JP2008522142A - ゴニオメータ - Google Patents
ゴニオメータ Download PDFInfo
- Publication number
- JP2008522142A JP2008522142A JP2007542019A JP2007542019A JP2008522142A JP 2008522142 A JP2008522142 A JP 2008522142A JP 2007542019 A JP2007542019 A JP 2007542019A JP 2007542019 A JP2007542019 A JP 2007542019A JP 2008522142 A JP2008522142 A JP 2008522142A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- goniometer
- measurement
- measuring
- movement
- control
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Images
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N23/00—Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00
- G01N23/20—Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00 by using diffraction of the radiation by the materials, e.g. for investigating crystal structure; by using scattering of the radiation by the materials, e.g. for investigating non-crystalline materials; by using reflection of the radiation by the materials
- G01N23/20008—Constructional details of analysers, e.g. characterised by X-ray source, detector or optical system; Accessories therefor; Preparing specimens therefor
- G01N23/20016—Goniometers
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Analytical Chemistry (AREA)
- Biochemistry (AREA)
- General Health & Medical Sciences (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Immunology (AREA)
- Pathology (AREA)
- Analysing Materials By The Use Of Radiation (AREA)
Abstract
【解決の手段】ゴニオメータ(1)は、応力測定及び粒子の微細構造の特定を行い、フレーム(4)と、測定位置(31)において測定を実行するため、第1の線形移動装置(5)、第2の線形移動装置(6)及び傾動装置(16)により移動可能にフレーム(4)に設けられた測定ヘッド(7,8,9,10)とを備え、傾動装置(16)の回転軸(12)が測定位置(31)に一致せず、測定中に、前記移動装置(5,6,16)により、測定ヘッド(7,8,9,10)の円弧形(30)の移動を作り出す手段を備えることを特徴とする。
【選択図】図1
Description
1)クレードル(円弧)の構造が複雑となり、
2)測定距離が固定され、
3)測定ヘッド下に設置されたクレードル(円弧)はサンプル上で不安定になることがあり、
4)測定ヘッドがクレードルの下の場合、円弧の大きさが大きくて嵩張るようになるので移動式に向かない。
さらに具体的には、本発明は、請求項1の特徴部分に記載されたことにより特徴づけられる。
1)測定ヘッド下の検出器以外、クレードル(円弧)又はその他の構造体がなく、
2)測定距離は、ソフトウェアにより自由に選択可能であり、
3)ほとんどの部品が購入できるくらいに簡易な設計のため、複雑、不正確、さらにコスト高な米国特許第6,064,717号の構造を避けることができる。
機械的機構
1)図3を参照すると、傾斜角制御は、傾動軸12に直接接続された絶対角度位置センサ11を必要とする。角度位置センサのパルス量が少なすぎるため、傾斜移動は符号器により制御される。ねじ歯車14は、できる限り少ない緩みとすべきである。
2)システムは、例えばシリアル番号などにより、自動的にX線チューブを検出できるプログラム可能な回路を備えてもよい。これにより、チューブ制御パラメータに影響する稼働時間及びチューブ型も、自動的に記録されることが可能となり、質の向上と人的ミスの低減できる。同回路は、チューブの温度制御も備えてもよい。
3)システムは、測定距離を正確に制御するためにフォトマイクロセンサ(提示されていない)も備える。この正確性は、0.01mmより精度が高くなければならない。センサは、例えば、X線チューブ筺体8の底部に位置されてもよい。
4)システムは、測定位置を指示するレーザーダイオード及び鏡を、シャッターに備えてもよい。シャッターは、X線チューブ筺体8の内部に位置する。レーザー光線は、シャッターの鏡によりコリメータ10を経て導かれる。シャッターが閉まると、レーザービームはコリメータ10から照射される。シャッターは丸型の棒に孔が設けられたものである。シャッターは、歯車モーターにより開閉される。
