JP2008530179A - カンナビノイドcb2受容体モジュレーターとしての1h−イミダゾール誘導体 - Google Patents

カンナビノイドcb2受容体モジュレーターとしての1h−イミダゾール誘導体 Download PDF

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Abstract

本発明は、カンナビノイドCB受容体のモジュレーターである一群の1H−イミダゾール誘導体に、これらの化合物の製造方法に、該イミダゾール誘導体の合成に有用な新規中間体に、これらの中間体の製造方法に、有効成分としてこれらの1H−イミダゾール誘導体の1つもしくはそれ以上を含有する製薬学的組成物に、ならびにカンナビノイドCB受容体が関与する疾患の処置のためのこれらの製薬学的組成物の使用に関する。これらの化合物は一般式(I)
【化1】
Figure 2008530179

[式中、R〜Rは明細書に示した意味を有する]
を有する。

Description

本発明は、カンナビノイドCB受容体のモジュレーターである一群の1H−イミダゾール誘導体に、これらの化合物の製造方法に、該イミダゾール誘導体の合成に有用な新規中間体に関する。本発明はまた、有益な効果を与える薬剤の製造のための本明細書に開示する化合物の使用にも関する。有益な効果は本明細書に開示されるか、もしくは本明細書および当該技術分野における一般知識から当業者に明らかである。本発明はまた、疾患もしくは症状を処置するかもしくは防ぐための薬剤の製造のための本発明の化合物の使用にも関する。さらに特に、本発明は、本明細書に開示されるかもしくは本明細書および当該技術分野における一般知識から当業者に明らかである疾患もしくは症状の処置のための新規使用に関する。本発明の態様において、本明細書に開示される特定の化合物は、カンナビノイドCB受容体が関与するかもしくはこれらの受容体の操作によって処置することができる疾患の処置において有用な薬剤の製造に使用される。
CB受容体モジュレーターとしての1H−イミダゾール誘導体は、特許文献1、特許文献2、特許文献3および特許文献4から既知である。(モルホリン−4−イル)アルキル−(1H)−イミダゾール誘導体は、全てそれらの(1H)−イミダゾール部分の4位でL−フェニルアラニン由来のカルボキサミド基を含有する3つの特定のイミダゾール(実施例64、65および66)を開示する特許文献5においてCB受容体モジュレーターとして請求されている。1−アリール−(1H)−イミダゾール誘導体は、CNS活性化合物として特許文献6において請求されている。CB受容体選択的リガンドの分野における最近の進歩は、K.H.Raitio et al.(非特許文献1)により概説されている。
WO03/027076明細書 WO03/063781明細書 WO03/040107明細書 WO03/007887明細書 WO01/58869明細書 US4,952,698明細書 Curr.Med.Chem.2005,12,1217−1237
驚くべきことに、WO01/58869において例示された先行技術化合物と比較した場合に約100倍高いCB受容体親和性を有する化合物を包含する、CB受容体に結合する新規1H−イミダゾール誘導体が見出された。さらに、本発明内の化合物の多くは非常にCB受容体サブタイプ選択的であり、これは、それらがCB受容体によりCB受容体にはるかに高い親和性で結合することを意味する。本発明内の化合物は、CB受容体アゴニスト、CB受容体部分アゴニスト、CB受容体アンタゴニストもしくはCB受容体逆アゴニストのいずれかである。
本発明は、一般式(I)
Figure 2008530179
[式中:
−Rは水素もしくはハロゲン原子またはC1〜3−アルキル基を表し、このC1〜3−アルキル基は1〜3個のフルオロ原子またはヒドロキシもしくはアミノ基を含有することができ、あるいはRはC2〜3−アルキニル基、C2〜3−アルケニル基を表し、このC2〜3−アルキニル基もしくはC2〜3−アルケニル基は1〜3個のフルオロ原子を含有することができ、あるいはRはアセチル、シクロプロピル、シアノ、メチルスルホニル、エチルスルホニル、メチルスルフィニル、エチルスルフィニル、トリフルオロメチルスルファニル、メチルスルファニル、エチルスルファニル基、ホルミル基もしくはC2〜4−ヘテロアルキル基を表し、
−Rはメチル、エチル、プロピル、メトキシ、エトキシ、ヒドロキシ、クロロ、ヨード、ブロモ、フルオロ、トリフルオロメチル、トリフルオロメトキシ、メチルスルホニル、カルバモイル、フェニルおよびシアノよりなる群から選択される、同じであるかもしくは異なることができる1、2、3、4もしくは5個の置換基Yで置換されることができるフェニル基を表し、あるいはRはヘテロアリール基を表し、このヘテロアリール基は1、2もしくは3個の置換基Yで置換されることができ、ここで、Yは上記に定義したとおりの意味を有し、ただし、Rは6−メチル−2−ピリジル基ではなく、あるいは
はモノ不飽和もしくは完全飽和の4〜10員の単環式、縮合二環式もしくは縮合三環式炭素環系を表し、あるいは
はモノ不飽和もしくは完全飽和の4〜10員の単環式、縮合二環式もしくは縮合三環式複素環系を表し、この炭素環系もしくは複素環系は、メチル、エチル、アミノ、ヒドロキシもしくはフルオロから選択される1〜5個の置換基で置換されることができ、あるいは
は一般式CH−Rの基を表し、ここで、Rは上記に定義したとおりの1、2、3、4もしくは5個の置換基Yで置換されるフェニル基を表し、あるいはRはヘテロアリール基または1,2,3,4−テトラヒドロナフチルもしくはインダニル基を表し、このヘテロアリール基または1,2,3,4−テトラヒドロナフチルもしくはインダニル基は1、2もしくは3個の上記に定義したとおりの置換基Yで置換されることができ、あるいはRはモノ不飽和もしくは完全飽和の単環式、縮合二環式もしくは縮合三環式4〜10員炭素環系を表し、あるいはRはモノ不飽和もしくは完全飽和の4〜10員の単環式、縮合二環式もしくは縮合三環式複素環系を表し、この炭素環系もしくは複素環系は場合によりメチル、エチル、アミノ、ヒドロキシもしくはフルオロよりなる群から選択される1〜5個の置換基で置換されていてもよく、あるいは
はメチルスルホニルアミノアルキル基、メチルスルホニルアルキルもしくはアセトアミドアルキル基を表し、
−Rは水素もしくはハロゲン原子またはホルミル、C1〜6−アルキルスルホニル、C1〜6−アルキルスルフィニル、C1〜6−アルキルスルファニル、トリフルオロメチルスルファニル、ベンジルスルファニルもしくはシアノ基を表し、あるいはRはC1〜8−アルキル基を表し、このC1〜8−アルキル基はフルオロ、ヒドロキシもしくはアミノよりなる群から選択される1〜5個の置換基で置換されることができ、あるいはRはC2〜6−アルキニル、C2〜6−アルケニル、C1〜6−アルカノイル、C3〜8−シクロアルキル、C5〜8−ヘテロシクロアルキルもしくはC2〜6−ヘテロアルキル基を表し、これらの基は場合により1〜3個のメチル基、エチル、アミノもしくはヒドロキシ基でまたは1〜3個のフルオロ原子で置換されていてもよく、あるいはRは1〜5個の
置換基Yで置換されるフェニル基を表し、ここで、Yは上記に定義したとおりの意味を有し、あるいはRはヘテロアリール基を表し、このヘテロアリール基は1、2もしくは3個の置換基Yで置換されることができ、ここで、Yは上記に定義したとおりの意味を有し、あるいはRはベンジルもしくはヘテロアリールメチル基を表し、このベンジルもしくはヘテロアリールメチル基は1、2もしくは3個の置換基Yで置換されることができ、
−Rはサブグループ(i)もしくは(ii)
Figure 2008530179
の一つを表し、ここで、RはC4〜8分枝鎖状もしくは直鎖状アルキル基、C3〜8シクロアルキル基、C3〜8−シクロアルキル−C1〜2−アルキル基、C5〜7−ヘテロシクロアルキル−C1〜2−アルキル基、C5〜10ビシクロアルキル基、C5〜10−ビシクロアルキル−C1〜2−アルキル基、C5〜10−ヘテロビシクロアルキル−C1〜2−アルキル基、C6〜10トリシクロアルキル基、C6〜10−トリシクロアルキル−C1〜2−アルキル基、C6〜10−ヘテロトリシクロアルキル−C1〜2−アルキル基を表し、これらの基はメチル、ヒドロキシ、エチル、トリフルオロメチルもしくはフルオロから選択される1〜5個の置換基で置換されることができ、あるいはRはフェニル、ベンジル、ナフチルもしくはフェネチル基を表し、これらの基は1〜3個の上記に定義したとおりの置換基Yでそれらの芳香環系上で置換されることができ、ただし、Rは2−メチルフェニル基ではなく、あるいはRはピリジルもしくはチエニル基を表し、
−Rは水素原子もしくはC1〜6直鎖状アルキル基を表し、このC1〜6直鎖状アルキル基は1〜3個のフルオロ原子で置換されることができ、またはRはイソプロピル基を表し、
−RはC2〜6アルキル基を表し、この基はヒドロキシもしくはアミノ基でまたは1〜3個のフルオロ原子で置換され、あるいはRはC7〜10分枝鎖状アルキル基、C3〜8シクロアルキル基、C5〜8ヘテロシクロアルキル基、C3〜8−シクロアルキル−C1〜2−アルキル基、C5〜7−ヘテロシクロアルキル−C1〜2−アルキル基、C5〜10ビシクロアルキル基、C5〜10−ビシクロアルキル−C1〜2−アルキル基、C5〜10−ヘテロビシクロアルキル−C1〜2−アルキル基、C6〜10トリシクロアルキル基、C6〜10−トリシクロアルキル−C1〜2−アルキル基、C6〜10−ヘテロトリシクロアルキル−C1〜2−アルキル基を表し、これらの基はメチル、ヒドロキシ、エチル、アミノ、ヒドロキシメチル、トリフルオロメチルもしくはフルオロから選択される1〜5個の置換基で置換されることができ、あるいはRはフェニル基を表し、この基は1〜5個の上記に定義したとおりの置換基Yで置換され、あるいはRはナフチル、1,2,3,4−テトラヒドロナフチルもしくはインダニル基を表し、このナフチル、1,2,3,4−テトラヒドロナフチルもしくはインダニル基は1〜3個の置換基Yで置換されることができ、あるいはRはフェニル−C1〜3−アルキル基、ジフェニル−C1〜3−アルキル基を表し、これらの基は1〜5個の置換基Yでそれらのフェニル環上で置換されることができ、ここで、Yは上記の意味を有し、あるいはRはベンジル基を表し、このベンジル基は1〜5個の置換基Yで置換され、あるいはRはヘテロアリール、ヘテロアリールメチル、ナフチルメチルもしくはヘテロアリールエチル基を表し、このヘテロアリール、ヘテロアリールメチル、ナフチルメチルもしくはヘテロアリールエチル基は1〜3個の置換基Yで置換されることができ、ここで、Yは上記の意味を有し、あるいはRはピペリジニル、アゼパニル、モルホリニル、アザビシクロ[3.3.0]オクタニル、
4−ヒドロキシピペリジニルもしくはピロリジニル基を表し、ただし、Rは6−メトキシ−ベンゾチアゾール−2−イル基でも[3−クロロ−5−(トリフルオロメチル)ピリド−2−イル]メチル基でもなく、
あるいはRとRはそれらが結合している窒素原子と一緒になって、7〜10個の環原子を有する飽和もしくは不飽和の、非芳香族もしくは部分的に芳香族の、単環式、二環式もしくは三環式複素環式基を形成し、この飽和もしくは不飽和の、非芳香族もしくは部分的に芳香族の、単環式、二環式もしくは三環式複素環式基はC1〜3アルキル、ヒドロキシ、メトキシ、シアノ、フェニル、トリフルオロメチルもしくはハロゲンよりなる群から選択される1〜5個の置換基で置換されることができ、
あるいはRとRはそれらが結合している窒素原子と一緒になって、5〜6個の環原子を有する、場合により別のヘテロ原子(N、O、Sから選択される)を含有していてもよい飽和単環式複素環式基を形成し、この複素環式基はC1〜3アルキル、ヒドロキシ、アミノ、フェニル、ベンジルもしくはフルオロよりなる群から選択される1〜5個の置換基で置換され、
ただし、RとRはそれらが結合している窒素原子と一緒になって、トリメチル置換されたアザ−ビシクロ[3.2.1]オクタニル基を形成しない]
の化合物ならびにその互変異性体、立体異性体およびN−オキシド、ならびに式(I)の該化合物ならびにその互変異性体、立体異性体およびN−オキシドの薬理学的に許容しうる塩、水和物および溶媒和物に関する。
本発明は、式(I)を有する化合物のラセミ化合物、ジアステレオマーの混合物ならびに個々の立体異性体に関する。
置換基の記述において、「アルキル」という略語は直鎖状もしくは分枝鎖状アルキル基を意味する。例えば、C1〜3−アルキルは、メチル、エチル、n−プロピルもしくはイソプロピルを意味する。「ヘテロアリール」という略語は、キノリン−2−オン基を除いて、フリル、チエニル、ピロリル、オキサゾリル、チアゾリル、イミダゾリル、ピラゾリル、イソオキサゾリル、イソチアゾリル、ピリジル、ピリダジニル、ピリミジニル、ピラジニル、1,3,5−トリアジニル、インダゾリル、インドリル、インドリジニル、イソインドリル、ベンゾ[b]フラニル、ベンゾ[b]チオフェニル、1,3−ベンゾジオキソリル、2,3−ジヒドロ−1,4−ベンゾジオキシニル、ベンズイミダゾリル、ベンズチアゾリル、プリニル、キノリニル、イソキノリル(isochinolyl)、1,2,3,4−テトラヒドロキノリニル、1,2,3,4−テトラヒドロイソキノリニル、キノリル(chinolyl)、フタラジニル、キナゾリニル、キノキサリニル、1,8−ナフチリジニルが包含されるがこれらに限定されるものではない、単環式もしくは縮合二環式ヘテロ芳香族基を意味する。「ハロゲン」という略語は、クロロ、フルオロ、ブロモもしくはヨードを意味する。「C3〜8−シクロアルキル」という略語は、シクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシル、シクロヘプチルもしくはシクロオクチルを意味する。「C5〜8ヘテロシクロアルキル」という略語は、ピペリジニル、モルホリニル、アゼパニル、ピロリジニル、チオモルホリニル、ピペラジニル、テトラヒドロフリル、テトラヒドロピラニルが包含されるがこれらに限定されるものではない、(N、O、S)ヘテロ原子を含有する環をさす。「C5〜10ビシクロアルキル基」という略語は、ビシクロ[2.2.1]ヘプタニル、ビシクロ[3.3.0]オクタニルもしくはビシクロ[3.1.1]ヘプタニル基が包含されるがこれらに限定されるものではない炭素二環式環系をさす。「C6〜10トリシクロアルキル基」という略語は、1−アダマンチル、ノルアダマンチルもしくは2−アダマンチル基のような炭素三環式環系をさす。「C2〜4ヘテロアルキル」という略語は、メトキシメチル、ジメチルアミノメチルおよびエチルスルファニルメチルが包含されるがこれらに限定されるものではない、(N、O、S)ヘテロ原子を含有する直鎖状もしくは分枝鎖状C2〜4−アルキル基をさす。
上記の化合物のプロドラッグは、本発明の範囲内である。プロドラッグは、それ自体は不活性であるが1つもしくはそれ以上の活性代謝物に転化される治療薬である。プロドラッグは、親薬剤分子の実用性へのいくつかの障害を克服するために用いられる薬剤分子のバイオリバーシブル(bioreversible)誘導体である。これらの障害には、溶解性、透過性、安定性、プレシステミック(presystemic)代謝およびターゲッティングの限界が包含されるがこれらに限定されるものではない(Medicinal Chemistry:Principles and Practice,1994,ISBN 0−85186−494−5,Ed.:F.D.King,p.215;J.Stella,“Prodrugs as therapeutics”,Expert Opin.Ther.Patents,14(3),277−280,2004;P.Ettmayer et al.,“Lessons learned from marketed and investigational prodrugs”,J.Med.Chem.,47,2393−2404,2004)。プロドラッグ、すなわち、任意の既知の経路によりヒトに投与した場合に式(I)を有する化合物に代謝される化合物は、本発明に属する。特に、これは第一級もしくは第二級アミノもしくはヒドロキシ基を有する化合物に関する。そのような化合物は、有機酸と反応させて例えばアミジン、エナミン、マンニッヒ塩基、ヒドロキシル−メチレン誘導体、O−(アシルオキシメチレンカルバメート)誘導体、カルバメート、エステル、アミドもしくはエナミノン、しかしこれらに限定されるものではない、投与後に容易に除去される追加の基が存在する式(I)を有する化合物を生成せしめることができる。
上記の化合物のN−オキシドは、本発明の範囲内である。第三級アミンは、N−オキシド代謝物を生じさせることができるかもしくはできない。どの程度までN−酸化が起こるかは、微量からほぼ定量的転化まで様々である。N−オキシドはそれらの対応する第三級アミンより活性であるかもしくは活性が低い可能性がある。N−オキシドは化学的手段によりそれらの対応する第三級アミンに容易に還元されるが、人体内でこれは様々な程度に起こる。あるN−オキシドは、対応する第三級アミンへのほぼ定量的な還元的転化を受け、別の場合には、転化はほんの微量の反応であるかもしくは完全にないことさえある(M.H.Bickel:“The pharmacology and Biochemistry of N−oxides”,Pharmacological Reviews21(4),325−355,1969)。
