマトハモグリバエ,(Liriomyza sativae),マメハモグリバエ(Liriomyza trifolii),ナモグリバエ(Chromatomyia horticola)等のハモグリバエ類,イネキモグリバエ(Chlorops oryzae)等のキモグリバエ類,ウリミバエ(Dacus cucurbitae),チチュウカイミバエ(Ceratitis capitata)等のミバエ類,ショウジョウバエ類,オオキモンノミバエ(Megaselia spiracularis)等のノミバエ類,オオチョウバエ(Clogmia albipunctata)等のチョウバエ類,ブユ類,ウシアブ(Tabanus trigonus)等のアブ類,サシバエ類等。
鞘翅目害虫:ウエスタンコーンルートワーム(Diabrotica virgifera virgifera),サザンコーンルートワーム(Diabrotica undecimpunctata howardi)等のコーンルートワーム類,ドウガネブイブイ(Anomala cuprea),ヒメコガネ(Anomala rufocuprea),マメコガネ(Popillia japonica)等のコガネムシ類,メイズウィービル(Sitophilus zeamais),イネミズゾウムシ(Lissorhoptrus oryzophilus),アズキゾウムシ(Callosobruchuys chienensis),イネゾウムシ(Echinocnemus squameus),ワタミゾウムシ(Anthonomus grandis),シバオサゾウムシ(Sphenophorus venatus)等のゾウムシ類,チャイロコメノゴミムシダマシ(Tenebrio molitor),コクヌストモドキ(Tribolium castaneum)等のゴミムシダマシ類,
イネドロオイムシ(Oulema oryzae),ウリハムシ(Aulacophora femoralis),キスジノミハムシ(Phyllotreta striolata),コロラドハムシ(Leptinotarsa decemlineata)等のハムシ類,ヒメマルカツオブシムシ(Anthrenus verbasci),ハラジロカツオブシムシ(Dermestes maculates)等のカツオブシムシ類,タバコシバンムシ(Lasioderma serricorne)等のシバンムシ類,ニジュウヤホシテントウ(Epilachna vigintioctopunctata)等のエピラクナ類,ヒラタキクイムシ(Lyctus brunneus),マツノキクイムシ(Tomicus piniperda)等のキクイムシ類,ナガシンクイムシ類,ヒョウホンムシ類,ゴマダラカミキリ(Anoplophora malasiaca)等のカミキリムシ類,コメツキムシ類(Agriotes spp. )アオバアリガタハネカクシ(Paederus fuscipes)等。
イネドロオイムシ(Oulema oryzae),ウリハムシ(Aulacophora femoralis),キスジノミハムシ(Phyllotreta striolata),コロラドハムシ(Leptinotarsa decemlineata)等のハムシ類,ヒメマルカツオブシムシ(Anthrenus verbasci),ハラジロカツオブシムシ(Dermestes maculates)等のカツオブシムシ類,タバコシバンムシ(Lasioderma serricorne)等のシバンムシ類,ニジュウヤホシテントウ(Epilachna vigintioctopunctata)等のエピラクナ類,ヒラタキクイムシ(Lyctus brunneus),マツノキクイムシ(Tomicus piniperda)等のキクイムシ類,ナガシンクイムシ類,ヒョウホンムシ類,ゴマダラカミキリ(Anoplophora malasiaca)等のカミキリムシ類,コメツキムシ類(Agriotes spp. )アオバアリガタハネカクシ(Paederus fuscipes)等。
直翅目害虫:トノサマバッタ(Locusta migratoria),ケラ(Gryllotalpa africana),コバネイナゴ(Oxya yezoensis),ハネナガイナゴ(Oxya japonica),コオロギ類等。
隠翅目害虫:ネコノミ(Ctenocephalides felis),イヌノミ(Ctenocephalides canis),ヒトノミ(Pulex irritans),ケオプスネズミノミ(Xenopsylla cheopis)等。
シラミ目害虫:コロモジラミ(Pediculus humanus corporis),ケジラミ (Phthirus pubis),ウシジラミ(Haematopinus eurysternus),ヒツジジラミ(Dalmalinia ovis),ブタジラミ(Haematopinus suis)等。
膜翅目害虫: イエヒメアリ(Monomorium pharaosis),クロヤマアリ(Formica fusca japonica),ルリアリ(Ochetellus glaber),アミメアリ(Pristomyrmex pungens),オオズアリ(Pheidole noda),ハキリアリ(Acromyrmex spp. ),ファイヤーアント(Solenopsis spp. )等のアリ類,スズメバチ類,アリガタバチ類,カブラハバチ(Athalia rosae),ニホンカブラバチ(Athalia japonica)等のハバチ類等。
ゴキブリ目害虫:チャバネゴキブリ(Blattella germanica),クロゴキブリ(Periplaneta fuliginosa),ワモンゴキブリ(Periplaneta americana),トビイロゴキブリ(Periplaneta brunnea),トウヨウゴキブリ(Blatta orientalis)等のゴキブリ類,ヤマトシロアリ(Reticulitermes speratus),イエシロアリ(Coptotermes formosanus),アメリカカンザイシロアリ(Incisitermes minor),ダイコクシロアリ(Cryptotermes domesticus),タイワンシロアリ(Odontotermes formosanus),コウシュンシロアリ(Neotermes koshunensis),サツマシロアリ(Glyptotermes satsumensis),ナカジマシロアリ(Glyptotermes nakajimai),カタンシロアリ(Glyptotermes fuscus),コダマシロアリ(Glyptotermes kodamai),クシモトシロアリ(Glyptotermes kushimensis),オオシロアリ(Hodotermopsis japonica),コウシュウイエシロアリ(Coptotermes guangzhoensis),アマミシロアリ(Reticulitermes miyatakei),キアシシロアリ(Reticulitermes flaviceps amamianus),カンモンシロアリ(Reticulitermes sp. ),タカサゴシロアリ(Nasutitermes takasagoensis),ニトベシロアリ(Pericapritermes nitobei),ムシャシロアリ(Sinocapritermes mushae)等のシロアリ類等。
ダニ目害虫:ナミハダニ(Tetranychus urticae),カンザワハダニ(Tetranychus kanzawai),ミカンハダニ(Panonychus citri)リンゴハダニ(Panonychus ulmi),オリゴニカス属等のハダニ類,ミカンサビダニ(Aculops pelekassi),リュウキュウミカンサビダニ(Phyllocoptruta citri),トマトサビダニ(Aculops lycopersici),チャノサビダニ(Calacarus carinatus),チャノナガサビダニ(Acaphylla theavagrans),ニセナシサビダニ(Eriophyes chibaensis),リンゴサビダニ(Aculus schlechtendali)等のフシダニ類,チャノホコリダニ(Polyphagotarsonemus latus)等のホコリダニ類,ミナミヒメハダニ(Brevipalpus phoenicis)等のヒメハダニ類,ケナガハダニ類,フタトゲチマダニ(Haemaphysalis longicornis),ヤマトチマダニ(Haemaphysalis flava),タイワンカクマダニ(Dermacentor taiwanicus),アメリカンドックチック(Dermacentor variabilis),ヤマトマダニ(Ixodes ovatus),シュルツマダニ(Ixodes persulcatus),ブラックレッグドチック(Ixodes scapularis),ローンスターチック(Amblyomma americanum),オウシマダニ(Boophilus microplus),クリイロコイタマダニ(Rhipicephalus sanguineus)等のマダニ類,ミミヒゼンダニ(Octodectes cynotis)等のキュウヒゼンダニ類,ヒゼンダニ(Sacroptes scabiei)等のヒゼンダニ類,イヌニキビダニ(Demodex canis)等のニキビダニ類,ケナガコナダニ(Tyrophagus putrescentiae),ホウレンソウケナガコナダニ(Tyrophagus similis)等のコナダニ類,コナヒョウヒダニ(Dermatophagoides farinae),ヤケヒョウヒダニ(Dermatophagoides ptrenyssnus)等のヒョウヒダニ類,ホソツメダニ(Cheyletus eruditus),クワガタツメダニ(Cheyletus malaccensis),ミナミツメダニ(Cheyletus moorei)等のツメダニ類,イエダニ(Ornithonyssus bacoti),トリサシダニ(Ornithonyssus sylvairum),ワクモ(Dermanyssus gallinae)等のワクモ類,アオツツガムシ(Leptotrombidium akamushi)等のツツガムシ類等,カバキコマチグモ(Chiracanthium japonicum),セアカゴケグモ(Latrodectus hasseltii)等のクモ類等。
唇脚綱類:ゲジ(Thereuonema hilgendorfi),トビズムカデ(Scolopendra subspinipes)等。
倍脚綱類:ヤケヤスデ(Oxidus gracilis),アカヤスデ(Nedyopus tambanus)等。
等脚目類:オカダンゴムシ(Armadillidium vulgare)等。
腹足綱類:チャコウラナメクジ(Limax marginatus),キイロコウラナメクジ(Limax flavus)等。
倍脚綱類:ヤケヤスデ(Oxidus gracilis),アカヤスデ(Nedyopus tambanus)等。
等脚目類:オカダンゴムシ(Armadillidium vulgare)等。
腹足綱類:チャコウラナメクジ(Limax marginatus),キイロコウラナメクジ(Limax flavus)等。
本発明の有害節足動物防除剤は本発明化合物そのものでもよいが、通常は固体担体、液体担体及び又はガス状担体と混合し、更に必要に応じて界面活性剤その他の製剤用補助剤を添加して、乳剤、油剤、シャンプー剤、フロアブル剤、粉剤、水和剤、粒剤、ペースト状製剤、マイクロカプセル製剤、泡沫剤、エアゾール製剤、炭酸ガス製剤、錠剤、樹脂製剤等の形態に製剤化されたものである。これらの製剤は、毒餌、蚊取り線香、電気蚊取りマット、燻煙剤、燻蒸剤、シートに加工されて、使用されることもある。
これらの製剤は、本発明化合物を通常0.1〜95重量%含有する。
これらの製剤は、本発明化合物を通常0.1〜95重量%含有する。
製剤化の際に用いられる固体担体としては、例えば粘土類(カオリンクレー、珪藻土、ベントナイト、フバサミクレー、酸性白土等)、合成含水酸化珪素、タルク、セラミック、その他の無機鉱物(セリサイト、石英、硫黄、活性炭、炭酸カルシウム、水和シリカ等)、化学肥料(硫安、燐安、硝安、塩安、尿素等)等の微粉末及び粒状物が挙げられる。
液体担体としては、例えば芳香族または脂肪族炭化水素類(キシレン、トルエン、アルキルナフタレン、フェニルキシリルエタン、ケロシン、軽油、ヘキサン、シクロヘキサン等)、ハロゲン化炭化水素類(クロロベンゼン、ジクロロメタン、ジクロロエタン、トリクロロエタン等)、アルコール類(メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール、ブタノール、ヘキサノール、エチレングリコール等)、エーテル類(ジエチルエーテル、エチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン等)、エステル類(酢酸エチル、酢酸ブチル等)、ケトン類(アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等)、ニトリル類(アセトニトリル、イソブチロニトリル等)、スルホキシド類(ジメチルスルホキシド等)、酸アミド類(N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド等)、ピロリドン類(N−メチル−2−ピロリドン、N−オクチル−2−ピロリドン等)、炭酸プロピレン、乳酸エチル、1,3−ジメチル−2−イミダゾリジノン、植物油(大豆油、綿実油等)、植物精油(オレンジ油、ヒソップ油、レモン油等)および水などが挙げられる。
ガス状担体としては、例えばブタンガス、フロンガス、液化石油ガス(LPG)、ジメチルエーテル、炭酸ガス等を挙げることができる。
界面活性剤としては、例えばアルキル硫酸エステル塩、アルキルスルホン酸塩、アルキルアリールスルホン酸塩、アルキルアリールエーテル類及びそのポリオキシエチレン化物、ポリエチレングリコールエーテル類、多価アルコールエステル類及び糖アルコール誘導体が挙げられる。
その他の製剤用補助剤としては、固着剤、分散剤及び安定剤等、具体的には例えばカゼイン、ゼラチン、多糖類(澱粉、アラビアガム、セルロース誘導体、アルギン酸等)、リグニン誘導体、ベントナイト、糖類、合成水溶性高分子(ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドン、ポリアクリル酸類等)、PAP(酸性リン酸イソプロピル)、BHT(2,6−ジ−t−ブチル−4−メチルフェノール)、BHA(2−t−ブチル−4−メトキシフェノールと3−t−ブチル−4−メトキシフェノールとの混合物)、植物油、鉱物油、脂肪酸及び脂肪酸エステルが挙げられる。
樹脂製剤の基材としては、例えば塩化ビニル系重合体、ポリウレタン等を挙げることができ、これらの基材には必要によりフタル酸エステル類(フタル酸ジメチル、フタル酸ジオクチル等)、アジピン酸エステル類、ステアリン酸等の可塑剤が添加されていてもよい。樹脂製剤は該基材中に化合物を通常の混練装置を用いて混練した後、射出成型、押出成型、プレス成型等により成型することにより得られ、必要により更に成型、裁断等の工程を経て、板状、フィルム状、テープ状、網状、ひも状等の樹脂製剤に加工できる。これらの樹脂製剤は、例えば動物用首輪、動物用イヤータッグ、シート製剤、誘引ひも、園芸用支柱として加工される。
毒餌の基材としては、例えば穀物粉、植物油、糖、結晶セルロース等が挙げられ、更に必要に応じて、ジブチルヒドロキシトルエン、ノルジヒドログアイアレチン酸等の酸化防止剤、デヒドロ酢酸等の保存料、トウガラシ末等の子供やペットによる誤食防止剤、チーズ香料、タマネギ香料ピーナッツオイル等の害虫誘引性香料等が添加される。
毒餌の基材としては、例えば穀物粉、植物油、糖、結晶セルロース等が挙げられ、更に必要に応じて、ジブチルヒドロキシトルエン、ノルジヒドログアイアレチン酸等の酸化防止剤、デヒドロ酢酸等の保存料、トウガラシ末等の子供やペットによる誤食防止剤、チーズ香料、タマネギ香料ピーナッツオイル等の害虫誘引性香料等が添加される。
本発明の有害節足動物防除剤は、例えば有害節足動物に直接、及び/又は有害節足動物の生息場所(植物体、動物体、土壌等)に施用することにより用いられる。
本発明の有害節足動物防除剤を農林害虫の防除に用いる場合は、その施用量は有効成分量として通常1〜10000g/ha、好ましくは10〜500g/haである。乳剤、水和剤、フロアブル剤、マイクロカプセル製剤等は通常有効成分濃度が1〜1000ppmとなるように水で希釈して使用し、粉剤、粒剤等は通常そのまま使用する。これらの製剤を有害節足動物から保護すべき植物に対して直接散布してもよい。これらの製剤を土壌に処理することにより土壌に棲息する有害節足動物を防除することもでき、またこれらの製剤を植物を植え付ける前の苗床に処理したり、植付時に植穴や株元に処理することもできる。さらに、本発明の有害節足動物防除剤のシート製剤を植物に巻き付けたり、植物の近傍に設置したり、株元の土壌表面に敷くなどの方法でも施用することができる。
