JP2008546155A - ビームストップ及びビーム調整方法 - Google Patents
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Abstract
Description
Claims (29)
- イオンビームの径路に沿って質量分析器の入口近くに配置された入口ビームストップを含んでいる、質量分析器用のビームストップアセンブリであって、
前記入口ビームストップは、イオンビームに対して選択的に位置決め可能であり、かつ、イオンビームに対する前記入口ビームストップの位置に基づいて、イオンビームが前記質量分析器に入るのを選択的に防止するように作動することを特徴とするビームストップアセンブリ。 - 前記入口ビームストップは、質量分析器に対して滑動可能に結合されているプレートからなることを特徴とする請求項1記載のビームストップアセンブリ。
- 前記プレートに結合され作動可能なアクチュエータを含み、該アクチュエータは、前記プレートを選択的に位置決めるように作動可能であることを特徴とする請求項1記載のビームストップアセンブリ。
- 前記アクチュエータは、イオンビームの径路の中で前記プレートを選択的に回転させるように作動可能な回転アクチュエータからなることを特徴とする請求項3記載のビームストップアセンブリ。
- 前記アクチュエータは、イオンビームの径路の中で前記プレートを選択的に直線的に並進するように作動可能なリニアアクチュエータからなることを特徴とする請求項3記載のビームストップアセンブリ。
- 前記プレートは、炭素系材料からなることを特徴とする請求項2記載のビームストップアセンブリ。
- 前記炭素系材料は、グラファイトからなることを特徴とする請求項6記載のビームストップアセンブリ。
- 前記入口ビームストップの上流に位置する測定装置をさらに含み、該測定装置は、イオンビームの1つ以上の特性を検出するように作動可能であることを特徴とする請求項1記載のビームストップアセンブリ。
- 前記測定装置は、測定開口、測定電極、及びワイヤスキャナーの1つまたは複数を含むことを特徴とする請求項8記載のビームストップアセンブリ。
- イオンビームの径路に沿って前記質量分析器の出口近くに配置された出口ビームストップをさらに含み、この出口ビームストップは、イオンビームに対して選択的に位置決められ、かつイオンビームに対する前記出口ビームストップの位置に基づいて、イオンビームが前記質量分析器から排出するのを選択的に防止するように作動可能であることを特徴とする請求項1記載のビームストップアセンブリ。
- 前記出口ビームストップの上流に配置された測定装置をさらに含み、この測定装置は、イオンビームの1つ以上の特性を検出するように作動可能であることを特徴とする請求項10記載のビームストップアセンブリ。
- 前記測定装置は、測定開口、測定電極、及びワイヤスキャナーの1つまたは複数を含むことを特徴とする請求項11記載のビームストップアセンブリ。
- 出口開口を有し、該出口開口を通るイオンビームを形成するように作動可能なイオン源と、
質量分析器と、
イオンビームの径路に沿って該質量分析器の入口近くに配置された入口ビームストップを含み、該入口ビームストップがイオンビームに対して選択的に位置決め可能であり、かつイオンビームに対する入口ビームストップの位置に基づいて、イオンビームが前記質量分析器に入るのを選択的に防止するように作動可能である、ビームストップアセンブリと、
前記入口ビームストップの位置を制御するように作動し、この制御が、イオン源から形成されたイオンビームの安定性に基づいている、コントローラと、
を含んでいることを特徴とするイオン注入システム。 - 前記入口ビームストップに結合して作動するアクチュエータを含み、該アクチュエータは、少なくともイオンビームの安定性に基づいて、入口ビームストップを選択的に位置決めるように作動可能であることを特徴とする請求項13記載のイオン注入システム。
- 前記アクチュエータは、イオンビームの径路の中で前記入口ビームストップを選択的に回転させるように作動可能な回転アクチュエータからなることを特徴とする請求項14記載のイオン注入システム。
- 前記アクチュエータは、イオンビームの径路の中で前記前記入口ビームストップを選択的に直線的に並進するように作動可能なリニアアクチュエータからなることを特徴とする請求項14記載のイオン注入システム。
- 前記入口ビームストップは、グラファイトプレートからなることを特徴とする請求項13記載のイオン注入システム。
- 前記入口ビームストップの上流に配置された測定装置をさらに含み、この測定装置は、イオンビームの1つ以上の特性を検出するように作動可能であり、前記コントローラは、前記1つ以上の特性に基づいてイオンビームの安定性を決定するように作動可能であることを特徴とする請求項13記載のイオン注入システム。
- 前記測定装置は、測定開口、測定電極、及びワイヤスキャナーの1つまたは複数を含むことを特徴とする請求項18記載のイオン注入システム。
- イオンビームの径路に沿って前記質量分析器の出口近くに配置された出口ビームストップをさらに含み、この出口ビームストップは、イオンビームに対して選択的に位置決められ、かつイオンビームに対する前記出口ビームストップの位置に基づいて、イオンビームが前記質量分析器から排出するのを選択的に防止するように作動可能であることを特徴とする請求項23記載のイオン注入システム。
- 前記出口ビームストップの上流に配置された測定装置をさらに含み、この測定装置は、イオンビームの1つ以上の特性を検出するように作動可能であり、前記コントローラは、前記1つ以上の特性に基づいてイオンビームの安定性を決定するように作動可能であることを特徴とする請求項21記載のイオン注入システム。
- 前記測定装置は、測定開口、測定電極、及びワイヤスキャナーの1つまたは複数を含むことを特徴とする請求項22記載のビームストップアセンブリ。
- イオン注入システムにおける粒子汚染を防止するための方法であって、
質量分析器の入口を選択的に塞ぎ、
未分化のイオンビームを形成するイオン源内のイオンを励起し、
前記イオン源が安定化した時点で、前記質量分析器の入口を選択的に開く、各動作を含むことを特徴とする方法。 - さらに、前記質量分析器の入口近くの未分化のイオンビームの1つ以上の測定された特性を測定し、
前記未分化のイオンビームの1つ以上の測定された特性に基づいて、前記イオン源及び質量分析器の1つまたは両方を制御する、動作を含むことを特徴とする請求項24記載の方法。 - さらに、前記質量分析器の出口を塞ぎ、
未分化のイオンビームを質量分析器、選択されたイオンビームを形成し、
前記質量分析器の出口近くの選択されたイオンビームの1つ以上の特性を測定し、
選択されたイオンビームの1つ以上の測定された特性に基づいて、前記イオン源及び質量分析器の1つまたは複数を制御する、各動作を含むことを特徴とする請求項25記載の方法。 - 前記質量分析器の出口が塞がれるとき、イオンビームの径路に沿って加工物を配置し、そして、出口が開いているとき、前記加工物内にイオンを注入する、各動作を含むことを特徴とする請求項26記載の方法。
- さらに、イオンが加工物内に注入された後で、前記質量分析器の出口が塞がれるとき、イオンビームの径路から前記加工物を取り除く動作を含むことを特徴とする請求項27記載の方法。
- さらに、前記質量分析器の入口が塞がれるとき、イオンビームの径路に沿って加工物を配置し、そして、入口が開いているとき、前記加工物内にイオンを注入する、各動作を含むことを特徴とする請求項24記載の方法。
- さらに、イオンが加工物内に注入された後で、前記質量分析器の入口が塞がれるとき、イオンビームの径路から前記加工物を取り除く動作を含むことを特徴とする請求項29記載の方法。
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