本発明は特に一般式(I)
Figure 2008530179
[式中:
−Rはハロゲン原子もしくはC1〜3−アルキル基を表し、このC1〜3−アルキル基は1〜3個のフルオロ原子またはヒドロキシもしくはアミノ基を含有することができ、あるいはRはC2〜3−アルキニル基、C2〜3−アルケニル基を表し、このC2〜3−アルキニル基もしくはC2〜3−アルケニル基は1〜3個のフルオロ原子を含有することができ、あるいはRはアセチル、シクロプロピル、シアノ、メチルスルホニル、エチルスルホニル、メチルスルフィニル、エチルスルフィニル、トリフルオロメチルスルファニル、メチルスルファニル、エチルスルファニル基、ホルミル基もしくはC2〜4−ヘテロアルキル基を表し、そしてR、RおよびRは上記に示したとおりの意味を有する]
の化合物に関する。
さらに特に、本発明は式(I):
Figure 2008530179
[式中:
−Rは水素もしくはハロゲン原子またはホルミル、メチルスルホニル、エチルスルホニル、メチルスルフィニル、エチルスルフィニル、トリフルオロメチルスルファニル、メチルスルファニル、エチルスルファニルもしくはシアノ基を表し、あるいはRはC1〜6−アルキル基を表し、このC1〜6−アルキル基は1〜3個のフルオロ原子またはヒドロキシもしくはアミノ基を含有することができ、あるいはRはC2〜6−アルキニル、C2〜6−アルケニル、C1〜6−アルカノイル、C3〜8−シクロアルキル、C5〜8−ヘテロシクロアルキルもしくはC2〜6−ヘテロアルキル基を表し、これらの基は場合により1〜3個のメチル基、エチル、アミノもしくはヒドロキシ基でまたは1〜3個のフルオロ原子で置換されていてもよく、あるいはRは1〜5個の置換基Yで置換されるフェニル基を表し、ここで、Yは上記に定義したとおりの意味を有し、あるいはRはヘテロアリール基を表し、このヘテロアリール基は1、2もしくは3個の置換基Yで置換されることができ、ここで、Yは上記に定義したとおりの意味を有し、あるいはRはベンジルもしくはヘテロアリールメチル基を表し、このベンジルもしくはヘテロアリールメチル基は1、2もしくは3個の置換基Yで置換されることができ、
−Rはサブグループ(ii)
Figure 2008530179
を表し、ここで、
−Rは水素原子またはC1〜6直鎖状アルキル基もしくはイソプロピル基を表し、
−RはC2〜6アルキル基を表し、この基はヒドロキシもしくはアミノ基でまたは1〜3個のフルオロ原子で置換され、あるいはRはC7〜10分枝鎖状アルキル基、C3〜8シクロアルキル基、C5〜8ヘテロシクロアルキル基、C3〜8−シクロアルキル−C1〜2−アルキル基、C5〜7−ヘテロシクロアルキル−C1〜2−アルキル基、C5〜10ビシクロアルキル基、C5〜10−ビシクロアルキル−C1〜2−アルキル基、C5〜10−ヘテロビシクロアルキル−C1〜2−アルキル基、C6〜10トリシクロアルキル基、C6〜10−トリシクロアルキル−C1〜2−アルキル基、C6〜10−ヘテロトリシクロアルキル−C1〜2−アルキル基を表し、これらの基はメチル、ヒドロキシ、エチル、アミノ、ヒドロキシメチル、トリフルオロメチルもしくはフルオロから選択される1〜5個の置換基で置換されることができ、あるいはRはフェニル基を表し、この基は上記に定義したとおりの1〜5個の置換基Yで置換され、あるいはRはナフチルまたは
1,2,3,4−テトラヒドロナフチルもしくはインダニル基を表し、これらの基は1〜3個の置換基Yで置換されることができ、あるいはRはフェニル−C1〜3−アルキル基、ジフェニル−C1〜3−アルキル基を表し、これらの基は1〜5個の置換基Yでそれらのフェニル環上で置換されることができ、ここで、Yは上記の意味を有し、あるいはRはベンジル基を表し、このベンジル基は1〜5個の置換基Yで置換され、あるいはRはヘテロアリール、ヘテロアリールメチルもしくはヘテロアリールエチル基を表し、このヘテロアリール、ヘテロアリールメチルもしくはヘテロアリールエチル基は1〜3個の上記に定義したとおりの置換基Yで置換されることができ、あるいはRはピペリジニル、アゼパニル、モルホリニル、アザビシクロ[3.3.0]オクタニル、4−ヒドロキシピペリジニルもしくはピロリジニル基を表し、ただし、Rは6−メトキシ−ベンゾチアゾール−2−イル基でも[3−クロロ−5−(トリフルオロメチル)ピリド−2−イル]メチル基でもなく、
あるいはRとRはそれらが結合している窒素原子と一緒になって、7〜10個の環原子を有する飽和もしくは不飽和の、非芳香族もしくは部分的に芳香族の、単環式、二環式もしくは三環式複素環式基を形成し、この複素環式基は1もしくは2個のC1〜3アルキル基、ヒドロキシ基、フェニル基、トリメチルフルオロメチル基、ベンジル基、ジフェニルメチル基またはハロゲン原子で置換されることができ、
あるいはRとRはそれらが結合している窒素原子と一緒になって、5〜6個の環原子を有する、場合により別のヘテロ原子(N、O、Sから選択される)を含有していてもよい飽和単環式複素環式基を形成し、この複素環式基は1〜3個のC1〜3アルキル基、ヒドロキシ基もしくは1〜2個のフルオロ原子で置換され、
ただし、RとRはそれらが結合している窒素原子と一緒になって、トリメチル置換されたアザ−ビシクロ[3.2.1]オクタニル基を形成せず、
そしてRおよびRは上記に示したとおりの意味を有する]
の化合物に関する。
またさらに特に、本発明は式(I)
Figure 2008530179
[式中:
−Rはハロゲン原子もしくはC1〜3−アルキル基を表し、このC1〜3−アルキル基は1〜3個のフルオロ原子もしくはヒドロキシ基を含有することができ、あるいはRはC2〜3−アルキニル基、C2〜3−アルケニル基、アセチル、シクロプロピル、シアノ、メチルスルホニル、メチルスルフィニル、メチルスルファニルもしくはC2〜4−ヘテロアルキル基を表し、
−Rはメチル、エチル、プロピル、メトキシ、エトキシ、ヒドロキシ、クロロ、ヨード、ブロモ、フルオロ、トリフルオロメチル、トリフルオロメトキシ、メチルスルホニル、カルバモイル、フェニルおよびシアノよりなる群から選択される、同じであるかもしくは異なることができる、1、2、3、4もしくは5個の置換基Yで置換されることができるフェニル基を表し、あるいはRは単環式ヘテロアリール基を表し、このヘテロアリール基は1、2もしくは3個の置換基Yで置換されることができ、ここで、Yは上記に定義したとおりの意味を有し、ただし、Rは6−メチル−2−ピリジル基ではなく、あるいは
はモノ不飽和もしくは完全飽和の4〜10員の単環式、縮合二環式もしくは縮合三
環式炭素環系を表し、あるいは
はモノ不飽和もしくは完全飽和の4〜10員の単環式、縮合二環式もしくは縮合三環式複素環系を表し、この炭素環系もしくは複素環系は、メチル、エチル、アミノ、ヒドロキシもしくはフルオロから選択される1〜5個の置換基で置換されることができ、あるいは
は一般式CH−Rの基を表し、ここで、Rは1、2、3、4もしくは5個の上記に定義したとおりの置換基Yで置換されるフェニル基を表し、あるいはRはヘテロアリール基または1,2,3,4−テトラヒドロナフチルもしくはインダニル基を表し、このヘテロアリール基または1,2,3,4−テトラヒドロナフチルもしくはインダニル基は1、2もしくは3個の上記に定義したとおりの置換基Yで置換されることができ、あるいはRはモノ不飽和もしくは完全飽和の単環式、縮合二環式もしくは縮合三環式4〜10員炭素環系を表し、あるいはRはモノ不飽和もしくは完全飽和の4〜10員の単環式、縮合二環式もしくは縮合三環式複素環系を表し、この炭素環系もしくは複素環系は場合により1〜3個のメチル基、エチル、アミノもしくはヒドロキシ基でまたはフルオロ原子で置換されていてもよく、
−Rは水素もしくはハロゲン原子またはメチルスルファニルもしくはシアノ基を表し、あるいはRはC1〜6−アルキル基を表し、このC1〜6−アルキル基は1〜3個のフルオロ原子またはヒドロキシもしくはアミノ基を含有することができ、あるいはRはC2〜6−アルキニルもしくはC2〜6−アルケニル基を表し、これらの基は場合により1〜3個のフルオロ原子で置換されていてもよく、
−Rはサブグループ(ii)
Figure 2008530179
を表し、ここで、
−Rは水素原子もしくはC1〜3直鎖状アルキル基を表し、
−RはC2〜6アルキル基を表し、この基はヒドロキシもしくはアミノ基でまたは1〜3個のフルオロ原子で置換され、あるいはRはC7〜10分枝鎖状アルキル基、C3〜8シクロアルキル基、C5〜8ヘテロシクロアルキル基、C3〜8−シクロアルキル−C1〜2−アルキル基、C5〜7−ヘテロシクロアルキル−C1〜2−アルキル基、C5〜10ビシクロアルキル基、C5〜10−ビシクロアルキル−C1〜2−アルキル基、C5〜10−ヘテロビシクロアルキル−C1〜2−アルキル基、C6〜10トリシクロアルキル基、C6〜10−トリシクロアルキル−C1〜2−アルキル基、C6〜10−ヘテロトリシクロアルキル−C1〜2−アルキル基を表し、これらの基はメチル、ヒドロキシ、エチル、アミノ、ヒドロキシメチル、トリフルオロメチルもしくはフルオロから選択される1〜5個の置換基で置換されることができ、あるいはRはフェニル基を表し、この基は1〜5個の上記に定義したとおりの置換基Yで置換され、あるいはRはナフチルまたは1,2,3,4−テトラヒドロナフチルもしくはインダニル基を表し、これらの基は1〜3個の置換基Yで置換されることができ、あるいはRはフェニル−C1〜3−アルキル基、ジフェニル−C1〜3−アルキル基を表し、これらの基は1〜5個の置換基Yでそれらのフェニル環上で置換されることができ、ここで、Yは上記の意味を有し、あるいはRはベンジル基を表し、このベンジル基は1〜5個の置換基Yで置換され、あるいはRはヘテロアリール、ヘテロアリールメチルもしくはヘテロアリールエチル基を表し、このヘテロアリール、ヘテロアリールメチルもしくはヘテロアリールエチル基は1〜3個の上記に定義したとおりの置換基Yで置換されることができ、あるいはRはピペリジニル、
アゼパニル、モルホリニル、アザビシクロ[3.3.0]オクタニル、4−ヒドロキシピペリジニルもしくはピロリジニル基を表し、ただし、Rは6−メトキシ−ベンゾチアゾール−2−イル基でも[3−クロロ−5−(トリフルオロメチル)ピリド−2−イル]メチル基でもない]
の化合物にも関する。
なおさらに特に、本発明は式(I)
Figure 2008530179
[式中:
−Rはハロゲン原子もしくはC1〜3−アルキル基を表し、このC1〜3−アルキル基は1〜3個のフルオロ原子もしくはヒドロキシ基を含有することができ、あるいはRはシアノもしくはメチルスルファニル基を表し、
−Rはメチル、エチル、アミノ、ヒドロキシもしくはフルオロから選択される1〜5個の置換基で置換されることができるモノ不飽和もしくは完全飽和の5〜7員の単環式炭素環系を表し、あるいはRはメチル、エチル、プロピル、メトキシ、エトキシ、ヒドロキシ、クロロ、ヨード、ブロモ、フルオロ、トリフルオロメチル、トリフルオロメトキシ、メチルスルホニル、カルバモイル、フェニルおよびシアノよりなる群から選択される、同じであるかもしくは異なることができる、1、2、3、4もしくは5個の置換基Yで置換されることができるフェニル基を表し、
−Rは水素もしくはハロゲン原子またはメチルスルファニルもしくはシアノ基を表し、あるいはRはC1〜6−アルキル基を表し、このC1〜6−アルキル基は1〜3個のフルオロ原子またはヒドロキシもしくはアミノ基を含有することができ、
−Rはサブグループ(ii)
Figure 2008530179
を表し、ここで、
−Rは水素原子もしくはメチル基を表し、
−RはC2〜6アルキル基を表し、この基は1〜3個のフルオロ原子で置換され、あるいはRはC7〜10分枝鎖状アルキル基、C3〜8シクロアルキル基、C5〜8ヘテロシクロアルキル基、C3〜8−シクロアルキル−C1〜2−アルキル基、C5〜7−ヘテロシクロアルキル−C1〜2−アルキル基、C5〜10ビシクロアルキル基、C5〜10−ビシクロアルキル−C1〜2−アルキル基、C5〜10−ヘテロビシクロアルキル−C1〜2−アルキル基、C6〜10トリシクロアルキル基、C6〜10−トリシクロアルキル−C1〜2−アルキル基、C6〜10−ヘテロトリシクロアルキル−C1〜2−アルキル基を表し、これらの基はメチル、ヒドロキシ、エチル、アミノ、ヒドロキシメチル、トリフルオロメチルもしくはフルオロから選択される1〜5個の置換基で置換されることができ、あるいはRはフェニル基を表し、この基は1〜5個の上記に定義したとおりの置換基Yで置換され、あるいはRはナフチルまたは1,2,3,4−テトラヒドロナフチルもしくはインダニル基を表し、これらの基は1〜3個の置換基Yで置換されることができ、あるいはRはフェニル−C1〜3−アルキル基、ジフェニル−C1〜3−アルキル基を表し、これらの基は1〜5個の置換基Yでそれらのフェニル環上で置換されることができ、ここで、Yは上記の意味を有し、あるいはRは置換されたベンジル基を表し、このベンジル基は1〜5個の置換基Yで置換され、あるいはRはヘテロアリール、ヘテロアリールメチルもしくはヘテロアリールエチル基を表し、このヘテロアリール、ヘテロアリールメチルもしくはヘテロアリールエチル基は1〜3個の上記に定義したとおりの置換基Yで置換されることができ、ただし、Rは6−メトキシ−ベンゾチアゾール−2−イル基でも[3−クロロ−5−(トリフルオロメチル)ピリド−2−イル]メチル基でもない]
の化合物に関する。
最も特に、本発明は式(I)
Figure 2008530179
[式中:
−Rはハロゲン原子もしくはC1〜3−アルキル基を表し、このC1〜3−アルキル基は1〜3個のフルオロ原子を含有することができ、あるいはRはシアノもしくはメチルスルファニル基を表し、
−Rは飽和した6員の単環式炭素環を表し、あるいはRはメチル、エチル、プロピル、メトキシ、エトキシ、ヒドロキシ、クロロ、ヨード、ブロモ、フルオロ、トリフルオロメチル、トリフルオロメトキシ、メチルスルホニル、カルバモイル、フェニルおよびシアノよりなる群から選択される、同じであるかもしくは異なることができる、1、2もしくは3個の置換基Yで置換されることができるフェニル基を表し、
−Rは水素もしくはハロゲン原子またはメチルスルファニルもしくはシアノ基を表し、あるいはRはC1〜4−アルキル基を表し、このC1〜4−アルキル基は1〜3個のフルオロ原子を含有することができ、
−Rはサブグループ(ii)
Figure 2008530179
を表し、ここで、
−Rは水素原子もしくはメチル基を表し、
−RはC2〜6アルキル基を表し、この基は1〜3個のフルオロ原子で置換され、あるいはRはC7〜10分枝鎖状アルキル基、C3〜8シクロアルキル基、C5〜8ヘテロシクロアルキル基、C3〜8−シクロアルキル−C1〜2−アルキル基、C5〜7−ヘテロシクロアルキル−C1〜2−アルキル基、C5〜10ビシクロアルキル基、C5〜10
−ビシクロアルキル−C1〜2−アルキル基、C5〜10−ヘテロビシクロアルキル−C1〜2−アルキル基、C6〜10トリシクロアルキル基、C6〜10−トリシクロアルキル−C1〜2−アルキル基、C6〜10−ヘテロトリシクロアルキル−C1〜2−アルキル基を表し、これらの基はメチル、ヒドロキシ、エチル、アミノ、ヒドロキシメチル、トリフルオロメチルもしくはフルオロから選択される1〜5個の置換基で置換されることができ、あるいはRはフェニル基を表し、この基は1〜3個の置換基Yで置換され、ここで、Yは上記に定義したとおりの意味を有し、あるいはRはナフチル基を表し、この基は1〜3個の置換基Yで置換されることができ、あるいはRはフェニル−C1〜2−アルキル基を表し、この基は1〜3個の置換基Yでフェニル環上で置換されることができ、ここで、Yは上記の意味を有し、あるいはRは置換されたベンジル基を表し、このベンジル基は1〜5個の置換基Yで置換される]
の化合物に関する。
最後に、本発明はまた特に、Rが飽和した6員の単環式炭素環を表すか、あるいはRがメチル、エチル、プロピル、メトキシ、エトキシ、ヒドロキシ、クロロ、ヨード、ブロモ、フルオロ、トリフルオロメチル、トリフルオロメトキシ、メチルスルホニル、カルバモイル、フェニルおよびシアノよりなる群から選択される、同じであるかもしくは異なることができる、1、2、3、4もしくは5個の置換基Yで置換されることができるフェニル基を表し、そして全ての他の記号が上記のとおりの意味を有する式(I)を有する化合物にも関する。
さらなる態様において、本発明は一般式(XIV)
Figure 2008530179
[式中:
−Rはハロゲン原子もしくはC1〜3−アルキル基を表し、このC1〜3−アルキル基は1〜3個のフルオロ原子またはヒドロキシもしくはアミノ基を含有することができ、あるいはRはC2〜3−アルキニル基、C2〜3−アルケニル基を表し、このC2〜3−アルキニル基もしくはC2〜3−アルケニル基は1〜3個のフルオロ原子を含有することができ、あるいはRはアセチル、シクロプロピル、シアノ、メチルスルホニル、エチルスルホニル、メチルスルフィニル、エチルスルフィニル、トリフルオロメチルスルファニル、メチルスルファニル、エチルスルファニル基、ホルミル基もしくはC2〜4−ヘテロアルキル基を表し、