本発明の有害節足動物防除剤は、畑、水田、芝生、果樹園等の農耕地において使用することができ、当該農耕地で栽培されている作物に対して薬害を与えることなく、当該農耕地における有害節足動物を防除することができる場合がある。
そのような作物としては、具体的には下記の作物が挙げられる。
農作物;トウモロコシ、イネ、コムギ、オオムギ、ライムギ、エンバク、ソルガム、ワタ、ダイズ、ピーナッツ、ソバ、テンサイ、ナタネ、ヒマワリ、サトウキビ、タバコ等、
野菜;ナス科野菜(ナス、トマト、ピーマン、トウガラシ、ジャガイモ等)、ウリ科野菜(キュウリ、カボチャ、ズッキーニ、スイカ、メロン等)、アブラナ科野菜(ダイコン、カブ、セイヨウワサビ、コールラビ、ハクサイ、キャベツ、カラシナ、ブロッコリー、カリフラワー等)、キク科野菜(ゴボウ、シュンギク、アーティチョーク、レタス等)、ユリ科野菜(ネギ、タマネギ、ニンニク、アスパラガス)、セリ科野菜(ニンジン、パセリ、セロリ、アメリカボウフウ等)、アカザ科野菜(ホウレンソウ、フダンソウ等)、シソ科野菜(シソ、ミント、バジル等)、イチゴ、サツマイモ、ヤマノイモ、サトイモ等、
花卉、
観葉植物、
果樹;仁果類(リンゴ、セイヨウナシ、ニホンナシ、カリン、マルメロ等)、核果類(モモ、スモモ、ネクタリン、ウメ、オウトウ、アンズ、プルーン等)、カンキツ類(ウンシュウミカン、オレンジ、レモン、ライム、グレープフルーツ等)、堅果類(クリ、クルミ、ハシバミ、アーモンド、ピスタチオ、カシューナッツ、マカダミアナッツ等)、液果類(ブルーベリー、クランベリー、ブラックベリー、ラズベリー等)、ブドウ、カキ、オリーブ、ビワ、バナナ、コーヒー、ナツメヤシ、ココヤシ等、
果樹以外の樹;チャ、クワ、花木、街路樹(トネリコ、カバノキ、ハナミズキ、ユーカリ、イチョウ、ライラック、カエデ、カシ、ポプラ、ハナズオウ、フウ、プラタナス、ケヤキ、クロベ、モミノキ、ツガ、ネズ、マツ、トウヒ、イチイ)等。
農作物;トウモロコシ、イネ、コムギ、オオムギ、ライムギ、エンバク、ソルガム、ワタ、ダイズ、ピーナッツ、ソバ、テンサイ、ナタネ、ヒマワリ、サトウキビ、タバコ等、
野菜;ナス科野菜(ナス、トマト、ピーマン、トウガラシ、ジャガイモ等)、ウリ科野菜(キュウリ、カボチャ、ズッキーニ、スイカ、メロン等)、アブラナ科野菜(ダイコン、カブ、セイヨウワサビ、コールラビ、ハクサイ、キャベツ、カラシナ、ブロッコリー、カリフラワー等)、キク科野菜(ゴボウ、シュンギク、アーティチョーク、レタス等)、ユリ科野菜(ネギ、タマネギ、ニンニク、アスパラガス)、セリ科野菜(ニンジン、パセリ、セロリ、アメリカボウフウ等)、アカザ科野菜(ホウレンソウ、フダンソウ等)、シソ科野菜(シソ、ミント、バジル等)、イチゴ、サツマイモ、ヤマノイモ、サトイモ等、
花卉、
観葉植物、
果樹;仁果類(リンゴ、セイヨウナシ、ニホンナシ、カリン、マルメロ等)、核果類(モモ、スモモ、ネクタリン、ウメ、オウトウ、アンズ、プルーン等)、カンキツ類(ウンシュウミカン、オレンジ、レモン、ライム、グレープフルーツ等)、堅果類(クリ、クルミ、ハシバミ、アーモンド、ピスタチオ、カシューナッツ、マカダミアナッツ等)、液果類(ブルーベリー、クランベリー、ブラックベリー、ラズベリー等)、ブドウ、カキ、オリーブ、ビワ、バナナ、コーヒー、ナツメヤシ、ココヤシ等、
果樹以外の樹;チャ、クワ、花木、街路樹(トネリコ、カバノキ、ハナミズキ、ユーカリ、イチョウ、ライラック、カエデ、カシ、ポプラ、ハナズオウ、フウ、プラタナス、ケヤキ、クロベ、モミノキ、ツガ、ネズ、マツ、トウヒ、イチイ)等。
上記作物には、イソキサフルトール等のHPPD阻害剤、イマゼタピル、チフェンスルフロンメチル等のALS阻害剤、EPSP合成酵素阻害剤、グルタミン合成酵素阻害剤、アセチルCoAカルボキシラーゼ阻害剤、ブロモキシニル等の除草剤に対する耐性が、古典的な育種法、もしくは遺伝子組換え技術により付与された作物も含まれる。
古典的な育種法により耐性が付与された作物としては、例えば、イマゼタピル等のイミダゾリノン系除草剤耐性のクリアーフィールド(Clearfield)<登録商標>カノーラ、チフェンスルフロンメチル等のスルホニル尿素系ALS阻害型除草剤耐性のSTSダイズ等がある。同様に古典的な育種法によりトリオンオキシム系、アリールオキシフェノキシプロピオン酸系除草剤などのアセチルCoAカルボキシラーゼ阻害剤に耐性が付与された作物の例としてSRコーン等がある。アセチルCoAカルボキシラーゼ阻害剤に耐性が付与された作物はプロシーディングズ・オブ・ザ・ナショナル・アカデミー・オブ・サイエンシーズ・オブ・ザ・ユナイテッド・ステーツ・オブ・アメリカ(Proc.Natl.Acad.Sci.USA)87巻、7175〜7179頁(1990年)等に記載されている。またアセチルCoAカルボキシラーゼ阻害剤に耐性の変異アセチルCoAカルボキシラーゼがウィード・サイエンス(Weed Science)53巻、728〜746頁(2005年)等に報告されており、こうした変異アセチルCoAカルボキシラーゼ遺伝子を遺伝子組換え技術により作物に導入するかもしくは抵抗性付与に関わる変異を作物アセチルCoAカルボキシラーゼに導入する事により、アセチルCoAカルボキシラーゼ阻害剤に耐性の作物を作出することができる。さらに、キメラプラスティ技術(Gura T. 1999. Repairing the Genome’s Spelling Mistakes. Science 285: 316−318.)に代表される塩基置換変異導入核酸を作物細胞内に導入して作物(アセチルCoAカルボキシラーゼ/除草剤標的)遺伝子に部位特異的アミノ酸置換変異を引き起こすことにより、(アセチルCoAカルボキシラーゼ阻害剤/除草剤)に耐性の作物を作出することができる。
古典的な育種法により耐性が付与された作物としては、例えば、イマゼタピル等のイミダゾリノン系除草剤耐性のクリアーフィールド(Clearfield)<登録商標>カノーラ、チフェンスルフロンメチル等のスルホニル尿素系ALS阻害型除草剤耐性のSTSダイズ等がある。同様に古典的な育種法によりトリオンオキシム系、アリールオキシフェノキシプロピオン酸系除草剤などのアセチルCoAカルボキシラーゼ阻害剤に耐性が付与された作物の例としてSRコーン等がある。アセチルCoAカルボキシラーゼ阻害剤に耐性が付与された作物はプロシーディングズ・オブ・ザ・ナショナル・アカデミー・オブ・サイエンシーズ・オブ・ザ・ユナイテッド・ステーツ・オブ・アメリカ(Proc.Natl.Acad.Sci.USA)87巻、7175〜7179頁(1990年)等に記載されている。またアセチルCoAカルボキシラーゼ阻害剤に耐性の変異アセチルCoAカルボキシラーゼがウィード・サイエンス(Weed Science)53巻、728〜746頁(2005年)等に報告されており、こうした変異アセチルCoAカルボキシラーゼ遺伝子を遺伝子組換え技術により作物に導入するかもしくは抵抗性付与に関わる変異を作物アセチルCoAカルボキシラーゼに導入する事により、アセチルCoAカルボキシラーゼ阻害剤に耐性の作物を作出することができる。さらに、キメラプラスティ技術(Gura T. 1999. Repairing the Genome’s Spelling Mistakes. Science 285: 316−318.)に代表される塩基置換変異導入核酸を作物細胞内に導入して作物(アセチルCoAカルボキシラーゼ/除草剤標的)遺伝子に部位特異的アミノ酸置換変異を引き起こすことにより、(アセチルCoAカルボキシラーゼ阻害剤/除草剤)に耐性の作物を作出することができる。
また、遺伝子組換え技術により耐性が付与された作物としては、例えばグリホサートやグルホシネート耐性のトウモロコシ品種があり、ラウンドアップレディ(RoundupReady)<登録商標>及びリバティーリンク(LibertyLink)<登録商標>等の商品名で既に販売されている。
上記作物には、遺伝子組換え技術を用いて、例えば、バチルス属で知られている選択的毒素等を合成する事が可能となった作物も含まれる。
この様な遺伝子組換え植物で発現される殺虫性毒素としては、例えばバチルス・セレウス(Bacillus cereus)やバチルス・ポピリエ(Bacillus popilliae)由来の殺虫性タンパク;バチルス・チューリンゲンシス(Bacillus thuringiensis)由来のCry1Ab、Cry1Ac、Cry1F、Cry1Fa2、Cry2Ab、Cry3A、Cry3Bb1またはCry9C等のδ−エンドトキシン、VIP1、VIP2、VIP3またはVIP3A等の殺虫性タンパク;線虫由来の殺虫性タンパク;さそり毒素、クモ毒素、ハチ毒素または昆虫特異的神経毒素等の動物によって産生される毒素;糸条菌類毒素;植物レクチン;アグルチニン;トリプシン阻害剤、セリンプロテアーゼ阻害剤、パタチン、シスタチン、パパイン阻害剤等のプロテアーゼ阻害剤;リシン、トウモロコシ−RIP、アブリン、サポリン、ブリオジン等のリボゾーム不活性化タンパク(RIP);3−ヒドロキシステロイドオキシダーゼ、エクジステロイド−UDP−グルコシルトランスフェラーゼ、コレステロールオキシダーゼ等のステロイド代謝酵素;エクダイソン阻害剤;HMG−CoAリダクターゼ;ナトリウムチャネル阻害剤、カルシウムチャネル阻害剤等のイオンチャネル阻害剤;幼若ホルモンエステラーゼ;利尿ホルモン受容体;スチルベンシンターゼ;ビベンジルシンターゼ;キチナーゼ;グルカナーゼ等が挙げられる。
またこの様な遺伝子組換え作物で発現される毒素として、Cry1Ab、Cry1Ac、Cry1F、Cry1Fa2、Cry2Ab、Cry3A、Cry3Bb1またはCry9C等のδ−エンドトキシンタンパク、VIP1、VIP2、VIP3またはVIP3A等の殺虫性タンパクのハイブリッド毒素、一部を欠損した毒素、修飾された毒素も含まれる。ハイブリッド毒素は組換え技術を用いて、これらタンパクの異なるドメインの新しい組み合わせによって作り出される。一部を欠損した毒素としては、アミノ酸配列の一部を欠損したCry1Abが知られている。修飾された毒素としては、天然型の毒素のアミノ酸の1つまたは複数が置換されている。
これら毒素の例およびこれら毒素を合成する事ができる組換え植物は、例えばEP−A−0374753、WO93/07278、WO95/34656、EP−A−0427529、EP−A−451878、WO03/052073等に記載されている。
これらの組換え植物に含まれる毒素は、特に、甲虫目害虫、双翅目害虫、鱗翅目害虫への耐性を植物へ付与する。
この様な遺伝子組換え植物で発現される殺虫性毒素としては、例えばバチルス・セレウス(Bacillus cereus)やバチルス・ポピリエ(Bacillus popilliae)由来の殺虫性タンパク;バチルス・チューリンゲンシス(Bacillus thuringiensis)由来のCry1Ab、Cry1Ac、Cry1F、Cry1Fa2、Cry2Ab、Cry3A、Cry3Bb1またはCry9C等のδ−エンドトキシン、VIP1、VIP2、VIP3またはVIP3A等の殺虫性タンパク;線虫由来の殺虫性タンパク;さそり毒素、クモ毒素、ハチ毒素または昆虫特異的神経毒素等の動物によって産生される毒素;糸条菌類毒素;植物レクチン;アグルチニン;トリプシン阻害剤、セリンプロテアーゼ阻害剤、パタチン、シスタチン、パパイン阻害剤等のプロテアーゼ阻害剤;リシン、トウモロコシ−RIP、アブリン、サポリン、ブリオジン等のリボゾーム不活性化タンパク(RIP);3−ヒドロキシステロイドオキシダーゼ、エクジステロイド−UDP−グルコシルトランスフェラーゼ、コレステロールオキシダーゼ等のステロイド代謝酵素;エクダイソン阻害剤;HMG−CoAリダクターゼ;ナトリウムチャネル阻害剤、カルシウムチャネル阻害剤等のイオンチャネル阻害剤;幼若ホルモンエステラーゼ;利尿ホルモン受容体;スチルベンシンターゼ;ビベンジルシンターゼ;キチナーゼ;グルカナーゼ等が挙げられる。
またこの様な遺伝子組換え作物で発現される毒素として、Cry1Ab、Cry1Ac、Cry1F、Cry1Fa2、Cry2Ab、Cry3A、Cry3Bb1またはCry9C等のδ−エンドトキシンタンパク、VIP1、VIP2、VIP3またはVIP3A等の殺虫性タンパクのハイブリッド毒素、一部を欠損した毒素、修飾された毒素も含まれる。ハイブリッド毒素は組換え技術を用いて、これらタンパクの異なるドメインの新しい組み合わせによって作り出される。一部を欠損した毒素としては、アミノ酸配列の一部を欠損したCry1Abが知られている。修飾された毒素としては、天然型の毒素のアミノ酸の1つまたは複数が置換されている。
これら毒素の例およびこれら毒素を合成する事ができる組換え植物は、例えばEP−A−0374753、WO93/07278、WO95/34656、EP−A−0427529、EP−A−451878、WO03/052073等に記載されている。
これらの組換え植物に含まれる毒素は、特に、甲虫目害虫、双翅目害虫、鱗翅目害虫への耐性を植物へ付与する。
また、1つもしくは複数の殺虫性の害虫抵抗性遺伝子を含み、1つまたは複数の毒素を発現する遺伝子組換え植物は既に知られており、いくつかのものは市販されている。これら遺伝子組換え植物の例として、イールドガード(YieldGard)<登録商標>(Cry1Ab毒素を発現するトウモロコシ品種)、イールドガードルートワーム(YieldGard Rootworm)<登録商標>(Cry3Bb1毒素を発現するトウモロコシ品種)、イールドガードプラス(YieldGard Plus)<登録商標>(Cry1AbとCry3Bb1毒素を発現するトウモロコシ品種)、ハーキュレックスI(Herculex I)<登録商標>(Cry1Fa2毒素とグルホシネートへの耐性を付与する為のホスフィノトリシン N−アセチルトランスフェラーゼ(PAT)を発現するトウモロコシ品種)、NuCOTN33B<登録商標>(Cry1Ac毒素を発現するワタ品種)、ボルガードI(Bollgard I)<登録商標>(Cry1Ac毒素を発現するワタ品種)、ボルガードII(Bollgard II)<登録商標>(Cry1AcとCry2Ab毒素を発現するワタ品種)、VIPCOT<登録商標>(VIP毒素を発現するワタ品種)、ニューリーフ(NewLeaf)<登録商標>(Cry3A毒素を発現するジャガイモ品種)、ネイチャーガード アグリシュアー GT アドバンテージ(NatureGard<登録商標>Agrisure<登録商標>GT Advantage)(GA21 グリホサート耐性形質)、アグリシュアー CB アドバンテージ(Agrisure<登録商標> CB Advantage)(Bt11コーンボーラー(CB)形質)、プロテクタ(Protecta)<登録商標>等が挙げられる。
上記作物には、遺伝子組換え技術を用いて、選択的な作用を有する抗病原性物質を産生する能力を付与されたものも含まれる。
抗病原性物質としては、例えばPRタンパク(PRPs、EP−A−0392225に記載されている);ナトリウムチャネル阻害剤、カルシウムチャネル阻害剤(ウイルスが産生するKP1、KP4、KP6毒素等が知られている)等のイオンチャネル阻害剤;スチルベンシンターゼ;ビベンジルシンターゼ;キチナーゼ;グルカナーゼ;ペプチド抗生物質、ヘテロ環を有する抗生物質、植物病害抵抗性に関与するタンパク因子(植物病害抵抗性遺伝子と呼ばれ、WO03/000906に記載されている)等の微生物が産生する物質等が挙げられる。このような抗病原性物質とそれを産生する遺伝子組換え植物は、EP−A−0392225、WO95/33818、EP−A−0353191等に記載されている。
抗病原性物質としては、例えばPRタンパク(PRPs、EP−A−0392225に記載されている);ナトリウムチャネル阻害剤、カルシウムチャネル阻害剤(ウイルスが産生するKP1、KP4、KP6毒素等が知られている)等のイオンチャネル阻害剤;スチルベンシンターゼ;ビベンジルシンターゼ;キチナーゼ;グルカナーゼ;ペプチド抗生物質、ヘテロ環を有する抗生物質、植物病害抵抗性に関与するタンパク因子(植物病害抵抗性遺伝子と呼ばれ、WO03/000906に記載されている)等の微生物が産生する物質等が挙げられる。このような抗病原性物質とそれを産生する遺伝子組換え植物は、EP−A−0392225、WO95/33818、EP−A−0353191等に記載されている。
