JP2008530255A - 反応性ケイ酸懸濁液 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】本発明は、0.01重量%〜50重量%の微粒子、液体、及びコロイド径接着剤を含む懸濁液に関する。
【選択図】なし
Description
本発明は、微粒子0.01重量%〜50重量%、液体、及びコロイド径(kolloid skaliger)接着剤を含む懸濁液を提供する。
a) 本発明の懸濁液Aは、
懸濁液に対して、0.01重量%〜50重量%、好ましくは、1重量%〜30重量%、より好ましくは、2重量%〜15重量%の微粒子、
液体、及び
粒子100重量部に対して、好ましくは0.1重量部〜100重量部、より好ましくは、1重量部〜20重量部、さらに好ましくは、2重量部〜10重量部の反応性モノマー
を含む。
b) 本発明の懸濁液Bは、
懸濁液に対して、0.01重量%〜50重量%、好ましくは、1重量%〜30重量%、より好ましくは、2重量%〜15重量%の微粒子、
液体、及び
粒子100重量部に対して、好ましくは0.1重量部〜100重量部、より好ましくは、1重量部〜20重量部、さらに好ましくは、2重量部〜10重量部の反応性オリゴマー又はポリマー
を含む。
c) 本発明の懸濁液Cは、
懸濁液に対して、0.01重量%〜50重量%、好ましくは、1重量%〜30重量%、より好ましくは、2重量%〜15重量%の微粒子、
液体、及び
粒子100重量部に対して、好ましくは、0.1重量部〜100重量部、より好ましくは、1重量部〜20重量部、さらに好ましくは、2重量部〜10重量部の架橋系
を含む。
d) 本発明の懸濁液Dは、
懸濁液に対して、0.01重量%〜50重量%、好ましくは、1重量%〜30重量%、より好ましくは、2重量%〜15重量%の微粒子、
液体、及び
粒子100重量部に対して、好ましくは、0.1重量部〜100重量部、より好ましくは、1重量部〜20重量部、さらに好ましくは、2重量部〜10重量部の塗膜形成ポリマーを
含む。
e) 本発明の懸濁液Eは、
表面反応基を有する懸濁液に対して、0.01重量%〜50重量%、好ましくは、1重量%〜30重量%、より好ましくは、2重量%〜15重量%の微粒子、及び
液体
を含む。
A、B、C、D及びEの所望の組合せも可能である。
本発明の液体の粘度は、純粋な状態で、25℃で100mPa・s未満、好ましくは、10mPa・s未満、より好ましくは、2mPa・s未満である。
特に好ましくは、プロトン性及び極性有機溶媒であり、その中でも、メタノール、エタノール、イソプロパノール、テトラヒドロフラン、ジオキサン、アセトン、メチルエチルケトン、及びメチルイソブチルケトンが好ましい。
他の好ましい形態では、水が有利である。
前記粒子は、平均粒径が100μm未満である。本発明に使用する粒子の平均粒径は、好ましくは、1nmよりも大きく、より好ましくは、1nm〜10μm、さらに好ましくは、10nm〜10μm、特に好ましくは、50nm〜1,000nmであり、とりわけ好ましくは、50nm〜250nmから選択される。
前記粒子は、pH7.33、電解質濃度0.11mol/l、温度37℃、大気圧、すなわち900hPa〜1,100hPa下で、水への溶解度が、好ましくは、0.1g/l未満、より好ましくは0.05g/l未満である。
また、前記懸濁液の粒子は、上記任意の所望な粒子混合物から選択してもよい。
平均一次粒径の好適な測定方法としては、例えば、BET比表面積及び物質密度を測定して、式「d−PP=6/(BET×物質密度)」から求める方法、電界放出モードの透過電子顕微鏡法又は高分解能走査電子顕微鏡法、1MHz〜100MHzの測定領域の超音波分光法等が挙げられる。
平均二次粒径の好適な測定方法としては、0.01重量%を超える固形物濃度を測定するためには、例えば、動的光散乱法又は光相関分光法等が挙げられ、後方散乱として、且つ/又は多重散乱に対する相互相関により補正して測定を行うことが可能である。
平均三次粒径の好適な測定方法は、例えば、レーザー回析である。
(i) 下記式で表されるオルガノシラン又はオルガノシラザン、
R1 dSiY4−d (I)
及び/又はこれらの部分的加水分解生成物、
(式中、R1は同一でも異なってもよく、非置換又は置換の一価の炭化水素基であり、炭素数1〜24、酸素原子が介在してもよく、dは1、2又は3であり、Yは同一でも異なってもよく、ハロゲン原子、更にシリル基が結合してもよい一価のSi−N結合した窒素基、−OR2、又は−OC(O)OR2であり、R2は水素原子、又は非置換又は置換の一価の炭化水素基であり、炭素数1〜8、酸素原子が介在してもよい)
(ii)下記式の単位からなる直鎖、分岐又は環状のオルガノシロキサン
R3 e(OR4)fSiO(4−e−f)/2 (II)
(式中、R3は同一でも異なってもよく、R1について上述した定義の1つを有し、R4は同一でも異なってもよく、R2について上述した定義を有し、eは0、1、2又は3であり、fは0、1、2又は3、ただしe+fの合計は3以下である)
あるいは、(i)及び(ii)の混合物。
R1は、好ましくは、メチル基、オクチル基、及びビニル基であり、特に好ましくは、メチル基である。