−Rはメチル、エチル、プロピル、メトキシ、エトキシ、ヒドロキシ、クロロ、ヨード、ブロモ、フルオロ、トリフルオロメチル、トリフルオロメトキシ、メチルスルホニル、カルバモイル、フェニルおよびシアノよりなる群から選択される、同じであるかもしくは異なることができる、1、2、3、4もしくは5個の置換基Yで置換されることができるフェニル基を表し、あるいはRはヘテロアリール基を表し、このヘテロアリール基は1、2もしくは3個の置換基Yで置換されることができ、ここで、Yは上記に定義したとおりの意味を有し、ただし、Rは6−メチル−2−ピリジル基ではなく、あるいは
はモノ不飽和もしくは完全飽和の4〜10員の単環式、縮合二環式もしくは縮合三
環式炭素環系を表し、あるいは
はモノ不飽和もしくは完全飽和の4〜10員の単環式、縮合二環式もしくは縮合三環式複素環系を表し、この炭素環系もしくは複素環系はメチル、エチル、アミノ、ヒドロキシもしくはフルオロから選択される1〜5個の置換基で置換されることができ、あるいは
は一般式CH−Rの基を表し、ここで、Rは1、2、3、4もしくは5個の上記に定義したとおりの置換基Yで置換されるフェニル基を表し、あるいはRはヘテロアリール基または1,2,3,4−テトラヒドロナフチルもしくはインダニル基を表し、このヘテロアリール基または1,2,3,4−テトラヒドロナフチルもしくはインダニル基は、1、2もしくは3個の上記に定義したとおりの置換基Yで置換されることができ、あるいはRはモノ不飽和もしくは完全飽和の単環式、縮合二環式もしくは縮合三環式4〜10員炭素環系を表し、あるいはRはモノ不飽和もしくは完全飽和の4〜10員の単環式、縮合二環式もしくは縮合三環式複素環系を表し、この炭素環系もしくは複素環系は場合によりメチル、エチル、アミノ、ヒドロキシもしくはフルオロよりなる群から選択される1〜5個の置換基で置換されていてもよく、あるいは
はメチルスルホニルアミノアルキル基、メチルスルホニルアルキルもしくはアセトアミドアルキル基を表し、
ただし、Rはフェニル、4−メチルフェニルもしくは4−メトキシフェニル基を表さず、
−Rは水素もしくはハロゲン原子またはホルミル、C1〜6−アルキルスルホニル、C1〜6−アルキルスルフィニル、C1〜6−アルキルスルファニル、トリフルオロメチルスルファニル、ベンジルスルファニルもしくはシアノ基を表し、あるいはRはC1〜8−アルキル基を表し、このC1〜8−アルキル基はフルオロ、ヒドロキシもしくはアミノよりなる群から選択される1〜5個の置換基で置換されることができ、あるいはRはC2〜6−アルキニル、C2〜6−アルケニル、C1〜6−アルカノイル、C3〜8−シクロアルキル、C5〜8−ヘテロシクロアルキルもしくはC2〜6−ヘテロアルキル基を表し、これらの基は場合により1〜3個のメチル基、エチル、アミノもしくはヒドロキシ基でまたは1〜3個のフルオロ原子で置換されていてもよく、あるいはRは1〜5個の置換基Yで置換されるフェニル基を表し、ここで、Yは上記に定義したとおりの意味を有し、あるいはRはヘテロアリール基を表し、このヘテロアリール基は1、2もしくは3個の置換基Yで置換されることができ、ここで、Yは上記に定義したとおりの意味を有し、あるいはRはベンジルもしくはヘテロアリールメチル基を表し、このベンジルもしくはヘテロアリールメチル基は1、2もしくは3個の置換基Yで置換されることができ、
−Zはクロロ原子またはC1〜3アルキル基、ヒドロキシ基、または−O−Na、−O−K、−O−Liもしくは−O−Cs基を表し、あるいはZはN−メトキシ−N−メチル−アミノ基を表す]
の化合物に関し、そのような化合物は、
−Rがハロゲン原子もしくはC1〜3−アルキル基を表し、このC1〜3−アルキル基が1〜3個のフルオロ原子またはヒドロキシもしくはアミノ基を含有することができ、あるいはRがC2〜3−アルキニル基、C2〜3−アルケニル基を表し、このC2〜3−アルキニル基もしくはC2〜3−アルケニル基が1〜3個のフルオロ原子を含有することができ、あるいはRがアセチル、シクロプロピル、シアノ、メチルスルホニル、エチルスルホニル、メチルスルフィニル、エチルスルフィニル、トリフルオロメチルスルファニル、メチルスルファニル、エチルスルファニル基、ホルミル基もしくはC2〜4−ヘテロアルキル基を表し、
−Rがメチル、エチル、プロピル、メトキシ、エトキシ、ヒドロキシ、クロロ、ヨード、ブロモ、フルオロ、トリフルオロメチル、トリフルオロメトキシ、メチルスルホニル、カルバモイル、フェニルおよびシアノよりなる群から選択される、同じであるかもしくは異なることができる、1、2、3、4もしくは5個の置換基Yで置換されることができるフェニル基を表し、あるいはRがヘテロアリール基を表し、このヘテロアリール基が1、2もしくは3個の置換基Yで置換されることができ、ここで、Yが上記に定義したとおりの意味を有し、ただし、Rが6−メチル−2−ピリジル基ではなく、あるいは
がモノ不飽和もしくは完全飽和の4〜10員の単環式、縮合二環式もしくは縮合三環式炭素環系を表し、あるいは
がモノ不飽和もしくは完全飽和の4〜10員の単環式、縮合二環式もしくは縮合三環式複素環系を表し、この炭素環系もしくは複素環系がメチル、エチル、アミノ、ヒドロキシもしくはフルオロから選択される1〜5個の置換基で置換されることができ、あるいは
が一般式CH−Rの基を表し、ここで、Rが1、2、3、4もしくは5個の上記に定義したとおりの置換基Yで置換されるフェニル基を表し、あるいはRがヘテロアリール基または1,2,3,4−テトラヒドロナフチルもしくはインダニル基を表し、このヘテロアリール基または1,2,3,4−テトラヒドロナフチルもしくはインダニル基が1、2もしくは3個の上記に定義したとおりの置換基Yで置換されることができ、あるいはRがモノ不飽和もしくは完全飽和の単環式、縮合二環式もしくは縮合三環式4〜10員炭素環系を表し、あるいはRがモノ不飽和もしくは完全飽和の4〜10員の単環式、縮合二環式もしくは縮合三環式複素環系を表し、この炭素環系もしくは複素環系が場合によりメチル、エチル、アミノ、ヒドロキシもしくはフルオロよりなる群から選択される1〜5個の置換基で置換されていてもよく、あるいは
がメチルスルホニルアミノアルキル基、メチルスルホニルアルキルもしくはアセトアミドアルキル基を表し、
−Rが水素もしくはハロゲン原子またはホルミル、C1〜6−アルキルスルホニル、C1〜6−アルキルスルフィニル、C1〜6−アルキルスルファニル、トリフルオロメチルスルファニル、ベンジルスルファニルもしくはシアノ基を表し、あるいはRがC1〜8−アルキル基を表し、このC1〜8−アルキル基がフルオロ、ヒドロキシもしくはアミノよりなる群から選択される1〜5個の置換基で置換されることができ、あるいはRがC2〜6−アルキニル、C2〜6−アルケニル、C1〜6−アルカノイル、C3〜8−シクロアルキル、C5〜8−ヘテロシクロアルキルもしくはC2〜6−ヘテロアルキル基を表し、これらの基が場合により1〜3個のメチル基、エチル、アミノもしくはヒドロキシ基でまたは1〜3個のフルオロ原子で置換されていてもよく、あるいはRが1〜5個の置換基Yで置換されるフェニル基を表し、ここで、Yが上記に定義したとおりの意味を有し、あるいはRがヘテロアリール基を表し、このヘテロアリール基が1、2もしくは3個の置換基Yで置換されることができ、ここで、Yが上記に定義したとおりの意味を有し、あるいはRがベンジルもしくはヘテロアリールメチル基を表し、このベンジルもしくはヘテロアリールメチル基が1、2もしくは3個の置換基Yで置換されることができる
一般式(I)の化合物の合成において有用である。
合成の一般的態様
式(I)の化合物は、異なる方法論により製造することができる。特定の方法の選択は、使用する試薬と官能基との適合性、保護基、触媒、活性化およびカップリング試薬を使用する可能性、ならびに製造している最終化合物に存在する最終的な構造的特徴のような因子により決まる。
イミダゾール誘導体は、既知の方法に従って得ることができる。関連論文は下記のとおりである:
a)Gomez−Sanchez et al.,J.Heterocyclic Chem.(1987),24,1757−1763
b)Matsuura et al.,J.Chem.Soc.Perkin Trans.I(1991),11,2821−2826
c)Ueda et al.,Tetrahedron Lett.(1988),29,4607−4610
d)Gupta et al.,Eur.J.Med.Chem.(2004),39,805−814
e)Van Berkel et al.Tetrahedron Lett.(2004),45,7659−7662
f)Haberhauer and Rominger,Tetrahedron Lett.(2002),43,6335−6338
g)Dell’Erba et al.,Tetrahedron(1997),53,2125−2136
h)Lipshutz et al.,Tetrahedron Lett.(1992),33,5865−5868
一般式(I)の化合物は、スキーム1〜6に概説する方法に従って得ることができる。
Figure 2008530179
一般式(II)のニトロエナミン誘導体は、Gomez−Sanchez et al.,J.Heterocyclic Chem.(1987),24,1757−1763により公開された方法に従って製造することができる。一般式(II)のニトロエナミン誘導体を一般式 (III)のオルト−エステルと反応させて一般式(IV)のイミダゾール誘導体を生成せしめることができる(スキーム1)。続いて、例えば水酸化リチウム(LiOH)、NaOH、KOHもしくはCsOHを用いて、塩基性エステル加水分解により中間体イミダゾールカルボン酸アルカリ塩を生成せしめることができ、それを水性塩酸塩(HCl)のような酸により酸性化して一般式(V)のイミダゾールカルボン酸誘導体を生成せしめることができる。一般式(IV)の化合物をXが上記に定義したとおりのサブグループ(ii)を表す一般式(I)の化合物に一般式RNHのアミンでアミド化することができる。そのようなアミド化は、トリメチルアルミニウム(CHAlにより触媒されることができる。(アミドへのエステルのアルミニウムにより媒介される転化に関するさらなる情報は:J.I.Levin,E.Turos,S.M.Weinreb,Synth.Commun.(1982),12,989−993を参照)。一般式(V)のイミダゾールカルボン酸誘導体もしくはそれらの対応するアルカリ塩をXが上記に定義したとおりのサブグループ(ii)を表す一般式(I)の化合物に一般式RNHのアミンと反応させることができる。この特定の反応は、好ましくは、活性エステルの形成、もしくは例えばDCC、HBTU(O−ベンゾトリアゾール−1−イル−N,N,N’,N’−テトラメチルウロニウムヘキサフルオロリン酸塩)、TBTU、HOAt(N−ヒドロキシ−7−アザベンゾトリアゾール)、PyBOP(ベンゾトリアゾール−1−イルオキシトリス(ピロリジノ)−ホスホニウムヘキサフルオロリン酸塩)、BOP、CIP(2−クロロ−1,3−ジメチルイミダゾリニウムヘキサフルオロリン酸塩)、2−クロロ−1,3−ジメチルイミダゾリニウムクロリド、PyAOP(7−アザベンゾトリアゾール−1−イルオキシトリス(ピロリジノ)−ホスホニウムヘキサフルオロリン酸塩)などのようないわゆるカップリング試薬の存在下でのような活性化およびカップリング方法によって進行する。(活性化およびカップリング方法に関するさらなる情報は、a)M.Bodanszky,A.Bodanszky:The Practice of Peptide Synthesis,Springer−Verlag,New York,1994;ISBN:0−387−57505−7;b)K.Akaji et al.,Tetrahedron Lett.(1994),35,3315−3318;c)F.Albericio et al.,Tetrahedron Lett.(1997),38,4853−4856);d)C.Montalbetti and V.Falque,Tetrahedron(2005),61,10827−10852を参照)。
あるいはまた、一般式(V)を有する化合物もしくは対応するアルカリ塩を例えば塩化チオニル(SOCl)もしくは塩化オキサリルのようないわゆるハロゲン化剤と反応させることができる。この反応は対応する塩化カルボニル(酸塩化物)(Va)を生成せしめ、次にそれをRおよびRが上記のとおりの意味を有する式RNHを有する化合物と反応させて、Xが上記に定義したとおりのサブグループ(ii)を表す一般式(I)の化合物を生成せしめることができる。そのような反応は、ピリジンもしくは4−ジメチルアミノピリジン(DMAP)により触媒されることができる。
一般式(V)を有する化合物をカップリング試薬の存在下でN−メトキシ−N−メチルアミンと反応させて一般式(VI)の対応するN−メトキシ−N−メチルアミドを生成せしめ、そして次に一般式R−Liのリチウム試薬もしくはグリニャール試薬と反応させてXが上記に定義したとおりのサブグループ(i)を表す一般式(I)の化合物を生成せしめることができる。
Figure 2008530179
あるいはまた、一般式(VII)を有する化合物をLがクロロ、ブロモ、ヨードもしくはメシルオキシのようないわゆる脱離基を表す一般式(VIII)の化合物と反応させることができる(スキーム2)。一般式(VII)を有する化合物はまた、メチルスルホニルアミノアルキルハロゲニドもしくはメチルスルホニルアルキルハロゲニドと反応させてメチルスルホニルアミノアルキル基もしくはメチルスルホニルアルキル基をイミダゾール核の1位に付加することもできる。そのような反応は、好ましくは、化合物(VII)の求核攻撃を促進するために水素化ナトリウムもしくは炭酸カリウムのような塩基の存在下で実施して、Rが基−CHを表しそしてRが上記の意味を有する式(IV)の化合物を生成せしめる。
あるいはまた、一般式(VII)を有する化合物をRが場合により置換されていてもよいフェニルもしくはヘテロアリール基、いわゆるスズキ試薬を表す一般式R−B(OH)の化合物と反応させて一般式(IV)の化合物を生成せしめることができる。一般式(IV)の化合物は、スキーム1に従って一般式(I)の化合物に転化することができる。そのような反応は、金属により触媒されることができる。
Figure 2008530179
一般式(IX)を有する化合物を亜硝酸ナトリウム(NaNO)のような亜硝酸塩誘導体と反応させて一般式(X)の化合物を生成せしめることができる(スキーム3)。一般式(X)を有する化合物をエタノールのような不活性有機溶媒において、水素のような還元剤および炭素上Pd(Pd/C)などのような触媒の存在下で一般式(RCO)Oの無水物と反応させて一般式(XI)の化合物を生成せしめることができる。一般式(XI)を有する化合物をブチロニトリルのような不活性溶媒において一般式RNHのアミンと反応させて、一般式(IV)の化合物を生成せしめることができる。一般式(IV)の化合物は、スキーム1に従って一般式(I)の化合物に転化することができる。
あるいはまた、一般式(XI)の化合物は、一般式(XII)の化合物から2容器(two−pot)反応において得ることができる。一般式(XII)の化合物をカリウムtert−ブトキシド(KO−t−Bu)のような強塩基で脱プロトン化し、そして次にLがクロリドのような脱離基を表す一般式RCOLのアシル化化合物と反応させ、続いて塩酸などのような酸で処理することができる。得られる一般式(XIII)の化合物を一般式(RCO)Oの無水物と反応させて式(XI)の化合物を生成せしめることができる。
あるいはまた、一般式(X)を有する化合物を塩酸のような酸の存在下でエタノールのような不活性有機溶媒において、水素のような還元剤および炭素上Pd(Pd/C)などのような触媒と反応させて一般式(XIII)の化合物を生成せしめることができる。
Figure 2008530179
Xがサブグループ(ii)を表しそしてイミダゾール部分の5位が水素原子を含有する一般式(I)を有する化合物をリチウムジイソプロピルアミド(LDA)のような強い非求核塩基で脱プロトン化し、続いてLが脱離基を表す基R−Lで処理して、Xがサブグループ(ii)を表しそしてイミダゾール部分の5位が置換基Rを含有する一般式(I)の化合物を生成せしめることができる(スキーム4)。
Figure 2008530179