本発明の有害節足動物防除剤を防疫用として用いる場合は、その施用量は空間に適用するときは有効成分量として通常0.001〜10mg/m3であり、平面に適用するときは0.001〜100mg/m2である。乳剤、水和剤、フロアブル剤等は通常有効成分濃度が0.01〜10000ppmとなるように水で希釈して施用し、油剤、エアゾール、燻煙剤、毒餌等は通常そのまま施用する。
本発明の有害節足動物防除剤をウシ、ウマ、ブタ、ヒツジ、ヤギ、ニワトリ用の家畜、イヌ、ネコ、ラット、マウス等の小動物の外部寄生虫防除に用いる場合は、獣医学的に公知の方法で動物に使用することができる。具体的な使用方法としては、全身抑制を目的にする場合には、例えば錠剤、飼料混入、坐薬、注射(筋肉内、皮下、静脈内、腹腔内等)により投与され、非全身的抑制を目的とする場合には、例えば油剤若しくは水性液剤を噴霧する、ポアオン処理若しくはスポットオン処理を行う、シャンプー製剤で動物を洗う又は樹脂製剤を首輪や耳札にして動物に付ける等の方法により用いられる。動物体に投与する場合の本発明化合物の量は、通常動物の体重1kgに対して、0.1〜1000mgの範囲である。
本発明の有害節足動物防除剤は他の殺虫剤、殺線虫剤、殺ダニ剤、殺菌剤、除草剤、植物生長調節剤、共力剤、肥料、土壌改良剤、動物用飼料等と混用又は併用することもできる。
混用または併用することのできる殺虫剤の有効成分としては、例えば
(1)有機リン系化合物
アセフェート(acephate)、りん化アルミニウム(Aluminium phosphide)、ブタチオホス(butathiofos)、キャドサホス(cadusafos)、クロルエトキシホス(chlorethoxyfos)、クロルフェンビンホス(ch1orfenvinphos)、クロルピリホス(chlorpyrifos)、クロルピリホスメチル(chlorpyrifos−methyl)、シアノホス(cyanophos:CYAP)、ダイアジノン(diazinon)、DCIP(dichlorodiisopropyl ether)、ジクロフェンチオン(dichlofenthion:ECP)、ジクロルボス(dichlorvos:DDVP)、ジメトエート(dimethoate)、ジメチルビンホス(dimethylvinphos)、ジスルホトン(disulfoton)、EPN、エチオン(ethion)、エトプロホス(ethoprophos)、エトリムホス(etrimfos)、フェンチオン(fenthion:MPP)、フエニトロチオン(fenitrothion:MEP)、ホスチアゼート(fosthiazate)、ホルモチオン(formothion)、りん化水素(Hydrogen phosphide)、イソフェンホス(isofenphos)、イソキサチオン(isoxathion)、マラチオン(malathion)、メスルフェンホス(mesulfenfos)、メチダチオン(methidathion:DMTP)、モノクロトホス(monocrotophos)、ナレッド(naled:BRP)、オキシデプロホス(oxydeprofos:ESP)、パラチオン(parathion)、ホサロン(phosalone)、ホスメット(phosmet:PMP)、ピリミホスメチル(pirimiphos−methy1)、ピリダフェンチオン(pyridafenthion)、キナルホス(quinalphos)、フェントエート(phenthoate:PAP)、プロフェノホス(profenofos)、プロパホス(propaphos)、プロチオホス(prothiofos)、ピラクロホス(pyraclorfos)、サリチオン(salithion)、スルプロホス(sulprofos)、テブピリムホス(tebupirimfos)、テメホス(temephos)、テトラクロルビンホス(tetrach1orvinphos)、テルブホス(terbufos)、チオメトン(thiometon)、トリクロルホン(trichlorphon:DEP)、バミドチオン(vamidothion)、フォレート(phorate)、カズサホス(cadusafos)等;
(2)カーバメート系化合物
アラニカルブ(alanycarb)、ベンダイオカルブ(bendiocarb)、ベンフラカルブ(benfuracarb)、BPMC、カルバリル(carbary1)、カルボフラン(carbofuran)、カルボスルファン(carbosulfan)、クロエトカルブ(cloethocarb)、エチオフェンカルブ(ethiofencarb)、フェノブカルブ(fenobucarb)、フェノチオカルブ(fenothiocarb)、フェノキシカルブ(fenoxycarb)、フラチオカルブ(furathiocarb)、イソプロカルブ(isoprocarb:MIPC)、メトルカルブ(metolcarb)、 メソミル(methomyl)、メチオカルブ(methiocarb)、NAC、オキサミル(oxamyl)、ピリミカーブ(pirimicarb)、プロポキスル(propoxur:PHC)、XMC、チオジカルブ(thiodicarb)、 キシリルカルブ(xylylcarb)、アルジカルブ(aldicarb)等;
(3)合成ピレスロイド系化合物
アクリナトリン(acrinathrin)、アレスリン(allethrin)、ベータ−シフルトリン(beta−cyfluthrin)、ビフェントリン(bifenthrin)、シクロプロトリン(cycloprothrin)、シフルトリン(cyfluthrin)、シハロトリン(cyhalothrin)、シペルメトリン(cypermethrin)、エンペントリン(empenthrin)、デルタメトリン(deltamethrin)、エスフェンバレレート(esfenvalerate)、エトフェンプロックス(ethofenprox) 、フェンプロパトリン(fenpropathrin)、フェンバレレート(fenvalerate)、フルシトリネート(flucythrinate)、フルフェンプロックス(flufenoprox)、フルメトリン(flumethrin)、フルバリネート(fluvalinate)、ハルフェンプロックス(halfenprox)、イミプロトリン(imiprothrin)、ペルメトリン(permethrin)、プラレトリン(prallethrin)、ピレトリン(pyrethrins)、レスメトリン(resmethrin)、シグマ−サイパーメトリン(sigma−cypermethrin)、シラフルオフェン(silafluofen)、テフルトリン(tefluthrin)、トラロメトリン(tralomethrin)、トランスフルトリン(transfluthrin)、テトラメトリン(tetramethrin)、フェノトリン(phenothrin)、シフェノトリン(cyphenothrin)、アルファシペルメトリン(alpha−cypermethrin)、ゼータシペルメトリン(zeta−cypermethrin)、ラムダシハロトリン(lambda−cyhalothrin)、ガンマシハロトリン(gamma−cyhalothrin)、フラメトリン(furamethrin)、タウフルバリネート(tau−fluvalinate)、メトフルトリン(metofluthrin)、2,3,5,6−テトラフルオロ−4−メチルベンジル 2,2−ジメチル−3−(1−プロペニル)シクロプロパンカルボキシレート、2,3,5,6−テトラフルオロ−4−(メトキシメチル)ベンジル 2,2−ジメチル−3−(2−メチル−1−プロペニル)シクロプロパンカルボキシレート、2,3,5,6−テトラフルオロ−4−(メトキシメチル)ベンジル 2,2−ジメチル−3−(2−シアノ−1−プロペニル)シクロプロパンカルボキシレート、2,3,5,6−テトラフルオロ−4−(メトキシメチル)ベンジル 2,2,3,3−テトラメチルシクロプロパンカルボキシレート等;
(4)ネライストキシン系化合物
カルタップ(cartap)、ベンスルタップ(bensu1tap)、チオシクラム(thiocyclam)、モノスルタップ(monosultap)、ビスルタップ(bisultap)等;
(5)ネオニコチノイド系化合物
イミダクロプリド(imidac1oprid)、ニテンピラム(nitenpyram)、アセタミプリド(acetamiprid)、チアメトキサム(thiamethoxam)、チアクロプリド(thiacloprid)、ジノテフラン(dinotefuran)、クロチアニジン(clothianidin)等;
(6)ベンゾイル尿素系化合物
クロルフルアズロン(chlorfluazuron)、ビストリフルロン(bistrifluron)、ジアフェンチウロン(diafenthiuron)、ジフルベンズロン(diflubenzuron)、フルアズロン(fluazuron)、フルシクロクスロン(flucycloxuron)、フルフェノクスロン(flufenoxuron)、ヘキサフルムロン(hexaflumuron)、ルフェヌロン(lufenuron)、ノバルロン(novaluron)、ノビフルムロン(noviflumuron)、テフルベンズロン(teflubenzuron)、トリフルムロン(triflumuron)、トリアズロン(triazuron)等;
(7)フェニルピラゾール系化合物
アセトプロール(acetoprole)、エチプロール(ethiprole)、フィプロニル(fiproni1)、バニリプロール(vaniliprole)、ピリプロール(pyriprole)、ピラフルプロール(pyrafluprole)等;
(8)Btトキシン系殺虫剤
バチルス・チューリンゲンシス菌由来の生芽胞および産生結晶毒素、並びにそれらの混合物;
(9)ヒドラジン系化合物
クロマフェノジド(chromafenozide)、ハロフェノジド(halofenozide)、メトキシフェノジド(methoxyfenozide)、テブフェノジド(tebufenozide)等;
(10)有機塩素系化合物
アルドリン(aldrin)、ディルドリン(dieldrin)、ジエノクロル(dienochlor)、エンドスルファン(endosulfan)、メトキシクロル(methoxychlor)等;
(11)天然系殺虫剤
マシン油(machine oil)、硫酸ニコチン(nicotine−sulfate);
(12)その他の殺虫剤
アベルメクチン(avermectin−B)、ブロモプロピレート(bromopropylate)、ブプロフェジン(buprofezin)、クロルフェナピル(chlorphenapyr)、シロマジン(cyromazine)、D−D(1,3−Dichloropropene)、エマメクチンベンゾエート(emamectin−benzoate)、フェナザキン(fenazaquin)、フルピラゾホス(flupyrazofos)、ハイドロプレン(hydroprene)、メトプレン(methoprene)、インドキサカルブ(indoxacarb)、メトキサジアゾン(metoxadiazone)、ミルベマイシンA(milbemycin−A)、ピメトロジン(pymetrozine)、ピリダリル(pyridalyl)、ピリプロキシフェン(pyriproxyfen)、スピノサッド(spinosad)、スルフラミド(sulfluramid)、トルフェンピラド(tolfenpyrad)、トリアゼメイト(triazamate)、フルベンジアミド(flubendiamide)、レピメクチン(lepimectin)、亜ひ酸(Arsenic acid)、ベンクロチアズ(benclothiaz)、石灰窒素(Calcium cyanamide)、石灰硫黄合剤(Calcium polysulfide)、クロルデン(chlordane)、DDT、DSP、フルフェネリウム(flufenerim)、フロニカミド(flonicamid)、フルリムフェン(flurimfen)、ホルメタネート(formetanate)、メタム・アンモニウム(metam−ammonium)、メタム・ナトリウム(metam−sodium)、臭化メチル(Methyl bromide)、オレイン酸カリウム(Potassium oleate)、プロトリフェンビュート(protrifenbute)、スピロメシフェン(spiromesifen)、硫黄(Sulfur)、メタフルミゾン(metaflumizone)、スピロテトラマット(spirotetramat)、ピリフルキナゾン(pyrifluquinazone)、スピネトラム(spinetoram)、クロラントラニリプロール(chlorantraniliprole)、トラロピリル(tralopyril)、下記式(A)
「式中、Xa1はメチル基、塩素原子、臭素原子またはフッ素原子を表し、Xa2はフッ素原子、塩素原子、臭素原子、C1−C4ハロアルキル基またはC1−C4ハロアルコキシ基を表し、Xa3はフッ素原子、塩素原子または臭素原子を表し、Xa4は置換されていてもよいC1−C4アルキル、置換されていてもよいC3−C4アルケニル、置換されていてもよいC3−C4アルキニル、置換されていてもよいC3−C5シクロアルキルアルキルまたは水素原子を表し、Xa5は水素原子またはメチル基を表し、Xa6は水素原子、フッ素原子または塩素原子を表し、Xa7は水素原子、フッ素原子または塩素原子を表す。」
で示されるいずれかの化合物、
下記式(B)
「式中、Xb1はXb2−NH−C(=O)基、Xb2−C(=O)−NH−CH2基、Xb3−S(O)基、置換されていてもよいピロール−1−イル基、置換されていてもよいイミダゾール−1−イル基、置換されていてもよいピラゾール−1−イル基または置換されていてもよい1,2,4−トリアゾール−1−イル基を表し、Xb2は2,2,2−トリフルオロエチル基等の置換されていてもよいC1−C4ハロアルキル基またはシクロプロピル基等の置換されていてもよいC3−C6シクロアルキル基を表し、Xb3はメチル等の置換されていてもよいC1−C4アルキル基を表し、Xb4は水素原子、塩素原子、シアノ基またはメチル基を表す。」」
で示されるいずれかの化合物、下記式(C)
「式中、Xc1は3,3,3−トリフルオロプロピル基等の置換されていてもよいC1−C4アルキル基、2,2,2−トリクロロエトキシ基等の置換されていてもよいC1−C4アルコキシ基、4−シアノフェニル基等の置換されていてもよいフェニル基または2−クロロ−3−ピリジル基等の置換されていてもよいピリジル基を表し、Xc2はメチル基またはトリフルオロメチルチオ基を表し、Xc3はメチル基またはハロゲン原子を表す。」
で示されるいずれかの化合物等が挙げられ、
(1)有機リン系化合物
アセフェート(acephate)、りん化アルミニウム(Aluminium phosphide)、ブタチオホス(butathiofos)、キャドサホス(cadusafos)、クロルエトキシホス(chlorethoxyfos)、クロルフェンビンホス(ch1orfenvinphos)、クロルピリホス(chlorpyrifos)、クロルピリホスメチル(chlorpyrifos−methyl)、シアノホス(cyanophos:CYAP)、ダイアジノン(diazinon)、DCIP(dichlorodiisopropyl ether)、ジクロフェンチオン(dichlofenthion:ECP)、ジクロルボス(dichlorvos:DDVP)、ジメトエート(dimethoate)、ジメチルビンホス(dimethylvinphos)、ジスルホトン(disulfoton)、EPN、エチオン(ethion)、エトプロホス(ethoprophos)、エトリムホス(etrimfos)、フェンチオン(fenthion:MPP)、フエニトロチオン(fenitrothion:MEP)、ホスチアゼート(fosthiazate)、ホルモチオン(formothion)、りん化水素(Hydrogen phosphide)、イソフェンホス(isofenphos)、イソキサチオン(isoxathion)、マラチオン(malathion)、メスルフェンホス(mesulfenfos)、メチダチオン(methidathion:DMTP)、モノクロトホス(monocrotophos)、ナレッド(naled:BRP)、オキシデプロホス(oxydeprofos:ESP)、パラチオン(parathion)、ホサロン(phosalone)、ホスメット(phosmet:PMP)、ピリミホスメチル(pirimiphos−methy1)、ピリダフェンチオン(pyridafenthion)、キナルホス(quinalphos)、フェントエート(phenthoate:PAP)、プロフェノホス(profenofos)、プロパホス(propaphos)、プロチオホス(prothiofos)、ピラクロホス(pyraclorfos)、サリチオン(salithion)、スルプロホス(sulprofos)、テブピリムホス(tebupirimfos)、テメホス(temephos)、テトラクロルビンホス(tetrach1orvinphos)、テルブホス(terbufos)、チオメトン(thiometon)、トリクロルホン(trichlorphon:DEP)、バミドチオン(vamidothion)、フォレート(phorate)、カズサホス(cadusafos)等;