5)コリメータの滑りチューブは、摩擦が低減し、それにより測定距離の精度が向上するように、好適にはダイアモンドが塗膜される。
6)システムは、手動移動用に手動式操作装置(ジョイスティック)を備えてもよい。
制御電子回路
1)本発明に係る好適な一実施例において、ゴニオメータには、必要な補助機能すべてを有するモーター制御基板及びマイクロプロセッサ基盤の2つの電子基盤を備える。
2)モーター制御基板は、例えばモーターの種類を柔軟に変更可能となるプログラム可能なFGBA部品に基づいて組み立てられる。
3)マイクロプロセッサ基盤は、システムの位置を制御し、モーター制御基板に必要な命令を与える。イーサーネットリンクを介して、基盤は他のシステム部品17に接続されている。基盤は、検出器接続及び他の補助接続も備える。
ビーム中心位置や潜在的な機械的不正確性のような多くの調整誤差をソフトウェアの機能により修正することが、機械設計により可能となる。
ゴニオメータの機能は、図6a〜6cに関連して更に詳細に説明される。測定ヘッド7の円弧経路30は、測定中の測定ヘッド7の経路を示す。測定ヘッドは、測定中常に測定位置31に向いている。図6aは最左端における測定ヘッド7での位置、図6bは中央での位置、図6cは最右端での位置を示す。1回の測定が終了するまでに、少なくともこれら3つの位置が必要である。測定ヘッドの傾斜は傾動装置16により行われ、円弧移動は、水平移動装置5と水平移動装置6と共に行われる。
1 ゴニオメータ
2 三脚
3 可調節支持体
4 支持フレーム
5 水平移動装置
6 垂直移動装置
7 測定ヘッド
8 X線チューブ筺体
9 検出器用円弧
10 コリメータ
11 角度センサ
12 傾動軸
13 角度可変モーター
14 ねじ歯車
15 コリメータ装置
16 傾動装置
17 制御装置
18 検出器
30 測定ヘッド7の経路
31 測定位置
Claims (20)
- 応力測定及び粒子の微細構造の特定を行い、
フレーム(4)と、
測定位置(31)において測定を実行するため、第1の線形移動装置(5)、第2の線形移動装置(6)及び傾動装置(16)により移動可能にフレーム(4)に設けられた測定ヘッド(7,8,9,10)とから成り、
前記傾動装置(16)の回転軸(12)が前記測定位置(31)に一致せず、
測定中に、前記移動装置(5,6,16)により、測定ヘッド(7,8,9,10)の円弧形(30)の移動を作り出す手段を備えることを特徴とするゴニオメータ(1)。 - 請求項1に記載の装置は、傾斜角測定用の符号器を備えることを特徴とするゴニオメータ。
- 請求項1又は2に記載の装置は、傾動装置(16)の歯車(14)が最小の緩みを有していることを特徴とするゴニオメータ。
- 請求項1〜3のいずれかに記載の装置は、連続番号などによりX線チューブを自動的に認識する手段を備えることを特徴とするゴニオメータ。
- 請求項1〜4のいずれかに記載の装置は、X線チューブ用の温度制御手段を備えることを特徴とするゴニオメータ。
- 請求項1〜5のいずれかに記載の装置は、0.01mmより確かな精度で測定距離を正確に制御するフォトマイクロセンサを備えることを特徴とするゴニオメータ。
- 請求項1〜6のいずれかに記載の装置は、測定位置を示すレーザーダイオード及び鏡をシャッターに備えることを特徴とするゴニオメータ。
- 請求項1〜7のいずれかに記載の装置は、コリメータ滑りチューブは、摩擦が低減し、それにより測定距離の精度が向上するように、ダイアモンドが塗膜形成されることを特徴とするゴニオメータ。
- 請求項1〜8のいずれかに記載の装置は、手動移動用に手動式操作装置を備えることを特徴とするゴニオメータ。
- 請求項1〜9のいずれかに記載の装置は、実際の装置内に制御電子回路を備えることを特徴とするゴニオメータ。
- 応力測定及び粒子の微細構造の特定を行うゴニオメータ(1)において、
測定ヘッド(7,8,9,10)が、測定位置(31)の周りを円弧軌道(30)に沿って動かされ、
1つの傾動装置(16)と共に2つの第1線形移動装置(5,6)の組み合わせにより、移動(30)が行われることを特徴とするゴニオメータ制御方法。 - 請求項11に記載された装置は、傾動装置(16)の回転軸(12)が測定位置(31)と一致しないように、傾斜移動が行われることを特徴とするゴニオメータ制御方法。
- 請求項11又は12に記載された方法は、符号器が傾斜角測定に用いられることを特徴とするゴニオメータ制御方法。
- 請求項11〜13のいずれかに記載された方法は、連続番号などによりX線チューブが自動的に検出されることを特徴とするゴニオメータ制御方法。
- 請求項11〜14のいずれかに記載された方法は、X線チューブの温度制御を行うことを特徴とするゴニオメータ制御方法。
- 請求項11〜15のいずれかに記載された方法は、0.01mmより確かな精度で測定距離を正確に制御するために、フォトマイクロセンサを用いることを特徴とするゴニオメータ制御方法。
- 請求項11〜16のいずれかに記載された方法は、測定位置を指示するために、レーザーダイオード及び鏡をシャッターに用いることを特徴とするゴニオメータ制御方法。
- 請求項11〜17のいずれかに記載された方法は、コリメータ滑りチューブは、摩擦が低減し、それにより測定距離の精度が向上するように、ダイアモンドが塗膜形成されることを特徴とするゴニオメータ制御方法。
- 請求項11〜18のいずれかに記載された方法は、手動移動に手動式操作装置(ジョイスティック)を用いることを特徴とするゴニオメータ制御方法。
- 請求項11〜19のいずれかに記載された方法は、制御電子回路は、実際の装置内に位置することを特徴とするゴニオメータ制御方法。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
FI20041538A FI20041538A (fi) | 2004-11-29 | 2004-11-29 | Goniometri |
