JP2008511694A - 組成物 - Google Patents
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Abstract
【化1】
Description
本明細書において、“基質(substrates)”との用語の使用は、洗浄またはコンディショニングを必要とすることがある任意の表面であることを意味し、および繊維、織物、皮膚、髪、ガラス、陶磁器などを含んでいる。
(a)界面活性剤材料;
(b)一般式−(CH2CH2NH)n−のポリエチレンイミン;および
(c)次式:
で表されるエチレン1個分不飽和な芳香族カルボン酸エステル
を含む界面活性剤組成物であって、材料(b)および(c)は、最大10,000の臭値(odour value)をそれぞれ有する、を提供する
上記定義において、単数形の語の使用も、複数形の語の使用に含まれる。
上記の式のエステルは、かかる任意のエステルであり得る。好ましくは、R1が、水素、C1−8アルキル、C1−8アルコキシもしくはアリールであり、およびR1と独立して、R2は、好ましくはC6−12アルキルもしくはアリールである。
(i)芳香性のアルデヒドが存在しない場合、上記組成物は、(b)と(c)をそれぞれ重量で0.005%〜0.5%の最低限の濃度で含む。
(ii)少なくとも一種の芳香性のアルデヒドが存在する場合、(b)と(c)は、個々に0.005%〜10%の程度まで組成物中に存在する。
好ましくは、
(iii)香料が存在する場合、材料(b)+(c)(アルデヒドが存在する場合、+アルデヒド)は、材料(a)+(b)+(c)+アルデヒドの重量に対し個々に0.001〜5.0%の程度まで存在する;そして
(iv)香料が存在しない場合、材料(b)+(c)(アルデヒドが存在する場合、+アルデヒド)は、材料(a)+(b)+(c)+アルデヒドの重量に対し個々に0.01〜2.0%の程度まで存在する。
(a)一般式−(CH2CH2NH)n−のポリエチレンイミン;および
(b)次式:
で表されるエチレン1個分不飽和な芳香族カルボン酸エステル
を含み、材料(b)および(c)は、最大10,000の臭値(odour value)をそれぞれ有する。
好ましくは、上記組成物は、上記のように、芳香性のアルデヒドをさらに含む。
(a)一般式−(CH2CH2NH)n−のポリエチレンイミン;および
(b)次式:
で表されるエチレン1個分不飽和な芳香族カルボン酸エステル
を含み、材料(b)〜(d)は、最大10,000の臭値(odour value)をそれぞれ有する。
好ましくは、上記のように、芳香性のアルデヒドも添加される。
5%(wt)のジヒドロファルネサール(dihydrofarnesal)(3,7,11−トリメチル−ドデカ−6,10−ジエナール)(成分(b))、20%のLUPASOL(商品名)G100(50%活性レベル、粘度1200mPa−s、分子量(重量平均)5000(成分(c)))、15%のメトキシ桂皮酸オクチル(octyl methoxy cinnamate)(成分(d))、および60%のミリスチン酸イソプロピル(60%)の混合物を調製し、そして重量で0.2%の用量になるようにその混合物を下記のとおりに石鹸基剤に添加した。この基剤を完全に挽き、そして石鹸ケーキを作製した。このケーキを一日の間ふやけさせ、そして嗅覚によって評価した。石鹸ケーキを上記混合物なしに作製し、対照として用いた。
石鹸基剤2は、石鹸基剤(90%の石鹸基剤1)+10%のタルクの混合物であった(このタイプの組み合わせは、通常高級な化粧石鹸を作る際に用いられる)。
石鹸基剤3は、石鹸基剤(80%の石鹸基剤1)+20%のタルクの混合物であった(このタイプの組み合わせは、通常中価格帯の化粧石鹸を作る際に用いられる)。
石鹸基剤4は、石鹸基剤(60%の石鹸基剤1)+40%のタルクの混合物であった(このタイプの組み合わせは、通常低価格の化粧石鹸を作る際に用いられる)。