(2)カーバメート系化合物
アラニカルブ(alanycarb)、ベンダイオカルブ(bendiocarb)、ベンフラカルブ(benfuracarb)、BPMC、カルバリル(carbary1)、カルボフラン(carbofuran)、カルボスルファン(carbosulfan)、クロエトカルブ(cloethocarb)、エチオフェンカルブ(ethiofencarb)、フェノブカルブ(fenobucarb)、フェノチオカルブ(fenothiocarb)、フェノキシカルブ(fenoxycarb)、フラチオカルブ(furathiocarb)、イソプロカルブ(isoprocarb:MIPC)、メトルカルブ(metolcarb)、 メソミル(methomyl)、メチオカルブ(methiocarb)、NAC、オキサミル(oxamyl)、ピリミカーブ(pirimicarb)、プロポキスル(propoxur:PHC)、XMC、チオジカルブ(thiodicarb)、 キシリルカルブ(xylylcarb)、アルジカルブ(aldicarb)等;
(3)合成ピレスロイド系化合物
アクリナトリン(acrinathrin)、アレスリン(allethrin)、ベータ−シフルトリン(beta−cyfluthrin)、ビフェントリン(bifenthrin)、シクロプロトリン(cycloprothrin)、シフルトリン(cyfluthrin)、シハロトリン(cyhalothrin)、シペルメトリン(cypermethrin)、エンペントリン(empenthrin)、デルタメトリン(deltamethrin)、エスフェンバレレート(esfenvalerate)、エトフェンプロックス(ethofenprox) 、フェンプロパトリン(fenpropathrin)、フェンバレレート(fenvalerate)、フルシトリネート(flucythrinate)、フルフェンプロックス(flufenoprox)、フルメトリン(flumethrin)、フルバリネート(fluvalinate)、ハルフェンプロックス(halfenprox)、イミプロトリン(imiprothrin)、ペルメトリン(permethrin)、プラレトリン(prallethrin)、ピレトリン(pyrethrins)、レスメトリン(resmethrin)、シグマ−サイパーメトリン(sigma−cypermethrin)、シラフルオフェン(silafluofen)、テフルトリン(tefluthrin)、トラロメトリン(tralomethrin)、トランスフルトリン(transfluthrin)、テトラメトリン(tetramethrin)、フェノトリン(phenothrin)、シフェノトリン(cyphenothrin)、アルファシペルメトリン(alpha−cypermethrin)、ゼータシペルメトリン(zeta−cypermethrin)、ラムダシハロトリン(lambda−cyhalothrin)、ガンマシハロトリン(gamma−cyhalothrin)、フラメトリン(furamethrin)、タウフルバリネート(tau−fluvalinate)、メトフルトリン(metofluthrin)、2,3,5,6−テトラフルオロ−4−メチルベンジル 2,2−ジメチル−3−(1−プロペニル)シクロプロパンカルボキシレート、2,3,5,6−テトラフルオロ−4−(メトキシメチル)ベンジル 2,2−ジメチル−3−(2−メチル−1−プロペニル)シクロプロパンカルボキシレート、2,3,5,6−テトラフルオロ−4−(メトキシメチル)ベンジル 2,2−ジメチル−3−(2−シアノ−1−プロペニル)シクロプロパンカルボキシレート、2,3,5,6−テトラフルオロ−4−(メトキシメチル)ベンジル 2,2,3,3−テトラメチルシクロプロパンカルボキシレート等;
(4)ネライストキシン系化合物
カルタップ(cartap)、ベンスルタップ(bensu1tap)、チオシクラム(thiocyclam)、モノスルタップ(monosultap)、ビスルタップ(bisultap)等;
(5)ネオニコチノイド系化合物
イミダクロプリド(imidac1oprid)、ニテンピラム(nitenpyram)、アセタミプリド(acetamiprid)、チアメトキサム(thiamethoxam)、チアクロプリド(thiacloprid)、ジノテフラン(dinotefuran)、クロチアニジン(clothianidin)等;
(6)ベンゾイル尿素系化合物
クロルフルアズロン(chlorfluazuron)、ビストリフルロン(bistrifluron)、ジアフェンチウロン(diafenthiuron)、ジフルベンズロン(diflubenzuron)、フルアズロン(fluazuron)、フルシクロクスロン(flucycloxuron)、フルフェノクスロン(flufenoxuron)、ヘキサフルムロン(hexaflumuron)、ルフェヌロン(lufenuron)、ノバルロン(novaluron)、ノビフルムロン(noviflumuron)、テフルベンズロン(teflubenzuron)、トリフルムロン(triflumuron)、トリアズロン(triazuron)等;
(7)フェニルピラゾール系化合物
アセトプロール(acetoprole)、エチプロール(ethiprole)、フィプロニル(fiproni1)、バニリプロール(vaniliprole)、ピリプロール(pyriprole)、ピラフルプロール(pyrafluprole)等;
(8)Btトキシン系殺虫剤
バチルス・チューリンゲンシス菌由来の生芽胞および産生結晶毒素、並びにそれらの混合物;
(9)ヒドラジン系化合物
クロマフェノジド(chromafenozide)、ハロフェノジド(halofenozide)、メトキシフェノジド(methoxyfenozide)、テブフェノジド(tebufenozide)等;
(10)有機塩素系化合物
アルドリン(aldrin)、ディルドリン(dieldrin)、ジエノクロル(dienochlor)、エンドスルファン(endosulfan)、メトキシクロル(methoxychlor)等;
(11)天然系殺虫剤
マシン油(machine oil)、硫酸ニコチン(nicotine−sulfate);
(12)その他の殺虫剤
アベルメクチン(avermectin−B)、ブロモプロピレート(bromopropylate)、ブプロフェジン(buprofezin)、クロルフェナピル(chlorphenapyr)、シロマジン(cyromazine)、D−D(1,3−Dichloropropene)、エマメクチンベンゾエート(emamectin−benzoate)、フェナザキン(fenazaquin)、フルピラゾホス(flupyrazofos)、ハイドロプレン(hydroprene)、メトプレン(methoprene)、インドキサカルブ(indoxacarb)、メトキサジアゾン(metoxadiazone)、ミルベマイシンA(milbemycin−A)、ピメトロジン(pymetrozine)、ピリダリル(pyridalyl)、ピリプロキシフェン(pyriproxyfen)、スピノサッド(spinosad)、スルフラミド(sulfluramid)、トルフェンピラド(tolfenpyrad)、トリアゼメイト(triazamate)、フルベンジアミド(flubendiamide)、レピメクチン(lepimectin)、亜ひ酸(Arsenic acid)、ベンクロチアズ(benclothiaz)、石灰窒素(Calcium cyanamide)、石灰硫黄合剤(Calcium polysulfide)、クロルデン(chlordane)、DDT、DSP、フルフェネリウム(flufenerim)、フロニカミド(flonicamid)、フルリムフェン(flurimfen)、ホルメタネート(formetanate)、メタム・アンモニウム(metam−ammonium)、メタム・ナトリウム(metam−sodium)、臭化メチル(Methyl bromide)、オレイン酸カリウム(Potassium oleate)、プロトリフェンビュート(protrifenbute)、スピロメシフェン(spiromesifen)、硫黄(Sulfur)、メタフルミゾン(metaflumizone)、スピロテトラマット(spirotetramat)、ピリフルキナゾン(pyrifluquinazone)、スピネトラム(spinetoram)、クロラントラニリプロール(chlorantraniliprole)、トラロピリル(tralopyril)、下記式(A)
「式中、Xa1はメチル基、塩素原子、臭素原子またはフッ素原子を表し、Xa2はフッ素原子、塩素原子、臭素原子、C1−C4ハロアルキル基またはC1−C4ハロアルコキシ基を表し、Xa3はフッ素原子、塩素原子または臭素原子を表し、Xa4は置換されていてもよいC1−C4アルキル、置換されていてもよいC3−C4アルケニル、置換されていてもよいC3−C4アルキニル、置換されていてもよいC3−C5シクロアルキルアルキルまたは水素原子を表し、Xa5は水素原子またはメチル基を表し、Xa6は水素原子、フッ素原子または塩素原子を表し、Xa7は水素原子、フッ素原子または塩素原子を表す。」
で示されるいずれかの化合物、
下記式(B)
「式中、Xb1はXb2−NH−C(=O)基、Xb2−C(=O)−NH−CH2基、Xb3−S(O)基、置換されていてもよいピロール−1−イル基、置換されていてもよいイミダゾール−1−イル基、置換されていてもよいピラゾール−1−イル基または置換されていてもよい1,2,4−トリアゾール−1−イル基を表し、Xb2は2,2,2−トリフルオロエチル基等の置換されていてもよいC1−C4ハロアルキル基またはシクロプロピル基等の置換されていてもよいC3−C6シクロアルキル基を表し、Xb3はメチル等の置換されていてもよいC1−C4アルキル基を表し、Xb4は水素原子、塩素原子、シアノ基またはメチル基を表す。」」
で示されるいずれかの化合物、下記式(C)
「式中、Xc1は3,3,3−トリフルオロプロピル基等の置換されていてもよいC1−C4アルキル基、2,2,2−トリクロロエトキシ基等の置換されていてもよいC1−C4アルコキシ基、4−シアノフェニル基等の置換されていてもよいフェニル基または2−クロロ−3−ピリジル基等の置換されていてもよいピリジル基を表し、Xc2はメチル基またはトリフルオロメチルチオ基を表し、Xc3はメチル基またはハロゲン原子を表す。」
で示されるいずれかの化合物等が挙げられ、
殺ダニ剤の有効成分としては、例えば
アセキノシル(acequinocyl)、アミトラズ(amitraz)、ベンゾキシメート(benzoximate)、ビフェナゼート(bifenaate)、フェニソブロモレート(bromopropylate)、キノメチオネート(chinomethionat)、クロルベンジレート(chlorobenzilate)、CPCBS(chlorfenson)、クロフェンテジン(clofentezine)、シフルメトフェン(cyflumetofen)、ケルセン(ジコホル:dicofol)、エトキサゾール(etoxazole)、酸化フェンブタスズ(fenbutatin oxide)、フェノチオカルブ(fenothiocarb)、フェンピロキシメート(fenpyroximate)、フルアクリピリム(fluacrypyrim)、フルプロキシフェン(fluproxyfen)、ヘキシチアゾクス(hexythiazox)、プロパルギット(propargite:BPPS)、ポリナクチン複合体(polynactins)、ピリダベン(pyridaben)、ピリミジフェン(Pyrimidifen)、テブフェンピラド(tebufenpyrad)、テトラジホン(tetradifon)、スピロディクロフェン(spirodiclofen)、スピロメシフェン(spiromesifen)、スピロテトラマット(spirotetramat)、アミドフルメット(amidoflumet)、シエノピラフェン(cyenopyrafen)等が挙げられ、
アセキノシル(acequinocyl)、アミトラズ(amitraz)、ベンゾキシメート(benzoximate)、ビフェナゼート(bifenaate)、フェニソブロモレート(bromopropylate)、キノメチオネート(chinomethionat)、クロルベンジレート(chlorobenzilate)、CPCBS(chlorfenson)、クロフェンテジン(clofentezine)、シフルメトフェン(cyflumetofen)、ケルセン(ジコホル:dicofol)、エトキサゾール(etoxazole)、酸化フェンブタスズ(fenbutatin oxide)、フェノチオカルブ(fenothiocarb)、フェンピロキシメート(fenpyroximate)、フルアクリピリム(fluacrypyrim)、フルプロキシフェン(fluproxyfen)、ヘキシチアゾクス(hexythiazox)、プロパルギット(propargite:BPPS)、ポリナクチン複合体(polynactins)、ピリダベン(pyridaben)、ピリミジフェン(Pyrimidifen)、テブフェンピラド(tebufenpyrad)、テトラジホン(tetradifon)、スピロディクロフェン(spirodiclofen)、スピロメシフェン(spiromesifen)、スピロテトラマット(spirotetramat)、アミドフルメット(amidoflumet)、シエノピラフェン(cyenopyrafen)等が挙げられ、
殺線虫剤の有効成分としては、例えば、
DCIP、フォスチアゼート(fosthiazate)、塩酸レバミゾール(levamisol)、メチルイソチオシアネート(methyisothiocyanate)、酒石酸モランテル(morantel tartarate)、イミシアホス(imicyafos)等が挙げられる。
DCIP、フォスチアゼート(fosthiazate)、塩酸レバミゾール(levamisol)、メチルイソチオシアネート(methyisothiocyanate)、酒石酸モランテル(morantel tartarate)、イミシアホス(imicyafos)等が挙げられる。
混用又は併用することのできる殺菌剤の有効成分としては、例えば、アゾキシストロビン等のストロビルリン化合物、トリクロホスメチル等の有機リン化合物、トリフルミゾール、ペフラゾエート、ジフェノコナゾール等のアゾール化合物、フサライド、フルトラニル、バリダマイシン、プロベナゾール、ジク-ロメジン、ペンシクロン、ダゾメット、カスガマイシン、IBP、ピロキロン、オキソリニック酸、トリシクラゾール、フェリムゾン、メプロニル、EDDP、イソプロチオラン、カルプロパミド、ジクロシメット、フラメトピル、フルジオキソニル、プロシミドン及びジエトフェンカルブが挙げられる。
以下、本発明を製造例、製剤例及び試験例等によりさらに詳しく説明するが、本発明はこれらの例に限定されるものではない。
まず、本発明化合物の製造例を示す。
製造例1
1,2−ジクロロ−1,1,2−トリフルオロ−4−ヨードブタン5.0g及び(3,3,3−トリフルオロプロピルスルホニル)酢酸メチル3.8gをジメチルスルホキシド100mlに溶解させた。ここへ室温で水素化ナトリウム(60%油性)0.7gを加え、同温で3日間撹拌した後、反応混合物に10%塩酸を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、5,6−ジクロロ−5,6,6−トリフルオロ−2−(3,3,3−トリフルオロプロピルスルホニル)ヘキサン酸メチル(以下、本発明化合物(1)と記す。)1.50gを得た。
本発明化合物(1)
1H−NMR(CDCl3,TMS):δ(ppm)3.90(s,3H)、3.88−3.98(m,1H)、3.38−3.54(m,2H)、2.23−2.78(m,6H)