およびRが水素を表しそしてRが上記の意味を有する一般式(IV)のイミダゾール誘導体をエステル加水分解によって、例えば水酸化リチウム(LiOH)、NaOH、KOHもしくはCsOHを用いることにより転化して中間体イミダゾールカルボン酸アルカリ塩を生成せしめることができ、これらの塩を水性塩酸塩(HCl)のような酸で酸性化して一般式(V)のイミダゾールカルボン酸誘導体を生成せしめることができる。一般式(V)のイミダゾールカルボン酸誘導体をアミド化してRおよびRが水素を表しそしてR、RおよびRが上記の意味を有する一般式(I)の化合物を生成せしめることができる。RおよびRが水素を表しそしてR、RおよびRが上記の意味を有する一般式(I)のこの化合物をリチウムジイソプロピルアミド(LDA)もしくはn−Buliのような強い非求核塩基で脱プロトン化し、続いてLがヨージド、ブロミドもしくはS−アルキルのような脱離基を表しそしてEが−S−アルキル、第一級アルキル、クロロ、ブロモ、ヨードもしくはシアノが包含されるがこれらに限定されるものではない求電子基を表す基E−Lで処理して、Xがサブグループ(ii)を表しそしてイミダゾール部分の2/5位が、この反応に適用する基E−Lのタイプにより、置換基Eおよび/もしくは水素原子を表す一般式(I)の化合物を生成せしめることができる(スキーム5
)。基Eの定義はRおよびRの定義の一部であり、そして上記に示したRおよびRの定義を超えない。スキーム5における最後の反応段階で形成され得る化合物の混合物は、例えばクロマトグラフィー方法によりもしくは結晶化技術により、分離しそして精製することができる。
Figure 2008530179
およびRが水素を表しそしてR、RおよびRが上記の意味を有する一般式(I)の化合物をジクロロメタンのような不活性有機溶媒においてN−クロロスクシンイミド(NCS)もしくは臭素(Br)のようなハロゲン化剤と反応させて、RがClもしくはBrを表しそしてRが水素原子を表す一般式(I)の化合物を生成せしめることができる。RがClもしくはBrを表しそしてRが水素原子を表す一般式(I)の化合物をジクロロメタンのような不活性有機溶媒においてNCSもしくはBrのようなハロゲン化剤と反応させて、RがClもしくはBrを表しそしてRがClもしくはBrを表す一般式(I)の化合物を生成せしめることができる(スキーム6)。
求核試薬、求電子試薬および脱離基概念に関するさらに詳細な情報は:M.B.Smith and J.March:Advanced organic chemistry,p.275,5thed.,(2001)John Wiley & Sons,New York,ISBN:0−471−58589−0)を参照。有機合成における保護基の付加およびその後の除去に関するさらなる情報は:T.W.Greene and
P.G.M.Wuts,“Protective Groups in Organic Synthesis”,第3版,John Wiley & Sons,Inc.,New York,1999に見出すことができる。
製薬学的に許容しうる塩は、当該技術分野において周知である標準的な方法を用いて、例えば本発明の化合物を適当な酸、例えば塩酸のような無機酸と、もしくはフマル酸のような有機酸と混合することにより得ることができる。
製薬学的製剤
本発明の化合物は、液体もしくは固体担体物質のような補助剤を用いて通常の方法によって投与に適当な形態にすることができる。本発明の製薬学的組成物は、経腸的に、経口的に、非経口的に(筋肉内にもしくは静脈内に)、経直腸的にもしくは局所的に(locallly)(局所的に(topically))投与することができる。それらは、液剤、散剤、錠剤、カプセル剤(マイクロカプセルを包含する)、軟膏(クリームもしくはゲル)もしくは座薬の形態で投与することができる。そのような製剤のための適当な賦形剤は、製薬学的に慣例の液体もしくは固体充てん剤および増量剤、溶媒、乳化剤、潤滑剤、香料、着色剤および/もしくはバッファー物質である。挙げることができるよく使用される補助剤は、炭酸マグネシウム、二酸化チタン、ラクトース、マンニトールおよび他の糖もしくは糖アルコール、タルク、乳タンパク質、ゼラチン、澱粉、セルロースおよびその誘導体、魚肝油、ヒマワリ油、ラッカセイ油もしくはゴマ油のような動物油および植物油、ポリエチレングリコールおよび溶媒、例えば滅菌水およびグリセロールのような一価もしくは多価アルコールである。
本発明の化合物は、一般に、これらの化合物、さらに特に本明細書に開示される特定の化合物の存在のために本発明の重要なそして新規の態様である製薬学的組成物として投与される。使用することができる製薬学的組成物のタイプには、錠剤、チュアブル錠、カプセル剤、液剤、非経口液剤、座薬、懸濁剤、ならびに本明細書に開示されるかもしくは本明細書および当該技術分野における一般知識から当業者に明らかである他のタイプが包含されるがこれらに限定されるものではない。本発明の態様において、本発明の製薬学的組成物の成分の1つもしくはそれ以上を詰めた1つもしくはそれ以上の容器を含んでなる製薬学的パックもしくはキットが提供される。そのような容器(1つもしくは複数)に付随するのは、使用説明書、または製薬学的製品の製造、使用もしくは販売を規制する政府機関により指示される形態の通知のような様々な文書であることができ、この通知はヒトもしくは動物投与のための製造、使用もしくは販売の機関による承認を示す。
薬理学的方法
カンナビノイドCB受容体神経伝達に関連するインビボおよびインビトロ薬理学的アッセイは、文献に記述されている。いくつかの例は下記のとおりである:
・Ibrahim,M.M.et al.(2003)Proc.Natl.Acad.Sci.USA 100,10529−10533
・Hanus,L.et al.(1999)Proc.Natl.Acad.Sci.USA 96,14228−14233
・Zhang,J.et al.(2003)Eur.J.Neuroscience 17,2750−2754.
・Klein,T.W.et al.(2003)J.Leukoc.Biol.74,486−496
・Shoemaker,J.L.et al.(2005),J.Pharmacol.Exp.Ther.315,828−838
・Iwamura,H.et al.(2001),J.Pharmacol.Exp.Ther.296,420−425
カンナビノイド−CB受容体に対するインビトロ親和性
カンナビノイドCB受容体に対する本発明の化合物の親和性は、放射性リガンドとしての[H]CP−55,940とともにヒトカンナビノイドCB受容体が安定にトランスフェクションされるチャイニーズハムスター卵巣(CHO)細胞の膜調製物を用いて決定することができる。本発明の化合物を加えるもしくは加えない、[H]−リガンドと新たに調製した細胞膜調製物とのインキュベーションの後に、結合および遊離リガンドの分離をガラス繊維フィルター上で濾過により行う。フィルター上の放射活性を液体シンチレーション計数により測定する。
カンナビノイド−CB受容体に対するインビトロ親和性
カンナビノイドCB受容体に対する本発明の化合物の親和性は、放射性リガンドとしての[H]CP−55,940とともにヒトカンナビノイドCB受容体が安定にトランスフェクションされるチャイニーズハムスター卵巣(CHO)細胞の膜調製物を用いて決定することができる。本発明の化合物を加えるもしくは加えない、[H]−リガンドと新たに調製した細胞膜調製物とのインキュベーションの後に、結合および遊離リガンドの分離をガラス繊維フィルター上で濾過により行う。フィルター上の放射活性を液体シンチレーション計数により測定する。
本発明の化合物は、それらのカンナビノイドCB受容体調節活性のために、免疫系障害、炎症性疾患、アレルギー、疼痛、神経障害性疼痛、多発性硬化症、神経変性疾患、認知症、ジストニー、筋痙性、振せん、癲癇、外傷性脳損傷、発作、パーキンソン病、アルツハイマー病、癲癇、ハンチントン病、脳虚血、脳卒中、頭蓋大脳外傷、脊髄損傷、神経炎症性疾患、脳幹神経変性、プラーク硬化症(plaque sclerosis)、ウイルス性脳炎、脱髄関連疾患および他の神経学的疾患の処置におけるならびに癌、糖尿病、胃疾患、肺疾患、喘息および心臓血管疾患ならびにCB受容体神経伝達が関与する他の疾患の処置における使用に適している。
本発明の化合物は、補助剤および/または液体もしくは固体担体物質を用いて通常の方法により投与に適当な形態にすることができる。
用量
カンナビノイドCB受容体に対する本発明の化合物の親和性を上記のように決定した。式(I)の既定化合物について測定される結合親和性から、理論的最低有効用量を概算することができる。測定されるK値の2倍に等しい化合物の濃度で、カンナビノイドCB受容体の100%が化合物により占められると思われる。その濃度を患者のkg当たりの化合物のmgに転化することにより、理想的生物学的利用能を仮定して、理論的最低有効用量がもたらされる。薬物動態学的、薬力学的および他の考慮事項により、実際に投与する用量がより高いもしくはより低い値に改変され得る。便宜的に投与する投薬量は、0.001〜1000mg/kg、好ましくは0.1〜100mg/kg患者体重である。
処置
「処置」という用語は、本明細書において用いる場合、哺乳類、好ましくはヒト症状もしくは疾患の任意の処置をさし、そして:(1)疾患にかかりやすい可能性があるがまだそれにかかっていると診断されていない患者において疾患もしくは症状が起こるのを防ぐこと、(2)疾患もしくは症状を抑制すること、すなわち、その進行を止めること、(3)疾患もしくは症状を軽減すること、すなわち、症状の退縮をもたらすこと、または(4)疾患により引き起こされる症状を軽減すること、すなわち、疾患の症状を止めることが包含される。
[実施例]
材料および方法
湿気に敏感な化合物もしくは条件を伴う全ての反応は、無水窒素雰囲気下で実施した。反応は、示した溶離剤でシリカ被覆プラスチックシート(Merckプレコートシリカゲル60 F254)上で薄層クロマトグラフィー(TLC)を用いることによりモニターした。スポットはUV光(254nm)もしくはIにより視覚化した。フラッシュクロマトグラフィーは、示した溶離剤およびAcrosシリカゲル(0.030〜0.075mm)を用いる精製をさす。石油エーテルは、石油エーテル40〜60を意味する。核磁気共鳴スペクトル(H NMRおよび13C NMR)は、テトラメチルシランを内部標準として示した溶媒において決定した。化学シフトは、テトラメチルシランからダウンフィールドにppm(δスケール)単位で示される。カップリング定数Jは、ヘルツ(Hz)単位で示される。NMRスペクトルにおけるピーク形状は、記号「q」(カルテット)、「dq」(ダブルカルテット)、「t」(トリプレット)、「dt」(ダブルトリプレット)、「d」(ダブレット)、「dd」(ダブルダブレット)、「s」(シングレット)、‘br s’(ブロードなシングレット)および「m」(マルチプレット)で示される。融点は、Buechi B−545融点装置上で記録するかもしくは示差走査熱量測定(DSC)法により決定した。収率は、単離された純粋な生成物をさす。
分取LC/MS装置および方法
エレクトロスプレーを有するSciex API 150 EX質量分析計、
2 Shimadzu LC8A LCポンプ、
Shimadzu SCL−10A VPシステムコントローラー、
Shimadzu SPD−10A VP UV計、
Gilson 215インジェクター/コレクター、
カラム:Phenomenex Luna C18(2)
:150x21.2x5μ
溶離剤:A pH=3で100%の水+0.1%のギ酸
:B 100%のアセトニトリル+0.1%のギ酸
注入:2.5ml
スプリッター:0.2ml/分のメイクアップフローで1〜50,000(0.25%HCOOHと一緒にされた(met)25%HO/75%ACN)
MS走査:100〜900amuから ステップ1amu走査時間1秒
方法:流速および勾配プロフィール
Figure 2008530179
特定の化合物の合成
以下にその合成を記述する特定の化合物は、さらに詳細に本発明をさらに説明するものとし、そしてそれ故に決して本発明の範囲を限定すると見なされない。本発明の他の態様は、本明細書の考慮事項および本明細書に開示される本発明の実施から当業者に明らかである。従って、本明細書および化合物は例としてのみ考えられるものとし、本発明の真の範囲および精神は請求項により示される。
化合物1の合成
部分A:エタノール/水(900ml、1/1(v/v))中の5−メチル−1H−イミダゾール−4−カルボン酸エチル(13.875g、0.090mol)、フェニルボロン酸(13.16g、0.108mol)およびCuI(0.85g、0.0045mol)の磁気的に攪拌した混合物を12等分し、そして85℃で60時間並行して反応させた。室温に冷却した後に、12の部分を合わせ、そして真空中で濃縮した。残留物をフラッシュクロマトグラフィー(酢酸エチル/石油エーテル40〜65=1/1(v/v))により精製して5−メチル−1−フェニル−1H−イミダゾール−4−カルボン酸エチル(5.88g、26%の収率)を生成せしめた。H−NMR(400MHz、CDCl):δ1.42(t、J=7Hz、3H)、2.47(s、3H)、4.40(q、J=7Hz、2H)、7.26−7.31(m、2H)、7.48−7.56(m、3H)、7.59(s、1H)。
部分B:(−)−シス−ミルタニルアミン(CAS 38235−68−6)(0.95ml、5.7mmol)を無水ジクロロメタン(15ml)に溶解し、そして(CH
Al(2.9mlのヘプタン中2M溶液、5.8mmol)を加えた。得られる混合物を室温で10分間磁気的に攪拌し、そして5−メチル−1−フェニル−1H−イミダゾール−4−カルボン酸エチル(1.1グラム、4.8mmol)を加えた。得られる混合物を35℃で16時間攪拌し、NaHCO水溶液に注ぎ込み、30分間攪拌し、そしてハイフロ(hyflo)上で濾過した。濾液をジクロロメタンで2回抽出した。有機層をNaSO上で乾燥させ、濾過し、そして真空中で濃縮した。次に、フラッシュクロマトグラフィー(酢酸エチル/石油エーテル40〜65=1/2(v/v))で精製してN−[(1R,2S,5R)−rel−6,6−ジメチルビシクロ[3.1.1]ヘプタン−2−メチル]−5−メチル−1−フェニル−1H−イミダゾール−4−カルボキサミド、化合物1(1.05グラム、65%の収率)を生成せしめた。融点:85〜89℃。
Figure 2008530179
同様にして、以下の化合物2〜7を製造した:
Figure 2008530179
化合物2:融点:214〜219℃。
Figure 2008530179
化合物3:融点:167〜169℃。
Figure 2008530179
化合物4:R−(+)−ボルニルアミン(CAS 32511−34−5)から。融点:209〜212℃。
Figure 2008530179
化合物5:エンド−(1R)−1,3,3−トリメチルビシクロ[2.2.1]ヘプタン−2−アミンから。融点:149〜152℃。
Figure 2008530179
化合物6:融点:198〜200℃。
Figure 2008530179
化合物7:融点:232〜234℃。
Figure 2008530179
化合物8の合成
部分A:2−メチル−1−フェニル−1H−イミダゾール−4−カルボン酸エチル(4.8グラム、21%の収率)を3−アニリノ−2−ニトロ−アクリル酸エチル(23.6グラム、0.01mol)およびオルト酢酸トリエチル(150ml)から記述されている方法(J.Heterocyclic Chem.1987,24,1757−1763において)に従って製造した。最初に形成される粗生成物をフラッシュクロマトグラフィー(溶離剤:ジエチルエーテル)Rf(ジエチルエーテル〜0.15)により精製して純粋な2−メチル−1−フェニル−1H−イミダゾール−4−カルボン酸エチルを油として生成せしめた。
部分B:2−メチル−1−フェニル−1H−イミダゾール−4−カルボン酸エチル(2.25グラム、0.012mol)をAlMe(7.2mlのヘキサン中2M溶液、0.0144mol)および1−アダマンタンアミン.HCl(2.25g、0.012mol)と反応させた(化合物1についての上記の方法と同様にして)。最初に形成される粗生成物をフラッシュクロマトグラフィー(溶離剤:ジエチルエーテル)により精製してN−アダマンチル−2−メチル−1−フェニル−1H−イミダゾール−4−カルボキサミド(2.2グラム、55%の収率)を生成せしめた。融点:207〜210℃。
Figure 2008530179
化合物9は、(−)−シス−ミルタニルアミン(CAS 38235−68−6)から化合物6と同様にして製造した。融点:124〜127℃。
Figure 2008530179
化合物10:N−アダマンチル−2−メチル−1−フェニル−1H−イミダゾール−4−カルボキサミド(0.33グラム、0.001mol)を無水テトラヒドロフラン(2
5ml)に溶解した。得られる溶液を−70℃でN下でリチウムジイソプロピルアミド(1.25mlのヘプタン/THF中2M溶液、0.0025molのLDA)の溶液にゆっくりと加えた。無水THF中のヨウ化メチル(0.14グラム、0.001mol)の溶液を加え、そして得られる溶液を−70℃で1時間攪拌した。溶液を室温に到達させ、そしてもう2時間攪拌し、そして次に水性酢酸でクエンチした。真空中で濃縮した後に、得られる残留物をフラッシュクロマトグラフィー(ジエチルエーテル/石油エーテル(40〜60)=3/1(v/v))により精製してそれぞれ化合物10および化合物11を生成せしめた。
融点 化合物10:180〜183℃。