10%のジヒドロファルネサール(dihydrofarnesal)、10%のLUPASOL SK(25%活性含有量、粘度500〜1000mPa−sおよび分子量2,000,000)、5%のゲラニルクロタネート(geranyl crotanate)および75%のジプロピレングリコールの混合物を調製し、そして0.3%の用量になるようにこの混合物を以下に示すタイプの石鹸基剤に添加した。この基剤を完全に挽き、そして石鹸ケーキを作製した。この混合物なしの石鹸ケーキも作製した。このケーキを一日の間ふやけさせ、そして例1に記載のように嗅覚によって評価した。
石鹸基剤6は、石鹸基剤(90%の石鹸基剤5)+10%のタルクの混合物であった(このタイプの組み合わせは、通常高級な化粧石鹸を作る際に用いられる)。
石鹸基剤7は、石鹸基剤(80%の石鹸基剤5)+20%のタルクの混合物であった(このタイプの組み合わせは、通常中価格帯の化粧石鹸を作る際に用いられる)。
石鹸基剤8は、石鹸基剤(60%の石鹸基剤5)+40%のタルクの混合物であった(このタイプの組み合わせは、通常低価格の化粧石鹸を作る際に用いられる)。
10%のジヒドロファルネサール(dihydrofarnesal)、20%のLUPASOL(商品名)G35(50%活性レベル、粘度=450mPa−s、平均分子量2000)、20%のフマル酸ジヘキシルおよび50%のフタル酸ジエチルの混合物を調製し、そして0.1%の用量になるようにこの混合物を下記のように石鹸基剤に添加し、そして石鹸ケーキを作製した。上記混合物なしの石鹸基剤も作製した。このケーキを一日の間ふやけさせ、そして嗅覚によって評価した。
石鹸基剤10は、石鹸基剤(90%の石鹸基剤9)+10%のタルクの混合物であった(このタイプの組み合わせは、通常高級な化粧石鹸を作る際に用いられる)。
石鹸基剤11は、石鹸基剤(80%の石鹸基剤9)+20%のタルクの混合物であった(このタイプの組み合わせは、通常中価格帯の化粧石鹸を作る際に用いられる)。
石鹸基剤12は、石鹸基剤(60%の石鹸基剤9)+40%のタルクの混合物であった(このタイプの組み合わせは、通常低価格の化粧石鹸を作る際に用いられる)。
5%のジヒドロファルネサール(dihydrofarnesal)、10%のLUPASOL(商品名)HF(50%活性含有量、粘度14,000mPa−sおよび分子量50,000)、5%のゲラニルクロタネート(geranyl crotanate)および80%のジプロピレングリコールの混合物を調製し、香料(香料80%+混合物20%)とともに混和した。この混合物を1.5%の用量になるように下記のとおりに石鹸基剤に添加した。この基剤を完全に挽き、そして石鹸ケーキを作製した。このケーキを一日の間ふやけさせ、そして嗅覚によって評価した。実験対照となる石鹸基剤(上記混合物はなく、この香料のみを1.5%の用量で含む)も作製し、そして試験した。
石鹸基剤Bを、石鹸基剤(90%の石鹸基剤1)+10%のタルクの混合物から作製した(このタイプの組み合わせは、通常高級な化粧石鹸を作る際に用いられる)。
石鹸基剤Cを、石鹸基剤(80%の石鹸基剤1)+20%のタルクの混合物から作製した(このタイプの組み合わせは、通常中価格帯の化粧石鹸を作る際に用いられる)。
石鹸基剤Dを、石鹸基剤(60%の石鹸基剤1)+40%のタルクの混合物から作製した(このタイプの組み合わせは、通常低価格の化粧石鹸を作る際に用いられる)。
15%のジヒドロファルネサール(dihydrofarnesal)、5%のLUPASOL(商品名)PS(33%活性含有量、粘度1400mPa−sおよび分子量750,000)、5%のLUPASOL(商品名)G 100(50%活性レベル、粘度1200mPa−s、および平均分子量5000)、5%のメトキシ桂皮酸オクチル(octyl methoxy cinnamate)、および70%のミリスチン酸イソプロピルの混合物を調製し、そして香料(香料90%+混合物10%)とともに混和した。この混合物を1.2%の用量になるように下記のとおりに石鹸基剤に添加した。この基剤を完全に挽き、そして石鹸ケーキを作製した。このケーキを一日の間ふやけさせ、そして嗅覚によって評価した。実験対照となる石鹸基剤(上記混合物はなく、この香料のみを1.2%の用量で含む)も作製し、そして試験した。