1,2−ジクロロ−1,1,2−トリフルオロ−4−ヨードブタン5.0g及び(3,3,3−トリフルオロプロピルスルホニル)酢酸メチル3.8gをジメチルスルホキシド100mlに溶解させた。ここへ室温で水素化ナトリウム(60%油性)0.7gを加え、同温で3日間撹拌した後、反応混合物に10%塩酸を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、5,6−ジクロロ−5,6,6−トリフルオロ−2−(3,3,3−トリフルオロプロピルスルホニル)ヘキサン酸メチル(以下、本発明化合物(1)と記す。)1.50gを得た。
本発明化合物(1)
1H−NMR(CDCl3,TMS):δ(ppm)3.90(s,3H)、3.88−3.98(m,1H)、3.38−3.54(m,2H)、2.23−2.78(m,6H)
製造例2
本発明化合物(1)1.0gをテトラヒドロフラン30mlに溶解させた。ここへ室温で水素化ナトリウム(60%油性)0.1gを加え、同温で0.5時間撹拌した。該混合物中に室温でN−クロロコハク酸イミド0.3gを加え16時間撹拌した後、反応混合物に10%塩酸を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、2,5,6−トリクロロ−5,6,6−トリフルオロ−2−(3,3,3−トリフルオロプロピルスルホニル)ヘキサン酸メチル(以下、本発明化合物(2)と記す。) 0.85gを得た。
本発明化合物(2)
1H−NMR(CDCl3,TMS):δ(ppm)3.97(s,3H)、3.59−3.88(m,2H)、2.38−3.08(m,6H)
本発明化合物(1)1.0gをテトラヒドロフラン30mlに溶解させた。ここへ室温で水素化ナトリウム(60%油性)0.1gを加え、同温で0.5時間撹拌した。該混合物中に室温でN−クロロコハク酸イミド0.3gを加え16時間撹拌した後、反応混合物に10%塩酸を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、2,5,6−トリクロロ−5,6,6−トリフルオロ−2−(3,3,3−トリフルオロプロピルスルホニル)ヘキサン酸メチル(以下、本発明化合物(2)と記す。) 0.85gを得た。
本発明化合物(2)
1H−NMR(CDCl3,TMS):δ(ppm)3.97(s,3H)、3.59−3.88(m,2H)、2.38−3.08(m,6H)
製造例3
本発明化合物(2)0.6gをメタノール30mlに溶解させた。ここへ室温でアンモニア(7M−メタノール溶液)0.6mlを加え、同温で16時間撹拌した。反応混合物を減圧下濃縮し、得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、2,5,6−トリクロロ−5,6,6−トリフルオロ−2−(3,3,3−トリフルオロプロピルスルホニル)ヘキサンアミド(以下、本発明化合物(3)と記す。) 0.40gを得た。
本発明化合物(3)
1H−NMR(CDCl3,TMS):δ(ppm)6.86(bs,1H)、5.90(bs,1H)、3.34−3.78(m,2H)、2.40−3.09(m,6H)
本発明化合物(2)0.6gをメタノール30mlに溶解させた。ここへ室温でアンモニア(7M−メタノール溶液)0.6mlを加え、同温で16時間撹拌した。反応混合物を減圧下濃縮し、得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、2,5,6−トリクロロ−5,6,6−トリフルオロ−2−(3,3,3−トリフルオロプロピルスルホニル)ヘキサンアミド(以下、本発明化合物(3)と記す。) 0.40gを得た。
本発明化合物(3)
1H−NMR(CDCl3,TMS):δ(ppm)6.86(bs,1H)、5.90(bs,1H)、3.34−3.78(m,2H)、2.40−3.09(m,6H)
製造例4
1,4−ジブロモ−1,1,2,2−テトラフルオロブタン1.2g及び(3,3,3−トリフルオロプロピルスルホニル)酢酸メチル1.0gをジメチルスルホキシド30mlに溶解させた。ここへ室温で水素化ナトリウム(60%油性)0.2gを加えた。同温で3日間撹拌した後、反応混合物に10%塩酸を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、6−ブロモ−5,5,6,6−テトラフルオロ−2−(3,3,3−トリフルオロプロピルスルホニル)ヘキサン酸メチル(以下、本発明化合物(4)と記す。)0.50gを得た。
本発明化合物(4)
1H−NMR(CDCl3,TMS):δ(ppm)3.92(s,3H)、3.88−3.95(m,1H)、3.38−3.52(m,2H)、2.63−2.78(m,2H)、2.24−2.55(m,4H)
1,4−ジブロモ−1,1,2,2−テトラフルオロブタン1.2g及び(3,3,3−トリフルオロプロピルスルホニル)酢酸メチル1.0gをジメチルスルホキシド30mlに溶解させた。ここへ室温で水素化ナトリウム(60%油性)0.2gを加えた。同温で3日間撹拌した後、反応混合物に10%塩酸を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、6−ブロモ−5,5,6,6−テトラフルオロ−2−(3,3,3−トリフルオロプロピルスルホニル)ヘキサン酸メチル(以下、本発明化合物(4)と記す。)0.50gを得た。
本発明化合物(4)
1H−NMR(CDCl3,TMS):δ(ppm)3.92(s,3H)、3.88−3.95(m,1H)、3.38−3.52(m,2H)、2.63−2.78(m,2H)、2.24−2.55(m,4H)
製造例5
本発明化合物(4)0.4gをジメチルスルホキシド30mlに溶解させた。ここへ室温で水素化ナトリウム(60%油性)0.04gを加え、同温で0.5時間撹拌した。該混合物中に室温で無水塩化第二銅0.4gを加え4時間撹拌した後、反応混合物に10%塩酸を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、6−ブロモ−2−クロロ−5,5,6,6−テトラフルオロ−2−(3,3,3−トリフルオロプロピルスルホニル)ヘキサン酸メチル(以下、本発明化合物(5)と記す。) 0.40gを得た。
本発明化合物(5)
1H−NMR(CDCl3,TMS):δ(ppm)3.97(s,3H)、3.50−3.94(m,2H)、2.30−2.92(m,6H)
本発明化合物(4)0.4gをジメチルスルホキシド30mlに溶解させた。ここへ室温で水素化ナトリウム(60%油性)0.04gを加え、同温で0.5時間撹拌した。該混合物中に室温で無水塩化第二銅0.4gを加え4時間撹拌した後、反応混合物に10%塩酸を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、6−ブロモ−2−クロロ−5,5,6,6−テトラフルオロ−2−(3,3,3−トリフルオロプロピルスルホニル)ヘキサン酸メチル(以下、本発明化合物(5)と記す。) 0.40gを得た。
本発明化合物(5)
1H−NMR(CDCl3,TMS):δ(ppm)3.97(s,3H)、3.50−3.94(m,2H)、2.30−2.92(m,6H)
製造例6
本発明化合物(5)0.3gをメタノール20mlに溶解させた。ここへ室温でアンモニア(7M−メタノール溶液)0.2mlを加え、同温で14時間撹拌した。反応混合物を減圧下濃縮し、得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、6−ブロモ−2−クロロ−5,5,6,6−テトラフルオロ−2−(3,3,3−トリフルオロプロピルスルホニル)ヘキサンアミド(以下、本発明化合物(6)と記す。) 0.19gを得た。
本発明化合物(6)
1H−NMR(CDCl3,TMS):δ(ppm)6.87(bs,1H)、5.98(bs,1H)、3.38−3.75(m,2H)、2.18−2.95(m,6H)
本発明化合物(5)0.3gをメタノール20mlに溶解させた。ここへ室温でアンモニア(7M−メタノール溶液)0.2mlを加え、同温で14時間撹拌した。反応混合物を減圧下濃縮し、得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、6−ブロモ−2−クロロ−5,5,6,6−テトラフルオロ−2−(3,3,3−トリフルオロプロピルスルホニル)ヘキサンアミド(以下、本発明化合物(6)と記す。) 0.19gを得た。
本発明化合物(6)
1H−NMR(CDCl3,TMS):δ(ppm)6.87(bs,1H)、5.98(bs,1H)、3.38−3.75(m,2H)、2.18−2.95(m,6H)
次に本発明化合物の具体例を示す。
次に、本発明化合物の中間体の製造例を参考製造例として示す。
参考製造例1
チオグリコール酸メチル10g及び1−ヨード−3,3,3−トリフルオロプロパン21gをN,N−ジメチルホルムアミド200mlに溶解し、氷冷下で炭酸カリウム13gを加えた後、室温で20時間攪拌した。反応混合物に10%塩酸を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を10%塩酸及び飽和食塩水で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。残渣を氷酢酸100mlに溶解し、氷冷下で過酢酸(32%(w/w)酢酸溶液)50mlを加えた後、60℃で16時間撹拌した。反応混合物を室温まで放冷し、水中にあけ、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液及び飽和食塩水で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、下式で示される(3,3,3−トリフルオロプロピルスルホニル)酢酸メチル
14.1gを得た。
1H−NMR(CDCl3,TMS):δ(ppm)4.05(s,2H)、3.84(s,3H)、3.49−3.57(m,2H)、2.66−2.79(m,2H)
チオグリコール酸メチルに代えてチオグリコール酸エチルを用いて、同様の操作により(3,3,3−トリフルオロプロピルスルホニル)酢酸エチルを得ることができる。
チオグリコール酸メチル10g及び1−ヨード−3,3,3−トリフルオロプロパン21gをN,N−ジメチルホルムアミド200mlに溶解し、氷冷下で炭酸カリウム13gを加えた後、室温で20時間攪拌した。反応混合物に10%塩酸を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を10%塩酸及び飽和食塩水で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。残渣を氷酢酸100mlに溶解し、氷冷下で過酢酸(32%(w/w)酢酸溶液)50mlを加えた後、60℃で16時間撹拌した。反応混合物を室温まで放冷し、水中にあけ、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液及び飽和食塩水で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、下式で示される(3,3,3−トリフルオロプロピルスルホニル)酢酸メチル
14.1gを得た。
1H−NMR(CDCl3,TMS):δ(ppm)4.05(s,2H)、3.84(s,3H)、3.49−3.57(m,2H)、2.66−2.79(m,2H)
チオグリコール酸メチルに代えてチオグリコール酸エチルを用いて、同様の操作により(3,3,3−トリフルオロプロピルスルホニル)酢酸エチルを得ることができる。
次に製剤例を示す。なお、部は重量部を示す。
製剤例1
本発明化合物(1)〜(6)9部を、キシレン37.5部およびN,N−ジメチルホルムアミド37.5部に溶解し、これにポリオキシエチレンスチリルフェニルエーテル10部およびドデシルベンゼンスルホン酸カルシウム6部を加え、よく撹拌混合して乳剤を得る。
本発明化合物(1)〜(6)9部を、キシレン37.5部およびN,N−ジメチルホルムアミド37.5部に溶解し、これにポリオキシエチレンスチリルフェニルエーテル10部およびドデシルベンゼンスルホン酸カルシウム6部を加え、よく撹拌混合して乳剤を得る。
製剤例1
本発明化合物(1)5部および下記の[A群]より選ばれる1種の化合物4部を、キシレン37.5部およびN,N−ジメチルホルムアミド37.5部に溶解し、これにポリオキシエチレンスチリルフェニルエーテル10部およびドデシルベンゼンスルホン酸カルシウム6部を加え、よく撹拌混合して乳剤を得る。
本発明化合物(1)5部および下記の[A群]より選ばれる1種の化合物4部を、キシレン37.5部およびN,N−ジメチルホルムアミド37.5部に溶解し、これにポリオキシエチレンスチリルフェニルエーテル10部およびドデシルベンゼンスルホン酸カルシウム6部を加え、よく撹拌混合して乳剤を得る。
[A群]:
りん化アルミニウム(Aluminium phosphide)、ブタチオホス(butathiofos)、キャドサホス(cadusafos)、クロルエトキシホス(chlorethoxyfos)、クロルフェンビンホス(ch1orfenvinphos)、クロルピリホス(chlorpyrifos)、クロルピリホスメチル(chlorpyrifos−methyl)、シアノホス(cyanophos:CYAP)、ダイアジノン(diazinon)、DCIP(dichlorodiisopropyl ether)、ジクロフェンチオン(dichlofenthion:ECP)、ジクロルボス(dichlorvos:DDVP)、ジメトエート(dimethoate)、ジメチルビンホス(dimethylvinphos)、ジスルホトン(disulfoton)、EPN、エチオン(ethion)、エトプロホス(ethoprophos)、エトリムホス(etrimfos)、フェンチオン(fenthion:MPP)、フエニトロチオン(fenitrothion:MEP)、ホスチアゼート(fosthiazate)、ホルモチオン(formothion)、りん化水素(Hydrogen phosphide)、イソフェンホス(isofenphos)、イソキサチオン(isoxathion)、マラチオン(malathion)、メスルフェンホス(mesulfenfos)、メチダチオン(methidathion:DMTP)、モノクロトホス(monocrotophos)、ナレッド(naled:BRP)、オキシデプロホス(oxydeprofos:ESP)、パラチオン(parathion)、ホサロン(phosalone)、ホスメット(phosmet:PMP)、ピリミホスメチル(pirimiphos−methy1)、ピリダフェンチオン(pyridafenthion)、キナルホス(quinalphos)、フェントエート(phenthoate:PAP)、プロフェノホス(profenofos)、プロパホス(propaphos)、プロチオホス(prothiofos)、ピラクロホス(pyraclorfos)、サリチオン(salithion)、スルプロホス(sulprofos)、テブピリムホス(tebupirimfos)、テメホス(temephos)、テトラクロルビンホス(tetrach1orvinphos)、テルブホス(terbufos)、チオメトン(thiometon)、トリクロルホン(trichlorphon:DEP)、バミドチオン(vamidothion)、フォレート(phorate)、カズサホス(cadusafos)、
アラニカルブ(alanycarb)、ベンダイオカルブ(bendiocarb)、ベンフラカルブ(benfuracarb)、BPMC、カルバリル(carbary1)、カルボフラン(carbofuran)、カルボスルファン(carbosulfan)、クロエトカルブ(cloethocarb)、エチオフェンカルブ(ethiofencarb)、フェノブカルブ(fenobucarb)、フェノチオカルブ(fenothiocarb)、フェノキシカルブ(fenoxycarb)、フラチオカルブ(furathiocarb)、イソプロカルブ(isoprocarb:MIPC)、メトルカルブ(metolcarb)、 メソミル(methomyl)、メチオカルブ(methiocarb)、NAC、オキサミル(oxamyl)、ピリミカーブ(pirimicarb)、プロポキスル(propoxur:PHC)、XMC、チオジカルブ(thiodicarb)、 キシリルカルブ(xylylcarb)、アルジカルブ(aldicarb)、