FI20041538 | 2004-12-08 | ||
PCT/FI2005/000505 WO2006056647A1 (en) | 2004-11-29 | 2005-11-24 | Goniometer |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2008522142A true JP2008522142A (ja) | 2008-06-26 |
JP5389358B2 JP5389358B2 (ja) | 2014-01-15 |
Family
ID=33515286
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2007542019A Expired - Fee Related JP5389358B2 (ja) | 2004-11-29 | 2005-11-24 | ゴニオメータ及びその制御方法 |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US7646848B2 (ja) |
EP (1) | EP1817575B1 (ja) |
JP (1) | JP5389358B2 (ja) |
FI (1) | FI20041538A (ja) |
WO (1) | WO2006056647A1 (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2022054511A1 (ja) * | 2020-09-10 | 2022-03-17 | 株式会社神戸製鋼所 | 測定システム及び測定方法 |
Families Citing this family (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN101680849B (zh) * | 2007-04-03 | 2012-09-05 | 压力技术公司 | 用于测量应力和辨别粒子微观结构的测角器及其控制方法 |
US7646847B2 (en) * | 2008-05-01 | 2010-01-12 | Bruker Axs Inc. | Handheld two-dimensional X-ray diffractometer |
DE102011117713B4 (de) | 2011-07-28 | 2014-02-27 | Alfred-Wegener-Institut Helmholtz-Zentrum für Polar- und Meeresforschung | Transportables Goniospektrometer mit konstantem Observationszentrum |
US10126560B2 (en) | 2016-02-18 | 2018-11-13 | National Engineering Research Center for Optical Instrumentation | Spectrum-generation system based on multiple-diffraction optical phasometry |
CN106168518B (zh) * | 2016-08-05 | 2018-11-23 | 中北大学 | 选择性激光熔化成形制品残余应力实时检测装置 |
JP7344841B2 (ja) * | 2020-06-02 | 2023-09-14 | 株式会社神戸製鋼所 | 残留応力測定方法 |
Citations (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH01133000A (ja) * | 1987-11-18 | 1989-05-25 | Hitachi Ltd | 非平面分光結晶 |
JPH0755729A (ja) * | 1993-07-19 | 1995-03-03 | Philips Electron Nv | X線分析装置 |
JPH0738989U (ja) * | 1993-12-22 | 1995-07-14 | アロカ株式会社 | 放射線ビーム位置決め装置 |
JPH08273889A (ja) * | 1995-03-31 | 1996-10-18 | Shimadzu Corp | X線制御装置 |
JP2000048995A (ja) * | 1998-07-30 | 2000-02-18 | Toshiba Fa Syst Eng Corp | X線発生装置 |
US6064717A (en) * | 1997-11-21 | 2000-05-16 | Rigaku/Usa, Inc. | Unrestricted motion apparatus and method for x-ray diffraction analysis |
JP2001272500A (ja) * | 2000-03-27 | 2001-10-05 | Rigaku Corp | X線光学要素の位置調整装置及びx線装置 |
JP2002148394A (ja) * | 2000-11-10 | 2002-05-22 | Mac Science Co Ltd | 回転角度制御装置 |
WO2003060498A1 (en) * | 2002-01-21 | 2003-07-24 | Xrd-Tools S.R.L. | Diffractometer and method for diffraction analysis |
JP2004233262A (ja) * | 2003-01-31 | 2004-08-19 | Horiba Ltd | 計測結果表示方法、x線装置、及びコンピュータプログラム |
US20040184580A1 (en) * | 2003-03-17 | 2004-09-23 | Proto Manufacturing Ltd. | X-ray diffraction system and method |