R2は、好ましくは、メチル基及びエチル基である。
これらの中でも、メチルトリクロロシラン、ジメチルジクロロシラン及びトリメチルクロロシラン又はヘキサメチルジシラザンが好ましい。
25℃で1,000mm2/sよりも高い粘度を有するシリコーン樹脂の中でも、技術的に扱い易い溶媒に溶解可能なシリコーン樹脂が好ましく、該溶媒としては、例えば、メタノール、エタノール、イソプロパノール等のアルコール類、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン等のエーテル類、ヘキサメチルジシロキサン等のシロキサン類、シクロヘキサン若しくはn−オクタン等のアルカン類、トルエン若しくはキシレン等の芳香族化合物類等が挙げられ、溶解液の濃度が10重量%超過、周囲の外気圧下、25℃で混合物の粘度が1,000mm2/s未満となるものが好ましい。
また、酸性又は塩基性触媒を添加できる。これらの触媒は、アンモニア等のルイス塩基又はブレンステッド塩基としての塩基性の特徴を有してもよく、あるいは塩化水素等のルイス酸又はブレンステッド酸としての酸性の特徴を有してもよい。触媒が使用されるならば、微量、すなわち1,000ppm未満が好ましい。
触媒を添加しないことが特に好ましい。
前記粒子が二酸化ケイ素の場合、好ましくは、表面シラノール基(SiOH)の密集度は1SiOH/nm2(粒子表面1nm2当たりSiOHの数)未満、好ましくは、0.5SiOH/nm2未満、より好ましくは、0.25SiOH/nm2未満である。
ε=1−体積材料/体積成形体
体積材料は、粒子の体積及びコロイド径接着剤の体積を表し、体積成形体は集積状態である成形体又は塗膜の体積を表す。空隙率εは、水銀ポロシメータ、又はヘリウム若しくはアルゴン等の希ガスにより集積状態である成形体又は塗膜の中空体積、体積中空を測定して次の式により決定できる。
ε=体積中空/体積成形体
コロイド径接着剤は、前記粒子に対してコロイド状及びコロイドレベルで結合及び/又は接着し、粒子100重量部に対して、0.1重量部〜100重量部、好ましくは、1重量部〜20重量部、より好ましくは、2重量部〜10重量部で加えられる。
コロイド径接着剤の好適な実施形態を以下に説明する。
a)反応性モノマー
架橋及び/または重合性モノマー(例えば、カチオン性、アニオン性、フリーラジカル性、光分解性重合性モノマー)、縮合性モノマー、付加反応可能なモノマー、例えば、グリシジルエーテル類とアミン類、メルカプタン類、又はカルボン酸類(例えば、アルキルアクリル酸)とカルボン酸エステル(例えば、メタクリル酸メチル)との混合物、イソシアネートと水、又はジオール、トリオール、ポリオール、アルコキシシランとそれらの混合物であり(例えば、1分子につきケイ素原子1つ当たり1つ以上のアルコキシ基を有する、又は混合物の場合、ケイ素原子1つ当たり平均して1.5よりも多いアルコキシ基を有する)、金属アルコラート(例えば、チタネート、チタンテトラブチレート)、ジルコン酸塩(例えば、ジルコニウムテトラエチラート)、オレフィンモノマー(例えば、モノスチレン)であり、好ましくは、1分子につきケイ素原子1つ当たり1つ以上のアルコキシ基を有する、又は混合物の場合、ケイ素原子1つ当たり平均して1.5よりも多いアルコキシ基を有するアルコキシシラン及びその混合物、より好ましくは、ケイ素原子1つ当たり1つ以上のメチル基を有するアルコキシシラン及びその混合物等が挙げられる。
全てのポリマー、プレポリマー、反応性前駆体、及び、塗料及びワニス等用のバインダーとして使用可能、且つそれ自体で、若しくは粒子と共に架橋・反応可能であるポリマーが挙げられる。
例えば、両性イオン、イオン対、又はそれ自体若しくは粒子とのイオン結合の一部になり得るポリマー又はオリゴマーが好ましい。
本発明によるこれらの好適な例としては、強い又は弱い酸性基が、粒子、又は−COOH基若しくは酸性OH基(M−OH、例えばB−OH,P−OH,Al−OH,SiOH,Ge−OH,Zr−OH基等)に存在するポリマー又はオリゴマー、同様に、好ましくは、塩基性基、例えば、アミノ基(一級、二級、三級アミン等)を有するポリマー、アミノシロキサン(例えば、直鎖状、分岐状アミノシロキサン、液状又は固体アミノシロキサン、アミノシロキサンポリマー若しくはアミノシロキサン樹脂)、ポリジメチルシロキサン(例えば、末端3−アミノプロピル、若しくは1−アミノメチル基、又はケイ素原子に結合鎖で結合する3−アミノプロピル、若しくは1−アミノメチル基を有し、25℃で粘度が500mPa・s〜5,000mPa・s、及びアミン価が0.5〜10であるポリジメチルシロキサン)等が挙げられる。
SiOH基を有する粒子とアミノポリシロキサンのコロイド径接着剤との組合せが好ましく、粒子としてフュームドシリカ、及びコロイド径接着剤としてアミノポリシロキサン、例えば、3−アミノプロピルメチルシロキシ基含有ポリジメチルシロキサンが特に好ましい。
エポキシ樹脂及びエポキシエラストマー、ポリウレタン樹脂及びポリウレタンエラストマー、シリコーン樹脂及びシリコーンエラストマー、アクリレート、ポリオレフィン、ポリカーボネート、ポリスルホン、ポリスルフィド、及びポリアミド等の調製に使用される種類の樹脂及び硬化剤系が挙げられる。
塗料分野の架橋系としては、例えば、メタクリル酸メチル、アクリル酸ブチル、アクリル酸エチルヘキシル、アクリル酸ヒドロキシエチル、メタクリル酸ヒドロキシエチル、メタクリル酸ヒドロキシプロピル、アクリル酸、及びスチレン等のモノマー系重合開始剤を用いた、ポリ(メタ)アクリレート類、ポリビニルエーテル類、ポリビニルアルコール類、ポリビニルアセタール類、ポリ塩化ビニル、ポリフッ素化ポリエチレン類等の付加ポリマーが挙げられる。
また、一成分型及び二成分型ポリウレタン等のポリウレタン類、二成分型エポキシ樹脂系等のエポキシ樹脂系、及びアミン架橋、又はイソシアネート架橋のエポキシ化合物等の化学的、若しくは反応的乾燥膜形成バインダーが挙げられる。
特に好ましくは、式A1で表される成分Aである。
HO−[SiR2O]n−H (III)
(式中、Rは、同一でも異なってもよく、R1は上記定義を有し、nは少なくとも10、好ましくは、少なくとも30、より好ましくは、少なくとも100の整数である)
(R2O)gRhSiO(4−g−h)/2 (IV)
(式中、R及びR2は、独立して同一でも異なってもよく、上記定義の1つを有し、hは0、1、2又は3、及びgは0、1、2又は3、ただしg+hの合計は3未満である)
本発明で使用するオルガノポリシロキサン樹脂(A2)は、一般的な生成物であるか、又は従来の方法、例えば、懸濁液中で低分子量オルガノポリシロキサン樹脂の縮合により調製可能であり、低分子量オルガノポリシロキサン樹脂は、水非混和性溶媒中でケイ素結合塩素原子を有するシラン溶液をアルコールと水との混合による可溶媒分解及び縮合により調製される。
本発明の二成分型シリコーン組成物は、オルガノポリシロキサン類(C)からなり、オルガノポリシロキサン類(C)は25℃で平均粘度が1,000Pas以下で、少なくともケイ素原数18の直鎖状、環状、又は分岐状シロキサンであり、及び炭素数2〜6の少なくとも1つの脂肪族不飽和炭化水素基、例えば、ビニル基、アリル基又はヘキセニル基であり、好ましくは、メチル基、及びビニル基を含み、及びオルガノポリシロキサン類(D)は、ケイ素が結合した水素原子を含み、好ましくは、直鎖状、環状、又は分岐状ポリシロキサン類を含み、好ましくは、25℃で平均粘度が10mPa・s〜20,000mPa・sで、少なくとも2つのSi−H基及び、0.1重量%〜1.7重量%のケイ素結合水素を含む。
触媒としては、白金、ロジウム、パラジウム、イリジウム及びルテニウム等の金属化合物が使用可能であり、白金が好ましい。
物理的乾燥性の塗膜形成バインダーが例として挙げられ、ポリ塩化ビニル及びその共重合体、ポリアクリレート及びその共重合体、ポリ酢酸ビニル、ポリビニルブチラール及びその共重合体、ビチューメン、炭化水素樹脂;塩化ゴム、環化ゴム、ポリウレタン、エポキシ樹脂、エポキシ樹脂−ポリエステル等が挙げられる。
好適な例は、有機機能性シリコーンオイル等のシリコーンオイルが挙げられ、特に、アミノアルキル機能性ポリシロキサン類、ポリジメチルシロキサン類、及びシリコーン樹脂、特に、有機機能性シリコーン樹脂、特に好ましくは、アミノアルキル機能性シリコーン樹脂等が挙げられる。
好適な例としては、シリコーン共重合体、並びにケイ素原子を含まないオルガノポリシロキサン類及びポリマー類を含む混成システムが挙げられる。本発明の好適な例としては、3−アミノプロピルジメチルシロキシ基等の3−アミノアルキルジアルキルシロキシ基を用いて、直鎖状α−ω末端OH−ポリジメチルシロキサンの反応前のOH末端基に対して、90%よりも大きく、好ましくは95%よりも大きく、より好ましくは99%よりも大きい末端停止度でα−ω末端停止した後、得られたα−ω末端アミノアルキルシロキサン類を上記a)〜c)のアルキルジイソシアネートと反応させた熱可塑性シリコーンエラストマーが挙げられる。
熱可塑性シリコーンエラストマーは、好ましくは、25℃で固体で、粘度は110℃で10,000Pas〜100,000Pasであり、シロキサン分画を、好ましくは80重量%よりも多い、より好ましくは、90重量%よりも多い量有する。
表面反応基を有する微粒子がさらに好ましく、例えば、表面反応基を得るためにシリル化剤で修飾された上記粒子が挙げられる。
次式で表されるオルガノシラン
R5 mR1 nSiX1,
(式中、m+n+1=4、n=0,1又は2、及びm=1,2又は3)
シラン混合物又はn=0〜2及びm=1〜3、好ましくはm=1であるオルガノシラン。
R5は、水素又は1つ以上の同一又は異なるヘテロ原子Zを含む炭素数1〜12の一価、又は二価の炭化水素基であり、好ましくは、炭素数3〜8である。炭化水素基は、Si−C結合でもSi−O−C結合でもよいが、Si−C結合が好ましい。
該基は二価の炭化水素基であり、2つのケイ素原子に結合し、又は下記構造のオルガノシランを示すのがよい。
X4−n−mR1 nSiR5 mSiR1 nX4−n−m
Zの好適な例は、窒素、リン、酸素及び硫黄である。
Zは、好ましくは、C−Z構造に含まれる。
C−Z構造の例を下記に示す:
Z=N:C−NR6 2(アミン),C−NR6−Si≡(アミン),C=NR6(イミン),C(O)−N−,CR6=N−,C(OR6)=N−,C≡N(ニトリル),C≡N=O(シアネート),N=C=O(イソシアネート),C=N−OH(ヒドロキシルアミン)
Z=P:C−PR6 2(ホスフィン),C−P=O(−O−)2,(ホスホネート,それらの酸及びエステル),C−P=O(−O−)−C,(ホスフィン酸塩、それらの酸及びエステル)
Z=O:C−O−H(カルビノール),C−O−C(エーテル),C=O(ケトン、 アルデヒド),C(O)−O−(カルボン酸(エステル)),C(O)C=(エポキシド環)
Z=S:C−S−H(メルカプタン),C−S−C(スルフィド),C−Sx−C(ポリスルフィド、x=2,3,4,5,6,7,及び8),−C(S)−S−(チオカルボン酸),C−S(=O)−C(スルホキシド),C−S(=O)2(スルホン),C−S=O(−O−)(スルフィン酸(エステル)),C−S=O(−O−)2(スルホン酸(エステル)),−N=C=S(イソチオシアネート),−C≡N=S(チオシアネート)
R6は、水素、又は炭素数1〜12の一価の炭化水素基である。
特に、N−[(3−アミノプロピル)−ジメチルシリル]−2,2−ジメチル−l−アザ−2−シラシクロペンタンが好ましい。
R5 qR1 rSiO(4−q−r)/2 及び/又は
(式中、q=0,1,2又は3、r=0,1又は2、及びq+rは4未満である)
オルガノシロキサン中のこれらの単位数は少なくとも2である。
本発明の懸濁液を調製するために、前記粒子は前記液体に加えることができ、タンブルミキサー、高速ミキサー等で湿潤、振とう、又は拡散により分散し、粒子濃度が低い場合は、概して、単純な攪拌により前記粒子が前記液体へ十分に混和される。粒子濃度が高い場合は、非常に高いせん断速度で前記粒子を前記液体に分散及び混和させるのが特に好ましい。
一般的に、分散は、乳濁液及び懸濁液の調製、並びに十分に高いせん断エネルギーの生成に適する混合装置によって分散され、例えば、P.Willems教授による「Ultra−Turrax(R)」として知られる高速ロータステータ攪拌機、又はKady(R)、Unimix(R)、Koruma(R)、Cavitron(R)、Sonotron(R)、Netzsch(R)又はYstral(R)等の他の高速ロータステータ方式等が挙げられる。他の方法としては、例えば、Dyno−Mill(R)(WAB社、スイス)等のボールミルが挙げられる。高速攪拌方法は、例えば、周速約1m/s〜50m/sのパドル攪拌、又は腕木式攪拌、分散機が挙げられ、ディスク式分散機(Getzmann社)、又は遊星式分散機、腕木式分散機、又は、他の分散方式及び攪拌方式の装置の組合せ等が挙げられる。他の適切な方式は、押し出し機、又は配合機等が挙げられる。
特に適切な方式は、まず、密閉容器内で効果的な攪拌素子で湿潤させ、シリカを液体に混和し、次にシリカを高せん断速度で分散する。これは、第1容器内で分散方式により、又は分散素子を含む外部管路内で容器からの揚水循環により、好適な閉ループで容器に再循環することで実施可能である。一部再循環及び一部連続的除去により、この作業は好ましくは連続的になされる。
必要に応じて、パイプライン又はパイプ壁により分かれたシステムで超音波分散は連続して、又は不連続で行うのがよい。
本発明の懸濁液は、本発明により多孔質成形体及び塗膜の製造に使用することができる。
驚くことには、本発明の塗膜は、空気/水界面を形成する。
懸濁液は、概して透明であり、グラインドメーターの値が15μmを示す。
懸濁液は、概して透明であり、グラインドメーターの値が15μmを示す。
懸濁液は、概して、透明であり、グラインドメーターの値が5μmを示す。
懸濁液は、概して透明であり、グラインドメーターの値が5μmを示す。
懸濁液は、概して、透明であり、グラインドメーターの値が5μmを示す。
Claims (13)
- 懸濁液であって、
0.01重量%〜50重量%の微粒子、
液体、及び
コロイド径接着剤
を含むことを特徴とする懸濁液。 - 前記微粒子は、表面反応基を有することを特徴とする請求項1に記載の懸濁液。
- 前記微粒子は、疎水性粒子であることを特徴とする請求項1又は2に記載の懸濁液。
- 前記コロイド径接着剤は、反応性モノマーを含むことを特徴とする請求項1から3に記載の懸濁液。
- 前記コロイド径接着剤は、反応性オリゴマー又はポリマーを含むことを特徴とする請求項1から3に記載の懸濁液。
- 前記コロイド径接着剤は、架橋系を含むことを特徴とする請求項1から3に記載の懸濁液。
- 前記コロイド径接着剤は、塗膜形成ポリマーを含むことを特徴とする請求項1から3に記載の懸濁液。
- 請求項1から7の1つ以上に記載の懸濁液の任意の所望の混合液を含むことを特徴とする懸濁液。
- 請求項1から8の1つ以上に記載の懸濁液に少なくとも基づくことを特徴とする多孔質成形体又は多孔質塗膜。
- 請求項9に記載の多孔質成形体を含むことを特徴とする触媒担体。
- 請求項9に記載の多孔質成形体を含むことを特徴とする反応性物質、有害物質、香気物質、及び臭気吸収剤。
- 請求項9に記載の多孔質塗膜を含むことを特徴とする印刷媒体。
- 請求項9に記載の多孔質塗膜を含むことを特徴とする海水又は陸水と接触する面の塗膜。
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Cited By (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2010512985A (ja) * | 2006-12-13 | 2010-04-30 | ワッカー ケミー アクチエンゲゼルシャフト | 触媒の製造方法及び触媒のオレフィン気相酸化のための使用 |
JP2010528134A (ja) * | 2007-05-22 | 2010-08-19 | エボニック デグサ ゲーエムベーハー | 接着剤 |
JP2011148692A (ja) * | 2010-01-22 | 2011-08-04 | Evonik Degussa Gmbh | 沈降ケイ酸の安定な水性分散液 |
JP2012016648A (ja) * | 2010-07-07 | 2012-01-26 | Dic Corp | シリカ粒子分散体を触媒とするエステル化反応物又はウレタン化反応物の製造方法 |
JP2012511070A (ja) * | 2008-12-05 | 2012-05-17 | ワッカー ケミー アクチエンゲゼルシャフト | 高疎水性コーティング |
JP2016188382A (ja) * | 2012-03-09 | 2016-11-04 | ピーピージー・インダストリーズ・オハイオ・インコーポレイテッドPPG Industries Ohio,Inc. | エポキシシロキサンコーティング組成物 |
WO2016181997A1 (ja) * | 2015-05-11 | 2016-11-17 | 日産化学工業株式会社 | アミノシラン修飾コロイダルシリカ分散液及びその製造方法 |
JP2016193825A (ja) * | 2016-07-06 | 2016-11-17 | 株式会社アドマテックス | 粉粒体及びその製造方法 |
JP2020033223A (ja) * | 2018-08-29 | 2020-03-05 | 信越化学工業株式会社 | 正帯電型疎水性球状シリカ粒子、その製造方法及びそれを用いた正帯電トナー組成物 |
WO2020175159A1 (ja) * | 2019-02-25 | 2020-09-03 | 日産化学株式会社 | 無機酸化物粒子、無機酸化物粒子分散液及びその製造方法、並びに表面修飾剤の製造方法 |
Families Citing this family (15)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP1829944A1 (en) * | 2006-03-01 | 2007-09-05 | Cytec Surface Specialties Austria GmbH | Water-borne cationic binders for wash primers |
JP2009536165A (ja) * | 2006-05-10 | 2009-10-08 | エボニック デグサ ゲーエムベーハー | 医薬組成物におけるロール圧縮された熱分解的に製造された二酸化ケイ素の使用 |
EP1997776B1 (de) | 2007-05-21 | 2011-02-02 | Evonik Degussa GmbH | Pyrogen hergestelltes Siliciumdioxid mit niedriger Verdickungswirkung |
DE102007024096A1 (de) * | 2007-05-22 | 2008-11-27 | Evonik Degussa Gmbh | Klebstoffe |
JP2009197052A (ja) * | 2008-02-19 | 2009-09-03 | Asahi Kasei E-Materials Corp | 樹脂組成物 |
DE102008001855A1 (de) * | 2008-05-19 | 2009-11-26 | Evonik Degussa Gmbh | Zweikomponenten-Zusammensetzung zur Herstellung von flexiblen Polyurethan-Gelcoats |
DE102009013410A1 (de) | 2009-03-16 | 2010-09-23 | Clariant International Ltd. | Hybridpolymere aus Cyanaten und Silazanen, Verfahren zur ihrer Herstellung sowie deren Verwendung |
KR20100130419A (ko) * | 2009-06-03 | 2010-12-13 | 삼성전자주식회사 | 이종접합 다이오드와 그 제조방법 및 이종접합 다이오드를 포함하는 전자소자 |
DE102009046810A1 (de) | 2009-11-18 | 2011-05-19 | Wacker Chemie Ag | Polymermodifizierte Wärmedämmformkörper |
DE102010031585A1 (de) | 2010-07-21 | 2012-01-26 | Evonik Degussa Gmbh | Siliciumdioxidpulver mit speziellen Oberflächeneigenschaften und dieses Pulver enthaltende Tonerzusammensetzung |
DE102012205306A1 (de) | 2012-03-30 | 2013-10-02 | Wacker Chemie Ag | Vernetzbare Massen auf Basis von organyloxysilanterminierten Polymeren |
IN2014DN06228A (ja) | 2012-04-24 | 2015-10-23 | Hewlett Packard Development Co | |
DE102012214427A1 (de) * | 2012-08-14 | 2014-02-20 | Wacker Chemie Ag | Mehrkomponentige vernetzbare Massen auf Basis von organyloxy-silanterminierten Polymeren |
EP3135740B1 (en) | 2015-08-31 | 2018-10-10 | Henkel AG & Co. KGaA | Curable composition, especially for rubber to substrate bonding |
EP3369770B1 (en) | 2017-03-01 | 2021-12-22 | Henkel AG & Co. KGaA | Curable composition, especially as crystallizing rubber to substrate bonding primer |
Citations (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS57128760A (en) * | 1981-02-02 | 1982-08-10 | Shokubai Kasei Kogyo Kk | Liquid thermosetting resin composition |
JPS63168470A (ja) * | 1987-01-06 | 1988-07-12 | Japan Synthetic Rubber Co Ltd | コ−テイング用組成物 |
JPH02196859A (ja) * | 1989-01-26 | 1990-08-03 | Shin Etsu Chem Co Ltd | 皮膜形成剤 |
JPH05111631A (ja) * | 1991-10-23 | 1993-05-07 | Nippon Shokubai Co Ltd | 酸素含有無機質微粒子の分散方法 |
JPH11335588A (ja) * | 1997-12-19 | 1999-12-07 | Ecc Internatl Ltd | 包装材料 |
JP2003266606A (ja) * | 2002-03-13 | 2003-09-24 | Sumitomo Chem Co Ltd | 硬化被膜付き透明基材 |
JP2004026873A (ja) * | 2002-06-21 | 2004-01-29 | Teijin Chem Ltd | オルガノシロキサン樹脂組成物の調製方法 |
JP2004083307A (ja) * | 2002-08-23 | 2004-03-18 | Sumitomo Osaka Cement Co Ltd | シリカ微粒子と低屈折率膜形成用塗料、及び低屈折率膜とその製造方法、並びに反射防止膜 |
JP2004165401A (ja) * | 2002-11-13 | 2004-06-10 | Shin Etsu Chem Co Ltd | 多孔質膜形成用組成物、多孔質膜とその製造方法、層間絶縁膜及び半導体装置 |
JP2004203735A (ja) * | 2002-12-20 | 2004-07-22 | Wacker Chemie Gmbh | 部分的に疎水性の金属酸化物、部分的に疎水性のケイ酸、系のレオロジーを制御するための添加剤、ならびに部分的に疎水性のケイ酸を含有するトナー、現像剤およびエマルション |
JP2004292636A (ja) * | 2003-03-27 | 2004-10-21 | Shin Etsu Chem Co Ltd | 多孔質膜形成用組成物、多孔質膜の製造方法、多孔質膜、層間絶縁膜、及び半導体装置 |