アクリナトリン(acrinathrin)、アレスリン(allethrin)、ベータ−シフルトリン(beta−cyfluthrin)、ビフェントリン(bifenthrin)、シクロプロトリン(cycloprothrin)、シフルトリン(cyfluthrin)、シハロトリン(cyhalothrin)、エンペントリン(empenthrin)、デルタメトリン(deltamethrin)、エスフェンバレレート(esfenvalerate)、エトフェンプロックス(ethofenprox)、フェンバレレート(fenvalerate)、フルシトリネート(flucythrinate)、フルフェンプロックス(flufenoprox)、フルメトリン(flumethrin)、フルバリネート(fluvalinate)、ハルフェンプロックス(halfenprox)、イミプロトリン(imiprothrin)、プラレトリン(prallethrin)、ピレトリン(pyrethrins)、レスメトリン(resmethrin)、シグマ−サイパーメトリン(sigma−cypermethrin)、シラフルオフェン(silafluofen)、テフルトリン(tefluthrin)、トラロメトリン(tralomethrin)、トランスフルトリン(transfluthrin)、テトラメトリン(tetramethrin)、ラムダシハロトリン(lambda−cyhalothrin)、ガンマシハロトリン(gamma−cyhalothrin)、フラメトリン(furamethrin)、タウフルバリネート(tau−fluvalinate)、2,3,5,6−テトラフルオロ−4−メチルベンジル 2,2−ジメチル−3−(1−プロペニル)シクロプロパンカルボキシレート、2,3,5,6−テトラフルオロ−4−(メトキシメチル)ベンジル 2,2−ジメチル−3−(2−メチル−1−プロペニル)シクロプロパンカルボキシレート、2,3,5,6−テトラフルオロ−4−(メトキシメチル)ベンジル 2,2−ジメチル−3−(2−シアノ−1−プロペニル)シクロプロパンカルボキシレート、2,3,5,6−テトラフルオロ−4−(メトキシメチル)ベンジル 2,2,3,3−テトラメチルシクロプロパンカルボキシレート、
カルタップ(cartap)、ベンスルタップ(bensu1tap)、チオシクラム(thiocyclam)、モノスルタップ(monosultap)、ビスルタップ(bisultap)、
イミダクロプリド(imidac1oprid)、ニテンピラム(nitenpyram)、アセタミプリド(acetamiprid)、チアメトキサム(thiamethoxam)、チアクロプリド(thiacloprid)、
クロルフルアズロン(chlorfluazuron)、ビストリフルロン(bistrifluron)、ジアフェンチウロン(diafenthiuron)、ジフルベンズロン(diflubenzuron)、フルアズロン(fluazuron)、フルシクロクスロン(flucycloxuron)、フルフェノクスロン(flufenoxuron)、ヘキサフルムロン(hexaflumuron)、ルフェヌロン(lufenuron)、ノバルロン(novaluron)、ノビフルムロン(noviflumuron)、テフルベンズロン(teflubenzuron)、トリフルムロン(triflumuron)、トリアズロン(triazuron)、
アセトプロール(acetoprole)、フィプロニル(fiproni1)、バニリプロール(vaniliprole)、ピリプロール(pyriprole)、ピラフルプロール(pyrafluprole)、
クロマフェノジド(chromafenozide)、ハロフェノジド(halofenozide)、メトキシフェノジド(methoxyfenozide)、テブフェノジド(tebufenozide)、
アルドリン(aldrin)、ディルドリン(dieldrin)、ジエノクロル(dienochlor)、エンドスルファン(endosulfan)、メトキシクロル(methoxychlor)、
硫酸ニコチン(nicotine−sulfate)、
アベルメクチン(avermectin−B)、ブロモプロピレート(bromopropylate)、ブプロフェジン(buprofezin)、クロルフェナピル(chlorphenapyr)、シロマジン(cyromazine)、D−D(1,3−Dichloropropene)、エマメクチンベンゾエート(emamectin−benzoate)、フェナザキン(fenazaquin)、フルピラゾホス(flupyrazofos)、ハイドロプレン(hydroprene)、メトプレン(methoprene)、インドキサカルブ(indoxacarb)、メトキサジアゾン(metoxadiazone)、ミルベマイシンA(milbemycin−A)、ピメトロジン(pymetrozine)、ピリダリル(pyridalyl)、スピノサッド(spinosad)、スルフラミド(sulfluramid)、トルフェンピラド(tolfenpyrad)、トリアゼメイト(triazamate)、フルベンジアミド(flubendiamide)、レピメクチン(lepimectin)、亜ひ酸(Arsenic acid)、ベンクロチアズ(benclothiaz)、石灰窒素(Calcium cyanamide)、石灰硫黄合剤(Calcium polysulfide)、クロルデン(chlordane)、DDT、DSP、フルフェネリウム(flufenerim)、フロニカミド(flonicamid)、フルリムフェン(flurimfen)、ホルメタネート(formetanate)、メタム・アンモニウム(metam−ammonium)、メタム・ナトリウム(metam−sodium)、臭化メチル(Methyl bromide)、オレイン酸カリウム(Potassium oleate)、プロトリフェンビュート(protrifenbute)、スピロメシフェン(spiromesifen)、硫黄(Sulfur)、メタフルミゾン(metaflumizone)、スピロテトラマット(spirotetramat)、ピリフルキナゾン(pyrifluquinazone)、クロラントラニリプロール(chlorantraniliprole)、トラロピリル(tralopyril)、下記式(A)
「式中、Xa1はメチル基、塩素原子、臭素原子またはフッ素原子を表し、Xa2はフッ素原子、塩素原子、臭素原子、C1−C4ハロアルキル基またはC1−C4ハロアルコキシ基を表し、Xa3はフッ素原子、塩素原子または臭素原子を表し、Xa4は置換されていてもよいC1−C4アルキル、置換されていてもよいC3−C4アルケニル、置換されていてもよいC3−C4アルキニル、置換されていてもよいC3−C5シクロアルキルアルキルまたは水素原子を表し、Xa5は水素原子またはメチル基を表し、Xa6は水素原子、フッ素原子または塩素原子を表し、Xa7は水素原子、フッ素原子または塩素原子を表す。」
で示されるいずれかの化合物、下記式(B)
「式中、Xb1はXb2−NH−C(=O)基、Xb2−C(=O)−NH−CH2基、Xb3−S(O)基、置換されていてもよいピロール−1−イル基、置換されていてもよいイミダゾール−1−イル基、置換されていてもよいピラゾール−1−イル基または置換されていてもよい1,2,4−トリアゾール−1−イル基を表し、Xb2は2,2,2−トリフルオロエチル基等の置換されていてもよいC1−C4ハロアルキル基またはシクロプロピル基等の置換されていてもよいC3−C6シクロアルキル基を表し、Xb3はメチル等の置換されていてもよいC1−C4アルキル基を表し、Xb4は水素原子、塩素原子、シアノ基またはメチル基を表す。」
で示されるいずれかの化合物、下記式(C)
「式中、Xc1は3,3,3−トリフルオロプロピル基等の置換されていてもよいC1−C4アルキル基、2,2,2−トリクロロエトキシ基等の置換されていてもよいC1−C4アルコキシ基、4−シアノフェニル基等の置換されていてもよいフェニル基または2−クロロ−3−ピリジル基等の置換されていてもよいピリジル基を表し、Xc2はメチル基またはトリフルオロメチルチオ基を表し、Xc3はメチル基またはハロゲン原子を表す。」
で示されるいずれかの化合物、
アセキノシル(acequinocyl)、アミトラズ(amitraz)、ベンゾキシメート(benzoximate)、ビフェナゼート(bifenaate)、フェニソブロモレート(bromopropylate)、キノメチオネート(chinomethionat)、クロルベンジレート(chlorobenzilate)、CPCBS(chlorfenson)、クロフェンテジン(clofentezine)、シフルメトフェン(cyflumetofen)、ケルセン(ジコホル:dicofol)、酸化フェンブタスズ(fenbutatin oxide)、フェノチオカルブ(fenothiocarb)、フェンピロキシメート(fenpyroximate)、フルアクリピリム(fluacrypyrim)、フルプロキシフェン(fluproxyfen)、ヘキシチアゾクス(hexythiazox)、プロパルギット(propargite:BPPS)、ピリダベン(pyridaben)、ピリミジフェン(Pyrimidifen)、テブフェンピラド(tebufenpyrad)、テトラジホン(tetradifon)、スピロディクロフェン(spirodiclofen)、スピロメシフェン(spiromesifen)、スピロテトラマット(spirotetramat)、アミドフルメット(amidoflumet)、シエノピラフェン(cyenopyrafen)。
りん化アルミニウム(Aluminium phosphide)、ブタチオホス(butathiofos)、キャドサホス(cadusafos)、クロルエトキシホス(chlorethoxyfos)、クロルフェンビンホス(ch1orfenvinphos)、クロルピリホス(chlorpyrifos)、クロルピリホスメチル(chlorpyrifos−methyl)、シアノホス(cyanophos:CYAP)、ダイアジノン(diazinon)、DCIP(dichlorodiisopropyl ether)、ジクロフェンチオン(dichlofenthion:ECP)、ジクロルボス(dichlorvos:DDVP)、ジメトエート(dimethoate)、ジメチルビンホス(dimethylvinphos)、ジスルホトン(disulfoton)、EPN、エチオン(ethion)、エトプロホス(ethoprophos)、エトリムホス(etrimfos)、フェンチオン(fenthion:MPP)、フエニトロチオン(fenitrothion:MEP)、ホスチアゼート(fosthiazate)、ホルモチオン(formothion)、りん化水素(Hydrogen phosphide)、イソフェンホス(isofenphos)、イソキサチオン(isoxathion)、マラチオン(malathion)、メスルフェンホス(mesulfenfos)、メチダチオン(methidathion:DMTP)、モノクロトホス(monocrotophos)、ナレッド(naled:BRP)、オキシデプロホス(oxydeprofos:ESP)、パラチオン(parathion)、ホサロン(phosalone)、ホスメット(phosmet:PMP)、ピリミホスメチル(pirimiphos−methy1)、ピリダフェンチオン(pyridafenthion)、キナルホス(quinalphos)、フェントエート(phenthoate:PAP)、プロフェノホス(profenofos)、プロパホス(propaphos)、プロチオホス(prothiofos)、ピラクロホス(pyraclorfos)、サリチオン(salithion)、スルプロホス(sulprofos)、テブピリムホス(tebupirimfos)、テメホス(temephos)、テトラクロルビンホス(tetrach1orvinphos)、テルブホス(terbufos)、チオメトン(thiometon)、トリクロルホン(trichlorphon:DEP)、バミドチオン(vamidothion)、フォレート(phorate)、カズサホス(cadusafos)、
アラニカルブ(alanycarb)、ベンダイオカルブ(bendiocarb)、ベンフラカルブ(benfuracarb)、BPMC、カルバリル(carbary1)、カルボフラン(carbofuran)、カルボスルファン(carbosulfan)、クロエトカルブ(cloethocarb)、エチオフェンカルブ(ethiofencarb)、フェノブカルブ(fenobucarb)、フェノチオカルブ(fenothiocarb)、フェノキシカルブ(fenoxycarb)、フラチオカルブ(furathiocarb)、イソプロカルブ(isoprocarb:MIPC)、メトルカルブ(metolcarb)、 メソミル(methomyl)、メチオカルブ(methiocarb)、NAC、オキサミル(oxamyl)、ピリミカーブ(pirimicarb)、プロポキスル(propoxur:PHC)、XMC、チオジカルブ(thiodicarb)、 キシリルカルブ(xylylcarb)、アルジカルブ(aldicarb)、
アクリナトリン(acrinathrin)、アレスリン(allethrin)、ベータ−シフルトリン(beta−cyfluthrin)、ビフェントリン(bifenthrin)、シクロプロトリン(cycloprothrin)、シフルトリン(cyfluthrin)、シハロトリン(cyhalothrin)、エンペントリン(empenthrin)、デルタメトリン(deltamethrin)、エスフェンバレレート(esfenvalerate)、エトフェンプロックス(ethofenprox)、フェンバレレート(fenvalerate)、フルシトリネート(flucythrinate)、フルフェンプロックス(flufenoprox)、フルメトリン(flumethrin)、フルバリネート(fluvalinate)、ハルフェンプロックス(halfenprox)、イミプロトリン(imiprothrin)、プラレトリン(prallethrin)、ピレトリン(pyrethrins)、レスメトリン(resmethrin)、シグマ−サイパーメトリン(sigma−cypermethrin)、シラフルオフェン(silafluofen)、テフルトリン(tefluthrin)、トラロメトリン(tralomethrin)、トランスフルトリン(transfluthrin)、テトラメトリン(tetramethrin)、ラムダシハロトリン(lambda−cyhalothrin)、ガンマシハロトリン(gamma−cyhalothrin)、フラメトリン(furamethrin)、タウフルバリネート(tau−fluvalinate)、2,3,5,6−テトラフルオロ−4−メチルベンジル 2,2−ジメチル−3−(1−プロペニル)シクロプロパンカルボキシレート、2,3,5,6−テトラフルオロ−4−(メトキシメチル)ベンジル 2,2−ジメチル−3−(2−メチル−1−プロペニル)シクロプロパンカルボキシレート、2,3,5,6−テトラフルオロ−4−(メトキシメチル)ベンジル 2,2−ジメチル−3−(2−シアノ−1−プロペニル)シクロプロパンカルボキシレート、2,3,5,6−テトラフルオロ−4−(メトキシメチル)ベンジル 2,2,3,3−テトラメチルシクロプロパンカルボキシレート、
カルタップ(cartap)、ベンスルタップ(bensu1tap)、チオシクラム(thiocyclam)、モノスルタップ(monosultap)、ビスルタップ(bisultap)、
イミダクロプリド(imidac1oprid)、ニテンピラム(nitenpyram)、アセタミプリド(acetamiprid)、チアメトキサム(thiamethoxam)、チアクロプリド(thiacloprid)、
クロルフルアズロン(chlorfluazuron)、ビストリフルロン(bistrifluron)、ジアフェンチウロン(diafenthiuron)、ジフルベンズロン(diflubenzuron)、フルアズロン(fluazuron)、フルシクロクスロン(flucycloxuron)、フルフェノクスロン(flufenoxuron)、ヘキサフルムロン(hexaflumuron)、ルフェヌロン(lufenuron)、ノバルロン(novaluron)、ノビフルムロン(noviflumuron)、テフルベンズロン(teflubenzuron)、トリフルムロン(triflumuron)、トリアズロン(triazuron)、
アセトプロール(acetoprole)、フィプロニル(fiproni1)、バニリプロール(vaniliprole)、ピリプロール(pyriprole)、ピラフルプロール(pyrafluprole)、
