JP2008311407A - リフトピン昇降装置 - Google Patents

リフトピン昇降装置 Download PDF

Info

Publication number
JP2008311407A
JP2008311407A JP2007157373A JP2007157373A JP2008311407A JP 2008311407 A JP2008311407 A JP 2008311407A JP 2007157373 A JP2007157373 A JP 2007157373A JP 2007157373 A JP2007157373 A JP 2007157373A JP 2008311407 A JP2008311407 A JP 2008311407A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
support
hot plate
plate
lift pin
support member
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2007157373A
Other languages
English (en)
Inventor
Masahiko Noda
昌彦 野田
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Dainippon Screen Manufacturing Co Ltd
Original Assignee
Dainippon Screen Manufacturing Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Dainippon Screen Manufacturing Co Ltd filed Critical Dainippon Screen Manufacturing Co Ltd
Priority to JP2007157373A priority Critical patent/JP2008311407A/ja
Priority to KR1020080036507A priority patent/KR100966231B1/ko
Publication of JP2008311407A publication Critical patent/JP2008311407A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/683Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping
    • H01L21/687Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping using mechanical means, e.g. chucks, clamps or pinches
    • H01L21/68714Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping using mechanical means, e.g. chucks, clamps or pinches the wafers being placed on a susceptor, stage or support
    • H01L21/68742Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping using mechanical means, e.g. chucks, clamps or pinches the wafers being placed on a susceptor, stage or support characterised by a lifting arrangement, e.g. lift pins
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B65CONVEYING; PACKING; STORING; HANDLING THIN OR FILAMENTARY MATERIAL
    • B65GTRANSPORT OR STORAGE DEVICES, e.g. CONVEYORS FOR LOADING OR TIPPING, SHOP CONVEYOR SYSTEMS OR PNEUMATIC TUBE CONVEYORS
    • B65G49/00Conveying systems characterised by their application for specified purposes not otherwise provided for
    • B65G49/05Conveying systems characterised by their application for specified purposes not otherwise provided for for fragile or damageable materials or articles
    • B65G49/06Conveying systems characterised by their application for specified purposes not otherwise provided for for fragile or damageable materials or articles for fragile sheets, e.g. glass
    • B65G49/061Lifting, gripping, or carrying means, for one or more sheets forming independent means of transport, e.g. suction cups, transport frames

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)

Abstract

【課題】 熱処理装置のサイズが大きくなった場合においても、熱変形の影響を防止してリフトピン先端の位置を正確に維持することが可能なリフトピン昇降装置を提供すること。
【解決手段】 ホットプレート2のベース部3には、2本の第1支持部材8と4本の第2支持部材7が垂下する状態で連結されており、これらの第1支持部材8および第2支持部材7により、支持板5が吊り下げ支持されている。第1支持部材8は、支持板5とホットプレート2とを固定した状態で連結するものであり、第2支持部材7は、支持板5とホットプレート2とを、ホットプレート2に対して支持板5が水平方向に移動可能な状態で連結するものである。
【選択図】 図1

