JP2008540167A - 金属ナノ粒子コーティングを有するミクロポア物品 - Google Patents

金属ナノ粒子コーティングを有するミクロポア物品 Download PDF

Info

Publication number
JP2008540167A
JP2008540167A JP2008510053A JP2008510053A JP2008540167A JP 2008540167 A JP2008540167 A JP 2008540167A JP 2008510053 A JP2008510053 A JP 2008510053A JP 2008510053 A JP2008510053 A JP 2008510053A JP 2008540167 A JP2008540167 A JP 2008540167A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
film
substrate
micropore
nanoparticle
nanoparticles
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2008510053A
Other languages
English (en)
Other versions
JP2008540167A5 (ja
Inventor
ジェイ. マクルア,ドナルド
エー. ペレス,マリオ
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
3M Innovative Properties Co
Original Assignee
3M Innovative Properties Co
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 3M Innovative Properties Co filed Critical 3M Innovative Properties Co
Publication of JP2008540167A publication Critical patent/JP2008540167A/ja
Publication of JP2008540167A5 publication Critical patent/JP2008540167A5/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Images

Classifications

    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01DSEPARATION
    • B01D67/00Processes specially adapted for manufacturing semi-permeable membranes for separation processes or apparatus
    • B01D67/0039Inorganic membrane manufacture
    • B01D67/0072Inorganic membrane manufacture by deposition from the gaseous phase, e.g. sputtering, CVD, PVD
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01DSEPARATION
    • B01D67/00Processes specially adapted for manufacturing semi-permeable membranes for separation processes or apparatus
    • B01D67/0002Organic membrane manufacture
    • B01D67/0023Organic membrane manufacture by inducing porosity into non porous precursor membranes
    • B01D67/0025Organic membrane manufacture by inducing porosity into non porous precursor membranes by mechanical treatment, e.g. pore-stretching
    • B01D67/0027Organic membrane manufacture by inducing porosity into non porous precursor membranes by mechanical treatment, e.g. pore-stretching by stretching
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01DSEPARATION
    • B01D67/00Processes specially adapted for manufacturing semi-permeable membranes for separation processes or apparatus
    • B01D67/0081After-treatment of organic or inorganic membranes
    • B01D67/0086Mechanical after-treatment
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01DSEPARATION
    • B01D67/00Processes specially adapted for manufacturing semi-permeable membranes for separation processes or apparatus
    • B01D67/0081After-treatment of organic or inorganic membranes
    • B01D67/0088Physical treatment with compounds, e.g. swelling, coating or impregnation
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01DSEPARATION
    • B01D69/00Semi-permeable membranes for separation processes or apparatus characterised by their form, structure or properties; Manufacturing processes specially adapted therefor
    • B01D69/12Composite membranes; Ultra-thin membranes
    • B01D69/1213Laminated layers
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01DSEPARATION
    • B01D71/00Semi-permeable membranes for separation processes or apparatus characterised by the material; Manufacturing processes specially adapted therefor
    • B01D71/02Inorganic material
    • B01D71/022Metals
    • B01D71/0223Group 8, 9 or 10 metals
    • B01D71/02231Palladium
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/06Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the coating material
    • C23C14/14Metallic material, boron or silicon
    • C23C14/20Metallic material, boron or silicon on organic substrates
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/58After-treatment
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/58After-treatment
    • C23C14/5886Mechanical treatment
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01DSEPARATION
    • B01D2323/00Details relating to membrane preparation
    • B01D2323/34Use of radiation
    • B01D2323/345UV-treatment
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01DSEPARATION
    • B01D2323/00Details relating to membrane preparation
    • B01D2323/35Use of magnetic or electrical fields
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01DSEPARATION
    • B01D2325/00Details relating to properties of membranes
    • B01D2325/08Patterned membranes
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01DSEPARATION
    • B01D2325/00Details relating to properties of membranes
    • B01D2325/43Specific optical properties
    • B01D2325/44Specific light transmission
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01DSEPARATION
    • B01D2325/00Details relating to properties of membranes
    • B01D2325/48Antimicrobial properties
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10STECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10S977/00Nanotechnology
    • Y10S977/84Manufacture, treatment, or detection of nanostructure
    • Y10S977/89Deposition of materials, e.g. coating, cvd, or ald
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10TTECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T428/00Stock material or miscellaneous articles
    • Y10T428/24Structurally defined web or sheet [e.g., overall dimension, etc.]
    • Y10T428/24479Structurally defined web or sheet [e.g., overall dimension, etc.] including variation in thickness
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10TTECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T428/00Stock material or miscellaneous articles
    • Y10T428/24Structurally defined web or sheet [e.g., overall dimension, etc.]
    • Y10T428/24802Discontinuous or differential coating, impregnation or bond [e.g., artwork, printing, retouched photograph, etc.]
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10TTECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T428/00Stock material or miscellaneous articles
    • Y10T428/24Structurally defined web or sheet [e.g., overall dimension, etc.]
    • Y10T428/24802Discontinuous or differential coating, impregnation or bond [e.g., artwork, printing, retouched photograph, etc.]
    • Y10T428/24926Discontinuous or differential coating, impregnation or bond [e.g., artwork, printing, retouched photograph, etc.] including ceramic, glass, porcelain or quartz layer

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Inorganic Chemistry (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Laminated Bodies (AREA)
  • Paints Or Removers (AREA)
  • Powder Metallurgy (AREA)
  • Physical Vapour Deposition (AREA)

Abstract

金属ナノ粒子コーティングされたミクロポア基材、その調製方法、およびその使用について記載している。

Description

本発明は、金属ナノ粒子コーティングされた材料、並びにその使用方法およびその調製方法を目的とする。
直径約1〜100ナノメートル(nm)の金属ナノ粒子は、半導体技術、磁気記憶、電子機器の製造、および触媒を包含する応用において重要な材料である。金属ナノ粒子は、気体蒸着によって、流動気流中での蒸着によって、機械的な磨耗によって、スパッタリングによって、電子ビーム蒸着によって、化学還元によって、熱蒸着によって、二成分金属アジド類の電子線誘導型噴霧によって、超音速自由噴流中での金属蒸気の拡張によって、逆ミセル法によって、レーザアブレーションによって、有機金属化合物類のレーザ誘導型分解によって、有機金属化合物類の熱分解によって、有機金属化合物類のマイクロ波プラズマ分解によって、並びにその他の方法によって製造されてきた。
金属ナノ粒子は独自の光学特性を有することが知られている。特に、金属ナノ粒子は、顕著な光学共鳴を示す。この、いわゆるプラズモン共鳴は、金属球体内の伝導電子が入射電磁場と集合カップリングを生じることに起因する。この共鳴は、入射電磁放射線の波長に関し、ナノ粒子の半径に依存する吸収または散乱によって支配される可能性がある。このプラズモン共鳴と関係があるのは、金属ナノ粒子内部での強い局所電場増強である。これらの特定の光学特性を活用するために、様々な潜在的に有用な装置類が製造されることができる。例えば、表面増強ラマン散乱(SERS)に基づく光学フィルター類または化学センサー類が製造されてきた。
本発明は、金属ナノ粒子コーティングをその上に有するミクロポア材料を含む物品を提供する。「金属」とは、元素金属類およびそれらの化合物類を表す。ミクロポア材料は、フィルム類、シート類、または繊維類の形態であってよいが、好ましくはフィルム類またはシート類の形態である。コーティングされた物品は、ナノ粒子を貯蔵し、及びそれをガラス、プラスチックおよび金属などの別の基材へ転写させるために好都合な手段を提供する。これらのコーティングされた基材は、レンズ類、シート類、繊維類、プリズム類、フィルター類、および化学センサー類などの光学装置を包含する、金属ナノ粒子の光学特性、化学的特性または磁気特性に依存する多くの装置および技術において有用である。
本発明は、ナノ粒子を貯蔵および転写するための安定な物品を提供することによって、従来技術の制限を克服する。以前は、ナノ粒子は、物理的気相成長法によってまたはナノ粒子の分散体/懸濁液を基材上にコーティングすることによって、基材の表面上に直接堆積された。物理的気相成長装置は、連続コーティングプロセスに対応することができない。ナノ粒子の分散体類は、ナノ粒子が溶液から凝集および沈降し易いので、多くの場合は不安定である。前記分散体類の使用はまた、溶剤類および還元剤類の使用やそれらへの曝露も伴い、そしてナノ粒子を汚染する場合もある。
有利には、前記プロセスはまた、コーティングされたミクロポア膜からナノ粒子を転写させるときに、基材上でのナノ粒子コーティング密度(cm2当たりのナノ粒子の数)を制御することも可能である。
本発明の物品は、光学スイッチ装置類、光通信システム類、赤外線検出器類、赤外線遮断装置類、化学センサー類、受動的太陽輻射(passive solar radiation)の吸収または偏光装置などのように様々な応用に利用されるナノ粒子コーティングされた基材の調製に使用されることができる。
一実施形態では、本発明は、ミクロポア材料を提供する工程、前記ミクロポア材料の表面上に金属ナノ粒子の不連続コーティングを物理的気相成長によって堆積させる工程を含む、ナノ粒子コーティングされたミクロポア膜の調製方法を提供する。前記方法は、堆積前または堆積後のいずれかに、ナノ粒子コーティングされた物品を延伸する工程を更に含んでよい。
別の実施態様において、本発明は、基材およびナノ粒子コーティングされたミクロポア膜を提供すること、並びに前記基材および前記ナノ粒子コーティングされた物品を、前記ナノ粒子のうち少なくとも一部分を、前記ナノ粒子コーティングされた表面から前記基材の表面へ転写させるのに十分な圧力を加えて接触させることを含む、基材上へのナノ粒子コーティングを提供する。
本明細書で使用する場合、
ミクロポアという用語は、微視的な寸法(すなわち、顕微鏡では見えるが肉眼では見えない)の連通しているかまたは結合された孔または空隙の中において、材料全体にわたる希釈相および/または空気などの気体を有することを意味する。
本明細書で使用するとき、用語「熱可塑性ポリマー」は、通常の溶融加工によって溶融加工可能な、結晶性および非結晶性の両方の従来のポリマー類のみに言及する。
本明細書で使用するとき、用語「結晶性」は、熱可塑性ポリマーに関して使用される場合、少なくとも一部が結晶性であるポリマー類を包含する。溶融加工可能な熱可塑性ポリマー類内の結晶性ポリマー構造は、周知である。
本明細書で使用するとき、用語「非晶質」は、熱可塑性ポリマーに関して使用される場合、例えば、ポリメチルメタクリレート、ポリスルホン、およびアタクチックポリスチレンなどの、実質的な結晶性秩序を有しないポリマー類を包含する。
本明細書で使用するとき、用語「融解温度」は、熱可塑性ポリマーとそれと相溶し得る液体とのブレンド中において、熱可塑性ポリマーが溶融する温度を指す。
本明細書で使用するとき、用語「結晶化温度」は、熱可塑性ポリマーとそれと相溶し得る液体との融解ブレンドにおいて、熱可塑性ポリマーが結晶化する温度を指す。
本明細書で使用するとき、用語「平衡融点」は、熱可塑性ポリマーに関して使用される場合、一般に是認されている、既刊文献に見出されるような熱可塑性ポリマーの融点温度を指す。
本発明の様々な特徴、実施形態、および利点は、本発明の以下の発明を実施するための最良の形態及び特許請求の範囲から明白であろう。前記の課題を解決するための手段は、本開示の例示された各実施形態または全ての実施を記載するものではない。以下の発明を実施するための最良の形態には、特定の好ましい実施形態を、本明細書に開示された原則を用いて、より具体的に例示する。
本発明は、一つには、不連続金属ナノ粒子コーティングをその上に含むミクロポア膜を目的とする。ナノ粒子コーティングは、物理的気相成長により金属ナノ粒子の不連続層を堆積することによって形成される。本明細書で使用するとき、「不連続」とは、ナノ粒子コーティングが、コーティングされていない面積で囲まれた、ナノ粒子類またはそれらの粒塊類の島として堆積されることを意味する。金属ナノ粒子類の大部分は、酸化物などの他の金属ナノ粒子類も考えられるが、通常は元素金属ナノ粒子類である。
本発明は、ミクロポア材料上に金属ナノ粒子コーティングを提供するものであって、ナノ粒子類の平均の数平均粒径は、1〜100ナノメートル、最も好ましくは1〜50ナノメートルまでの範囲である。コーティングの平均厚さは、一般的に、100ナノメートル未満、好ましくは10ナノメートル未満である。ナノ粒子類は、実質的に球体であってよいが、延伸される場合もあり、縦横比(長さ対直径)は1.5:1を超える(すなわち、実質的には楕円形である)。所望により、ミクロポア膜は、堆積前または堆積後に延伸(配向)される。
金属ナノ粒子コーティングを受容するミクロポア材料は、連通孔の網状組織を提供するために複数の相互連絡通路を有する熱可塑性ポリマー構造と特徴付けられ得る。ミクロポアシート内の典型的な孔または空隙の寸法は、100オングストローム〜4マイクロメートルまでの範囲である。
一般に、ミクロポア熱可塑性ポリマー材料は、以下の工程によって調製され得る。
a)熱可塑性ポリマーをそれと相溶し得る可溶化量の液体(希釈剤)と、均質な溶液を形成するのに十分な温度で溶融混合する工程、
b)前記溶液から物品を形成する工程、
c)前記成形物品を、熱力学的な非平衡相分離を開始するのに十分な速度でおよびそうするのに十分な温度まで冷却する工程、
d)前記物品を更に冷却して熱可塑性ポリマーを凝固させる工程、および、
e)任意に、前記相溶し得る液体の少なくとも実質的な部分を除去する工程。
ミクロポア膜は、所望により、熱可塑性ポリマーの凝固(工程d)後、または、それと相溶し得る液体の除去(工程e)後に配向することができる。熱力学的な非平衡相分離は、液−液相分離または液−固相分離のいずれであってもよい。
液−液相分離が生じると、セルは、繊維状の、レース状の、または半連続的なポリマー境界によって閉じ込められた空間を構成する。配向すると、セルは配向方向に細長くなる。配向した物品のセルは、一般に、長軸対短軸の縦横比が1.0を超え、そして長軸が一般には物品の表面と平行な面にある、楕円形である。液−固相分離が生じると、材料は、間隔を空けてランダムに配置された不規則な形状を有する、等軸の、多数の熱可塑性ポリマー粒子を特徴とする内部構造を有し、前記材料中の隣接する粒子は、結合されたミクロ細孔の網状組織を有する材料を提供するためにバラバラに分離され、そして熱可塑性ポリマーから成る複数の微細繊維によって互いに接続されている。微細繊維は、配向時に延伸されて、熱可塑性ポリマー粒子間により大きな空間を提供し、そして高い多孔性をもたらす。
有用な熱可塑性ポリマー類としては、オレフィン性の縮合重合体および酸化重合体類が挙げられ、ポリアミド類、ポリイミド類、ポリウレタン類、ポリオレフィン類、ポリスチレン類、ポリエステル類、ポリカーボネート類、ポリケトン類、ポリ尿素類、ポリアクリレート類、およびポリメタクリレート類が包含される。代表的なオレフィン性ポリマー類としては、高密度および低密度ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリビニル含有ポリマー類、ブタジエン含有ポリマー類、ポリ(メチルメタクリレート)などのアクリレート含有ポリマー類、およびポリフッ化ビニリデンなどのフッ素含有ポリマー類が挙げられる。縮合重合体類としては、ポリエチレンテレフタレートおよびポリブチレンテレフタレートなどのポリエステル類、ナイロン6、ナイロン11、ナイロン13、およびナイロン66などのポリアミド類、ポリカーボネート類、並びにポリスルホン類が挙げられる。ポリフェニレンオキサイドは、利用可能な、代表的な酸化重合体類である。熱可塑性ポリマー類のブレンドを利用してもよい。
好適な結晶性ポリマー類の例としては、ポリオレフィン類などの付加重合体類、並びにポリエステル類およびポリアミド類などの縮合重合体類が挙げられる。有用なポリオレフィン類には、好ましくは、エチレンとプロピレンとのポリマー類が挙げられるが、メチルペンテン、ブテン、1−オクテン、スチレンなど、そして結晶性セグメントと非晶質セグメントとを含有するように重合される場合がある2つ以上の前記オレフィン類のコポリマー類、並びに立体特異的に修飾された前記ポリマーの混合物類、例えば、アイソタクチックポリプロピレンとアタクチックポリプロピレンとの混合物やアイソタクチックポリスチレンとアタクチックポリプロピレンとの混合物も包含される。有用なポリエステル類としては、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリヘキサメチレンアジペート、ポリヘキサメチレンスクシネート、およびポリエステルコポリマー類が挙げられる。有用なポリアミド類としては、ポリヘキサメチレンアジパミド、ポリヘキサメチレンセバカミド、およびポリカプロラクタムが挙げられる。例えば、米国特許第4,247,498号、米国特許第4,539,256号、米国特許第4,726,989号、米国特許第4,867,881号、および米国特許第4,849,311号に記載されている。
前記相溶し得る液体(多くの場合、希釈剤と呼ばれる)は、前記ポリマーの溶融温度を超えて加熱されたときに、熱可塑性ポリマーを有する溶液を形成することが可能な材料であって、その相は冷却時にポリマーから分離される。前記液体の前記ポリマーとの相溶性は、前記ポリマーと前記液体を加熱して透明で均質な溶液を形成することによって決定することができる。前記ポリマーと前記液体との溶液がいかなる液体濃度でも形成できない場合、結果として、その液体は前記ポリマーと共に使用するのには不適当である。実際には、用いられる前記液体としては、室温で固体であるが、ポリマーの溶融温度では液体である化合物類を挙げることができる。一般に、非極性ポリマー類の場合、同じような室温溶解性パラメータを有する非極性有機液体が、一般に、その溶液温度において有用である。同様に、極性有機液体は、一般に、極性ポリマー類に有用である。ポリマー類のブレンドを使用するとき、有用な液体類は、用いられる各ポリマーに対して相溶し得る液体であるものである。ポリマーがスチレン−ブタジエンなどのブロックコポリマーである場合、選択される液体は、それぞれの種類のポリマーブロックと相溶しなければならない。選ばれたポリマーがポリマーの溶融温度では液体ブレンド中に溶解し、そして形成された溶液が冷却時に相分離するのであれば、2つ以上の液体のブレンドを前記相溶し得る液体として使用することができる。
脂肪酸および芳香族酸、脂肪族アルコール、芳香族アルコールおよび環状のアルコール、アルデヒド類、第一級および第二級アミン類、芳香族アミンおよびエトキシル化アミン、ジアミン類、アミド類、エステル類およびジエステル類、エーテル類、ケトン類、並びに様々な炭化水素類および複素環類を包含する、様々な種類の有機化合物類は、前記の相溶し得る液体として有用であることが見出されている。選択されるポリマーがポリプロピレンである場合、鉱油などの脂肪族炭化水素類、フタル酸ジブチルなどのエステル類、およびジベンジルエーテルなどのエーテル類が前記の相溶し得る液体として有用である。高密度ポリエチレンがポリマーである場合、鉱油などの脂肪族炭化水素、および/またはメチルノニルケトンなどの脂肪族ケトン、またはフタル酸ジオクチルなどのエステルが、前記の相溶し得る液体として有用である。低密度ポリエチレンと共に使用するための前記の相溶し得る液体類としては、デカン酸およびオレイン酸などの脂肪酸、またはデシルアルコールなどの第一級アルコールが挙げられる。ポリマーがポリフッ化ビニリデンである場合、フタル酸ジブチルなどのエステル類が前記の相溶し得る液体として有用である。選択されるポリマーがナイロン11である場合、プロピレンカーボネート、エチレンカーボネート、またはテトラメチレンスルホンなどのエステル類が前記の相溶し得る液体として有用である。選択されるポリマーがポリメチルメタクリレートである場合、有用な相溶し得る液体類としては、1,4−ブタンジオール、およびラウリン酸が挙げられる。ポリフェニレンオキサイドポリマーと共に使用するための相溶し得る液体は、例えば、タローアミンである。
用いられる希釈剤−ポリマー系のために予め定められた濃度範囲内から選択される実際のポリマー濃度は、機能的考察によって制限される。ポリマー濃度および分子量は、冷却時に形成されるミクロポア構造に、これより先のプロセス工程で取り扱うのに好適な強度を与えるのに十分でなければならない。ポリマー濃度は、液体−ポリマー溶融溶液の粘度が物品の成形に用いられる装置に適している程度であるべきである。一般に、前記の相溶し得る液体中でのポリマー濃度は、約10〜80重量%であって、これは、相溶し得る液体濃度20〜90重量%に相当する。熱可塑性ポリマーとそれと相溶し得る液体との相対量は、各システムによって異なる。指定のシステムで利用可能なポリマー濃度は、スモルダーズ(Smolders)、ファン・アートセン(van Aartsen)およびステンバーゲン(Steenbergen)のコロイド−Z.u.Zポリメレ(Kolloid-Z.u.Z. Polymere)、243、14〜20(1971年)に記載されているように、ポリマー液体系についての温度−組成グラフを参照して決定することができる。
ミクロポア膜類は、永久的な歪または延伸を取り入れるため、そしてミクロ細孔が永久的に成長または形成されることを確保するために、少なくとも一方向に配向(すなわち、それらの弾性限界を超えて延伸)され得る。延伸の工程は、通常、成形物品の二軸延伸を含む。延伸の工程は、成形物品の元の面積全体にわたって約10%から1200%超までの成形物品の面積増加をもたらす。配向は、前記の相溶し得る液体の除去前またはその除去後のいずれかに行うことができる。この構造体の配向は、孔径を制御するのに役立ち、また粒子の均一性やポリマー相内でのアグロメレーション程度を変えずに、材料の多孔性と機械的特性を高める。付加的な延伸を行って、フィルム強度特性を改善してもよい。これにより、結果として、改善された引裂き抵抗を有するフィルムがもたらされる。
本発明の膜の配向は、厚さを制御するためのプロセス変数として用いることができ、比較的薄いミクロポア膜を製造することができる。配向は、ほんの少し面倒だが、薄いフィルムの製造を可能にする。配向はまた、多くのミクロポア膜応用において有益な、フィルムの機械的強度も高める。配向を増強すれば、フィルム厚と流動抵抗はそれと比例して低下し、機械的強度と多孔性はそれと比例して増加し、また孔径の範囲は、改善された孔径の制御により拡張されることから、ミクロポア膜が受ける配向量を選択することで、所望の特性の優れた均衡を達成することができる。延伸すると、ポリマー粒子が分解して、連続領域内のポリマーを永久的に細くし、それによって微細繊維が形成されて、コーティングされた粒子間の空隙が最小限となり、そしてそれが、結合されたミクロ細孔の網状組織をもたらす。このように永久的に細くすることにより、物品も永久的に不透明になる。
希釈剤を除去しない場合、希釈剤は、得られた多孔質ポリマー相の表面にコーティングされたまま残るかまたはその表面の周りに少なくとも部分的に残り、そして希釈剤とポリマーに対して20〜90重量%の濃度を構成する。
希釈剤は、所望の多孔性度を達成し、そしてナノ粒子類と併せて基材へ転写される希釈剤の量を低減するために、少なくとも部分的に除去されてもよい。除去は、洗浄、溶剤抽出、置換、揮発、または任意の他の好都合な方法などの既知の技術によって達成することができる。延伸前または延伸の代わりに行われると、得られたフィルムは不透明となる。希釈剤の除去を延伸前または延伸後に行う場合、得られるフィルムは不透明なままであり、そして延伸のみを行ったフィルムと比べてより多孔性となる。希釈剤の除去はナノ粒子の堆積前に行われる。さもないと、希釈剤の除去中に金属ナノ粒子類も失われる場合がある。希釈剤を除去すると、ミクロポア膜は20重量%未満または10重量%未満の希釈剤を含む場合があるが、たとえ希釈剤の除去後でも、ミクロポア膜は、典型的に、少なくとも5重量%の希釈剤を含む。
例えば、所望の厚さ、多孔性勾配、取り扱い特性、および機械的特性を達成するために、ミクロポアシート材料を、例えば、織物、編物、または不織布類、ポリマーフィルム類などの様々な他の材料に、あるいは同様のもしくは他のミクロポアシート材料の1つ以上の別の層に、積層する、結合する、あるいは貼り付けることができる。追加の層を、堆積前または堆積後に貼り付けてもよい。追加の層(複数)は、ナノ粒子コーティングされた表面とは反対側の主表面、すなわち、コーティングされていない表面に貼り付けられる。積層は、接着結合、スポット溶接、またはナノ粒子コーティングに悪影響を及ぼさない他の技術などの従来の技術を利用して行うことができる。
ミクロポア膜の調製に有用な方法は、以下の文献に見出すことができる。
米国特許第4,247,498号(カストロ(Castro))には、より小さな寸法の孔が結合したセルを有する比較的均質な三次元セル構造を特徴とする、ミクロポアを有するポリマー類が開示されている。ミクロポアを有するポリマー類は、熱可塑性ポリマー類から、当該ポリマーとそれと相溶し得る液体との混合物を加熱して均質な溶液を形成し、この溶液を非平衡熱力学条件で冷却して液−液相分離を開始させ、そして混合物が実質的な取り扱い強度に達するまで冷却し続けることによって調製される。
米国特許第4,539,256号(シップマン(Shipman))には、ランダムに間隔を空けて分散された、等軸の、不規則な形状の多数の熱可塑性ポリマー粒子を特徴とする、ミクロポアシート材料が開示されており、隣接する熱可塑性粒子類は互いに、熱可塑性ポリマーの複数の微細繊維によって結合されている。このシート材料は、熱可塑性ポリマーを、熱可塑性ポリマーの融解温度でこのポリマーと混和できるが、このポリマーの結晶化温度以下まで冷却すると相分離する化合物と溶融混合し、溶融混合物から成形物品を形成し、その成形物品をこのポリマーが結晶化する温度まで冷却して、熱可塑性ポリマーと前記化合物との間に相分離を生じさせることによって調製される。
米国特許第4,726,989号(ムロジンスキー(Mrozinski))には、結晶性熱可塑性ポリマーを、熱可塑性ポリマーのその後の結晶化を誘発し得る核剤、および熱可塑性ポリマーの融解温度では当該ポリマーと混和できるが、このポリマーの結晶化温度以下まで冷却すると相分離する化合物と溶融混合し、溶融混合物から成形物品を形成して、熱可塑性ポリマーと前記化合物との間に相分離を生じさせるように、核剤が熱可塑性ポリマーの結晶化を誘発する温度まで成形物品を冷却することによって製造された、核剤を組み込んだミクロポア材料が開示されている。
米国特許第4,867,881号(キンザー(Kinzer)ら)には、隣接するセルが連通孔の網状組織をもたらす通路によって結合された複数のセルを有する、液−液相分離によって形成される熱可塑性ポリマー構造体を含むミクロポア物品が記載されており、前記セルは、繊維状、レース状、または半連続の境界によって閉じ込められた空間を含み、そして楕円形であり、また前記構造体は少なくとも一方向に配向されている。
ナノ粒子コーティングは、ナノ粒子を生成する物理的気相成長によって調製される。金属を気化が生じるまで減圧下で加熱する。所望により、金属は気流の存在下で気化する。ここで、気体は、金属と反応しないあらゆる気体が使用され得るが、好ましくは不活性(非反応性)である。ナノ粒子は、ミクロポア材料へ転写させるかまたは(所望により、気流によって)ミクロポア材料の方へ誘導され、金属蒸気をミクロポア材料上に衝突させることによって堆積させ、そこで核形成およびナノ粒子成長を引き起こす。一般に、気流がない場合、物理的気相成長は、ミクロポア材料表面上で直接核形成を行う他に、金属蒸気を生成する。気体の存在下では、金属蒸気は、気流中で(in the stream)ある程度均質な核形成を行ってナノ粒子を生成し、そのナノ粒子がミクロポア材料表面に堆積する。
コーティングは、次の工程を含む方法によって調製され得る。
a)金属を所望により非反応性気流の存在下で気化して、金属蒸気を供給する工程、
b)所望により、前記金属蒸気(または金属蒸気内で形成される金属ナノ粒子)と反応し得る第2の反応性気体を供給して、この反応性気体を金属蒸気(または金属ナノ粒子)と反応させて、金属蒸気(または金属ナノ粒子)を金属酸化物ナノ粒子に転化する工程、および、
c)金属蒸気をミクロポア材料上に衝突させて(ここで、核形成とナノ粒子の成長が生じる)、その上にナノ粒子コーティングを提供する工程。
ミクロポア材料表面上への金属ナノ粒子の堆積は、当業者に既知の幾つかの物理的気相成長法のうち一つを用いて達成されてもよい。そのような方法は、蒸着、陰極スパッタリング、熱分解、イオンめっき、電子ビーム蒸着などを包含する。達成され得る構造の均一性および厚さを考えると、多くの場合、蒸着と陰極スパッタリングが好ましい。金属蒸気および蒸気コーティング技術を提供する多数の利用可能な手段に関しては、薄膜の真空蒸着(Vacuum Deposition of Thin Films)、L.ホーランド(L. Holland)、1970年、チャップマン・アンド・ホール(Chapman and Hall)、英国ロンドン(London)を参照する。所望により、ナノ粒子層は、マスクを用いてパターンコーティングされてよく、それによって金属ナノ粒子表面にパターンをつけることができる。
ナノ粒子コーティングの平均厚さは、市販の水晶振動子マイクロバランスを用いて、堆積中に測定することができる。堆積後、多数の化学分析を用いて、任意の指定領域で金属の質の特徴を明らかにすることができる。(ナノ粒子のアグロメレーションによって形成される)粒径は、典型的に、当該技術分野において既知の光散乱法を用いて測定される。一次粒径は、典型的には、透過電子顕微鏡法または原子間力顕微鏡法を用いて測定される。
物理的気相成長(PVD)法は、典型的に真空中での蒸発またはスパッタリングによる原子の堆積を伴う。PVD法は、次の工程を特徴とすることができる。(1)抵抗、誘導、電子線加熱、レーザビームアブレーション、直流プラズマ発生、高周波プラズマ発生、分子線エピタキシャル成長法、または同様の手段を用いて蒸発もしくはスパッタリングすることにより金属蒸気を発生させる工程、(2)金属蒸気をその供給源から、分子流、粘性流、プラズマガス輸送などによって基材に転写させる工程、および、(3)熱可塑性ポリマーフィルム上でのナノ粒子成長工程(ここでは、核形成およびナノ粒子の成長が生じる)。PVDによれば、様々な基材温度を利用して、堆積される材料の結晶化および成長モードを制御することができるが、一般に、熱可塑性ポリマーフィルムの温度は当該ポリマーの変形温度未満である。
堆積中のフィルム基材の変形または融解を避けるために、ミクロポア材料は、一般に、前記ポリマーの変形温度以下の温度に保持される。ミクロポア材料の一体性は、ナノ粒子の温度または堆積時にナノ粒子から放出される熱(凝縮熱)がフィルムの熱変形を引き起こさないように、堆積速度を制御することによって維持される。一般に、ミクロポア材料の温度は、堆積チャンバの周囲条件に保持されており、特にフィルムを冷却する必要はない。
好ましい実施形態では、ナノ粒子コーティングは、電子ビーム蒸着によってミクロポア材料に適用される。この技術は、堆積される金属上での高エネルギー電子線照射による熱産生に基づいている。電子線は、白熱電球(陰極)によって産生される電子の熱電子放出を利用して、電子銃によって発生される。放出された電子は、高い電位差(キロボルト)によって陽極に向かって加速される。(金属供給源を収容する)るつぼ自体またはその近くにある穿孔ディスクが、陽極の役割を果たすことができる。多くの場合、電子軌道を曲げるために磁界が適用され、それによって電子銃の位置を蒸着ラインより下に定めることができる。電子を収束することができるので、高密度な蒸発能(数kW)によって金属材料上に極めて局所的な加熱を達成して蒸発させることが可能である。これにより、蒸発速度を低い値から極めて高い値まで制御することができる。るつぼを冷却すると、加熱やガス抜きに起因する汚染問題が回避される。
スパッタリングによる物理的気相成長は、標的(通常は陰極)が電界で推進されたガスイオンと衝突したときに、不完全真空(ダイオードシステムの場合は13.3〜1.33Pa、またマグネトロンシステムの場合は1.3〜0.13Pa)において達成される。スパッタリングガスは、典型的に、アルゴンなどの希ガスであるが、スパッタリングガスは、窒化物類、酸化物類、および炭化物類の堆積のように、堆積したフィルム中に混入することができる反応性元素を包含することもできる。スパッタリングガスをイオン化すると、グロー放電またはプラズマが産生する。ガスイオンは、電界または電界と磁界によって、標的に向かって加速される。標的からの原子は、運動量移動によって追い出され、真空チャンバを横切って移動して、基材(熱可塑性ポリマーフィルム)上に堆積する。
別の実施形態では、ナノ粒子コーティングは、スパッタリング蒸着によってミクロポア材料に適用される。スパッタリング装置は、一般に、直径38cm(15インチ)の回転ドラムを収容する円筒形チャンバの外周の周りに配置された3源マグネトロンスパッタリングシステムから成る。基材をドラムに取り付けて、スパッタリング源の正面の連続して通過する位置を0.1rad/秒(1rpm)〜0.84rad/秒(8rpm)の速度で回転させた。供給源は、試料がいずれか2つのフラックスから同時にコーティングされないように保護する。材料の堆積速度と標的正面での基材の回転速度が、最終的な触媒粒子を含む個々の層の厚さを決定する。十分に真空引き可能ないかなる真空ポンプも使用することができる。かかる真空ポンプのうちの一つは、バリアンAV8(Varian AV8)クライオポンプ(マサチューセッツ州レキシントン(Lexington)のバリアン・アソシエーツ(Varian Associates))であり、これは、アルカテル2012Aロータリー羽根式粗引きポンプ(Alcatel 2012A rotary vane-roughing pump)(マサチューセッツ州ヒンガム(Hingham)のアルカテル・バキューム・プロダクツ(Alcatel Vacuum Products))と連動して使用することができる。クライオポンプは、バタフライ弁によってチャンバから部分的に孤立していてもよい。堆積中、スパッタリングガス流量をMKS流量調節器(マサチューセッツ州アンドーバー(Andover)のMKSインストルメンツ社(MKS Instruments Inc.))で制御した場合、圧力は0.28Pa(2.1ミリトール)に維持され得る。あらゆる不活性または反応性のスパッタリングガスが使用され得る。好ましくは、アルゴン、またはアルゴンと酸素の混合物のいずれかを使用する。酸素化学量論の制御は、アルゴン/酸素流量比を変えることによって達成することができる。あらゆる適切な標的および電源が使用され得る。一実施形態では、先進エネルギーMDX500電源(コロラド州フォート・コリンズ(Fort Collins)のアドバンスド・エナジー・インダストリーズ社(Advanced Energy Industries, Inc.))を電源の定電力モードで使用する。
物理的気相成長工程で使用できる有用な金属類には、例えば、Li、Na、K、Rb、Cs、Fr、Be、Mg、Ca、Sr、Ba、Ra、Y、La、Ac、Ti、Zr、Hf、V、Nb、Ta、Cr、Mo、W、Mn、Tc、Re、Fe、Ru、Os、Co、Rh、Ir、Ni、Pd、Pt、Cu、Ag、Au、Zn、Cd、Al、In、Tl、Sn、Pb、これらの金属類の混合物、それらの酸化物類、およびそれらの合金類、並びに所望により、ランタニドおよびアクチニドまでもが包含される。金属類は、連続して堆積されても、または同時に堆積されてもよい。
特に有用な金属類は、金、アルミニウム、銅、鉄、白金、パラジウム、イリジウム、ロジウム、オスミウム、ルテニウム、チタン、コバルト、バナジウム、マグネシウム、銀、亜鉛、およびカドミウム、インジウム、ランタン、インジウムスズ酸化物(ITO)およびアンチモンスズ酸化物(ATO)、アンチモンインジウムスズ酸化物(AITO)、スズ、ホウ素、六ホウ化ランタン、希土類金属類および希土類金属類の混合物類および合金類、並びにこれらの混合物類および合金類である。最も好ましくは貴金属類である。他の金属類も当業者には自明である。
前記プロセスは、AuまたはAgの場合と同様に、元素金属自体の蒸発を伴ってもよく、あるいはポリマーフィルムと接触する前に移動段階中に生じる実在の元素金属の発生と併せて前駆体形態の蒸発を伴ってもよい。一例は、非反応性気体としてアルゴンを用いた銀金属の蒸発と、それに続く銀ナノ粒子の反応性酸素環境への曝露であり、それによって、ポリマーフィルムと接触する前に、超微細な酸化銀コーティングされたナノ粒子(粒子のコアは銀である)が形成される。反応性気体は、ナノ粒子が形成された後で蒸発源から隔離された部位に導入されることから、最終的なナノ粒子は、中心コアと外側シェルとから成り、この場合、中心コアは金属であり、また外側シェルは、反応性気体と金属ナノ粒子との反応によって形成される層から構成することができる。
使用される場合、不活性気体は、一般に、He、Ne、Ar、Xe、およびN2から選択される。2つ以上の非反応性気体の混合物類を使用することもできる。金属の変性が望ましい場合、反応性気体は、るつぼ内でのバルク材料との反応を最小限にし、および反応性気体を気流中に入り込んだ粒子と完全に混合させることで、粒子との反応を生じさせるように配置された気体注入口から導入することができる。反応性および非反応性の気体は、一般に室温のものであるが、この温度を所望により上げるまたは下げることができる。反応性という用語には、次のことが包含される。1)粒子との直接反応であって、金属の場合と同様に、対応する酸化物または他の化合物類を形成するための、粒子(例えば、O2、NO、NO2、CO2、CO、AsH3、H2S、H2Se、NH3、トリメチルクロロシラン、メチルアミン、エチレンオキシド、水、HF、HCl、またはSO2、あるいはこれらの組み合わせ)との直接反応、あるいは、2)吸着反応であって、この場合、分散媒体を接触させる前に揮発性物質を気体に導入するが、前記物質は標準状態(大気圧および25℃)で液体でないか、前記物質は分散媒体と混和性でないか、あるいは前記物質は、ナノ粒子の表面を分散媒体または分散媒体中の添加物から保護するように作用する、吸着反応。吸着可能な典型的な物質としては、ポリ(メチルメタクリレート)およびポリスチレンなどのポリマー類が挙げられる。
ナノ粒子類をコーティングするのに有用な装置は、次の手段を含む。
a)回収容器に接続された炉であって、この炉は、加熱手段(例えば、抵抗、誘導、電子線、赤外線、レーザ、プラズマジェット)を備えており、そして少なくとも第1のガス導入管と所望により第2のガス導入管とを含有するように適合されており、前記第2の管は、前記第1の管よりも下流に配置されており、また前記炉は、前記炉および回収容器を真空にするための手段(例えば、ロータリー油ポンプ、油拡散ポンプ、ピストンポンプ、ルーツ(Roots)(登録商標)ブロワー、およびターボ分子ポンプなどのポンプ)も備えており、前記容器には分散媒体が収容されているもの、
b)前記炉に金属を導入および排出するための手段(例えば、金属を予め仕込むことができるか、あるいは、装置の運転中に連続的、または、バッチ式に供給することができるセラミック製、もしくは、金属製のるつぼ、または、スラブ、あるいは、電極が当該手段であることもある)、
c)所望により、第1の導入管から第1の非反応性気流を前記炉に導入するための手段(例えば、マイクロ絞り弁、電子流量コントローラー、または気体分散管)、
d)金属ナノ粒子を第1気流中に蒸発させるための手段(例えば、電子線、赤外線、レーザ、誘導、抵抗、またはプラズマジェットによるエネルギー入力)、
e)第1気流中で気化した金属ナノ粒子を凝縮させて、ナノ粒子の分散体を第1気流内へ生成するための手段(例えば、温度を下げる、圧力を上げる、非反応性気体の化学的性質を変化させる、移送管の長さを制御する、気体流量を制御する、またはこれらの組み合わせ)、
f)所望により、第2反応性気流を第2の導入管から前記炉に導入して、金属ナノ粒子と反応させるための手段(例えば、マイクロ絞り弁、電子流量コントローラー、または気体分散管)、
g)ナノ粒子を熱可塑性ミクロポア材料表面上に衝突させるための手段。
本発明の分散体を提供するための他の反応装置の設計も想定することができ、これら反応装置としては、有機金属化学における金属蒸気合成(Metal Vapour Synthesis in Organometallic Chemistry)、J.R.ブラックボロー(J. R. Blackborow)およびD.ヤング(D. Young)、スプリンガー−フェルラーク(Springer-Verlag)(ニューヨーク)、1979年に記載されているような回転式金属原子反応装置、および日本応用物理学会誌(Jpn. J. Appl. Phys.)、13、749(1974年)に記載されているような回転盤アセンブリが挙げられる。どちらの種類の反応装置を使用しても、有機顔料の分散体を生成することができる。抵抗加熱に加えて、顔料または顔料前駆体に熱を加える別の手段も想定することができる。これらには、レーザ加熱、誘導加熱、プラズマジェット、プラズマアーク放電、および当業者に既知の他のものが包含される。
熱可塑性ミクロポア材料は、金属ナノ粒子類の堆積前またはその堆積後に延伸されてもよいが、好ましくは堆積前に延伸される。延伸条件は、前記膜とナノ粒子コーティングとの一体性が維持されるように選択される。従って、機械方向および/または横断方向に延伸する場合、前記膜の実質的な引裂き、変形、または分裂を回避するように、温度を選択する。温度が低すぎる場合または延伸比が極端に高い場合、フィルムは、引裂きまたは更に突発的な損傷を生じ易くなる場合がある。好ましくは、延伸温度は、前記ポリマーのガラス転移温度よりも高い。このような温度条件では、フィルムの一体性を損なわずにX方向およびY方向に延伸することができる。
ポリマーフィルムは、1つの長軸(単軸)に沿って延伸されてよく、また更には、2つの長軸(二軸)に沿って延伸されてもよい。延伸は、連続的に行われても、同時に行われてもよい。延伸の程度は、一般に、延伸比、すなわち最終的な面積と元の面積との比によって定義される。この延伸は、カレンダ処理工程と縦方向の延伸の工程とを包含する、本発明における技術の組み合わせによってもたらされることができる。一般に、総延伸比は、少なくとも1.1倍であり、好ましくは少なくとも5倍である。
延伸すると、コアポリマー本体はまた、直交延伸時の自然減(これは延伸比の平方根に相当する)から直交延伸方向に寸法緩和されてもよく、または拘束されてもよい(すなわち、直交延伸寸法の実質的な変化なし)。ミクロポア膜は、長さ方向の調節器(orienter)の場合と同様に機械方向に、そしてテンターを用いて幅方向に、または対角線角度で、延伸されてよい。
所望により、ミクロポア膜は、好ましくは、応力を緩和するのに十分な温度で延伸後にアニールされてよいが、それは、前記膜またはコーティングの劣化がもたらされるほど長くないか、またはそれほど高い温度でもない。好適なアニール処理の温度は、用いられるポリマーの種類によって異なる。好ましくは、アニール処理の工程中、フィルムには圧力を加えない。通常、アニールされるフィルムは非接着性支持体の上に単に載せてあり、前記非接着性支持体の周りには、温風が循環されているかまたはその上部に輻射ヒーターが配置されている。
所望により、ナノ粒子コーティングされた物品は、更に、ナノ粒子を環境影響および機械的応力から隔離するための保護層を含んでもよい。保護層は、望ましくは、それを除去してナノ粒子が基材表面に転写できるように、ミクロポア材料のコーティングした表面に開放可能なように貼り付けられる。この付加的な層は、金属ナノ粒子層、および熱可塑性フィルム層の露出表面(すなわち、コーティングされていない領域)と接触してもよい。この層はナノ粒子層を磨耗または酸化から保護し、並びに耐化学性も付与する。
加えて、コーティングされたミクロポア膜のコーティングされていない表面は、ミクロポア膜のコーティングされていない主表面に結合された、積層された、貼り付けられた、あるいは接着された支持体層を有してもよい。支持体層は、堆積前にミクロポア層の表面に共押出しすることができ、または支持体層は、ミクロポア層のコーティングされていない表面上に好適な感圧接着剤もしくは非感圧接着剤を用いてコーティング、結合、または積層することができる。支持体層は、好ましくは、熱可塑性ポリマーから作製され、これは、熱可塑性ポリマーフィルム層の構築時に使用されるものと同一であっても、または異なってもよい。他の好適なコーティング類としては、ハードコート類、接着剤類、帯電防止剤類、接着促進プライマー類、UV安定化コーティング、摩擦低減層などが挙げられるが、これらに限定されない。
不連続なナノ粒子コーティングの堆積後、大部分の金属ナノ粒子は、ミクロポア膜の主表面上に部分的に張り付いており、主表面と垂直な方向から見ると露出している。物理的気相成長法は「視線」法であるため、少数(50%未満)のナノ粒子は、主表面より下のミクロ細孔内に見出されるが、大気と直接連通している。理論に束縛されるものではないが、金属ナノ粒子は、その表面をコーティングする残留希釈剤を用いてミクロポアを有するポリマーに貼り付けられると考えられる。ただし、いくつかのナノ粒子は、堆積の潜熱の結果としてポリマー微細繊維が部分溶融することにより、ポリマー表面に直接貼り付けられる場合もある。ナノ粒子がミクロポア膜に貼り付けられる手段に関わらず、その付着は、基材に圧力転写できるほど十分に弱い。
本発明はまた、ナノ粒子コーティングされたミクロポア表面を好適な基材に、転写、少なくとも部分転写を行うのに十分な圧力を加えて接触させることによって、ナノ粒子コーティングを基材上に堆積することとする、物品及び方法も提供する。転写を行うためには、僅かな圧力(<6.8kPa(1ポンド/インチ2))しか必要ないが、より高い圧力を使用してもよい。「部分転写」とは、少なくとも10%のナノ粒子がミクロポア膜から目的とされる基材へ転写されることを意味する。好ましくは、少なくとも50%のナノ粒子が転写される。理論に束縛されるものではないが、残留希釈剤は、液体溶媒を提供することによってナノ粒子の転写を助けると考えられる。圧力を加えると、(ナノ粒子がその中に分散された)希釈剤のうち幾らかがミクロポア膜から基材表面へ押し出される。
転写は、手または指の圧力によって行ってよいが、ローラー、針、スタンプ、またはプレスなどの道具を用いてもよい。所望により、ナノ粒子は、所望のパターンが構成されたテンプレート、マスク、またはスタンプをナノ粒子コーティングされた物品または基材に接触させて圧力を加えることにより、予め選ばれたパターンで転写され得る。転写は、一時的な圧力で行われてもよく、またはプレスの場合と同様に圧力を数分間維持してもよい。熱は必要ないが、ある応用では、転写を行うために圧力と共に熱を加えてもよい。
基材は、あらゆる好適な材料から作製することができ、また多種多様のフィルム類、シート類、ウェファー類、および他の表面類から特定の最終用途への適用に応じて選択することができる。有用な基材類としては、金属類、ガラス、セラミック、ケイ素、およびITOなどの無機基材類、およびポリオレフィン類、ポリエーテルスルホン類、ポリカーボネート類、ポリエステル類、ポリアリーレート類(polyarylates)、ポリイミド類、ポリマー多層膜類などの熱可塑性ポリマー類および熱硬化性ポリマー類を包含する有機基材類、並びに有機/無機複合多層被膜類が挙げられる。可撓性ロール類またはガラス製シート類も使用可能である。多数の光学用途の場合、基材材料は、望ましくは透明であり得るか、または例えば、ステンレス鋼、結晶性ケイ素、ポリシリコンなどのように可視光線に対して不透明でもあり得る。基材は、所望により、ナノ粒子類の接着力を増強するために、プライマー(例えば、シランカップリング剤類)で予め処理することができる。
抗菌物質類は、銀、酸化銀(または他の銀含有化合物類)ナノ粒子を織物もしくは不織布またはポリマー布地、あるいはポリマーフィルム基材へ転写することによって調製され得る。ある応用では、抗菌性ナノ粒子類を皮膚、例えば、傷口または切開部に直接転写することが望ましい場合がある。
有利には、前記方法はまた、コーティングされたミクロポア膜からナノ粒子が転写されるので、基材上でのナノ粒子コーティング密度を制御することも可能である。ミクロポア物品は、所望により、(配向によって)延伸、または(配向されたミクロポア物品に熱を加えることによって)収縮されてもよい。物品が収縮されると、粒子間距離が短くなるので、転写された基材により大きなコーティング密度が付与される。逆に、コーティングされたミクロポア膜を延伸すると、粒子間距離が長くなって、低いコーティング密度が付与される。
本発明は、ナノ粒子コーティングされたミクロポア膜を好適な基材と、ナノ粒子の一部をミクロポア膜から基材へ転写させるのに十分な圧力において、及び、そうするのに十分な時間において、接触させる工程を含む、光学要素の製造方法を提供する。
かかる光学要素類は、好ましくは、表面プラズモン共鳴(SPR)を示すが、これは、金属ナノ粒子と誘電体との界面で振動している自由電荷の共鳴励起である。SPRスペクトルが発生および吸収されると、そのスペクトルを用いて、2つ以上の分子間での相互作用に関する特異性、反応速度論、親和力、および濃度を求めることができ、この場合、前記分子のうち一方は、固体検出表面に付着している。反応速度論は、検体が、結合した検出分子と相互作用する際の会合速度および解離速度の両者に相当する。親和力は、検体が検出分子と結合する強度を指す。特異性は、他の分子を除外して検出分子と結合する、分子の習性を指す。SPRスペクトルは、タンパク質類、ペプチド類、核酸類、炭化水素類、脂質類、および低分子量物質(例えば、ホルモン類および薬剤類)を包含する多くの種類の分子を必要とする研究において使用されてきた。
転写された金属ナノ粒子は一般に非導電性であるが、本発明はまた、電子回路類などの導電性配線の製造にも有用である。前記方法は、ナノ粒子類を伸縮性ポリマーフィルムの表面に、予め選ばれたパターンで転写することを含む。金属ナノ粒子のパターンコーティングを有する収縮性フィルムは、続いて、粒子間距離が縮められ、及び、コーティングが導電性となるように、フィルムの収縮をもたらすために加熱される。好適な収縮性フィルムおよび収縮を行う方法についての文献は、譲受人の同時係属出願である米国特許出願第(U.S.S.N.)10/739,807lに見出すことができる。
これらの実施例は単にあくまで例示を目的としたものであり、添付した特許請求の範囲の範囲に限定するものではない。本明細書の実施例およびその他の部分におけるすべての部、百分率、比などは特に注記がない限り、重量による。用いられた溶媒類および他の試薬類は、特に注記がない限り、ウィスコンシン州ミルウォーキー(Milwaukee)のシグマ−アルドリッチ・ケミカル社(Sigma-Aldrich Chemical Company)から入手した。
Figure 2008540167
実施例1
銀ナノ粒子をミクロポア膜上に電子ビーム蒸着して、40オングストロームのコーティングを得た。ミクロポア膜は、多孔質構造による光散乱に起因して、白色の不透明な外観を有していたが、結果として得られたコーティングされたフィルムは、銀コロイドナノ粒子の黄色がかった色特徴を有していた。銀コーティングされた二軸配向フィルムを、マスキングテープを用いて金属板に付着させ、次に紫外線源(メリーランド州ゲイザーズバーグ(Gaithersburg)のヒュージョンUVシステムズ社(Fusion UV Systems Inc.)製の、ハロゲン球(H bulb)を装備したフュージョンUVプロセッサー(Fusion UV Processor)モデルDRS−120)の中を3.0メートル/分(10フィート/分)で通過させた。この曝露は、エネルギー吸収の結果として孔の崩壊を引き起こし、そしてフィルムは、曝露によって半透明な橙色となった。このフィルムをUV−Vis分光光度計HP 8452A.Rev.Aを用いて190〜820ナノメートルの波長範囲において分析した。ここで、試料間隔は2ナノメートル、積分時間は0.5秒、そして路長は1センチメートルであった。データは、845X UV−VisシステムIソフトウェア(845X UV-Vis System I software)(ヒューレット・パッカード(Hewlett Packard))で処理した。半透過領域は425ナノメートルで吸収最大値を示した。
実施例2:
実施例1に記載した通りに、銀コーティングされたミクロポア膜試料を調製した。銀ナノ粒子を、約13×13センチメートル(5×5インチ)のプラテンを装備したハンドプレス(インディアナ州ウォバッシュ(Wabash)のフレッド・カーバ社(Fred Carver Inc.)製のカーバ・ハンドプレス・モデルC(Carver Hand Press Model C))を用いてスライドガラスに転写させた。51マイクロメートル厚のテフロン(登録商標)シートをフィルムの上面に用いて、スライドガラスが破損するのを予防した。接面は約(19.4cm2(3平方インチ))であり、またプレスに表示された圧力は(103.4MPa(15,000psi))であった。転写後にガラス上に黄色がかった色が現れて、ナノ粒子の転写が生じたことを示した。UV−Vis分光光度計HP 8452A.Rev.Aを用いて190〜820ナノメートルの波長範囲においてナノ粒子コーティングされたスライドガラスを分析した。ここで、試料間隔は2ナノメートル、積分時間は0.5秒、そして路長は1センチメートルであった。データは、845X UV−VisシステムIソフトウェア(845X UV-Vis System I software)で処理した。図1に示すように、プラズモンピークは約450ナノメートルを中心とした。ナノ粒子コーティングされたスライドガラス一式の調製を行った。これらスライドを積み重ねて、前記と同様にして前記UV−Vis分光光度計を用いて分析した。プラズモンピークの強度は、積み重ねたスライドの数が増える毎に増強したが、ピーク位置は移動しなかった。
実施例3:
ITOスライドガラスを用いて、実施例2に記載したのと同様の転写手順を行った。UV−Vis分光光度計HP 8452A.Rev.Aを用いて190〜820ナノメートルの波長範囲においてナノ粒子コーティングされたスライドガラスを分析した。ここで、試料間隔は2ナノメートル、積分時間は0.5秒、そして路長は1センチメートルであった。データは、845X UV−VisシステムIソフトウェア(845X UV-Vis System I software)で処理した。最初、プラズモンピークは導電性表面によって不明瞭となったが、ITO表面のバックグラウンドを減じると、プラズモンピークは、図2に示すように、452ナノメートルに現れることが明らかとなった。
実施例4:
実施例2および3に記載したのと同様の手順を用いて、銀ナノ粒子を可撓性ポリマー材料へ転写させた。銀コーティングされたミクロポア膜試料を、実施例1に記載した通りに調製した。PTFE5490テープ1枚を、接着面を下にして、銀コーティングされたミクロポア膜の上に置いた。テープを剥離すると、幾つかの銀ナノ粒子がテープの接着層に転写した。UV−Vis分光光度計HP 8452A.Rev.Aを用いて190〜820ナノメートルの波長範囲においてナノ粒子コーティングされたテープ表面を分析した。ここで、試料間隔は2ナノメートル、積分時間は0.5秒、そして路長は1センチメートルであった。データは、845X UV−VisシステムIソフトウェア(845X UV-Vis System I software)で処理した。PTFE表面のバックグラウンドを減じると、プラズモンピークが452ナノメートルに現れた。テープ試料の2方向での変形は、プラズモン共鳴ピーク最大値を520ナノメートルへ移動させた。
実施例5:
実施例4に記載したのと同様の手順を用いて、銀ナノ粒子を可撓性ポリマー材料へ転写させた。銀コーティングされたミクロポア膜試料を、実施例1に記載した通りに調製した。銀ナノ粒子を、実施例4に記載した通りにポリエチレンフィルムに転写した。UV−Vis分光光度計HP 8452A.Rev.Aを用いて190〜820ナノメートルの波長範囲においてナノ粒子コーティングされたフィルム表面を分析した。ここで、試料間隔は2ナノメートル、積分時間は0.5秒、そして路長は1センチメートルであった。データは、845X UV−VisシステムIソフトウェア(845X UV-Vis System I software)で処理した。プラズモンピークは440ナノメートルに認められた。
実施例6:
銀コーティングされたミクロポア膜試料を、実施例1に記載した通りに調製した。実施例4に記載した通りに、銀ナノ粒子を1枚のPETフィルムへ転写した。UV−Vis分光光度計HP 8452A.Rev.Aを用いて190〜820ナノメートルの波長範囲においてナノ粒子コーティングされたフィルム表面を分析した。ここで、試料間隔は2ナノメートル、積分時間は0.5秒、そして路長は1センチメートルであった。データは、845X UV−VisシステムIソフトウェア(845X UV-Vis System I software)で処理した。プラズモンピークは450ナノメートルに認められた。
実施例7〜9:
銀コーティングされたミクロポア膜試料を、実施例1に記載した通りに調製した。銀ナノ粒子を、実施例4に記載した通りに、1枚のMMOPフィルム(実施例7)、TEMOPフィルム(実施例8)、またはMOPフィルム(実施例9)へ転写した。UV−Vis分光光度計HP 8452A.Rev.Aを用いて190〜820ナノメートルの波長範囲においてナノ粒子コーティングされたフィルム表面を分析した。ここで、試料間隔は2ナノメートル、積分時間は0.5秒、そして路長は1センチメートルであった。データは、845X UV−VisシステムIソフトウェア(845X UV-Vis System I software)で処理した。実施例7(MMOPフィルム)の場合、主プラズモンピークが445ナノメートルに認められた。ただし、より短波長(254および295ナノメートル)にもはっきりと認識できる別の最大値がある。実施例8(TEMOPフィルム)の場合、主プラズモンピークが455ナノメートルに認められ、それと共にそれほどはっきりとしていない第2の最大値が284ナノメートルに認められた。実施例9(MOPフィルム)の場合、主プラズモンピークが437ナノメートルに認められ、また低波長ピークは肩のように不明瞭である。
実施例2の吸収スペクトル。 実施例3の吸収スペクトル。