Figure 2008530179
化合物11:化合物11は、化合物1、部分Bについての上記のワインレブアミド化方法に従って、2,5−ジメチル−1−フェニル−1H−イミダゾール−4−カルボン酸エチル(J.Heterocyclic Chem.1987,24,1757−1763における対応するメチルエステル3jを参照)をAlMeおよび1−アダマンタン−アミン.HClと反応させることによりさらに効率よく製造した。
融点:201〜204℃。
化合物12の合成
部分A:2,5−ジメチル−1−(3−メトキシフェニル)−1H−イミダゾール−4−カルボン酸エチルは、3−(3−メトキシフェニルアミノ)−3−メチル−2−ニトロ−アクリル酸エチルおよびオルト酢酸トリエチルから記述される方法(J.Heterocyclic Chem.1987,24,1757−1763において)と同様にして製造した。
部分B:2,5−ジメチル−1−(3−メトキシフェニル)−1H−イミダゾール−4−カルボン酸エチルをAlMeおよび(−)−シス−ミルタニルアミン(CAS 38235−68−6)でアミド化して(化合物1についての上記の方法と同様にして)(70℃で16時間攪拌する)化合物12を生成せしめた。融点:153〜155℃。
Figure 2008530179
化合物13〜20を同様にして製造した。
Figure 2008530179
化合物21の合成
部分A:無水THF中の4−メチル−1H−イミダゾール−5−カルボン酸エチル(15.42グラム、0.100mol)の磁気的に攪拌した懸濁液に水素化ナトリウム(NaH)(4.88gの60%懸濁液、0.120mol)をゆっくりと加え、そして得られる混合物を室温で30分間攪拌した。臭化ベンジル(13.8ml、0.120mol)をゆっくりと加え、そして得られる混合物を16時間反応させた。混合物に水を加えた。有機層を水層から分離した。水層を酢酸エチルで3回抽出した。有機層をMgSO上で乾燥させ、濾過し、そして完全に濃縮して油を生成せしめた。得られる残留物をフラッシュクロマトグラフィー(ジエチルエーテル/酢酸エチル勾配)により精製して(2つの形成される位置異性体を分離するために)N−ベンジル−5−メチル−1H−イミダゾール−4−カルボン酸エチル(11.4グラム、47%の収率)を生成せしめた。H−NMR(400MHz、CDCl):δ1.40(t、J=7、3H)、2.45(s、3H)、4.37(q、J=7、2H)、5.10(s、2H)、7.03−7.08(m、2H)、7.28−7.38(m、3H)、7.48(s、1H)。
部分B:N−ベンジル−5−メチル−1H−イミダゾール−4−カルボン酸エチル(1.5グラム、0.0061mol)を化合物1、部分Bについての記載の方法に従って1,2−ジクロロエタン(20ml)中のアダマンチル−1−アミン.HCl(1.72g、0.0092mol)およびAl(CH(4.6ml.ヘキサン中2M、0.0092mol)と70℃で40時間反応させた。フラッシュクロマトグラフィー(酢酸エチル/石油エーテル=1/1(v/v))により精製して化合物21(1.24グラム、58%)を生成せしめた。融点:182〜184℃。
Figure 2008530179
化合物22、23および23Aを同様にして製造した:
Figure 2008530179
化合物22の合成
化合物22は、90℃で20時間のDMFにおける塩基としてKCOを用いる4−メチル−1H−イミダゾール−5−カルボン酸エチルと3−(メチルスルホニルアミノ)プロピルクロリドとのカップリングによって製造し、次に2つの形成される位置異性体をフラッシュクロマトグラフィー(酢酸エチル/メタノール=9/1(v/v))により分離し、その後に(−)−シス−ミルタニルアミンでAl(CH触媒によるアミド化を続けた。
化合物22.融点:84〜108℃。R 0.35(EtOAc/MeOH=4/1(v/v))。
Figure 2008530179
化合物23.(エンド−(1R)−1,3,3−トリメチルビシクロ[2.2.1]ヘプタン−2−アミンから)融点:149〜156℃。R 0.4(EtOAc/MeOH=4/1(v/v))。
Figure 2008530179
化合物23Aの合成
化合物23Aは、60℃で40時間のDMSOにおける塩基としてKOHを用いる4−メチル−1H−イミダゾール−5−カルボン酸エチルとメタンスルホン酸1−メチル−ピペリジン−2−イルメチルエステル.HClとのカップリングによって製造し、続いて形成される位置異性体をフラッシュクロマトグラフィー(ジクロロメタン/メタノール=95/5(v/v))により分離し、続いて得られるエステルを対応するカルボン酸に転化し(水酸化リチウム/THF/水;60℃で20時間)、そして形成されるカルボン酸をジクロロメタン中ジイソプロピルエチルアミンの存在下でカップリング試薬としてPyBOP(ベンゾトリアゾール−1−イルオキシトリス(ピロリジノ)−ホスホニウムヘキサフルオロリン酸塩)を用いて(−)−シス−ミルタニルアミンとカップリングした。粗化合物23Aをフラッシュクロマトグラフィー(ジクロロメタン/メタノール=95/5(v/v))によりさらに精製し、続いて単離された遊離塩基を2塩酸塩に転化した。
化合物23A.融点:148〜153℃。
化合物24の合成
部分A:メタノール(200ml)中のN−ベンジル−5−メチル−1H−イミダゾール−4−カルボン酸エチル(8.4グラム、0.0345mol)の磁気的に攪拌した溶液にKOH(7.3グラム、85%のグレード、0.110mol)の溶液をゆっくりと加え、そして得られる混合物を80℃で2時間加熱した。溶液を室温に冷却し、そして次に濃HCl(9.2ml)を加えた。形成される沈殿物を濾過により集めてN−ベンジル−5−メチル−1H−イミダゾール−4−カルボン酸(6.77グラム、91%の収率)を生成せしめた。融点:292℃(分解)。
部分B:無水アセトニトリル(35ml)中のN−ベンジル−5−メチル−1H−イミダゾール−4−カルボン酸(6.77グラム、0.031mol)の磁気的に攪拌した溶液にジイソプロピルエチルアミン(DIPEA)(17.2ml、0.0992mol)、HBTU(14.098グラム、0.0372mol)およびメトキシ−メチルアミン(3.63グラム、0.0372mol)を連続して加えた。得られる混合物を20℃で16時間反応させ、そして次に真空中で濃縮した。得られる残留物を酢酸エチルに溶解し、そして5%NaHCO水溶液および水で連続して洗浄した。有機層をMgSO上で乾燥させ、濾過し、そして真空中で濃縮した。得られる油性残留物(18.45グラム)をフラッシュクロマトグラフィー(酢酸エチル/アセトン=7/3(v/v))により精製してN−メトキシ−N−メチル−5−メチル−1−ベンジル−1H−イミダゾール−4−カルボキサミド(10.77グラム、82%の収率)を生成せしめた。MH=260。H−NMR(400MHz、CDCl):δ2.34(s、3H)、3.47(s、3H)、3.77(s、3H)、5.09(s、2H)、7.05−7.10(m、2H)、7.18−7.28(m、3H)、7.48(s、1H)。
部分C:1−ナフチルマグネシウムブロミド(49ml、THF中0.25M、0.00123mol)の磁気的に攪拌した溶液に無水THF(10ml)中のN−メトキシ−N−メチル−5−メチル−1−ベンジル−1H−イミダゾール−4−カルボキサミド(2.69グラム、0.0104mol)の溶液を加え、そして得られる溶液を1時間攪拌した。反応混合物を1NのHCl(21ml)においてクエンチし、そして次に酢酸エチル(EtOAc)で抽出した。EtOAc層を水で2回洗浄し、MgSO上で乾燥させ、濾過し、そして真空中で濃縮した。得られる粗残留物をフラッシュクロマトグラフィー(酢酸エチル/石油エーテル=1/1(v/v))、続いて別のフラッシュクロマトグラフィー精製(ジクロロメタン/メタノール=99/1(v/v))により精製して純粋な化合物24(1.35グラム、66%の収率)を油として生成せしめた。H−NMR(400MHz、CDCl):δ2.58(s、3H)、5.12(s、2H)、7.08−7.13(m、2H)、7.31−7.40(m、3H)、7.44−7.56(m、4H)、7.78−7.82(m、1H)、7.84−7.89(m、1H)、7.92−7.96(m、1H)、8.16−8.22(m、1H)。
Figure 2008530179
化合物25の合成
化合物25を同様にして製造した(無水ジエチルエーテル中のN−メトキシ−N−メチル−5−メチル−1−フェニル−1H−イミダゾール−4−カルボキサミドおよびn−ヘキシルリチウムから)。最初に単離された粗生成物のフラッシュクロマトグラフィー精製(メチル−tert−ブチルエーテル/石油エーテル=1/3(v/v))により化合物25(24%の収率)を淡黄色の油として生成せしめた。
Figure 2008530179
化合物25.H−NMR(400MHz、CDCl):δ0.86−0.94(m、3H)、1.25−1.47(m、6H)、1.70−1.80(m、2H)、2.50(s、3H)、3.04−3.11(m、2H)、7.26−7.32(m、2H)、7.50−7.59(m、4H)。
化合物26を同様にして製造した。
Figure 2008530179
化合物26;R(メタノール/ジクロロメタン=3/97(v/v)、シリカゲル)=0.65.
化合物27の合成
ジクロロメタン(20ml)中のN−(アダマント−1−イル)−1−フェニル−1H−イミダゾール−4−カルボキシレート(1.61グラム、0.005mol)の磁気的に攪拌した溶液にジクロロメタン(5ml)中のBr(0.52ml、0.010mmol)の溶液を加えた。得られる混合物を室温で4時間反応させた。ジクロロメタンおよび5%NaHCO水溶液を反応混合物に加えた。分離した有機層をMgSO上で乾燥させ、濾過し、そして真空中で濃縮した。得られる残留物をフラッシュクロマトグラフィー(ジクロロメタン/アセトン=19/1(v/v))により精製した。次に、アセトニトリルから再結晶化させてN−(アダマント−1−イル)−5−ブロモ−1−フェニル−1H−イミダゾール−4−カルボキサミド(0.51グラム、26%の収率)を生成せしめた。融点:229〜232℃。
Figure 2008530179
同様にして、化合物28は室温で40時間塩素化剤としてN−クロロスクシンイミド(NCS)を用いて17%の収率で製造した。フラッシュクロマトグラフィー(ジクロロメタン/アセトン=19/1(v/v))。融点:209〜213℃。
Figure 2008530179
化合物29の合成
ジクロロメタン(20ml)中のN−(アダマント−1−イル)−5−ブロモ−1−フェニル−1H−イミダゾール−4−カルボキシレート(0.60グラム)の磁気的に攪拌した溶液にジクロロメタン(5ml)およびトリエチルアミン(0.21ml)中のBr(0.30ml)の溶液を加えた。得られる混合物を室温で50時間反応させた。ジクロロメタンおよび5%NaHCO水溶液を反応混合物に加えた。分離した有機層をMgSO上で乾燥させ、濾過し、そして真空中で濃縮した。得られる残留物をフラッシュクロマトグラフィー(ジクロロメタン)により精製した。次にジエチルエーテル中で攪拌し、続いて濾過してN−(アダマント−1−イル)−2,5−ジブロモ−1−フェニル−1H−イミダゾール−4−カルボキサミド(0.29グラム)を生成せしめた。融点:228〜231℃。
Figure 2008530179
同様にして、化合物30は塩素化剤としてN−クロロスクシンイミド(NCS)を用いてN−(アダマント−1−イル)−5−クロロ−1−フェニル−1H−イミダゾール−4−カルボキシレートから32%の収率で製造した。融点:193〜195℃。
Figure 2008530179
化合物31の合成
−70℃でN下で無水THF(20ml)中のN−(アダマント−1−イル)−2−メチル−1−フェニル−1H−イミダゾール−4−カルボキシレート(2.01グラム、0.006mol)の磁気的に攪拌した懸濁液に−70℃でN下でリチウムジイソプロピルアミド(LDA)(9.0mlのヘプタン/THF中2M溶液、0.018molのLDA)の溶液をゆっくりと加え、そして得られる溶液を1時間攪拌した。無水THF(10ml)中のシアン化パラ−トリルスルホニル(1.63グラム、0.009mol)の溶液を加え、そして得られる溶液を−70℃で1時間攪拌した。溶液を室温に到達させ、そしてさらに12時間攪拌し、そして次に水でクエンチした。混合物をジエチルエーテルで抽出した。有機層をMgSO上で乾燥さ、濾過し、そして真空中で濃縮した。得られる残留物をフラッシュクロマトグラフィー(ジクロロメタン/アセトン=19/1(v/v))により精製し、そして次にアセトニトリルから再結晶化させて化合物31(0.23グラム、11%の収率)を生成せしめた。融点 化合物30:246〜248℃。
Figure 2008530179
同様にして、化合物32はジメチルジスルフィド(CHSSCH)を用いてN−(アダマント−1−イル)−2−メチル−1−フェニル−1H−イミダゾール−4−カルボキシレートから31%の収率で製造した。融点:172〜173℃。
Figure 2008530179
同様にして、化合物33は塩化パラ−トリルスルホニルを用いてN−(アダマント−1−イル)−2−メチル−1−フェニル−1H−イミダゾール−4−カルボキシレートから28%の収率で製造した。融点:216〜218℃。
Figure 2008530179
同様にして、化合物33Aは臭化パラ−トリルスルホニルを用いてN−(アダマント−1−イル)−2−メチル−1−フェニル−1H−イミダゾール−4−カルボキシレートから製造した。融点:242〜244℃。
Figure 2008530179
同様にして、化合物34はシアン化パラ−トリルスルホニルを用いてN−(アダマント−1−イル)−1−フェニル−1H−イミダゾール−4−カルボキシレートから7%の収
率で製造した。融点:237〜239℃。
Figure 2008530179
同様にして、化合物35はジメチルジスルフィド(CHSSCH)を用いてN−(アダマント−1−イル)−1−フェニル−1H−イミダゾール−4−カルボキシレートから12%の収率で製造した。融点:166〜168℃。
Figure 2008530179
概要:化合物36〜114は全て、上記のスキーム3において概説する一般的方法に従って製造した。一般式(IV)の得られる化合物を一般構造(V)の対応するカルボン酸を介してXがサブグループ(ii)を表す一般式(I)の化合物に転化した(上記のスキーム1を参照)。
化合物36の合成
部分A:NaNO(13.8グラム)を4℃で水(48ml)に溶解した。温度を<5℃に保ちながら、得られる溶液を3−オキソ−酪酸メチルエステル(17.4グラム、0.15mol)の磁気的に攪拌した溶液にゆっくりと加えた。混合物を2時間攪拌した後に水(120ml)を加え、そして得られる混合物をジエチルエーテルで2回抽出した。合わせた有機層を水および5%NaHCO水溶液で連続して洗浄した。有機層をMgSO上で乾燥させ、濾過し、そして完全に濃縮して粗2−ヒドロキシイミノ−3−オキソ−酪酸メチルエステル(24グラム)を無色の油として生成せしめ、それをさらに精製しなかった。H−NMR(400MHz、CDCl):δ2.42(s、3H)、3.91(s、3H)、9.90(br s、1H)。
部分B:酢酸(293ml)、無水酢酸(110ml)およびPd/C(4グラム)の磁気的に攪拌した混合物に溶解した粗2−ヒドロキシイミノ−3−オキソ−酪酸メチルエステル(24グラム、〜0.15mol)を1気圧H圧力で室温で20時間水素化した。ハイフロ上での濾過の後に、酢酸および無水酢酸を真空中での濃縮により除いた。得られる粗混合物をフラッシュクロマトグラフィー(ジクロロメタン/メタノール=95/5(v/v))により精製して2−アセチルアミノ−3−オキソ−酪酸メチルエステル(16.7グラム、60%の収率)を白色の固体として生成せしめた。R(ジクロロメタン/メタノール=95/5(v/v))=0.4。H−NMR(400MHz、CDCl):δ2.08(s、3H)、2.40(s、3H)、3.83(s、3H)、5.29(d、J〜7、1H)、6.71(br s、1H)。
部分C:ブチロニトリル中の2−アセチルアミノ−3−オキソ−酪酸メチルエステル(5グラム、28.9mmol)の磁気的に攪拌した溶液にアニリン(3.42ml)およびトリフルオロ酢酸(2.89ml)を加え、そして得られる混合物を還流で45分間加熱した。ブチロニトリルを室温で真空中で除き、そして得られる残留物をジクロロメタンに溶解し、そして炭酸カリウム水溶液で2回洗浄した。有機層をMgSO上で乾燥させ、濾過し、そして真空中で濃縮した。得られる残留物をフラッシュクロマトグラフィー(ジエチルエーテル/アセトン=4/1(v/v))により精製して2,5−ジメチル−1−フェニル−1H−イミダゾール−4−カルボン酸メチル(3.0グラム、46%の収率)を生成せしめた。H−NMR(400MHz、CDCl):δ2.22(s、3H)、2.33(s、3H)、3.91(s、3H)、7.18−7.22(m、2H)、7.51−7.59(m、3H).