Description

この発明は、ホットプレートを貫通する複数のリフトピンと、このリフトピンをホットプレートに対して昇降駆動する駆動機構とを備えたホットプレートにおけるリフトピン昇降装置に関する。
一般に、半導体ウエハや液晶表示パネル用ガラス基板あるいは半導体製造装置用マスク基板等の基板を処理する基板処理装置においては、基板の搬送時に、処理装置内の基板を搬送アームとの間で受け渡しするために、リフトピン昇降装置が使用される。
このようなリフトピン昇降装置は、例えば特許文献1にも記載されているように、複数のリフトピンを昇降部材により支持し、この昇降部材を昇降させる昇降機構を、処理装置本体より釣支された支持板により支持する構成となっている。
特開2003−284986号公報
このようなリフトピン昇降装置を、基板をホットプレートにより加熱処理する熱処理装置等に利用した場合には、処理装置全体がホットプレートの熱により熱変形をおこし、これに伴ってリフトピンの昇降機構を支持する支持板も変形することにより、各リフトピンの先端の高さ位置が均一でなくなるという問題が生ずる。このような問題は、熱処理装置により処理する基板サイズの大型化に伴い、熱処理装置のサイズが大きくなった場合に、特に問題となる。
この発明は上記課題を解決するためになされたものであり、熱処理装置のサイズが大きくなった場合においても、熱変形の影響を防止してリフトピン先端の位置を正確に維持することが可能なリフトピン昇降装置を提供することを目的とする。
請求項1に記載の発明は、ホットプレートを貫通する複数のリフトピンと、このリフトピンをホットプレートに対して昇降駆動する駆動機構とを備えたホットプレートにおけるリフトピン昇降装置であって、前記駆動機構を支持する支持板と、前記支持板と前記ホットプレートとを連結する複数の支持部材とを備え、前記複数の支持部材のうちの一部は、前記支持板と前記ホットプレートとを固定した状態で連結する第1支持部材から構成され、前記複数の支持部材のうちの他の一部は前記支持板と前記ホットプレートとを、前記ホットプレートに対して前記支持板が水平方向に移動可能な状態で連結する第2支持部材から構成されることを特徴とする。
請求項2に記載の発明は、請求項1に記載の発明において、前記第1支持部材および前記第2支持部材は、前記ホットプレートから垂下されるものであり、前記支持板は、前記ホットプレートに対して吊り下げ支持される。
請求項3に記載の発明は、請求項1または請求項2に記載の発明において、前記第1支持部材は、前記ホットプレートにおける中央部側に対応する位置に配置されており、前記第2支持部材は、前記ホットプレートにおける前記第1支持部材より外側に対応する位置に配置されている。
請求項1に記載の発明によれば、熱処理装置のサイズが大きくなった場合においても、熱変形の影響を防止してリフトピン先端の位置を正確に維持することが可能となる。
請求項2に記載の発明によれば、簡易な吊り下げ式の支持機構を採用した場合においても、リフトピン先端の位置を正確に維持することが可能となる。
請求項3に記載の発明によれば、支持板の位置ずれを防止することが可能となる。
以下、この発明の実施の形態を図面に基づいて説明する。図1はこの発明に係るリフトピン昇降装置の平面図であり、図2はその正面図である。
このリフトピン昇降装置は、ベース部3を有するホットプレート2により、角形の液晶用ガラス基板W(以下単に「基板W」という)を加熱処理するためのものであり、ベース部3およびホットプレート2を貫通して昇降する複数のリフトピン6を有する。このリフトピン6は、支持枠4により支持されており、この支持枠4とともに昇降する。
ホットプレート2のベース部3には、2本の第1支持部材8と4本の第2支持部材7が垂下する状態で連結されており、これらの第1支持部材8および第2支持部材7により、支持板5が吊り下げ支持されている。図1に示すように、第1支持部材8はホットプレート2における中央部側に対応する位置に配置されており、第2支持部材7はホットプレート2における前記第1支持部材8より外側に対応する位置に配置されている。なお、第1支持部材8は、支持板5とホットプレート2とを固定した状態で連結するものであり、第2支持部材7は、後述するように、支持板5とホットプレート2とを、ホットプレート2に対して支持板5が水平方向に移動可能な状態で連結するものである。
支持板5上には、モータ11が配設されている。このモータ11の駆動軸には、ギア12が配設されている。また、このギア12は、支持板5上をスライド可能な移動板10上に配設された3個のラック13のうちの中央部のラック13と噛合している。このため、モータ11の駆動によりギア12が回転したときには、3個のラック13が移動板10とともに図1および図2に示す左右方向に移動する。
支持板5上をスライド可能な移動板10上に配設された3個のラック13のうち、左右のラック13には、各々、ギア14が噛合している。図1に示すように、このギア14は、軸17と連結されており、この軸17の他端部にも、ラック13に噛合するギア14と同一のギア14が配設されている。そして、これらの4個のギア14は、各々、リフトピン6を支持する支持枠4に固定されたラック15と噛合している。このため、モータ11の駆動によりギア12が回転したときには、リフトピン6が支持枠4とともに昇降することになる。
図3は、第2支持部材7の拡大図である。
この第2支持部材7は、上述したように、ホットプレート2のベース部3と支持板5とを連結するものであり、その上部にフランジ部24が配設された連結棒23を備える。このフランジ部24は、ベース部3に対して連結板21を介して固定されたブラケット22内に配置されている。連結棒23は、ブラケット22に穿設された孔部20と貫通している。そして、連結棒23の外径は孔部20の内径より小さくなっている。このため、連結棒23は孔部20内を移動可能となる。従って、第2支持部材7は、支持板5とホットプレート2におけるベース部3とを、ホットプレート2に対して支持板5が水平方向に移動可能な状態で連結することになる。
このような構成を有するリフトピン昇降装置においては、支持板5とホットプレート2とを固定した状態で連結する第1支持部材8と、支持板5とホットプレート2とを、ホットプレート2に対して支持板5が水平方向に移動可能な状態で連結する第2支持部材7とを利用して、ホットプレート2におけるベース部3と支持板5とを連結することから、ホットプレート2や支持板5に熱変形が生じた場合においても、連結棒23の外径と孔部20の内径との差によりその熱変形に起因する応力の発生を防止することが可能となる。このため、熱処理装置のサイズが大きくなった場合においても、熱変形の影響を防止してリフトピン先端の位置を正確に維持することが可能となる。
このとき、第1支持部材8がホットプレート2における中央部側に対応する位置に配置されており、第2支持部材7がホットプレート2における第1支持部材8より外側に対応する位置に配置されていることから、第1支持部材により支持板5の位置を固定しながら、第2支持部材7により応力の発生を防止することが可能となる。
次に、第2支持部材7の変形例について説明する。図4乃至図7は、第2支持部材7の変形例を示す概要図である。
図4に示す実施形態においては、ホットプレート2におけるベース部3と支持板5とを連結する支持棒23の上部に、リニアガイド31を配設している。このため、ベース部3と支持板5とは、図4に示す左右方向に移動可能となっている。このため、この第2支持部材7により、図1および図2の左右方向と図4の左右方向とを一致させる状態でベース部3と支持板5とを連結することにより、熱変形の影響を防止してリフトピン先端の位置を正確に維持することが可能となる。
図5に示す実施形態においては、ホットプレート2におけるベース部3と支持板5とを連結する支持棒23の上部に、リニアブッシュ32を配設している。このため、ベース部3と支持板5とは、図5に示す左右方向に移動可能となっている。このため、この第2支持部材7により、図1および図2の左右方向と図5の左右方向とを一致させる状態でベース部3と支持板5とを連結することにより、熱変形の影響を防止してリフトピン先端の位置を正確に維持することが可能となる。
図6に示す実施形態においては、ホットプレート2におけるベース部3と支持板5とを連結する支持棒23の上部に、レール34およびカムフォロワー33を配設している。このため、ベース部3と支持板5とは、図6に示す紙面に垂直な方向に移動可能となっている。このため、この第2支持部材7により、図1および図2の左右方向と図6の紙面に垂直な方向とを一致させる状態でベース部3と支持板5とを連結することにより、熱変形の影響を防止してリフトピン先端の位置を正確に維持することが可能となる。
図7に示す実施形態においては、ホットプレート2におけるベース部3と支持板5とを連結する支持棒23の上部に、レール35、36を配設している。このため、ベース部3と支持板5とは、図7に示す紙面に垂直な方向に移動可能となっている。このため、この第2支持部材7により、図1および図2の左右方向と図7の紙面に垂直な方向とを一致させる状態でベース部3と支持板5とを連結することにより、熱変形の影響を防止してリフトピン先端の位置を正確に維持することが可能となる。
この発明に係るリフトピン昇降装置の平面図である。 この発明に係るリフトピン昇降装置の正面図である。 第2支持部材7の拡大図である。 第2支持部材7の変形例を示す概要図である。 第2支持部材7の変形例を示す概要図である。 第2支持部材7の変形例を示す概要図である。 第2支持部材7の変形例を示す概要図である。
符号の説明
2 ホットプレート
3 ベース部
4 支持枠
5 支持板
6 リフトピン
7 第2支持部材
8 第1支持部材
10 移動板
11 モータ
12 ギア
13 ラック
14 ギア
15 ラック
17 軸
20 孔部
21 連結板
22 ブラケット
23 連結棒
24 フランジ部
31 リニアガイド
32 リニアブッシュ
33 カムフォロワー
34 レール
35 レール
36 レール
W 基板

Claims (3)

  1. ホットプレートを貫通する複数のリフトピンと、このリフトピンをホットプレートに対して昇降駆動する駆動機構とを備えたホットプレートにおけるリフトピン昇降装置であって、
    前記駆動機構を支持する支持板と、
    前記支持板と前記ホットプレートとを連結する複数の支持部材とを備え、
    前記複数の支持部材のうちの一部は、前記支持板と前記ホットプレートとを固定した状態で連結する第1支持部材から構成され、
    前記複数の支持部材のうちの他の一部は前記支持板と前記ホットプレートとを、前記ホットプレートに対して前記支持板が水平方向に移動可能な状態で連結する第2支持部材から構成されることを特徴とするリフトピン昇降装置。
  2. 請求項1に記載のリフトピン昇降機構において、
    前記第1支持部材および前記第2支持部材は、前記ホットプレートから垂下されるものであり、
    前記支持板は、前記ホットプレートに対して吊り下げ支持されるリフトピン昇降装置。
  3. 請求項1または請求項2に記載のリフトピン昇降機構において、
    前記第1支持部材は、前記ホットプレートにおける中央部側に対応する位置に配置されており、
    前記第2支持部材は、前記ホットプレートにおける前記第1支持部材より外側に対応する位置に配置されているリフトピン昇降装置。
JP2007157373A 2007-06-14 2007-06-14 リフトピン昇降装置 Pending JP2008311407A (ja)

Priority Applications (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2007157373A JP2008311407A (ja) 2007-06-14 2007-06-14 リフトピン昇降装置
KR1020080036507A KR100966231B1 (ko) 2007-06-14 2008-04-21 리프트 핀 승강 장치

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2007157373A JP2008311407A (ja) 2007-06-14 2007-06-14 リフトピン昇降装置

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2008311407A true JP2008311407A (ja) 2008-12-25

Family

ID=40238768

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2007157373A Pending JP2008311407A (ja) 2007-06-14 2007-06-14 リフトピン昇降装置

Country Status (2)

Country Link
JP (1) JP2008311407A (ja)
KR (1) KR100966231B1 (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2022002274A (ja) * 2020-06-22 2022-01-06 株式会社Screenホールディングス 基板処理装置

Families Citing this family (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101130969B1 (ko) * 2009-09-17 2012-04-03 주성엔지니어링(주) 기판 지지부재와 이를 포함하는 기판 가열 장치
KR101360896B1 (ko) * 2012-07-23 2014-02-17 주식회사 제우스 리프트 핀 승강장치
JP6888654B2 (ja) * 2019-08-23 2021-06-16 トヨタ自動車株式会社 積層体保持装置

Family Cites Families (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH11145025A (ja) * 1997-11-10 1999-05-28 Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd ベーク装置

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2022002274A (ja) * 2020-06-22 2022-01-06 株式会社Screenホールディングス 基板処理装置
JP7441995B2 (ja) 2020-06-22 2024-03-01 株式会社Screenホールディングス 基板処理装置

Also Published As

Publication number Publication date
KR20080110466A (ko) 2008-12-18
KR100966231B1 (ko) 2010-06-25

Similar Documents

Publication Publication Date Title
TWI603906B (zh) 基板裝載裝置
JP2008311407A (ja) リフトピン昇降装置
JP4906375B2 (ja) 基板支持部材
KR101368819B1 (ko) 기판 이송장치
JP5047859B2 (ja) リフトピンユニット及びそれを具備したxyステージ装置
JP2005142443A (ja) カセット装置および薄型基板移載システム
JP2011005847A (ja) オフセット印刷用転写装置
JP2010056217A (ja) 基板昇降装置および基板処理装置
JP5756507B2 (ja) 基板支持モジュール
JP5125739B2 (ja) Xyステップ露光装置
JP2010195571A (ja) 搬送装置
JP2008294100A (ja) 基板保持装置
KR101533022B1 (ko) 반도체 소자 테스트 핸들러의 소자 이송장치
JP5406475B2 (ja) 熱処理装置
JP2010014397A (ja) 基板焼成装置
JP4711771B2 (ja) 搬送装置および真空処理装置
CN113442099A (zh) 一种基板加工载台
KR20120079982A (ko) 기판 수직 이송장치
KR102517909B1 (ko) 리프트모듈 및 이를 이용한 기판이송로봇핸드
KR101129041B1 (ko) 플렉시블 디스플레이용 홀더 스테이지 및 그 기판 적재 방법
JP2010118478A (ja) 基板浮上装置、及び、基板検査装置
KR102699257B1 (ko) 기판 처리 장치
JP2013110268A (ja) 基板移載装置
JP2010037012A (ja) ワーク支持部材およびこれを用いたワーク支持ピン位置調整方法
JP6339002B2 (ja) ステージ