クロマフェノジド(chromafenozide)、ハロフェノジド(halofenozide)、メトキシフェノジド(methoxyfenozide)、テブフェノジド(tebufenozide)、
アルドリン(aldrin)、ディルドリン(dieldrin)、ジエノクロル(dienochlor)、エンドスルファン(endosulfan)、メトキシクロル(methoxychlor)、
硫酸ニコチン(nicotine−sulfate)、
アベルメクチン(avermectin−B)、ブロモプロピレート(bromopropylate)、ブプロフェジン(buprofezin)、クロルフェナピル(chlorphenapyr)、シロマジン(cyromazine)、D−D(1,3−Dichloropropene)、エマメクチンベンゾエート(emamectin−benzoate)、フェナザキン(fenazaquin)、フルピラゾホス(flupyrazofos)、ハイドロプレン(hydroprene)、メトプレン(methoprene)、インドキサカルブ(indoxacarb)、メトキサジアゾン(metoxadiazone)、ミルベマイシンA(milbemycin−A)、ピメトロジン(pymetrozine)、ピリダリル(pyridalyl)、スピノサッド(spinosad)、スルフラミド(sulfluramid)、トルフェンピラド(tolfenpyrad)、トリアゼメイト(triazamate)、フルベンジアミド(flubendiamide)、レピメクチン(lepimectin)、亜ひ酸(Arsenic acid)、ベンクロチアズ(benclothiaz)、石灰窒素(Calcium cyanamide)、石灰硫黄合剤(Calcium polysulfide)、クロルデン(chlordane)、DDT、DSP、フルフェネリウム(flufenerim)、フロニカミド(flonicamid)、フルリムフェン(flurimfen)、ホルメタネート(formetanate)、メタム・アンモニウム(metam−ammonium)、メタム・ナトリウム(metam−sodium)、臭化メチル(Methyl bromide)、オレイン酸カリウム(Potassium oleate)、プロトリフェンビュート(protrifenbute)、スピロメシフェン(spiromesifen)、硫黄(Sulfur)、メタフルミゾン(metaflumizone)、スピロテトラマット(spirotetramat)、ピリフルキナゾン(pyrifluquinazone)、クロラントラニリプロール(chlorantraniliprole)、トラロピリル(tralopyril)、下記式(A)
「式中、Xa1はメチル基、塩素原子、臭素原子またはフッ素原子を表し、Xa2はフッ素原子、塩素原子、臭素原子、C1−C4ハロアルキル基またはC1−C4ハロアルコキシ基を表し、Xa3はフッ素原子、塩素原子または臭素原子を表し、Xa4は置換されていてもよいC1−C4アルキル、置換されていてもよいC3−C4アルケニル、置換されていてもよいC3−C4アルキニル、置換されていてもよいC3−C5シクロアルキルアルキルまたは水素原子を表し、Xa5は水素原子またはメチル基を表し、Xa6は水素原子、フッ素原子または塩素原子を表し、Xa7は水素原子、フッ素原子または塩素原子を表す。」
で示されるいずれかの化合物、下記式(B)
「式中、Xb1はXb2−NH−C(=O)基、Xb2−C(=O)−NH−CH2基、Xb3−S(O)基、置換されていてもよいピロール−1−イル基、置換されていてもよいイミダゾール−1−イル基、置換されていてもよいピラゾール−1−イル基または置換されていてもよい1,2,4−トリアゾール−1−イル基を表し、Xb2は2,2,2−トリフルオロエチル基等の置換されていてもよいC1−C4ハロアルキル基またはシクロプロピル基等の置換されていてもよいC3−C6シクロアルキル基を表し、Xb3はメチル等の置換されていてもよいC1−C4アルキル基を表し、Xb4は水素原子、塩素原子、シアノ基またはメチル基を表す。」
で示されるいずれかの化合物、下記式(C)
「式中、Xc1は3,3,3−トリフルオロプロピル基等の置換されていてもよいC1−C4アルキル基、2,2,2−トリクロロエトキシ基等の置換されていてもよいC1−C4アルコキシ基、4−シアノフェニル基等の置換されていてもよいフェニル基または2−クロロ−3−ピリジル基等の置換されていてもよいピリジル基を表し、Xc2はメチル基またはトリフルオロメチルチオ基を表し、Xc3はメチル基またはハロゲン原子を表す。」
で示されるいずれかの化合物、
アセキノシル(acequinocyl)、アミトラズ(amitraz)、ベンゾキシメート(benzoximate)、ビフェナゼート(bifenaate)、フェニソブロモレート(bromopropylate)、キノメチオネート(chinomethionat)、クロルベンジレート(chlorobenzilate)、CPCBS(chlorfenson)、クロフェンテジン(clofentezine)、シフルメトフェン(cyflumetofen)、ケルセン(ジコホル:dicofol)、酸化フェンブタスズ(fenbutatin oxide)、フェノチオカルブ(fenothiocarb)、フェンピロキシメート(fenpyroximate)、フルアクリピリム(fluacrypyrim)、フルプロキシフェン(fluproxyfen)、ヘキシチアゾクス(hexythiazox)、プロパルギット(propargite:BPPS)、ピリダベン(pyridaben)、ピリミジフェン(Pyrimidifen)、テブフェンピラド(tebufenpyrad)、テトラジホン(tetradifon)、スピロディクロフェン(spirodiclofen)、スピロメシフェン(spiromesifen)、スピロテトラマット(spirotetramat)、アミドフルメット(amidoflumet)、シエノピラフェン(cyenopyrafen)。
製剤例2
本発明化合物(2)5部および上記の[A群]より選ばれる1種の化合物4部を、キシレン37.5部およびN,N−ジメチルホルムアミド37.5部に溶解し、これにポリオキシエチレンスチリルフェニルエーテル10部およびドデシルベンゼンスルホン酸カルシウム6部を加え、よく撹拌混合して乳剤を得る。
本発明化合物(2)5部および上記の[A群]より選ばれる1種の化合物4部を、キシレン37.5部およびN,N−ジメチルホルムアミド37.5部に溶解し、これにポリオキシエチレンスチリルフェニルエーテル10部およびドデシルベンゼンスルホン酸カルシウム6部を加え、よく撹拌混合して乳剤を得る。
製剤例3
本発明化合物(3)5部および上記の[A群]より選ばれる1種の化合物4部を、キシレン37.5部およびN,N−ジメチルホルムアミド37.5部に溶解し、これにポリオキシエチレンスチリルフェニルエーテル10部およびドデシルベンゼンスルホン酸カルシウム6部を加え、よく撹拌混合して乳剤を得る。
本発明化合物(3)5部および上記の[A群]より選ばれる1種の化合物4部を、キシレン37.5部およびN,N−ジメチルホルムアミド37.5部に溶解し、これにポリオキシエチレンスチリルフェニルエーテル10部およびドデシルベンゼンスルホン酸カルシウム6部を加え、よく撹拌混合して乳剤を得る。
製剤例4
本発明化合物(4)5部および上記の[A群]より選ばれる1種の化合物4部を、キシレン37.5部およびN,N−ジメチルホルムアミド37.5部に溶解し、これにポリオキシエチレンスチリルフェニルエーテル10部およびドデシルベンゼンスルホン酸カルシウム6部を加え、よく撹拌混合して乳剤を得る。
本発明化合物(4)5部および上記の[A群]より選ばれる1種の化合物4部を、キシレン37.5部およびN,N−ジメチルホルムアミド37.5部に溶解し、これにポリオキシエチレンスチリルフェニルエーテル10部およびドデシルベンゼンスルホン酸カルシウム6部を加え、よく撹拌混合して乳剤を得る。
製剤例5
本発明化合物(5)5部および上記の[A群]より選ばれる1種の化合物4部を、キシレン37.5部およびN,N−ジメチルホルムアミド37.5部に溶解し、これにポリオキシエチレンスチリルフェニルエーテル10部およびドデシルベンゼンスルホン酸カルシウム6部を加え、よく撹拌混合して乳剤を得る。
本発明化合物(5)5部および上記の[A群]より選ばれる1種の化合物4部を、キシレン37.5部およびN,N−ジメチルホルムアミド37.5部に溶解し、これにポリオキシエチレンスチリルフェニルエーテル10部およびドデシルベンゼンスルホン酸カルシウム6部を加え、よく撹拌混合して乳剤を得る。
製剤例6
本発明化合物(6)5部および上記の[A群]より選ばれる1種の化合物4部を、キシレン37.5部およびN,N−ジメチルホルムアミド37.5部に溶解し、これにポリオキシエチレンスチリルフェニルエーテル10部およびドデシルベンゼンスルホン酸カルシウム6部を加え、よく撹拌混合して乳剤を得る。
本発明化合物(6)5部および上記の[A群]より選ばれる1種の化合物4部を、キシレン37.5部およびN,N−ジメチルホルムアミド37.5部に溶解し、これにポリオキシエチレンスチリルフェニルエーテル10部およびドデシルベンゼンスルホン酸カルシウム6部を加え、よく撹拌混合して乳剤を得る。
製剤例7
本発明化合物(1)〜(6)40部にソルポール5060(東邦化学登録商標名)5部を加え、よく混合して、カープレックス#80(塩野義製薬登録商標名、合成含水酸化ケイ素微粉末)32部、300メッシュ珪藻土23部を加え、ジュースミキサーで混合して、水和剤を得る。
本発明化合物(1)〜(6)40部にソルポール5060(東邦化学登録商標名)5部を加え、よく混合して、カープレックス#80(塩野義製薬登録商標名、合成含水酸化ケイ素微粉末)32部、300メッシュ珪藻土23部を加え、ジュースミキサーで混合して、水和剤を得る。
製剤例8
本発明化合物(1)〜(6)3部、合成含水酸化珪素微粉末5部、ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム5部、ベントナイト30部およびクレー57部を加え、よく撹拌混合し、ついでこれらの混合物に適当量の水を加え、さらに撹拌し、増粒機で製粒し、通風乾燥して粒剤を得る。
本発明化合物(1)〜(6)3部、合成含水酸化珪素微粉末5部、ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム5部、ベントナイト30部およびクレー57部を加え、よく撹拌混合し、ついでこれらの混合物に適当量の水を加え、さらに撹拌し、増粒機で製粒し、通風乾燥して粒剤を得る。
製剤例9
本発明化合物(1)〜(6)4.5部、合成含水酸化珪素微粉末1部、凝集剤としてドリレスB(三共社製)1部、クレー7部を乳鉢でよく混合した後にジュースミキサーで撹拌混合する。得られた混合物にカットクレー86.5部を加えて、充分撹拌混合し、粉剤を得る。
本発明化合物(1)〜(6)4.5部、合成含水酸化珪素微粉末1部、凝集剤としてドリレスB(三共社製)1部、クレー7部を乳鉢でよく混合した後にジュースミキサーで撹拌混合する。得られた混合物にカットクレー86.5部を加えて、充分撹拌混合し、粉剤を得る。
製剤例10
本発明化合物(1)〜(6)10部;ポリオキシエチレンアルキルエーテルサルフェートアンモニウム塩50部を含むホワイトカーボン35部;及び水55部を混合し、湿式粉砕法で微粉砕することにより、製剤を得る。
本発明化合物(1)〜(6)10部;ポリオキシエチレンアルキルエーテルサルフェートアンモニウム塩50部を含むホワイトカーボン35部;及び水55部を混合し、湿式粉砕法で微粉砕することにより、製剤を得る。
製剤例11
本発明化合物(1)〜(6)0.5部をジクロロメタン10部に溶解し、これをアイソパーM(イソパラフィン:エクソン化学登録商標名)89.5部に混合して油剤を得る。
本発明化合物(1)〜(6)0.5部をジクロロメタン10部に溶解し、これをアイソパーM(イソパラフィン:エクソン化学登録商標名)89.5部に混合して油剤を得る。
製剤例12
本発明化合物(1)〜(6)0.1部、ネオチオゾール(中央化成株式会社)49.9部をエアゾール缶に入れ、エアゾールバルブを装着した後、25部のジメチルエーテル及び25部のLPGを充填し、アクチュエータを装着することにより油性エアゾールを得る。
本発明化合物(1)〜(6)0.1部、ネオチオゾール(中央化成株式会社)49.9部をエアゾール缶に入れ、エアゾールバルブを装着した後、25部のジメチルエーテル及び25部のLPGを充填し、アクチュエータを装着することにより油性エアゾールを得る。
製剤例13
本発明化合物(1)〜(6)0.6部、BHT0.01部、キシレン5部、脱臭灯油3.39部および乳化剤{アトモス300(アトモスケミカル社登録商標名)}1部を混合溶解したものと、蒸留水50部とをエアゾール容器に充填し、バルブ部分を取り付け、該バルブを通じて噴射剤(LPG)40部を加圧充填して、水性エアゾールを得る。
本発明化合物(1)〜(6)0.6部、BHT0.01部、キシレン5部、脱臭灯油3.39部および乳化剤{アトモス300(アトモスケミカル社登録商標名)}1部を混合溶解したものと、蒸留水50部とをエアゾール容器に充填し、バルブ部分を取り付け、該バルブを通じて噴射剤(LPG)40部を加圧充填して、水性エアゾールを得る。
製剤例14
本発明化合物(1)〜(6)5部をジエチレングリコールモノエチルエーテル80部に溶解し、これに炭酸プロピレン15部を混合して、スポットオン液剤を得る。
本発明化合物(1)〜(6)5部をジエチレングリコールモノエチルエーテル80部に溶解し、これに炭酸プロピレン15部を混合して、スポットオン液剤を得る。
製剤例15
本発明化合物(1)〜(6)10部をジエチレングリコールモノエチルエーテル70部に溶解し、これに2−オクチルドデカノール20部を混合して、ポアオン液剤を得る。
本発明化合物(1)〜(6)10部をジエチレングリコールモノエチルエーテル70部に溶解し、これに2−オクチルドデカノール20部を混合して、ポアオン液剤を得る。
製剤例16
本発明化合物(1)〜(6)0.5部に、ニッコールTEALS-42(日光ケミカルズ・ラウリル硫酸トリエタノールアミンの42%水溶液)60部、プロピレングリコール20部を添加し、均一溶液になるまで充分撹拌混合した後、水19.5部を加えてさらに充分撹拌混合し、均一溶液のシャンプー剤を得る。
本発明化合物(1)〜(6)0.5部に、ニッコールTEALS-42(日光ケミカルズ・ラウリル硫酸トリエタノールアミンの42%水溶液)60部、プロピレングリコール20部を添加し、均一溶液になるまで充分撹拌混合した後、水19.5部を加えてさらに充分撹拌混合し、均一溶液のシャンプー剤を得る。
製剤例17
本発明化合物(1)〜(6)0.1gを、プロピレングリコール2mlに溶解させ、4.0×4.0cm、厚さ1.2cmの多孔セラミック板に含浸させて、加熱式くん煙剤を得る。
本発明化合物(1)〜(6)0.1gを、プロピレングリコール2mlに溶解させ、4.0×4.0cm、厚さ1.2cmの多孔セラミック板に含浸させて、加熱式くん煙剤を得る。
製剤例18
本発明化合物(1)〜(6)5部とエチレンーメタクリル酸メチル共重合体(共重合体中のメタクリル酸メチルの割合:10重量%、アクリフトWD301、住友化学製)95部を密閉式加圧ニーダー(森山製作所製)で溶融混練し、得られた混練物を押出し成型機から成型ダイスを介して押出し、長さ15cm、直径3mmの棒状成型体を得る。
本発明化合物(1)〜(6)5部とエチレンーメタクリル酸メチル共重合体(共重合体中のメタクリル酸メチルの割合:10重量%、アクリフトWD301、住友化学製)95部を密閉式加圧ニーダー(森山製作所製)で溶融混練し、得られた混練物を押出し成型機から成型ダイスを介して押出し、長さ15cm、直径3mmの棒状成型体を得る。
製剤例19
本発明化合物(1)〜(6)5部と軟質塩化ビニル樹脂95部を密閉式加圧ニーダー(森山製作所製)で溶融混練し、得られた混練物を押出し成型機から成型ダイスを介して押出し、長さ15cm、直径3mmの棒状成型体を得る。
本発明化合物(1)〜(6)5部と軟質塩化ビニル樹脂95部を密閉式加圧ニーダー(森山製作所製)で溶融混練し、得られた混練物を押出し成型機から成型ダイスを介して押出し、長さ15cm、直径3mmの棒状成型体を得る。
次に、本発明化合物が有害節足動物防除剤の有効成分として有効であることを試験例により示す。
試験例1
製剤例5に従い、本発明化合物(1)、(2)、(3)、(5)及び(6)の各々の製剤を調製し、有効成分濃度が55.6ppmとなるように当該製剤を希釈し、各々の試験用薬液を調製した。
