JP2009001551A - 有機硫黄化合物及びその有害節足動物防除用途 - Google Patents
有機硫黄化合物及びその有害節足動物防除用途 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2009001551A JP2009001551A JP2008128096A JP2008128096A JP2009001551A JP 2009001551 A JP2009001551 A JP 2009001551A JP 2008128096 A JP2008128096 A JP 2008128096A JP 2008128096 A JP2008128096 A JP 2008128096A JP 2009001551 A JP2009001551 A JP 2009001551A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- group
- compound
- parts
- reaction
- organic sulfur
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Ceased
Links
- 0 CCC(C*(C)C(*)(*)*)C(C1(*)*)=CCC1S(C)CC* Chemical compound CCC(C*(C)C(*)(*)*)C(C1(*)*)=CCC1S(C)CC* 0.000 description 8
- BBBPXBRALRVCBJ-UHFFFAOYSA-N CSC(CCOS(C)(=O)=O)C(F)(F)F Chemical compound CSC(CCOS(C)(=O)=O)C(F)(F)F BBBPXBRALRVCBJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C317/00—Sulfones; Sulfoxides
- C07C317/44—Sulfones; Sulfoxides having sulfone or sulfoxide groups and carboxyl groups bound to the same carbon skeleton
-
- A—HUMAN NECESSITIES
- A01—AGRICULTURE; FORESTRY; ANIMAL HUSBANDRY; HUNTING; TRAPPING; FISHING
- A01N—PRESERVATION OF BODIES OF HUMANS OR ANIMALS OR PLANTS OR PARTS THEREOF; BIOCIDES, e.g. AS DISINFECTANTS, AS PESTICIDES OR AS HERBICIDES; PEST REPELLANTS OR ATTRACTANTS; PLANT GROWTH REGULATORS
- A01N41/00—Biocides, pest repellants or attractants, or plant growth regulators containing organic compounds containing a sulfur atom bound to a hetero atom
-
- A—HUMAN NECESSITIES
- A01—AGRICULTURE; FORESTRY; ANIMAL HUSBANDRY; HUNTING; TRAPPING; FISHING
- A01N—PRESERVATION OF BODIES OF HUMANS OR ANIMALS OR PLANTS OR PARTS THEREOF; BIOCIDES, e.g. AS DISINFECTANTS, AS PESTICIDES OR AS HERBICIDES; PEST REPELLANTS OR ATTRACTANTS; PLANT GROWTH REGULATORS
- A01N41/00—Biocides, pest repellants or attractants, or plant growth regulators containing organic compounds containing a sulfur atom bound to a hetero atom
- A01N41/02—Biocides, pest repellants or attractants, or plant growth regulators containing organic compounds containing a sulfur atom bound to a hetero atom containing a sulfur-to-oxygen double bond
- A01N41/10—Sulfones; Sulfoxides
-
- A—HUMAN NECESSITIES
- A01—AGRICULTURE; FORESTRY; ANIMAL HUSBANDRY; HUNTING; TRAPPING; FISHING
- A01N—PRESERVATION OF BODIES OF HUMANS OR ANIMALS OR PLANTS OR PARTS THEREOF; BIOCIDES, e.g. AS DISINFECTANTS, AS PESTICIDES OR AS HERBICIDES; PEST REPELLANTS OR ATTRACTANTS; PLANT GROWTH REGULATORS
- A01N41/00—Biocides, pest repellants or attractants, or plant growth regulators containing organic compounds containing a sulfur atom bound to a hetero atom
- A01N41/12—Biocides, pest repellants or attractants, or plant growth regulators containing organic compounds containing a sulfur atom bound to a hetero atom not containing sulfur-to-oxygen bonds, e.g. polysulfides
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C323/00—Thiols, sulfides, hydropolysulfides or polysulfides substituted by halogen, oxygen or nitrogen atoms, or by sulfur atoms not being part of thio groups
- C07C323/64—Thiols, sulfides, hydropolysulfides or polysulfides substituted by halogen, oxygen or nitrogen atoms, or by sulfur atoms not being part of thio groups containing thio groups and sulfur atoms, not being part of thio groups, bound to the same carbon skeleton
- C07C323/65—Thiols, sulfides, hydropolysulfides or polysulfides substituted by halogen, oxygen or nitrogen atoms, or by sulfur atoms not being part of thio groups containing thio groups and sulfur atoms, not being part of thio groups, bound to the same carbon skeleton containing sulfur atoms of sulfone or sulfoxide groups bound to the carbon skeleton
Abstract
【解決手段】式(I)〔式中、R1は少なくとも1個のフッ素原子を有するC1−C5ハロアルキル基を表し、R2は少なくとも1個のハロゲン原子で置換されていてもよいC1−C4アルキル基、少なくとも1個のハロゲン原子で置換されていてもよいC1−C4アルコキシ基又は少なくとも1個のハロゲン原子で置換されていてもよいC1−C4アルキルチオ基を表し、R3は水素原子、ハロゲン原子又はC1−C4アルキル基を表し、R4はシアノ基、C(=Q)OR7又はC(=Q)N(R8)2を表し、R5は水素原子、ハロゲン原子又はC1−C4アルキル基を表し、R6はC1−C5フルオロアルキル基を表し、Qは酸素原子又は硫黄原子を表す。〕で示される有機硫黄化合物は有害節足動物に対して優れた防除効力を有する。
【選択図】なし
Description
また、特許文献1には含フッ素有機硫黄化合物が記載されている。
即ち、本発明は下記式(I)
〔式中、
R1は少なくとも1個のフッ素原子を有するC1−C5ハロアルキル基を表し、
R2は少なくとも1個のハロゲン原子で置換されていてもよいC1−C4アルキル基、少なくとも1個のハロゲン原子で置換されていてもよいC1−C4アルコキシ基又は少なくとも1個のハロゲン原子で置換されていてもよいC1−C4アルキルチオ基を表し、
R3は水素原子、ハロゲン原子又はC1−C4アルキル基を表し、
R4はシアノ基、C(=Q)OR7又はC(=Q)N(R8)2を表し、
R5は水素原子、ハロゲン原子又はC1−C4アルキル基を表し、
R6はC1−C5フルオロアルキル基を表し、
Qは酸素原子又は硫黄原子を表し、
R7はC1−C4アルキル基を表し、
R8は各々独立して水素原子又はC1−C4アルキル基を表すか、2つのR8が末端で結合してC2−C7アルキレン基を表し、
mは1〜4の整数を表し、
nは0、1又は2を表す。〕
で示される有機硫黄化合物(以下、本発明化合物と記す場合がある。)、本発明化合物を有効成分として含有することを特徴とする本発明の有害節足動物防除剤及び本発明化合物の有効量を有害節足動物又は有害節足動物の生息場所に施用することを特徴とする有害節足動物の防除方法を提供する。
フルオロメチル基、ジフルオロメチル基、トリフルオロメチル基、ブロモジフルオロメチル基、クロロジフルオロメチル基、1−フルオロエチル基、1,1−ジフルオロエチル基、2−フルオロエチル基、2,2−ジフルオロエチル基、2,2,2−トリフルオロエチル基、1,1,2,2−テトラフルオロエチル基、1,1,2,2,2−ペンタフルオロエチル基等のC1−C2ハロアルキル基;
1−フルオロプロピル基、1,1−ジフルオロプロピル基、2−フルオロプロピル基、2,2−ジフルオロプロピル基、3−フルオロプロピル基、3,3−ジフルオロプロピル基、3,3,3−トリフルオロプロピル基、2,2,3,3,3−ペンタフルオロプロピル基及び1,1,2,2,3,3,3−ヘプタフルオロプロピル基等のC3ハロアルキル基;
1−フルオロブチル基、1,1−ジフルオロブチル基、2−フルオロブチル基、2,2−ジフルオロブチル基、3−フルオロブチル基、3,3−ジフルオロブチル基、4−フルオロブチル基、4,4−ジフルオロブチル基、4,4,4−トリフルオロブチル基、3,3,4,4,4−ペンタフルオロブチル基、2,2,3,3,4,4,4−ヘプタフルオロブチル基、1,1,2,2,3,3,4,4,4−ノナフルオロブチル基等のC4ハロアルキル基;
1−フルオロペンチル基、1,1−ジフルオロペンチル基、2−フルオロペンチル基、2,2−ジフルオロペンチル基、3−フルオロペンチル基、3,3−ジフルオロペンチル基、4−フルオロペンチル基、4,4−ジフルオロペンチル基、5−フルオロペンチル基、5,5−ジフルオロペンチル基、5,5,5−トリフルオロペンチル基、4,4,5,5,5−ペンタフルオロペンチル基、3,3,4,4,5,5,5−ヘプタフルオロペンチル基、2,2,3,3,4,4,5,5,5−ノナフルオロペンチル基、1,1,2,2,3,3,4,4,5,5,5−ウンデカフルオロペンチル基等のC5ハロアルキル基が挙げられる。
フルオロメチル基、ジフルオロメチル基、トリフルオロメチル基、1−フルオロエチル基、2−フルオロエチル基、1,1−ジフルオロエチル基、2,2−ジフルオロエチル基、2,2,2−トリフルオロエチル基及び1,1,2,2,2−ペンタフルオロエチル基等のC1−C2フルオロアルキル基;
1−フルオロプロピル基、1,1−ジフルオロプロピル基、2−フルオロプロピル基、2,2−ジフルオロプロピル基、3−フルオロプロピル基、3,3−ジフルオロプロピル基、3,3,3−トリフルオロプロピル基、1,1,2,2,3,3,3−ヘプタフルオロプロピル基、2,2,3,3,3−ペンタフルオロプロピル基、2,2,2−トリフルオロ−(1−トリフルオロメチル)エチル基、1,2,2,2−テトラフルオロ−(1−トリフルオロメチル)エチル基及び2,2,3,3−テトラフルオロプロピル基等のC3フルオロアルキル基;
1−フルオロブチル基、1,1−ジフルオロブチル基、2−フルオロブチル基、2,2−ジフルオロブチル基、3−フルオロブチル基、3,3−ジフルオロブチル基、4−フルオロブチル基、4,4−ジフルオロブチル基、4,4,4−トリフルオロブチル基、3,3,4,4,4−ペンタフルオロブチル基、2,2,3,4,4−ペンタフルオロブチル基及び2,2,3,3,4,4,4−ヘプタフルオロブチル基等のC4フルオロアルキル基;
1−フルオロペンチル基、1,1−ジフルオロペンチル基、2−フルオロペンチル基、2,2−ジフルオロペンチル基、3−フルオロペンチル基、3,3−ジフルオロペンチル基、4−フルオロペンチル基、4,4−ジフルオロペンチル基、5−フルオロペンチル基、5,5−ジフルオロペンチル基、5,5,5−トリフルオロペンチル基、4,4,5,5,5−ペンタフルオロペンチル基、3,3,4,4,5,5,5−ヘプタフルオロペンチル基、2,2,3,3,4,4,5,5−オクタフルオロペンチル基及び2,2,3,3,4,4,5,5,5−ノナフルオロペンチル基等のC5フルオロアルキル基が挙げられる。
本発明において「C1−C5フルオロアルキル基」としては、下記式で示される基が好ましく例示される。
(CH2)r−CtF(2t+1)
〔式中、rは0〜4の整数を表し、tは1〜3の整数を表す。但し、r+tは5以下である。〕
N(R6)2で示される基としては、例えばアミノ基、メチルアミノ基、エチルアミノ基、プロピルアミノ基、2−プロピルアミノ基、ブチルアミノ基、イソブチルアミノ基、tert−ブチルアミノ基、ジメチルアミノ基のアミノ基;1−アジリジノ基、1−アゼチジニル基、1−ピロリジニル基、ピペリジノ基の環状アミノ基が挙げられる。
式(I)において、Qが酸素原子である有機硫黄化合物;
式(I)において、R4がシアノ基である有機硫黄化合物;
式(I)において、R4がC(=Q)OR7又はC(=Q)N(R8)2である有機硫黄化合物;
式(I)において、R4がC(=Q)N(R8)2であり、R8が各々独立して水素原子又はC1−C4アルキル基である有機硫黄化合物;
式(I)において、R4がC(=Q)N(R6)2であり、R8が水素原子である有機硫黄化合物;
式(I)において、mが2である有機硫黄化合物;
式(I)において、R1がトリフルオロメチル基である有機硫黄化合物;
式(I)において、R1が1,1,2,2,2−ペンタフルオロエチル基である有機硫黄化合物;
式(I)において、R1が1,1,2,2,3,3,3−ヘプタフルオロプロピル基である有機硫黄化合物;
式(I)において、R2がメチル基、エチル基、メトキシ基又はメチルチオ基である有機硫黄化合物;
式(I)において、R2がメチル基である有機硫黄化合物;
式(I)において、R2がエチル基である有機硫黄化合物;
式(I)において、R2がプロピル基である有機硫黄化合物;
式(I)において、R2がイソプロピル基である有機硫黄化合物;
式(I)において、R2がtert−ブチル基である有機硫黄化合物;
式(I)において、R2がメトキシ基である有機硫黄化合物;
式(I)において、R2がメチルチオ基である有機硫黄化合物;
式(I)において、R3が水素原子である有機硫黄化合物;
式(I)において、R3がメチル基である有機硫黄化合物;
式(I)において、R5がハロゲン原子である有機硫黄化合物;
式(I)において、R5がフッ素原子又は塩素原子である有機硫黄化合物;
式(I)において、R5がメチル基である有機硫黄化合物;
(CH2)r−CtF(2t+1)
〔式中、rは0〜4の整数を表し、tは1〜3の整数を表す。但し、r+tは5以下である。〕
で示される基である有機硫黄化合物;
式(I)において、R6がC1−C3フルオロアルキル基である有機硫黄化合物;
式(I)において、R6がトリフルオロメチル基、1,1,2,2,2−ペンタフルオロエチル基、2,2,2−トリフルオロエチル基又は1,1,2,2,3,3,3−へプタフルオロプロピル基である有機硫黄化合物;
式(I)において、R6がトリフルオロメチル基である有機硫黄化合物;
式(I)において、R6が1,1,2,2,2−ペンタフルオロエチル基である有機硫黄化合物;
式(I)において、R6が2,2,2−トリフルオロエチル基である有機硫黄化合物;
式(I)において、R6が1,1,2,2,3,3,3−へプタフルオロプロピル基である有機硫黄化合物;
式(I)において、R2がメチル基、エチル基、メトキシ基又はメチルチオ基であり、R3が水素原子又はメチル基である有機硫黄化合物;
式(I)において、R2がメチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、tert−ブチル基、メトキシ基又はメチルチオ基であり、R3が水素原子である有機硫黄化合物;
式(I)において、R2がメチル基、エチル基、メトキシ基又はメチルチオ基であり、R3が水素原子である有機硫黄化合物;
式(I)において、R2がメチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基又はtert−ブチル基、であり、R3が水素原子である有機硫黄化合物;
式(I)において、R2がメチル基又はエチル基であり、R3が水素原子である有機硫黄化合物;
式(I)において、R2がメトキシ基又はメチルチオ基であり、R3が水素原子である有機硫黄化合物;
式(I)において、Qが酸素原子であり、R5がハロゲン原子である有機硫黄化合物;
式(I)において、Qが酸素原子であり、R5がフッ素原子又は塩素原子である有機硫黄化合物;
式(I)において、Qが酸素原子であり、R5がメチル基である有機硫黄化合物;
式(I)において、R4がシアノ基であり、R5がハロゲン原子である有機硫黄化合物;
式(I)において、R4がシアノ基であり、R5がフッ素原子又は塩素原子である有機硫黄化合物;
式(I)において、R4がシアノ基であり、R5がメチル基である有機硫黄化合物;
式(I)において、R4がC(=Q)N(R8)2であり、R5がハロゲン原子である有機硫黄化合物;
式(I)において、R4がC(=Q)N(R8)2であり、R5がフッ素原子又は塩素原子である有機硫黄化合物;
式(I)において、R4がC(=Q)N(R8)2であり、R5がメチル基である有機硫黄化合物;
式(I)において、R4がC(=Q)N(R8)2であり、R5がハロゲン原子であり、R8が水素原子である有機硫黄化合物;
式(I)において、R4がC(=Q)N(R8)2であり、R5がフッ素原子又は塩素原子であり、R8が水素原子である有機硫黄化合物;
式(I)において、R4がC(=Q)N(R8)2であり、R5がメチル基であり、R8が水素原子である有機硫黄化合物;
式(I)において、nが2であり、R4がシアノ基であり、R5がハロゲン原子である有機硫黄化合物;
式(I)において、nが2であり、R4がシアノ基であり、R5がフッ素原子又は塩素原子である有機硫黄化合物;
式(I)において、nが2であり、R4がシアノ基であり、R5がメチル基である有機硫黄化合物;
式(I)において、nが2であり、R4がC(=Q)N(R8)2であり、R5がハロゲン原子であり、R8が水素原子である有機硫黄化合物;
式(I)において、nが2であり、R4がC(=Q)N(R8)2であり、R5がフッ素原子又は塩素原子であり、R8が水素原子である有機硫黄化合物;
式(I)において、nが2であり、R4がC(=Q)N(R8)2であり、R5がメチル基であり、R8が水素原子である有機硫黄化合物;
式(I)において、nが2であり、mが2であり、R4がシアノ基であり、R5がハロゲン原子である有機硫黄化合物;
式(I)において、nが2であり、mが2であり、R4がシアノ基であり、R5がフッ素原子又は塩素原子である有機硫黄化合物;
式(I)において、nが2であり、mが2であり、R4がシアノ基であり、R5がメチル基である有機硫黄化合物;
式(I)において、nが2であり、mが2であり、R4がC(=O)NH2であり、R5がハロゲン原子である有機硫黄化合物;
式(I)において、nが2であり、mが2であり、R4がC(=O)NH2であり、R5がフッ素原子又は塩素原子である有機硫黄化合物;
式(I)において、nが2であり、mが2であり、R4がC(=O)NH2であり、R5がメチル基である有機硫黄化合物;
式(I)において、nが2であり、mが2であり、R1がトリフルオロメチル基であり、R4がシアノ基であり、R5がハロゲン原子である有機硫黄化合物;
式(I)において、nが2であり、mが2であり、R1がトリフルオロメチル基であり、R4がシアノ基であり、R5がフッ素原子又は塩素原子である有機硫黄化合物;
式(I)において、nが2であり、mが2であり、R1がトリフルオロメチル基であり、R4がシアノ基であり、R5がメチル基である有機硫黄化合物;
式(I)において、nが2であり、mが2であり、R1がトリフルオロメチル基であり、R4がC(=O)NH2であり、R5がハロゲン原子である有機硫黄化合物;
式(I)において、nが2であり、mが2であり、R1がトリフルオロメチル基であり、R4がC(=O)NH2であり、R5がフッ素原子又は塩素原子である有機硫黄化合物;
式(I)において、nが2であり、mが2であり、R1がトリフルオロメチル基であり、R4がC(=O)NH2であり、R5がメチル基である有機硫黄化合物;
式(I)において、nが2であり、mが2であり、R1が1,1,2,2,2−ペンタフルオロエチル基であり、R4がシアノ基であり、R5がハロゲン原子である有機硫黄化合物;
式(I)において、nが2であり、mが2であり、R1が1,1,2,2,2−ペンタフルオロエチル基であり、R4がシアノ基であり、R5がフッ素原子又は塩素原子である有機硫黄化合物;
式(I)において、nが2であり、mが2であり、R1が1,1,2,2,2−ペンタフルオロエチル基であり、R4がシアノ基であり、R5がメチル基である有機硫黄化合物;
式(I)において、nが2であり、mが2であり、R1が1,1,2,2,2−ペンタフルオロエチル基であり、R4がC(=O)NH2であり、R5がハロゲン原子である有機硫黄化合物;
式(I)において、nが2であり、mが2であり、R1が1,1,2,2,2−ペンタフルオロエチル基であり、R4がC(=O)NH2であり、R5がフッ素原子又は塩素原子である有機硫黄化合物;
式(I)において、nが2であり、mが2であり、R1が1,1,2,2,2−ペンタフルオロエチル基であり、R4がC(=O)NH2であり、R5がメチル基である有機硫黄化合物;
式(I)において、nが2であり、mが2であり、R1が1,1,2,2,3,3,3−へプタフルオロプロピル基であり、R4がシアノ基であり、R5がハロゲン原子である有機硫黄化合物;
式(I)において、nが2であり、mが2であり、R1が1,1,2,2,3,3,3−へプタフルオロプロピル基であり、R4がシアノ基であり、R5がフッ素原子又は塩素原子である有機硫黄化合物;
式(I)において、nが2であり、mが2であり、R1が1,1,2,2,3,3,3−へプタフルオロプロピル基であり、R4がシアノ基であり、R5がメチル基である有機硫黄化合物;
式(I)において、nが2であり、mが2であり、R1が1,1,2,2,3,3,3−へプタフルオロプロピル基であり、R4がC(=O)NH2であり、R5がハロゲン原子である有機硫黄化合物;
式(I)において、nが2であり、mが2であり、R1が1,1,2,2,3,3,3−へプタフルオロプロピル基であり、R4がC(=O)NH2であり、R5がフッ素原子又は塩素原子である有機硫黄化合物;
式(I)において、nが2であり、mが2であり、R1が1,1,2,2,3,3,3−へプタフルオロプロピル基であり、R4がC(=O)NH2であり、R5がメチル基である有機硫黄化合物;
式(I)において、R1がトリフルオロメチル基、1,1,2,2,2−ペンタフルオロエチル基又は1,1,2,2,3,3,3−ヘプタフルオロプロピル基であり、R2が少なくとも1個のハロゲン原子で置換されていてもよいC1−C4アルコキシ基又は少なくとも1個のハロゲン原子で置換されていてもよいC1−C4アルキルチオ基であり、R3が水素原子、メチル基、エチル基、フッ素原子又は塩素原子であり、R4がシアノ基、C(=O)OR7又はC(=O)N(R8)2であり、R5が水素原子、メチル基、エチル基、フッ素原子又は塩素原子であり、R6がトリフルオロメチル基、1,1,2,2,2−ペンタフルオロエチル基又は1,1,2,2,3,3,3−ヘプタフルオロプロピル基でであり、mが2であり、R7がメチル基であり、R8が各々独立して水素原子又はメチル基である有機硫黄化合物;
式(I)において、R1がトリフルオロメチル基であり、R2がメチル基又はエチル基であり、R3が水素原子、メチル基、エチル基、フッ素原子又は塩素原子であり、R4がシアノ基、C(=O)OR7又はC(=O)N(R8)2であり、R5が水素原子、メチル基、エチル基、フッ素原子又は塩素原子であり、R6がトリフルオロメチル基、1,1,2,2,2−ペンタフルオロエチル基又は1,1,2,2,3,3,3−ヘプタフルオロプロピル基でであり、mが2であり、R7がメチル基であり、R8が水素原子である有機硫黄化合物;
式(I)において、R1がトリフルオロメチル基であり、R2がメトキシ基又はメチルチオ基であり、R3が水素原子、メチル基、エチル基、フッ素原子又は塩素原子であり、R4がシアノ基、C(=O)OR7又はC(=O)N(R8)2であり、R5が水素原子、メチル基、エチル基、フッ素原子又は塩素原子であり、R6がトリフルオロメチル基、1,1,2,2,2−ペンタフルオロエチル基又は1,1,2,2,3,3,3−ヘプタフルオロプロピル基でであり、mが2であり、R7がメチル基であり、R8が水素原子である有機硫黄化合物。
本発明化合物は、例えば以下の(製造法1)〜(製造法12)により製造することができる。
本発明化合物のうち、R5がC1−C4アルキル基である化合物(I−2)は、例えば下記の化合物(a)と化合物(I−1)とを反応させることにより製造することができる。
[式中、R1、R2、R3、R4、R6、m及びnは前記と同じ意味を表し、R5-1はC1−C4アルキル基を表し、Xは塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、メタンスルホニルオキシ基、p−トルエンスルホニルオキシ基及びトリフルオロメタンスルホニルオキシ基等の脱離基を表す。]
該反応は通常溶媒中、塩基の存在下で行われる。
反応に用いられる溶媒としては、例えばN,N−ジメチルホルムアミド等の酸アミド、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン等のエーテル、ジメチルスルホキシド、スルホラン等の有機硫黄、クロロホルム、1,2−ジクロロエタン、クロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素、水及びそれらの混合物が挙げられる。
該反応に用いられる塩基としては、例えば水素化ナトリウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸カリウム等の無機塩基、ナトリウムメトキシド、カリウム tert−ブトキシド等のアルカリ金属アルコキシド、リチウムジイソプロピルアミド等のアルカリ金属アミド及びトリエチルアミン、1,4−ジアザビシクロ[2.2.2]オクタン、1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]−7−ウンデセン等の有機塩基が挙げられる。反応に用いられる塩基の量は、化合物(I−1)1モルに対して通常1〜10モルの割合である。
反応に用いられる化合物(a)の量は、化合物(I−1)1モルに対し、通常1〜10モルの割合である。
該反応の反応温度は通常−100〜100℃の範囲であり、反応時間は通常1〜24時間の範囲である。
反応終了後は、反応混合物を水に注加し、有機溶媒抽出してから、濃縮する等の後処理操作を行うことにより化合物(I−2)を単離することができる。単離された化合物(I−2)は必要に応じてクロマトグラフィー、再結晶等によりさらに精製することもできる。
本発明化合物のうち、R5が水素原子又はC1−C4アルキル基である化合物(I−3)は、例えば下記の化合物(c)と化合物(d)とを反応させることにより製造することができる。
[式中、R1、R2、R3、R4、R6、m、n及びXは前記と同じ意味を表し、R5-2は水素原子又はC1−C4アルキル基を表す。]
該反応は通常溶媒中、塩基の存在下で行われる。
反応に用いられる溶媒としては、例えばN,N−ジメチルホルムアミド等の酸アミド、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン等のエーテル、ジメチルスルホキシド、スルホラン等の有機硫黄、クロロホルム、1,2−ジクロロエタン、クロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素、水及びそれらの混合物が挙げられる。
該反応に用いられる塩基としては、例えば水素化ナトリウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸カリウム等の無機塩基、ナトリウムメトキシド、カリウム tert−ブトキシド等のアルカリ金属アルコキシド、リチウムジイソプロピルアミド等のアルカリ金属アミド及びトリエチルアミン、1,4−ジアザビシクロ[2.2.2]オクタン、1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]−7−ウンデセン等の有機塩基が挙げられる。反応に用いられる塩基の量は、化合物(d)1モルに対して通常1〜10モルの割合である。
反応に用いられる化合物(c)の量は、化合物(d)1モルに対し、通常1〜10モルの割合である。
該反応の反応温度は通常−100〜100℃の範囲であり、反応時間は通常1〜24時間の範囲である。
反応終了後は、反応混合物を水に注加し、有機溶媒抽出してから、濃縮する等の後処理操作を行うことにより化合物(I−3)を単離することができる。単離された化合物(I−3)は必要に応じてクロマトグラフィー、再結晶等によりさらに精製することもできる。
(製造法3)
化合物(I−1)とハロゲン化剤(e)とを塩基の存在下で反応させることにより製造する方法。
[式中、R1、R2、R3、R4、R6、m及びnは前記と同じ意味を表し、R5-3はハロゲン原子を表す。]
該反応は通常溶媒中、塩基の存在下で行われる。
反応に用いられる溶媒としては、例えばN,N−ジメチルホルムアミド等の酸アミド、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン等のエーテル、ジメチルスルホキシド、スルホラン等の有機硫黄、クロロホルム、1,2−ジクロロエタン、クロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素、水及びそれらの混合物が挙げられる。
該反応に用いられる塩基としては、例えば水素化ナトリウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸カリウム等の無機塩基、ナトリウムメトキシド、カリウムtert−ブトキシド等のアルカリ金属アルコキシド、リチウムジイソプロピルアミド等のアルカリ金属アミド及びトリエチルアミン、1,4−ジアザビシクロ[2.2.2]オクタン、1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]−7−ウンデセン等の有機塩基が挙げられる。反応に用いられる塩基の量は、化合物(I−1)1モルに対して通常1〜10モルの割合である。
該反応に用いられるハロゲン化剤(e)としては、例えば四塩化炭素、ヘキサクロロエタン等のハロゲン化炭化水素、フッ素、塩素、臭素、ヨウ素のハロゲン、N−クロロコハク酸イミド、N−ブロモコハク酸イミド、N−ヨードコハク酸イミド等のハロゲン化スクシンイミド、1−フルオロ−2,4,6−トリメチルピリジニウム トリフルオロメタンスルホナート、1,1’−ジフルオロ−2,2’−ビピリジニウム ビステトラフルオロボレート等のN−フルオロピリジニウム塩、塩化銅(II)、臭化銅(II)等の無機塩が挙げられる。
反応に用いられるハロゲン化剤(e)の量は、化合物(I−1)1モルに対し、通常1〜10モルの割合である。
該反応の反応温度は通常−100〜100℃の範囲であり、反応時間は通常1〜24時間の範囲である。
反応終了後は、反応混合物を水に注加し、有機溶媒抽出してから、濃縮する等の後処理操作を行うことにより化合物(I−4)を単離することができる。単離された化合物(I−4)は必要に応じてクロマトグラフィー、再結晶等によりさらに精製することもできる。
化合物(I−1)とハロゲン化剤(f)とを反応させることにより製造する方法。
[式中、R1、R2、R3、R4、R5-3、R6、m及びnは前記と同じ意味を表す。]
該反応は無溶媒若しくは溶媒中で行われる。
反応に用いられる溶媒としては、例えばクロロホルム、四塩化炭素、1,2−ジクロロエタン、クロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素、アセトニトリル、プロピオニトリル等の脂肪族ニトリル、酢酸等の脂肪族カルボン酸、二硫化炭素、水及びそれらの混合物が挙げられる。
該反応に用いられるハロゲン化剤(f)としては、例えばフッ素、塩素、臭素、ヨウ素のハロゲン、フッ化水素、塩化水素、臭化水素、ヨウ化水素のハロゲン化水素、塩化チオニル、臭化チオニル、塩化スルフリル等のハロゲン化硫黄化合物、三塩化リン、三臭化リン、五塩化リン、オキシ塩化リン等のハロゲン化リン化合物があげられる。
反応に用いられるハロゲン化剤(f)の量は、化合物(I−1)1モルに対し、通常1〜10モルの割合である。
該反応の反応温度は通常−100〜200℃の範囲であり、反応時間は通常1〜24時間の範囲である。
反応終了後は、反応混合物を水に注加し、有機溶媒抽出してから、濃縮する等の後処理操作を行うことにより化合物(I−4)を単離することができる。単離された化合物(I−4)は必要に応じてクロマトグラフィー、再結晶等によりさらに精製することもできる。
(製造法5)
化合物(i)と化合物(j)とを反応させることにより製造する方法。
[式中、R1、R2、R3、R5-1、R6、m及びnは前記と同じ意味を表し、Zはハロゲン原子を表し、R78はOR7又はN(R8)2を表す(R7及びR8は前記と同じ意味を表す)。]
(工程5−1)
化合物(i)は、化合物(g)とハロゲン化剤(h)とを反応させることにより製造することができる。
該反応は無溶媒若しくは溶媒中で行うことができる。
反応に用いられる溶媒としては、例えばクロロホルム、ジクロロメタン、1,2−ジクロロエタン、クロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素が挙げられる。
反応に用いられるハロゲン化剤(h)としては、例えば塩化オキサリル、塩化チオニル、臭化チオニル、三塩化リン、三臭化リン及び五塩化リンが挙げられる。反応に用いられるハロゲン化剤(h)の量は、化合物(g)1モルに対し、通常1モル〜溶媒量の割合である。
該反応の反応温度は通常−20〜100℃の範囲であり、反応時間は通常1〜24時間の範囲である。
反応終了後は、反応混合物を濃縮する等の操作を行うことにより化合物(i)を単離することができる。単離された化合物(i)は蒸留等によりさらに精製することもできる。
(工程5−2)
該反応は通常溶媒中、塩基の存在下で行われる。
反応に用いられる溶媒としては、例えばN,N−ジメチルホルムアミド等の酸アミド、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン等のエーテル、ジメチルスルホキシド、スルホラン等の有機硫黄、クロロホルム、1,2−ジクロロエタン、クロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素、水及びそれらの混合物が挙げられる。
該反応に用いられる塩基としては、例えば水素化ナトリウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸カリウム等の無機塩基及びトリエチルアミン、1,4−ジアザビシクロ[2.2.2]オクタン、1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]−7−ウンデセン等の有機塩基が挙げられる。反応に用いられる塩基の量は、化合物(i)1モルに対して通常1〜10モルの割合である。
反応に用いられる化合物(j)の量は、化合物(i)1モルに対し、通常1〜10モルの割合である。
該反応の反応温度は通常−20〜100℃の範囲であり、反応時間は通常1〜24時間の範囲である。
反応終了後は、反応混合物を水に注加し、有機溶媒抽出してから、濃縮する等の後処理操作を行うことにより化合物(I−5)を単離することができる。単離された化合物(I−5)は必要に応じてクロマトグラフィー、再結晶等によりさらに精製することもできる。
化合物(g)と化合物(j)とを反応させることにより製造する方法。
[式中、R1、R2、R3、R5-1、R6、m及びnは前記と同じ意味を表し、R78はOR7又はN(R8)2を表す(R7及びR8は前記と同じ意味を表す)。)[式中、R1、R2、R3、R5-1、R6、R7、m及びnは前記と同じ意味を表す。]
該反応は通常溶媒中、縮合剤の存在下で行われる。
反応に用いられる溶媒としては、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン等のエーテル、ジメチルスルホキシド、スルホラン等の有機硫黄、クロロホルム、1,2−ジクロロエタン、クロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素が挙げられる。
反応に用いられる縮合剤としては、例えばジシクロヘキシルカルボジイミド、N−(3−ジメチルアミノプロピル)−N′−エチルカルボジイミド、カルボニルジイミダゾール等が挙げられる。
反応に用いられる縮合剤の量は、化合物(g)1モルに対し、通常1〜10モルの割合である。
反応に用いられる化合物(j)の量は、化合物(g)1モルに対し、通常1〜10モルの割合である。
該反応の反応温度は通常−20〜100℃の範囲であり、反応時間は通常1〜24時間の範囲である。
反応終了後は、反応混合物を濃縮する等の操作を行うことにより化合物(I−5)を単離することができる。単離された化合物(I−5)は必要に応じてクロマトグラフィー、再結晶等によりさらに精製することもできる。
本発明化合物のうち、R5が水素原子である化合物(I−1)は、例えば下記の化合物(c)と化合物(k)とを反応させることにより製造することができる。
[式中、R1、R2、R3、R4、R6、X、m及びnは前記と同じ意味を表す。]
該反応は通常溶媒中、塩基の存在下で行われる。
反応に用いられる溶媒としては、例えばN,N−ジメチルホルムアミド等の酸アミド、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン等のエーテル、ジメチルスルホキシド、スルホラン等の有機硫黄、クロロホルム、1,2−ジクロロエタン、クロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素、水及びそれらの混合物が挙げられる。
該反応に用いられる塩基としては、例えば水素化ナトリウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸カリウム等の無機塩基、ナトリウムメトキシド、カリウム tert−ブトキシド等のアルカリ金属アルコキシド、リチウムジイソプロピルアミド等のアルカリ金属アミド及びトリエチルアミン、1,4−ジアザビシクロ[2.2.2]オクタン、1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]−7−ウンデセン等の有機塩基が挙げられる。反応に用いられる塩基の量は、化合物(k)1モルに対して通常1〜10モルの割合である。
反応に用いられる化合物(c)の量は、化合物(k)1モルに対し、通常1〜10モルの割合である。
該反応の反応温度は通常−100〜100℃の範囲であり、反応時間は通常1〜24時間の範囲である。
反応終了後は、反応混合物を水に注加し、有機溶媒抽出してから、濃縮する等の後処理操作を行うことにより化合物(I−1)を単離することができる。単離された化合物(I−1)は必要に応じてクロマトグラフィー、再結晶等によりさらに精製することもできる。
本発明化合物のうち、R4がC(=O)N(R8)2であり、nが2である化合物(I−8)は、本発明化合物のうちR4がC(=O)OR7であり、nが2である化合物(I−7)を化合物(p)と反応させることにより製造することもできる。
〔式中、R1、R2、R3、R5、R6、R7、R8、m及びnは前記と同じ意味を表す。〕
該反応は通常溶媒中で行われる。
反応に用いられる溶媒としては、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン等のエーテル、ジメチルスルホキシド、スルホラン等の有機硫黄、クロロホルム、1,2−ジクロロエタン、クロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素が挙げられる。
反応に用いられる化合物(p)の量は、化合物(I−7)1モルに対し、通常1〜10モルの割合である。
該反応の反応温度は通常−20〜100℃の範囲であり、反応時間は通常1〜24時間の範囲である。
反応終了後は、反応混合物を濃縮する等の操作を行うことにより化合物(I−8)を単離することができる。単離された化合物(I−8)は必要に応じてクロマトグラフィー、再結晶等によりさらに精製することもできる。
本発明化合物のうち、R4がC(=S)OR7又はC(=S)N(R8)2である化合物(I−9)は、本発明化合物のうちR4がC(=O)OR7又はC(=O)N(R8)2である化合物(I−5)を硫黄化剤(q)と反応させることにより製造することもできる。
〔式中、R1、R2、R3、R5、R6、R78、m及びnは前記と同じ意味を表す。〕
該反応は通常溶媒中で行われる。
反応に用いられる溶媒としては、クロロホルム、1,2−ジクロロエタン、クロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素が挙げられる。
該反応に用いられる硫黄化剤(q)としては、例えば硫化水素、五硫化二りん等の無機硫黄化合物、2,4−ビス(4−メトキシフェニル)−1,3−ジチア−2,4−ジホスフェタン 2,4−ジスルフィド等の有機硫黄化合物が挙げられる。
該反応に用いられる硫黄化剤(q)の量は、化合物(I−5)1モルに対し、通常0.5〜10モルの割合である。
該反応の反応温度は通常0〜250℃の範囲であり、反応時間は通常1〜72時間の範囲である。
反応終了後は、反応混合物を濃縮する等の操作を行うことにより化合物(I−9)を単離することができる。単離された化合物(I−9)は必要に応じてクロマトグラフィー、再結晶等によりさらに精製することもできる。
化合物(r)と化合物(m)とを反応させることにより製造する方法。
[式中、R1、R2、R3、R4、R5-2、R6、m及びXは前記と同じ意味を表す。]
該反応は通常溶媒中、塩基の存在下で行われる。
反応に用いられる溶媒としては、例えばN,N−ジメチルホルムアミド等の酸アミド、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン等のエーテル、ジメチルスルホキシド、スルホラン等の有機硫黄、クロロホルム、1,2−ジクロロエタン、クロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素、水及びそれらの混合物が挙げられる。
該反応に用いられる塩基としては、例えば水素化ナトリウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸カリウム等の無機塩基、ナトリウムメトキシド、カリウム tert−ブトキシド等のアルカリ金属アルコキシド、リチウムジイソプロピルアミド等のアルカリ金属アミド及びトリエチルアミン、1,4−ジアザビシクロ[2.2.2]オクタン、1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]−7−ウンデセン等の有機塩基が挙げられる。
反応に用いられる塩基の量は、化合物(r)1モルに対して通常1〜10モルの割合である。
反応に用いられる化合物(m)の量は、化合物(r)1モルに対し、通常1〜10モルの割合である。
該反応の反応温度は通常−20〜100℃の範囲であり、反応時間は通常1〜24時間の範囲である。
反応終了後は、反応混合物を水に注加し、有機溶媒抽出してから、濃縮する等の後処理操作を行うことにより化合物(I−10)を単離することができる。単離された化合物(I−10)は必要に応じてクロマトグラフィー、再結晶等によりさらに精製することもできる。
化合物(s)と化合物(o)とを反応させることにより製造する方法。
[式中、R1、R2、R3、R4、R5-2、R6、m及びXは前記と同じ意味を表す。]
該反応は通常溶媒中、塩基の存在下で行われる。
反応に用いられる溶媒としては、例えばN,N−ジメチルホルムアミド等の酸アミド、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン等のエーテル、ジメチルスルホキシド、スルホラン等の有機硫黄、クロロホルム、1,2−ジクロロエタン、クロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素、水及びそれらの混合物が挙げられる。
該反応に用いられる塩基としては、例えば水素化ナトリウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸カリウム等の無機塩基、ナトリウムメトキシド、カリウム tert−ブトキシド等のアルカリ金属アルコキシド、リチウムジイソプロピルアミド等のアルカリ金属アミド類及びトリエチルアミン、1,4−ジアザビシクロ[2.2.2]オクタン、1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]−7−ウンデセン等の有機塩基が挙げられる。反応に用いられる塩基の量は、化合物(o)1モルに対して通常1〜10モルの割合である。
反応に用いられる化合物(s)の量は、化合物(o)1モルに対し、通常1〜10モルの割合である。
該反応の反応温度は通常−20〜100℃の範囲であり、反応時間は通常1〜24時間の範囲である。
反応終了後は、反応混合物を水に注加し、有機溶媒抽出してから、濃縮する等の後処理操作を行うことにより化合物(I−10)を単離することができる。単離された化合物(I−10)は必要に応じてクロマトグラフィー、再結晶等によりさらに精製することもできる。
本発明化合物のうち、nが1又は2である化合物(I−11)は、例えば化合物(I−10)を酸化することにより製造することができる。
[式中、R1、R2、R3、R4、R5-2、R6及びmは前記と同じ意味を表し、n’は1又は2を表す。]
該反応は、酸化剤の存在下、通常溶媒の存在下で行われる。
反応に用いられる溶媒としては、例えばメタノール、エタノール等のアルコール、ジクロロメタン、クロロホルム等のハロゲン化炭化水素、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素、酢酸、トリフルオロ酢酸等の脂肪族カルボン酸、水及びそれらの混合物が挙げられる。
該反応に用いられる酸化剤としては、例えば過酢酸、トリフルオロ過酢酸、m−クロロ過安息香酸等の有機過酸化物、塩素、臭素のハロゲン分子、N−クロロコハク酸イミド等の含ハロゲンイミド、過塩素酸(若しくはその塩)、過ヨウ素酸(若しくはその塩)等のハロゲン化物、過マンガン酸カリウム等の過マンガン酸塩、クロム酸カリウム等のクロム酸塩及び過酸化水素が挙げられる。反応に用いられる酸化剤の量は、化合物(I−10)1モルに対して通常1〜10モルの割合である。
該反応の反応温度は通常−50〜200℃の範囲であり、反応時間は通常1〜72時間の範囲である。
反応終了後は、反応混合物を水に注加し、有機溶媒抽出してから、濃縮する等の操作を行うことにより、化合物(I−11)を単離することができる。単離した化合物(I−11)は、必要に応じてクロマトグラフィー、再結晶等でさらに精製することもできる。
化合物(g)は化合物(I−6)を加水分解することにより製造することができる。
[式中、R1、R2、R3、R5、R6、m及びnは前記と同じ意味を表し、R7-3はメチル基又はエチル基を表す。]
該反応は酸又は塩基、並びに水の存在下、通常有機溶媒中で行われる。
反応に用いられる有機溶媒としては、メタノール、エタノール等のアルコール、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン等のエーテル、ジメチルスルホキシド、スルホラン等の有機硫黄、クロロホルム、1,2−ジクロロエタン、クロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素、蟻酸、酢酸等の脂肪族カルボン酸及びそれらの混合物が挙げられる。
反応に用いられる塩基としては、例えば水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等の無機塩基が挙げられる。
反応に用いられる酸としては、例えば塩酸、硫酸等の無機酸が挙げられる。
反応に用いられる酸又は塩基の量は、化合物(I−6)1モルに対し、通常1〜10モルの割合である。
該反応の反応温度は通常−20〜100℃の範囲であり、反応時間は通常1〜24時間の範囲である。
反応終了後は、反応混合物に必要に応じて水及び/又は酸を加え、有機溶媒抽出してから、濃縮する等の操作を行うことにより化合物(g)を単離することができる。単離された化合物(g)は必要に応じてクロマトグラフィー、再結晶等によりさらに精製することもできる。
化合物(d)のうち、R5がC1−C4アルキル基である化合物(d−1)は、例えば下記の化合物(a)と化合物(k)を反応させることにより製造することができる。
[式中、R4、R5-1、R6、n及びXは前記と同じ意味を表す。]
該反応は通常溶媒中、塩基の存在下で行われる。
反応に用いられる溶媒としては、例えばN,N−ジメチルホルムアミド等の酸アミド、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン等のエーテル、ジメチルスルホキシド、スルホラン等の有機硫黄、クロロホルム、1,2−ジクロロエタン、クロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素、水及びそれらの混合物が挙げられる。
該反応に用いられる塩基としては、例えば水素化ナトリウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸カリウム等の無機塩基、ナトリウムメトキシド、カリウム tert−ブトキシド等のアルカリ金属アルコキシド、リチウムジイソプロピルアミド等のアルカリ金属アミド及びトリエチルアミン、1,4−ジアザビシクロ[2.2.2]オクタン、1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]−7−ウンデセン等の有機塩基が挙げられる。
反応に用いられる塩基の量は、化合物(k)1モルに対して通常1〜10モルの割合である。
反応に用いられる化合物(a)の量は、化合物(k)1モルに対し、通常1〜10モルの割合である。
該反応の反応温度は通常−20〜100℃の範囲であり、反応時間は通常1〜24時間の範囲である。
反応終了後は、反応混合物を水に注加し、有機溶媒抽出してから、濃縮する等の後処理操作を行うことにより化合物(d−1)を単離することができる。単離された化合物(d−1)は必要に応じてクロマトグラフィー、再結晶等によりさらに精製することもできる。
化合物(k)のうち、nが0である化合物(k−1)及びnが1又は2である化合物(k−2)は、例えば以下に示す方法により製造することができる。
[式中、R4、R6、X及びn’は前記と同じ意味を表す。]
(工程III−1−a)
化合物(k−1)は、例えば化合物(l)と化合物(m)とを反応させることにより製造することができる。
該反応は通常溶媒中、塩基の存在下で行われる。
反応に用いられる溶媒としては、例えばN,N−ジメチルホルムアミド等の酸アミド、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン等のエーテル、ジメチルスルホキシド、スルホラン等の有機硫黄、クロロホルム、1,2−ジクロロエタン、クロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素、水及びそれらの混合物が挙げられる。
該反応に用いられる塩基としては、例えば水素化ナトリウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸カリウム等の無機塩基、ナトリウムメトキシド、カリウム tert−ブトキシド等のアルカリ金属アルコキシド、リチウムジイソプロピルアミド等のアルカリ金属アミド及びトリエチルアミン、1,4−ジアザビシクロ[2.2.2]オクタン、1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]−7−ウンデセン等の有機塩基が挙げられる。
反応に用いられる塩基の量は、化合物(l)1モルに対して通常1〜10モルの割合である。
反応に用いられる化合物(m)の量は、化合物(l)1モルに対し、通常1〜10モルの割合である。
該反応の反応温度は通常−20〜100℃の範囲であり、反応時間は通常1〜24時間の範囲である。
反応終了後は、反応混合物を水に注加し、有機溶媒抽出してから、濃縮する等の後処理操作を行うことにより化合物(k−1)を単離することができる。単離された化合物(k−1)は必要に応じてクロマトグラフィー、再結晶等によりさらに精製することもできる。
(工程III−1−b)
化合物(k−1)は、例えば化合物(n)と化合物(o)とを反応させることにより製造することもできる。
該反応は通常溶媒中、塩基の存在下で行われる。反応に用いられる溶媒としては、例えばN,N−ジメチルホルムアミド等の酸アミド、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン等のエーテル、ジメチルスルホキシド、スルホラン等の有機硫黄、クロロホルム、1,2−ジクロロエタン、クロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素、水及びそれらの混合物が挙げられる。
該反応に用いられる塩基としては、例えば水素化ナトリウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸カリウム等の無機塩基、ナトリウムメトキシド、カリウム tert−ブトキシド等のアルカリ金属アルコキシド、リチウムジイソプロピルアミド等のアルカリ金属アミド類及びトリエチルアミン、1,4−ジアザビシクロ[2.2.2]オクタン、1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]−7−ウンデセン等の有機塩基が挙げられる。反応に用いられる塩基の量は、化合物(o)1モルに対して通常1〜10モルの割合である。
反応に用いられる化合物(n)の量は、化合物(o)1モルに対し、通常1〜10モルの割合である。
該反応の反応温度は通常−20〜100℃の範囲であり、反応時間は通常1〜24時間の範囲である。
反応終了後は、反応混合物を水に注加し、有機溶媒抽出してから、濃縮する等の後処理操作を行うことにより化合物(k−1)を単離することができる。単離された化合物(k−1)は必要に応じてクロマトグラフィー、再結晶等によりさらに精製することもできる。
化合物(k−2)は、例えば化合物(k−1)を酸化することにより製造することができる。
該反応は、酸化剤の存在下、通常溶媒の存在下で行われる。
反応に用いられる溶媒としては、例えばメタノール、エタノール等のアルコール、ジクロロメタン、クロロホルム等のハロゲン化炭化水素、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素、酢酸、トリフルオロ酢酸等の脂肪族カルボン酸、水及びそれらの混合物が挙げられる。
該反応に用いられる酸化剤としては、例えば過酢酸、トリフルオロ過酢酸、m−クロロ過安息香酸等の有機過酸化物、塩素、臭素のハロゲン分子、N−クロロコハク酸イミド等の含ハロゲンイミド、過塩素酸(若しくはその塩)、過ヨウ素酸(若しくはその塩)等のハロゲン化物、過マンガン酸カリウム等の過マンガン酸塩、クロム酸カリウム等のクロム酸塩及び過酸化水素が挙げられる。反応に用いられる酸化剤の量は、化合物(k−1)1モルに対して通常1〜10モルの割合である。
該反応の反応温度は通常−50〜200℃の範囲であり、反応時間は通常1〜72時間の範囲である。
反応終了後は、反応混合物を水に注加し、有機溶媒抽出してから、濃縮する等の操作を行うことにより、化合物(k−2)を単離することができる。単離した化合物(k−2)は、必要に応じてクロマトグラフィー、再結晶等でさらに精製することもできる。
前記化合物(a)、(c)、(j)、(m)、(n)及び(p)は、公知物であるか、公知な製造法に準じて製造することができる。
イネドロオイムシ(Oulema oryzae),ウリハムシ(Aulacophora femoralis),キスジノミハムシ(Phyllotreta striolata),コロラドハムシ(Leptinotarsa decemlineata)等のハムシ類,ヒメマルカツオブシムシ(Anthrenus verbasci),ハラジロカツオブシムシ(Dermestes maculates)等のカツオブシムシ類,タバコシバンムシ(Lasioderma serricorne)等のシバンムシ類,ニジュウヤホシテントウ(Epilachna vigintioctopunctata)等のエピラクナ類,ヒラタキクイムシ(Lyctus brunneus),マツノキクイムシ(Tomicus piniperda)等のキクイムシ類,ナガシンクイムシ類,ヒョウホンムシ類,ゴマダラカミキリ(Anoplophora malasiaca)等のカミキリムシ類,コメツキムシ類(Agriotes spp. )アオバアリガタハネカクシ(Paederus fuscipes)等。
倍脚綱類:ヤケヤスデ(Oxidus gracilis),アカヤスデ(Nedyopus tambanus)等。
等脚目類:オカダンゴムシ(Armadillidium vulgare)等。
腹足綱類:チャコウラナメクジ(Limax marginatus),キイロコウラナメクジ(Limax flavus)等。
これらの製剤は、本発明化合物を通常0.1〜95重量%含有する。
毒餌の基材としては、例えば穀物粉、植物油、糖、結晶セルロース等が挙げられ、更に必要に応じて、ジブチルヒドロキシトルエン、ノルジヒドログアイアレチン酸等の酸化防止剤、デヒドロ酢酸等の保存料、トウガラシ末等の子供やペットによる誤食防止剤、チーズ香料、タマネギ香料ピーナッツオイル等の害虫誘引性香料等が添加される。
農作物;トウモロコシ、イネ、コムギ、オオムギ、ライムギ、エンバク、ソルガム、ワタ、ダイズ、ピーナッツ、ソバ、テンサイ、ナタネ、ヒマワリ、サトウキビ、タバコ等、
野菜;ナス科野菜(ナス、トマト、ピーマン、トウガラシ、ジャガイモ等)、ウリ科野菜(キュウリ、カボチャ、ズッキーニ、スイカ、メロン等)、アブラナ科野菜(ダイコン、カブ、セイヨウワサビ、コールラビ、ハクサイ、キャベツ、カラシナ、ブロッコリー、カリフラワー等)、キク科野菜(ゴボウ、シュンギク、アーティチョーク、レタス等)、ユリ科野菜(ネギ、タマネギ、ニンニク、アスパラガス)、セリ科野菜(ニンジン、パセリ、セロリ、アメリカボウフウ等)、アカザ科野菜(ホウレンソウ、フダンソウ等)、シソ科野菜(シソ、ミント、バジル等)、イチゴ、サツマイモ、ヤマノイモ、サトイモ等、
花卉、
観葉植物、
果樹;仁果類(リンゴ、セイヨウナシ、ニホンナシ、カリン、マルメロ等)、核果類(モモ、スモモ、ネクタリン、ウメ、オウトウ、アンズ、プルーン等)、カンキツ類(ウンシュウミカン、オレンジ、レモン、ライム、グレープフルーツ等)、堅果類(クリ、クルミ、ハシバミ、アーモンド、ピスタチオ、カシューナッツ、マカダミアナッツ等)、液果類(ブルーベリー、クランベリー、ブラックベリー、ラズベリー等)、ブドウ、カキ、オリーブ、ビワ、バナナ、コーヒー、ナツメヤシ、ココヤシ等、
果樹以外の樹;チャ、クワ、花木、街路樹(トネリコ、カバノキ、ハナミズキ、ユーカリ、イチョウ、ライラック、カエデ、カシ、ポプラ、ハナズオウ、フウ、プラタナス、ケヤキ、クロベ、モミノキ、ツガ、ネズ、マツ、トウヒ、イチイ)等。
古典的な育種法により耐性が付与された作物としては、例えば、イマゼタピル等のイミダゾリノン系除草剤耐性のクリアーフィールド(Clearfield)<登録商標>カノーラ、チフェンスルフロンメチル等のスルホニル尿素系ALS阻害型除草剤耐性のSTSダイズ等がある。同様に古典的な育種法によりトリオンオキシム系、アリールオキシフェノキシプロピオン酸系除草剤などのアセチルCoAカルボキシラーゼ阻害剤に耐性が付与された作物の例としてSRコーン等がある。アセチルCoAカルボキシラーゼ阻害剤に耐性が付与された作物はプロシーディングズ・オブ・ザ・ナショナル・アカデミー・オブ・サイエンシーズ・オブ・ザ・ユナイテッド・ステーツ・オブ・アメリカ(Proc.Natl.Acad.Sci.USA)87巻、7175〜7179頁(1990年)等に記載されている。またアセチルCoAカルボキシラーゼ阻害剤に耐性の変異アセチルCoAカルボキシラーゼがウィード・サイエンス(Weed Science)53巻、728〜746頁(2005年)等に報告されており、こうした変異アセチルCoAカルボキシラーゼ遺伝子を遺伝子組換え技術により作物に導入するかもしくは抵抗性付与に関わる変異を作物アセチルCoAカルボキシラーゼに導入する事により、アセチルCoAカルボキシラーゼ阻害剤に耐性の作物を作出することができる。さらに、キメラプラスティ技術(Gura T. 1999. Repairing the Genome’s Spelling Mistakes. Science 285: 316−318.)に代表される塩基置換変異導入核酸を作物細胞内に導入して作物(アセチルCoAカルボキシラーゼ/除草剤標的)遺伝子に部位特異的アミノ酸置換変異を引き起こすことにより、(アセチルCoAカルボキシラーゼ阻害剤/除草剤)に耐性の作物を作出することができる。
この様な遺伝子組換え植物で発現される殺虫性毒素としては、例えばバチルス・セレウス(Bacillus cereus)やバチルス・ポピリエ(Bacillus popilliae)由来の殺虫性タンパク;バチルス・チューリンゲンシス(Bacillus thuringiensis)由来のCry1Ab、Cry1Ac、Cry1F、Cry1Fa2、Cry2Ab、Cry3A、Cry3Bb1またはCry9C等のδ−エンドトキシン、VIP1、VIP2、VIP3またはVIP3A等の殺虫性タンパク;線虫由来の殺虫性タンパク;さそり毒素、クモ毒素、ハチ毒素または昆虫特異的神経毒素等の動物によって産生される毒素;糸条菌類毒素;植物レクチン;アグルチニン;トリプシン阻害剤、セリンプロテアーゼ阻害剤、パタチン、シスタチン、パパイン阻害剤等のプロテアーゼ阻害剤;リシン、トウモロコシ−RIP、アブリン、サポリン、ブリオジン等のリボゾーム不活性化タンパク(RIP);3−ヒドロキシステロイドオキシダーゼ、エクジステロイド−UDP−グルコシルトランスフェラーゼ、コレステロールオキシダーゼ等のステロイド代謝酵素;エクダイソン阻害剤;HMG−CoAリダクターゼ;ナトリウムチャネル阻害剤、カルシウムチャネル阻害剤等のイオンチャネル阻害剤;幼若ホルモンエステラーゼ;利尿ホルモン受容体;スチルベンシンターゼ;ビベンジルシンターゼ;キチナーゼ;グルカナーゼ等が挙げられる。
またこの様な遺伝子組換え作物で発現される毒素として、Cry1Ab、Cry1Ac、Cry1F、Cry1Fa2、Cry2Ab、Cry3A、Cry3Bb1またはCry9C等のδ−エンドトキシンタンパク、VIP1、VIP2、VIP3またはVIP3A等の殺虫性タンパクのハイブリッド毒素、一部を欠損した毒素、修飾された毒素も含まれる。ハイブリッド毒素は組換え技術を用いて、これらタンパクの異なるドメインの新しい組み合わせによって作り出される。一部を欠損した毒素としては、アミノ酸配列の一部を欠損したCry1Abが知られている。修飾された毒素としては、天然型の毒素のアミノ酸の1つまたは複数が置換されている。
これら毒素の例およびこれら毒素を合成する事ができる組換え植物は、例えばEP−A−0374753、WO93/07278、WO95/34656、EP−A−0427529、EP−A−451878、WO03/052073等に記載されている。
これらの組換え植物に含まれる毒素は、特に、甲虫目害虫、双翅目害虫、鱗翅目害虫への耐性を植物へ付与する。
抗病原性物質としては、例えばPRタンパク(PRPs、EP−A−0392225に記載されている);ナトリウムチャネル阻害剤、カルシウムチャネル阻害剤(ウイルスが産生するKP1、KP4、KP6毒素等が知られている)等のイオンチャネル阻害剤;スチルベンシンターゼ;ビベンジルシンターゼ;キチナーゼ;グルカナーゼ;ペプチド抗生物質、ヘテロ環を有する抗生物質、植物病害抵抗性に関与するタンパク因子(植物病害抵抗性遺伝子と呼ばれ、WO03/000906に記載されている)等の微生物が産生する物質等が挙げられる。このような抗病原性物質とそれを産生する遺伝子組換え植物は、EP−A−0392225、WO95/33818、EP−A−0353191等に記載されている。
(1)有機リン系化合物
アセフェート(acephate)、りん化アルミニウム(Aluminium phosphide)、ブタチオホス(butathiofos)、キャドサホス(cadusafos)、クロルエトキシホス(chlorethoxyfos)、クロルフェンビンホス(ch1orfenvinphos)、クロルピリホス(chlorpyrifos)、クロルピリホスメチル(chlorpyrifos−methyl)、シアノホス(cyanophos:CYAP)、ダイアジノン(diazinon)、DCIP(dichlorodiisopropyl ether)、ジクロフェンチオン(dichlofenthion:ECP)、ジクロルボス(dichlorvos:DDVP)、ジメトエート(dimethoate)、ジメチルビンホス(dimethylvinphos)、ジスルホトン(disulfoton)、EPN、エチオン(ethion)、エトプロホス(ethoprophos)、エトリムホス(etrimfos)、フェンチオン(fenthion:MPP)、フエニトロチオン(fenitrothion:MEP)、ホスチアゼート(fosthiazate)、ホルモチオン(formothion)、りん化水素(Hydrogen phosphide)、イソフェンホス(isofenphos)、イソキサチオン(isoxathion)、マラチオン(malathion)、メスルフェンホス(mesulfenfos)、メチダチオン(methidathion:DMTP)、モノクロトホス(monocrotophos)、ナレッド(naled:BRP)、オキシデプロホス(oxydeprofos:ESP)、パラチオン(parathion)、ホサロン(phosalone)、ホスメット(phosmet:PMP)、ピリミホスメチル(pirimiphos−methy1)、ピリダフェンチオン(pyridafenthion)、キナルホス(quinalphos)、フェントエート(phenthoate:PAP)、プロフェノホス(profenofos)、プロパホス(propaphos)、プロチオホス(prothiofos)、ピラクロホス(pyraclorfos)、サリチオン(salithion)、スルプロホス(sulprofos)、テブピリムホス(tebupirimfos)、テメホス(temephos)、テトラクロルビンホス(tetrach1orvinphos)、テルブホス(terbufos)、チオメトン(thiometon)、トリクロルホン(trichlorphon:DEP)、バミドチオン(vamidothion)、フォレート(phorate)、カズサホス(cadusafos)等;
(2)カーバメート系化合物
アラニカルブ(alanycarb)、ベンダイオカルブ(bendiocarb)、ベンフラカルブ(benfuracarb)、BPMC、カルバリル(carbary1)、カルボフラン(carbofuran)、カルボスルファン(carbosulfan)、クロエトカルブ(cloethocarb)、エチオフェンカルブ(ethiofencarb)、フェノブカルブ(fenobucarb)、フェノチオカルブ(fenothiocarb)、フェノキシカルブ(fenoxycarb)、フラチオカルブ(furathiocarb)、イソプロカルブ(isoprocarb:MIPC)、メトルカルブ(metolcarb)、 メソミル(methomyl)、メチオカルブ(methiocarb)、NAC、オキサミル(oxamyl)、ピリミカーブ(pirimicarb)、プロポキスル(propoxur:PHC)、XMC、チオジカルブ(thiodicarb)、 キシリルカルブ(xylylcarb)、アルジカルブ(aldicarb)等;
(3)合成ピレスロイド系化合物
アクリナトリン(acrinathrin)、アレスリン(allethrin)、ベータ−シフルトリン(beta−cyfluthrin)、ビフェントリン(bifenthrin)、シクロプロトリン(cycloprothrin)、シフルトリン(cyfluthrin)、シハロトリン(cyhalothrin)、シペルメトリン(cypermethrin)、エンペントリン(empenthrin)、デルタメトリン(deltamethrin)、エスフェンバレレート(esfenvalerate)、エトフェンプロックス(ethofenprox) 、フェンプロパトリン(fenpropathrin)、フェンバレレート(fenvalerate)、フルシトリネート(flucythrinate)、フルフェンプロックス(flufenoprox)、フルメトリン(flumethrin)、フルバリネート(fluvalinate)、ハルフェンプロックス(halfenprox)、イミプロトリン(imiprothrin)、ペルメトリン(permethrin)、プラレトリン(prallethrin)、ピレトリン(pyrethrins)、レスメトリン(resmethrin)、シグマ−サイパーメトリン(sigma−cypermethrin)、シラフルオフェン(silafluofen)、テフルトリン(tefluthrin)、トラロメトリン(tralomethrin)、トランスフルトリン(transfluthrin)、テトラメトリン(tetramethrin)、フェノトリン(phenothrin)、シフェノトリン(cyphenothrin)、アルファシペルメトリン(alpha−cypermethrin)、ゼータシペルメトリン(zeta−cypermethrin)、ラムダシハロトリン(lambda−cyhalothrin)、ガンマシハロトリン(gamma−cyhalothrin)、フラメトリン(furamethrin)、タウフルバリネート(tau−fluvalinate)、メトフルトリン(metofluthrin)、2,3,5,6−テトラフルオロ−4−メチルベンジル 2,2−ジメチル−3−(1−プロペニル)シクロプロパンカルボキシレート、2,3,5,6−テトラフルオロ−4−(メトキシメチル)ベンジル 2,2−ジメチル−3−(2−メチル−1−プロペニル)シクロプロパンカルボキシレート、2,3,5,6−テトラフルオロ−4−(メトキシメチル)ベンジル 2,2−ジメチル−3−(2−シアノ−1−プロペニル)シクロプロパンカルボキシレート、2,3,5,6−テトラフルオロ−4−(メトキシメチル)ベンジル 2,2,3,3−テトラメチルシクロプロパンカルボキシレート等;
(4)ネライストキシン系化合物
カルタップ(cartap)、ベンスルタップ(bensu1tap)、チオシクラム(thiocyclam)、モノスルタップ(monosultap)、ビスルタップ(bisultap)等;
(5)ネオニコチノイド系化合物
イミダクロプリド(imidac1oprid)、ニテンピラム(nitenpyram)、アセタミプリド(acetamiprid)、チアメトキサム(thiamethoxam)、チアクロプリド(thiacloprid)、ジノテフラン(dinotefuran)、クロチアニジン(clothianidin)等;
(6)ベンゾイル尿素系化合物
クロルフルアズロン(chlorfluazuron)、ビストリフルロン(bistrifluron)、ジアフェンチウロン(diafenthiuron)、ジフルベンズロン(diflubenzuron)、フルアズロン(fluazuron)、フルシクロクスロン(flucycloxuron)、フルフェノクスロン(flufenoxuron)、ヘキサフルムロン(hexaflumuron)、ルフェヌロン(lufenuron)、ノバルロン(novaluron)、ノビフルムロン(noviflumuron)、テフルベンズロン(teflubenzuron)、トリフルムロン(triflumuron)、トリアズロン(triazuron)等;
(7)フェニルピラゾール系化合物
アセトプロール(acetoprole)、エチプロール(ethiprole)、フィプロニル(fiproni1)、バニリプロール(vaniliprole)、ピリプロール(pyriprole)、ピラフルプロール(pyrafluprole)等;
(8)Btトキシン系殺虫剤
バチルス・チューリンゲンシス菌由来の生芽胞および産生結晶毒素、並びにそれらの混合物;
(9)ヒドラジン系化合物
クロマフェノジド(chromafenozide)、ハロフェノジド(halofenozide)、メトキシフェノジド(methoxyfenozide)、テブフェノジド(tebufenozide)等;
(10)有機塩素系化合物
アルドリン(aldrin)、ディルドリン(dieldrin)、ジエノクロル(dienochlor)、エンドスルファン(endosulfan)、メトキシクロル(methoxychlor)等;
(11)天然系殺虫剤
マシン油(machine oil)、硫酸ニコチン(nicotine−sulfate);
(12)その他の殺虫剤
アベルメクチン(avermectin−B)、ブロモプロピレート(bromopropylate)、ブプロフェジン(buprofezin)、クロルフェナピル(chlorphenapyr)、シロマジン(cyromazine)、D−D(1,3−Dichloropropene)、エマメクチンベンゾエート(emamectin−benzoate)、フェナザキン(fenazaquin)、フルピラゾホス(flupyrazofos)、ハイドロプレン(hydroprene)、メトプレン(methoprene)、インドキサカルブ(indoxacarb)、メトキサジアゾン(metoxadiazone)、ミルベマイシンA(milbemycin−A)、ピメトロジン(pymetrozine)、ピリダリル(pyridalyl)、ピリプロキシフェン(pyriproxyfen)、スピノサッド(spinosad)、スルフラミド(sulfluramid)、トルフェンピラド(tolfenpyrad)、トリアゼメイト(triazamate)、フルベンジアミド(flubendiamide)、レピメクチン(lepimectin)、亜ひ酸(Arsenic acid)、ベンクロチアズ(benclothiaz)、石灰窒素(Calcium cyanamide)、石灰硫黄合剤(Calcium polysulfide)、クロルデン(chlordane)、DDT、DSP、フルフェネリウム(flufenerim)、フロニカミド(flonicamid)、フルリムフェン(flurimfen)、ホルメタネート(formetanate)、メタム・アンモニウム(metam−ammonium)、メタム・ナトリウム(metam−sodium)、臭化メチル(Methyl bromide)、オレイン酸カリウム(Potassium oleate)、プロトリフェンビュート(protrifenbute)、スピロメシフェン(spiromesifen)、硫黄(Sulfur)、メタフルミゾン(metaflumizone)、スピロテトラマット(spirotetramat)、ピリフルキナゾン(pyrifluquinazone)、スピネトラム(spinetoram)、クロラントラニリプロール(chlorantraniliprole)、トラロピリル(tralopyril)、下記式(A)
「式中、Xa1はメチル基、塩素原子、臭素原子またはフッ素原子を表し、Xa2はフッ素原子、塩素原子、臭素原子、C1−C4ハロアルキル基またはC1−C4ハロアルコキシ基を表し、Xa3はフッ素原子、塩素原子または臭素原子を表し、Xa4は置換されていてもよいC1−C4アルキル、置換されていてもよいC3−C4アルケニル、置換されていてもよいC3−C4アルキニル、置換されていてもよいC3−C5シクロアルキルアルキルまたは水素原子を表し、Xa5は水素原子またはメチル基を表し、Xa6は水素原子、フッ素原子または塩素原子を表し、Xa7は水素原子、フッ素原子または塩素原子を表す。」
で示されるいずれかの化合物、
下記式(B)
「式中、Xb1はXb2−NH−C(=O)基、Xb2−C(=O)−NH−CH2基、Xb3−S(O)基、置換されていてもよいピロール−1−イル基、置換されていてもよいイミダゾール−1−イル基、置換されていてもよいピラゾール−1−イル基または置換されていてもよい1,2,4−トリアゾール−1−イル基を表し、Xb2は2,2,2−トリフルオロエチル基等の置換されていてもよいC1−C4ハロアルキル基またはシクロプロピル基等の置換されていてもよいC3−C6シクロアルキル基を表し、Xb3はメチル等の置換されていてもよいC1−C4アルキル基を表し、Xb4は水素原子、塩素原子、シアノ基またはメチル基を表す。」」
で示されるいずれかの化合物、下記式(C)
「式中、Xc1は3,3,3−トリフルオロプロピル基等の置換されていてもよいC1−C4アルキル基、2,2,2−トリクロロエトキシ基等の置換されていてもよいC1−C4アルコキシ基、4−シアノフェニル基等の置換されていてもよいフェニル基または2−クロロ−3−ピリジル基等の置換されていてもよいピリジル基を表し、Xc2はメチル基またはトリフルオロメチルチオ基を表し、Xc3はメチル基またはハロゲン原子を表す。」
で示されるいずれかの化合物等が挙げられ、
アセキノシル(acequinocyl)、アミトラズ(amitraz)、ベンゾキシメート(benzoximate)、ビフェナゼート(bifenaate)、フェニソブロモレート(bromopropylate)、キノメチオネート(chinomethionat)、クロルベンジレート(chlorobenzilate)、CPCBS(chlorfenson)、クロフェンテジン(clofentezine)、シフルメトフェン(cyflumetofen)、ケルセン(ジコホル:dicofol)、エトキサゾール(etoxazole)、酸化フェンブタスズ(fenbutatin oxide)、フェノチオカルブ(fenothiocarb)、フェンピロキシメート(fenpyroximate)、フルアクリピリム(fluacrypyrim)、フルプロキシフェン(fluproxyfen)、ヘキシチアゾクス(hexythiazox)、プロパルギット(propargite:BPPS)、ポリナクチン複合体(polynactins)、ピリダベン(pyridaben)、ピリミジフェン(Pyrimidifen)、テブフェンピラド(tebufenpyrad)、テトラジホン(tetradifon)、スピロディクロフェン(spirodiclofen)、スピロメシフェン(spiromesifen)、スピロテトラマット(spirotetramat)、アミドフルメット(amidoflumet)、シエノピラフェン(cyenopyrafen)等が挙げられ、
DCIP、フォスチアゼート(fosthiazate)、塩酸レバミゾール(levamisol)、メチルイソチオシアネート(methyisothiocyanate)、酒石酸モランテル(morantel tartarate)、イミシアホス(imicyafos)等が挙げられる。
p−トルエンスルホン酸4,4,4−トリフルオロ−3−メチルブチル2.0g及び(3,3,3−トリフルオロプロピルスルホニル)酢酸メチル1.6gをジメチルスルホキシド50mlに溶解させた。ここへ室温で水素化ナトリウム(60%油性)0.3gを加えた。反応混合物を60℃まで昇温し、同温で20時間撹拌した後、室温付近まで放冷した。反応混合物に10%塩酸を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、6,6,6−トリフルオロ−5−メチル−2−(3,3,3−トリフルオロプロピルスルホニル)ヘキサン酸メチル(以下、本発明化合物(1)と記す。)0.83gを得た。
本発明化合物(1)
1H−NMR(CDCl3,TMS):δ(ppm)3.88(s,3H)、3.75−3.85(m,1H)、3.28−3.49(m,2H)、1.33−2.78(m,7H)、1.15(d,3H)
本発明化合物(1)0.7gをテトラヒドロフラン30mlに溶解させた。ここへ室温で水素化ナトリウム(60%油性)0.1gを加え、同温で0.5時間撹拌した。該混合物中に室温でN−クロロコハク酸イミド0.3gを加え10時間撹拌した後、反応混合物に10%塩酸を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、2−クロロ−6,6,6−トリフルオロ−5−メチル−2−(3,3,3−トリフルオロプロピルスルホニル)ヘキサン酸メチル(以下、本発明化合物(2)と記す。) 0.70gを得た。
本発明化合物(2)
1H−NMR(CDCl3,TMS):δ(ppm)3.96(s,3H)、3.50−3.86(m,2H)、1.42−2.81(m,7H)、1.18(dd,3H)
本発明化合物(2)0.6gをメタノール30mlに溶解させた。ここへ室温でアンモニア(7M−メタノール溶液)0.6mlを加え、同温で3日間撹拌した。反応混合物を減圧下濃縮し、得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、2−クロロ−6,6,6−トリフルオロ−5−メチル−2−(3,3,3−トリフルオロプロピルスルホニル)ヘキサンアミド(以下、本発明化合物(3)と記す。) 0.45gを得た。
本発明化合物(3)
1H−NMR(CDCl3,TMS):δ(ppm)6.88(bs,1H)、5.99(bs,1H)、3.33−3.68(m,2H)、1.35−2.81(m,7H)、1.17(d,3H)
p−トルエンスルホン酸3−(トリフルオロメチル)ペンチル2.7g及び(3,3,3−トリフルオロプロピルスルホニル)酢酸メチル2.0gをジメチルスルホキシド30mlに溶解させた。ここへ室温で炭酸カリウム1.2gを加えた。反応混合物を60℃まで昇温し、同温で4日間撹拌した後、室温付近まで放冷した。反応混合物に10%塩酸を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、5−(トリフルオロメチル)−2−(3,3,3−トリフルオロプロピルスルホニル)ヘプタン酸メチル(以下、本発明化合物(4)と記す。)1.20gを得た。
本発明化合物(4)
1H−NMR(CDCl3,TMS):δ(ppm)3.89(s,3H)、3.78−3.84(m,1H)、3.28−3.50(m,2H)、1.43−2.78(m,9H)、1.00(dt,3H)
本発明化合物(4)1.1gをテトラヒドロフラン30mlに溶解させた。ここへ室温で水素化ナトリウム(60%油性)0.1gを加え、同温で0.5時間撹拌した。該混合物中に室温でN−クロロコハク酸イミド0.4gを加え1時間撹拌した後、反応混合物に10%塩酸を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、2−クロロ−5−(トリフルオロメチル)−2−(3,3,3−トリフルオロプロピルスルホニル)ヘプタン酸メチル(以下、本発明化合物(5)と記す。) 0.40gを得た。
本発明化合物(5)
1H−NMR(CDCl3,TMS):δ(ppm)3.96(s,3H)、3.50−3.85(m,2H)、1.43−2.80(m,9H)、1.01(t,3H)
本発明化合物(5)0.9gをメタノール20mlに溶解させた。ここへ室温でアンモニア(7M−メタノール溶液)0.9mlを加え、同温で16時間撹拌した。反応混合物を減圧下濃縮し、得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、2−クロロ−5−(トリフルオロメチル)−2−(3,3,3−トリフルオロプロピルスルホニル)ヘプタンアミド(以下、本発明化合物(6)と記す。) 0.65gを得た。
本発明化合物(6)
1H−NMR(CDCl3,TMS):δ(ppm)6.88(bs,1H)、6.03(bs,1H)、3.31−3.78(m,2H)、1.42−2.80(m,9H)、1.01(t,3H)
p−トルエンスルホン酸4,4−ジメチル−3−(トリフルオロメチル)ペンチル2.9g及び(3,3,3−トリフルオロプロピルスルホニル)酢酸メチル2.0gをジメチルスルホキシド30mlに溶解させた。ここへ室温で炭酸カリウム1.2gを加えた。反応混合物を90℃まで昇温し、同温で6時間撹拌した後、室温付近まで放冷した。反応混合物に10%塩酸を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、6,6−ジメチル−5−(トリフルオロメチル)−2−(3,3,3−トリフルオロプロピルスルホニル)ヘプタン酸メチル(以下、本発明化合物(7)と記す。)2.00gを得た。
本発明化合物(7)
1H−NMR(CDCl3,TMS):δ(ppm)3.89(s,3H)、3.78−3.89(m,1H)、3.24−3.50(m,2H)、1.49−2.78(m,7H)、1.03(s,9H)
本発明化合物(7)1.9gをテトラヒドロフラン30mlに溶解させた。ここへ室温で水素化ナトリウム(60%油性)0.2gを加え、同温で0.5時間撹拌した。該混合物中に室温でN−クロロコハク酸イミド0.6gを加え1時間撹拌した後、反応混合物に10%塩酸を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、2−クロロ−6,6−ジメチル−5−(トリフルオロメチル)−2−(3,3,3−トリフルオロプロピルスルホニル)ヘプタン酸メチル(以下、本発明化合物(8)と記す。) 0.40gを得た。
本発明化合物(8)
1H−NMR(CDCl3,TMS):δ(ppm)3.95(s,3H)、3.49−3.83(m,2H)、1.60−2.90(m,7H)、1.05(s,9H)
本発明化合物(8)1.0gをメタノール50mlに溶解させた。ここへ室温でアンモニア(7M−メタノール溶液)1.0mlを加え、同温で18時間撹拌した。反応混合物を減圧下濃縮し、得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、2−クロロ−6,6−ジメチル−5−(トリフルオロメチル)−2−(3,3,3−トリフルオロプロピルスルホニル)ヘプタンアミド(以下、本発明化合物(9)と記す。) 0.53gを得た。
本発明化合物(9)
1H−NMR(CDCl3,TMS):δ(ppm)6.88(bs,1H)、5.86(bs,1H)、3.33−3.78(m,2H)、1.50−2.89(m,7H)、1.05(s,9H)
p−トルエンスルホン酸4,4,4−トリフルオロ−3−メチルブチル1.0g及び(3,3,3−トリフルオロプロピルスルホニル)アセトニトリル0.7gをジメチルスルホキシド50mlに溶解させた。ここへ室温で炭酸カリウム0.5gを加えた後、同温で16時間撹拌した。反応混合物に10%塩酸を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、6,6,6−トリフルオロ−5−メチル−2−(3,3,3−トリフルオロプロピルスルホニル)ヘキサンニトリル(以下、本発明化合物(10)と記す。)0.50gを得た。
本発明化合物(10)
1H−NMR(CDCl3,TMS):δ(ppm)3.88−3.95(m,1H)、3.35−3.60(m,2H)、1.50−2.96(m,7H)、1.20(d,3H)
本発明化合物(4)1.0gをテトラヒドロフラン30mlに溶解させた。ここへ室温で水素化ナトリウム(60%油性)0.1gを加え、同温で0.5時間撹拌した。該混合物中に室温で1−フルオロ−2,4,6−トリメチルピリジニウム トリフルオロメタンスルホナート0.8gを加え1時間撹拌した後、反応混合物に10%塩酸を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、2―フロオロ―5−(トリフルオロメチル)−2−(3,3,3−トリフルオロプロピルスルホニル)ヘプタン酸メチル(以下、本発明化合物(11)と記す。) 0.77gを得た。
本発明化合物(11)
1H−NMR(CDCl3,TMS):δ(ppm)3.99(s,3H)、3.24−3.52(m,2H)、2.58−2.80(m,2H)、1.42−2.14(m,7H)、1.00(t,3H)
本発明化合物(11)0.6gをメタノール30mlに溶解させた。ここへ室温でアンモニア(7M−メタノール溶液)0.6mlを加え、同温で3日間撹拌した。反応混合物を減圧下濃縮し、得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、2―フロオロ―5−(トリフルオロメチル)−2−(3,3,3−トリフルオロプロピルスルホニル)ヘプタンアミド(以下、本発明化合物(12)と記す。) 0.32gを得た。
本発明化合物(12)
1H−NMR(CDCl3,TMS):δ(ppm)6.58(bs,1H)、6.16(bs,1H)、3.26−3.53(m,2H)、1.43−2.80(m,9H)、1.00(d,3H)
本発明化合物(4)1.1g及びヨードメタン0.4gをN,N−ジメチルホルムアミド30mlに溶解し、ここへ室温で水素化ナトリウム(60%油性)0.1gを加え、同温で1時間攪拌した後、反応混合物に10%塩酸を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を10%塩酸及び飽和食塩水で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。得られた残渣をメタノール20mlに溶解し、室温で水酸化カリウム水溶液(水酸化カリウム0.5g及び水5mlの混合溶液の全量)を加え、同温で6時間撹拌した。反応混合物に10%塩酸を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。残渣をジクロロメタン20mlに溶解させた。ここへ室温でN,N−ジメチルホルムアミド2滴、続いて塩化オキサリル0.2mlを順次滴下し、同温で2時間撹拌した後、反応混合物を減圧下濃縮した。得られた残渣をテトラヒドロフラン20mlに溶解させ、ここへ室温でアンモニア(30%(w/w)水溶液)0.3gを滴下した。同温で10時間撹拌した後、反応混合物に飽和塩化アンモニウム水溶液を加え、酢酸エチルで抽出し、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、2−メチル−5−(トリフルオロメチル)−2−(3,3,3−トリフルオロプロピルスルホニル)ヘプタンアミド(以下、本発明化合物(13)と記す。) 0.30gを得た。
本発明化合物(13)
1H−NMR(CDCl3,TMS):δ(ppm)6.57(bs,1H)、5.69(bs,1H)、3.13−3.42(m,2H)、2.60−2.77(m,2H)、1.40−2.36(m,7H)、1.67(s,3H)、1.00(s,3H)
メタンスルホン酸3−(トリフルオロメチル)ペンチル3.0g及び(3,3,3−トリフルオロプロピルスルホニル)アセトニトリル2.6gをジメチルスルホキシド50mlに溶解させた。ここへ室温で炭酸カリウム1.8gを加え、60℃まで昇温した後、同温で3日間撹拌した。反応混合物を室温付近まで放冷し、10%塩酸を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、5−(トリフルオロメチル)−2−(3,3,3−トリフルオロプロピルスルホニル)ヘプタンニトリル(以下、本発明化合物(14)と記す。) 3.00gを得た。
本発明化合物(14)
1H−NMR(CDCl3,TMS):δ(ppm)3.91(dd,1H)、3.37−3.60(m,2H)、1.45−2.98(m,9H)、1.03(t,3H)
本発明化合物(14)0.9gをテトラヒドロフラン20mlに溶解させた。ここへ室温で水素化ナトリウム(60%油性)0.1gを加え、同温で0.5時間撹拌した。続いて同温で1−フルオロ−2,4,6−トリメチルピリジニウム トリフルオロメタンスルホナート0.8gを加え2時間撹拌した。反応混合物に10%塩酸を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、2−フルオロ−5−(トリフルオロメチル)−2−(3,3,3−トリフルオロプロピルスルホニル)ヘプタンニトリル(以下、本発明化合物(15)と記す。) 0.50gを得た。
本発明化合物(15)
1H−NMR(CDCl3,TMS):δ(ppm)3.50−3.65(m,2H)、1.46−2.90(m,9H)、1.04(t,3H)
本発明化合物(14)0.9gをテトラヒドロフラン20mlに溶解させた。ここへ室温で水素化ナトリウム(60%油性)0.1gを加え、同温で0.5時間撹拌した。続いて同温でN−クロロコハク酸イミド0.3gを加え2時間撹拌した。反応混合物に10%塩酸を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、2−クロロ−5−(トリフルオロメチル)−2−(3,3,3−トリフルオロプロピルスルホニル)ヘプタンニトリル(以下、本発明化合物(16)と記す。) 0.52gを得た。
本発明化合物(16)
1H−NMR(CDCl3,TMS):δ(ppm)3.63−3.82(m,2H)、1.45−2.90(m,9H)、1.04(t,3H)
本発明化合物(14)0.9g及びヨードメタン0.4gをN,N−ジメチルホルムアミド20mlに溶解させた。ここへ室温で水素化ナトリウム(60%油性)0.1gを加え、同温で20時間撹拌した後、反応混合物に10%塩酸を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、2−メチル−5−(トリフルオロメチル)−2−(3,3,3−トリフルオロプロピルスルホニル)ヘプタンニトリル(以下、本発明化合物(17)と記す。) 0.64gを得た。
本発明化合物(17)
1H−NMR(CDCl3,TMS):δ(ppm)3.35−3.53(m,2H)、1.42−2.98(m,9H)、1.80(s,3H)、1.03(t,3H)
メタンスルホン酸4−メチル−3−(トリフルオロメチル)ぺンチル5.0g及び(3,3,3−トリフルオロプロピルスルホニル)酢酸メチル4.7gをジメチルスルホキシド100mlに溶解させた。ここへ室温で炭酸カリウム2.8gを加えた。反応混合物を60℃まで昇温し、同温で3日間撹拌した後、室温付近まで放冷した。反応混合物に10%塩酸を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、6−メチル−5−(トリフルオロメチル)−2−(3,3,3−トリフルオロプロピルスルホニル)ヘプタン酸メチル(以下、本発明化合物(18)と記す。)4.10gを得た。
本発明化合物(18)
1H−NMR(CDCl3,TMS):δ(ppm)3.89(s,3H)、3.78−3.85(m,1H)、3.25−3.50(m,2H)、1.48−2.98(m,8H)、0.89−1.02(m,6H)
本発明化合物(18)4.0gをテトラヒドロフラン100mlに溶解させた。ここへ室温で水素化ナトリウム(60%油性)0.4gを加え、同温で0.5時間撹拌した。該混合物中に室温でN−クロロコハク酸イミド1.4gを加え1時間撹拌した後、反応混合物に10%塩酸を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、2−クロロ−6−メチル−5−(トリフルオロメチル)−2−(3,3,3−トリフルオロプロピルスルホニル)ヘプタン酸メチル(以下、本発明化合物(19)と記す。) 2.83gを得た。
本発明化合物(19)
1H−NMR(CDCl3,TMS):δ(ppm)3.95(s,3H)、3.49−3.84(m,2H)、1.58−2.84(m,8H)、0.93−1.06(m,6H)
本発明化合物(19)1.0gをメタノール50mlに溶解させた。ここへ室温でアンモニア(7M−メタノール溶液)1.0mlを加え、同温で16時間撹拌した。反応混合物を減圧下濃縮し、得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、2−クロロ−6−メチル−5−(トリフルオロメチル)−2−(3,3,3−トリフルオロプロピルスルホニル)ヘプタンアミド(以下、本発明化合物(20)と記す。) 0.75gを得た。
本発明化合物(20)
1H−NMR(CDCl3,TMS):δ(ppm)6.87(bs,1H)、5.94(bs,1H)、3.35−3.76(m,2H)、1.48−2.82(m,8H)、0.94−1.05(m,6H)
メタンスルホン酸3−(トリフルオロメチル)−ヘキシル3.0g及び(3,3,3−トリフルオロプロピルスルホニル)酢酸メチル2.8gをジメチルスルホキシド50mlに溶解させた。ここへ室温で炭酸カリウム1.7gを加えた。反応混合物を60℃まで昇温し、同温で2日間撹拌した後、室温付近まで放冷した。反応混合物に10%塩酸を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、5−(トリフルオロメチル)−2−(3,3,3−トリフルオロプロピルスルホニル)オクタン酸メチル(以下、本発明化合物(21)と記す。)1.90gを得た。
本発明化合物(21)
1H−NMR(CDCl3,TMS):δ(ppm)3.89(s,3H)、3.78−3.85(m,1H)、3.25−3.50(m,2H)、1.30−2.78(m,11H)、0.94(t,3H)
本発明化合物(21)1.7gをテトラヒドロフラン50mlに溶解させた。ここへ室温で水素化ナトリウム(60%油性)0.2gを加え、同温で0.5時間撹拌した。該混合物中に室温でN−クロロコハク酸イミド0.6gを加え2時間撹拌した後、反応混合物に10%塩酸を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、2−クロロ−5−(トリフルオロメチル)−2−(3,3,3−トリフルオロプロピルスルホニル)オクタン酸メチル(以下、本発明化合物(22)と記す。) 1.20gを得た。
本発明化合物(22)
1H−NMR(CDCl3,TMS):δ(ppm)3.95(s,3H)、3.50−3.80(m,2H)、1.30−2.80(m,11H)、0.95(t,3H)
本発明化合物(22)1.0gをメタノール30mlに溶解させた。ここへ室温でアンモニア(7M−メタノール溶液)1.0mlを加え、同温で4日間撹拌した。反応混合物を減圧下濃縮し、得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、2−クロロ−5−(トリフルオロメチル)−2−(3,3,3−トリフルオロプロピルスルホニル)オクタンアミド(以下、本発明化合物(23)と記す。) 0.60gを得た。
本発明化合物(23)
1H−NMR(CDCl3,TMS):δ(ppm)6.87(bs,1H)、5.95(bs,1H)、3.34−3.78(m,2H)、1.32−2.80(m,11H)、0.95(t,3H)
p−トルエンスルホン酸4,4,4−トリフルオロ−3−メトキシ−ブチル1.0g及び(3,3,3−トリフルオロプロピルスルホニル)酢酸メチル0.8gをジメチルスルホキシド50mlに溶解させた。ここへ室温で炭酸カリウム0.4gを加え、室温で4日間撹拌した。さらに60℃まで昇温し、同温で20時間撹拌した後、室温付近まで放冷した。反応混合物に10%塩酸を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、6,6,6−トリフルオロ−5−メトキシ−2−(3,3,3−トリフルオロプロピルスルホニル)ヘキサン酸メチル(以下、本発明化合物(24)と記す。)0.62gを得た。
本発明化合物(24)
1H−NMR(CDCl3,TMS):δ(ppm)3.89(s,1.5H)、3.88(s,1.5H)、3.84−3.95(m,1H)、3.30−3.63(m,6H)、1.63−2.82(m,6H)
本発明化合物(24)0.8gをテトラヒドロフラン30mlに溶解させた。ここへ室温で水素化ナトリウム(60%油性)0.1gを加え、同温で0.5時間撹拌した。該混合物中に室温でN−クロロコハク酸イミド0.3gを加え1時間撹拌した後、反応混合物に10%塩酸を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、2−クロロ−6,6,6−トリフルオロ−5−メトキシ−2−(3,3,3−トリフルオロプロピルスルホニル)ヘキサン酸メチル(以下、本発明化合物(25)と記す。) 0.50gを得た。
本発明化合物(25)
1H−NMR(CDCl3,TMS):δ(ppm)3.95(s,3H)、3.49−3.89(m,3H)、3.56(s,3H)、1.78−2.91(m,6H)
本発明化合物(25)0.4gをメタノール20mlに溶解させた。ここへ室温でアンモニア(7M−メタノール溶液)0.4mlを加え、同温で2日間撹拌した。反応混合物を減圧下濃縮し、得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、2−クロロ−6,6,6−トリフルオロ−5−メトキシ−2−(3,3,3−トリフルオロプロピルスルホニル)ヘキサンアミド(以下、本発明化合物(26)と記す。) 0.28gを得た。
本発明化合物(26)
1H−NMR(CDCl3,TMS):δ(ppm)6.88(bs,1H)、5.98(bs,1H)、3.37−3.80(m,3H)、3.58(s,3H)、1.66−2.86(m,6H)
メタンスルホン酸4,4,4−トリフルオロ−3−メチルチオ−ブチル5.0g及び(3,3,3−トリフルオロプロピルスルホニル)酢酸メチル4.6gをジメチルスルホキシド50mlに溶解させた。ここへ室温で水素化ナトリウム(60%油性)0.8gを加えた。反応混合物を60℃まで昇温し、同温で5日間撹拌した後、室温付近まで放冷した。反応混合物に10%塩酸を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、6,6,6−トリフルオロ−5−メチルチオ−2−(3,3,3−トリフルオロプロピルスルホニル)ヘキサン酸メチル(以下、本発明化合物(27)と記す。)2.00gを得た。
本発明化合物(27)
1H−NMR(CDCl3,TMS):δ(ppm)3.89(s,3H)、3.81−3.93(m,1H)、3.30−3.52(m,2H)、2.13−3.00(m,5H)、2.23(s,1.5H)、2.22(s,1.5H)、1.58−2.08(m,2H)
本発明化合物(27)1.0gをテトラヒドロフラン30mlに溶解させた。ここへ室温で水素化ナトリウム(60%油性)0.1gを加え、同温で0.5時間撹拌した。該混合物中に室温でN−クロロコハク酸イミド0.3gを加え2時間撹拌した後、反応混合物に10%塩酸を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、2−クロロ−6,6,6−トリフルオロ−5−メチルチオ−2−(3,3,3−トリフルオロプロピルスルホニル)ヘキサン酸メチル(以下、本発明化合物(28)と記す。) 0.80gを得た。
本発明化合物(28)
1H−NMR(CDCl3,TMS):δ(ppm)3.97(s,1.5H)、3.96(s,1.5H)、3.50−3.85(m,2H)、1.70−3.10(m,7H)、2.23(s,1.5H)、2.22(s,1.5H)
本発明化合物(28)0.7gをメタノール20mlに溶解させた。ここへ室温でアンモニア(7M−メタノール溶液)0.7mlを加え、同温で16時間撹拌した。反応混合物を減圧下濃縮し、得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、2−クロロ−6,6,6−トリフルオロ−5−メチルチオ−2−(3,3,3−トリフルオロプロピルスルホニル)ヘキサンアミド(以下、本発明化合物(29)と記す。) 0.42gを得た。
本発明化合物(29)
1H−NMR(CDCl3,TMS):δ(ppm)6.87(bs,1H)、5.87(bs,1H)、3.38−3.78(m,2H)、2.22(s,3H)、1.50−3.08(m,7H)
メタンスルホン酸4,4,4−トリフルオロ−3−メチルチオ−ブチル1.0g及び(3,3,3−トリフルオロプロピルスルホニル)アセトニトリル0.8gをジメチルスルホキシド30mlに溶解させた。ここへ室温で炭酸カリウム0.5gを加え、60℃まで昇温した後、同温で2日間撹拌した。反応混合物を室温付近まで放冷し、10%塩酸を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、6,6,6−トリフルオロ−5−メチルチオ−2−(3,3,3−トリフルオロプロピルスルホニル)ヘキサンニトリル(以下、本発明化合物(30)と記す。) 0.49gを得た。
本発明化合物(30)
1H−NMR(CDCl3,TMS):δ(ppm)3.99−4.13(m,1H)、3.40−3.64(m,2H)、1.66−3.64(m,10H)
メタンスルホン酸4,4,5,5,5−ペンタフルオロ−3−メチル−ペンチル2.0g及び(3,3,3−トリフルオロプロピルスルホニル)酢酸メチル1.7gをジメチルスルホキシド50mlに溶解させた。ここへ室温で炭酸カリウム1.0gを加え、60℃まで昇温し、同温で7日間撹拌した後、室温付近まで放冷した。反応混合物に10%塩酸を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、6,6,7,7,7−ペンタフルオロ−5−メチル−2−(3,3,3−トリフルオロプロピルスルホニル)ヘプタン酸メチル0.5gを得た。これをテトラヒドロフラン20mlに溶解させた。ここへ室温で水素化ナトリウム(60%油性)0.1gを加え、同温で0.5時間撹拌した。該混合物中に室温でN−クロロコハク酸イミド0.2gを加え2時間撹拌した後、反応混合物に10%塩酸を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。得られた残渣をメタノール20mlに溶解させ、ここへ室温でアンモニア(7M−メタノール溶液)0.5mlを加え、同温で30時間撹拌した。反応混合物を減圧下濃縮し、得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、2−クロロ−6,6,7,7,7−ペンタフルオロ−5−メチル−2−(3,3,3−トリフルオロプロピルスルホニル)ヘプタンアミド(以下、本発明化合物(31)と記す。) 0.22gを得た。
本発明化合物(31)
1H−NMR(CDCl3,TMS):δ(ppm)6.97(bs,1H)、6.51(bs,1H)、3.35−3.80(m,2H)、1.35−2.83(m,7H)、1.19(d,3H)
チオグリコール酸メチル10g及び1−ヨード−3,3,3−トリフルオロプロパン21gをN,N−ジメチルホルムアミド200mlに溶解し、氷冷下で炭酸カリウム13gを加えた後、室温で20時間攪拌した。反応混合物に10%塩酸を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を10%塩酸及び飽和食塩水で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮し、(3,3,3−トリフルオロプロピルチオ)酢酸メチルを含む粗生成物を得た。これを氷酢酸100mlに溶解し、氷冷下で過酢酸(32%(w/w)酢酸溶液)50mlを加えた後、60℃で16時間撹拌した。反応途中、スルホキシド体と推測される化合物の生成がTLC(薄層クロマトグラフィー)分析にて確認された。反応混合物を室温まで放冷し、水中にあけ、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液及び飽和食塩水で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、下式で示される(3,3,3−トリフルオロプロピルスルホニル)酢酸メチル
14.1gを得た。
1H−NMR(CDCl3,TMS):δ(ppm)4.05(s,2H)、3.84(s,3H)、3.49−3.57(m,2H)、2.66−2.79(m,2H)
チオグリコール酸メチルに代えてチオグリコール酸エチルを用いて、同様の操作により(3,3,3−トリフルオロプロピルスルホニル)酢酸エチルを得ることができる。
1−ブロモ−3,3,3−トリフルオロプロパン9.6g及びチオ安息香酸5gをN,N−ジメチルホルムアミド30mlに溶解し、氷冷下でここに水素化ナトリウム(60%油性)1.45gを加えた後、室温で12時間攪拌した。反応混合物に10%塩酸を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を10%塩酸及び飽和食塩水で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、下式で示されるS−(3,3,3−トリフルオロプロピル)=ベンゼンチオアート
6.90gを得た。
1H−NMR(CDCl3,TMS):δ(ppm)7.97(d,2H)、7.58−7.62(m,1H)、7.47(dd,2H)、3.24(t,2H)、2.44−2.56(m,2H)
S−(3,3,3−トリフルオロプロピル)=ベンゼンチオアート10gをテトラヒドロフラン50mlに溶解し、氷冷下でここにナトリウムメトキシド(28%(w/w)メタノール溶液)8.4mlを加えた。続いて同温でブロモアセトニトリル5.1g滴下し、室温で2時間攪拌した。反応混合物に10%塩酸を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を10%塩酸及び飽和食塩水で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。残渣を氷酢酸40mlに溶解し、氷冷下で過酢酸(32%(w/w)酢酸溶液)20mlを加えた後、60℃で10時間撹拌した。反応混合物を室温まで放冷し、水中にあけ、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液及び飽和食塩水で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、下式で示される(3,3,3−トリフルオロプロピルスルホニル)アセトニトリル
7.04gを得た。
1H−NMR(CDCl3,TMS):δ(ppm)4.06(s,2H)、3.48−3.55(m,2H)、2.72−2.84(m,2H)
(工程1)
ブロモエタン18.4g、マグネシウム4.3g及びジエチルエーテル150mlより調製したエチルマグネシウムブロミドのジエチルエーテル溶液中に、−78℃冷却下でトリフルオロ酢酸エチル20gを滴下した。同温で1時間撹拌した後、室温付近まで昇温し、反応混合物に10%塩酸を加え、ジエチルエーテルで抽出した。有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、ろ過することにより、1,1,1−トリフルオロ−2−ブタノンのジエチルエーテル溶液を得た。
(工程2)
水素化ナトリウム(60%油性)5.6gを500mlのテトラヒドロフランに懸濁させ、氷冷下でここにジエチルホスホノ酢酸エチル31.6g滴下した。同温で10分撹拌した後、ここに(工程1)の1,1,1−トリフルオロ−2−ブタノンのジエチルエーテル溶液を滴下した。同温で1時間撹拌した後、室温付近まで昇温し、反応混合物に10%塩酸を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮し、3−(トリフルオロメチル)−2−ペンテン酸エチルの粗生成物を得た。
(工程3)
(工程2)の3−(トリフルオロメチル)−2−ペンテン酸エチルの粗生成物をメタノール300mlに溶解した。ここへ、室温下10%パラジウム−炭素2gを加えた後、常圧にて水素吸収がなくなるまで水素を通じた。反応終了後、系内を窒素で置換した後、反応混合物を減圧下ろ過した。ろ液を減圧下濃縮し、3−(トリフルオロメチル)ペンタン酸メチル及び3−(トリフルオロメチル)ペンタン酸エチルの粗生成混合物を得た。
(工程4)
水素化リチウムアルミニウム5.3gをジエチルエーテル300mlに懸濁させ、氷冷下、ここに50mlのジエチルエーテルに溶解させた(工程3)の粗生成混合物を滴下した。同温で2時間撹拌した後、反応混合物に10%塩酸を加え、ジエチルエーテルで抽出した。有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、ろ過することにより、3−(トリフルオロメチル)−1−ペンタノールのジエチルエーテル溶液を得た。。
(工程5)
(工程4)の3−(トリフルオロメチル)−1−ペンタノールのジエチルエーテル溶液及び塩化p−トルエンスルホニル26.8gをテトラヒドロフラン300mlに溶解し、室温でトリエチルアミン20mlを滴下した。同温で4日間撹拌した後、反応混合物に10%塩酸を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を10%塩酸及び飽和食塩水で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、下式で示されるp−トルエンスルホン酸3−(トリフルオロメチル)ぺンチル
18.4gを得た。
1H−NMR(CDCl3,TMS):δ(ppm)7.79(d,2H)、7.36(d,2H)、4.02−4.18(m,2H)、2.46(s,3H)、1.35−2.18(m,5H)、0.94(t,3H)
エチルマグネシウムブロミドの代わりにt−ブチルリチウムを用い、参考製造例4に準じて下式で示されるp−トルエンスルホン酸4,4−ジメチル−3−(トリフルオロメチル)ぺンチル
を得た。
1H−NMR(CDCl3,TMS):δ(ppm)7.79(d,2H)、7.36(d,2H)、4.00−4.20(m,2H)、2.46(s,3H)、1.75−2.00(m,3H)、0.99(s,9H)
塩化p−トルエンスルホニルの代わりに塩化メタンスルホニルを用い、参考製造例4に準じて下式で示されるメタンスルホン酸3−(トリフルオロメチル)ぺンチル
を得た。
1H−NMR(CDCl3,TMS):δ(ppm)4.25−4.36(m,2H)、3.03(s,3H)、1.43−2.28(m,5H)、1.02(dt,3H)
エチルマグネシウムブロミドの代わりにイソプロピルマグネシウムブロミド、塩化p−トルエンスルホニルの代わりに塩化メタンスルホニルを用い、参考製造例4に準じて下式で示されるメタンスルホン酸4−メチル−3−(トリフルオロメチル)ぺンチル
を得た。
1H−NMR(CDCl3,TMS):δ(ppm)4.19−4.40(m,2H)、3.03(s,3H)、1.85−2.25(m,4H)、1.00(dd,6H)
エチルマグネシウムブロミドの代わりにプロピルマグネシウムブロミド、塩化p−トルエンスルホニルの代わりに塩化メタンスルホニルを用い、参考製造例4に準じて下式で示されるメタンスルホン酸3−(トリフルオロメチル)ヘキシル
を得た。
1H−NMR(CDCl3,TMS):δ(ppm)4.24−4.35(m,2H)、3.03(s,3H)、2.19−2.33(m,1H)、1.85−2.10(m,2H)、1.30−1.70(m,4H)、0.94(t,3H)
(工程1)
4,4,4−トリフルオロ−2−ブテン酸エチル3gをメタノール30mlに溶解し、室温下、ここにナトリウムメトキシド(28%メタノール溶液)5.3mlを滴下した。同温で24時間撹拌した後、反応混合物に10%塩酸を加え、ジエチルエーテルで抽出した。有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮し、4,4,4−トリフルオロ−3−メトキシブタン酸メチルおよび4,4,4−トリフルオロ−3−メトキシブタン酸エチルを含む粗生成物を得た。
(工程2)
水素化リチウムアルミニウム0.7gをジエチルエーテル30mlに懸濁させ、氷冷下、ここに5mlのジエチルエーテルに溶解させた(工程1)の粗生成混合物を滴下した。同温で1時間撹拌した後、反応混合物に10%塩酸を加え、ジエチルエーテルで抽出した。有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮し、4,4,4−トリフルオロ−3−メトキシ−1−ブタノールの粗生成物を得た。
(工程3)
(工程2)の粗生成物及び塩化p−トルエンスルホニル3.4gをテトラヒドロフラン30mlに溶解し、室温でトリエチルアミン2.5mlを滴下した。同温で5日間撹拌した後、反応混合物に10%塩酸を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を10%塩酸及び飽和食塩水で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、下式で示されるp−トルエンスルホン酸4,4,4−トリフルオロ−3−(メトキシ)ブチル
4.20gを得た。
1H−NMR(CDCl3,TMS):δ(ppm)7.81(dd,2H)、7.37(dd,2H)、4.05−4.28(m,2H)、3.58−3.72(m,1H)、3.47(s,3H)、2.46(s,3H)、1.73−2.10(m,2H)
(工程1)
4,4,4−トリフルオロ−2−ブテン酸エチル3gをメタノール30mlに溶解し、室温下、ここにナトリウムチオメトキシド(15%水溶液)8.3gを添加した。同温で2日間撹拌した後、反応混合物に10%塩酸を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮し、4,4,4−トリフルオロ−3−メチルチオブタン酸メチル、4,4,4−トリフルオロ−3−メチルチオブタン酸エチル及び4,4,4−トリフルオロ−3−メチルチオブタン酸を含む粗生成混合物を得た。
(工程2)
水素化リチウムアルミニウム0.7gをジエチルエーテル30mlに懸濁させ、氷冷下、ここに5mlのジエチルエーテルに溶解させた(工程1)の粗生成混合物を滴下した。同温で2時間撹拌した後、反応混合物に10%塩酸を加え、ジエチルエーテルで抽出した。有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮し、4,4,4−トリフルオロ−3−メチルチオ−1−ブタノールの粗生成物を得た。
(工程3)
(工程2)の粗生成物及び塩化p−トルエンスルホニル3.3gをテトラヒドロフラン30mlに溶解し、室温でトリエチルアミン2.4mlを滴下した。同温で3日間撹拌した後、反応混合物に10%塩酸を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を10%塩酸及び飽和食塩水で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、下式で示されるp−トルエンスルホン酸4,4,4−トリフルオロ−3−(メチルチオ)ブチル
4.10gを得た。
1H−NMR(CDCl3,TMS):δ(ppm)7.81(dd,2H)、7.37(dd,2H)、4.15−4.42(m,2H)、3.00−3.14(m,1H)、2.46(s,3H)、2.19−2.31(m,1H)、2.15(s,3H)、1.65−1.75(m,1H)
塩化p−トルエンスルホニルの代わりに塩化メタンスルホニルを用い、参考製造例10に準じてメタンスルホン酸4,4,4−トリフルオロ−3−(メチルチオ)ブチル
を得た。
1H−NMR(CDCl3,TMS):δ(ppm)4.35−4.61(m,2H)、3.11−3.24(m,1H)、3.06(s,3H)、2.31−2.45(m,1H)、2.25(s,3H)、1.78−1.90(m,1H)
トリフルオロ酢酸エチルの代わりにペンタフルオロプロピオン酸メチル、エチルマグネシウムブロミドの代わりにメチルマグネシウムブロミド、塩化p−トルエンスルホニルの代わりに塩化メタンスルホニルを用い、参考製造例4に準じて下式で示されるメタンスルホン酸4,4,5,5,5−ペンタフルオロ−3−メチルペンチル
を得た。
1H−NMR(CDCl3,TMS):δ(ppm)4.26−4.40(m,2H)、3.04(s,3H)、2.18−2.55(m,2H)、1.68−1.79(m,1H)、1.19(d,3H)
本発明化合物(1)〜(31)9部を、キシレン37.5部およびN,N−ジメチルホルムアミド37.5部に溶解し、これにポリオキシエチレンスチリルフェニルエーテル10部およびドデシルベンゼンスルホン酸カルシウム6部を加え、よく撹拌混合して乳剤を得る。
本発明化合物(1)5部および下記の[A群]より選ばれる1種の化合物4部を、キシレン37.5部およびN,N−ジメチルホルムアミド37.5部に溶解し、これにポリオキシエチレンスチリルフェニルエーテル10部およびドデシルベンゼンスルホン酸カルシウム6部を加え、よく撹拌混合して乳剤を得る。
アセフェート(acephate)、りん化アルミニウム(Aluminium phosphide)、ブタチオホス(butathiofos)、キャドサホス(cadusafos)、クロルエトキシホス(chlorethoxyfos)、クロルフェンビンホス(ch1orfenvinphos)、クロルピリホス(chlorpyrifos)、クロルピリホスメチル(chlorpyrifos−methyl)、シアノホス(cyanophos:CYAP)、ダイアジノン(diazinon)、DCIP(dichlorodiisopropyl ether)、ジクロフェンチオン(dichlofenthion:ECP)、ジクロルボス(dichlorvos:DDVP)、ジメトエート(dimethoate)、ジメチルビンホス(dimethylvinphos)、ジスルホトン(disulfoton)、EPN、エチオン(ethion)、エトプロホス(ethoprophos)、エトリムホス(etrimfos)、フェンチオン(fenthion:MPP)、フエニトロチオン(fenitrothion:MEP)、ホスチアゼート(fosthiazate)、ホルモチオン(formothion)、りん化水素(Hydrogen phosphide)、イソフェンホス(isofenphos)、イソキサチオン(isoxathion)、マラチオン(malathion)、メスルフェンホス(mesulfenfos)、メチダチオン(methidathion:DMTP)、モノクロトホス(monocrotophos)、ナレッド(naled:BRP)、オキシデプロホス(oxydeprofos:ESP)、パラチオン(parathion)、ホサロン(phosalone)、ホスメット(phosmet:PMP)、ピリミホスメチル(pirimiphos−methy1)、ピリダフェンチオン(pyridafenthion)、キナルホス(quinalphos)、フェントエート(phenthoate:PAP)、プロフェノホス(profenofos)、プロパホス(propaphos)、プロチオホス(prothiofos)、ピラクロホス(pyraclorfos)、サリチオン(salithion)、スルプロホス(sulprofos)、テブピリムホス(tebupirimfos)、テメホス(temephos)、テトラクロルビンホス(tetrach1orvinphos)、テルブホス(terbufos)、チオメトン(thiometon)、トリクロルホン(trichlorphon:DEP)、バミドチオン(vamidothion)、フォレート(phorate)、カズサホス(cadusafos)、
アラニカルブ(alanycarb)、ベンダイオカルブ(bendiocarb)、ベンフラカルブ(benfuracarb)、BPMC、カルバリル(carbary1)、カルボフラン(carbofuran)、カルボスルファン(carbosulfan)、クロエトカルブ(cloethocarb)、エチオフェンカルブ(ethiofencarb)、フェノブカルブ(fenobucarb)、フェノチオカルブ(fenothiocarb)、フェノキシカルブ(fenoxycarb)、フラチオカルブ(furathiocarb)、イソプロカルブ(isoprocarb:MIPC)、メトルカルブ(metolcarb)、 メソミル(methomyl)、メチオカルブ(methiocarb)、NAC、オキサミル(oxamyl)、ピリミカーブ(pirimicarb)、プロポキスル(propoxur:PHC)、XMC、チオジカルブ(thiodicarb)、 キシリルカルブ(xylylcarb)、アルジカルブ(aldicarb)、
アクリナトリン(acrinathrin)、アレスリン(allethrin)、ベータ−シフルトリン(beta−cyfluthrin)、ビフェントリン(bifenthrin)、シクロプロトリン(cycloprothrin)、シフルトリン(cyfluthrin)、シハロトリン(cyhalothrin)、シペルメトリン(cypermethrin)、エンペントリン(empenthrin)、デルタメトリン(deltamethrin)、エスフェンバレレート(esfenvalerate)、エトフェンプロックス(ethofenprox)、フェンプロパトリン(fenpropathrin)、フェンバレレート(fenvalerate)、フルシトリネート(flucythrinate)、フルフェンプロックス(flufenoprox)、フルメトリン(flumethrin)、フルバリネート(fluvalinate)、ハルフェンプロックス(halfenprox)、イミプロトリン(imiprothrin)、ペルメトリン(permethrin)、プラレトリン(prallethrin)、ピレトリン(pyrethrins)、レスメトリン(resmethrin)、シグマ−サイパーメトリン(sigma−cypermethrin)、シラフルオフェン(silafluofen)、テフルトリン(tefluthrin)、トラロメトリン(tralomethrin)、トランスフルトリン(transfluthrin)、テトラメトリン(tetramethrin)、フェノトリン(phenothrin)、シフェノトリン(cyphenothrin)、アルファシペルメトリン(alpha−cypermethrin)、ゼータシペルメトリン(zeta−cypermethrin)、ラムダシハロトリン(lambda−cyhalothrin)、ガンマシハロトリン(gamma−cyhalothrin)、フラメトリン(furamethrin)、タウフルバリネート(tau−fluvalinate)、メトフルトリン(metofluthrin)、2,3,5,6−テトラフルオロ−4−メチルベンジル 2,2−ジメチル−3−(1−プロペニル)シクロプロパンカルボキシレート、2,3,5,6−テトラフルオロ−4−(メトキシメチル)ベンジル 2,2−ジメチル−3−(2−メチル−1−プロペニル)シクロプロパンカルボキシレート、2,3,5,6−テトラフルオロ−4−(メトキシメチル)ベンジル 2,2−ジメチル−3−(2−シアノ−1−プロペニル)シクロプロパンカルボキシレート、2,3,5,6−テトラフルオロ−4−(メトキシメチル)ベンジル 2,2,3,3−テトラメチルシクロプロパンカルボキシレート、
カルタップ(cartap)、ベンスルタップ(bensu1tap)、チオシクラム(thiocyclam)、モノスルタップ(monosultap)、ビスルタップ(bisultap)、
イミダクロプリド(imidac1oprid)、ニテンピラム(nitenpyram)、アセタミプリド(acetamiprid)、チアメトキサム(thiamethoxam)、チアクロプリド(thiacloprid)、ジノテフラン(dinotefuran)、クロチアニジン(clothianidin)、
クロルフルアズロン(chlorfluazuron)、ビストリフルロン(bistrifluron)、ジアフェンチウロン(diafenthiuron)、ジフルベンズロン(diflubenzuron)、フルアズロン(fluazuron)、フルシクロクスロン(flucycloxuron)、フルフェノクスロン(flufenoxuron)、ヘキサフルムロン(hexaflumuron)、ルフェヌロン(lufenuron)、ノバルロン(novaluron)、ノビフルムロン(noviflumuron)、テフルベンズロン(teflubenzuron)、トリフルムロン(triflumuron)、トリアズロン(triazuron)、
アセトプロール(acetoprole)、エチプロール(ethiprole)、フィプロニル(fiproni1)、バニリプロール(vaniliprole)、ピリプロール(pyriprole)、ピラフルプロール(pyrafluprole)、
クロマフェノジド(chromafenozide)、ハロフェノジド(halofenozide)、メトキシフェノジド(methoxyfenozide)、テブフェノジド(tebufenozide)、
アルドリン(aldrin)、ディルドリン(dieldrin)、ジエノクロル(dienochlor)、エンドスルファン(endosulfan)、メトキシクロル(methoxychlor)、
硫酸ニコチン(nicotine−sulfate)、
アベルメクチン(avermectin−B)、ブロモプロピレート(bromopropylate)、ブプロフェジン(buprofezin)、クロルフェナピル(chlorphenapyr)、シロマジン(cyromazine)、D−D(1,3−Dichloropropene)、エマメクチンベンゾエート(emamectin−benzoate)、フェナザキン(fenazaquin)、フルピラゾホス(flupyrazofos)、ハイドロプレン(hydroprene)、メトプレン(methoprene)、インドキサカルブ(indoxacarb)、メトキサジアゾン(metoxadiazone)、ミルベマイシンA(milbemycin−A)、ピメトロジン(pymetrozine)、ピリダリル(pyridalyl)、ピリプロキシフェン(pyriproxyfen)、スピノサッド(spinosad)、スルフラミド(sulfluramid)、トルフェンピラド(tolfenpyrad)、トリアゼメイト(triazamate)、フルベンジアミド(flubendiamide)、レピメクチン(lepimectin)、亜ひ酸(Arsenic acid)、ベンクロチアズ(benclothiaz)、石灰窒素(Calcium cyanamide)、石灰硫黄合剤(Calcium polysulfide)、クロルデン(chlordane)、DDT、DSP、フルフェネリウム(flufenerim)、フロニカミド(flonicamid)、フルリムフェン(flurimfen)、ホルメタネート(formetanate)、メタム・アンモニウム(metam−ammonium)、メタム・ナトリウム(metam−sodium)、臭化メチル(Methyl bromide)、オレイン酸カリウム(Potassium oleate)、プロトリフェンビュート(protrifenbute)、スピロメシフェン(spiromesifen)、硫黄(Sulfur)、メタフルミゾン(metaflumizone)、スピロテトラマット(spirotetramat)、ピリフルキナゾン(pyrifluquinazone)、スピネトラム(spinetoram)、クロラントラニリプロール(chlorantraniliprole)、トラロピリル(tralopyril)、下記式(A)
「式中、Xa1はメチル基、塩素原子、臭素原子またはフッ素原子を表し、Xa2はフッ素原子、塩素原子、臭素原子、C1−C4ハロアルキル基またはC1−C4ハロアルコキシ基を表し、Xa3はフッ素原子、塩素原子または臭素原子を表し、Xa4は置換されていてもよいC1−C4アルキル、置換されていてもよいC3−C4アルケニル、置換されていてもよいC3−C4アルキニル、置換されていてもよいC3−C5シクロアルキルアルキルまたは水素原子を表し、Xa5は水素原子またはメチル基を表し、Xa6は水素原子、フッ素原子または塩素原子を表し、Xa7は水素原子、フッ素原子または塩素原子を表す。」
で示されるいずれかの化合物、下記式(B)
「式中、Xb1はXb2−NH−C(=O)基、Xb2−C(=O)−NH−CH2基、Xb3−S(O)基、置換されていてもよいピロール−1−イル基、置換されていてもよいイミダゾール−1−イル基、置換されていてもよいピラゾール−1−イル基または置換されていてもよい1,2,4−トリアゾール−1−イル基を表し、Xb2は2,2,2−トリフルオロエチル基等の置換されていてもよいC1−C4ハロアルキル基またはシクロプロピル基等の置換されていてもよいC3−C6シクロアルキル基を表し、Xb3はメチル等の置換されていてもよいC1−C4アルキル基を表し、Xb4は水素原子、塩素原子、シアノ基またはメチル基を表す。」
で示されるいずれかの化合物、下記式(C)
「式中、Xc1は3,3,3−トリフルオロプロピル基等の置換されていてもよいC1−C4アルキル基、2,2,2−トリクロロエトキシ基等の置換されていてもよいC1−C4アルコキシ基、4−シアノフェニル基等の置換されていてもよいフェニル基または2−クロロ−3−ピリジル基等の置換されていてもよいピリジル基を表し、Xc2はメチル基またはトリフルオロメチルチオ基を表し、Xc3はメチル基またはハロゲン原子を表す。」
で示されるいずれかの化合物、
アセキノシル(acequinocyl)、アミトラズ(amitraz)、ベンゾキシメート(benzoximate)、ビフェナゼート(bifenaate)、フェニソブロモレート(bromopropylate)、キノメチオネート(chinomethionat)、クロルベンジレート(chlorobenzilate)、CPCBS(chlorfenson)、クロフェンテジン(clofentezine)、シフルメトフェン(cyflumetofen)、ケルセン(ジコホル:dicofol)、エトキサゾール(etoxazole)、酸化フェンブタスズ(fenbutatin oxide)、フェノチオカルブ(fenothiocarb)、フェンピロキシメート(fenpyroximate)、フルアクリピリム(fluacrypyrim)、フルプロキシフェン(fluproxyfen)、ヘキシチアゾクス(hexythiazox)、プロパルギット(propargite:BPPS)、ピリダベン(pyridaben)、ピリミジフェン(Pyrimidifen)、テブフェンピラド(tebufenpyrad)、テトラジホン(tetradifon)、スピロディクロフェン(spirodiclofen)、スピロメシフェン(spiromesifen)、スピロテトラマット(spirotetramat)、アミドフルメット(amidoflumet)、シエノピラフェン(cyenopyrafen)。
本発明化合物(2)5部および上記の[A群]より選ばれる1種の化合物4部を、キシレン37.5部およびN,N−ジメチルホルムアミド37.5部に溶解し、これにポリオキシエチレンスチリルフェニルエーテル10部およびドデシルベンゼンスルホン酸カルシウム6部を加え、よく撹拌混合して乳剤を得る。
本発明化合物(3)5部および上記の[A群]より選ばれる1種の化合物4部を、キシレン37.5部およびN,N−ジメチルホルムアミド37.5部に溶解し、これにポリオキシエチレンスチリルフェニルエーテル10部およびドデシルベンゼンスルホン酸カルシウム6部を加え、よく撹拌混合して乳剤を得る。
本発明化合物(4)5部および上記の[A群]より選ばれる1種の化合物4部を、キシレン37.5部およびN,N−ジメチルホルムアミド37.5部に溶解し、これにポリオキシエチレンスチリルフェニルエーテル10部およびドデシルベンゼンスルホン酸カルシウム6部を加え、よく撹拌混合して乳剤を得る。
本発明化合物(5)5部および上記の[A群]より選ばれる1種の化合物4部を、キシレン37.5部およびN,N−ジメチルホルムアミド37.5部に溶解し、これにポリオキシエチレンスチリルフェニルエーテル10部およびドデシルベンゼンスルホン酸カルシウム6部を加え、よく撹拌混合して乳剤を得る。
本発明化合物(6)5部および上記の[A群]より選ばれる1種の化合物4部を、キシレン37.5部およびN,N−ジメチルホルムアミド37.5部に溶解し、これにポリオキシエチレンスチリルフェニルエーテル10部およびドデシルベンゼンスルホン酸カルシウム6部を加え、よく撹拌混合して乳剤を得る。
本発明化合物(7)5部および上記の[A群]より選ばれる1種の化合物4部を、キシレン37.5部およびN,N−ジメチルホルムアミド37.5部に溶解し、これにポリオキシエチレンスチリルフェニルエーテル10部およびドデシルベンゼンスルホン酸カルシウム6部を加え、よく撹拌混合して乳剤を得る。
本発明化合物(8)5部および上記の[A群]より選ばれる1種の化合物4部を、キシレン37.5部およびN,N−ジメチルホルムアミド37.5部に溶解し、これにポリオキシエチレンスチリルフェニルエーテル10部およびドデシルベンゼンスルホン酸カルシウム6部を加え、よく撹拌混合して乳剤を得る。
本発明化合物(9)5部および上記の[A群]より選ばれる1種の化合物4部を、キシレン37.5部およびN,N−ジメチルホルムアミド37.5部に溶解し、これにポリオキシエチレンスチリルフェニルエーテル10部およびドデシルベンゼンスルホン酸カルシウム6部を加え、よく撹拌混合して乳剤を得る。
本発明化合物(10)5部および上記の[A群]より選ばれる1種の化合物4部を、キシレン37.5部およびN,N−ジメチルホルムアミド37.5部に溶解し、これにポリオキシエチレンスチリルフェニルエーテル10部およびドデシルベンゼンスルホン酸カルシウム6部を加え、よく撹拌混合して乳剤を得る。
本発明化合物(11)5部および上記の[A群]より選ばれる1種の化合物4部を、キシレン37.5部およびN,N−ジメチルホルムアミド37.5部に溶解し、これにポリオキシエチレンスチリルフェニルエーテル10部およびドデシルベンゼンスルホン酸カルシウム6部を加え、よく撹拌混合して乳剤を得る。
本発明化合物(12)5部および上記の[A群]より選ばれる1種の化合物4部を、キシレン37.5部およびN,N−ジメチルホルムアミド37.5部に溶解し、これにポリオキシエチレンスチリルフェニルエーテル10部およびドデシルベンゼンスルホン酸カルシウム6部を加え、よく撹拌混合して乳剤を得る。
本発明化合物(13)5部および上記の[A群]より選ばれる1種の化合物4部を、キシレン37.5部およびN,N−ジメチルホルムアミド37.5部に溶解し、これにポリオキシエチレンスチリルフェニルエーテル10部およびドデシルベンゼンスルホン酸カルシウム6部を加え、よく撹拌混合して乳剤を得る。
本発明化合物(14)5部および上記の[A群]より選ばれる1種の化合物4部を、キシレン37.5部およびN,N−ジメチルホルムアミド37.5部に溶解し、これにポリオキシエチレンスチリルフェニルエーテル10部およびドデシルベンゼンスルホン酸カルシウム6部を加え、よく撹拌混合して乳剤を得る。
本発明化合物(15)5部および上記の[A群]より選ばれる1種の化合物4部を、キシレン37.5部およびN,N−ジメチルホルムアミド37.5部に溶解し、これにポリオキシエチレンスチリルフェニルエーテル10部およびドデシルベンゼンスルホン酸カルシウム6部を加え、よく撹拌混合して乳剤を得る。
本発明化合物(16)5部および上記の[A群]より選ばれる1種の化合物4部を、キシレン37.5部およびN,N−ジメチルホルムアミド37.5部に溶解し、これにポリオキシエチレンスチリルフェニルエーテル10部およびドデシルベンゼンスルホン酸カルシウム6部を加え、よく撹拌混合して乳剤を得る。
本発明化合物(17)5部および上記の[A群]より選ばれる1種の化合物4部を、キシレン37.5部およびN,N−ジメチルホルムアミド37.5部に溶解し、これにポリオキシエチレンスチリルフェニルエーテル10部およびドデシルベンゼンスルホン酸カルシウム6部を加え、よく撹拌混合して乳剤を得る。
本発明化合物(18)5部および上記の[A群]より選ばれる1種の化合物4部を、キシレン37.5部およびN,N−ジメチルホルムアミド37.5部に溶解し、これにポリオキシエチレンスチリルフェニルエーテル10部およびドデシルベンゼンスルホン酸カルシウム6部を加え、よく撹拌混合して乳剤を得る。
本発明化合物(19)5部および上記の[A群]より選ばれる1種の化合物4部を、キシレン37.5部およびN,N−ジメチルホルムアミド37.5部に溶解し、これにポリオキシエチレンスチリルフェニルエーテル10部およびドデシルベンゼンスルホン酸カルシウム6部を加え、よく撹拌混合して乳剤を得る。
本発明化合物(20)5部および上記の[A群]より選ばれる1種の化合物4部を、キシレン37.5部およびN,N−ジメチルホルムアミド37.5部に溶解し、これにポリオキシエチレンスチリルフェニルエーテル10部およびドデシルベンゼンスルホン酸カルシウム6部を加え、よく撹拌混合して乳剤を得る。
本発明化合物(21)5部および上記の[A群]より選ばれる1種の化合物4部を、キシレン37.5部およびN,N−ジメチルホルムアミド37.5部に溶解し、これにポリオキシエチレンスチリルフェニルエーテル10部およびドデシルベンゼンスルホン酸カルシウム6部を加え、よく撹拌混合して乳剤を得る。
本発明化合物(22)5部および上記の[A群]より選ばれる1種の化合物4部を、キシレン37.5部およびN,N−ジメチルホルムアミド37.5部に溶解し、これにポリオキシエチレンスチリルフェニルエーテル10部およびドデシルベンゼンスルホン酸カルシウム6部を加え、よく撹拌混合して乳剤を得る。
本発明化合物(23)5部および上記の[A群]より選ばれる1種の化合物4部を、キシレン37.5部およびN,N−ジメチルホルムアミド37.5部に溶解し、これにポリオキシエチレンスチリルフェニルエーテル10部およびドデシルベンゼンスルホン酸カルシウム6部を加え、よく撹拌混合して乳剤を得る。
本発明化合物(24)5部および上記の[A群]より選ばれる1種の化合物4部を、キシレン37.5部およびN,N−ジメチルホルムアミド37.5部に溶解し、これにポリオキシエチレンスチリルフェニルエーテル10部およびドデシルベンゼンスルホン酸カルシウム6部を加え、よく撹拌混合して乳剤を得る。
本発明化合物(25)5部および上記の[A群]より選ばれる1種の化合物4部を、キシレン37.5部およびN,N−ジメチルホルムアミド37.5部に溶解し、これにポリオキシエチレンスチリルフェニルエーテル10部およびドデシルベンゼンスルホン酸カルシウム6部を加え、よく撹拌混合して乳剤を得る。
本発明化合物(26)5部および上記の[A群]より選ばれる1種の化合物4部を、キシレン37.5部およびN,N−ジメチルホルムアミド37.5部に溶解し、これにポリオキシエチレンスチリルフェニルエーテル10部およびドデシルベンゼンスルホン酸カルシウム6部を加え、よく撹拌混合して乳剤を得る。
本発明化合物(27)5部および上記の[A群]より選ばれる1種の化合物4部を、キシレン37.5部およびN,N−ジメチルホルムアミド37.5部に溶解し、これにポリオキシエチレンスチリルフェニルエーテル10部およびドデシルベンゼンスルホン酸カルシウム6部を加え、よく撹拌混合して乳剤を得る。
本発明化合物(28)5部および上記の[A群]より選ばれる1種の化合物4部を、キシレン37.5部およびN,N−ジメチルホルムアミド37.5部に溶解し、これにポリオキシエチレンスチリルフェニルエーテル10部およびドデシルベンゼンスルホン酸カルシウム6部を加え、よく撹拌混合して乳剤を得る。
本発明化合物(29)5部および上記の[A群]より選ばれる1種の化合物4部を、キシレン37.5部およびN,N−ジメチルホルムアミド37.5部に溶解し、これにポリオキシエチレンスチリルフェニルエーテル10部およびドデシルベンゼンスルホン酸カルシウム6部を加え、よく撹拌混合して乳剤を得る。
本発明化合物(30)5部および上記の[A群]より選ばれる1種の化合物4部を、キシレン37.5部およびN,N−ジメチルホルムアミド37.5部に溶解し、これにポリオキシエチレンスチリルフェニルエーテル10部およびドデシルベンゼンスルホン酸カルシウム6部を加え、よく撹拌混合して乳剤を得る。
本発明化合物(31)5部および上記の[A群]より選ばれる1種の化合物4部を、キシレン37.5部およびN,N−ジメチルホルムアミド37.5部に溶解し、これにポリオキシエチレンスチリルフェニルエーテル10部およびドデシルベンゼンスルホン酸カルシウム6部を加え、よく撹拌混合して乳剤を得る。
本発明化合物(1)〜(31)40部にソルポール5060(東邦化学登録商標名)5部を加え、よく混合して、カープレックス#80(塩野義製薬登録商標名、合成含水酸化ケイ素微粉末)32部、300メッシュ珪藻土23部を加え、ジュースミキサーで混合して、水和剤を得る。
本発明化合物(1)〜(31)3部、合成含水酸化珪素微粉末5部、ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム5部、ベントナイト30部およびクレー57部を加え、よく撹拌混合し、ついでこれらの混合物に適当量の水を加え、さらに撹拌し、増粒機で製粒し、通風乾燥して粒剤を得る。
本発明化合物(1)〜(31)4.5部、合成含水酸化珪素微粉末1部、凝集剤としてドリレスB(三共社製)1部、クレー7部を乳鉢でよく混合した後にジュースミキサーで撹拌混合する。得られた混合物にカットクレー86.5部を加えて、充分撹拌混合し、粉剤を得る。
本発明化合物(1)〜(31)10部;ポリオキシエチレンアルキルエーテルサルフェートアンモニウム塩50部を含むホワイトカーボン35部;及び水55部を混合し、湿式粉砕法で微粉砕することにより、製剤を得る。
本発明化合物(1)〜(31)0.5部をジクロロメタン10部に溶解し、これをアイソパーM(イソパラフィン:エクソン化学登録商標名)89.5部に混合して油剤を得る。
本発明化合物(1)〜(31)0.1部、ネオチオゾール(中央化成株式会社)49.9部をエアゾール缶に入れ、エアゾールバルブを装着した後、25部のジメチルエーテル及び25部のLPGを充填し、アクチュエータを装着することにより油性エアゾールを得る。
本発明化合物(1)〜(31)0.6部、BHT0.01部、キシレン5部、脱臭灯油3.39部および乳化剤{アトモス300(アトモスケミカル社登録商標名)}1部を混合溶解したものと、蒸留水50部とをエアゾール容器に充填し、バルブ部分を取り付け、該バルブを通じて噴射剤(LPG)40部を加圧充填して、水性エアゾールを得る。
本発明化合物(1)〜(31)5部をジエチレングリコールモノエチルエーテル80部に溶解し、これに炭酸プロピレン15部を混合して、スポットオン液剤を得る。
本発明化合物(1)〜(31)10部をジエチレングリコールモノエチルエーテル70部に溶解し、これに2−オクチルドデカノール20部を混合して、ポアオン液剤を得る。
本発明化合物(1)〜(31)0.5部に、ニッコールTEALS-42(日光ケミカルズ・ラウリル硫酸トリエタノールアミンの42%水溶液)60部、プロピレングリコール20部を添加し、均一溶液になるまで充分撹拌混合した後、水19.5部を加えてさらに充分撹拌混合し、均一溶液のシャンプー剤を得る。
本発明化合物(1)〜(31)0.1gを、プロピレングリコール2mlに溶解させ、4.0×4.0cm、厚さ1.2cmの多孔セラミック板に含浸させて、加熱式くん煙剤を得る。
本発明化合物(1)〜(31)5部とエチレンーメタクリル酸メチル共重合体(共重合体中のメタクリル酸メチルの割合:10重量%、アクリフトWD301、住友化学製)95部を密閉式加圧ニーダー(森山製作所製)で溶融混練し、得られた混練物を押出し成型機から成型ダイスを介して押出し、長さ15cm、直径3mmの棒状成型体を得る。
本発明化合物(1)〜(31)5部と軟質塩化ビニル樹脂95部を密閉式加圧ニーダー(森山製作所製)で溶融混練し、得られた混練物を押出し成型機から成型ダイスを介して押出し、長さ15cm、直径3mmの棒状成型体を得る。
製剤例5に従い、本発明化合物(2)、(3)、(5)、(6)、(8)、(9)、(10)、(11)、(12)、(14)、(15)、(16)、(17)、(19)、(20)、(23)、(24)、(25)、(26)、(28)、(29)及び(31)の各々の製剤を調製し、有効成分濃度が55.6ppmとなるように当該製剤を希釈し、各々の試験用薬液を調製した。
一方、底に直径5mmの穴を5箇所あけたポリエチレンカップに培土ボンソル2号(住友化学株式会社製)50gを入れて種子を10〜15粒播種し、第2本葉が展開するまで生育させたイネに、上記の試験用薬液45mlをカップの底から吸収させることによって処理した。その後、温室内〈25℃〉に6日間静置した後、イネの高さを5cmに切り揃え、トビイロウンカの初齢幼虫を30頭放し、温室内〈25℃〉に静置した。トビイロウンカの幼虫を放してから6日後に当該イネに寄生するトビイロウンカの数を調査した。
その結果、本発明化合物(2)、(3)、(5)、(6)、(8)、(9)、(10)、(11)、(12)、(14)、(15)、(16)、(17)、(19)、(20)、(23)、(24)、(25)、(26)、(28)、(29)及び(31)の処理においては各々処理6日後に寄生する虫数は3頭以下であった。
製剤例5に従い、本発明化合物(2)、(3)、(5)、(6)、(9)、(10)、(11)、(12)、(13)、(14)、(15)、(16)、(17)、(19)、(20)、(24)、(25)、(26)、(28)、(29)、(30)及び(31)の各々の製剤を調製し、有効成分濃度が500ppmとなるように当該製剤を希釈し、各々の試験用薬液を調製した。
一方、直径5.5cmのポリエチレンカップの底に同大の濾紙を敷き、上記の試験用薬液0.7mlを濾紙上に滴下し、餌としてショ糖30mgを均一に入れた。該ポリエチレンカップ内にイエバエ(Musca domestica)雌成虫10頭を放ち、蓋をした。24時間後にイエバエの生死を調査し死虫率を求めた。
その結果、より得られた本発明化合物(2)、(3)、(5)、(6)、(9)、(10)、(11)、(12)、(13)、(14)、(15)、(16)、(17)、(19)、(20)、(24)、(25)、(26)、(28)、(29)、(30)及び(31)の処理においては死虫率70%以上を示した。
製剤例5に従い、本発明化合物(2)、(3)、(5)、(6)、(10)、(11)、(12)、(14)、(15)、(16)、(17)、(19)、(20)、(24)、(25)、(26)、(29)、(30)及び(31)の各々の製剤を調製し、有効成分濃度が500ppmとなるように当該製剤を希釈し、各々の試験用薬液を調製した。
一方、直径5.5cmのポリエチレンカップの底に同大の濾紙を敷き、上記の試験用薬液0.7mlを濾紙上に滴下し、餌としてショ糖30mgを均一に入れた。該ポリエチレンカップ内にチャバネゴキブリ(Blattalla germanica)雄成虫2頭を放ち、蓋をした。6日後にチャバネゴキブリの生死を調査し死虫率を求めた。
その結果、本発明化合物(2)、(3)、(5)、(6)、(10)、(11)、(12)、(14)、(15)、(16)、(17)、(19)、(20)、(24)、(25)、(26)、(29)、(30)及び(31)の処理においては死虫率100%を示した。
製剤例5に従い、本発明化合物(1)、(2)、(3)、(4)、(5)、(6)、(9)、(10)、(11)、(12)、(14)、(15)、(16)、(17)、(19)、(20)、(22)、(23)、(24)、(26)、(27)、(28)、(29)、(30)及び(31)の各々の製剤を調製し、有効成分濃度が500ppmとなるように当該製剤を希釈し、各々の試験用薬液を調製した。
一方、上記の試験用薬液0.7mlをイオン交換水100mlに加えた(有効成分濃度3.5ppm)。該液中にアカイエカ(Culex pipiens pallens)終令幼虫20頭を放し、1日後にその生死を調査し死虫率を求めた。
その結果、本発明化合物(1)、(2)、(3)、(4)、(5)、(6)、(9)、(10)、(11)、(12)、(14)、(15)、(16)、(17)、(19)、(20)、(22)、(23)、(24)、(26)、(27)、(28)、(29)、(30)及び(31)の処理においては死虫率90%以上を示した。
本発明化合物(3)、(10)、(14)、(15)、(16)及び(17)の各々5mgをアセトン10mLのアセトンに溶解し、アセトン溶液1mLを、長方形のろ紙(TOYO No.2;5×10cm)の片面に均一に塗布した(本発明化合物として100mg/m2)。乾燥後、該ろ紙を2つ折りにした後、側辺をクリップで留めて袋状にし、この中に供試ダニ(フタトゲチマダニ Haemaphysalis longicornis, 未吸血若ダニ, 1群10頭)を入れ、開放部をクリップで閉じて密封し、2日後に致死を観察した。
その結果、本発明化合物(3)、(10)、(14)、(15)、(16)及び(17)の処理においては、死虫率90%を示した。
Claims (10)
- 式(I)
〔式中、
R1は少なくとも1個のフッ素原子を有するC1−C5ハロアルキル基を表し、
R2は少なくとも1個のハロゲン原子で置換されていてもよいC1−C4アルキル基、少なくとも1個のハロゲン原子で置換されていてもよいC1−C4アルコキシ基又は少なくとも1個のハロゲン原子で置換されていてもよいC1−C4アルキルチオ基を表し、
R3は水素原子、ハロゲン原子又はC1−C4アルキル基を表し、
R4はシアノ基、C(=Q)OR7又はC(=Q)N(R8)2を表し、
R5は水素原子、ハロゲン原子又はC1−C4アルキル基を表し、
R6はC1−C5フルオロアルキル基を表し、
Qは酸素原子又は硫黄原子を表し、
R7はC1−C4アルキル基を表し、
R8は各々独立して水素原子又はC1−C4アルキル基を表すか、2つのR8が末端で結合してC2−C7アルキレン基を表し、
mは1〜4の整数を表し、
nは0、1又は2を表す。〕
で示される有機硫黄化合物。 - nが2である請求項1記載の有機硫黄化合物。
- Qが酸素原子であるである請求項1又は2記載の有機硫黄化合物。
- R4がシアノ基である請求項1又は2記載の有機硫黄化合物。
- R4がC(=Q)N(R8)2であり、R8が各々独立して水素原子又はC1−C4アルキル基である請求項1又は2記載の有機硫黄化合物。
- R4がC(=Q)N(R8)2であり、R8が水素原子である請求項1又は2記載の有機硫黄化合物。
- R5がハロゲン原子である請求項1〜6いずれか一項記載の有機硫黄化合物。
- mが2である請求項1〜7いずれか一項記載の有機硫黄化合物。
- 請求項1〜8いずれか一項記載の有機硫黄化合物を有効成分として含有することを特徴とする有害節足動物防除剤。
- 請求項1〜8いずれか一項記載の有機硫黄化合物の有効量を有害節足動物又は有害節足動物の生息場所に施用することを特徴とする有害節足動物の防除方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2008128096A JP2009001551A (ja) | 2007-05-18 | 2008-05-15 | 有機硫黄化合物及びその有害節足動物防除用途 |
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2007132612 | 2007-05-18 | ||
JP2008128096A JP2009001551A (ja) | 2007-05-18 | 2008-05-15 | 有機硫黄化合物及びその有害節足動物防除用途 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2009001551A true JP2009001551A (ja) | 2009-01-08 |
JP2009001551A5 JP2009001551A5 (ja) | 2013-02-28 |
Family
ID=39689450
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2008128096A Ceased JP2009001551A (ja) | 2007-05-18 | 2008-05-15 | 有機硫黄化合物及びその有害節足動物防除用途 |
Country Status (17)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US8247612B2 (ja) |
EP (1) | EP2160378B1 (ja) |
JP (1) | JP2009001551A (ja) |
KR (1) | KR20100016633A (ja) |
CN (1) | CN101754950B (ja) |
AR (1) | AR066610A1 (ja) |
AT (1) | ATE498607T1 (ja) |
AU (1) | AU2008253948B2 (ja) |
BR (1) | BRPI0811619A2 (ja) |
DE (1) | DE602008005017D1 (ja) |
EG (1) | EG25467A (ja) |
ES (1) | ES2358773T3 (ja) |
MX (1) | MX2009012338A (ja) |
MY (1) | MY146663A (ja) |
RU (1) | RU2468006C2 (ja) |
TW (1) | TW200908877A (ja) |
WO (1) | WO2008143332A1 (ja) |
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2010116368A (ja) * | 2008-11-14 | 2010-05-27 | Sumitomo Chemical Co Ltd | 有害生物防除組成物 |
WO2011019076A1 (ja) * | 2009-08-10 | 2011-02-17 | 住友化学株式会社 | (フルオロアルキルチオ)酢酸エステルの製造方法 |
EP2347653A2 (en) | 2009-12-28 | 2011-07-27 | Sumitomo Chemical Company, Limited | Animal ectoparasite control composition |
JP2011190216A (ja) * | 2010-03-15 | 2011-09-29 | Asahi Glass Co Ltd | (トリフルオロメチル)アルキルケトンの製造方法 |
JP2013512929A (ja) * | 2009-12-04 | 2013-04-18 | メリアル リミテッド | 殺有害生物性二有機硫黄化合物 |
Families Citing this family (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
TW200911745A (en) | 2007-06-29 | 2009-03-16 | Sumitomo Chemical Co | Halogen-containing organosulfur compound and use thereof |
JP5287033B2 (ja) | 2007-08-23 | 2013-09-11 | 住友化学株式会社 | 含フッ素有機硫黄化合物およびその有害節足動物防除剤 |
JP5776200B2 (ja) | 2011-02-09 | 2015-09-09 | 住友化学株式会社 | チオカルボン酸s−(フルオロアルキル)エステルの製造方法 |
RU2543818C2 (ru) * | 2013-06-25 | 2015-03-10 | Закрытое акционерное общество "Экспериментально-производственный центр "Дезинфекционист" (ЗАО "ДДД") | Инсектицидный состав "вуран-2" |
JP6642942B2 (ja) | 2013-12-30 | 2020-02-12 | アレイ バイオファーマ、インコーポレイテッド | セリン/トレオニンキナーゼ阻害剤 |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE2051117A1 (en) * | 1970-10-17 | 1972-04-20 | Farbenfabriken Bayer Ag, 5090 Leverkusen | Tri-and tetrachloroalkyl sulphones - with fungicidal, bactericidal, a and rodent - and ruminant-repellant properties |
JPH10510819A (ja) * | 1994-12-21 | 1998-10-20 | バイエル・アクチエンゲゼルシヤフト | 有害生物防除剤として使用されるフルオロブテニル(チオ)エーテル類 |
JP2005179321A (ja) * | 2003-12-24 | 2005-07-07 | Sumitomo Chemical Co Ltd | ベンジルスルフィド誘導体ならびにその有害節足動物防除用途 |
JP2008013538A (ja) * | 2005-11-22 | 2008-01-24 | Sumitomo Chemical Co Ltd | 含フッ素有機硫黄化合物及びその有害節足動物防除用途 |
Family Cites Families (28)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3513172A (en) | 1965-09-27 | 1970-05-19 | Stauffer Chemical Co | 3-phenyl-5-(3,4,4-trifluoro-3-butenylthio)1,2,4-thiadiazole |
US3666818A (en) | 1965-09-27 | 1972-05-30 | Stauffer Chemical Co | Trifluorobutenyl sulfides |
US3780050A (en) | 1969-11-20 | 1973-12-18 | Stauffer Chemical Co | 2-thiobenzoxazolyl and 2-thiobenzothiazolyl trifluoro butenyl compounds |
US3692912A (en) | 1969-11-20 | 1972-09-19 | Stauffer Chemical Co | Bis (3,4,4-trifluoro-3-butenyl) sulfide as a nematocide |
US3697536A (en) | 1969-11-20 | 1972-10-10 | Stauffer Chemical Co | Composition of matter |
US3654293A (en) | 1969-11-20 | 1972-04-04 | Stauffer Chemical Co | 2- and 4-(3 4 4-trifluoro-3-butenyl-thio)pyridines |
US3700646A (en) | 1971-05-03 | 1972-10-24 | Allied Chem | Polyfluoroisoalkoxy-alkyl sulfides and polysulfides |
US3891662A (en) | 1971-12-08 | 1975-06-24 | Stauffer Chemical Co | N-(3,4,4-trifluorobutene-3)thiazalodine dione |
JPS5616460A (en) * | 1979-07-18 | 1981-02-17 | Asahi Chem Ind Co Ltd | Novel fluorinated carboxylic acid derivative and its preparation |
FR2516920B1 (fr) | 1981-11-25 | 1986-03-14 | Inst Nat Rech Chimique | Nouveaux composes a chaine perfluoree, leur application notamment comme transporteurs industriels et/ou biologiques de gaz dissous et leur procede d'obtention |
DE3462500D1 (en) | 1983-08-12 | 1987-04-09 | Ciba Geigy Ag | Process for the preparation of mercaptans |
FR2619811B1 (fr) | 1987-08-26 | 1989-12-08 | Inst Nat Rech Chimique | Nouveaux amides ethoxyles, leurs procedes de synthese et leurs applications |
DE4439947A1 (de) * | 1994-11-09 | 1996-05-15 | Boehringer Mannheim Gmbh | 2,2-Dichloralkancarbonsäuren, Verfahren zu ihrer Herstellung und diese enthaltende Arzneimittel |
DE19526146A1 (de) | 1995-07-07 | 1997-01-09 | Schering Ag | Triphenylethylene, Verfahren zu deren Herstellung, diese Triphenylethylene enthaltene pharmazeutische Präparate sowie deren Verwendung zur Herstellung von Arzneimitteln |
DE19622457A1 (de) | 1996-05-24 | 1997-11-27 | Schering Ag | 7alpha-(5-Methylaminopentyl)-estratriene, Verfahren zu deren Herstellung, pharmazeutische Präparate, die diese 7alpha-(5-Methylaminopentyl)-estratriene enthalten sowie deren Verwendung zur Herstellung von Arzneimitteln |
DE19635525A1 (de) | 1996-08-20 | 1998-02-26 | Schering Ag | 7alpha-(xi-Aminoalkyl)-estratriene, Verfahren zu deren Herstellung, pharmazeutische Präparate, die diese 7alpha(xi-Aminoalkyl-estratriene enthalten sowie deren Verwendung zur Herstellung von Arzneimitteln |
EP0944613B1 (en) | 1996-12-13 | 2002-10-09 | Chugai Seiyaku Kabushiki Kaisha | Benzopyran derivatives |
AR015500A1 (es) | 1997-12-23 | 2001-05-02 | Schering Ag | 11 BETA-HALoGENO-ESTRATRIENOS SUSTITUIDOS EN 7 ALFA, PROCEDIMIENTO PARA ELABORAR PREPARADOS FARMACEUTICOS QUE CONTIENEN TALES 11 BETA-HALOGENO-ESTRATRIENOSSUSTITUIDOS EN 7 ALFA, ASI COMO SU UTILIZACION EN LA ELABORACION DE MEDICAMENTOS. |
DE19807791A1 (de) | 1998-02-19 | 1999-08-26 | Schering Ag | Kombinationspräparat aus Östrogen und Antiöstrogen |
DE19833786A1 (de) | 1998-07-18 | 2000-01-20 | Schering Ag | Benzocycloheptene, Verfahren zu ihrer Herstellung, pharmazeutische Präparate, die diese enthalten, sowie deren Verwendung zur Herstellung von Arzneimitteln |
MY138097A (en) | 2000-03-22 | 2009-04-30 | Du Pont | Insecticidal anthranilamides |
AU2002228640B2 (en) | 2000-11-17 | 2005-11-10 | Dow Agrosciences Llc | Compounds having fungicidal activity and processes to make and use same |
JP4545405B2 (ja) | 2002-08-16 | 2010-09-15 | シチズンホールディングス株式会社 | 保油処理剤、これを用いた保油処理方法、および該保油処理方法により保油処理した時計 |
JP2004130306A (ja) | 2002-09-19 | 2004-04-30 | Dainippon Ink & Chem Inc | フッ素系界面活性剤 |
WO2007060839A1 (en) | 2005-11-22 | 2007-05-31 | Sumitomo Chemical Company, Limited | Organic sulfur compounds and use thereof as arthropodicides |
TW200904329A (en) | 2007-05-18 | 2009-02-01 | Sumitomo Chemical Co | Organic sulfur compound and its use for controlling harmful arthropod |
JP5298631B2 (ja) * | 2007-05-18 | 2013-09-25 | 住友化学株式会社 | 有機硫黄化合物及びその有害節足動物防除用途 |
EP2170815A2 (en) * | 2007-06-20 | 2010-04-07 | Vitae Pharmaceuticals, Inc. | Renin inhibitors |
-
2008
- 2008-05-15 JP JP2008128096A patent/JP2009001551A/ja not_active Ceased
- 2008-05-16 ES ES08753099T patent/ES2358773T3/es active Active
- 2008-05-16 RU RU2009147007/04A patent/RU2468006C2/ru not_active IP Right Cessation
- 2008-05-16 KR KR1020097023964A patent/KR20100016633A/ko not_active Application Discontinuation
- 2008-05-16 AR ARP080102092A patent/AR066610A1/es not_active Application Discontinuation
- 2008-05-16 TW TW097117976A patent/TW200908877A/zh unknown
- 2008-05-16 CN CN2008800252128A patent/CN101754950B/zh not_active Expired - Fee Related
- 2008-05-16 MX MX2009012338A patent/MX2009012338A/es active IP Right Grant
- 2008-05-16 WO PCT/JP2008/059491 patent/WO2008143332A1/en active Application Filing
- 2008-05-16 AT AT08753099T patent/ATE498607T1/de not_active IP Right Cessation
- 2008-05-16 DE DE602008005017T patent/DE602008005017D1/de active Active
- 2008-05-16 US US12/600,629 patent/US8247612B2/en not_active Expired - Fee Related
- 2008-05-16 BR BRPI0811619-9A2A patent/BRPI0811619A2/pt not_active IP Right Cessation
- 2008-05-16 AU AU2008253948A patent/AU2008253948B2/en not_active Ceased
- 2008-05-16 MY MYPI20094787A patent/MY146663A/en unknown
- 2008-05-16 EP EP08753099A patent/EP2160378B1/en not_active Not-in-force
-
2009
- 2009-11-18 EG EG2009111693A patent/EG25467A/xx active
Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE2051117A1 (en) * | 1970-10-17 | 1972-04-20 | Farbenfabriken Bayer Ag, 5090 Leverkusen | Tri-and tetrachloroalkyl sulphones - with fungicidal, bactericidal, a and rodent - and ruminant-repellant properties |
JPH10510819A (ja) * | 1994-12-21 | 1998-10-20 | バイエル・アクチエンゲゼルシヤフト | 有害生物防除剤として使用されるフルオロブテニル(チオ)エーテル類 |
JP2005179321A (ja) * | 2003-12-24 | 2005-07-07 | Sumitomo Chemical Co Ltd | ベンジルスルフィド誘導体ならびにその有害節足動物防除用途 |
JP2008013538A (ja) * | 2005-11-22 | 2008-01-24 | Sumitomo Chemical Co Ltd | 含フッ素有機硫黄化合物及びその有害節足動物防除用途 |
Cited By (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2010116368A (ja) * | 2008-11-14 | 2010-05-27 | Sumitomo Chemical Co Ltd | 有害生物防除組成物 |
WO2011019076A1 (ja) * | 2009-08-10 | 2011-02-17 | 住友化学株式会社 | (フルオロアルキルチオ)酢酸エステルの製造方法 |
EP2662355A1 (en) | 2009-08-10 | 2013-11-13 | Sumitomo Chemical Company, Limited | Process for producing a (fluoroalkylthio) acetonitrile |
EP2664613A1 (en) | 2009-08-10 | 2013-11-20 | Sumitomo Chemical Company, Limited | Process for producing amide compounds |
JP2013512929A (ja) * | 2009-12-04 | 2013-04-18 | メリアル リミテッド | 殺有害生物性二有機硫黄化合物 |
EP2347653A2 (en) | 2009-12-28 | 2011-07-27 | Sumitomo Chemical Company, Limited | Animal ectoparasite control composition |
JP2011190216A (ja) * | 2010-03-15 | 2011-09-29 | Asahi Glass Co Ltd | (トリフルオロメチル)アルキルケトンの製造方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
WO2008143332A1 (en) | 2008-11-27 |
KR20100016633A (ko) | 2010-02-12 |
EP2160378A1 (en) | 2010-03-10 |
CN101754950B (zh) | 2013-05-29 |
US20100160430A1 (en) | 2010-06-24 |
DE602008005017D1 (de) | 2011-03-31 |
MX2009012338A (es) | 2009-12-01 |
CN101754950A (zh) | 2010-06-23 |
ATE498607T1 (de) | 2011-03-15 |
AU2008253948B2 (en) | 2012-08-02 |
ES2358773T3 (es) | 2011-05-13 |
RU2468006C2 (ru) | 2012-11-27 |
MY146663A (en) | 2012-09-14 |
EP2160378B1 (en) | 2011-02-16 |
US8247612B2 (en) | 2012-08-21 |
AR066610A1 (es) | 2009-09-02 |
EG25467A (en) | 2012-01-10 |
BRPI0811619A2 (pt) | 2014-11-11 |
TW200908877A (en) | 2009-03-01 |
RU2009147007A (ru) | 2011-06-27 |
AU2008253948A1 (en) | 2008-11-27 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5315816B2 (ja) | 含ハロゲン有機硫黄化合物及びその用途 | |
JP2009001551A (ja) | 有機硫黄化合物及びその有害節足動物防除用途 | |
JP5315828B2 (ja) | 含フッ素有機硫黄化合物およびその有害節足動物防除剤 | |
RU2469022C2 (ru) | Сераорганическое соединение и его применение для регуляции численности вредных членистоногих | |
JP5298631B2 (ja) | 有機硫黄化合物及びその有害節足動物防除用途 | |
JP5212350B2 (ja) | 含ハロゲン有機硫黄化合物およびその用途 | |
JP5423011B2 (ja) | ニトリル化合物ならびにその有害節足動物防除用途 | |
JP2010168362A (ja) | 含硫黄化合物およびその用途 | |
RU2471778C2 (ru) | Галогенсодержащие сераорганические соединения и их применение | |
JP2010116369A (ja) | 有害生物防除組成物 | |
JP2010120858A (ja) | 有害生物防除組成物 | |
JP2010138129A (ja) | 有害生物防除組成物 | |
JP2010116368A (ja) | 有害生物防除組成物 | |
JP2010116346A (ja) | 有害生物防除組成物 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20110330 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20130109 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20130521 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20130718 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20140204 |
|
A045 | Written measure of dismissal of application [lapsed due to lack of payment] |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A045 Effective date: 20140624 |