Claims (23)

  1. ミクロポア膜およびその上の金属ナノ粒子の不連続コーティングを含む、物品。
  2. 前記ミクロポア膜が、連通孔の網状組織を提供するために複数の相互連結通路を有する熱可塑性ポリマー構造を含む、請求項1に記載の物品。
  3. 前記金属ナノ粒子が、100nm未満の平均の長寸法を有する個々の粒子類または粒子類の粒塊を含む、請求項1に記載の物品。
  4. 前記ミクロポア膜が延伸されている、請求項1に記載の物品。
  5. 前記金属ナノ粒子が、金、アルミニウム、銅、鉄、白金、パラジウム、イリジウム、ロジウム、オスミウム、ルテニウム、チタン、コバルト、バナジウム、マグネシウム、銀、亜鉛、およびカドミウム、インジウム、ランタン、インジウム、ランタン、インジウムスズ酸化物(ITO)およびアンチモンスズ酸化物(ATO)、アンチモンインジウムスズ酸化物(AITO)、スズ、ホウ素、六ホウ化ランタン、希土類金属類、並びにこれらの混合物および合金類から選択される、請求項1に記載の物品。
  6. 前記ナノ粒子の縦横比が1.5:1を超える、請求項1に記載の物品。
  7. 前記ミクロポア膜の前記熱可塑性ポリマーが、ポリアミド類、ポリイミド類、ポリウレタン類、ポリオレフィン類、ポリスチレン類、ポリエステル類、ポリカーボネート類、ポリケトン類、ポリ尿素類、ポリアクリレート類、およびポリメタクリレート類から選択される、請求項1に記載の物品。
  8. 請求項1〜7のいずれか1項に記載の前記ナノ粒子コーティングされたミクロポア膜の少なくとも1つの層と、少なくとも1つの別の層を含む、多層物品。
  9. 請求項1〜7のいずれか1項に記載の前記金属ナノ粒子コーティングされたフィルムの調製方法であって、
    a)ミクロポア膜を提供すること、および
    b)前記膜の表面上に金属ナノ粒子の不連続コーティングを物理的気相成長によって堆積させること、
    を含む、フィルムの調製方法。
  10. 前記ミクロポア膜が前記堆積の工程の前に延伸される、請求項9に記載のフィルムの調製方法。
  11. 前記堆積の工程の後に、前記ミクロポア膜の延伸の工程を更に含む、請求項9に記載のフィルムの調製方法。
  12. 前記堆積の工程の後に、前記ミクロポア膜の収縮の工程を更に含む、請求項9に記載のフィルムの調製方法。
  13. 前記ナノ粒子コーティングの最大平均厚さが100nm未満である、請求項9に記載のフィルムの調製方法。
  14. 物理的気相成長法が、蒸着、カソードスパッタリング、熱分解、イオンめっき、または電子ビーム蒸着から選択される、請求項9に記載のフィルムの調製方法。
  15. 前記ナノ粒子コーティングされたミクロポア膜のアニール処理の工程を更に含む、請求項10に記載のフィルムの調製方法。
  16. 前記金属ナノ粒子が予め選ばれたパターンで堆積される、請求項9に記載のフィルムの調製方法。
  17. a)基材と、請求項1〜7のいずれか1項に記載の前記ナノ粒子コーティングされた物品とを提供すること、
    b)前記ナノ粒子の少なくとも一部分を、前記ナノ粒子コーティングされた膜から前記基材の表面へ転写させるのに十分な圧力を加え、前記基材と前記ナノ粒子コーティングされた物品を接触させること、
    を含む、ナノ粒子コーティングの基材上への提供方法。
  18. 前記基材が、金属類、ガラス、ケイ素およびITO、織物および不織布、並びに熱可塑性ポリマー類および熱硬化性ポリマー類から選択される、請求項17に記載のナノ粒子コーティングの基材上への提供方法。
  19. 前記ナノ粒子類が、予め選ばれたパターンで転写される、請求項17に記載のナノ粒子コーティングの基材上への提供方法。
  20. 前記基材が透明である、請求項17に記載のナノ粒子コーティングの基材上への提供方法。
  21. 前記基材が、堆積後に表面プラズモン共鳴を有する、請求項17に記載のナノ粒子コーティングの基材上への提供方法。
  22. 前記基材が収縮性の熱可塑性フィルム基材である、請求項17に記載のナノ粒子コーティングの基材上への提供方法。
  23. 前記収縮性の熱可塑性フィルム基材を収縮させて導電性ナノ粒子コーティングを提供する工程を更に含む、請求項22に記載のナノ粒子コーティングの基材上への提供方法。
JP2008510053A 2005-05-04 2006-04-26 金属ナノ粒子コーティングを有するミクロポア物品 Pending JP2008540167A (ja)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US11/121,479 US7666494B2 (en) 2005-05-04 2005-05-04 Microporous article having metallic nanoparticle coating
PCT/US2006/015808 WO2006118903A2 (en) 2005-05-04 2006-04-26 Microporous article having metallic nanoparticle coating

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2008540167A true JP2008540167A (ja) 2008-11-20
JP2008540167A5 JP2008540167A5 (ja) 2009-06-18

Family

ID=37067624

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2008510053A Pending JP2008540167A (ja) 2005-05-04 2006-04-26 金属ナノ粒子コーティングを有するミクロポア物品

Country Status (5)

Country Link
US (3) US7666494B2 (ja)
EP (1) EP1885905A2 (ja)
JP (1) JP2008540167A (ja)
CN (1) CN101171360B (ja)
WO (1) WO2006118903A2 (ja)

Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2008105402A (ja) * 2006-09-27 2008-05-08 Toray Ind Inc 金属化多孔質フィルム
JP2011517620A (ja) * 2008-04-10 2011-06-16 サントル、ナショナール、ド、ラ、ルシェルシュ、シアンティフィク、(セーエヌエルエス) 液体媒体中で安定している重合体フィルムによる基材の被覆
JP2012255197A (ja) * 2011-06-10 2012-12-27 Tohoku Univ ナノ金属ガラス粒子集合体の製造方法
JP2013517119A (ja) * 2010-01-14 2013-05-16 ピーツーアイ リミティド 撥液性表面
JP2013126658A (ja) * 2011-12-13 2013-06-27 Pall Corp 局所的な非対称性を有する膜
KR20220119977A (ko) * 2021-02-22 2022-08-30 한국과학기술연구원 나노다공성 합금 박막의 제조방법

Families Citing this family (64)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US8309163B2 (en) 2004-02-19 2012-11-13 Nanosolar, Inc. High-throughput printing of semiconductor precursor layer by use of chalcogen-containing vapor and inter-metallic material
US8623448B2 (en) * 2004-02-19 2014-01-07 Nanosolar, Inc. High-throughput printing of semiconductor precursor layer from chalcogenide microflake particles
US7700464B2 (en) * 2004-02-19 2010-04-20 Nanosolar, Inc. High-throughput printing of semiconductor precursor layer from nanoflake particles
US7663057B2 (en) 2004-02-19 2010-02-16 Nanosolar, Inc. Solution-based fabrication of photovoltaic cell
US8642455B2 (en) * 2004-02-19 2014-02-04 Matthew R. Robinson High-throughput printing of semiconductor precursor layer from nanoflake particles
US7306823B2 (en) * 2004-09-18 2007-12-11 Nanosolar, Inc. Coated nanoparticles and quantum dots for solution-based fabrication of photovoltaic cells
US8846141B1 (en) 2004-02-19 2014-09-30 Aeris Capital Sustainable Ip Ltd. High-throughput printing of semiconductor precursor layer from microflake particles
US8329501B1 (en) 2004-02-19 2012-12-11 Nanosolar, Inc. High-throughput printing of semiconductor precursor layer from inter-metallic microflake particles
US8372734B2 (en) * 2004-02-19 2013-02-12 Nanosolar, Inc High-throughput printing of semiconductor precursor layer from chalcogenide nanoflake particles
US7666494B2 (en) * 2005-05-04 2010-02-23 3M Innovative Properties Company Microporous article having metallic nanoparticle coating
JP2009501095A (ja) * 2005-07-14 2009-01-15 スリーエム イノベイティブ プロパティズ カンパニー 金属性ナノ粒子コーティングを有する水溶性ポリマー基材
US20070178293A1 (en) * 2006-01-06 2007-08-02 Yerkes Steven C Super Lattice Intrinsic Materials
WO2007117191A1 (en) 2006-04-07 2007-10-18 Bactiguard Ab Novel antimicrobial substrates and uses thereof
WO2007117672A2 (en) 2006-04-07 2007-10-18 Qd Vision, Inc. Methods of depositing nanomaterial & methods of making a device
WO2008111947A1 (en) 2006-06-24 2008-09-18 Qd Vision, Inc. Methods and articles including nanomaterial
US7952805B2 (en) * 2006-08-22 2011-05-31 3M Innovative Properties Company Solar control film
US20110117648A1 (en) * 2007-07-26 2011-05-19 The Regents Of The University Of California Single cell surgery tool and a cell transfection device utilizing the photothermal properties of thin films and/or metal nanoparticles
US8252194B2 (en) * 2008-05-02 2012-08-28 Micron Technology, Inc. Methods of removing silicon oxide
CN102449460B (zh) * 2009-04-03 2014-11-12 3M创新有限公司 微生物浓集方法和装置
US20110037976A1 (en) * 2009-08-17 2011-02-17 Yiping Zhao Flexible surface enhanced raman spectroscopy (sers) substrates, methods of making, and methods of use
US20130020113A1 (en) * 2010-01-27 2013-01-24 Javier Jesus Concepcion Corbea Nanoparticle Electrodes and Methods of Preparation
EP2372343A1 (en) * 2010-02-25 2011-10-05 Stichting IMEC Nederland Gas sensor, method for optically measuring the presence of a gas using the gas sensor and gas sensing system
US8711356B2 (en) 2010-02-25 2014-04-29 Stichting Imec Nederland Gas sensor with a porous layer that detectably affects a surface lattice resonant condition of a nanoparticle array
CN102782772A (zh) * 2010-03-05 2012-11-14 卡尔斯特里姆保健公司 透明导电膜、制品及方法
US8911823B2 (en) * 2010-05-03 2014-12-16 Pen Inc. Mechanical sintering of nanoparticle inks and powders
US9572880B2 (en) 2010-08-27 2017-02-21 Sienna Biopharmaceuticals, Inc. Ultrasound delivery of nanoparticles
WO2012027728A2 (en) 2010-08-27 2012-03-01 Sienna Labs, Inc. Compositions and methods for targeted thermomodulation
WO2012031201A2 (en) * 2010-09-03 2012-03-08 Massachusetts Institute Of Technology Fabrication of anti-fouling surfaces comprising a micro- or nano-patterned coating
FR2964469B1 (fr) * 2010-09-08 2016-01-01 Univ Troyes Technologie Substrat revetu de nanoparticules, et son utilisation pour la detection de molecules isolees.
US20120183674A1 (en) * 2011-01-18 2012-07-19 Bonn-Savage Nathan G Method of Selectively Applying an Antimicrobial Coating to a Medical Device or Device Material
AU2012255988B2 (en) 2011-05-13 2017-07-13 The Regents Of The University Of California Photothermal substrates for selective transfection of cells
EP3124236A1 (en) 2011-06-17 2017-02-01 Fiberweb, Inc. Vapor permeable, substantially water impermeable multilayer article
WO2012178027A2 (en) 2011-06-23 2012-12-27 Fiberweb, Inc. Vapor-permeable, substantially water-impermeable multilayer article
EP2723568B1 (en) 2011-06-23 2017-09-27 Fiberweb, LLC Vapor permeable, substantially water impermeable multilayer article
EP2723567A4 (en) 2011-06-24 2014-12-24 Fiberweb Inc MULTILAYER ARTICLE PERMEABLE TO WATER VAPOR, BUT ESSENTIALLY WATERPROOF
US20130189428A1 (en) * 2011-06-27 2013-07-25 Cedric TROADEC Method for transferring target particles between substrates
US8810789B2 (en) 2011-11-07 2014-08-19 University Of Georgia Research Foundation, Inc. Thin layer chromatography-surfaced enhanced Raman spectroscopy chips and methods of use
AU2012274016B2 (en) * 2011-12-13 2014-09-04 Cytiva Us Llc Membrane with localized asymmetries
US9862842B2 (en) 2012-02-29 2018-01-09 Sabic Global Technologies B.V. Infrared radiation absorbing articles and method of manufacture
US9624973B2 (en) * 2012-03-19 2017-04-18 Samsung Electronics Co., Ltd. Apparatus having friction preventing function and method of manufacturing the same
CA2787584A1 (en) 2012-08-22 2014-02-22 Hy-Power Nano Inc. Method for continuous preparation of indium-tin coprecipitates and indium-tin-oxide nanopowders with substantially homogeneous indium/tin composition, controllable shape and particle size
EP3272388A1 (en) 2012-10-11 2018-01-24 Nanocomposix, Inc. Silver nanoplate compositions and methods
FR3000408B1 (fr) * 2013-01-03 2015-02-27 Commissariat Energie Atomique Procede de realisation d'un filtre destine a la filtration de nanoparticules, filtre obtenu et procede de collecte et d'analyse quantitative de nanoparticules associe.
CA2905999A1 (en) 2013-03-15 2014-09-25 The Regents Of The University Of California High-throughput cargo delivery into live cells using photothermal platforms
US9370749B2 (en) * 2013-04-24 2016-06-21 Battelle Memorial Institute Porous multi-component material for the capture and separation of species of interest
CN103439309A (zh) * 2013-08-19 2013-12-11 南通大学 高灵敏度的co气体光谱传感器的制备方法
AU2015235932B2 (en) 2014-03-28 2021-08-05 The Regents Of The University Of California Efficient delivery of large cargos into cells on a porous substrate
US9832875B2 (en) * 2014-07-07 2017-11-28 Hamilton Sundstrand Corporation Method for manufacturing layered electronic devices
US10322379B2 (en) * 2014-07-21 2019-06-18 Ohio State Innovation Foundation Composite membranes for separation of gases
KR20200103890A (ko) 2015-02-13 2020-09-02 엔테그리스, 아이엔씨. 기판 제품 및 장치의 특성 및 성능을 향상시키기 위한 코팅
CA2980020C (en) 2015-03-30 2023-08-01 Giridhar Thiagarajan Application of antimicrobial agents to medical devices
JP2018529179A (ja) * 2015-07-22 2018-10-04 セルガード エルエルシー 改良された膜、セパレータ、電池及び方法
US10012674B2 (en) * 2015-09-04 2018-07-03 The Regents Of The University Of California Nanoantenna scanning probe tip, and fabrication methods
KR20240090682A (ko) * 2016-03-29 2024-06-21 셀가드 엘엘씨 마이크로다공성 멤브레인을 위한 개선된 증착물 또는 층, 개선된 멤브레인, 개선된 리튬 전지 분리기, 개선된 전지, 개선된 고전압 리튬 전지, 및 관련 방법
CN106637110B (zh) * 2016-10-19 2018-11-13 中南大学 锇膜电阻型原子氧密度传感器芯片的制备方法
CN108309017B (zh) * 2017-01-17 2023-08-29 佛山市顺德区美的电热电器制造有限公司 锅具及其制备方法和烹饪器具
CN215915829U (zh) 2018-07-02 2022-03-01 C·R·巴德股份有限公司 抗微生物导管组件
GB2591674B (en) * 2018-08-31 2023-07-05 Kimberly Clark Co Methods and systems for cutting or perforating a web with a laser
CN109628968B (zh) * 2019-01-30 2020-06-30 中南大学 一种tsv快速填充方法与装置
US11952657B2 (en) 2019-05-23 2024-04-09 Milliken & Company Stain hiding fabric with metallic coating
CN110237723B (zh) * 2019-06-21 2021-09-21 中国科学院烟台海岸带研究所 一种镁掺杂抗菌膜及其制备方法和应用
KR102370705B1 (ko) * 2020-06-30 2022-03-04 고려대학교 산학협력단 루테늄계 나노선 및 그의 제조 방법
CN112609163A (zh) * 2020-10-30 2021-04-06 深圳市矽谷溅射靶材有限公司 一种含纳米抗菌元素粉体的制备方法
US11712667B2 (en) 2021-03-23 2023-08-01 Applied Membrane Technology, Inc. Anti-microbial metal coatings for filters

Citations (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6412406A (en) * 1987-07-07 1989-01-17 Nitto Denko Corp Directional conductor and manufacture thereof
JPH02125730A (ja) * 1988-07-27 1990-05-14 Toyo Alum Kk 電磁波シールド性を有する成形用シート及びそのシートを用いた成形体
JPH0639960A (ja) * 1992-03-12 1994-02-15 Kimberly Clark Corp 弾性金属化フィルム及びその製造方法
JPH09131830A (ja) * 1995-11-13 1997-05-20 Japan Tobacco Inc 金属蒸着層を有する軟質ポリ塩化ビニル積層体およびその製造方法
WO2000034033A1 (en) * 1998-12-04 2000-06-15 The Regents Of The University Of California Novel controllable ion-exchange membranes
JP2001316501A (ja) * 2000-03-03 2001-11-16 Natl Inst Of Advanced Industrial Science & Technology Meti ナノ粒子分散構造体及びその積層体
WO2003093809A1 (en) * 2002-04-30 2003-11-13 University Of Maryland, Baltimore Fluorescence sensing
JP2005007668A (ja) * 2003-06-17 2005-01-13 Matsushita Electric Ind Co Ltd 金属被膜フッ素樹脂基板、その評価方法及びその製造方法

Family Cites Families (56)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US677926A (en) * 1900-12-05 1901-07-09 Francis J Arend Centrifugal machine.
US4247498A (en) 1976-08-30 1981-01-27 Akzona Incorporated Methods for making microporous products
US4539256A (en) 1982-09-09 1985-09-03 Minnesota Mining And Manufacturing Co. Microporous sheet material, method of making and articles made therewith
US4849311A (en) 1986-09-24 1989-07-18 Toa Nenryo Kogyo Kabushiki Kaisha Immobilized electrolyte membrane
US4726989A (en) 1986-12-11 1988-02-23 Minnesota Mining And Manufacturing Microporous materials incorporating a nucleating agent and methods for making same
US4867881A (en) * 1987-09-14 1989-09-19 Minnesota Minning And Manufacturing Company Orientied microporous film
US4871790A (en) 1987-11-25 1989-10-03 Minnesota Mining And Manufacturing Company Colloidal metals in monomers or polymers
US5026599A (en) 1988-08-29 1991-06-25 Minnesota Mining & Manufacturing Array of densely packed discrete metal microspheres coated on a substrate
US4863792A (en) 1988-10-14 1989-09-05 Minnesota Mining And Manufacturing Company Multi-layer laminates of microporous films
US5130342A (en) 1988-10-14 1992-07-14 Mcallister Jerome W Particle-filled microporous materials
US5238623A (en) 1989-11-20 1993-08-24 Minnesota Mining And Manufacturing Company Method for preparing microporous polyolefin shaped articles
JP2635218B2 (ja) 1993-01-21 1997-07-30 イー・アイ・デュポン・ドゥ・ヌムール・アンド・カンパニー 金属化ポリ(乳酸)フィルム
US5366140A (en) 1993-09-30 1994-11-22 Minnesota Mining And Manufacturing Company Patterned array of uniform metal microbeads
DE19544912A1 (de) * 1995-12-01 1997-06-05 Gore W L & Ass Gmbh PTFE-Körper aus mikroporösem Polytetrafluorethylen mit Füllstoff und Verfahren zu dessen Herstellung
US5922403A (en) * 1996-03-12 1999-07-13 Tecle; Berhan Method for isolating ultrafine and fine particles
US5774619A (en) 1996-05-15 1998-06-30 Hughes Electronics Corporation Precision deformation mechanism and method
US5750641A (en) 1996-05-23 1998-05-12 Minnesota Mining And Manufacturing Company Polyimide angularity enhancement layer
WO1998010289A1 (en) 1996-09-04 1998-03-12 The Penn State Research Foundation Self-assembled metal colloid monolayers
DK1017848T3 (da) 1997-07-28 2003-02-10 Medical Biosystems Ltd Nucleinsyresekvensanalyse
US6042959A (en) * 1997-10-10 2000-03-28 3M Innovative Properties Company Membrane electrode assembly and method of its manufacture
US6537650B1 (en) * 1998-06-19 2003-03-25 3M Innovative Properties Company Inkjet receptor medium having ink migration inhibitor and method of making and using same
US6383612B1 (en) * 1998-06-19 2002-05-07 3M Innovative Properties Company Ink-drying agents for inkjet receptor media
AU8761498A (en) 1998-07-30 2000-02-21 Minnesota Mining And Manufacturing Company Nanosize metal oxide particles for producing transparent metal oxide colloids and ceramers
US6096213A (en) 1998-08-14 2000-08-01 3M Innovative Properties Company Puncture-resistant polyolefin membranes
US6514599B1 (en) * 1999-04-16 2003-02-04 3M Innovative Properties Company Inkjet receptor medium having a multi-staged ink migration inhibitor and method of making and using same
US20010036546A1 (en) 1999-08-03 2001-11-01 Kaytor Scott R. Dimensionally stabilized diffuse reflective articles
GB0006050D0 (en) 2000-03-14 2000-05-03 Johnson Matthey Plc Liquid gold compositions
DE60127035T2 (de) * 2000-06-29 2007-11-08 Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. Thermisches Sprühbeschichtungsverfahren und Pulver aus Oxyden der seltenen Erden dafür
US20030114568A1 (en) 2000-07-07 2003-06-19 Shizuko Sato Ultrafine metal particle/polymer hybrid material
US6411748B1 (en) 2000-07-17 2002-06-25 Alcatel Usa Sourcing, L.P. Wide tuning range acousto-optical fiber Bragg grating filter (FBGF)
EP1311238B1 (de) * 2000-08-18 2009-10-21 Bitop Gesellschaft für Biotechnische Optimierung mbH Verwendung von di-zuckeralkoholphosphaten zum schutz menschlicher hautzellen vor uv- und/oder ir-strahlung
US6773926B1 (en) 2000-09-25 2004-08-10 California Institute Of Technology Nanoparticle-based sensors for detecting analytes in fluids
US6569529B1 (en) 2000-10-10 2003-05-27 Flex Product, Inc. Titanium-containing interference pigments and foils with color shifting properties
AR032424A1 (es) * 2001-01-30 2003-11-05 Procter & Gamble Composiciones de recubrimiento para modificar superficies.
US20020142306A1 (en) 2001-03-28 2002-10-03 3M Innovative Properties Company Method of transferring molecules to a film laminate
CN100354699C (zh) 2001-08-02 2007-12-12 伊吉斯半导体公司 可调谐光学仪器
US20030060878A1 (en) * 2001-08-31 2003-03-27 Shadduck John H. Intraocular lens system and method for power adjustment
US6805940B2 (en) * 2001-09-10 2004-10-19 3M Innovative Properties Company Method for making conductive circuits using powdered metals
US20030070569A1 (en) * 2001-10-11 2003-04-17 Colin Bulthaup Micro-stencil
US6962946B2 (en) 2001-11-21 2005-11-08 3M Innovative Properties Company Nanoparticles having a rutile-like crystalline phase and method of preparing same
US7129096B2 (en) 2001-12-11 2006-10-31 Duke University Sensor for use in testing biological, biochemical, chemical or environmental samples
US6642295B2 (en) 2001-12-21 2003-11-04 Eastman Kodak Company Photoresist nanocomposite optical plastic article and method of making same
US6858290B2 (en) 2002-05-29 2005-02-22 3M Innovative Properties Company Fluid repellent microporous materials
CA2501104C (en) 2002-10-09 2011-11-29 Andre Arsenault Widely wavelength tuneable polychrome colloidal photonic crystal device
US7030989B2 (en) 2002-10-28 2006-04-18 University Of Washington Wavelength tunable surface plasmon resonance sensor
US6838486B2 (en) 2003-01-07 2005-01-04 Aps Laboratory Preparation of metal nanoparticles and nanocomposites therefrom
US7078276B1 (en) * 2003-01-08 2006-07-18 Kovio, Inc. Nanoparticles and method for making the same
JP2004217973A (ja) * 2003-01-14 2004-08-05 Gunze Ltd 薄膜および薄膜製造方法
US6816125B2 (en) * 2003-03-01 2004-11-09 3M Innovative Properties Company Forming electromagnetic communication circuit components using densified metal powder
US20040265565A1 (en) 2003-06-30 2004-12-30 Fischer Patrick J. Microporous article containing flame retardant
GB0316553D0 (en) 2003-07-15 2003-08-20 Densham Daniel Method
JP2005118963A (ja) 2003-10-17 2005-05-12 Ube Ind Ltd ブロック共重合体膜、その製造方法、基材、および触媒
US7033667B2 (en) 2003-12-18 2006-04-25 3M Innovative Properties Company Printed circuits on shrink film
US7195813B2 (en) * 2004-05-21 2007-03-27 Eastman Kodak Company Mixed absorber layer for displays
US7274458B2 (en) 2005-03-07 2007-09-25 3M Innovative Properties Company Thermoplastic film having metallic nanoparticle coating
US7666494B2 (en) * 2005-05-04 2010-02-23 3M Innovative Properties Company Microporous article having metallic nanoparticle coating

Patent Citations (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6412406A (en) * 1987-07-07 1989-01-17 Nitto Denko Corp Directional conductor and manufacture thereof
JPH02125730A (ja) * 1988-07-27 1990-05-14 Toyo Alum Kk 電磁波シールド性を有する成形用シート及びそのシートを用いた成形体
JPH0639960A (ja) * 1992-03-12 1994-02-15 Kimberly Clark Corp 弾性金属化フィルム及びその製造方法
JPH09131830A (ja) * 1995-11-13 1997-05-20 Japan Tobacco Inc 金属蒸着層を有する軟質ポリ塩化ビニル積層体およびその製造方法
WO2000034033A1 (en) * 1998-12-04 2000-06-15 The Regents Of The University Of California Novel controllable ion-exchange membranes
JP2001316501A (ja) * 2000-03-03 2001-11-16 Natl Inst Of Advanced Industrial Science & Technology Meti ナノ粒子分散構造体及びその積層体
WO2003093809A1 (en) * 2002-04-30 2003-11-13 University Of Maryland, Baltimore Fluorescence sensing
JP2005007668A (ja) * 2003-06-17 2005-01-13 Matsushita Electric Ind Co Ltd 金属被膜フッ素樹脂基板、その評価方法及びその製造方法

Cited By (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2008105402A (ja) * 2006-09-27 2008-05-08 Toray Ind Inc 金属化多孔質フィルム
JP2011517620A (ja) * 2008-04-10 2011-06-16 サントル、ナショナール、ド、ラ、ルシェルシュ、シアンティフィク、(セーエヌエルエス) 液体媒体中で安定している重合体フィルムによる基材の被覆
JP2013517119A (ja) * 2010-01-14 2013-05-16 ピーツーアイ リミティド 撥液性表面
JP2012255197A (ja) * 2011-06-10 2012-12-27 Tohoku Univ ナノ金属ガラス粒子集合体の製造方法
JP2013126658A (ja) * 2011-12-13 2013-06-27 Pall Corp 局所的な非対称性を有する膜
KR101473462B1 (ko) 2011-12-13 2014-12-16 폴 코포레이션 국소화된 비대칭성을 갖는 막
KR20220119977A (ko) * 2021-02-22 2022-08-30 한국과학기술연구원 나노다공성 합금 박막의 제조방법
KR102594660B1 (ko) * 2021-02-22 2023-10-27 한국과학기술연구원 나노다공성 합금 박막의 제조방법

Also Published As

Publication number Publication date
US20060251874A1 (en) 2006-11-09
US20100112199A1 (en) 2010-05-06
WO2006118903A3 (en) 2007-01-04
CN101171360B (zh) 2010-12-22
EP1885905A2 (en) 2008-02-13
US7666494B2 (en) 2010-02-23
US20100108494A1 (en) 2010-05-06
CN101171360A (zh) 2008-04-30
US8834686B2 (en) 2014-09-16
WO2006118903A2 (en) 2006-11-09
US8062701B2 (en) 2011-11-22

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2008540167A (ja) 金属ナノ粒子コーティングを有するミクロポア物品
US7935540B2 (en) Water-soluble polymeric substrate having metallic nanoparticle coating
EP1861693B1 (en) Method for preparing a thermoplastic film having metallic nanoparticle coating
US8137442B2 (en) Process for producing a nanoporous layer of nanoparticles and layer thus obtained
US8586142B2 (en) Method and apparatus for producing small structures
JP2010518224A (ja) 重合性モノマーと非重合性担体溶媒/塩の混合物/溶液の共フラッシュ蒸発
US11402547B2 (en) Methods of forming particulate films and films and devices made therefrom
KR101563231B1 (ko) 나노시트-무기물 적층 다공성 나노구조체 및 이의 제조 방법
Gong et al. Honeycomb Microstructured Silicon Oxycarbide Sheets from Silicon‐Containing Graft Copolymer Films
JP2019521020A (ja) フルオロカーボン剥離コーティング
Xu et al. Enhanced thermal stability of monodispersed silver cluster arrays assembled on block copolymer scaffolds
Park et al. Array of luminescent Er-doped Si nanodots fabricated by pulsed laser deposition
Qiu et al. Self-assembled growth and enhanced blue emission of SiOxNy-capped silicon nanowire arrays
JP2003318010A (ja) ハニカム構造体の空孔に磁性材料微粒子を含有する材料
Gordon et al. Control of morphology in inert-gas condensation of metal oxide nanoparticles
Wang et al. Capillary Flow‐Driven, Hierarchical Chiral Self‐Assembly of Peptide Nanohelix Arrays
JPS6339631A (ja) 有機物微粒子の製造方法
Ohmi et al. Study of the interaction between molten indium and sub-atmospheric pressure hydrogen glow discharge for low-temperature nanostructured metallic particle film deposition
JP2007090767A (ja) ガスバリアフィルム
Tomioka et al. Lowered melting point of polyvinyl pyrrolidone bound 1D silver nanowires
Zhang et al. Fabrication of asymmetric micro-and nanostructure based on stepwise angle-resolved colloidal lithography
Lavalle Nanopolymers and radiation
JP2004175619A (ja) 酸化モリブデンナノチューブとその複合体ならびにそれらの製造方法
Khomiakova et al. Gold/Fluorocarbon Nanocomposites for Enhanced Solar-driven Water Evaporation
Strunskus et al. Formation of Metal Nanoclusters in Polymers by a Vapor Deposition Technique

Legal Events

Date Code Title Description
A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20090422

A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20090422

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20110622

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20110802

A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 20120110