Family Cites Families (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE905052C (de) * | 1949-01-01 | 1954-02-25 | Degussa | Verfahren zur Verbesserung der Eigenschaften von in organischen Loesungsmitteln geloesten hochmolekularen Filmbildnern |
US4005044A (en) | 1975-06-20 | 1977-01-25 | General Electric Company | Method of making aqueous antifoam compositions |
DE2641699C3 (de) | 1976-09-16 | 1981-02-12 | Wacker-Chemie Gmbh, 8000 Muenchen | Wäßrige Trennmitteldiorganopolysiloxanemulsionen |
DE3437473A1 (de) * | 1984-10-12 | 1986-04-17 | Degussa Ag, 6000 Frankfurt | An der oberflaeche modifizierte synthetische, silikatische fuellstoffe, ein verfahren zur herstellung und deren verwendung |
DE19545935C2 (de) * | 1995-07-11 | 1999-03-11 | Sp Reifenwerke Gmbh | Mittel zum Abdichten von Reifen bei Pannen und Vorrichtungen zum Abdichten und Aufpumpen von Reifen |
FR2787461B1 (fr) * | 1998-12-22 | 2001-01-19 | Rhodia Chimie Sa | Procede de preparation d'une suspension de silice dans une matrice silicone reticulable par polycondensation a temperature ambiante et/ou a chaud pour former des elastomeres |
FR2817262B1 (fr) * | 2000-11-30 | 2003-01-31 | Rhodia Chimie Sa | Procede de preparation d'une suspension de silice dans une matrice silicone eventuellement reticulable |
DE10360464A1 (de) * | 2003-12-22 | 2005-07-14 | Wacker-Chemie Gmbh | Dispersion die mindestens 2 Arten von Partikeln enthält |
-
2004
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-
2005
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Patent Citations (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS57128760A (en) * | 1981-02-02 | 1982-08-10 | Shokubai Kasei Kogyo Kk | Liquid thermosetting resin composition |
JPS63168470A (ja) * | 1987-01-06 | 1988-07-12 | Japan Synthetic Rubber Co Ltd | コ−テイング用組成物 |
JPH02196859A (ja) * | 1989-01-26 | 1990-08-03 | Shin Etsu Chem Co Ltd | 皮膜形成剤 |
JPH05111631A (ja) * | 1991-10-23 | 1993-05-07 | Nippon Shokubai Co Ltd | 酸素含有無機質微粒子の分散方法 |
JPH11335588A (ja) * | 1997-12-19 | 1999-12-07 | Ecc Internatl Ltd | 包装材料 |
JP2003266606A (ja) * | 2002-03-13 | 2003-09-24 | Sumitomo Chem Co Ltd | 硬化被膜付き透明基材 |
JP2004026873A (ja) * | 2002-06-21 | 2004-01-29 | Teijin Chem Ltd | オルガノシロキサン樹脂組成物の調製方法 |
JP2004083307A (ja) * | 2002-08-23 | 2004-03-18 | Sumitomo Osaka Cement Co Ltd | シリカ微粒子と低屈折率膜形成用塗料、及び低屈折率膜とその製造方法、並びに反射防止膜 |
JP2004165401A (ja) * | 2002-11-13 | 2004-06-10 | Shin Etsu Chem Co Ltd | 多孔質膜形成用組成物、多孔質膜とその製造方法、層間絶縁膜及び半導体装置 |
JP2004203735A (ja) * | 2002-12-20 | 2004-07-22 | Wacker Chemie Gmbh | 部分的に疎水性の金属酸化物、部分的に疎水性のケイ酸、系のレオロジーを制御するための添加剤、ならびに部分的に疎水性のケイ酸を含有するトナー、現像剤およびエマルション |
JP2004292636A (ja) * | 2003-03-27 | 2004-10-21 | Shin Etsu Chem Co Ltd | 多孔質膜形成用組成物、多孔質膜の製造方法、多孔質膜、層間絶縁膜、及び半導体装置 |
Cited By (17)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US8410014B2 (en) | 2006-12-13 | 2013-04-02 | Wacker Chemie Ag | Method for producing catalysts and their use for the gas phase oxidation of olefins |
JP2010512985A (ja) * | 2006-12-13 | 2010-04-30 | ワッカー ケミー アクチエンゲゼルシャフト | 触媒の製造方法及び触媒のオレフィン気相酸化のための使用 |
JP2010528134A (ja) * | 2007-05-22 | 2010-08-19 | エボニック デグサ ゲーエムベーハー | 接着剤 |
JP2012511070A (ja) * | 2008-12-05 | 2012-05-17 | ワッカー ケミー アクチエンゲゼルシャフト | 高疎水性コーティング |
JP2011148692A (ja) * | 2010-01-22 | 2011-08-04 | Evonik Degussa Gmbh | 沈降ケイ酸の安定な水性分散液 |
JP2012016648A (ja) * | 2010-07-07 | 2012-01-26 | Dic Corp | シリカ粒子分散体を触媒とするエステル化反応物又はウレタン化反応物の製造方法 |
JP2016188382A (ja) * | 2012-03-09 | 2016-11-04 | ピーピージー・インダストリーズ・オハイオ・インコーポレイテッドPPG Industries Ohio,Inc. | エポキシシロキサンコーティング組成物 |
US10899893B2 (en) | 2015-05-11 | 2021-01-26 | Nissan Chemical Industries, Ltd. | Aminosilane-modified colloidal silica dispersion and method of manufacturing same |
WO2016181997A1 (ja) * | 2015-05-11 | 2016-11-17 | 日産化学工業株式会社 | アミノシラン修飾コロイダルシリカ分散液及びその製造方法 |
JPWO2016181997A1 (ja) * | 2015-05-11 | 2018-04-19 | 日産化学工業株式会社 | アミノシラン修飾コロイダルシリカ分散液及びその製造方法 |
JP2016193825A (ja) * | 2016-07-06 | 2016-11-17 | 株式会社アドマテックス | 粉粒体及びその製造方法 |
WO2020045037A1 (ja) * | 2018-08-29 | 2020-03-05 | 信越化学工業株式会社 | 正帯電型疎水性球状シリカ粒子、その製造方法及びそれを用いた正帯電トナー組成物 |
JP2020033223A (ja) * | 2018-08-29 | 2020-03-05 | 信越化学工業株式会社 | 正帯電型疎水性球状シリカ粒子、その製造方法及びそれを用いた正帯電トナー組成物 |
WO2020175159A1 (ja) * | 2019-02-25 | 2020-09-03 | 日産化学株式会社 | 無機酸化物粒子、無機酸化物粒子分散液及びその製造方法、並びに表面修飾剤の製造方法 |
CN113474288A (zh) * | 2019-02-25 | 2021-10-01 | 日产化学株式会社 | 无机氧化物粒子、无机氧化物粒子分散液及其制造方法以及表面改性剂的制造方法 |
CN113474288B (zh) * | 2019-02-25 | 2023-11-17 | 日产化学株式会社 | 无机氧化物粒子、无机氧化物粒子分散液及其制造方法以及表面改性剂的制造方法 |
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Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
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