石鹸基剤Fを、石鹸基剤(90%の石鹸基剤5)+10%のタルクの混合物から作製した(このタイプの組み合わせは、通常高級な化粧石鹸を作る際に用いられる)。
石鹸基剤Gを、石鹸基剤(80%の石鹸基剤5)+20%のタルクの混合物から作製した(このタイプの組み合わせは、通常中価格帯の化粧石鹸を作る際に用いられる)。
石鹸基剤Hを、石鹸基剤(60%の石鹸基剤5)+40%のタルクの混合物から作製した(このタイプの組み合わせは、通常低価格の化粧石鹸を作る際に用いられる)。
5%のジヒドロファルネサール(dihydrofarnesal)、10%のLUPASOL(商品名)G 100(50%活性レベル、粘度1200mPa−s、平均分子量5000)、25%のメトキシ桂皮酸オクチル(octyl methoxy cinnamate)および60%の安息香酸ベンゾイルの混合物を調製し、香料(香料85%+混合物15%)とともに混和した。この混合物を1.6%の用量になるように下記のとおりに石鹸基剤に添加した。この基剤を完全に挽き、そして石鹸ケーキを作製した。このケーキを一日の間ふやけさせ、そして嗅覚によって評価した。実験対照となる石鹸基剤(上記混合物はなく、この香料のみを1.6%の用量で含む)も作製し、そして試験した。
石鹸基剤Kを、石鹸基剤(90%の石鹸基剤9)+10%のタルクの混合物から作製した(このタイプの組み合わせは、通常高級な化粧石鹸を作る際に用いられる)。
石鹸基剤Lを、石鹸基剤(80%の石鹸基剤9)+20%のタルクの混合物から作製した(このタイプの組み合わせは、通常中価格帯の化粧石鹸を作る際に用いられる)。
石鹸基剤Mを、石鹸基剤(60%の石鹸基剤9)+40%のタルクの混合物から作製した(このタイプの組み合わせは、通常低価格の化粧石鹸を作る際に用いられる)。
脂肪の悪臭のする半透明の個人用の洗浄用石鹸基剤は、下表中に示すそれぞれの含有物の中に混和され、そしてその塊を挽き、棒状の型から成形し、打ち抜いた。この棒の1リットルの先頭部空間を1分間当たり100mlの速度で10分間採取し、そしてガスクロマトグラフィーおよび質量分析によって解析した。
LUPASOL(商品名)FGのみが、この石鹸基剤の悪臭を顕著に低減する。しかし、この石鹸は、容認できない黄茶色である。フマル酸ジヘキシルもしくはフマル酸ジヘキシルとゲラニルクロトネート(geranyl crotanate)との混合物をLUPASOLと一緒に用いることによって、LUPASOLの利点を向上でき、そして石鹸の色を容認できるレベルの最小限まで抑えることができる。
Claims (8)
- R1が、水素、C1−8アルキル、C1−8アルコキシおよびアリールから選択される、請求項1に記載の界面活性剤組成物。
- R2が、C6−12アルキルおよびアリールから選択される、請求項1に記載の界面活性剤組成物。
- 最大10,000、好ましくは5,000以下、さらに好ましくは2,000以下および最も好ましくは1000以下の臭値を有する芳香性のアルデヒドをさらに含む、請求項1に記載の界面活性剤組成物。
- (i)少なくとも一つの芳香性のアルデヒドが存在する場合、(b)および(c)は、それぞれ0.005%〜10%の範囲で界面活性剤組成物中に存在する;および
(ii)芳香性のアルデヒドが存在しない場合、界面活性剤組成物は、(b)と(c)とのそれぞれを0.005%〜0.5%で含む、請求項1または4に記載の界面活性剤組成物。 - (a)一般式−(CH2CH2NH)n−のポリエチレンイミン;および
(b)次式:
で表されるエチレン1個分不飽和な芳香族カルボン酸エステル;
および、任意に芳香性のアルデヒド
から実質的になる界面活性剤組成物への添加を含む、界面活性剤材料に起こりやすい悪臭の低減のための方法であって、
材料(b)と(c)と、芳香性のアルデヒドが存在する場合、前記アルデヒドとがそれぞれ最大10,000の臭値を有する、前記方法。
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