一方、底に直径5mmの穴を5箇所あけたポリエチレンカップに培土ボンソル2号(住友化学株式会社製)50gを入れて種子を10〜15粒播種し、第2本葉が展開するまで生育させたイネに、上記の試験用薬液45mlをカップの底から吸収させることによって処理した。その後、温室内〈25℃〉に6日間静置した後、イネの高さを5cmに切り揃え、トビイロウンカの初齢幼虫を30頭放し、温室内〈25℃〉に静置した。トビイロウンカの幼虫を放してから6日後に当該イネに寄生するトビイロウンカの数を調査した。
その結果、本発明化合物(1)、(2)、(3)、(5)及び(6)の処理においては各々処理6日後に寄生する虫数は3頭以下であった。
製剤例5に従い、本発明化合物(1)、(2)、(3)、(5)及び(6)の各々の製剤を調製し、有効成分濃度が55.6ppmとなるように当該製剤を希釈し、各々の試験用薬液を調製した。
一方、底に直径5mmの穴を5箇所あけたポリエチレンカップに培土ボンソル2号(住友化学株式会社製)50gを入れて種子を10〜15粒播種し、第2本葉が展開するまで生育させたイネに、上記の試験用薬液45mlをカップの底から吸収させることによって処理した。その後、温室内〈25℃〉に6日間静置した後、イネの高さを5cmに切り揃え、トビイロウンカの初齢幼虫を30頭放し、温室内〈25℃〉に静置した。トビイロウンカの幼虫を放してから6日後に当該イネに寄生するトビイロウンカの数を調査した。
その結果、本発明化合物(1)、(2)、(3)、(5)及び(6)の処理においては各々処理6日後に寄生する虫数は3頭以下であった。
試験例2
製剤例5に従い、本発明化合物(2)、(3)、(5)及び(6)の各々の製剤を調製し、有効成分濃度が500ppmとなるように当該製剤を希釈し、各々の試験用薬液を調製した。
一方、直径5.5cmのポリエチレンカップの底に同大の濾紙を敷き、上記の試験用薬液0.7mlを濾紙上に滴下し、餌としてショ糖30mgを均一に入れた。該ポリエチレンカップ内にイエバエ(Musca domestica)雌成虫10頭を放ち、蓋をした。24時間後にイエバエの生死を調査し死虫率を求めた。
その結果、より得られた本発明化合物(2)、(3)、(5)及び(6)の処理においては死虫率70%以上を示した。
製剤例5に従い、本発明化合物(2)、(3)、(5)及び(6)の各々の製剤を調製し、有効成分濃度が500ppmとなるように当該製剤を希釈し、各々の試験用薬液を調製した。
一方、直径5.5cmのポリエチレンカップの底に同大の濾紙を敷き、上記の試験用薬液0.7mlを濾紙上に滴下し、餌としてショ糖30mgを均一に入れた。該ポリエチレンカップ内にイエバエ(Musca domestica)雌成虫10頭を放ち、蓋をした。24時間後にイエバエの生死を調査し死虫率を求めた。
その結果、より得られた本発明化合物(2)、(3)、(5)及び(6)の処理においては死虫率70%以上を示した。
試験例3
製剤例5に従い、本発明化合物(2)、(3)、(5)及び(6)の各々の製剤を調製し、有効成分濃度が500ppmとなるように当該製剤を希釈し、各々の試験用薬液を調製した。
一方、直径5.5cmのポリエチレンカップの底に同大の濾紙を敷き、上記の試験用薬液0.7mlを濾紙上に滴下し、餌としてショ糖30mgを均一に入れた。該ポリエチレンカップ内にチャバネゴキブリ(Blattalla germanica)雄成虫2頭を放ち、蓋をした。6日後にチャバネゴキブリの生死を調査し死虫率を求めた。
その結果、本発明化合物(2)、(3)、(5)及び(6)の処理においては死虫率100%を示した。
製剤例5に従い、本発明化合物(2)、(3)、(5)及び(6)の各々の製剤を調製し、有効成分濃度が500ppmとなるように当該製剤を希釈し、各々の試験用薬液を調製した。
一方、直径5.5cmのポリエチレンカップの底に同大の濾紙を敷き、上記の試験用薬液0.7mlを濾紙上に滴下し、餌としてショ糖30mgを均一に入れた。該ポリエチレンカップ内にチャバネゴキブリ(Blattalla germanica)雄成虫2頭を放ち、蓋をした。6日後にチャバネゴキブリの生死を調査し死虫率を求めた。
その結果、本発明化合物(2)、(3)、(5)及び(6)の処理においては死虫率100%を示した。
試験例4
製剤例5に従い、本発明化合物(1)、(2)、(3)、(4)、(5)及び(6)の各々の製剤を調製し、有効成分濃度が500ppmとなるように当該製剤を希釈し、各々の試験用薬液を調製した。
一方、上記の試験用薬液0.7mlをイオン交換水100mlに加えた(有効成分濃度3.5ppm)。該液中にアカイエカ(Culex pipiens pallens)終令幼虫20頭を放し、1日後にその生死を調査し死虫率を求めた。
その結果、本発明化合物(1)、(2)、(3)、(4)、(5)及び(6)の処理においては死虫率90%以上を示した。
製剤例5に従い、本発明化合物(1)、(2)、(3)、(4)、(5)及び(6)の各々の製剤を調製し、有効成分濃度が500ppmとなるように当該製剤を希釈し、各々の試験用薬液を調製した。
一方、上記の試験用薬液0.7mlをイオン交換水100mlに加えた(有効成分濃度3.5ppm)。該液中にアカイエカ(Culex pipiens pallens)終令幼虫20頭を放し、1日後にその生死を調査し死虫率を求めた。
その結果、本発明化合物(1)、(2)、(3)、(4)、(5)及び(6)の処理においては死虫率90%以上を示した。
本発明化合物は、有害節足動物防除剤の有効成分として有用である。
Claims (9)
- 式(I)
〔式中、
R1は少なくとも1個以上のフッ素原子と少なくとも1個の群Aから選ばれる原子とを有するC3−C6ハロアルキル基を表し、
R2はシアノ基、C(=Q)OR5又はC(=Q)N(R6)2を表し、
R3は水素原子、ハロゲン原子又はC1−C4アルキル基を表し、
R4はC1−C5フルオロアルキル基を表し、
Qは酸素原子又は硫黄原子を表し、
R5はC1−C4アルキル基を表し、
R6は各々独立して水素原子又はC1−C4アルキル基を表すか、2つのR6が末端で結合してC2−C7アルキレン基を表し、
nは0、1又は2を表す。
群A:塩素原子、臭素原子、および、沃素原子。〕
で示される有機硫黄化合物。 - nが2である請求項1記載の有機硫黄化合物。
- Qが酸素原子である請求項1又は2記載の有機硫黄化合物。
- R2がシアノ基である請求項1又は2記載の有機硫黄化合物。
- R2がC(=Q)N(R6)2であり、R6が各々独立して水素原子又はC1−C4アルキル基である請求項1又は2記載の有機硫黄化合物。
- R2がC(=Q)N(R6)2であり、R6が水素原子である請求項1又は2記載の有機硫黄化合物。
- R3がハロゲン原子である請求項1〜6いずれか一項記載の有機硫黄化合物。
- 請求項1〜7いずれか一項記載の有機硫黄化合物を有効成分として含有することを特徴とする有害節足動物防除剤。
- 請求項1〜7いずれか一項記載の有機硫黄化合物の有効量を有害節足動物又は有害節足動物の生息場所に施用することを特徴とする有害節足動物の防除方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2008128095A JP5298631B2 (ja) | 2007-05-18 | 2008-05-15 | 有機硫黄化合物及びその有害節足動物防除用途 |
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2007132611 | 2007-05-18 | ||
JP2007132611 | 2007-05-18 | ||
JP2008128095A JP5298631B2 (ja) | 2007-05-18 | 2008-05-15 | 有機硫黄化合物及びその有害節足動物防除用途 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2009001550A true JP2009001550A (ja) | 2009-01-08 |
JP5298631B2 JP5298631B2 (ja) | 2013-09-25 |
Family
ID=39689201
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2008128095A Expired - Fee Related JP5298631B2 (ja) | 2007-05-18 | 2008-05-15 | 有機硫黄化合物及びその有害節足動物防除用途 |
Country Status (17)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US8158829B2 (ja) |
EP (1) | EP2155665B1 (ja) |
JP (1) | JP5298631B2 (ja) |
KR (1) | KR20100016621A (ja) |
CN (1) | CN101754949B (ja) |
AR (1) | AR066609A1 (ja) |
AT (1) | ATE495151T1 (ja) |
AU (1) | AU2008253949B2 (ja) |
BR (1) | BRPI0811159A2 (ja) |
DE (1) | DE602008004516D1 (ja) |
EG (1) | EG25810A (ja) |
ES (1) | ES2357728T3 (ja) |
MX (1) | MX2009012346A (ja) |
MY (1) | MY146661A (ja) |
RU (1) | RU2468007C2 (ja) |
TW (1) | TW200900006A (ja) |
WO (1) | WO2008143333A1 (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP2347653A2 (en) | 2009-12-28 | 2011-07-27 | Sumitomo Chemical Company, Limited | Animal ectoparasite control composition |
Families Citing this family (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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JP2009001551A (ja) * | 2007-05-18 | 2009-01-08 | Sumitomo Chemical Co Ltd | 有機硫黄化合物及びその有害節足動物防除用途 |
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BR112012013482B1 (pt) | 2009-12-04 | 2018-11-06 | Basf Se | compostos de bis-organossulfurados pesticidas |
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-
2008
- 2008-05-15 JP JP2008128095A patent/JP5298631B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 2008-05-16 KR KR1020097023942A patent/KR20100016621A/ko not_active Application Discontinuation
- 2008-05-16 BR BRPI0811159-6A2A patent/BRPI0811159A2/pt not_active IP Right Cessation
- 2008-05-16 WO PCT/JP2008/059492 patent/WO2008143333A1/en active Application Filing
- 2008-05-16 ES ES08753100T patent/ES2357728T3/es active Active
- 2008-05-16 DE DE602008004516T patent/DE602008004516D1/de active Active
- 2008-05-16 MY MYPI20094782A patent/MY146661A/en unknown
- 2008-05-16 TW TW097117974A patent/TW200900006A/zh unknown
- 2008-05-16 CN CN2008800252113A patent/CN101754949B/zh not_active Expired - Fee Related
- 2008-05-16 EP EP08753100A patent/EP2155665B1/en not_active Not-in-force
- 2008-05-16 RU RU2009147009/04A patent/RU2468007C2/ru not_active IP Right Cessation
- 2008-05-16 AT AT08753100T patent/ATE495151T1/de not_active IP Right Cessation
- 2008-05-16 AU AU2008253949A patent/AU2008253949B2/en not_active Ceased
- 2008-05-16 AR ARP080102091A patent/AR066609A1/es not_active Application Discontinuation
- 2008-05-16 MX MX2009012346A patent/MX2009012346A/es active IP Right Grant
- 2008-05-16 US US12/600,622 patent/US8158829B2/en not_active Expired - Fee Related
-
2009
- 2009-11-18 EG EG2009111694A patent/EG25810A/xx active
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Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
ES2357728T3 (es) | 2011-04-29 |
MY146661A (en) | 2012-09-14 |
RU2009147009A (ru) | 2011-06-27 |
KR20100016621A (ko) | 2010-02-12 |
JP5298631B2 (ja) | 2013-09-25 |
CN101754949A (zh) | 2010-06-23 |
TW200900006A (en) | 2009-01-01 |
EP2155665B1 (en) | 2011-01-12 |
AU2008253949A1 (en) | 2008-11-27 |
CN101754949B (zh) | 2013-04-24 |
AR066609A1 (es) | 2009-09-02 |
AU2008253949B2 (en) | 2012-08-30 |
MX2009012346A (es) | 2009-12-01 |
US8158829B2 (en) | 2012-04-17 |
BRPI0811159A2 (pt) | 2014-12-23 |
EG25810A (en) | 2012-08-15 |
DE602008004516D1 (de) | 2011-02-24 |
WO2008143333A1 (en) | 2008-11-27 |
ATE495151T1 (de) | 2011-01-15 |
RU2468007C2 (ru) | 2012-11-27 |
EP2155665A1 (en) | 2010-02-24 |
US20100152289A1 (en) | 2010-06-17 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20110330 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20130521 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20130603 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |