JP2008524550A5 - - Google Patents
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Claims (36)
- 冷媒用の管路システムと、流体用の管路システムと、複数の区間を有するヒートエクスチェンジャであって、
前記両管路システムは相互に熱的に結合されており、
前記複数の区間はハイドロリックにそれぞれ相互に並列および/または直列に接続されている形式のヒートエクスチェンジャにおいて、
1つの区間(17)においてそれぞれ1つの流体チャネル(13)は、ほぼU字形、V字形、またはW字形の横断面形状を備える薄板(9)を有し、
該薄板は、U字形、V字形、またはW字形の端部において別の薄板(12)により閉鎖されており、
パイプ(15)内の冷媒は流体チャネル(13)の長手軸に対して平行に当該流体チャネル(13)内に配置されている、ことを特徴とするヒートエクスチェンジャ。 - 請求項1記載のヒートエクスチェンジャにおいて、
流体チャネル(13)の断面積(F1)とパイプ(15)の断面積(F2)の比は、冷媒と流体のそれぞれのkファクタの比に相当する、ことを特徴とするヒートエクスチェンジャ。 - 請求項1または2記載のヒートエクスチェンジャにおいて、
流体チャネル(13)の断面積(F1)とパイプ(15)の断面積(F2)の比は、2:1から5:1の領域にある、ことを特徴とするヒートエクスチェンジャ。 - 請求項1から3までのいずれか一項記載のヒートエクスチェンジャにおいて、
ほぼU字形、V字形、またはW字形の薄板(9)の脚部は相互に約55から140°の角度(α)である、ことを特徴とするヒートエクスチェンジャ。 - 請求項1から4までのいずれか一項記載のヒートエクスチェンジャにおいて、
前記パイプ(15)は、ほぼU字形、V字形、またはW字形の薄板の脚部に固定されている、ことを特徴とするヒートエクスチェンジャ。 - 請求項1から5までのいずれか一項記載のヒートエクスチェンジャにおいて、
前記パイプ(15)はU字形、V字形、またはW字形の薄板に、圧着、ハンダないしロウ付け、溶接および/またはレーザ溶接によって固定されている、ことを特徴とするヒートエクスチェンジャ。 - 請求項1から4までのいずれか一項記載のヒートエクスチェンジャにおいて、
前記パイプ(15)は、ほぼU字形、V字形、またはW字形の薄板(9)の脚部(複数)によって(はさまれて)張架(形成)される面のほぼ重心に配置されている、ことを特徴とするヒートエクスチェンジャ。 - 請求項1から7までのいずれか一項記載のヒートエクスチェンジャにおいて、
前記パイプ(15)は、ほぼU字形、V字形、またはW字形の薄板(9)内に位置しており、
前記ほぼU字形、V字形、またはW字形の薄板(9)は1つの支持体薄板(12)上に配置されており、
該支持体薄板は、U字形、V字形、またはW字形の薄板(9)と実質的に同じ面膨張を有する、ことを特徴とするヒートエクスチェンジャ。 - 請求項1から8までのいずれか一項記載のヒートエクスチェンジャにおいて、
U字形、V字形、またはW字形の薄板(9)はその長手軸に対して直角に、(一つの)脚部の領域で別のU字形、V字形、またはW字形の薄板(9)に隣接し、
これにより、全体として波形薄板の形態が得られ、
当該波形薄板には流体がジグザグ(メアンダ)状に貫流する、ことを特徴とするヒートエクスチェンジャ。 - 請求項1から9までのいずれか一項記載のヒートエクスチェンジャにおいて、
前記パイプ(15)は少なくとも一方の端部で同形式のパイプ(15)と接続されており、
これにより冷媒がジグザグ(メアンダ)状に貫流する構成体が冷媒蛇行管(18)の形態で得られる、ことを特徴とするヒートエクスチェンジャ。 - 請求項1から10までのいずれか一項記載のヒートエクスチェンジャにおいて、
ヒートエクスチェンジャ(1)では、パイプ(15)、U字形、V字形、またはW字形の薄板(9)、および支持体薄板(12)からなる構成体が層(5,6,7,8)として組立てられて、同じ構成部材を有する別の層の上に配置されており、
これにより第1の層の支持体薄板(12)は、第2の層の覆い薄板を形成する、ことを特徴とするヒートエクスチェンジャ。 - 請求項8から11までのいずれか一項記載のヒートエクスチェンジャにおいて、
U字形、V字形、またはW字形の薄板(9)は、これが前記パイプ(15)と表面接触する領域に、また支持体薄板(12)は、これがU字形、V字形、またはW字形の薄板(9)と表面接触する領域に、共通のハンダないしロウ付けを可能にするための切欠部(20)を有する、ことを特徴とするヒートエクスチェンジャ。 - 請求項1から12までのいずれか一項記載のヒートエクスチェンジャにおいて、
前記切欠部(20)はスリット(21)および/または孔部(22)として構成されており、共通のハンダないしロウ付けのシームで実質的に閉鎖される寸法を有する、ことを特徴とするヒートエクスチェンジャ。 - 請求項1から13までのいずれか一項記載のヒートエクスチェンジャにおいて、
ヒートエクスチェンジャ(1)は向流ヒートエクスチェンジャとして構成されている、ことを特徴とするヒートエクスチェンジャ。 - 請求項1から14までのいずれか一項記載のヒートエクスチェンジャにおいて、
冷媒は超臨界領域で駆動される二酸化炭素である、ことを特徴とするヒートエクスチェンジャ。 - 請求項1から15までのいずれか一項記載のヒートエクスチェンジャにおいて、
液体は水である、ことを特徴とするヒートエクスチェンジャ。 - 請求項1から16までのいずれか一項記載のヒートエクスチェンジャにおいて、
前記パイプ(15)、U字形、V字形、またはW字形の薄板(9)、支持体薄板(12)、および流体密な外側ケーシング(2)は、銅または特殊鋼からなる、ことを特徴とするヒートエクスチェンジャ。 - 冷媒用の管路システムが流体用の管路システムと熱的に結合されたヒートエクスチェンジャの製造方法において、
パイプ(15)を、U字形、V字形、またはW字形の薄板(9)の谷(10)にはめ込み、
該U字形、V字形、またはW字形の薄板(9)を1つの支持体薄板(12)の上に配置し、
U字形、V字形、またはW字形の薄板(9)に複数の切欠部(20)をパイプ(15)とのコンタクト領域に設け、支持体薄板(12)に切欠部(20)をU字形、V字形、またはW字形の薄板(9)とのコンタクト領域に設け、
ハンダないしロウ(23)をそれぞれU字形、V字形、またはW字形の薄板(9)の谷にはめ込み、前記複数のエレメントを相互にハンダないしロウ付け(以下「ハンダ付け」で代表する)する、ことを特徴とする製造方法。 - 請求項18記載の方法において、
前記エレメントをただ1回のハンダ付けプロセスで相互にハンダ付けする、ことを特徴とする方法。 - 請求項19または20記載の方法において、
ハンダ付けプロセスは真空炉で実行される、ことを特徴とする方法。 - 請求項18から20までのいずれか一項記載の方法において、
U字形、V字形、またはW字形の薄板(9)および支持体薄板(12)における切欠部(20)は、穿孔、孔部(22)、および/または部分なスリット(21)として作製される、ことを特徴とする方法。 - 請求項18から21までのいずれか一項記載の方法において、
U字形、V字形、またはW字形の薄板(9)および支持体薄板(12)における切欠部(20)は、打ち抜き、ボーリング、および/またはレーザ加工により作製される、ことを特徴とする方法。 - 請求項18から22までのいずれか一項記載の方法において、
後(下流)での通流方向に対して直交する方向に周期的に連続するU字形、V字形、またはW字形の薄板(9)が、薄板を部分的にプレスおよび/または深絞り加工することにより作製される、ことを特徴とする方法。 - 高圧領域で超臨界の冷媒を備える換気(空調)装置のヒートポンプ回路であって、
該ヒートポンプ回路はヒートエクスチェンジャを有し、
該ヒートエクスチェンジャは、外気流または送出空気流(Fortluft)から熱を吸収し、冷媒に伝達する形式のヒートポンプ回路において、
気化した冷媒を少なくとも部分的に過熱するために、ヒートポンプ回路(WPK)に1つのヒートエクスチェンジャ(35)が設けられているか、または第1のヒートエクスチェンジャ(35)と第2のヒートエクスチェンジャ(36)が設けられており、
少なくとも送出空気流(FO)または外気流(AU)が通流する第1ヒートエクスチェンジャ(35)は、暖房モードでは冷媒の流れ方向で第2のヒートエクスチェンジャ(36)の上流に配置されており、該第2のヒートエクスチェンジャでは換気ないし空調装置(A)の送出空気(FO)から熱が冷媒に伝達され、および/または
1つのヒートエクスチェンジャ(32)に加えて、別のヒートエクスチェンジャ(33)がガスクーラとして、外気流(AU)中に前記換気(空調)装置(A)の上流に配置されており、該別のヒートエクスチェンジャでは高圧領域(WPKH)で超臨界の冷媒の熱が外気流(AU)に伝達される、ことを特徴とするヒートポンプ回路。 - 請求項24記載のヒートポンプ回路において、
前記換気ないし空調装置(A)は、外気流(AU)が供給されるヒートエクスチェンジャ(WT)を有し、
このヒートエクスチェンジャ(WT)はエア−エア−ヒートエクスチェンジャであり、
該エア−エア−ヒートエクスチェンジャでは、暖房すべき空間からの排気流(AB)が熱エネルギーを外気流(AU)に、予加熱された供給空気流(ZU)の形成のために伝達する、ことを特徴とするヒートポンプ回路。 - 請求項25記載のヒートポンプ回路において、
前記別のヒートエクスチェンジャ(33)は、エア−エア−ヒートエクスチェンジャとして構成されたヒートエクスチェンジャ(WT)の外気入口に前置接続されており、
ヒートポンプ回路(WPK)の高圧領域(WPKH)で超臨界の冷媒に対するガスクーラ(32)により、冷媒の熱の大部分(Q)が第1ヒートシンクに伝達され、
前記別のヒートエクスチェンジャ(33)は、超臨界の冷媒の比較的小さな部分(q)を低温レベルで外気流(AU)に伝達し、
これにより引き続き外気(AU)が通流するエア−エア−ヒートエクスチェンジャ(WT)の凍結が阻止される、ことを特徴とするヒートポンプ回路。 - 請求項24から26までのいずれか一項記載のヒートポンプ回路において、
冷媒を過熱する場合、加熱のために設けられるヒートエクスチェンジャ(35)が冷媒の気化および/または部分的過熱のために配設される、ことを特徴とするヒートポンプ回路。 - 請求項24から27までのいずれか一項記載のヒートポンプ回路において、
冷媒を過熱する場合、第2ヒートエクスチェンジャ(36)が冷媒の気化および過熱のために構成されており、後気化または過熱の確実な動作が、一次気化器(35)の熱源よりも常に高い温度レベルを有する熱源により保証される、ことを特徴とするヒートポンプ回路。 - 請求項24から28までのいずれか一項記載のヒートポンプ回路において、
機械的換気装置が、第1ヒートエクスチェンジャ(WT)の排気入口に結合されている、ことを特徴とするヒートポンプ回路。 - 請求項24から29までのいずれか一項記載のヒートポンプ回路において、
冷媒は、R134a、R290、R407C、R410A、R660aのグループの1つである、ことを特徴とするヒートポンプ回路。 - 請求項24から30までのいずれか一項記載のヒートポンプ回路において、
CO2ないしはR744が冷媒である、ことを特徴とするヒートポンプ回路。 - 請求項24から31までのいずれか一項記載のヒートポンプ回路において、
ヒートポンプ回路(WPK)は暖房および/または雑用水装置(C)に結合されている、ことを特徴とするヒートポンプ回路。 - 請求項1から17までのいずれか一項記載のヒートエクスチェンジャを備える、請求項24から35までのいずれか一項記載のヒートポンプ回路。
- ヒートポンプ回路の高圧領域で超臨界状態で駆動される冷媒を備える換気ないし空調装置のヒートポンプ回路の駆動方法であって、
以下の方法ステップを含む:
冷媒を、ガス冷却と熱吸収との間で約40から約90barの圧力差に曝すこと、
70barを越える超臨界状態の高圧で、別個に連続して、まず第1ガス冷却(32a−32b)で冷媒のエンタルピを約150から約300kJ/kgだけ降下させ、
第1ガス冷却に続く第2ガス冷却(33a−33b)でエンタルピを約100kJ/kgより小さい値だけ降下させ、および/または約20から約60barの間の圧力で、第1熱吸収(35a−35b)の際にエンタルピを約150から約250kJ/kgだけ上昇させ、
後続の冷媒の第2熱吸収(36a−36b)で約100kJ/kgより小さい値だけ上昇させる、ことを特徴とする駆動方法。 - 請求項34記載の方法において、
第1エンタルピ上昇を外気流(AU)からの熱吸収(35a−35b)により行い、
第2エンタルピ上昇を、外気流(AU)よりも高い温度を有する空間の送出空気(FO)の熱吸収(36a−36b)によって行う、ことを特徴とする方法。 - 請求項34または35記載の方法において、
エンタルピの第1降下を、暖房システム、温水システム、または換気ないし空調システムでの熱放出(32a−32b)により行い、
エンタルピの第2降下を、外気流(AU)への熱放出(33a−33b)により行う、ことを特徴とする方法。
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