部分D:THF(100ml)中の2,5−ジメチル−1−フェニル−1H−イミダゾール−4−カルボン酸メチル(8.0グラム、0.035mol)の磁気的に攪拌した溶液に水(100ml)中のLiOH(1.68グラム)の溶液を加えた。得られる混合物を70℃で16時間加熱し、室温に到達させ、そして2モル当量の1N HCl溶液で酸性化した。形成される沈殿物を集めて粗2,5−ジメチル−1−フェニル−1H−イミダゾール−4−カルボン酸(7.0グラム、93%の収率)を生成せしめた。H−NMR(400MHz、DMSO−d):δ2.31(s、3H)、2.43(s、3H)、7.56−7.61(m、2H)、7.66−7.71(m、3H)。
部分D:アセトニトリル(35ml)中の2,5−ジメチル−1−フェニル−1H−イミダゾール−4−カルボン酸(0.6グラム、0.0028mol)の磁気的に攪拌した溶液にジイソプロピルエチルアミン(DIPEA、ヒューニッヒ塩基)(1.27グラム)、O−ベンゾトリアゾール−1−イル−N,N,N’,N’−テトラメチルウロニウムヘキサフルオロリン酸塩(HBTU)(1.27グラム)および(−)−シス−ミルタニルアミン(1.05ml、0.0028mol)を連続して加えた。得られる混合物を20℃で16時間反応させ、そして次に真空中で濃縮した。得られる残留物をジクロロメタンに溶解し、そして5%NaHCO水溶液で洗浄した。有機層をMgSO上で乾燥させ、濾過し、そして真空中で濃縮した。得られる残留物をフラッシュクロマトグラフィー(ジクロロメタン/メタノール=95/5(v/v))により精製してN−[(1R,2S,5R)−レル−6,6−ジメチルビシクロ[3.1.1]ヘプタン−2−メチル]−2,5−ジメチル−1−フェニル−1H−イミダゾール−4−カルボキサミド(化合物36)(0.70グラム、72%の収率)を生成せしめた。R(シリカゲル/ジクロロメタン/メタノール=95/5(v/v))〜0.6。
Figure 2008530179
化合物37〜47を同様にして製造した:
Figure 2008530179
化合物37:H−NMR(400MHz、CDCl):δ1.26(t、J=7、3H)、2.41(s、3H)、2.56(q、J=7、2H)、7.23−7.28(m、2H)、7.49−7.60(m、6H)、7.66(d、J=8、1H)、7.88(d、J=8、1H)、8.11(d、J=8、1H)、8.28(d、J=8、1H)、9.85(s、1H)。
Figure 2008530179
化合物38:融点:177〜179℃。
Figure 2008530179
化合物39:エンド−(1S)−1,3,3−トリメチルビシクロ[2.2.1]ヘプタン−2−アミンから。融点:130〜132℃(DSC)。
Figure 2008530179
化合物40:エンド−(1S)−1,3,3−トリメチルビシクロ[2.2.1]ヘプ
タン−2−アミンから。
H−NMR(300MHz、CDCl):δ0.89(s、3H)、0.96(t、J=7、3H)、1.12(s、3H)、1.17−1.27(m、5H)、1.40−1.60(m、2H)、1.67−1.81(m、3H)、2.15(s、3H)、2.70−2.95(m、2H)、3.78(dd、J〜10および2、1H)、7.18−7.23(m、2H)、7.34(br d、J〜10、1H)、7.48−7.57(m、3H)。
Figure 2008530179
化合物41:融点:117.5〜120℃(DSC)。
Figure 2008530179
化合物42:融点:193−196℃(DSC)。
Figure 2008530179
化合物43:融点:157〜159℃(DSC)。
Figure 2008530179
化合物44:融点:76〜79℃(DSC)。
Figure 2008530179
化合物45:R−(+)−フェネチルアミンから。
H−NMR(300MHz、CDCl):δ1.58−1.61(m、3H)、2.17(s、3H)、2.33(s、3H)、5.25−5.35(m、1H)、7.15−7.54(m、11H)。
Figure 2008530179
化合物46:融点:139〜141℃(DSC)。
Figure 2008530179
化合物47:H−NMR(400MHz、CDCl):δ1.10(s、9H)、1.69(s、3H)、2.24(s、3H)、7.00−7.06(m、2H)、7.46−7.55(m、3H)、NHピークは目に見えず、そしておそらくδ1.60でHOピークと同化している。
化合物48の合成
ジクロロメタン(35ml)中の2,5−ジメチル−1−フェニル−1H−イミダゾール−4−カルボン酸(0.66グラム、0.00306mol)の磁気的に攪拌した溶液にジイソプロピルエチルアミン(DIPEA)(3.1ml)、CIP(2−クロロ−1,3−ジメチルイミダゾリニウムヘキサフルオロリン酸塩)(2.55グラム)および3−ヒドロキシアダマンタンアミン(0.612グラム、0.00366mol)を連続して加えた。得られる混合物を20℃で16時間反応させ、そして次に真空中で濃縮した。得られる残留物をジクロロメタンに溶解し、そして5%NaHCO水溶液で洗浄した。有機層をMgSO上で乾燥させ、濾過し、そして真空中で濃縮した。得られる残留物をフラッシュクロマトグラフィー(ジクロロメタン/メタノール=98/2(v/v))により精製してN−(3−ヒドロキシアダマント−1−イル)−2,5−ジメチル−1−フェニル−1H−イミダゾール−4−カルボキサミド(0.75グラム、67%の収率)を生成せしめた。R(シリカゲル/ジクロロメタン/メタノール=98/2(v/v))〜0.6。融点:215〜220℃。
Figure 2008530179
化合物49〜85を同様にして製造した:
Figure 2008530179
化合物49:融点:245〜247℃。
Figure 2008530179
化合物50:融点:251〜253℃。
Figure 2008530179
化合物51:(ラセミ化合物のエンド−2−アミノ−ビシクロ[2.2.1]ヘプタンから):H−NMR(400MHz、DMSO−d):δ0.85−1.64(m、
8H)、2.13(s、3H)、2.21(br s、1H)、2.24(s、3H)、2.40(br s、1H)、4.07−4.16(m、1H)、7.34(br d、J〜8、2H)、7.40(br d、J〜7、1H)、7.52−7.61(m、3H)。
Figure 2008530179
化合物52:(ノルアダマンチルアミンから):融点:147〜150℃。
Figure 2008530179
化合物53:融点:111〜113℃。
Figure 2008530179
化合物54:融点:204〜207℃。
Figure 2008530179
化合物55:融点:115〜117℃。
Figure 2008530179
化合物56:融点:208〜210℃。
Figure 2008530179
化合物57:融点:243〜245℃。
Figure 2008530179
化合物58:融点:178〜181℃。
Figure 2008530179
化合物59:H−NMR(300MHz、CDCl):δ2.28(s、3H)、2.43(s、3H)、7.23−7.27(m、2H)、7.55−7.60(m、3H)、7.79(dd、J=9および2Hz、1H)、8.22(d、J=9Hz、1H)、8.42(s、1H)、8.62(d、J〜5Hz、1H)、8.94(d、J=5Hz、1H)、10.25(br s、1H)。
融点:198.5℃(DSC)。
Figure 2008530179
化合物60:H−NMR(300MHz、CDCl):δ2.29(s、3H)、2.43(s、3H)、7.23−7.27(m、2H)、7.54−7.60(m、3H)、7.70−7.76(m、2H)、7.95(d、J=8Hz、1H)、8.17−8.21(m、1H)、8.27−8.29(m、1H)、8.63(d、J=8Hz、1H)、10.20(br s、1H).
融点:241.5℃(DSC)。
Figure 2008530179
化合物61:融点:171〜172℃。
Figure 2008530179
化合物62:融点:〜113℃。R(ジエチルエーテル/石油エーテル=1/1(v/v)〜0.15。H−NMR(400MHz、CDCl):δ1.66−1.78(m、6H)、2.08−2.18(m、9H)、2.19(s、3H)、3.22(s、3H)、4.59(s、3H)、7.06(br s、1H)、7.25−7.30(m、2H)、7.47−7.55(m、3H)。
Figure 2008530179
化合物63:融点:221〜223℃。
Figure 2008530179
化合物64:融点:170〜172℃。
Figure 2008530179
化合物65:融点:168〜170℃。
Figure 2008530179
化合物66:(エンド−(1S)−1,3,3−トリメチルビシクロ[2.2.1]ヘプタン−2−アミンから)。融点:102〜107℃。
Figure 2008530179
化合物67:融点:166〜168℃。
Figure 2008530179
化合物68:融点:208−210℃。
Figure 2008530179
化合物69:融点:154−156℃。
Figure 2008530179
化合物70:(ラセミ化合物のエンド−2−アミノ−ビシクロ[2.2.1]ヘプタンから)。
融点:165〜167℃。
Figure 2008530179
化合物71:融点:69〜72℃。
Figure 2008530179
化合物72:H−NMR(400MHz、CDCl):δ1.66−1.78(m、6H)、2.08−2.17(m、9H)、2.32(s、3H)、2.51(s、3H)、6.95(br s、1H)、7.51(d、J=4、1H)、7.83(d、J=4、1H).融点:130〜133℃。
Figure 2008530179
化合物73:(エンド−(1S)−1,3,3−トリメチルビシクロ[2.2.1]ヘプタン−2−アミンから)。融点:146〜148℃。
Figure 2008530179
化合物74:H−NMR(400MHz、CDCl):δ1.65−1.78(m、6H)、2.08−2.19(m、12H)、2.27(s、3H)、3.78(s、3H)、6.97(br s、1H)、7.03−7.12(m、3H)、7.43−7.49(m、1H)。
Figure 2008530179
化合物75:H−NMR(400MHz、CDCl):δ2.21(s、3H)、2.37(s、3H)、3.82(s、3H)、7.07−7.13(m、2H)、7.16−7.21(m、1H)、7.46−7.59(m、4H)、7.66(d、J=8、1H)、7.87(d、J=8、1H)、8.13(d、J=8、1H)、8.28(d、J=8、1H)、9.70(br s、1H)。
Figure 2008530179
化合物76:融点:217〜219℃。
Figure 2008530179
化合物77:融点:217〜218℃。この特定の化合物の合成において2−クロロ−1,3−ジメチルイミダゾリニウムクロリドをCIPの代わりにカップリング試薬として最後の反応段階において使用した。
Figure 2008530179
化合物78:融点:186〜187℃。この特定の化合物の合成において2−クロロ−1,3−ジメチルイミダゾリニウムクロリドをCIPの代わりにカップリング試薬として最後の反応段階において使用した。
Figure 2008530179
化合物79:融点:123〜125℃。
Figure 2008530179
化合物80:融点:214〜217℃。
Figure 2008530179
化合物81:融点:149〜150℃。
Figure 2008530179
化合物82:H−NMR(400MHz、CDCl):δ0.75−0.80(m、2H)、0.97−1.03(m、2H)、1.45−1.52(m、1H)、1.65−1.78(m、6H)、2.08−2.18(m、9H)、2.34(s、3H)、6.98(br s、1H)、7.23−7.28(m、2H)、7.45−7.56(m、3H)。この特定の化合物の合成において2−クロロ−1,3−ジメチルイミダゾリニウムクロリドをCIPの代わりにカップリング試薬として最後の反応段階において使用した。
Figure 2008530179
化合物83:H−NMR(400MHz、CDCl):δ0.75−0.80(m、2H)、0.97−1.02(m、2H)、1.45−1.52(m、1H)、2.38(s、3H)、4.80(br d、J=7、2H)、7.25−7.30(m、2H)、7.35(br t、J=7、1H)、7.47−7.68(m、7H)。
Figure 2008530179
化合物84:融点:136〜137℃。
Figure 2008530179
化合物85:R(ジクロロメタン/メタノール=97/3(v/v))=0.2。
Figure 2008530179
化合物86:融点:242〜244℃。MH(遊離塩基)=368。化合物86は、化合物36、部分Cについて上記に本明細書において記載のとおりの合成と同様にしてラセミ化合物のエキソ−2−アミノビシクロ[2.2.1]ヘプタンおよび2−アセチルアミノ−3−オキソ−酪酸メチルエステルから得られた。
Figure 2008530179
化合物87:融点:181〜183℃。MH=410。化合物87は、化合物36、部分Cについて上記に本明細書において記載のとおりの合成と同様にして(−)−シス−ミルタニルアミン(CAS 38235−68−6)および2−アセチルアミノ−3−オキソ−酪酸メチルエステルから得られた。
Figure 2008530179
化合物88:R(ジクロロメタン/メタノール=97/3(v/v))=0.2。この特定の化合物の合成において2−クロロ−1,3−ジメチルイミダゾリニウムクロリドをCIPの代わりにカップリング試薬として最後の反応段階において使用した。
化合物89の合成
部分A:CHCl(4ml)中の2,5−ジメチル−1−フェニル−1H−イミダゾール−4−カルボン酸(0.4グラム、1.85mmol)の磁気的に攪拌した懸濁液に塩化オキサリル(0.34グラム、2.685mmol)を加え、そして得られる混合物を58℃で2時間反応させ、そして次に真空中で濃縮した。得られる残留物をジクロロメタンに溶解し、そして次にジイソプロピルエチルアミン(0.28グラム、2.148mmol)を加えた。ジクロロメタン(5ml)中の2,3−ジクロロアニリン(0.35グラム、2.146mmol)の溶液を得られる混合物にゆっくりと加え、そして得られる混合物を室温で2時間反応させ、そして次に真空中で濃縮した。得られる残留物をフラッシュクロマトグラフィー(ジクロロメタン)により精製してN−(2,3−ジクロロフェニル)−2,5−ジメチル−1−フェニル−1H−イミダゾール−4−カルボキサミド(化合物89)(0.24グラム、36%の収率)を生成せしめた。融点:127〜129℃。
Figure 2008530179
化合物90〜114を同様にして製造した:
Figure 2008530179
化合物90:H−NMR(400MHz、CDCl):δ1.50−1.78(m、12H)、1.88−1.98(m、2H)、2.18(s、3H)、2.34(s、3H)、4.12−4.23(m、1H)、7.10−7.20(m、3H)、7.48−7.57(m、3H)。
LC/MS:保持時間:2.88分;MH=326。
Figure 2008530179
化合物91:H−NMR(400MHz、CDCl):δ1.65−2.07(m、9H)、2.17(s、3H)、2.32(s、3H)、3.73(s、2H)、7.16−7.20(m、2H)、7.41(br s、1H)、7.49−7.57(m、3H)。
LC/MS:保持時間:2.22分;MH=314。
Figure 2008530179
化合物92:H−NMR(400MHz、CDCl):δ1.56−1.66(m、4H)、1.73−1.87(m、4H)、2.18(br s、6H)、3.65(t、J=7、2H)、3.91(t、J=7、2H)、7.19−7.23(m、2H)、7.47−7.56(m、3H)。
LC/MS:保持時間:2.12分;MH=297。
Figure 2008530179
化合物93:R(ジクロロメタン/メタノール=95/5(v/v))=0.65。
Figure 2008530179
化合物94:LC/MS:保持時間:1.88分;MH=307。
Figure 2008530179
化合物95:融点:134〜135℃。
Figure 2008530179
化合物96:融点:119〜121℃。
Figure 2008530179
化合物97:R(ジクロロメタン/メタノール=97/3(v/v))=0.6。
Figure 2008530179
化合物98:融点:125〜127℃。
Figure 2008530179
化合物99:H−NMR(400MHz、CDCl):δ1.60(d、J=7、3H)、2.17(s、3H)、2.33(s、3H)、5.30(クインテット、J=
7、1H)、7.15−7.54(m、11H)。
LC/MS:保持時間:2.60分;MH=320。
Figure 2008530179
化合物100:H−NMR(400MHz、CDCl):δ2.15(s、3H)、2.36(s、3H)、2.97(dd、J〜15および6、2H)、3.40(dd、J〜15および8、2H)、4.88−4.98(m、1H)、7.16−7.27(m、6H)、7.37(br d、J〜8、1H)、7.48−7.57(m、3H)。LC/MS:保持時間:2.63分;MH=332。
Figure 2008530179
化合物101:H−NMR(400MHz、CDCl):δ2.18(s、3H)、2.34(s、3H)、6.44(d、J=8、1H)、7.15−7.38(m、12H)、7.48−7.57(m、3H)、7.92(br d、J〜8、1H).
LC/MS:保持時間:3.59分;MH=382。
Figure 2008530179
化合物102:LC/MS:保持時間:1.30分;MH=338。
Figure 2008530179
化合物103:LC/MS:保持時間:2.81分;MH=356。
Figure 2008530179
化合物104:LC/MS:保持時間:2.98分;MH=396。
Figure 2008530179
化合物105:LC/MS:保持時間:2.17分;MH=300。
Figure 2008530179
化合物106:LC/MS:保持時間:2.08分;MH=346。
Figure 2008530179
化合物107:融点:117−118℃。
Figure 2008530179
化合物108:融点:123−125℃。
Figure 2008530179
化合物109:融点:130−132℃。
Figure 2008530179
化合物110:H−NMR(400MHz、CDCl):δ2.17(s、3H)、2.37(s、3H)、3.86(s、3H)、3.88(s、3H)、4.55(d、J〜6、2H)、6.82(d、J=8、1H)、6.90−6.95(m、2H)、7.17−7.21(m、2H)、7.45(br s、1H)、7.50−7.57(m、3H)。
Figure 2008530179
化合物111:R(ジクロロメタン/メタノール=95/5(v/v))=0.65。
Figure 2008530179
化合物112:H−NMR(400MHz、CDCl):δ2.16(s、3H)、2.35(s、3H)、2.93(t、J=7、2H)、3.66(q、J〜7、2H)、7.16−7.34(m、8H)、7.48−7.56(m、3H)。
LC/MS:保持時間:3.13分;MH=320。
Figure 2008530179
化合物113:LC/MS:保持時間:2.67分;MH=352。
Figure 2008530179
化合物114:H−NMR(400MHz、CDCl):δ0.94−1.05(m、2H)、1.11−1.31(m、3H)、1.52−1.87(m、6H)、2.18(s、3H)、2.35(s、3H)、3.25(t、J=7、2H)、7.16−7.21(m、2H)、7.22−7.29(m、1H)、7.48−7.57(m、3H)。
LC/MS:保持時間:2.76分;MH=312。
化合物1の製剤
経口(p.o.)投与用:ガラス管中の所望の量(0.5〜5mg)の固体化合物1に、いくらかのガラスビーズを加え、そして2分間ボルテックスすることにより固体を粉砕した。水中1%のメチルセルロースおよび2%(v/v)のポロキサマー188(Lutrol F68)の溶液1mlの添加後に、10分間ボルテックスすることにより化合物を懸濁した。数滴の水性NaOH(0.1N)でpHを7に調整した。超音波浴を用いることにより懸濁液中の残留粒子をさらに懸濁した。
腹腔内(i.p.)投与用:ガラス管中の所望の量(0.5〜15mg)の固体化合物1に、いくらかのガラスビーズを加え、そして2分間ボルテックスすることにより固体を粉砕した。水中1%のメチルセルロースおよび5%のマンニトールの溶液1mlの添加後に、10分間ボルテックスすることにより化合物を懸濁した。最後にpHを7に調整した。
薬理学的試験結果
上記に示したプロトコルに従って得られるカンナビノイド受容体親和性データを以下の表に示す。BMS−1、BMS−IIおよびBMS−IIIは、WO01/58869(それぞれ、その中の実施例64、65および66)における3つの例示されたイミダゾールである。これらの3つの特定のイミダゾール誘導体は全て、以下に示すようにそれらの(1H)−イミダゾール部分の4位にL−フェニルアラニン由来のカルボキサミド部分を含有する。我々の発明には、そのようなL−フェニルアラニン由来のカルボキサミド部分を欠くが、表1に示すデータから明らかになるようにWO01/58869に例示される先行技術化合物と比較した場合に約100倍高いCB受容体親和性を有する新規1H−イミダゾール誘導体が包含される。
Figure 2008530179
Figure 2008530179

Claims (12)

  1. 一般式(I)
    Figure 2008530179
    [式中:
    −Rは水素もしくはハロゲン原子またはC1〜3−アルキル基を表し、このC1〜3−アルキル基は1〜3個のフルオロ原子またはヒドロキシもしくはアミノ基を含有することができ、あるいはRはC2〜3−アルキニル基、C2〜3−アルケニル基を表し、このC2〜3−アルキニル基もしくはC2〜3−アルケニル基は1〜3個のフルオロ原子を含有することができ、あるいはRはアセチル、シクロプロピル、シアノ、メチルスルホニル、エチルスルホニル、メチルスルフィニル、エチルスルフィニル、トリフルオロメチルスルファニル、メチルスルファニル、エチルスルファニル基、ホルミル基もしくはC2〜4−ヘテロアルキル基を表し、
    −Rはメチル、エチル、プロピル、メトキシ、エトキシ、ヒドロキシ、クロロ、ヨード、ブロモ、フルオロ、トリフルオロメチル、トリフルオロメトキシ、メチルスルホニル、カルバモイル、フェニルおよびシアノよりなる群から選択される、同じであるかもしくは異なることができる1、2、3、4もしくは5個の置換基Yで置換されることができるフェニル基を表し、あるいはRはヘテロアリール基を表し、このヘテロアリール基は1、2もしくは3個の置換基Yで置換されることができ、ここで、Yは上記に定義したとおりの意味を有し、ただし、Rは6−メチル−2−ピリジル基ではなく、あるいは
    はモノ不飽和もしくは完全飽和の4〜10員の単環式、縮合二環式もしくは縮合三環式炭素環系を表し、あるいは
    はモノ不飽和もしくは完全飽和の4〜10員の単環式、縮合二環式もしくは縮合三環式複素環系を表し、この炭素環系もしくは複素環系はメチル、エチル、アミノ、ヒドロキシもしくはフルオロから選択される1〜5個の置換基で置換されることができ、あるいは
    は一般式CH−Rの基を表し、ここで、Rは上記に定義したとおりの1、2、3、4もしくは5個の置換基Yで置換されるフェニル基を表し、あるいはRはヘテロアリール基または1,2,3,4−テトラヒドロナフチルもしくはインダニル基を表し、このヘテロアリール基または1,2,3,4−テトラヒドロナフチルもしくはインダニル基は1、2もしくは3個の上記に定義したとおりの置換基Yで置換されることができ、あるいはRはモノ不飽和もしくは完全飽和の単環式、縮合二環式もしくは縮合三環式4〜10員炭素環系を表し、あるいはRはモノ不飽和もしくは完全飽和の4〜10員の単環式、縮合二環式もしくは縮合三環式複素環系を表し、この炭素環系もしくは複素環系は場合によりメチル、エチル、アミノ、ヒドロキシもしくはフルオロよりなる群から選択される1〜5個の置換基で置換されていてもよく、あるいは
    はメチルスルホニルアミノアルキル基、メチルスルホニルアルキルもしくはアセトアミドアルキル基を表し、
    −Rは水素もしくはハロゲン原子またはホルミル、C1〜6−アルキルスルホニル、C1〜6−アルキルスルフィニル、C1〜6−アルキルスルファニル、トリフルオロメチルスルファニル、ベンジルスルファニルもしくはシアノ基を表し、あるいはRはC1〜8−アルキル基を表し、このC1〜8−アルキル基はフルオロ、ヒドロキシもしくはアミノよりなる群から選択される1〜5個の置換基で置換されることができ、あるいはRはC2〜6−アルキニル、C2〜6−アルケニル、C1〜6−アルカノイル、C3〜8−シクロアルキル、C5〜8−ヘテロシクロアルキルもしくはC2〜6−ヘテロアルキル基を
    表し、これらの基は場合により1〜3個のメチル基、エチル、アミノもしくはヒドロキシ基でまたは1〜3個のフルオロ原子で置換されていてもよく、あるいはRは1〜5個の置換基Yで置換されるフェニル基を表し、ここで、Yは上記に定義したとおりの意味を有し、あるいはRはヘテロアリール基を表し、このヘテロアリール基は1、2もしくは3個の置換基Yで置換されることができ、ここで、Yは上記に定義したとおりの意味を有し、あるいはRはベンジルもしくはヘテロアリールメチル基を表し、このベンジルもしくはヘテロアリールメチル基は1、2もしくは3個の置換基Yで置換されることができ、
    −Rはサブグループ(subgroups)(i)もしくは(ii)
    Figure 2008530179
    の一つを表し、ここで、RはC4〜8分枝鎖状もしくは直鎖状アルキル基、C3〜8シクロアルキル基、C3〜8−シクロアルキル−C1〜2−アルキル基、C5〜7−ヘテロシクロアルキル−C1〜2−アルキル基、C5〜10ビシクロアルキル基、C5〜10−ビシクロアルキル−C1〜2−アルキル基、C5〜10−ヘテロビシクロアルキル−C1〜2−アルキル基、C6〜10トリシクロアルキル基、C6〜10−トリシクロアルキル−C1〜2−アルキル基、C6〜10−ヘテロトリシクロアルキル−C1〜2−アルキル基を表し、これらの基はメチル、ヒドロキシ、エチル、トリフルオロメチルもしくはフルオロから選択される1〜5個の置換基で置換されることができ、あるいはRはフェニル、ベンジル、ナフチルもしくはフェネチル基を表し、これらの基は1〜3個の上記に定義したとおりの置換基Yでそれらの芳香環系上で置換されることができ、ただし、Rは2−メチルフェニル基ではなく、あるいはRはピリジルもしくはチエニル基を表し、
    −Rは水素原子もしくはC1〜6直鎖状アルキル基を表し、このC1〜6直鎖状アルキル基は1〜3個のフルオロ原子で置換されることができ、またはRはイソプロピル基を表し、
    −RはC2〜6アルキル基を表し、この基はヒドロキシもしくはアミノ基でまたは1〜3個のフルオロ原子で置換され、あるいはRはC7〜10分枝鎖状アルキル基、C3〜8シクロアルキル基、C5〜8ヘテロシクロアルキル基、C3〜8−シクロアルキル−C1〜2−アルキル基、C5〜7−ヘテロシクロアルキル−C1〜2−アルキル基、C5〜10ビシクロアルキル基、C5〜10−ビシクロアルキル−C1〜2−アルキル基、C5〜10−ヘテロビシクロアルキル−C1〜2−アルキル基、C6〜10トリシクロアルキル基、C6〜10−トリシクロアルキル−C1〜2−アルキル基、C6〜10−ヘテロトリシクロアルキル−C1〜2−アルキル基を表し、これらの基はメチル、ヒドロキシ、エチル、アミノ、ヒドロキシメチル、トリフルオロメチルもしくはフルオロから選択される1〜5個の置換基で置換されることができ、あるいはRはフェニル基を表し、この基は1〜5個の上記に定義したとおりの置換基Yで置換され、あるいはRはナフチル、1,2,3,4−テトラヒドロナフチルもしくはインダニル基を表し、このナフチル、1,2,3,4−テトラヒドロナフチルもしくはインダニル基は1〜3個の置換基Yで置換されることができ、あるいはRはフェニル−C1〜3−アルキル基、ジフェニル−C1〜3−アルキル基を表し、これらの基は1〜5個の置換基Yでそれらのフェニル環上で置換されることができ、ここで、Yは上記の意味を有し、あるいはRはベンジル基を表し、このベンジル基は1〜5個の置換基Yで置換され、あるいはRはヘテロアリール、ヘテロアリールメチル、ナフチルメチルもしくはヘテロアリールエチル基を表し、このヘテロアリール、ヘテロアリールメチル、ナフチルメチルもしくはヘテロアリールエチル基は1〜3個の置換基Yで置換されることができ、ここで、Yは上記の意味を有し、あるいはRはピペリジニル、アゼパニル、モルホリニル、アザビシクロ[3.3.0]オクタニル、
    4−ヒドロキシピペリジニルもしくはピロリジニル基を表し、ただし、Rは6−メトキシ−ベンゾチアゾール−2−イル基でも[3−クロロ−5−(トリフルオロメチル)ピリド−2−イル]メチル基でもなく、
    あるいはRとRはそれらが結合している窒素原子と一緒になって 、7〜10個の環原子を有する飽和もしくは不飽和の、非芳香族もしくは部分的に芳香族の、単環式、二環式もしくは三環式複素環式基を形成し、この飽和もしくは不飽和の、非芳香族もしくは部分的に芳香族の、単環式、二環式もしくは三環式複素環式基はC1〜3アルキル、ヒドロキシ、メトキシ、シアノ、フェニル、トリフルオロメチルもしくはハロゲンよりなる群から選択される1〜5個の置換基で置換されることができ、
    あるいはRとRはそれらが結合している窒素原子と一緒になって、5〜6個の環原子を有する、場合により別のヘテロ原子(N、O、Sから選択される)を含有していてもよい飽和単環式複素環式基を形成し、この複素環式基はC1〜3アルキル、ヒドロキシ、アミノ、フェニル、ベンジルもしくはフルオロよりなる群から選択される1〜5個の置換基で置換され、
    ただし、RとRはそれらが結合している窒素原子と一緒になって、トリメチル置換されたアザ−ビシクロ[3.2.1]オクタニル基を形成しない]
    の化合物ならびにその互変異性体、立体異性体およびN−オキシド、ならびに式(I)の該化合物ならびにその互変異性体、立体異性体およびN−オキシドの薬理学的に許容しうる塩、水和物および溶媒和物。
  2. 一般式(I):
    Figure 2008530179
    [式中:
    −Rはハロゲン原子もしくはC1〜3−アルキル基を表し、このC1〜3−アルキル基は1〜3個のフルオロ原子またはヒドロキシもしくはアミノ基を含有することができ、あるいはRはC2〜3−アルキニル基、C2〜3−アルケニル基を表し、このC2〜3−アルキニル基もしくはC2〜3−アルケニル基は1〜3個のフルオロ原子を含有することができ、あるいはRはアセチル、シクロプロピル、シアノ、メチルスルホニル、エチルスルホニル、メチルスルフィニル、エチルスルフィニル、トリフルオロメチルスルファニル、メチルスルファニル、エチルスルファニル基、ホルミル基もしくはC2〜4−ヘテロアルキル基を表し、そしてR、RおよびRは請求項1において示したとおりの意味を有する]
    の請求項1に記載の化合物。
  3. 一般式(I):
    Figure 2008530179
    [式中:
    −Rは水素もしくはハロゲン原子またはホルミル、メチルスルホニル、エチルスルホニル、メチルスルフィニル、エチルスルフィニル、トリフルオロメチルスルファニル、メチルスルファニル、エチルスルファニルもしくはシアノ基を表し、あるいはRはC1〜
    −アルキル基を表し、このC1〜6−アルキル基は1〜3個のフルオロ原子またはヒドロキシもしくはアミノ基を含有することができ、あるいはRはC2〜6−アルキニル、C2〜6−アルケニル、C1〜6−アルカノイル、C3〜8−シクロアルキル、C5〜8−ヘテロシクロアルキルもしくはC2〜6−ヘテロアルキル基を表し、これらの基は場合により1〜3個のメチル基、エチル、アミノもしくはヒドロキシ基でまたは1〜3個のフルオロ原子で置換されていてもよく、あるいはRは1〜5個の置換基Yで置換されるフェニル基を表し、ここで、Yは上記に定義したとおりの意味を有し、あるいはRはヘテロアリール基を表し、このヘテロアリール基は1、2もしくは3個の置換基Yで置換されることができ、ここで、Yは上記に定義したとおりの意味を有し、あるいはRはベンジルもしくはヘテロアリールメチル基を表し、このベンジルもしくはヘテロアリールメチル基は1、2もしくは3個の置換基Yで置換されることができ、
    はサブグループ(ii)
    Figure 2008530179
    を表し、ここで、
    −Rは水素原子またはC1〜6直鎖状アルキル基もしくはイソプロピル基を表し、
    −RはC2〜6アルキル基を表し、この基はヒドロキシもしくはアミノ基でまたは1〜3個のフルオロ原子で置換され、あるいはRはC7〜10分枝鎖状アルキル基、C3〜8シクロアルキル基、C5〜8ヘテロシクロアルキル基、C3〜8−シクロアルキル−C1〜2−アルキル基、C5〜7−ヘテロシクロアルキル−C1〜2−アルキル基、C5〜10ビシクロアルキル基、C5〜10−ビシクロアルキル−C1〜2−アルキル基、C5〜10−ヘテロビシクロアルキル−C1〜2−アルキル基、C6〜10トリシクロアルキル基、C6〜10−トリシクロアルキル−C1〜2−アルキル基、C6〜10−ヘテロトリシクロアルキル−C1〜2−アルキル基を表し、これらの基はメチル、ヒドロキシ、エチル、アミノ、ヒドロキシメチル、トリフルオロメチルもしくはフルオロから選択される1〜5個の置換基で置換されることができ、あるいはRはフェニル基を表し、この基は上記に定義したとおりの1〜5個の置換基Yで置換され、あるいはRはナフチルまたは1,2,3,4−テトラヒドロナフチルもしくはインダニル基を表し、これらの基は1〜3個の置換基Yで置換されることができ、あるいはRはフェニル−C1〜3−アルキル基、ジフェニル−C1〜3−アルキル基を表し、これらの基は1〜5個の置換基Yでそれらのフェニル環上で置換されることができ、ここで、Yは上記の意味を有し、あるいはRはベンジル基を表し、このベンジル基は1〜5個の置換基Yで置換され、あるいはRはヘテロアリール、ヘテロアリールメチルもしくはヘテロアリールエチル基を表し、このヘテロアリール、ヘテロアリールメチルもしくはヘテロアリールエチル基は1〜3個の上記に定義したとおりの置換基Yで置換されることができ、あるいはRはピペリジニル、アゼパニル、モルホリニル、アザビシクロ[3.3.0]オクタニル、4−ヒドロキシピペリジニルもしくはピロリジニル基を表し、ただし、Rは6−メトキシ−ベンゾチアゾール−2−イル基でも[3−クロロ−5−(トリフルオロメチル)ピリド−2−イル]メチル基でもなく、
    あるいはRとRはそれらが結合している窒素原子と一緒になって、7〜10個の環原子を有する飽和もしくは不飽和の、非芳香族もしくは部分的に芳香族の、単環式、二環式もしくは三環式複素環式基を形成し、この複素環式基は1もしくは2個のC1〜3アルキル基、ヒドロキシ基、フェニル基、トリメチルフルオロメチル基、ベンジル基、ジフェニルメチル基もしくはハロゲン原子で置換されることができ、
    あるいはRとRはそれらが結合している窒素原子と一緒になって、5〜6個の環原
    子を有する、場合により別のヘテロ原子(N、O、Sから選択される)を含有していてもよい飽和単環式複素環式基を形成し、この複素環式基は1〜3個のC1〜3アルキル基、ヒドロキシ基もしくは1〜2個のフルオロ原子で置換され、
    ただし、RとRはそれらが結合している窒素原子と一緒になって、トリメチル置換されたアザ−ビシクロ[3.2.1]オクタニル基を形成せず、
    そしてRおよびRは請求項2において示したとおりの意味を有する]
    の請求項2に記載の化合物。
  4. 一般式(I)
    Figure 2008530179
    [式中:
    −Rはハロゲン原子もしくはC1〜3−アルキル基を表し、このC1〜3−アルキル基は1〜3個のフルオロ原子もしくはヒドロキシ基を含有することができ、あるいはRはC2〜3−アルキニル基、C2〜3−アルケニル基、アセチル、シクロプロピル、シアノ、メチルスルホニル、メチルスルフィニル、メチルスルファニルもしくはC2〜4−ヘテロアルキル基を表し、
    −Rはメチル、エチル、プロピル、メトキシ、エトキシ、ヒドロキシ、クロロ、ヨード、ブロモ、フルオロ、トリフルオロメチル、トリフルオロメトキシ、メチルスルホニル、カルバモイル、フェニルおよびシアノよりなる群から選択される、同じであるかもしくは異なることができる、1、2、3、4もしくは5個の置換基Yで置換されることができるフェニル基を表し、あるいはRは単環式ヘテロアリール基を表し、このヘテロアリール基は1、2もしくは3個の置換基Yで置換されることができ、ここで、Yは上記に定義したとおりの意味を有し、ただし、Rは6−メチル−2−ピリジル基ではなく、あるいは
    はモノ不飽和もしくは完全飽和の4〜10員の単環式、縮合二環式もしくは縮合三環式炭素環系を表し、あるいは
    はモノ不飽和もしくは完全飽和の4〜10員の単環式、縮合二環式もしくは縮合三環式複素環系を表し、この炭素環系もしくは複素環系はメチル、エチル、アミノ、ヒドロキシもしくはフルオロから選択される1〜5個の置換基で置換されることができ、あるいは
    は一般式CH−Rの基を表し、ここで、Rは1、2、3、4もしくは5個の上記に定義したとおりの置換基Yで置換されるフェニル基を表し、あるいはRはヘテロアリール基または1,2,3,4−テトラヒドロナフチルもしくはインダニル基を表し、このヘテロアリール基または1,2,3,4−テトラヒドロナフチルもしくはインダニル基は1、2もしくは3個の上記に定義したとおりの置換基Yで置換されることができ、あるいはRはモノ不飽和もしくは完全飽和の単環式、縮合二環式もしくは縮合三環式4〜10員炭素環系を表し、あるいはRはモノ不飽和もしくは完全飽和の4〜10員の単環式、縮合二環式もしくは縮合三環式複素環系を表し、この炭素環系もしくは複素環系は場合により1〜3個のメチル基、エチル、アミノもしくはヒドロキシ基でまたはフルオロ原子で置換されていてもよく、
    −Rは水素もしくはハロゲン原子またはメチルスルファニルもしくはシアノ基を表し、あるいはRはC1〜6−アルキル基を表し、このC1〜6−アルキル基は1〜3個のフルオロ原子またはヒドロキシもしくはアミノ基を含有することができ、あるいはRはC2〜6−アルキニルもしくはC2〜6−アルケニル基を表し、これらの基は場合により1〜3個のフルオロ原子で置換されていてもよく、
    −Rはサブグループ(ii)
    Figure 2008530179
    を表し、ここで、
    −Rは水素原子もしくはC1〜3直鎖状アルキル基を表し、
    −RはC2〜6アルキル基を表し、この基はヒドロキシもしくはアミノ基でまたは1〜3個のフルオロ原子で置換され、あるいはRはC7〜10分枝鎖状アルキル基、C3〜8シクロアルキル基、C5〜8ヘテロシクロアルキル基、C3〜8−シクロアルキル−C1〜2−アルキル基、C5〜7−ヘテロシクロアルキル−C1〜2−アルキル基、C5〜10ビシクロアルキル基、C5〜10−ビシクロアルキル−C1〜2−アルキル基、C5〜10−ヘテロビシクロアルキル−C1〜2−アルキル基、C6〜10トリシクロアルキル基、C6〜10−トリシクロアルキル−C1〜2−アルキル基、C6〜10−ヘテロトリシクロアルキル−C1〜2−アルキル基を表し、これらの基はメチル、ヒドロキシ、エチル、アミノ、ヒドロキシメチル、トリフルオロメチルもしくはフルオロから選択される1〜5個の置換基で置換されることができ、あるいはRはフェニル基を表し、この基は1〜5個の上記に定義したとおりの置換基Yで置換され、あるいはRはナフチルまたは1,2,3,4−テトラヒドロナフチルもしくはインダニル基を表し、これらの基は1〜3個の置換基Yで置換されることができ、あるいはRはフェニル−C1〜3−アルキル基、ジフェニル−C1〜3−アルキル基を表し、これらの基は1〜5個の置換基Yでそれらのフェニル環上で置換されることができ、ここで、Yは上記の意味を有し、あるいはRはベンジル基を表し、このベンジル基は1〜5個の置換基Yで置換され、あるいはRはヘテロアリール、ヘテロアリールメチルもしくはヘテロアリールエチル基を表し、このヘテロアリール、ヘテロアリールメチルもしくはヘテロアリールエチル基は1〜3個の上記に定義したとおりの置換基Yで置換されることができ、あるいはRはピペリジニル、アゼパニル、モルホリニル、アザビシクロ[3.3.0]オクタニル、4−ヒドロキシピペリジニルもしくはピロリジニル基を表し、ただし、Rは6−メトキシ−ベンゾチアゾール−2−イル基でも[3−クロロ−5−(トリフルオロメチル)ピリド−2−イル]メチル基でもない]
    の請求項3に記載の化合物。
  5. 一般式(I)
    Figure 2008530179
    [式中:
    −Rはハロゲン原子もしくはC1〜3−アルキル基を表し、このC1〜3−アルキル基は1〜3個のフルオロ原子もしくはヒドロキシ基を含有することができ、あるいはRはシアノもしくはメチルスルファニル基を表し、
    −Rはメチル、エチル、アミノ、ヒドロキシもしくはフルオロから選択される1〜5個の置換基で置換されることができるモノ不飽和もしくは完全飽和の5〜7員の単環式炭素環系を表し、あるいはRはメチル、エチル、プロピル、メトキシ、エトキシ、ヒドロキシ、クロロ、ヨード、ブロモ、フルオロ、トリフルオロメチル、トリフルオロメトキシ、メチルスルホニル、カルバモイル、フェニルおよびシアノよりなる群から選択される、
    同じであるかもしくは異なることができる、1、2、3、4もしくは5個の置換基Yで置換されることができるフェニル基を表し、
    −Rは水素もしくはハロゲン原子またはメチルスルファニルもしくはシアノ基を表し、あるいはRはC1〜6−アルキル基を表し、このC1〜6−アルキル基は1〜3個のフルオロ原子またはヒドロキシもしくはアミノ基を含有することができ、
    −Rはサブグループ(ii)
    Figure 2008530179
    を表し、ここで、
    −Rは水素原子もしくはメチル基を表し、
    −RはC2〜6アルキル基を表し、この基は1〜3個のフルオロ原子で置換され、あるいはRはC7〜10分枝鎖状アルキル基、C3〜8シクロアルキル基、C5〜8ヘテロシクロアルキル基、C3〜8−シクロアルキル−C1〜2−アルキル基、C5〜7−ヘテロシクロアルキル−C1〜2−アルキル基、C5〜10ビシクロアルキル基、C5〜10−ビシクロアルキル−C1〜2−アルキル基、C5〜10−ヘテロビシクロアルキル−C1〜2−アルキル基、C6〜10トリシクロアルキル基、C6〜10−トリシクロアルキル−C1〜2−アルキル基、C6〜10−ヘテロトリシクロアルキル−C1〜2−アルキル基を表し、これらの基はメチル、ヒドロキシ、エチル、アミノ、ヒドロキシメチル、トリフルオロメチルもしくはフルオロから選択される1〜5個の置換基で置換されることができ、あるいはRはフェニル基を表し、この基は1〜5個の上記に定義したとおりの置換基Yで置換され、あるいはRはナフチルまたは1,2,3,4−テトラヒドロナフチルもしくはインダニル基を表し、これらの基は1〜3個の置換基Yで置換されることができ、あるいはRはフェニル−C1〜3−アルキル基、ジフェニル−C1〜3−アルキル基を表し、これらの基は1〜5個の置換基Yでそれらのフェニル環上で置換されることができ、ここで、Yは上記の意味を有し、あるいはRは置換されたベンジル基を表し、このベンジル基は1〜5個の置換基Yで置換され、あるいはRはヘテロアリール、ヘテロアリールメチルもしくはヘテロアリールエチル基を表し、このヘテロアリール、ヘテロアリールメチルもしくはヘテロアリールエチル基は1〜3個の上記に定義したとおりの置換基Yで置換されることができ、ただし、Rは6−メトキシ−ベンゾチアゾール−2−イル基でも[3−クロロ−5−(トリフルオロメチル)ピリド−2−イル]メチル基でもない]
    の請求項4に記載の化合物。
  6. 一般式(I)
    Figure 2008530179
    [式中:
    −Rはハロゲン原子もしくはC1〜3−アルキル基を表し、このC1〜3−アルキル基は1〜3個のフルオロ原子を含有することができ、あるいはRはシアノもしくはメチルスルファニル基を表し、
    −Rは飽和した6員の単環式炭素環を表し、あるいはRはメチル、エチル、プロピ
    ル、メトキシ、エトキシ、ヒドロキシ、クロロ、ヨード、ブロモ、フルオロ、トリフルオロメチル、トリフルオロメトキシ、メチルスルホニル、カルバモイル、フェニルおよびシアノよりなる群から選択される、同じであるかもしくは異なることができる、1、2もしくは3個の置換基Yで置換されることができるフェニル基を表し、
    −Rは水素もしくはハロゲン原子またはメチルスルファニルもしくはシアノ基を表し、あるいはRはC1〜4−アルキル基を表し、このC1〜4−アルキル基は1〜3個のフルオロ原子を含有することができ、
    −Rはサブグループ(ii)
    Figure 2008530179
    を表し、ここで、
    −Rは水素原子もしくはメチル基を表し、
    −RはC2〜6アルキル基を表し、この基は1〜3個のフルオロ原子で置換され、あるいはRはC7〜10分枝鎖状アルキル基、C3〜8シクロアルキル基、C5〜8ヘテロシクロアルキル基、C3〜8−シクロアルキル−C1〜2−アルキル基、C5〜7−ヘテロシクロアルキル−C1〜2−アルキル基、C5〜10ビシクロアルキル基、C5〜10−ビシクロアルキル−C1〜2−アルキル基、C5〜10−ヘテロビシクロアルキル−C1〜2−アルキル基、C6〜10トリシクロアルキル基、C6〜10−トリシクロアルキル−C1〜2−アルキル基、C6〜10−ヘテロトリシクロアルキル−C1〜2−アルキル基を表し、これらの基はメチル、ヒドロキシ、エチル、アミノ、ヒドロキシメチル、トリフルオロメチルもしくはフルオロから選択される1〜5個の置換基で置換されることができ、あるいはRはフェニル基を表し、この基は1〜3個の置換基Yで置換され、ここで、Yは上記に定義したとおりの意味を有し、あるいはRはナフチル基を表し、この基は1〜3個の置換基Yで置換されることができ、あるいはRはフェニル−C1〜2−アルキル基を表し、この基は1〜3個の置換基Yでフェニル環上で置換されることができ、ここで、Yは上記の意味を有し、あるいはRは置換されたベンジル基を表し、このベンジル基は1〜5個の置換基Yで置換される]
    の請求項5に記載の化合物。
  7. 一般式(XIV)
    Figure 2008530179
    [式中:
    −Rはハロゲン原子もしくはC1〜3−アルキル基を表し、このC1〜3−アルキル基は1〜3個のフルオロ原子またはヒドロキシもしくはアミノ基を含有することができ、あるいはRはC2〜3−アルキニル基、C2〜3−アルケニル基を表し、このC2〜3−アルキニル基もしくはC2〜3−アルケニル基は1〜3個のフルオロ原子を含有することができ、あるいはRはアセチル、シクロプロピル、シアノ、メチルスルホニル、エチル
    スルホニル、メチルスルフィニル、エチルスルフィニル、トリフルオロメチルスルファニル、メチルスルファニル、エチルスルファニル基、ホルミル基もしくはC2〜4−ヘテロアルキル基を表し、
    −Rはメチル、エチル、プロピル、メトキシ、エトキシ、ヒドロキシ、クロロ、ヨード、ブロモ、フルオロ、トリフルオロメチル、トリフルオロメトキシ、メチルスルホニル、カルバモイル、フェニルおよびシアノよりなる群から選択される、同じであるかもしくは異なることができる、1、2、3、4もしくは5個の置換基Yで置換されることができるフェニル基を表し、あるいはRはヘテロアリール基を表し、このヘテロアリール基は1、2もしくは3個の置換基Yで置換されることができ、ここで、Yは上記に定義したとおりの意味を有し、ただし、Rは6−メチル−2−ピリジル基ではなく、あるいは
    はモノ不飽和もしくは完全飽和の4〜10員の単環式、縮合二環式もしくは縮合三環式炭素環系を表し、あるいは
    はモノ不飽和もしくは完全飽和の4〜10員の単環式、縮合二環式もしくは縮合三環式複素環系を表し、この炭素環系もしくは複素環系はメチル、エチル、アミノ、ヒドロキシもしくはフルオロから選択される1〜5個の置換基で置換されることができ、あるいは
    は一般式CH−Rの基を表し、ここで、Rは1、2、3、4もしくは5個の上記に定義したとおりの置換基Yで置換されるフェニル基を表し、あるいはRはヘテロアリール基または1,2,3,4−テトラヒドロナフチルもしくはインダニル基を表し、このヘテロアリール基または1,2,3,4−テトラヒドロナフチルもしくはインダニル基は1、2もしくは3個の上記に定義したとおりの置換基Yで置換されることができ、あるいはRはモノ不飽和もしくは完全飽和の単環式、縮合二環式もしくは縮合三環式4〜10員炭素環系を表し、あるいはRはモノ不飽和もしくは完全飽和の4〜10員の単環式、縮合二環式もしくは縮合三環式複素環系を表し、この炭素環系もしくは複素環系は場合によりメチル、エチル、アミノ、ヒドロキシもしくはフルオロよりなる群から選択される1〜5個の置換基で置換されていてもよく、あるいは
    はメチルスルホニルアミノアルキル基、メチルスルホニルアルキルもしくはアセトアミドアルキル基を表し、
    ただし、Rはフェニル、4−メチルフェニルもしくは4−メトキシフェニル基を表さず、
    −Rは水素もしくはハロゲン原子またはホルミル、C1〜6−アルキルスルホニル、C1〜6−アルキルスルフィニル、C1〜6−アルキルスルファニル、トリフルオロメチルスルファニル、ベンジルスルファニルもしくはシアノ基を表し、あるいはRはC1〜8−アルキル基を表し、このC1〜8−アルキル基はフルオロ、ヒドロキシもしくはアミノよりなる群から選択される1〜5個の置換基で置換されることができ、あるいはRはC2〜6−アルキニル、C2〜6−アルケニル、C1〜6−アルカノイル、C3〜8−シクロアルキル、C5〜8−ヘテロシクロアルキルもしくはC2〜6−ヘテロアルキル基を表し、これらの基は場合により1〜3個のメチル基、エチル、アミノもしくはヒドロキシ基でまたは1〜3個のフルオロ原子で置換されていてもよく、あるいはRは1〜5個の置換基Yで置換されるフェニル基を表し、ここで、Yは上記に定義したとおりの意味を有し、あるいはRはヘテロアリール基を表し、このヘテロアリール基は1、2もしくは3個の置換基Yで置換されることができ、ここで、Yは上記に定義したとおりの意味を有し、あるいはRはベンジルもしくはヘテロアリールメチル基を表し、このベンジルもしくはヘテロアリールメチル基は1、2もしくは3個の置換基Yで置換されることができ、
    −Zはクロロ原子またはC1-3アルキル基、ヒドロキシ基または−O−Na、−O−K、−O−Liもしくは−O−Cs基を表し、あるいはZはN−メトキシ−N−メチル−アミノ基を表す]
    の化合物であって、一般式(I)[式中、R、RおよびRは請求項2において示したとおりの意味を有する]の化合物の合成において有用である化合物。
  8. 製薬学的に許容しうる担体および/もしくは少なくとも一つの製薬学的に許容しうる補助剤に加えて、有効成分として、請求項1〜6の一項の少なくとも一種の化合物もしくはその塩の薬理学的に活性な量を含んでなる製薬学的組成物。
  9. 請求項1〜6の一項の化合物を投与に適当な形態にすることを特徴とする請求項8に記載の製薬学的組成物の製造方法。
  10. 薬剤としての使用のための請求項1〜6のいずれかに記載の化合物もしくはその塩。
  11. カンナビノイドCB受容体神経伝達が関与する疾患の処置用の製薬学的組成物の製造のための請求項1〜6に記載の化合物の使用。
  12. カンナビノイドCB受容体が関与するか、もしくはこれらの受容体の操作によって処置することができる該疾患が免疫系障害、炎症性疾患、ハンチントン病、多発性硬化症、アレルギー、癌および神経障害性疼痛を包含する疼痛であることを特徴とする請求項11に記載の使用。
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