Family Cites Families (12)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
IL32247A (en) * | 1969-05-20 | 1972-08-30 | Yeda Res & Dev | X-ray diffractometer |
JPS5116984A (en) * | 1974-08-02 | 1976-02-10 | Hitachi Ltd | X senoryokusokuteisochi |
DE2542360C2 (de) * | 1975-09-19 | 1977-11-17 | Siemens AG, 1000 Berlin und 8000 München | Korpuskularstrahlgerät mit einem Goniometer |
JPS5838845A (ja) | 1981-08-31 | 1983-03-07 | Shimadzu Corp | 彎曲結晶型x線分光器 |
US4561062A (en) * | 1983-02-18 | 1985-12-24 | Her Majesty The Queen In Right Of Canada, As Represented By The Minister Of Energy, Mines And Resources | Stress measurement by X-ray diffractometry |
JP2960423B2 (ja) * | 1988-11-16 | 1999-10-06 | 株式会社日立製作所 | 試料移動装置及び半導体製造装置 |
EP0512620A3 (en) | 1991-05-07 | 1995-07-05 | Koninklijke Philips Electronics N.V. | X-ray analysis apparatus |
US6721393B1 (en) * | 1999-03-31 | 2004-04-13 | Proto Manufacturing Ltd. | X-ray diffraction apparatus and method |
US6882739B2 (en) * | 2001-06-19 | 2005-04-19 | Hypernex, Inc. | Method and apparatus for rapid grain size analysis of polycrystalline materials |
DE10139645C2 (de) | 2001-08-11 | 2003-07-10 | Nanofilm Technologie Gmbh | Goniometer |
ITMI20020097U1 (it) * | 2002-02-26 | 2003-08-26 | Faber Spa | Ventilatore con motore a rotore interno con dispositivo di fissaggio rapido di una girante |
US20060159229A1 (en) * | 2005-01-14 | 2006-07-20 | Bede Scientific Instruments Limited | Positioning apparatus |
-
2004
- 2004-11-29 FI FI20041538A patent/FI20041538A/fi not_active Application Discontinuation
-
2005
- 2005-11-24 JP JP2007542019A patent/JP5389358B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 2005-11-24 US US11/791,341 patent/US7646848B2/en active Active
- 2005-11-24 WO PCT/FI2005/000505 patent/WO2006056647A1/en active Application Filing
- 2005-11-24 EP EP05817687.6A patent/EP1817575B1/en not_active Not-in-force
Patent Citations (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH01133000A (ja) * | 1987-11-18 | 1989-05-25 | Hitachi Ltd | 非平面分光結晶 |
JPH0755729A (ja) * | 1993-07-19 | 1995-03-03 | Philips Electron Nv | X線分析装置 |
JPH0738989U (ja) * | 1993-12-22 | 1995-07-14 | アロカ株式会社 | 放射線ビーム位置決め装置 |
JPH08273889A (ja) * | 1995-03-31 | 1996-10-18 | Shimadzu Corp | X線制御装置 |
US6064717A (en) * | 1997-11-21 | 2000-05-16 | Rigaku/Usa, Inc. | Unrestricted motion apparatus and method for x-ray diffraction analysis |
JP2000048995A (ja) * | 1998-07-30 | 2000-02-18 | Toshiba Fa Syst Eng Corp | X線発生装置 |
JP2001272500A (ja) * | 2000-03-27 | 2001-10-05 | Rigaku Corp | X線光学要素の位置調整装置及びx線装置 |
