JP2008511653A5 - - Google Patents
Download PDFInfo
- Publication number
- JP2008511653A5 JP2008511653A5 JP2007530266A JP2007530266A JP2008511653A5 JP 2008511653 A5 JP2008511653 A5 JP 2008511653A5 JP 2007530266 A JP2007530266 A JP 2007530266A JP 2007530266 A JP2007530266 A JP 2007530266A JP 2008511653 A5 JP2008511653 A5 JP 2008511653A5
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- terephthalic acid
- acid
- hydrotreated
- particles
- outlet
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Description
溶媒中に残留TPA粒子が溶解した後、得られる溶液は、水素化システム88の水素化ゾーン/容器の中に導入し、そこで、溶液は、その中に存在するある種の不純物の水素化(例えば4−CBAのp−TAcへの及び/又はフルオレノン(fluorenones)のフルオレン(fluorenes)への水素化)を起こすのに十分な条件下で、水素及び水素化触媒と接触させる。本発明の好ましい態様に於いて、水素化処理は、約200〜約400℃の範囲内、更に好ましくは約250〜約350℃の範囲内、最も好ましくは260〜320℃の範囲内の温度で実施する。水素化ゾーン/容器内の圧力は、好ましくは約5〜約200baraの範囲内、更に好ましくは約10〜約150baraの範囲内、最も好ましくは46.9〜113baraの範囲内に維持する。水素化のための平均空間速度は、好ましくは約150〜約2,500溶液kg/hr/触媒床立方メートル(kg/hr/m3)の範囲内、更に好ましくは約300〜約1,500kg/hr/m3の範囲内、最も好ましくは450〜850kg/hr/m3の範囲内に維持する。水素化ゾーン/容器に供給する水素の、水素化ゾーン/容器に供給する残留TPAに対するモル比は、好ましくは約5:1〜約500:1の範囲内、更に好ましくは約10:1〜約300:1の範囲内、最も好ましくは20:1〜250:1の範囲内である。水素化ゾーン/容器内で使用される水素化触媒は、好ましくは、一般的な触媒担体材料上の貴第VIII族金属である。
粗製酸粒子が溶媒中に溶解した後、得られる溶液は、水素化システム106の水素化ゾーン/容器の中に導入し、そこで、この溶液は、その中に存在するある種の不純物の水素化(例えば4−CBAのp−TAcへの及び/又はフルオレノン(fluorenone)のフルオレン(fluorene)への水素化)を起こすために十分な条件下で、水素及び水素化触媒と接触させる。本発明の好ましい態様に於いて、水素化処理は、約200〜約375℃の範囲内、更に好ましくは約225〜約300℃の範囲内、最も好ましくは240〜280℃の範囲内の温度で実施する。水素化ゾーン/容器内の圧力は、好ましくは約2〜約50bargの範囲内に維持する。水素化のための平均空間速度は、好ましくは約150〜約2,500溶液キログラム/時/触媒床立方メートル(kg/hr/m3)の範囲内、更に好ましくは約300〜約1,500kg/hr/m3の範囲内、最も好ましくは450〜850kg/hr/m3の範囲内に維持する。水素化ゾーン/容器に供給される水素の、水素化ゾーン/容器に供給される粗製酸に対するモル比は、好ましくは約5:1〜約500:1の範囲内、更に好ましくは約10:1〜約300:1の範囲内、最も好ましくは20:1〜250:1の範囲内である。水素化ゾーン/容器内で使用される水素化触媒は、好ましくは一般的な触媒担体材料上の貴第VIII族金属である。
Claims (37)
- (a)第一の量のテレフタル酸を含有する固相及び第二の量のテレフタル酸を含有する液相を含むスラリーを用意し;
(b)前記第一の量のテレフタル酸の少なくとも一部を酸化処理に付すことによって酸化処理されたテレフタル酸を製造し;そして
(c)前記第二の量のテレフタル酸の少なくとも一部を水素化処理に付すことによって水素化処理されたテレフタル酸を製造する
ことを含んでなる方法。 - 前記方法が、酸化処理されたテレフタル酸の少なくとも一部を、水素化処理されたテレフタル酸の少なくとも一部と組合せることを更に含む請求項1に記載の方法。
- 互いに組合わされた、酸化処理されたテレフタル酸の水素化処理されたテレフタル酸に対する量の比が、重量で、10:1〜1,000:1の範囲内である請求項2に記載の方法。
- 前記方法が、工程(c)の水素化処理の前に、第二の量のテレフタル酸の固体粒子を回収することを更に含む請求項1に記載の方法。
- 前記回収が、前記液相からの母液の少なくとも一部を蒸発させ、それによって濃縮されたスラリーを得ることを含む請求項4に記載の方法。
- 前記方法が、回収された固体粒子の少なくとも一部を溶媒中に溶解し、それによって水素化溶液を形成することを更に含み、工程(c)の水素化処理が、水素化溶液を液相水素化に付し、それによって水素化処理されたテレフタル酸を含有する水素化された溶液を製造することを含む請求項4に記載の方法。
- 前記方法が、水素化された溶液から、水素化処理されたテレフタル酸の固体粒子を回収することを更に含む請求項6に記載の方法。
- 前記方法が、酸化処理されたテレフタル酸の固体粒子を回収することを更に含み、前記方法が、水素化処理されたテレフタル酸の回収された粒子の少なくとも一部を、酸化処理されたテレフタル酸の回収された粒子の少なくとも一部と組合せることを更に含む請求項7に記載の方法。
- 工程(a)の用意が最初の酸化反応器内で酸化性化合物を酸化することを含み、工程(b)を、最初の酸化反応器から分離されている二次酸化反応器内で実施する請求項1に記載の方法。
- 前記酸化性化合物がパラ−キシレンであり、前記液相が酸成分及び酸化触媒を含み、前記酸成分が酢酸であり、前記酸化触媒がコバルト、モリブデン及び/又は臭素を含む請求項9に記載の方法。
- (a)或る量の粗製酸粒子を用意し、
(b)前記粗製酸粒子の第一の部分を水素化処理に付すことによって水素化処理された酸を製造し、そして
(c)水素化処理に付されなかった粗製酸粒子の第二の部分を、水素化処理された酸の少なくとも一部と組合せることによってコンポジット酸を製造する
ことを含んでなる方法。 - 前記粗製酸粒子が粗製テレフタル酸であり、前記水素化処理された酸が精製されたテレフタル酸である請求項11に記載の方法。
- 前記方法が、水素化処理された酸の少なくとも一部から、精製された酸の固体粒子を形成することを更に含み、工程(c)の組合せに、粗製酸粒子の少なくとも一部と精製された酸粒子の少なくとも一部とを組合せることによってコンポジット酸を形成させることを含む請求項11に記載の方法。
- 前記水素化処理が液相水素化を含み、精製された酸粒子が結晶化によって形成される請求項13に記載の方法。
- 工程(a)の用意が、酸化反応器内でパラ−キシレンを酸化することによって粗製酸粒子を形成させることを含む請求項11に記載の方法。
- 前記コンポジット酸中の、粗製酸粒子の水素化処理された酸に対する重量比が、少なくとも0.01:1である請求項11に記載の方法。
- 前記水素化処理された酸の4−カルボキシベンズアルデヒド(4−CBA)含有量が、100ppmwよりも少なく、前記粗製酸粒子が少なくとも600ppmwの4−CBA含有量を有する請求項11に記載の方法。
- 前記水素化処理された酸の組合せた4−CBA及びp−TAc含有量が600ppmwよりも少なく、粗製酸が少なくとも700ppmwの4−CBA及びp−TAcの合計含有量を有する請求項11に記載の方法。
- 前記水素化処理された酸のB*値が3.0よりも小さく、前記粗製酸が少なくとも3.0のB*値を有する請求項11に記載の方法。
- 前記方法が、粗製酸粒子を、第一の部分と第二の部分とに分けることを更に含み、第二の部分の第一の部分に対する重量比が、0.01:1〜4:1の範囲内である請求項11に記載の方法。
- (a)パラ−キシレンを最初の酸化反応器内で酸化することによって最初のテレフタル酸を製造し、
(b)前記最初のテレフタル酸の第一の部分を水素化処理に付すことによって水素化処理されたテレフタル酸を製造し、そして
(c)前記水素化処理されたテレフタル酸の少なくとも一部を、工程(b)の水素化に付されなかった水素化されていないテレフタル酸と組合せる工程を含む方法であって、前記水素化されていないテレフタル酸が、最初のテレフタル酸の第二の部分に由来するものである方法。 - 前記方法が、最初のテレフタル酸の第二の部分の少なくとも一部を、二次酸化反応器内で酸化処理に付すことを更に含む請求項21に記載の方法。
- 前記方法が、最初の酸化反応器から最初のスラリーを製造することを更に含み、最初のスラリーが、最初の固相及び最初の液相から形成され、最初のテレフタル酸の第一の部分の実質的にすべてが、最初の液相中に含まれ、最初のテレフタル酸の第二の部分の実質的にすべてが、最初の固相中に含まれる請求項21に記載の方法。
- 前記方法が、最初の液相から残留テレフタル酸粒子を回収することを更に含む請求項23に記載の方法。
- 前記方法が、残留テレフタル酸粒子の少なくとも一部を溶媒中に溶解することによって残留溶液を形成することを更に含み、工程(b)の水素化処理が、残留溶液の少なくとも一部を液相水素化に付すことを含む請求項24に記載の方法。
- 前記方法が、最初のテレフタル酸の第二の部分を、二次酸化反応器内で酸化処理に付すことを更に含み、最初の固相の少なくとも一部を、二次酸化反応器内で酸化に付す請求項23に記載の方法。
- 前記方法が、二次酸化反応器から二次スラリーを製造することを更に含み、二次スラリーが、二次固相及び二次液相から形成され、最初のテレフタル酸の第一の部分の少なくとも一部が二次液相に由来する請求項26に記載の方法。
- 工程(c)に於いて組合わされた、水素化されていないテレフタル酸の水素化処理されたテレフタル酸に対する量の比が、重量で、10:1〜1,000:1の範囲内である請求項21に記載の方法。
- (a)母液及びテレフタル酸を含む、液相媒体を蒸発ゾーンの中に導入し、
(b)母液の少なくとも一部を液相媒体から蒸発させることによって、母液の蒸発しなかった部分及び前記テレフタル酸の実質的にすべてを含む、濃縮された媒体を形成する工程、
(c)蒸発しなかった母液の少なくとも一部を洗浄媒体で置き換えることによって洗浄媒体の少なくとも一部及びテレフタル酸の少なくとも一部を含む水素化媒体を得、そして
(d)水素化媒体の少なくとも一部を水素化処理に付すことによって水素化処理された媒体を形成する
ことを含んでなる方法。 - 前記濃縮された媒体がテレフタル酸の固体粒子を含み、水素化媒体が、テレフタル酸の固体粒子の少なくとも一部を含み、前記方法が、テレフタル酸の固体粒子の少なくとも一部を洗浄媒体中に溶解させることによって、水素化溶液を得ることを含み、工程(d)の水素化処理が水素化溶液の少なくとも一部を水素化に付すことによって、水素化処理された媒体を得ることを含み、前記方法が、水素化処理された媒体から、水素化処理されたテレフタル酸の固体粒子を回収することを含む請求項29に記載の方法。
- 前記方法が、最初の酸化反応器からスラリーを製造することを更に含み、前記スラリーが最初の酸化液相及び最初の酸化固相を含み、工程(a)の液相媒体の少なくとも一部が最初の液相に由来する請求項29に記載の方法。
- 前記方法が、最初の酸化固相に由来する水素化されていないテレフタル酸粒子を回収することを更に含み、前記方法が、水素化処理された媒体に由来する水素化処理されたテレフタル酸粒子を回収することを更に含み、前記方法が、回収された水素化されていないテレフタル酸粒子の少なくとも一部を、回収された水素化処理されたテレフタル酸粒子の少なくとも一部と組合せることによってコンポジットテレフタル酸を製造することを更に含む請求項29に記載の方法。
- 最初の反応器出口を有する最初の酸化反応器;
任意的に、最初の反応器出口と連通状態で結合されている二次反応器入口及び二次反応器出口を有する二次酸化反応器;
最初の反応器出口及び/又は二次反応器出口と連通状態で結合されている分離器入口、分離された固体出口及び分離された液体出口を有する固体/液体分離器;
分離された液体出口と連通状態で結合されている水素化システム入口及び水素化システム出口を有する水素化システム;並びに
水素化システム出口と連通状態で結合されている水素化された固体入口、分離された固体出口と連通状態で結合されている水素化されていない固体入口及びコンポジット固体出口を有する組合せゾーン
を含んでなる装置。 - 前記二次酸化反応器が装置内で使用され、前記分離器入口が二次反応器出口と連通状態で結合されている請求項33に記載の装置。
- 蒸発ゾーン入口、蒸発された媒体出口及び蒸発しなかった媒体出口を有する蒸発ゾーンを更に含み、蒸発ゾーン入口が分離された液体出口と連通状態で結合され、水素化システム入口が蒸発しなかった媒体出口と連通状態で結合されている請求項33に記載の装置。
- 置き換え入口、置き換え液体入口及び水素化媒体出口を有する置き換えゾーンを更に含み、置き換え入口が蒸発しなかった媒体出口と連通状態で結合され、水素化システム入口が水素化媒体出口と連通状態で結合されている請求項35に記載の装置。
- 結晶化システム入口及び結晶化システム出口を有する結晶化システムを更に含み、結晶化システム入口が水素化システム出口と連通状態で結合され、結晶化システム出口が水素化された固体入口と連通状態で結合されている請求項33に記載の装置。
Applications Claiming Priority (5)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US60658504P | 2004-09-02 | 2004-09-02 | |
US60680604P | 2004-09-02 | 2004-09-02 | |
US11/181,214 US20070238899A9 (en) | 2004-09-02 | 2005-07-14 | Optimized production of aromatic dicarboxylic acids |
US11/181,449 US7888530B2 (en) | 2004-09-02 | 2005-07-14 | Optimized production of aromatic dicarboxylic acids |
PCT/US2005/030832 WO2006028809A2 (en) | 2004-09-02 | 2005-08-29 | Optimized production of aromatic dicarboxylic acids |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2008511653A JP2008511653A (ja) | 2008-04-17 |
JP2008511653A5 true JP2008511653A5 (ja) | 2008-10-16 |
Family
ID=35781280
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2007530266A Pending JP2008511653A (ja) | 2004-09-02 | 2005-08-29 | 芳香族ジカルボン酸の最適化製造 |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
EP (1) | EP1786550A2 (ja) |
JP (1) | JP2008511653A (ja) |
KR (1) | KR101392543B1 (ja) |
BR (1) | BRPI0514756A (ja) |
WO (1) | WO2006028809A2 (ja) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US9849434B2 (en) | 2010-09-22 | 2017-12-26 | Grupo Petrotemex, S.A. De C.V. | Methods and apparatus for enhanced gas distribution |
Family Cites Families (13)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS52128344A (en) * | 1976-04-20 | 1977-10-27 | Mitsubishi Gas Chem Co Inc | Preparation of high-purity terephthalic acid |
JPS5735544A (en) * | 1980-08-13 | 1982-02-26 | Mitsubishi Chem Ind Ltd | Preparation of terephthalic acid |
JPS60184043A (ja) * | 1984-03-01 | 1985-09-19 | Toyobo Co Ltd | 芳香族ジカルボン酸の製造方法 |
US4626598A (en) * | 1985-06-17 | 1986-12-02 | Amoco Corporation | Purification of terephthalic acid |
US4629715A (en) * | 1985-10-07 | 1986-12-16 | Amoco Corporation | Purification of terephthalic acid to relatively low levels of 4-carboxybenzaldehyde and catalyst therefor |
JPH078823B2 (ja) * | 1986-10-20 | 1995-02-01 | 三井石油化学工業株式会社 | 高純度テレフタル酸の製造方法 |
SG80548A1 (en) * | 1991-04-12 | 2001-05-22 | Amoco Corp | Process for preparation of terephthalic acid |
GB9211415D0 (en) * | 1992-05-29 | 1992-07-15 | Ici Plc | Process for the production of purified terephthalic acid |
JPH09104653A (ja) * | 1995-08-07 | 1997-04-22 | Cosmo Sogo Kenkyusho:Kk | 単環芳香族カルボン酸の精製方法 |
BR9707639A (pt) * | 1996-02-22 | 1999-07-27 | Du Pont | Processo para a produção de um ácido carboxílico aromático |
US5840965A (en) * | 1996-06-24 | 1998-11-24 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Process for the production of purified telephthalic acid |
CN100509155C (zh) | 2001-03-26 | 2009-07-08 | 陶氏环球技术公司 | 多相催化剂组合物 |
US7196215B2 (en) * | 2001-06-04 | 2007-03-27 | Eastman Chemical Company | Process for the production of purified terephthalic acid |
-
2005
- 2005-08-29 JP JP2007530266A patent/JP2008511653A/ja active Pending
- 2005-08-29 BR BRPI0514756-5A patent/BRPI0514756A/pt not_active IP Right Cessation
- 2005-08-29 EP EP05801170A patent/EP1786550A2/en not_active Withdrawn
- 2005-08-29 WO PCT/US2005/030832 patent/WO2006028809A2/en active Application Filing
-
2007
- 2007-03-28 KR KR1020077007043A patent/KR101392543B1/ko active IP Right Grant
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US4500732A (en) | Process for removal and recycle of p-toluic acid from terephthalic acid crystallizer solvent | |
JP6615231B2 (ja) | 精製された酸組成物の製造方法 | |
JPH0987230A (ja) | 高純度テレフタル酸の製造方法 | |
JP2009057385A (ja) | 水素化芳香族ポリカルボン酸の製造方法及び水素化芳香族ポリカルボン酸無水物の製造方法 | |
US7888530B2 (en) | Optimized production of aromatic dicarboxylic acids | |
TW201529553A (zh) | 用於製造芳香族羧酸之經改良的方法及裝置 | |
JP4869758B2 (ja) | 高純度テレフタル酸の製造方法 | |
US3639465A (en) | Purification of aromatic polycarboxylic acids by catalytic reduction using prehumidified hydrogen | |
US7897810B2 (en) | Optimized production of aromatic dicarboxylic acids | |
KR101532157B1 (ko) | 방향족 다이카복실산의 최적화된 제조 | |
WO2005115956A1 (ja) | 高純度テレフタル酸の製造方法 | |
JP2008511653A5 (ja) | ||
JP5802115B2 (ja) | 粗製テレフタル酸の精製方法 | |
JP2008162958A (ja) | 高純度テレフタル酸の製造方法 | |
JP2006008671A (ja) | 高純度テレフタル酸の製造方法 | |
US9328051B2 (en) | Methods and apparatus for isolating dicarboxylic acid | |
KR101392543B1 (ko) | 방향족 다이카복실산의 최적화된 제조 | |
TWI352080B (en) | Process and apparatus for manufacturing pure forms | |
JP3267191B2 (ja) | 芳香族ポリカルボン酸の精製方法 | |
JP2006008673A (ja) | 高純度テレフタル酸の製造方法 | |
JP2004175797A (ja) | テレフタル酸の製造方法 | |
JPH08157415A (ja) | 高純度テレフタル酸の製造方法 | |
JP2004231640A (ja) | 高純度テレフタル酸の製造方法 | |
JP3931444B2 (ja) | 高純度テレフタル酸の製造方法 | |
WO2005115957A1 (ja) | 高純度テレフタル酸の製造方法 |