JP2002148394A (ja) * | 2000-11-10 | 2002-05-22 | Mac Science Co Ltd | 回転角度制御装置 |
WO2003060498A1 (en) * | 2002-01-21 | 2003-07-24 | Xrd-Tools S.R.L. | Diffractometer and method for diffraction analysis |
JP2004233262A (ja) * | 2003-01-31 | 2004-08-19 | Horiba Ltd | 計測結果表示方法、x線装置、及びコンピュータプログラム |
US20040184580A1 (en) * | 2003-03-17 | 2004-09-23 | Proto Manufacturing Ltd. | X-ray diffraction system and method |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2022054511A1 (ja) * | 2020-09-10 | 2022-03-17 | 株式会社神戸製鋼所 | 測定システム及び測定方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
WO2006056647A1 (en) | 2006-06-01 |
EP1817575A4 (en) | 2016-05-11 |
JP5389358B2 (ja) | 2014-01-15 |
US7646848B2 (en) | 2010-01-12 |
EP1817575B1 (en) | 2018-09-12 |
EP1817575A1 (en) | 2007-08-15 |
US20070291899A1 (en) | 2007-12-20 |
FI20041538A0 (fi) | 2004-11-29 |
FI20041538A (fi) | 2006-05-30 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5389358B2 (ja) | ゴニオメータ及びその制御方法 | |
EP1659363B1 (en) | Probe Supporting Mechanism | |
JP4992078B2 (ja) | 傾斜角測定装置、これを搭載した工作機械および工作機械の傾斜角校正方法 | |
JPH0224441B2 (ja) | ||
CN110418938B (zh) | 用于在数控机床中使用的、在用于测量数控机床的方法中应用的装置 | |
CN1782655B (zh) | 机动化可定向的测量头 | |
JP2006153883A (ja) | プローブ用の測定ヘッド | |
EP3239654A1 (en) | Roundness measurement device | |
JP5005807B2 (ja) | ゴニオメータ | |
JP5538882B2 (ja) | 表面特性を測定するための測定器 | |
JP6537950B2 (ja) | ゲージ検査機 | |
JP2006201167A (ja) | 位置決め装置 | |
JP2010133944A (ja) | カッターブレード検査装置 | |
JP2008533480A (ja) | 機械部品の位置および/または形状を検査する装置および方法 | |
CN115683025A (zh) | 圆度测量仪 | |
JP4841142B2 (ja) | ねじの許容差検査のための方法およびシステム | |
US4520569A (en) | Component measuring instrument | |
JP3005947B2 (ja) | 歯車検査装置 | |
JP4072265B2 (ja) | 回転軸の傾き測定方法 | |
JP5565610B2 (ja) | 真円度測定機の測定精度検定方法 | |
JP5491098B2 (ja) | 工作機械のタッチプローブのキャリブレーション方法及び工作機械 | |
JP2007114095A (ja) | 表面性状測定装置 | |
CN114322804A (zh) | 光斑外接圆测试工装及测试方法 | |
GB2493214A (en) | Metrological apparatus | |
JPH0663820A (ja) | 歯車検査装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20081020 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20111003 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20111228 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20120903 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20121203 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20130702 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20130822 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20130917 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20131009 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 5389358 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |